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JP5041599B2 - Liquid crystal aligning agent, liquid crystal aligning film, formation method thereof, liquid crystal display element and optical member - Google Patents
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JP5041599B2 - Liquid crystal aligning agent, liquid crystal aligning film, formation method thereof, liquid crystal display element and optical member - Google Patents

Liquid crystal aligning agent, liquid crystal aligning film, formation method thereof, liquid crystal display element and optical member Download PDF

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JP5041599B2 JP2008057854A JP2008057854A JP5041599B2 JP 5041599 B2 JP5041599 B2 JP 5041599B2 JP 2008057854 A JP2008057854 A JP 2008057854A JP 2008057854 A JP2008057854 A JP 2008057854A JP 5041599 B2 JP5041599 B2 JP 5041599B2
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Description

本発明は、液晶配向剤、液晶配向膜とその形成方法ならびに液晶表示素子および光学部材に関する。さらに詳しくは、ラビング処理を行わずに、少ない照射量の偏光または非偏光の放射線によって液晶配向膜を形成しうる液晶配向剤、かかる液晶配向膜とその形成方法、このような液晶配向膜を具備する液晶表示素子および光学部材に関する。   The present invention relates to a liquid crystal alignment agent, a liquid crystal alignment film, a method for forming the same, a liquid crystal display element, and an optical member. More specifically, a liquid crystal aligning agent capable of forming a liquid crystal alignment film with a small amount of polarized or non-polarized radiation without rubbing, a liquid crystal alignment film and a method for forming the same, and a liquid crystal alignment film having such a liquid crystal alignment film are provided. The present invention relates to a liquid crystal display element and an optical member.

従来、正の誘電異方性を有するネマチック型液晶を、液晶配向膜を有する透明電極付き基板でサンドイッチ構造にし、必要に応じて液晶分子の長軸が基板間で0〜360°連続的に捻れるようにしてなる、TN(Twisted Nematic)型、STN(Super Twisted Nematic)型、IPS(In Plane Switching)型などの液晶セルを有する液晶表示素子が知られている(特許文献1および2参照)。
このような液晶セルにおいて液晶を配向する手段としては、基板表面に有機膜(液晶配向膜)を形成し、次いでその有機膜表面をレーヨンなどの布材で一方向にこすることにより液晶配向能を付与する方法(ラビング処理を施す方法)、基板表面に酸化珪素を斜方蒸着する方法またはラングミュア・ブロジェット法(LB法)を用いて長鎖アルキル基を有する単分子膜を形成する方法などがある。このうち、基板サイズ、液晶の配向均一性、処理時間および処理コストの観点からラビング処理による液晶配向能の付与が一般的である。
しかし、液晶の配向をラビング処理により行うと、工程内でほこりが発生したり、静電気が発生したりしやすいために、配向膜表面にほこりが付着して表示不良発生の原因となるという問題があった。特にTFT(Thin Film Transistor)素子を有する基板の場合には、発生した静電気によってTFT素子の回路破壊が起こり、歩留まり低下の原因となるという問題もあった。さらに、今後ますます高精細化される液晶表示素子においては、画素の高密度化に伴い基板表面に凹凸が生じるために、均一にラビング処理を行うことが課題となる。
液晶セルにおける液晶配向膜に液晶配向能を付与する別の手段として、基板表面に形成したポリビニルシンナメート、ポリイミドなどの感光性薄膜に偏光または非偏光の放射線を照射することにより、液晶配向能を付与する光配向法が知られている。この方法によれば、静電気やほこりを発生することなく、均一な液晶配向を実現できる(特許文献3〜12および19参照)。
Conventionally, a nematic liquid crystal having positive dielectric anisotropy is sandwiched with a substrate with a transparent electrode having a liquid crystal alignment film, and the major axis of the liquid crystal molecules is continuously twisted between 0 and 360 ° between the substrates as necessary. Liquid crystal display elements having liquid crystal cells such as TN (twisted nematic), STN (super twisted nematic), and IPS (in-plane switching) are known (see Patent Documents 1 and 2). .
As a means for aligning liquid crystals in such a liquid crystal cell, an organic film (liquid crystal alignment film) is formed on the surface of the substrate, and then the surface of the organic film is rubbed in one direction with a cloth material such as rayon. (A method of applying a rubbing treatment), a method of obliquely depositing silicon oxide on the surface of a substrate, a method of forming a monomolecular film having a long chain alkyl group using the Langmuir-Blodgett method (LB method), etc. There is. Among these, from the viewpoints of substrate size, liquid crystal alignment uniformity, processing time, and processing cost, it is common to provide liquid crystal alignment ability by rubbing.
However, if the alignment of the liquid crystal is performed by rubbing, dust is likely to be generated in the process or static electricity is likely to be generated, so that dust adheres to the alignment film surface and causes display defects. there were. In particular, in the case of a substrate having a TFT (Thin Film Transistor) element, there has been a problem that the circuit damage of the TFT element occurs due to the generated static electricity, resulting in a decrease in yield. Further, in liquid crystal display elements that will be further refined in the future, unevenness occurs on the surface of the substrate as the density of pixels increases, so that uniform rubbing is a problem.
As another means of imparting liquid crystal alignment ability to the liquid crystal alignment film in the liquid crystal cell, the liquid crystal alignment ability is obtained by irradiating a photosensitive thin film such as polyvinyl cinnamate or polyimide formed on the substrate surface with polarized or non-polarized radiation. The photo-alignment method to provide is known. According to this method, uniform liquid crystal alignment can be realized without generating static electricity or dust (see Patent Documents 3 to 12 and 19).

一方、上記とは別の液晶表示素子の動作モードとして、負の誘電異方性を有する液晶分子を基板に垂直に配向させる垂直(ホメオトロピック)配向モードも知られている。この動作モードでは、基板間に電圧を印加して液晶分子が基板に平行な方向に向かって傾く際に、液晶分子が基板法線方向から基板面内の一方向に向かって傾くようにする必要がある。このための手段として、例えば、基板表面に突起を設ける方法、透明電極にストライプを設ける方法、ラビング配向膜を用いることにより液晶分子を基板法線方向から基板面内の一方向に向けてわずかに傾けておく(プレチルトさせる)方法などが提案されている。
前記光配向法は、垂直配向モードの液晶表示素子において液晶分子の傾き方向を制御する方法としても有用であることが知られている。即ち、光配向法により配向規制力を付与した垂直配向膜を用いることにより、電圧印加時の液晶分子の傾き方向を均一に制御できることが知られている(特許文献11〜14および17〜19参照)。
また、従来、ディスプレイ、光エレクトロニクス、光学分野において、偏光板、位相差板、旋光性光学フィルムなどの光学部材が用いられている。これらの光学部材には様々な用途があり、例えば、液晶表示装置において偏光板、補償板、視野角改良フィルムなどの部材として多用されるほか、光ディスク装置において光ピックアップ素子用位相差板としても用いられている。
このような光学部材の製造方法としては、従来、延伸配向した樹脂フィルムを用いる方法などの多くの方法が知られている。しかし、このような方法により製造した光学部材は、その全面にわたって同一の光学特性を有するものであり、面内の異なる領域に異なる光学特性を有するものを得ることはできなかった。
このように、前記光配向法により製造した液晶配向膜は、液晶表示素子及び光学部材に有効に適用されうるものである。しかしながら、ポリビニルシンナメート、ポリイミドなどを利用する従来の光配向法には、液晶配向能を得るのに必要な放射線照射量が多いという問題があった。
特開昭56−91277号公報 特開平1−120528号公報 特開平6−287453号公報 特開平10−251646号公報 特開平11−2815号公報 特開平11−152475号公報 特開2000−144136号公報 特開2000−319510号公報 特開2000−281724号公報 特開平9−297313号公報 特開2003−307736号公報 特開2004−163646号公報 特開平9−211468号公報 特開2003−114437号公報 特開平6−289374号公報 特開2004−20658号公報 特開2006−171304号公報 特開2007−224273号公報 特開2007−256484号公報 T. J. Scheffer et. al. J. Appl. Phys. vo. 19, p2013(1980)
On the other hand, a vertical (homeotropic) alignment mode in which liquid crystal molecules having negative dielectric anisotropy are aligned perpendicularly to a substrate is also known as an operation mode of a liquid crystal display element different from the above. In this operation mode, when a voltage is applied between the substrates and the liquid crystal molecules are tilted in the direction parallel to the substrate, the liquid crystal molecules must be tilted from the substrate normal direction to one direction in the substrate surface. There is. As a means for this, for example, a method of providing protrusions on the substrate surface, a method of providing stripes on the transparent electrode, or using a rubbing alignment film, liquid crystal molecules are slightly directed from the substrate normal direction to one direction in the substrate surface. A method of tilting (pretilting) has been proposed.
The photo-alignment method is known to be useful as a method for controlling the tilt direction of liquid crystal molecules in a vertical alignment mode liquid crystal display element. That is, it is known that the tilt direction of liquid crystal molecules at the time of voltage application can be uniformly controlled by using a vertical alignment film imparted with an alignment regulating force by a photo-alignment method (see Patent Documents 11 to 14 and 17 to 19). ).
Conventionally, in the display, optoelectronics, and optical fields, optical members such as polarizing plates, phase difference plates, and optically rotatory optical films have been used. These optical members have various uses. For example, in addition to being widely used as a member such as a polarizing plate, a compensation plate, and a viewing angle improving film in a liquid crystal display device, they are also used as a phase difference plate for an optical pickup element in an optical disk device. It has been.
As a method for producing such an optical member, many methods such as a method using a stretched and oriented resin film have been conventionally known. However, the optical member manufactured by such a method has the same optical characteristics over the entire surface, and it has not been possible to obtain an optical member having different optical characteristics in different regions within the surface.
As described above, the liquid crystal alignment film manufactured by the photo-alignment method can be effectively applied to a liquid crystal display element and an optical member. However, the conventional photo-alignment method using polyvinyl cinnamate, polyimide, or the like has a problem that a large amount of radiation is necessary to obtain liquid crystal alignment ability.
JP 56-91277 A JP-A-1-120528 JP-A-6-287453 JP-A-10-251646 Japanese Patent Laid-Open No. 11-2815 JP-A-11-152475 JP 2000-144136 A JP 2000-319510 A JP 2000-281724 A JP-A-9-297313 JP 2003-307736 A JP 2004-163646 A Japanese Patent Laid-Open No. 9-21468 JP 2003-114437 A JP-A-6-289374 JP 2004-20658 A JP 2006-171304 A JP 2007-224273 A JP 2007-256484 A T.A. J. et al. Scheffer et. al. J. et al. Appl. Phys. vo. 19, p2013 (1980)

本発明の目的は、ラビング処理を行わずに、少ない照射量の偏光または非偏光の放射線によって液晶配向膜を形成することのできる液晶配向剤、該液晶配向剤を用いて少ない照射量の偏光または非偏光の放射線によって液晶配向膜を形成する方法、かかる方法により形成された液晶配向膜を具備する液晶表示素子および光学部材を提供することにある。
本発明のさらに他の目的および利点は、以下の説明から明らかになろう。
An object of the present invention is to provide a liquid crystal aligning agent that can form a liquid crystal alignment film with a small amount of polarized or non-polarized radiation without rubbing, and a small amount of polarized light or The object is to provide a method of forming a liquid crystal alignment film by non-polarized radiation, and a liquid crystal display element and an optical member comprising the liquid crystal alignment film formed by such a method.
Still other objects and advantages of the present invention will become apparent from the following description.

本発明によれば、本発明の目的は、第1に、
下記式(a−1)および(a−2)
According to the present invention, the object of the present invention is firstly,
The following formulas (a-1) and (a-2)

Figure 0005041599
Figure 0005041599

(上記式中、XおよびXは、互いに独立に、水素原子、ハロゲン原子または1価の有機基であり、YおよびYは、互いに独立に、ハロゲン原子または1価の有機基であり、WおよびWは、互いに独立に、単結合または2価の結合基であり、ただしYがハロゲン原子であるときにはWは単結合であり、Yがハロゲン原子であるときにはWは単結合であり、Zは単結合であり、n1およびn2は、互いに独立に、0〜4の整数である。)
のそれぞれで表される基から選択される少なくとも1種の基を有する重合体または化合物を含有する液晶配向剤によって達成される。
本発明の目的は、第2に、
基板上に、上記の液晶配向剤を塗布して塗膜を形成し、該塗膜に偏光または非偏光の放射線を照射して液晶配向能を付与する、液晶配向膜の形成方法によって達成される。
本発明の目的は、第3に、上記の方法により形成された液晶配向膜によって達成され、第4に、かかる液晶配向膜を具備する液晶表示素子または光学部材によって達成される。
(In the above formula, X 1 and X 2 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom or a monovalent organic group, and Y 1 and Y 2 are each independently a halogen atom or a monovalent organic group. And W 1 and W 2 are each independently a single bond or a divalent linking group, provided that when Y 1 is a halogen atom, W 1 is a single bond, and when Y 2 is a halogen atom, W 1 2 is a single bond, Z 1 is Tan'yui case, n1 and n2 are each independently an integer of 0-4.)
It is achieved by a liquid crystal aligning agent containing a polymer or compound having at least one group selected from the groups represented by
The object of the present invention is secondly,
It is achieved by a method for forming a liquid crystal alignment film, wherein a coating film is formed by applying the above liquid crystal aligning agent on a substrate, and the coating film is irradiated with polarized or non-polarized radiation to impart liquid crystal alignment ability. .
The object of the present invention is thirdly achieved by the liquid crystal alignment film formed by the above method, and fourthly by a liquid crystal display element or an optical member having such a liquid crystal alignment film.

本発明の液晶配向剤は、従来の光配向法による場合に比べて、少ない放射線照射量で液晶配向膜を得ることができる。それゆえ、この液晶配向膜を液晶表示素子に適用した場合、表示特性の優れた液晶表示素子を、従来より安価に製造できる。また、本発明の液晶配向膜を光学部材の製造に適用した場合には、面内均一性の優れた光学部材を、従来より安価に製造できる。
したがって、これらの液晶表示素子または光学部材は種々の装置に有効に適用でき、例えば卓上計算機、腕時計、置時計、計数表示板、ワードプロセッサ、パーソナルコンピューター、液晶テレビ、光ディスク装置などの装置に好適に用いることができる。
The liquid crystal aligning agent of this invention can obtain a liquid crystal aligning film with a small amount of radiation irradiation compared with the case of the conventional photo-alignment method. Therefore, when this liquid crystal alignment film is applied to a liquid crystal display element, a liquid crystal display element having excellent display characteristics can be manufactured at a lower cost than before. When the liquid crystal alignment film of the present invention is applied to the production of an optical member, an optical member having excellent in-plane uniformity can be produced at a lower cost than before.
Therefore, these liquid crystal display elements or optical members can be effectively applied to various devices, for example, suitably used for devices such as desk calculators, watches, table clocks, counting display boards, word processors, personal computers, liquid crystal televisions, and optical disk devices. Can do.

以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の液晶配向剤は、上記式(a−1)および(a−2)のそれぞれで表される基から選択される少なくとも1種の基を有する重合体または化合物を含有する。
上記式(a−1)および(a−2)におけるXおよびXは、互いに独立に、水素原子、ハロゲン原子または1価の有機基であり、好ましくは水素原子または炭素数1〜6のアルキル基であり、より好ましくは水素原子またはメチル基であり、特に好ましくは水素原子である。YおよびYは、互いに独立に、ハロゲン原子または1価の有機基であり、好ましくは、フッ素原子または炭素数1〜30の1価の有機基であり、より好ましくはフッ素で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基または脂環構造を有する炭素数3〜30の1価の有機基である。上記1価の有機基の具体例としては、例えばアミル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、トリフルオロメチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、4,4,4−トリフルオロブチル基、パーフルオロエチル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチル基、4,4,5,5,5−ペンタフルオロアミル基、パーフルオロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、4−メチルシクロヘキシル基、4−エチルシクロヘキシル基、4−プロピルシクロヘキシル基、4−ブチルシクロヘキシル基、4−アミルシクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、4−メチルシクロヘキシルメチル基、4−エチルシクロヘキシルメチル基、4−プロピルシクロヘキシルメチル基、4−ブチルシクロヘキシルメチル基、4−アミルシクロヘキシルメチル基、4(4−アミルシクロヘキシル)シクロヘキシルメチル基、4(4−メチルシクロヘキシル)フェニル基、4(4−エチルシクロヘキシル)フェニル基、4(4−プロピルシクロヘキシル)フェニル基、4(4−ブチルシクロヘキシル)フェニル基、4(4−アミルシクロヘキシル)フェニル基、コレステリル基、コレスタニル基などを挙げることができる。
およびWは、互いに独立に、単結合または2価の結合基であり、好ましくは単結合、エーテル結合、エステル結合、ウレタン結合または尿素結合である。ただし、Yがハロゲン原子である場合にはWは単結合であり、Yがハロゲン原子である場合にはWは単結合である。
は単結合である。n1およびn2は、互いに独立に、0〜4の整数であり、好ましくは1である。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The liquid crystal aligning agent of this invention contains the polymer or compound which has at least 1 sort (s) of group selected from the group represented by each of said formula (a-1) and (a-2).
X 1 and X 2 in the above formulas (a-1) and (a-2) are each independently a hydrogen atom, a halogen atom or a monovalent organic group, preferably a hydrogen atom or a C 1-6 carbon atom. An alkyl group, more preferably a hydrogen atom or a methyl group, and particularly preferably a hydrogen atom. Y 1 and Y 2 are each independently a halogen atom or a monovalent organic group, preferably a fluorine atom or a monovalent organic group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably substituted with fluorine. It is a C1-C20 alkyl group or C3-C30 monovalent organic group having an alicyclic structure. Specific examples of the monovalent organic group include amyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, tetradecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, trifluoromethyl group, 2,2,2-trifluoro. Ethyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, 4,4,4-trifluorobutyl group, perfluoroethyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, 3,3,4 , 4,4-pentafluorobutyl group, 4,4,5,5,5-pentafluoroamyl group, perfluoropropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, 4-methylcyclohexyl group, 4-ethylcyclohexyl group, 4- Propylcyclohexyl group, 4-butylcyclohexyl group, 4-amylcyclohexyl group, cyclohexylmethyl group, 4-methylcyclyl Hexylmethyl group, 4-ethylcyclohexylmethyl group, 4-propylcyclohexylmethyl group, 4-butylcyclohexylmethyl group, 4-amylcyclohexylmethyl group, 4 (4-amylcyclohexyl) cyclohexylmethyl group, 4 (4-methylcyclohexyl) Phenyl group, 4 (4-ethylcyclohexyl) phenyl group, 4 (4-propylcyclohexyl) phenyl group, 4 (4-butylcyclohexyl) phenyl group, 4 (4-amylcyclohexyl) phenyl group, cholesteryl group, cholestanyl group, etc. Can be mentioned.
W 1 and W 2 are each independently a single bond or a divalent linking group, preferably a single bond, an ether bond, an ester bond, a urethane bond or a urea bond. However, W 1 is a single bond when Y 1 is a halogen atom, and W 2 is a single bond when Y 2 is a halogen atom.
Z 1 is a Tan'yui case. n1 and n2 are each independently an integer of 0 to 4, preferably 1.

上記式(a−1)で表される基の具体例としては、例えば下記式(a−1−1)   Specific examples of the group represented by the above formula (a-1) include, for example, the following formula (a-1-1)

Figure 0005041599
Figure 0005041599

で表される基を;
上記式(a−2)で表される基の具体例としては、例えば下記式(a−2−1)〜(a−2−3)
A group represented by:
Specific examples of the group represented by the above formula (a-2) include, for example, the following formulas (a-2-1) to (a-2-3):

Figure 0005041599
Figure 0005041599

のそれぞれで表される基を、それぞれ挙げることができる。
本発明で用いられる上記式(a−1)および(a−2)のそれぞれで表される基から選択される少なくとも1種の基(以下、「特定基」ともいう。)を有する重合体は、例えば特定基を側鎖として有する重合体であることができる。かかる重合体としては、例えば特定基を有するポリオリガノシロキサン、スチレン(共)重合体、フェニルマレイミド(共)重合体、(メタ)アクリル酸エステル(共)重合体、ポリアミック酸、ポリイミド、ポリアミック酸エステル、ポリエステル、ポリアミド、セルロース、ポリアセタールなどを挙げることができる。これらのうち、特定基を有するポリオリガノシロキサンが好ましい。
特定基を有するポリオルガノシロキサンは、例えばエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンと、下記式(b−1)〜(b−3)
The groups represented by each of the above can be mentioned.
The polymer having at least one group selected from the groups represented by formulas (a-1) and (a-2) used in the present invention (hereinafter also referred to as “specific group”) is as follows. For example, it can be a polymer having a specific group as a side chain. Examples of such polymers include polyorganosiloxane having a specific group, styrene (co) polymer, phenylmaleimide (co) polymer, (meth) acrylic acid ester (co) polymer, polyamic acid, polyimide, polyamic acid. Examples thereof include esters, polyesters, polyamides, celluloses, and polyacetals. Of these, polyorganosiloxane having a specific group is preferred.
The polyorganosiloxane having a specific group is, for example, a polyorganosiloxane having an epoxy group and the following formulas (b-1) to (b-3):

Figure 0005041599
Figure 0005041599

(上記式中、X、X、Y、Y、W、W、Zならびにn1およびn2の定義は、それぞれ上記式(a−1)または(a−2)におけるのと同じであり、n3は1〜4の整数である。)
のそれぞれで表される化合物(特定基を有するカルボン酸)よりなる群から選択される少なくとも1種とを反応させることにより得ることができる。
エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンは、例えばエポキシ基を有するシラン化合物、あるいはエポキシ基を有するシラン化合物と他のシラン化合物の混合物を、好ましくは、適当な有機溶媒、水および触媒の存在下において加水分解または加水分解・縮合することにより合成することができる。また、チッソ(株)製の商品名DMS−10、DMS−12、DMS−21、DMS−32の如きエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンの市販品をそのまま用いてもよい。
上記エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンの合成に用いられる、エポキシ基を有するシラン化合物としては、例えば3−グリシジロキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシジロキシプロピルトリエトキシシラン、3−グリシジロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシジロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシジロキシプロピルジメチルメトキシシラン、3−グリシジロキシプロピルジメチルエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシランなどを挙げることができる。
(In the above formula, X 1 , X 2 , Y 1 , Y 2 , W 1 , W 2 , Z 1 and the definitions of n1 and n2 are as defined in the above formula (a-1) or (a-2), respectively. And n3 is an integer of 1 to 4.)
It can obtain by making it react with at least 1 sort (s) selected from the group which consists of the compound represented by each (carboxylic acid which has a specific group).
The polyorganosiloxane having an epoxy group is obtained by hydrolyzing, for example, a silane compound having an epoxy group or a mixture of a silane compound having an epoxy group and another silane compound, preferably in the presence of a suitable organic solvent, water and a catalyst. Alternatively, it can be synthesized by hydrolysis and condensation. Moreover, you may use the commercial item of the polyorganosiloxane which has an epoxy group like the brand names DMS-10, DMS-12, DMS-21, DMS-32 by Chisso Corporation as it is.
Examples of the silane compound having an epoxy group used for the synthesis of the polyorganosiloxane having the epoxy group include 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidyloxypropyltriethoxysilane, and 3-glycidyloxypropyl. Methyldimethoxysilane, 3-glycidyloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidyloxypropyldimethylmethoxysilane, 3-glycidyloxypropyldimethylethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane and the like can be mentioned.

上記他のシラン化合物としては、例えばテトラクロロシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−i−プロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、トリクロロシラン、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリ−n−プロポキシシラン、トリ−i−プロポキシシラン、トリ−n−ブトキシシラン、トリ−sec−ブトキシシラン、フルオロトリクロロシラン、フルオロトリメトキシシラン、フルオロトリエトキシシラン、フルオロトリ−n−プロポキシシラン、フルオロトリ−i−プロポキシシラン、フルオロトリ−n−ブトキシシラン、フルオロトリ−sec−ブトキシシラン、メチルトリクロロシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリ−n−プロポキシシラン、メチルトリ−i−プロポキシシラン、メチルトリ−n−ブトキシシラン、メチルトリ−sec−ブトキシシラン、2−(トリフルオロメチル)エチルトリクロロシシラン、2−(トリフルオロメチル)エチルトリメトキシシラン、2−(トリフルオロメチル)エチルトリエトキシシラン、2−(トリフルオロメチル)エチルトリ−n−プロポキシシラン、2−(トリフルオロメチル)エチルトリ−i−プロポキシシラン、2−(トリフルオロメチル)エチルトリ−n−ブトキシシラン、2−(トリフルオロメチル)エチルトリ−sec−ブトキシシラン、2−(パーフルオロ−n−ヘキシル)エチルトリクロロシラン、2−(パーフルオロ−n−ヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2−(パーフルオロ−n−ヘキシル)エチルトリエトキシシラン、2−(パーフルオロ−n−ヘキシル)エチルトリ−n−プロポキシシラン、2−(パーフルオロ−n−ヘキシル)エチルトリ−i−プロポキシシラン、2−(パーフルオロ−n−ヘキシル)エチルトリ−n−ブトキシシラン、2−(パーフルオロ−n−ヘキシル)エチルトリ−sec−ブトキシシラン、2−(パーフルオロ−n−オクチル)エチルトリクロロシラン、2−(パーフルオロ−n−オクチル)エチルトリメトキシシラン、2−(パーフルオロ−n−オクチル)エチルトリエトキシシラン、2−(パーフルオロ−n−オクチル)エチルトリ−n−プロポキシシラン、2−(パーフルオロ−n−オクチル)エチルトリ−i−プロポキシシラン、2−(パーフルオロ−n−オクチル)エチルトリ−n−ブトキシシラン、2−(パーフルオロ−n−オクチル)エチルトリ−sec−ブトキシシラン、ヒドロキシメチルトリクロロシラン、ヒドロキシメチルトリメトキシシラン、ヒドロキシエチルトリメトキシシラン、ヒドロキシメチルトリ−n−プロポキシシラン、ヒドロキシメチルトリ−i−プロポキシシラン、ヒドロキシメチルトリ−n−ブトキシシラン、ヒドロキシメチルトリ−sec−ブトキシシラン、   Examples of the other silane compounds include tetrachlorosilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-i-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, trichlorosilane, Trimethoxysilane, triethoxysilane, tri-n-propoxysilane, tri-i-propoxysilane, tri-n-butoxysilane, tri-sec-butoxysilane, fluorotrichlorosilane, fluorotrimethoxysilane, fluorotriethoxysilane, Fluorotri-n-propoxysilane, fluorotri-i-propoxysilane, fluorotri-n-butoxysilane, fluorotri-sec-butoxysilane, methyltrichlorosilane, methyltrimethoxysilane, Rutriethoxysilane, methyltri-n-propoxysilane, methyltri-i-propoxysilane, methyltri-n-butoxysilane, methyltri-sec-butoxysilane, 2- (trifluoromethyl) ethyltrichlorosilane, 2- (trifluoromethyl) ) Ethyltrimethoxysilane, 2- (trifluoromethyl) ethyltriethoxysilane, 2- (trifluoromethyl) ethyltri-n-propoxysilane, 2- (trifluoromethyl) ethyltri-i-propoxysilane, 2- (tri Fluoromethyl) ethyltri-n-butoxysilane, 2- (trifluoromethyl) ethyltri-sec-butoxysilane, 2- (perfluoro-n-hexyl) ethyltrichlorosilane, 2- (perfluoro-n-hexyl) ethyltri Methoxy Lan, 2- (perfluoro-n-hexyl) ethyltriethoxysilane, 2- (perfluoro-n-hexyl) ethyltri-n-propoxysilane, 2- (perfluoro-n-hexyl) ethyltri-i-propoxysilane 2- (perfluoro-n-hexyl) ethyltri-n-butoxysilane, 2- (perfluoro-n-hexyl) ethyltri-sec-butoxysilane, 2- (perfluoro-n-octyl) ethyltrichlorosilane, 2 -(Perfluoro-n-octyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (perfluoro-n-octyl) ethyltriethoxysilane, 2- (perfluoro-n-octyl) ethyltri-n-propoxysilane, 2- (perfluorosilane Fluoro-n-octyl) ethyltri-i-propoxysilane, 2- (Perful Olo-n-octyl) ethyltri-n-butoxysilane, 2- (perfluoro-n-octyl) ethyltri-sec-butoxysilane, hydroxymethyltrichlorosilane, hydroxymethyltrimethoxysilane, hydroxyethyltrimethoxysilane, hydroxymethyltri N-propoxysilane, hydroxymethyltri-i-propoxysilane, hydroxymethyltri-n-butoxysilane, hydroxymethyltri-sec-butoxysilane,

3−(メタ)アクリロキシプロピルトリクロロシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリ−n−プロポキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリ−i−プロポキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリ−n−ブトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリ−sec−ブトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリクロロシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリ−n−プロポキシシラン、3−メルカプトプロピルトリ−i−プロポキシシラン、3−メルカプトプロピルトリ−n−ブトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリ−sec−ブトキシシラン、メルカプトメチルトリメトキシシラン、メルカプトメチルトリエトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリ−n−プロポキシシラン、ビニルトリ−i−プロポキシシラン、ビニルトリ−n−ブトキシシラン、ビニルトリ−sec−ブトキシシラン、アリルトリクロロシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、アリルトリ−n−プロポキシシラン、アリルトリ−i−プロポキシシラン、アリルトリ−n−ブトキシシラン、アリルトリ−sec−ブトキシシラン、フェニルトリクロロシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリ−n−プロポキシシラン、フェニルトリ−i−プロポキシシラン、フェニルトリ−n−ブトキシシラン、フェニルトリ−sec−ブトキシシラン、メチルジクロロシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、メチルジ−n−プロポキシシラン、メチルジ−i−プロポキシシラン、メチルジ−n−ブトキシシラン、メチルジ−sec−ブトキシシラン、ジメチルジクロロシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジ−n−プロポキシシラン、ジメチルジ−i−プロポキシシラン、ジメチルジ−n−ブトキシシラン、ジメチルジ−sec−ブトキシシラン、(メチル)〔2−(パーフルオロオ−n−クチル)エチル〕ジクロロシラン、(メチル)〔2−(パーフルオロオ−n−クチル)エチル〕ジメトキシシラン、(メチル)〔2−(パーフルオロオ−n−クチル)エチル〕ジエメトキシシラン、(メチル)〔2−(パーフルオロオ−n−クチル)エチル〕ジ−n−プロポキシシラン、(メチル)〔2−(パーフルオロオ−n−クチル)エチル〕ジ−i−プロポキシシラン、(メチル)〔2−(パーフルオロオ−n−クチル)エチル〕ジ−n−ブトキシシラン、(メチル)〔2−(パーフルオロオ−n−クチル)エチル〕ジ−sec−ブトキシシラン、(メチル)(3−メルカプトプロピル)ジクロロシラン、 3- (meth) acryloxypropyltrichlorosilane, 3- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyltriethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyltri-n-propoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyltri-i-propoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyltri-n-butoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyltri-sec-butoxysilane, 3-mercaptopropyltri Chlorosilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropyltri-n-propoxysilane, 3-mercaptopropyltri-i-propoxysilane, 3-mercaptopropyltri-n-butoxysilane , -Mercaptopropyltri-sec-butoxysilane, mercaptomethyltrimethoxysilane, mercaptomethyltriethoxysilane, vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltri-n-propoxysilane, vinyltri-i-propoxysilane, Vinyltri-n-butoxysilane, vinyltri-sec-butoxysilane, allyltrichlorosilane, allyltrimethoxysilane, allyltriethoxysilane, allyltri-n-propoxysilane, allyltri-i-propoxysilane, allyltri-n-butoxysilane, allyltri -Sec-butoxysilane, phenyltrichlorosilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltri-n-propoxysilane, Phenyltri-i-propoxysilane, phenyltri-n-butoxysilane, phenyltri-sec-butoxysilane, methyldichlorosilane, methyldimethoxysilane, methyldiethoxysilane, methyldi-n-propoxysilane, methyldi-i-propoxysilane, Methyldi-n-butoxysilane, methyldi-sec-butoxysilane, dimethyldichlorosilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethyldi-n-propoxysilane, dimethyldi-i-propoxysilane, dimethyldi-n-butoxysilane, dimethyldi- sec-butoxysilane, (methyl) [2- (perfluoro-n-octyl) ethyl] dichlorosilane, (methyl) [2- (perfluoro-n-octyl) ethyl] dimethoxysilane, (methyl ) [2- (perfluoroon-n-octyl) ethyl] dimethoxysilane, (methyl) [2- (perfluoroon-n-octyl) ethyl] di-n-propoxysilane, (methyl) [2- (perfluoroon-n- (Cutyl) ethyl] di-i-propoxysilane, (methyl) [2- (perfluoro-n-octyl) ethyl] di-n-butoxysilane, (methyl) [2- (perfluoro-n-octyl) ethyl] di- sec-butoxysilane, (methyl) (3-mercaptopropyl) dichlorosilane,

(メチル)(3−メルカプトプロピル)ジメトキシシラン、(メチル)(3−メルカプトプロピル)ジエトキシシラン、(メチル)(3−メルカプトプロピル)ジ−n−プロポキシシラン、(メチル)(3−メルカプトプロピル)ジ−i−プロポキシシラン、(メチル)(3−メルカプトプロピル)ジ−n−ブトキシシラン、(メチル)(3−メルカプトプロピル)ジ−sec−ブトキシシラン、(メチル)(ビニル)ジクロロシラン、(メチル)(ビニル)ジメトキシシラン、(メチル)(ビニル)ジエトキシシラン、(メチル)(ビニル)ジ−n−プロポキシシラン、(メチル)(ビニル)ジ−i−プロポキシシラン、(メチル)(ビニル)ジ−n−ブトキシシラン、(メチル)(ビニル)ジ−sec−ブトキシシラン、ジビニルジクロロシラン、ジビニルジメトキシシラン、ジビニルジエトキシシラン、ジビニルジ−n−プロポキシシラン、ジビニルジ−i−プロポキシシラン、ジビニルジ−n−ブトキシシラン、ジビニルジ−sec−ブトキシシラン、ジフェニルジクロロシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジフェニルジ−n−プロポキシシラン、ジフェニルジ−i−プロポキシシラン、ジフェニルジ−n−ブトキシシラン、ジフェニルジ−sec−ブトキシシラン、クロロジメチルシラン、メトキシジメチルシラン、エトキシジメチルシラン、クロロトリメチルシラン、ブロモトリメチルシラン、ヨードトリメチルシラン、メトキシトリメチルシラン、エトキシトリメチルシラン、n−プロポキシトリメチルシラン、i−プロポキシトリメチルシラン、n−ブトキシトリメチルシラン、sec−ブトキシトリメチルシラン、t−ブトキシトリメチルシラン、(クロロ)(ビニル)ジメチルシラン、(メトキシ)(ビニル)ジメチルシラン、(エトキシ)(ビニル)ジメチルシラン、(クロロ)(メチル)ジフェニルシラン、(メトキシ)(メチル)ジフェニルシラン、(エトキシ)(メチル)ジフェニルシランなどのケイ素原子を1個有するシラン化合物のほか、 (Methyl) (3-mercaptopropyl) dimethoxysilane, (methyl) (3-mercaptopropyl) diethoxysilane, (methyl) (3-mercaptopropyl) di-n-propoxysilane, (methyl) (3-mercaptopropyl) Di-i-propoxysilane, (methyl) (3-mercaptopropyl) di-n-butoxysilane, (methyl) (3-mercaptopropyl) di-sec-butoxysilane, (methyl) (vinyl) dichlorosilane, (methyl ) (Vinyl) dimethoxysilane, (methyl) (vinyl) diethoxysilane, (methyl) (vinyl) di-n-propoxysilane, (methyl) (vinyl) di-i-propoxysilane, (methyl) (vinyl) di -N-butoxysilane, (methyl) (vinyl) di-sec-butoxysilane, divinyldichloro Silane, divinyldimethoxysilane, divinyldiethoxysilane, divinyldi-n-propoxysilane, divinyldi-i-propoxysilane, divinyldi-n-butoxysilane, divinyldi-sec-butoxysilane, diphenyldichlorosilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxy Silane, diphenyldi-n-propoxysilane, diphenyldi-i-propoxysilane, diphenyldi-n-butoxysilane, diphenyldi-sec-butoxysilane, chlorodimethylsilane, methoxydimethylsilane, ethoxydimethylsilane, chlorotrimethylsilane, Bromotrimethylsilane, iodotrimethylsilane, methoxytrimethylsilane, ethoxytrimethylsilane, n-propoxytrimethylsilane, i-propoxyto Methylsilane, n-butoxytrimethylsilane, sec-butoxytrimethylsilane, t-butoxytrimethylsilane, (chloro) (vinyl) dimethylsilane, (methoxy) (vinyl) dimethylsilane, (ethoxy) (vinyl) dimethylsilane, (chloro) In addition to silane compounds having one silicon atom such as (methyl) diphenylsilane, (methoxy) (methyl) diphenylsilane, (ethoxy) (methyl) diphenylsilane,

商品名で、例えばKC−89、KC−89S、X−21−3153、X−21−5841、X−21−5842、X−21−5843、X−21−5844、X−21−5845、X−21−5846、X−21−5847、X−21−5848、X−22−160AS、X−22−170B、X−22−170BX、X−22−170D、X−22−170DX、X−22−176B、X−22−176D、X−22−176DX、X−22−176F、X−40−2308、X−40−2651、X−40−2655A、X−40−2671、X−40−2672、X−40−9220、X−40−9225、X−40−9227、X−40−9246、X−40−9247、X−40−9250、X−40−9323、X−41−1053、X−41−1056、X−41−1805、X−41−1810、KF6001、KF6002、KF6003、KR212、KR−213、KR−217、KR220L、KR242A、KR271、KR282、KR300、KR311、KR401N、KR500、KR510、KR5206、KR5230、KR5235、KR9218、KR9706(以上、信越化学工業(株)製);グラスレジン(昭和電工(株)製);SH804、SH805、SH806A、SH840、SR2400、SR2402、SR2405、SR2406、SR2410、SR2411、SR2416、SR2420(以上、東レ・ダウコーニング(株)製);FZ3711、FZ3722(以上、日本ユニカー(株)製);DMS−S12、DMS−S15、DMS−S21、DMS−S27、DMS−S31、DMS−S32、DMS−S33、DMS−S35、DMS−S38、DMS−S42、DMS−S45、DMS−S51、DMS−227、PSD−0332、PDS−1615、PDS−9931、XMS−5025(以上、チッソ(株)製);メチルシリケートMS51、メチルシリケートMS56(以上、三菱化学(株)製);エチルシリケート28、エチルシリケート40、エチルシリケート48(以上、コルコート(株)製);GR100、GR650、GR908、GR950(以上、昭和電工(株)製)などの部分縮合物を挙げることができる。 Product names such as KC-89, KC-89S, X-21-3153, X-21-5841, X-21-5842, X-21-5843, X-21-5844, X-21-5845, X -21-5848, X-21-5847, X-21-5848, X-22-160AS, X-22-170B, X-22-170BX, X-22-170D, X-22-170DX, X-22 -176B, X-22-176D, X-22-176DX, X-22-176F, X-40-2308, X-40-2651, X-40-2655A, X-40-2671, X-40-2672 , X-40-9220, X-40-9225, X-40-9227, X-40-9246, X-40-9247, X-40-9250, X-40-9323, X-41-10 3, X-41-1056, X-41-1805, X-41-1810, KF6001, KF6002, KF6003, KR212, KR-213, KR-217, KR220L, KR242A, KR271, KR282, KR300, KR311, KR401N, KR500, KR510, KR5206, KR5230, KR5235, KR9218, KR9706 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.); glass resin (manufactured by Showa Denko KK); SH804, SH805, SH806A, SH840, SR2400, SR2402, SR2405, SR2406, SR2410, SR2411, SR2416, SR2420 (above, manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.); FZ3711, FZ3722 (above, manufactured by Nihon Unicar Co., Ltd.); DMS-S1 , DMS-S15, DMS-S21, DMS-S27, DMS-S31, DMS-S32, DMS-S33, DMS-S35, DMS-S38, DMS-S42, DMS-S45, DMS-S51, DMS-227, PSD -0332, PDS-1615, PDS-9931, XMS-5025 (above, manufactured by Chisso Corporation); Methyl silicate MS51, Methyl silicate MS56 (above, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation); Ethyl silicate 28, Ethyl silicate 40, Examples thereof include partial condensates such as ethyl silicate 48 (manufactured by Colcoat Co., Ltd.); GR100, GR650, GR908, GR950 (manufactured by Showa Denko Co., Ltd.).

これら他のシラン化合物のうち好ましいものとして、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、メルカプトメチルトリメトキシシラン、メルカプトメチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシランおよびジメチルジエトキシシランを挙げることができる。
上記のエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンは、そのエポキシ当量が100〜10,000g/モルであることが好ましく、150〜1,000g/モルであることがより好ましい。したがって、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンを合成するにあたっては、エポキシ基を有するシラン化合物と他のシラン化合物との使用割合を、得られるポリオルガノシロキサンエポキシ当量が上記の範囲になるように調製して設定することが好ましい。
Among these other silane compounds, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyltri Ethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, allyltrimethoxysilane, allyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltriethoxysilane, mercapto Mention may be made of methyltrimethoxysilane, mercaptomethyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane and dimethyldiethoxysilane.
The polyorganosiloxane having the above epoxy group preferably has an epoxy equivalent of 100 to 10,000 g / mol, and more preferably 150 to 1,000 g / mol. Therefore, in synthesizing a polyorganosiloxane having an epoxy group, the use ratio of the silane compound having an epoxy group and another silane compound is adjusted so that the obtained polyorganosiloxane epoxy equivalent is in the above range. It is preferable to set.

特定基を有するポリオルガノシロキサンは、上記の如きエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンと、上記式(b−1)〜(b−3)のそれぞれで表される化合物よりなる群から選択される少なくとも1種とを、好ましくは触媒存在下に、反応させることにより得ることができる。ここで、上記式(b−1)〜(b−3)のそれぞれで表される化合物よりなる群から選択される少なくとも1種は、ポリオルガノシロキサンの有するエポキシ基1モルに対して好ましくは0.001〜1.5モル、より好ましくは0.01〜1モル、さらに好ましくは0.05〜0.9モル使用される。
特定基を有するポリオルガノシロキサンを合成する際、上記式(b−1)〜(b−3)のそれぞれで表される化合物よりなる群から選択される少なくとも1種とともに、他のカルボン酸を併用してもよい。かかる他のカルボン酸としては、例えば、ヘキサン酸、オクタン酸、デカン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、シクロヘキサンカルボン酸、安息香酸および下記式(c−1)〜(c−4)
The polyorganosiloxane having a specific group is at least one selected from the group consisting of a polyorganosiloxane having an epoxy group as described above and a compound represented by each of the above formulas (b-1) to (b-3). The seed can be obtained by reacting, preferably in the presence of a catalyst. Here, at least one selected from the group consisting of the compounds represented by each of the above formulas (b-1) to (b-3) is preferably 0 with respect to 1 mol of the epoxy group of the polyorganosiloxane. 0.001 to 1.5 mol, more preferably 0.01 to 1 mol, and still more preferably 0.05 to 0.9 mol.
When synthesizing a polyorganosiloxane having a specific group, other carboxylic acids are used in combination with at least one selected from the group consisting of the compounds represented by formulas (b-1) to (b-3). May be. Examples of such other carboxylic acids include hexanoic acid, octanoic acid, decanoic acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid, stearic acid, cyclohexanecarboxylic acid, benzoic acid, and the following formulas (c-1) to (c-4): )

Figure 0005041599
Figure 0005041599

(上記式中、hは1〜3の整数であり、iは3〜18の整数であり、jは5〜20の整数であり、kは1〜3の整数であり、mは0〜18の整数であり、nは1〜18の整数である。)
のそれぞれで表される化合物を挙げることができる。
これらのうち好ましいものとして、上記式(c−1)〜(c−4)のいずれかで表される化合物を挙げることができ、さらに好ましいものとして、上記式(c−3)で表される化合物のうちの4―(トリフルオロメトキシ)安息香酸、4―(4,4,4−トリフルオロブトキシ)安息香酸および4―(4,4,5,5,5−ペンタフルオロアミロキシ)安息香酸を挙げることができる。
かかる他のカルボン酸の使用比率は、ポリオルガノシロキサンの有するエポキシ基1モルに対して、好ましくは0.001〜0.9モルであり、より好ましくは0.01〜0.5モルであり、さらに好ましくは0.05〜0.25モルである。
(In the above formula, h is an integer of 1 to 3, i is an integer of 3 to 18, j is an integer of 5 to 20, k is an integer of 1 to 3, and m is 0 to 18) And n is an integer of 1 to 18.)
The compound represented by each of these can be mentioned.
Among these, preferable examples include compounds represented by any of the above formulas (c-1) to (c-4), and more preferable examples are represented by the above formula (c-3). 4- (Trifluoromethoxy) benzoic acid, 4- (4,4,4-trifluorobutoxy) benzoic acid and 4- (4,4,5,5,5-pentafluoroamyloxy) benzoic acid among the compounds Can be mentioned.
The use ratio of the other carboxylic acid is preferably 0.001 to 0.9 mol, more preferably 0.01 to 0.5 mol, with respect to 1 mol of the epoxy group of the polyorganosiloxane. More preferably, it is 0.05-0.25 mol.

上記触媒としては、有機塩基、またはエポキシ化合物と酸無水物との反応を促進するいわゆる硬化促進剤として公知の化合物を用いることができる。
上記有機塩基としては、例えばエチルアミン、ジエチルアミン、ピペラジン、ピペリジン、ピロリジン、ピロールの如き1〜2級有機アミン;トリエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、ジアザビシクロウンデセンの如き3級の有機アミン(ただし、後述の硬化促進剤に該当するものは除く。);テトラメチルアンモニウムヒドロキシドの如き4級の有機アミンなどを、それぞれ挙げることができる。これらの有機塩基のうち、トリエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジンの如き3級の有機アミン;テトラメチルアンモニウムヒドロキシドの如き4級の有機アミンが好ましい。
上記硬化促進剤としては、例えばベンジルジメチルアミン、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、シクロヘキシルジメチルアミン、トリエタノールアミンの如き3級アミン;
2−メチルイミダゾール、2−n−ヘプチルイミダゾール、2−n−ウンデシルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−メチルイミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−n−ウンデシルイミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−フェニルイミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4,5−ジ(ヒドロキシメチル)イミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−フェニル−4,5−ジ〔(2’−シアノエトキシ)メチル〕イミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−n−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテート、1−(2−シアノエチル)−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテート、1−(2−シアノエチル)−2−エチル−4−メチルイミダゾリウムトリメリテート、2,4−ジアミノ−6−〔2’−メチルイミダゾリル−(1’)〕エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−(2’−n−ウンデシルイミダゾリル)エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−〔2’−エチル−4’−メチルイミダゾリル−(1’)〕エチル−s−トリアジン、2−メチルイミダゾールのイソシアヌル酸付加物、2−フェニルイミダゾールのイソシアヌル酸付加物、2,4−ジアミノ−6−〔2’−メチルイミダゾリル−(1’)〕エチル−s−トリアジンのイソシアヌル酸付加物の如きイミダゾール化合物;
ジフェニルフォスフィン、トリフェニルフォスフィン、亜リン酸トリフェニルの如き有機リン化合物;
As said catalyst, a well-known compound can be used as what is called a hardening accelerator which accelerates | stimulates reaction with an organic base or an epoxy compound, and an acid anhydride.
Examples of the organic base include primary and secondary organic amines such as ethylamine, diethylamine, piperazine, piperidine, pyrrolidine and pyrrole; triethylamine, tri-n-propylamine, tri-n-butylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, Examples thereof include tertiary organic amines such as diazabicycloundecene (except for those corresponding to curing accelerators described later); quaternary organic amines such as tetramethylammonium hydroxide. Among these organic bases, tertiary organic amines such as triethylamine, tri-n-propylamine, tri-n-butylamine, pyridine and 4-dimethylaminopyridine; quaternary organic amines such as tetramethylammonium hydroxide preferable.
Examples of the curing accelerator include tertiary amines such as benzyldimethylamine, 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, cyclohexyldimethylamine, and triethanolamine;
2-methylimidazole, 2-n-heptylimidazole, 2-n-undecylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenyl Imidazole, 1,2-dimethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-methylimidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-n-undecylimidazole, 1- ( 2-cyanoethyl) -2-phenylimidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4,5-di (Hydroxymethyl) imidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-fur Nyl-4,5-di [(2′-cyanoethoxy) methyl] imidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-n-undecylimidazolium trimellitate, 1- (2-cyanoethyl) -2-phenyl Imidazolium trimellitate, 1- (2-cyanoethyl) -2-ethyl-4-methylimidazolium trimellitate, 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1 ')] ethyl-s -Triazine, 2,4-diamino-6- (2'-n-undecylimidazolyl) ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2'-ethyl-4'-methylimidazolyl- (1 ' )] Ethyl-s-triazine, isocyanuric acid adduct of 2-methylimidazole, isocyanuric acid adduct of 2-phenylimidazole, 2,4-diamino-6- [2'-methyl] An imidazole compound such as an isocyanuric acid adduct of loumidazolyl- (1 ′)] ethyl-s-triazine;
Organophosphorus compounds such as diphenylphosphine, triphenylphosphine, triphenyl phosphite;

ベンジルトリフェニルフォスフォニウムクロライド、テトラ−n−ブチルフォスフォニウムブロマイド、メチルトリフェニルフォスフォニウムブロマイド、エチルトリフェニルフォスフォニウムブロマイド、n−ブチルトリフェニルフォスフォニウムブロマイド、テトラフェニルフォスフォニウムブロマイド、エチルトリフェニルフォスフォニウムヨーダイド、エチルトリフェニルフォスフォニウムアセテート、テトラ−n−ブチルフォスフォニウムo,o−ジエチルフォスフォロジチオネート、テトラ−n−ブチルフォスフォニウムベンゾトリアゾレート、テトラ−n−ブチルフォスフォニウムテトラフルオロボレート、テトラ−n−ブチルフォスフォニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルフォスフォニウムテトラフェニルボレートの如き4級フォスフォニウム塩;
1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7やその有機酸塩の如きジアザビシクロアルケン;
オクチル酸亜鉛、オクチル酸錫、アルミニウムアセチルアセトン錯体の如き有機金属化合物;
テトラエチルアンモニウムブロマイド、テトラ−n−ブチルアンモニウムブロマイド、テトラエチルアンモニウムクロライド、テトラ−n−ブチルアンモニウムクロライドの如き4級アンモニウム塩;
三フッ化ホウ素、ホウ酸トリフェニルの如きホウ素化合物;
塩化亜鉛、塩化第二錫の如き金属ハロゲン化合物;
ジシアンジアミドやアミンとエポキシ樹脂との付加物などのアミン付加型促進剤などの高融点分散型潜在性硬化促進剤;
前記イミダゾール化合物、有機リン化合物や4級フォスフォニウム塩などの硬化促進剤の表面をポリマーで被覆したマイクロカプセル型潜在性硬化促進剤;
アミン塩型潜在性硬化剤促進剤;
ルイス酸塩、ブレンステッド酸塩などの高温解離型の熱カチオン重合型潜在性硬化促進剤などの潜在性硬化促進剤などを挙げることができる。
これらのうちで好ましいものとして、テトラエチルアンモニウムブロマイド、テトラ−n−ブチルアンモニウムブロマイド、テトラエチルアンモニウムクロライド、テトラ−n−ブチルアンモニウムクロライドの如き4級アンモニウム塩を挙げることができる。
Benzyltriphenylphosphonium chloride, tetra-n-butylphosphonium bromide, methyltriphenylphosphonium bromide, ethyltriphenylphosphonium bromide, n-butyltriphenylphosphonium bromide, tetraphenylphosphonium bromide , Ethyltriphenylphosphonium iodide, ethyltriphenylphosphonium acetate, tetra-n-butylphosphonium o, o-diethylphosphorodithionate, tetra-n-butylphosphonium benzotriazolate, tetra -N-butylphosphonium tetrafluoroborate, tetra-n-butylphosphonium tetraphenylborate, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate Such bets quaternary phosphonium salts;
Diazabicycloalkenes such as 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7 and organic acid salts thereof;
Organometallic compounds such as zinc octylate, tin octylate, aluminum acetylacetone complex;
Quaternary ammonium salts such as tetraethylammonium bromide, tetra-n-butylammonium bromide, tetraethylammonium chloride, tetra-n-butylammonium chloride;
Boron compounds such as boron trifluoride and triphenyl borate;
Metal halides such as zinc chloride and stannic chloride;
High melting point dispersion type latent curing accelerators such as amine addition accelerators such as dicyandiamide and adducts of amine and epoxy resin;
A microcapsule type latent curing accelerator in which the surface of a curing accelerator such as the imidazole compound, organophosphorus compound or quaternary phosphonium salt is coated with a polymer;
An amine salt type latent curing agent accelerator;
Examples include latent curing accelerators such as high temperature dissociation type thermal cationic polymerization type latent curing accelerators such as Lewis acid salts and Bronsted acid salts.
Of these, preferred are quaternary ammonium salts such as tetraethylammonium bromide, tetra-n-butylammonium bromide, tetraethylammonium chloride, and tetra-n-butylammonium chloride.

触媒は、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサン100重量部に対して好ましくは100重量部以下、より好ましくは0.01〜100重量部、さらに好ましくは0.1〜20重量部の量で使用される。
反応温度は、好ましくは0〜200℃、より好ましくは50〜150℃である。反応時間は、好ましくは0.1〜50時間、より好ましくは0.5〜20時間である。
特定基を有するポリオルガノシロキサンの合成反応は、必要に応じて有機溶剤の存在下に行うことができる。かかる有機溶媒としては、例えば炭化水素化合物、エーテル化合物、エステル化合物、ケトン化合物、アミド化合物、アルコール化合物などを挙げることができる。これらのうち、エーテル化合物、エステル化合物、ケトン化合物が原料および生成物の溶解性ならびに生成物の精製のし易さの観点から好ましい。溶媒は、固形分濃度(反応溶液中の溶媒以外の成分の重量が溶液の全重量に占める割合)が、好ましくは0.1重量%以上、より好ましくは5〜50重量%となる量で使用される。
The catalyst is used in an amount of preferably 100 parts by weight or less, more preferably 0.01 to 100 parts by weight, and still more preferably 0.1 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyorganosiloxane having an epoxy group. .
The reaction temperature is preferably 0 to 200 ° C, more preferably 50 to 150 ° C. The reaction time is preferably 0.1 to 50 hours, more preferably 0.5 to 20 hours.
The synthesis reaction of the polyorganosiloxane having a specific group can be performed in the presence of an organic solvent, if necessary. Examples of such organic solvents include hydrocarbon compounds, ether compounds, ester compounds, ketone compounds, amide compounds, alcohol compounds, and the like. Of these, ether compounds, ester compounds, and ketone compounds are preferred from the viewpoints of solubility of raw materials and products and ease of purification of the products. The solvent is used in such an amount that the solid content concentration (the ratio of the weight of components other than the solvent in the reaction solution to the total weight of the solution) is preferably 0.1% by weight or more, more preferably 5 to 50% by weight. Is done.

本発明で用いることのできる特定基を有する化合物としては、低分子量の化合物が好ましく使用でき、例えば特定基を有するエポキシ化合物を挙げることができる。かかるエポキシ化合物は、例えば上記式(b−1)〜(b−3)のいずれかで表されるカルボン酸と2個以上のエポキシ基を有する化合物とを、モル比1:1の比率で反応させることにより得ることができる。
上記の如き特定基を有する重合体および化合物のうちでは、特定基を有する重合体が好ましい。
As the compound having a specific group that can be used in the present invention, a low molecular weight compound can be preferably used, and examples thereof include an epoxy compound having a specific group. Such an epoxy compound reacts, for example, a carboxylic acid represented by any one of the above formulas (b-1) to (b-3) with a compound having two or more epoxy groups in a molar ratio of 1: 1. Can be obtained.
Of the polymers and compounds having a specific group as described above, polymers having a specific group are preferred.

本発明の液晶配向剤は、上記の如き特定基を有する重合体または化合物を必須の成分として含有するが、必要に応じてその他の成分を含有することができる。かかるその他の成分としては、例えば他の重合体、分子内に少なくとも一つのエポキシ基を有する化合物(ただし、特定基を有するエポキシ化合物を除く。かかる分子内に少なくとも一つのエポキシ基を有する化合物を、以下、「エポキシ化合物」という。)、感応性シラン化合物などを挙げることができる。
上記他の重合体は、特定基をもたない重合体であり、本発明の液晶配向剤のワニス性状、電気特性などの改善のために、本発明の液晶配向剤に含有されることができる。
かかる他の重合体としては、例えばポリオルガノシロキサン、ポリアミック酸、ポリイミド、ポリアミック酸エステル、ポリエステル、ポリアミド、セルロース誘導体、ポリアセタール、ポリスチレン誘導体、ポリ(スチレン−フェニルマレイミド)誘導体、ポリ(メタ)アクリレートなどを挙げることができる。これらのうち、ポリオルガノシロキサン、ポリアミック酸またはイミド化重合体が、これを含有する液晶配向剤のワニス性状および電気特性がより優れることとなる点から好ましい。
他の重合体であるポリオルガノシロキサンは、例えば上記のエポキシ基を有するポリオルガノシロキサン、該エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンと上記式(c−1)〜(c−4)のそれぞれで表される化合物から選ばれる少なくとも1種とを、上記の方法に準じて反応して得られるポリオルガノシロキサン、上記他のシラン化合物の一つ以上を加水分解・縮合してなるポリオルガノシロキサンを挙げることができる。
他の重合体であるポリアミック酸は、テトラカルボン酸二無水物とジアミンとを反応させることにより得ることができる。他の重合体であるポリイミドは、上記ポリアミック酸を脱水閉環することにより得ることができる。
Although the liquid crystal aligning agent of this invention contains the polymer or compound which has the above specific groups as an essential component, it can contain another component as needed. Examples of such other components include other polymers and compounds having at least one epoxy group in the molecule (excluding epoxy compounds having a specific group. Compounds having at least one epoxy group in the molecule, Hereinafter, it is referred to as “epoxy compound”), a sensitive silane compound, and the like.
The other polymer is a polymer having no specific group, and can be contained in the liquid crystal aligning agent of the present invention in order to improve the varnish properties, electrical properties, etc. of the liquid crystal aligning agent of the present invention. .
Examples of such other polymers include polyorganosiloxane, polyamic acid, polyimide, polyamic acid ester, polyester, polyamide, cellulose derivative, polyacetal, polystyrene derivative, poly (styrene-phenylmaleimide) derivative, and poly (meth) acrylate. Can be mentioned. Of these, polyorganosiloxane, polyamic acid, or imidized polymer is preferable from the viewpoint that the varnish properties and electrical characteristics of the liquid crystal aligning agent containing the same are more excellent.
The polyorganosiloxane that is another polymer is represented by, for example, the above-described polyorganosiloxane having an epoxy group, the polyorganosiloxane having the epoxy group, and the above formulas (c-1) to (c-4). Examples include polyorganosiloxanes obtained by reacting at least one selected from compounds according to the above method, and polyorganosiloxanes obtained by hydrolysis and condensation of one or more of the other silane compounds. .
The polyamic acid which is another polymer can be obtained by reacting tetracarboxylic dianhydride and diamine. Polyimide which is another polymer can be obtained by dehydrating and ring-closing the polyamic acid.

ポリアミック酸を合成するために用いられるテトラカルボン酸二無水物としては、例えばブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,3−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,3−ジクロロ−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−テトラメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物、2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、3,5,6−トリカルボキシノルボルナン−2−酢酸二無水物、2,3,4,5−テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5−メチル−5(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5−エチル−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−7−メチル−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−7−エチル−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−8−メチル−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−8−エチル−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5,8−ジメチル−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフラニル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物、ビシクロ[2.2.2]−オクト−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、3−オキサビシクロ[3.2.1]オクタン−2,4−ジオン−6−スピロ−3’−(テトラヒドロフラン−2’,5’−ジオン)、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロ−3−フラニル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物、3,5,6−トリカルボキシ−2−カルボキシノルボルナン−2:3,5:6−二無水物、4,9−ジオキサトリシクロ[5.3.1.02,6]ウンデカン−3,5,8,10−テトラオン、下記式(T−1)または(T−II) Examples of the tetracarboxylic dianhydride used for synthesizing the polyamic acid include butanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2-dimethyl-1 , 2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,3-dimethyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,3-dichloro-1,2,3,4 -Cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-tetramethyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride Anhydride, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-dicyclohexyltetracarboxylic dianhydride, 2,3,5-tricarboxyl Lopentylacetic acid dianhydride, 3,5,6-tricarboxynorbornane-2-acetic acid dianhydride, 2,3,4,5-tetrahydrofurantetracarboxylic dianhydride, 1,3,3a, 4,5,9b -Hexahydro-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] -furan-1,3-dione, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro- 5-methyl-5 (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] -furan-1,3-dione, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro- 5-ethyl-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] -furan-1,3-dione, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro -7-methyl-5- (tetrahydro-2 , 5-Dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] -furan-1,3-dione, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-7-ethyl-5- (tetrahydro- 2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] -furan-1,3-dione, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-8-methyl-5- (tetrahydro -2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] -furan-1,3-dione, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-8-ethyl-5- ( Tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] -furan-1,3-dione, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-5,8-dimethyl- 5- (Tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1, -C] -furan-1,3-dione, 5- (2,5-dioxotetrahydrofuranyl) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride, bicyclo [2.2.2] -Oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, 3-oxabicyclo [3.2.1] octane-2,4-dione-6-spiro-3 '-(tetrahydrofuran -2 ', 5'-dione), 5- (2,5-dioxotetrahydro-3-furanyl) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride, 3,5,6-tri Carboxy-2-carboxynorbornane-2: 3,5: 6-dianhydride, 4,9-dioxatricyclo [5.3.1.0 2,6 ] undecane-3,5,8,10-tetraone The following formula (T-1) or (T-II)

Figure 0005041599
Figure 0005041599

(式(T−1)および(T−II)中、RおよびRは、それぞれ、芳香環を有する2価の有機基を示し、RおよびRは、それぞれ、水素原子またはアルキル基を示し、複数存在するRおよびRはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。)
で表される化合物などの脂肪族または脂環式テトラカルボン酸二無水物;
ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジメチルジフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−テトラフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−フランテトラカルボン酸二無水物、4,4’−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスルフィド二無水物、4,4’−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスルホン二無水物、4,4’−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルプロパン二無水物、3,3’,4,4’−パーフルオロイソプロピリデンジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス(フタル酸)フェニルホスフィンオキサイド二無水物、p−フェニレン−ビス(トリフェニルフタル酸)二無水物、m−フェニレン−ビス(トリフェニルフタル酸)二無水物、ビス(トリフェニルフタル酸)−4,4’−ジフェニルエーテル二無水物、ビス(トリフェニルフタル酸)−4,4’−ジフェニルメタン二無水物、エチレングリコール−ビス(アンヒドロトリメリテート)、プロピレングリコール−ビス(アンヒドロトリメリテート)、1,4−ブタンジオール−ビス(アンヒドロトリメリテート)、1,6−ヘキサンジオール−ビス(アンヒドロトリメリテート)、1,8−オクタンジオール−ビス(アンヒドロトリメリテート)、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン−ビス(アンヒドロトリメリテート)、下記式(T−1)〜(T−4)
(In formulas (T-1) and (T-II), R 1 and R 3 each represent a divalent organic group having an aromatic ring, and R 2 and R 4 each represent a hydrogen atom or an alkyl group. And a plurality of R 2 and R 4 may be the same or different.)
An aliphatic or alicyclic tetracarboxylic dianhydride such as a compound represented by:
Pyromellitic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride, 1,4,5, 8-naphthalene tetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-naphthalene tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenyl ether tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-dimethyldiphenylsilanetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-tetraphenylsilanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-furantetracarboxylic dianhydride 4,4′-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) diphenyl sulfide dianhydride, 4,4′-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) diphenylsulfone dianhydride, 4,4′-bis ( 3,4-dicar Boxyphenoxy) diphenylpropane dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-perfluoroisopropylidene diphthalic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2 , 2 ′, 3,3′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, bis (phthalic acid) phenylphosphine oxide dianhydride, p-phenylene-bis (triphenylphthalic acid) dianhydride, m-phenylene-bis ( Triphenylphthalic acid) dianhydride, bis (triphenylphthalic acid) -4,4′-diphenyl ether dianhydride, bis (triphenylphthalic acid) -4,4′-diphenylmethane dianhydride, ethylene glycol-bis ( Anhydrotrimellitate), propylene glycol-bis (anhydrotrimellitate), 1,4-butanediol-bis (anhydrotrimellitate) Retate), 1,6-hexanediol-bis (anhydrotrimellitate), 1,8-octanediol-bis (anhydrotrimellitate), 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane-bis ( Anhydrotrimellitate), the following formulas (T-1) to (T-4)

Figure 0005041599
Figure 0005041599

のそれぞれで表される化合物などの芳香族テトラカルボン酸二無水物を挙げることができる。これらは1種単独でまたは2種以上組み合わせて用いられる。
ポリアミック酸を合成するために用いられるテトラカルボン酸二無水物は、上記うち、ブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,3−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−8−メチル−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5,8−ジメチル−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン、ビシクロ[2.2.2]−オクト−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、3−オキサビシクロ[3.2.1]オクタン−2,4−ジオン−6−スピロ−3’−(テトラヒドロフラン−2’,5’−ジオン)、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロ−3−フラニル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物、3,5,6−トリカルボキシ−2−カルボキシノルボルナン−2:3,5:6−二無水物、4,9−ジオキサトリシクロ[5.3.1.02,6]ウンデカン−3,5,8,10−テトラオン、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、上記式(T−I)で表される化合物のうち下記式(T−5)〜(T−7)
An aromatic tetracarboxylic dianhydride such as a compound represented by each of the above can be exemplified. These may be used alone or in combination of two or more.
Among the above, tetracarboxylic dianhydrides used for synthesizing polyamic acid are butanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,3-dimethyl- 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic dianhydride, 1,3 , 3a, 4,5,9b-Hexahydro-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] furan-1,3-dione, 1,3,3a, 4 , 5,9b-Hexahydro-8-methyl-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] furan-1,3-dione, 1,3,3a, 4 , 5,9b- Xahydro-5,8-dimethyl-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] furan-1,3-dione, bicyclo [2.2.2] -oct -7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, 3-oxabicyclo [3.2.1] octane-2,4-dione-6-spiro-3 '-(tetrahydrofuran-2 ', 5'-dione), 5- (2,5-dioxotetrahydro-3-furanyl) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride, 3,5,6-tricarboxy- 2-carboxynorbornane-2: 3,5: 6-dianhydride, 4,9-dioxatricyclo [5.3.1.0 2,6 ] undecane-3,5,8,10-tetraone, pyro Mellitic dianhydride 3,3 ', 4,4'-benzofu Non-tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride, 2,2 ′, 3,3′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 1,4,5 , 8-Naphthalenetetracarboxylic dianhydride, among the compounds represented by the above formula (TI), the following formulas (T-5) to (T-7)

Figure 0005041599
Figure 0005041599

のそれぞれで表される化合物および上記式(T−II)で表される化合物のうち下記式(T−8) Of the compounds represented by each of the above and the compounds represented by the above formula (T-II), the following formula (T-8)

Figure 0005041599
Figure 0005041599

で表される化合物よりなる群から選択される少なくとも1種(以下、「特定テトラカルボン酸二無水物」という。)を含むものであることが、良好な液晶配向性を発現させることができる観点から好ましい。特定テトラカルボン酸二無水物のうち特に好ましいものとしては、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−8−メチル−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン、3−オキサビシクロ[3.2.1]オクタン−2,4−ジオン−6−スピロ−3’−(テトラヒドロフラン−2’,5’−ジオン)、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロ−3−フラニル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物、3,5,6−トリカルボキシ−2−カルボキシノルボルナン−2:3,5:6−二無水物、4,9−ジオキサトリシクロ[5.3.1.02,6]ウンデカン−3,5,8,10−テトラオン、ピロメリット酸二無水物および上記式(T−5)で表される化合物よりなる群から選択される少なくとも1種である。
ポリアミック酸を合成するために用いられるテトラカルボン酸二無水物は、上記の如き特定テトラカルボン酸二無水物を、全テトラカルボン酸二無水物に対して50モル%以上含むものであることが好ましく、80モル%以上含むものであることがより好ましく、特に90モル%以上含むものであることが好ましい。
It is preferable from the viewpoint that it can exhibit good liquid crystal alignment properties including at least one selected from the group consisting of the compounds represented by (hereinafter referred to as “specific tetracarboxylic dianhydride”). . Particularly preferred among the specific tetracarboxylic dianhydrides are 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic dianhydride, 1,3,3a , 4,5,9b-Hexahydro-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] furan-1,3-dione, 1,3,3a, 4,5 , 9b-Hexahydro-8-methyl-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] furan-1,3-dione, 3-oxabicyclo [3.2. 1] Octane-2,4-dione-6-spiro-3 ′-(tetrahydrofuran-2 ′, 5′-dione), 5- (2,5-dioxotetrahydro-3-furanyl) -3-methyl-3 -Cyclohexene-1,2 Dicarboxylic acid anhydride, 3,5,6-tricarboxy-2-carboxymethyl norbornane -2: 3,5: 6-dianhydride, 4,9-dioxatricyclo [5.3.1.0 2, 6 It is at least one selected from the group consisting of undecane-3,5,8,10-tetraone, pyromellitic dianhydride and the compound represented by the above formula (T-5).
The tetracarboxylic dianhydride used for synthesizing the polyamic acid preferably contains 50 mol% or more of the specific tetracarboxylic dianhydride as described above with respect to the total tetracarboxylic dianhydride, It is more preferable to contain more than mol%, and it is particularly preferable to contain more than 90 mol%.

ポリアミック酸を合成するために用いられるジアミンとしては、例えばp−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルエタン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、4,4’−ジアミノベンズアニリド、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、1,5−ジアミノナフタレン、2,2’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、2,2’−ジトリフルオロメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジトリフルオロメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、5−アミノ−1−(4’−アミノフェニル)−1,3,3−トリメチルインダン、6−アミノ−1−(4’−アミノフェニル)−1,3,3−トリメチルインダン、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノベンゾフェノン、3,4’−ジアミノベンゾフェノン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、9,9−ビス(4−アミノフェニル)−10−ヒドロアントラセン、2,7−ジアミノフルオレン、9,9−ジメチル−2,7−ジアミノフルオレン、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、4,4’−メチレン−ビス(2−クロロアニリン)、2,2’,5,5’−テトラクロロ−4,4’−ジアミノビフェニル、2,2’−ジクロロ−4,4’−ジアミノ−5,5’−ジメトキシビフェニル、3,3’−ジメトキシ−4,4’−ジアミノビフェニル、1,4,4’−(p−フェニレンイソプロピリデン)ビスアニリン、4,4’−(m−フェニレンイソプロピリデン)ビスアニリン、2,2’−ビス[4−(4−アミノ−2−トリフルオロメチルフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、4,4’−ジアミノ−2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ビフェニル、4,4’−ビス[(4−アミノ−2−トリフルオロメチル)フェノキシ]−オクタフルオロビフェニル、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニルなどの芳香族ジアミン;   Examples of the diamine used for synthesizing the polyamic acid include p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenylethane, 4,4′-diaminodiphenyl sulfide, 4,4′-diaminodiphenyl sulfone, 3,3′-dimethyl-4,4′-diaminobiphenyl, 4,4′-diaminobenzanilide, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 1,5-diaminonaphthalene, 2, 2'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2'-ditrifluoromethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'- Ditrifluoromethyl-4,4′-diaminobiphenyl, 5-amino-1- (4′-amino Enyl) -1,3,3-trimethylindane, 6-amino-1- (4′-aminophenyl) -1,3,3-trimethylindane, 3,4′-diaminodiphenyl ether, 3,3′-diaminobenzophenone 3,4′-diaminobenzophenone, 4,4′-diaminobenzophenone, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl ] Hexafluoropropane, 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 9,9-bis 4-Aminophenyl) -10-hydroanthracene, 2,7-diaminofluorene, 9,9-dimethyl-2,7-diaminofluorene, 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene, 4,4′-methylene -Bis (2-chloroaniline), 2,2 ', 5,5'-tetrachloro-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2'-dichloro-4,4'-diamino-5,5'-dimethoxy Biphenyl, 3,3′-dimethoxy-4,4′-diaminobiphenyl, 1,4,4 ′-(p-phenyleneisopropylidene) bisaniline, 4,4 ′-(m-phenyleneisopropylidene) bisaniline, 2,2 '-Bis [4- (4-amino-2-trifluoromethylphenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 4,4'-diamino-2,2'-bis (tri Aromatic diamines such as fluoromethyl) biphenyl, 4,4'-bis [(4-amino-2-trifluoromethyl) phenoxy] -octafluorobiphenyl, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl;

1,1−メタキシリレンジアミン、1,3−プロパンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、4,4−ジアミノヘプタメチレンジアミン、1,4−ジアミノシクロヘキサン、イソホロンジアミン、テトラヒドロジシクロペンタジエニレンジアミン、ヘキサヒドロ−4,7−メタノインダニレンジメチレンジアミン、トリシクロ[6.2.1.02,7]−ウンデシレンジメチルジアミン、4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルアミン)、1,3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンなどの脂肪族または脂環式ジアミン;
2,3−ジアミノピリジン、2,6−ジアミノピリジン、3,4−ジアミノピリジン、2,4−ジアミノピリミジン、5,6−ジアミノ−2,3−ジシアノピラジン、5,6−ジアミノ−2,4−ジヒドロキシピリミジン、2,4−ジアミノ−6−ジメチルアミノ−1,3,5−トリアジン、1,4−ビス(3−アミノプロピル)ピペラジン、2,4−ジアミノ−6−イソプロポキシ−1,3,5−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−メトキシ−1,3,5−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−フェニル−1,3,5−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−メチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−1,3,5−トリアジン、4,6−ジアミノ−2−ビニル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−5−フェニルチアゾール、2,6−ジアミノプリン、5,6−ジアミノ−1,3−ジメチルウラシル、3,5−ジアミノ−1,2,4−トリアゾール、6,9−ジアミノ−2−エトキシアクリジンラクテート、3,8−ジアミノ−6−フェニルフェナントリジン、1,4−ジアミノピペラジン、3,6−ジアミノアクリジン、ビス(4−アミノフェニル)フェニルアミン、3,6−ジアミノカルバゾール、N−メチル−3,6−ジアミノカルバゾール、N−エチル−3,6−ジアミノカルバゾール、N−フェニル−3,6−ジアミノカルバゾール、N,N’−ビス(4−アミノフェニル)−ベンジジン、N,N’−ビス(4−アミノフェニル)−N,N’−ジメチル−ベンジジン、下記式(D−I)
1,1-metaxylylenediamine, 1,3-propanediamine, tetramethylenediamine, pentamethylenediamine, hexamethylenediamine, heptamethylenediamine, octamethylenediamine, nonamethylenediamine, 4,4-diaminoheptamethylenediamine, 1 , 4-diaminocyclohexane, isophoronediamine, tetrahydrodicyclopentadienylenediamine, hexahydro-4,7-methanoindanylene methylenediamine, tricyclo [6.2.1.0 2,7 ] -undecylenedimethyldiamine, 4 Aliphatic or cycloaliphatic diamines such as 1,4′-methylenebis (cyclohexylamine), 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (aminomethyl) cyclohexane;
2,3-diaminopyridine, 2,6-diaminopyridine, 3,4-diaminopyridine, 2,4-diaminopyrimidine, 5,6-diamino-2,3-dicyanopyrazine, 5,6-diamino-2,4 -Dihydroxypyrimidine, 2,4-diamino-6-dimethylamino-1,3,5-triazine, 1,4-bis (3-aminopropyl) piperazine, 2,4-diamino-6-isopropoxy-1,3 , 5-triazine, 2,4-diamino-6-methoxy-1,3,5-triazine, 2,4-diamino-6-phenyl-1,3,5-triazine, 2,4-diamino-6-methyl -S-triazine, 2,4-diamino-1,3,5-triazine, 4,6-diamino-2-vinyl-s-triazine, 2,4-diamino-5-phenylthiazole, 2,6- Aminopurine, 5,6-diamino-1,3-dimethyluracil, 3,5-diamino-1,2,4-triazole, 6,9-diamino-2-ethoxyacridine lactate, 3,8-diamino-6 Phenylphenanthridine, 1,4-diaminopiperazine, 3,6-diaminoacridine, bis (4-aminophenyl) phenylamine, 3,6-diaminocarbazole, N-methyl-3,6-diaminocarbazole, N-ethyl -3,6-diaminocarbazole, N-phenyl-3,6-diaminocarbazole, N, N'-bis (4-aminophenyl) -benzidine, N, N'-bis (4-aminophenyl) -N, N '-Dimethyl-benzidine, the following formula (DI)

Figure 0005041599
Figure 0005041599

(式(D−I)中、Rはピリジン、ピリミジン、トリアジン、ピペリジンおよびピペラジンから選ばれる窒素原子を含む環構造を有する1価の有機基を示し、Xは2価の有機基を示す。)
で表される化合物、下記式(D−II)
(In the formula (DI), R 5 represents a monovalent organic group having a ring structure containing a nitrogen atom selected from pyridine, pyrimidine, triazine, piperidine and piperazine, and X 1 represents a divalent organic group. .)
A compound represented by formula (D-II):

Figure 0005041599
Figure 0005041599

(式(D−II)中、Rはピリジン、ピリミジン、トリアジン、ピペリジンおよびピペラジンから選ばれる窒素原子を含む環構造を有する2価の有機基を示し、Xは、それぞれ、2価の有機基を示し、複数存在するXはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。)
で表される化合物などの分子内に2つの1級アミノ基および該1級アミノ基以外の窒素原子を有するジアミン;
下記式(D−III)
(In Formula (D-II), R 6 represents a divalent organic group having a ring structure containing a nitrogen atom selected from pyridine, pyrimidine, triazine, piperidine and piperazine, and X 2 represents a divalent organic group, respectively. A plurality of X 2 may be the same or different from each other.)
A diamine having two primary amino groups and a nitrogen atom other than the primary amino group in a molecule such as a compound represented by:
The following formula (D-III)

Figure 0005041599
Figure 0005041599

(式(D−III)中、Rは−O−、−COO−、−OCO−、−NHCO−、−CONH−および−CO−から選ばれる2価の有機基を示し、Rはステロイド骨格、トリフルオロメチルフェニル基、トリフルオロメトキシフェニル基およびフルオロフェニル基から選ばれる基を有する1価の有機基または炭素数6〜30のアルキル基を示す。)
で表される化合物などのモノ置換フェニレンジアミン;
下記式(D−IV)
(In the formula (D-III), R 7 represents a divalent organic group selected from —O—, —COO—, —OCO—, —NHCO—, —CONH— and —CO—, and R 8 represents a steroid. (A monovalent organic group having a group selected from a skeleton, a trifluoromethylphenyl group, a trifluoromethoxyphenyl group, and a fluorophenyl group, or an alkyl group having 6 to 30 carbon atoms.)
Monosubstituted phenylenediamines such as compounds represented by:
The following formula (D-IV)

Figure 0005041599
Figure 0005041599

(式(D−IV)中、Rは、それぞれ、炭素数1〜12の炭化水素基を示し、複数存在するRはそれぞれ同一でも異なっていてもよく、pは、それぞれ、1〜3の整数であり、qは1〜20の整数である。)
で表されるジアミノオルガノシロキサン;
下記式(D−1)〜(D−5)
(In the formula (D-IV), R 9 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and a plurality of R 9 may be the same or different, and p represents 1 to 3 respectively. And q is an integer of 1 to 20.)
Diaminoorganosiloxane represented by:
The following formulas (D-1) to (D-5)

Figure 0005041599
Figure 0005041599

Figure 0005041599
Figure 0005041599

(式(D−4)中のyは2〜12の整数であり、式(D−5)中のzは1〜5の整数である。)
のそれぞれで表される化合物などを挙げることができる。これらのジアミンは、単独でまたは2種以上組み合わせて用いることができる。
ポリアミック酸を合成するために用いられるジアミンとしては、これらのうちp−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、1,5−ジアミノナフタレン、2,2’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、2,2’−ジトリフルオロメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、2,7−ジアミノフルオレン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、4,4’−(p−フェニレンジイソプロピリデン)ビスアニリン、4,4’−(m−フェニレンジイソプロピリデン)ビスアニリン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、1,4−ジアミノシクロヘキサン、4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルアミン)、1,3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、上記式(D−1)〜(D−5)で表される化合物、2,6−ジアミノピリジン、3,4−ジアミノピリジン、2,4−ジアミノピリミジン、3,6−ジアミノアクリジン、3,6−ジアミノカルバゾール、N−メチル−3,6−ジアミノカルバゾール、N−エチル−3,6−ジアミノカルバゾール、N−フェニル−3,6−ジアミノカルバゾール、N,N’−ビス(4−アミノフェニル)−ベンジジン、N,N’−ビス(4−アミノフェニル)−N,N’−ジメチル−ベンジジン、上記式(D−I)で表される化合物のうち下記式(D−6)
(Y in the formula (D-4) is an integer of 2 to 12, and z in the formula (D-5) is an integer of 1 to 5.)
And the like, and the like. These diamines can be used alone or in combination of two or more.
Among these, diamines used for synthesizing polyamic acid include p-phenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenyl sulfide, 1,5-diaminonaphthalene, and 2,2′-. Dimethyl-4,4′-diaminobiphenyl, 2,2′-ditrifluoromethyl-4,4′-diaminobiphenyl, 2,7-diaminofluorene, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 2,2-bis (4 -Aminophenyl) hexafluoropropane, 4,4 '-(p-phenylenediisopropylidene) bisaniline 4,4 ′-(m-phenylenediisopropylidene) bisaniline, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 1,4-diaminocyclohexane, 4 , 4′-methylenebis (cyclohexylamine), 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, compounds represented by the above formulas (D-1) to (D-5), 2,6-diaminopyridine, 3,4 -Diaminopyridine, 2,4-diaminopyrimidine, 3,6-diaminoacridine, 3,6-diaminocarbazole, N-methyl-3,6-diaminocarbazole, N-ethyl-3,6-diaminocarbazole, N-phenyl -3,6-diaminocarbazole, N, N'-bis (4-aminophenyl) -benzidine, N, N'-bis (4-aminophen Le) -N, N'-dimethyl - benzidine, formula among the compounds represented by the above formula (D-I) (D-6)

Figure 0005041599
Figure 0005041599

で表される化合物、上記式(D−II)で表される化合物のうち下記式(D−7) Of the compounds represented by formula (D-II), the following formula (D-7)

Figure 0005041599
Figure 0005041599

で表される化合物、上記式(D−III)で表される化合物のうちドデカノキシ−2,4−ジアミノベンゼン、ペンタデカノキシ−2,4−ジアミノベンゼン、ヘキサデカノキシ−2,4−ジアミノベンゼン、オクタデカノキシ−2,4−ジアミノベンゼン、ドデカノキシ−2,5−ジアミノベンゼン、ペンタデカノキシ−2,5−ジアミノベンゼン、ヘキサデカノキシ−2,5−ジアミノベンゼン、オクタデカノキシ−2,5−ジアミノベンゼン、下記式(D−8)〜(D−16) Of the compounds represented by formula (D-III), dodecanoxy-2,4-diaminobenzene, pentadecanoxy-2,4-diaminobenzene, hexadecanoxy-2,4-diaminobenzene, octadecanoxy-2 , 4-diaminobenzene, dodecanoxy-2,5-diaminobenzene, pentadecanoxy-2,5-diaminobenzene, hexadecanoxy-2,5-diaminobenzene, octadecanoxy-2,5-diaminobenzene, the following formula (D-8) to (D-16)

Figure 0005041599
Figure 0005041599

Figure 0005041599
Figure 0005041599

Figure 0005041599
Figure 0005041599

のそれぞれで表される化合物および上記式(D−IV)で表される化合物のうちの1,3−ビス(3−アミノプロピル)−テトラメチルジシロキサンよりなる群から選択される少なくとも1種(以下、[特定ジアミン」という。)を含むものであることが好ましい。
ポリアミック酸を合成するために用いられるジアミンは、上記の如き特定ジアミンを、全ジアミンに対して50モル%以上含むものであることが好ましく、80モル%以上含むものであることがより好ましく、特に90モル%以上含むものであることが好ましい。
And at least one selected from the group consisting of 1,3-bis (3-aminopropyl) -tetramethyldisiloxane among the compounds represented by the formula (D-IV) Hereinafter, it is preferable to include [specific diamine].
The diamine used for synthesizing the polyamic acid preferably contains the specific diamine as described above in an amount of 50 mol% or more, more preferably 80 mol% or more, particularly 90 mol% or more. It is preferable that it is included.

ポリアミック酸の合成反応に供されるテトラカルボン酸二無水物とジアミンの使用割合は、ジアミンに含まれるアミノ基1当量に対して、テトラカルボン酸二無水物の酸無水物基が0.5〜2当量となる割合が好ましく、0.7〜1.2当量となる割合がさらに好ましい。
ポリアミック酸の合成反応は、好ましくは有機溶媒中において、好ましくは−20〜150℃、より好ましくは0〜100℃の温度条件下で行われる。反応時間は、好ましくは0.5〜120時間、より好ましくは2〜10時間である。ここで、有機溶媒としては、合成されるポリアミック酸を溶解できるものであれば特に制限はなく、例えばN−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルトリアミドなどの非プロトン系極性溶媒;m−クレゾール、キシレノール、フェノール、ハロゲン化フェノールなどのフェノール系溶媒を挙げることができる。また、有機溶媒の使用量(α:有機溶媒と後述の貧溶媒とを併用する場合には有機溶媒と貧溶媒との合計をいう。)は、テトラカルボン酸二無水物およびジアミン化合物の総量(β)が、反応溶液の全量(α+β)に対して0.1〜30重量%になるような量であることが好ましい。
The proportion of tetracarboxylic dianhydride and diamine used in the polyamic acid synthesis reaction is such that the acid anhydride group of tetracarboxylic dianhydride is 0.5 to 1 equivalent to 1 equivalent of amino group contained in the diamine. A ratio of 2 equivalents is preferable, and a ratio of 0.7 to 1.2 equivalents is more preferable.
The polyamic acid synthesis reaction is preferably performed in an organic solvent under a temperature condition of preferably -20 to 150 ° C, more preferably 0 to 100 ° C. The reaction time is preferably 0.5 to 120 hours, more preferably 2 to 10 hours. Here, the organic solvent is not particularly limited as long as it can dissolve the synthesized polyamic acid. For example, N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide And aprotic polar solvents such as γ-butyrolactone, tetramethylurea and hexamethylphosphortriamide; and phenolic solvents such as m-cresol, xylenol, phenol and halogenated phenol. The amount of organic solvent used (α: the total of the organic solvent and the poor solvent when the organic solvent and the poor solvent described later are used in combination) is the total amount of tetracarboxylic dianhydride and diamine compound ( It is preferable that β) is 0.1 to 30% by weight based on the total amount of the reaction solution (α + β).

前記有機溶媒には、ポリアミック酸の貧溶媒であるアルコール、ケトン、エステル、エーテル、ハロゲン化炭化水素、炭化水素などを、生成するポリアミック酸が析出しない範囲で併用することができる。かかる貧溶媒の具体例としては、例えばメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、乳酸エチル、乳酸ブチル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルメトキシプロピオネ−ト、エチルエトキシプロピオネ−ト、シュウ酸ジエチル、マロン酸ジエチル、ジエチルエーテル、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコール−n−プロピルエーテル、エチレングリコール−i−プロピルエーテル、エチレングリコール−n−ブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、1,4−ジクロロブタン、トリクロロエタン、クロルベンゼン、o−ジクロルベンゼン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、イソアミルプロピオネート、イソアミルイソブチレート、ジイソペンチルエーテルなどを挙げることができる。
有機溶媒と貧溶媒とを併用する場合における貧溶媒の使用割合は、有機溶媒と貧溶媒と合計に対して好ましくは50重量%以下であり、より好ましくは20重量%以下である。
以上のようにして、ポリアミック酸を溶解してなる反応溶液が得られる。この反応溶液はそのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、反応溶液中に含まれるポリアミック酸を単離したうえで液晶配向剤の調製に供してもよく、または単離したポリアミック酸を精製したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。ポリアミック酸の単離は、上記反応溶液を大量の貧溶媒中に注いで析出物を得、この析出物を減圧下乾燥する方法、あるいは、反応溶液をエバポレーターで減圧留去する方法により行うことができる。また、このポリアミック酸を再び有機溶媒に溶解し、次いで貧溶媒で析出させる方法、あるいは、エバポレーターで減圧留去する工程を1回または数回行う方法により、ポリアミック酸を精製することができる。
For the organic solvent, alcohol, ketone, ester, ether, halogenated hydrocarbon, hydrocarbon and the like, which are poor solvents for polyamic acid, can be used in combination as long as the polyamic acid to be produced does not precipitate. Specific examples of the poor solvent include, for example, methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, cyclohexanol, ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, triethylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, ethyl lactate, butyl lactate, Acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl methoxypropionate, ethyl ethoxypropionate, diethyl oxalate, diethyl malonate, diethyl ether, ethylene glycol methyl ether, ethylene Glycol ethyl ether, ethylene glycol-n-propyl ether, ethylene glycol-i-propyl ether, ethylene glycol-n- Chill ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol ethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, tetrahydrofuran, dichloromethane, 1,2-dichloroethane, 1 , 4-dichlorobutane, trichloroethane, chlorobenzene, o-dichlorobenzene, hexane, heptane, octane, benzene, toluene, xylene, isoamylpropionate, isoamylisobutyrate, diisopentyl ether and the like.
When the organic solvent and the poor solvent are used in combination, the proportion of the poor solvent used is preferably 50% by weight or less, more preferably 20% by weight or less, based on the total of the organic solvent and the poor solvent.
As described above, a reaction solution obtained by dissolving polyamic acid is obtained. This reaction solution may be used as it is for the preparation of the liquid crystal aligning agent, may be used for the preparation of the liquid crystal aligning agent after isolating the polyamic acid contained in the reaction solution, or the isolated polyamic acid was purified. You may use for preparation of a liquid crystal aligning agent. Polyamic acid can be isolated by pouring the reaction solution into a large amount of poor solvent to obtain a precipitate, and drying the precipitate under reduced pressure, or by distilling the reaction solution under reduced pressure using an evaporator. it can. Further, the polyamic acid can be purified by a method of dissolving the polyamic acid again in an organic solvent and then precipitating with a poor solvent, or a method of performing the step of distilling under reduced pressure with an evaporator once or several times.

他の重合体であるポリイミドは、上記の如くして得られるポリアミック酸を脱水閉環することにより合成することができる。このポリイミドは、原料であるポリアミック酸が有していたアミック酸構造のすべてを脱水閉環した完全イミド化物であってもよく、アミック酸構造の一部のみを脱水閉環し、アミック酸構造とイミド環構造とが併存する部分イミド化物であってもよい。他の重合体であるポリイミドは、イミド化率が40%以上であることが好ましく、80%以上であることがより好ましい。
上記イミド化率は、ポリイミドのアミック酸構造の数とイミド環構造の数との合計に対するイミド環構造の数の占める割合を百分率で表したものである。このとき、イミド環の一部がイソイミド環であってもよい。イミド化率は、ポリイミドを適当な重水素化溶媒(例えば重水素化ジメチルスルホキシド)に溶解し、テトラメチルシランを基準物質として室温でH−NMRを測定した結果から、下記数式(i)により求めることができる。

イミド化率(%)=(1−A/A×α)×100 (i)

(数式(i)中、Aは化学シフト10ppm付近に現れるNH基のプロトン由来のピーク面積であり、Aはその他のプロトン由来のピーク面積であり、αはポリイミドの前駆体(ポリアミック酸)におけるNH基のプロトン1個に対するその他のプロトンの個数割合である。)
Another polymer, polyimide, can be synthesized by dehydrating and ring-closing the polyamic acid obtained as described above. This polyimide may be a completely imidized product obtained by dehydrating and ring-closing all of the amic acid structure of the polyamic acid as a raw material, and only a part of the amic acid structure is dehydrated and ring-closed. It may be a partially imidized product having a structure. The polyimide that is another polymer preferably has an imidization ratio of 40% or more, and more preferably 80% or more.
The said imidation rate represents the ratio which the number of the imide ring structure accounts with respect to the sum total of the number of the amic acid structures of polyimide, and the number of imide ring structures in percentage. At this time, a part of the imide ring may be an isoimide ring. The imidation rate is calculated by the following formula (i) based on the result of 1 H-NMR measured at room temperature using tetramethylsilane as a reference substance by dissolving polyimide in a suitable deuterated solvent (for example, deuterated dimethyl sulfoxide). Can be sought.

Imidation rate (%) = (1-A 1 / A 2 × α) × 100 (i)

(In Formula (i), A 1 is a peak area derived from protons of NH groups appearing near a chemical shift of 10 ppm, A 2 is a peak area derived from other protons, and α is a polyimide precursor (polyamic acid). The number ratio of other protons to one proton of NH group in

かかるポリイミドを合成するためのポリアミック酸の脱水閉環は、(i)ポリアミック酸を加熱する方法により、または(ii)ポリアミック酸を有機溶媒に溶解し、この溶液中に脱水剤および脱水閉環触媒を添加し必要に応じて加熱する方法により行われる。
上記(i)のポリアミック酸を加熱する方法における反応温度は、好ましくは50〜200℃であり、より好ましくは60〜170℃である。反応温度が50℃未満では脱水閉環反応が十分に進行せず、反応温度が200℃を超えると得られるイミド化重合体の分子量が低下することがある。反応時間は好ましくは1〜120時間であり、より好ましくは2〜30時間である。
一方、上記(ii)のポリアミック酸の溶液中に脱水剤および脱水閉環触媒を添加する方法において、脱水剤としては、例えば無水酢酸、無水プロピオン酸、無水トリフルオロ酢酸などの酸無水物を用いることができる。脱水剤の使用量は、ポリアミック酸の繰り返し単位1モルに対して0.01〜20モルとするのが好ましい。また、脱水閉環触媒としては、例えばピリジン、コリジン、ルチジン、トリエチルアミンなどの3級アミンを用いることができる。しかし、これらに限定されるものではない。脱水閉環触媒の使用量は、使用する脱水剤1モルに対して0.01〜10モルとするのが好ましい。なお、脱水閉環反応に用いられる有機溶媒としては、ポリアミック酸の合成に用いられるものとして例示した有機溶媒を挙げることができる。そして、脱水閉環反応の反応温度は、好ましくは0〜180℃、より好ましくは10〜150℃である。反応時間は好ましくは0.5〜30時間であり、より好ましくは2〜10時間である。
上記方法(i)において得られるポリイミドは、これをそのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、あるいは得られるポリイミドを精製したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。一方、上記方法(ii)においてはポリイミドを含有する反応溶液が得られる。この反応溶液は、これをそのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、反応溶液から脱水剤及び脱水閉環触媒を除いたうえで液晶配向剤の調製に供してもよく、ポリイミドを単離したうえで液晶配向剤の調製に供してもよく、または単離したポリイミドを精製したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。反応溶液から脱水剤及び脱水閉環触媒を除くには、例えば溶媒置換などの方法を適用することができる。ポリイミドの単離、精製は、ポリアミック酸の単離、精製方法として上記したのと同様の操作を行うことにより行うことができる。
Dehydration and ring closure of polyamic acid to synthesize such polyimide can be performed by (i) heating the polyamic acid or (ii) dissolving polyamic acid in an organic solvent and adding a dehydrating agent and a dehydrating ring closure catalyst to this solution. And it is performed by the method of heating as needed.
The reaction temperature in the method of heating the polyamic acid (i) is preferably 50 to 200 ° C, more preferably 60 to 170 ° C. When the reaction temperature is less than 50 ° C., the dehydration ring-closing reaction does not proceed sufficiently, and when the reaction temperature exceeds 200 ° C., the molecular weight of the imidized polymer obtained may decrease. The reaction time is preferably 1 to 120 hours, more preferably 2 to 30 hours.
On the other hand, in the method (ii) of adding a dehydrating agent and a dehydrating ring-closing catalyst to the polyamic acid solution, an acid anhydride such as acetic anhydride, propionic anhydride, or trifluoroacetic anhydride is used as the dehydrating agent. Can do. The amount of the dehydrating agent used is preferably 0.01 to 20 mol relative to 1 mol of the polyamic acid repeating unit. Moreover, as a dehydration ring closure catalyst, tertiary amines, such as a pyridine, a collidine, a lutidine, a triethylamine, can be used, for example. However, it is not limited to these. The amount of the dehydration ring-closing catalyst used is preferably 0.01 to 10 mol with respect to 1 mol of the dehydrating agent used. In addition, as an organic solvent used for dehydration ring closure reaction, the organic solvent illustrated as what is used for the synthesis | combination of a polyamic acid can be mentioned. And the reaction temperature of dehydration ring closure reaction becomes like this. Preferably it is 0-180 degreeC, More preferably, it is 10-150 degreeC. The reaction time is preferably 0.5 to 30 hours, more preferably 2 to 10 hours.
The polyimide obtained in the above method (i) may be used for the preparation of the liquid crystal aligning agent as it is, or may be used for the preparation of the liquid crystal aligning agent after purifying the obtained polyimide. On the other hand, in the above method (ii), a reaction solution containing polyimide is obtained. This reaction solution may be used as it is for the preparation of the liquid crystal aligning agent, or may be used for the preparation of the liquid crystal aligning agent after removing the dehydrating agent and the dehydrating ring-closing catalyst from the reaction solution. It may be used for the preparation of a liquid crystal aligning agent or may be used for the preparation of a liquid crystal aligning agent after purifying the isolated polyimide. In order to remove the dehydrating agent and the dehydrating ring-closing catalyst from the reaction solution, for example, a method such as solvent replacement can be applied. The isolation and purification of the polyimide can be performed by performing the same operation as described above as the isolation and purification method of the polyamic acid.

他の重合体であるポリアミック酸およびポリイミドは、分子量が調節された末端修飾型のものであってもよい。このような末端修飾型のものは、ポリアミック酸を合成する際に、酸一無水物、モノアミン化合物、モノイソシアネート化合物などの適宜の分子量調節剤を反応系に添加することにより合成することができる。ここで、酸一無水物としては、例えば無水マレイン酸、無水フタル酸、無水イタコン酸、n−デシルサクシニック酸無水物、n−ドデシルサクシニック酸無水物、n−テトラデシルサクシニック酸無水物、n−ヘキサデシルサクシニック酸無水物などを挙げることができる。また、モノアミン化合物としては、例えば、アニリン、シクロヘキシルアミン、n−ブチルアミン、n−ペンチルアミン、n−ヘキシルアミン、n−ヘプチルアミン、n−オクチルアミン、n−ノニルアミン、n−デシルアミン、n−ウンデシルアミン、n−ドデシルアミン、n−トリデシルアミン、n−テトラデシルアミン、n−ペンタデシルアミン、n−ヘキサデシルアミン、n−ヘプタデシルアミン、n−オクタデシルアミン、n−エイコシルアミンなどを挙げることができる。また、モノイソシアネート化合物としては、例えばフェニルイソシアネート、ナフチルイソシアネートなどを挙げることができる。
分子量調節剤の使用割合としては、上記式(a)で表される基を有するポリアミック酸を合成する際に使用されるテトラカルボン酸二無水物およびジアミンの合計量の100重量部に対して、好ましくは20重量部以下であり、より好ましくは10重量部以下である。
The polyamic acid and polyimide which are other polymers may be of a terminal modified type having a controlled molecular weight. Such a terminal-modified type can be synthesized by adding an appropriate molecular weight regulator such as acid monoanhydride, monoamine compound, monoisocyanate compound to the reaction system when synthesizing the polyamic acid. Here, as the acid monoanhydride, for example, maleic anhydride, phthalic anhydride, itaconic anhydride, n-decyl succinic anhydride, n-dodecyl succinic anhydride, n-tetradecyl succinic anhydride , N-hexadecyl succinic anhydride and the like. Examples of the monoamine compound include aniline, cyclohexylamine, n-butylamine, n-pentylamine, n-hexylamine, n-heptylamine, n-octylamine, n-nonylamine, n-decylamine, and n-undecyl. Amine, n-dodecylamine, n-tridecylamine, n-tetradecylamine, n-pentadecylamine, n-hexadecylamine, n-heptadecylamine, n-octadecylamine, n-eicosylamine, etc. be able to. Examples of the monoisocyanate compound include phenyl isocyanate and naphthyl isocyanate.
As a use ratio of the molecular weight regulator, with respect to 100 parts by weight of the total amount of tetracarboxylic dianhydride and diamine used when synthesizing the polyamic acid having a group represented by the above formula (a), Preferably it is 20 weight part or less, More preferably, it is 10 weight part or less.

本発明の液晶配向剤が他の重合体を含有するものである場合、他の重合体の使用割合としては、液晶配向剤が特定基を有する重合体を含有するものである場合には、特定基を有する重合体と他の重合体との合計に対して50〜99重量%であることが好ましく、75〜95重量%であることがより好ましく、特に80〜90重量%であることが好ましい。一方、液晶配向剤が特定基を有する化合物を含有するものである場合における他の重合体の使用割合は、特定基を有する化合物の100重量部に対して好ましくは5,000重量部以下であり、より好ましくは100〜4,000重量部であり、さらに好ましくは200〜3,000重量部であり、特に500〜2,000重量部であることが好ましい。   When the liquid crystal aligning agent of the present invention contains another polymer, the use ratio of the other polymer is specified when the liquid crystal aligning agent contains a polymer having a specific group. It is preferably 50 to 99% by weight, more preferably 75 to 95% by weight, and particularly preferably 80 to 90% by weight based on the total of the polymer having a group and another polymer. . On the other hand, when the liquid crystal aligning agent contains a compound having a specific group, the use ratio of the other polymer is preferably 5,000 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the compound having the specific group. More preferably, it is 100-4,000 weight part, More preferably, it is 200-3,000 weight part, It is especially preferable that it is 500-2,000 weight part.

上記エポキシ化合物は、形成される液晶配向膜の基板表面に対する接着性をより向上する観点から本発明の液晶配向剤に含有されることができる、かかるエポキシ化合物としては、例えばエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、2,2−ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,3,5,6−テトラグリシジル−2,4−ヘキサンジオール、N,N,N’,N’,−テトラグリシジル−m−キシレンジアミン、1,3−ビス(N,N−ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、N,N−ジグリシジル−ベンジルアミン、N,N−ジグリシジル−アミノメチルシクロヘキサンなどを、好ましいものとして挙げることができる。これらエポキシ化合物の配合割合は、重合体の合計(上記式(a)で表される重合体および他の重合体の合計をいう。以下同じ。)100重量部に対して、好ましくは40重量部以下であり、より好ましくは0.1〜30重量部である。
上記官能性シラン化合物としては、例えば3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、2−アミノプロピルトリメトキシシラン、2−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、3−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、N−エトキシカルボニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−エトキシカルボニル−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−トリエトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、N−トリメトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、10−トリメトキシシリル−1,4,7−トリアザデカン、10−トリエトキシシリル−1,4,7−トリアザデカン、9−トリメトキシシリル−3,6−ジアザノニルアセテート、9−トリエトキシシリル−3,6−ジアザノニルアセテート、N−ベンジル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−ベンジル−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−ビス(オキシエチレン)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−ビス(オキシエチレン)−3−アミノプロピルトリエトキシシランなどを挙げることができる。これら官能性シラン化合物の配合割合は、重合体の合計100重量部に対して、好ましくは2重量部以下であり、より好ましくは0.2重量部以下である。
The epoxy compound can be contained in the liquid crystal aligning agent of the present invention from the viewpoint of further improving the adhesion of the liquid crystal alignment film to be formed to the substrate surface. Examples of the epoxy compound include ethylene glycol diglycidyl ether, Polyethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether, 2,2 -Dibromoneopentylglycol diglycidyl ether, 1,3,5,6-tetraglycidyl-2,4-hexanediol, N, N, N ', N',-tetraglycidyl- Xylenediamine, 1,3-bis (N, N-diglycidylaminomethyl) cyclohexane, N, N, N ′, N′-tetraglycidyl-4,4′-diaminodiphenylmethane, N, N-diglycidyl-benzylamine N, N-diglycidyl-aminomethylcyclohexane and the like can be mentioned as preferable ones. The blending ratio of these epoxy compounds is preferably 40 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total of the polymers (referring to the total of the polymer represented by the above formula (a) and other polymers. The same shall apply hereinafter). It is below, More preferably, it is 0.1-30 weight part.
Examples of the functional silane compound include 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 2-aminopropyltrimethoxysilane, 2-aminopropyltriethoxysilane, N- (2-aminoethyl)- 3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-ureidopropyltrimethoxysilane, 3-ureidopropyltriethoxysilane, N-ethoxycarbonyl-3-aminopropyl Trimethoxysilane, N-ethoxycarbonyl-3-aminopropyltriethoxysilane, N-triethoxysilylpropyltriethylenetriamine, N-trimethoxysilylpropyltriethylenetriamine, 10-trimethoxysilyl-1,4 7-triazadecane, 10-triethoxysilyl-1,4,7-triazadecane, 9-trimethoxysilyl-3,6-diazanonyl acetate, 9-triethoxysilyl-3,6-diazanonyl acetate, N- Benzyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-benzyl-3-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltriethoxysilane, N-bis ( Examples thereof include oxyethylene) -3-aminopropyltrimethoxysilane and N-bis (oxyethylene) -3-aminopropyltriethoxysilane. The blending ratio of these functional silane compounds is preferably 2 parts by weight or less, more preferably 0.2 parts by weight or less, with respect to 100 parts by weight of the total polymer.

本発明の液晶配向剤は、上記の如き特定基を有する重合体または化合物、および任意的に添加されるその他の成分が、好ましくは有機溶媒中に溶解含有されて構成される。
本発明の液晶配向剤に使用することのできる有機溶媒としては、例えばN−メチル−2−ピロリドン、γ−ブチロラクトン、γ−ブチロラクタム、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン、エチレングリコールモノメチルエーテル、乳酸ブチル、酢酸ブチル、メチルメトキシプロピオネ−ト、エチルエトキシプロピオネ−ト、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコール−n−プロピルエーテル、エチレングリコール−i−プロピルエーテル、エチレングリコール−n−ブチルエーテル(ブチルセロソルブ)、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、イソアミルプロピオネート、イソアミルイソブチレート、ジイソペンチルエーテルなどを挙げることができる。これらは単独で使用することができ、または2種以上を混合して使用することができる。特に好ましい溶媒組成は、前記の溶媒を組み合わせて得られる組成であって、配向剤中で重合体が析出せず、かつ、配向剤の表面張力が25〜40mN/mの範囲となるような組成である。
The liquid crystal aligning agent of the present invention is constituted by the polymer or compound having the specific group as described above and other components optionally added, preferably dissolved in an organic solvent.
Examples of the organic solvent that can be used in the liquid crystal aligning agent of the present invention include N-methyl-2-pyrrolidone, γ-butyrolactone, γ-butyrolactam, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, 4- Hydroxy-4-methyl-2-pentanone, ethylene glycol monomethyl ether, butyl lactate, butyl acetate, methyl methoxypropionate, ethyl ethoxypropionate, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol ethyl ether, ethylene glycol-n- Propyl ether, ethylene glycol-i-propyl ether, ethylene glycol-n-butyl ether (butyl cellosolve), ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol ethyl ether acetate, diethylene glycol Examples thereof include dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, isoamyl propionate, isoamyl isobutyrate, and diisopentyl ether. These can be used alone or in admixture of two or more. A particularly preferable solvent composition is a composition obtained by combining the above-mentioned solvents, wherein no polymer is precipitated in the aligning agent, and the surface tension of the aligning agent is in the range of 25 to 40 mN / m. It is.

本発明の液晶配向剤における固形分濃度(液晶配向剤中の溶媒以外の成分の合計重量が液晶配向剤の全重量に占める割合)は、粘性、揮発性などを考慮して選択されるが、好ましくは1〜10重量%の範囲である。すなわち、本発明の液晶配向剤は、基板表面に塗布されて溶媒を除去することにより、液晶配向膜となる塗膜が形成されるが、液晶配向剤の固形分濃度が1重量%未満である場合には、この塗膜の膜厚が過小となって良好な液晶配向膜を得難く、固形分濃度が10重量%を超える場合には、塗膜の膜厚が過大となって同様に良好な液晶配向膜を得難く、また、液晶配向剤の粘性が増大して塗布特性が劣るものとなる場合がある。特に好ましい固形分濃度の範囲は、基板に液晶配向剤を塗布する際に用いる方法によって異なる。例えば、スピンナー法による場合には1.5〜4.5重量%の範囲が特に好ましい。印刷法による場合には、固形分濃度を3〜9重量%の範囲とし、それにより、溶液粘度を12〜50mPa・sの範囲とするのが特に好ましい。インクジェット法による場合には、固形分濃度を1〜5重量%の範囲とし、それにより、溶液粘度を3〜15mPa・sの範囲とするのが特に好ましい。
本発明の液晶配向剤を調製する際の温度は、好ましくは0℃〜200℃、より好ましくは20℃〜60℃である。
The solid content concentration in the liquid crystal aligning agent of the present invention (the ratio of the total weight of components other than the solvent in the liquid crystal aligning agent to the total weight of the liquid crystal aligning agent) is selected in consideration of viscosity, volatility, Preferably it is the range of 1-10 weight%. That is, the liquid crystal aligning agent of the present invention is applied to the substrate surface to remove the solvent to form a coating film that becomes a liquid crystal aligning film, but the solid content concentration of the liquid crystal aligning agent is less than 1% by weight. In this case, it is difficult to obtain a good liquid crystal alignment film because the film thickness is too small, and when the solid content concentration exceeds 10% by weight, the film thickness is too large to be equally good. A liquid crystal alignment film is difficult to obtain, and the viscosity of the liquid crystal aligning agent may increase, resulting in poor coating characteristics. The particularly preferable range of the solid content concentration varies depending on the method used when the liquid crystal aligning agent is applied to the substrate. For example, when the spinner method is used, the range of 1.5 to 4.5% by weight is particularly preferable. In the case of the printing method, it is particularly preferable that the solid content concentration is in the range of 3 to 9% by weight, and thereby the solution viscosity is in the range of 12 to 50 mPa · s. In the case of the inkjet method, it is particularly preferable that the solid content concentration is in the range of 1 to 5% by weight, and thereby the solution viscosity is in the range of 3 to 15 mPa · s.
The temperature at which the liquid crystal aligning agent of the present invention is prepared is preferably 0 ° C to 200 ° C, more preferably 20 ° C to 60 ° C.

本発明の液晶配向膜は、上記の如き本発明の液晶配向剤を塗布して塗膜を形成し、該塗膜に偏光または非偏光の放射線を照射して液晶配向能を付与することにより形成することができる。具体的には、例えば以下の方法によることができる。
本発明の液晶配向膜を、液晶表示素子に用いる場合には、パターニングされた透明導電膜が設けられている基板の一面に、本発明の液晶配向剤を塗布して塗膜を形成し、該塗膜に偏光または非偏光の放射線を照射して液晶配向能を付与して液晶配向能を付与した後、これをそのまま液晶表示素子の液晶配向膜付き基板として用いることができる。ここで、基板としては、例えばフロートガラス、ソーダガラスなどのガラス;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、脂環式ポリオレフィンなどのプラスチックからなる透明基板を用いることができる。基板の一面に設けられる透明導電膜としては、酸化スズ(SnO)からなるNESA膜(米国PPG社登録商標)、酸化インジウム−酸化スズ(In−SnO)からなるITO膜などを用いることができる。これらのパターニングされた透明導電膜を得るには、例えばパターンなしの透明導電膜を形成した後フォト・エッチング法によりパターンを形成する方法、透明導電膜を形成する際に予め所望のパターン形状を有するマスクを用いてパターン化された透明導電膜を直接形成する方法などを用いることができる。液晶配向剤の塗布に際しては、基板表面および透明導電膜と塗膜との接着性をさらに良好にするために、基板の該表面に、官能性シラン化合物、官能性チタン化合物などを予め塗布しておいてもよい。
かかる基板の透明導電膜上に、本発明の液晶配向剤を例えばロールコーター法、スピンナー法、印刷法、インクジェット法などの適宜の塗布方法によって塗布し、次いで、塗布面を加熱することにより塗膜を形成する。
液晶配向剤の塗布後、塗布した配向剤の液垂れ防止などの目的で、好ましくは予備加熱(プレベーク)が実施される。プレベーク温度は、好ましくは30〜200℃であり、より好ましくは40〜150℃であり、特に好ましくは40〜100℃である。プレベーク時間は、好ましくは0.25〜10分であり、より好ましくは0.5〜5分である。その後、溶剤を完全に除去し、ポリアミック酸を熱イミド化することを目的として焼成(ポストベーク)工程が実施される。ポストベーク温度は好ましくは80〜300℃であり、より好ましくは120〜250℃である。ポストベーク時間は好ましくは5〜200分であり、より好ましくは10〜100分である。
本発明の液晶配向剤は、このように塗布後に有機溶媒を除去することによって液晶配向膜となる塗膜を形成する。なお、本発明の液晶配向剤が、他の重合体としてポリアミック酸またはアミック酸構造が残存するポリイミドを含有する場合には、塗膜形成後にさらに加熱することによってアミック酸構造の脱水閉環をより進行し、よりイミド化された液晶配向膜としてもよい。
形成される液晶配向膜の膜厚は、好ましくは0.001〜1μmであり、より好ましくは0.005〜0.5μmである。
The liquid crystal alignment film of the present invention is formed by applying the liquid crystal aligning agent of the present invention as described above to form a coating film, and irradiating the coating film with polarized or non-polarized radiation to impart liquid crystal alignment ability. can do. Specifically, for example, the following method can be used.
When the liquid crystal alignment film of the present invention is used for a liquid crystal display element, the liquid crystal aligning agent of the present invention is applied to one surface of a substrate provided with a patterned transparent conductive film to form a coating film, After the coating film is irradiated with polarized or non-polarized radiation to give liquid crystal alignment ability to provide liquid crystal alignment ability, it can be used as it is as a substrate with a liquid crystal alignment film of a liquid crystal display element. Here, as the substrate, for example, glass such as float glass or soda glass; a transparent substrate made of plastic such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethersulfone, polycarbonate, alicyclic polyolefin, or the like can be used. As a transparent conductive film provided on one surface of the substrate, an NESA film (registered trademark of PPG, USA) made of tin oxide (SnO 2 ), an ITO film made of indium oxide-tin oxide (In 2 O 3 —SnO 2 ), etc. Can be used. In order to obtain these patterned transparent conductive films, for example, a method of forming a pattern by a photo-etching method after forming a transparent conductive film without a pattern, and having a desired pattern shape in advance when forming the transparent conductive film A method of directly forming a patterned transparent conductive film using a mask can be used. When applying the liquid crystal aligning agent, in order to further improve the adhesion between the substrate surface and the transparent conductive film and the coating film, a functional silane compound, a functional titanium compound or the like is applied in advance to the surface of the substrate. It may be left.
On the transparent conductive film of the substrate, the liquid crystal aligning agent of the present invention is applied by an appropriate application method such as a roll coater method, a spinner method, a printing method, an ink jet method, etc., and then the coated surface is heated. Form.
After the application of the liquid crystal aligning agent, preheating (pre-baking) is preferably performed for the purpose of preventing dripping of the applied aligning agent. The pre-baking temperature is preferably 30 to 200 ° C, more preferably 40 to 150 ° C, and particularly preferably 40 to 100 ° C. The pre-bake time is preferably 0.25 to 10 minutes, and more preferably 0.5 to 5 minutes. Thereafter, a baking (post-baking) step is performed for the purpose of completely removing the solvent and heat imidizing the polyamic acid. The post-bake temperature is preferably 80 to 300 ° C, more preferably 120 to 250 ° C. The post-bake time is preferably 5 to 200 minutes, more preferably 10 to 100 minutes.
Thus, the liquid crystal aligning agent of this invention forms the coating film used as a liquid crystal aligning film by removing an organic solvent after application | coating in this way. In addition, when the liquid crystal aligning agent of the present invention contains a polyamic acid or a polyimide in which an amic acid structure remains as another polymer, the dehydration ring closure of the amic acid structure further proceeds by further heating after the coating film is formed. Further, a liquid crystal alignment film that is more imidized may be used.
The film thickness of the liquid crystal alignment film to be formed is preferably 0.001 to 1 μm, and more preferably 0.005 to 0.5 μm.

次いで、前記塗膜に偏光または非偏光の放射線を照射し、場合によってはさらに150〜250℃の温度で加熱処理を行い、液晶配向能を付与することにより、液晶配向膜とすることができる。
偏光放射線としては、直線偏光の放射線、部分偏光の放射線などを挙げることができる。放射線としては、150nm〜800nmの波長を有する紫外線または可視光線を用いることができる。このうち、150nm〜450nmの波長を有する紫外線が好ましく、250nm〜350nmの波長を有する紫外線がより好ましい。放射線としては、非偏光のものが、直線偏光ないしは部分偏光のものより、簡便に得られることから好ましい。用いた放射線が直線偏光ないしは部分偏光のものである場合には、照射は基板面に垂直の方向から行ってもよいし、プレチルト角を付与するために斜め方向から行ってもよく、さらにこれらを組み合わせて行ってもよい。無偏光の放射線を照射する場合には、照射の方向を基板面に対し斜めとする必要がある。液晶配向能を改善するために、基板を50〜250℃に加熱しつつ、照射を行ってもよい。前記放射線の照射量は、好ましくは10,000J/m未満であることが好ましく、10〜5,000J/mの範囲にあることがより好ましく、50〜3,000J/mの範囲にあることがさらに好ましく、100〜1,000J/mの範囲にあることが特に好ましい。
前記放射線照射に際しては、面内の異なる領域に異なる配向方位を有する液晶配向膜を形成する目的で、偏光状態、光軸の方向およびエネルギーのうちの少なくとも一つ以上が異なる放射線を、面内の各領域に照射することができる。照射される放射線の偏光状態、光軸の方向またはエネルギーを面内で変化させる方法としては、例えばフォトマスクを介して照射を行う方法、必要に応じて光強度、入射角などを変化させつつ塗膜を放射線により掃引する方法などを挙げることができる。これらの方法は、単独でまたは組み合わせて用いることができる。さらに、これらの方法の1つまたは両方と、基板全面への一括照射を組み合わせて行ってもよい。
放射線照射の際の光源としては、例えば低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、重水素ランプ、メタルハライドランプ、アルゴン共鳴ランプ、キセノンランプまたはエキシマーレーザーなどが使用できる。前記の好ましい波長領域の紫外線は、フィルターまたは回折格子を前記光源と併用する手段などにより得ることができる。
放射線照射後に任意的に行われる前記加熱の時間としては、好ましくは10〜100分であり、より好ましくは30〜60分である。
Next, the coating film is irradiated with polarized or non-polarized radiation, and in some cases, further subjected to heat treatment at a temperature of 150 to 250 ° C. to give a liquid crystal alignment ability, whereby a liquid crystal alignment film can be obtained.
Examples of polarized radiation include linearly polarized radiation and partially polarized radiation. As the radiation, ultraviolet rays or visible rays having a wavelength of 150 nm to 800 nm can be used. Among these, ultraviolet rays having a wavelength of 150 nm to 450 nm are preferable, and ultraviolet rays having a wavelength of 250 nm to 350 nm are more preferable. As the radiation, non-polarized light is preferable because it is more easily obtained than linearly polarized light or partially polarized light. When the used radiation is linearly polarized light or partially polarized light, irradiation may be performed from a direction perpendicular to the substrate surface, or may be performed from an oblique direction in order to give a pretilt angle. You may carry out in combination. When irradiating non-polarized radiation, the direction of irradiation needs to be oblique to the substrate surface. In order to improve the liquid crystal alignment ability, irradiation may be performed while heating the substrate to 50 to 250 ° C. Dose of the radiation is preferably is preferably less than 10,000 J / m 2, more preferably in the range of 10~5,000J / m 2, the range of 50~3,000J / m 2 More preferably, it is particularly preferably in the range of 100 to 1,000 J / m 2 .
Upon irradiation with radiation, for the purpose of forming liquid crystal alignment films having different alignment orientations in different regions within the plane, radiation having at least one of the polarization state, the direction of the optical axis, and the energy is different within the plane. Each region can be irradiated. As a method of changing the polarization state, optical axis direction or energy of the irradiated radiation in a plane, for example, a method of irradiating through a photomask, coating while changing the light intensity, incident angle, etc. as necessary. Examples thereof include a method of sweeping the film with radiation. These methods can be used alone or in combination. Further, one or both of these methods may be combined with batch irradiation on the entire surface of the substrate.
As a light source for radiation irradiation, for example, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, a deuterium lamp, a metal halide lamp, an argon resonance lamp, a xenon lamp, or an excimer laser can be used. The ultraviolet rays in the preferable wavelength region can be obtained by means of using a filter or a diffraction grating in combination with the light source.
The heating time optionally performed after radiation irradiation is preferably 10 to 100 minutes, and more preferably 30 to 60 minutes.

本発明の液晶表示素子は、上記のようにして形成した液晶配向膜を具備してなる。本発明の液晶表示素子は、上記のようにして液晶配向膜が形成された基板を一対(2枚)製造し、それぞれの液晶配向膜におけるラビング方向が直交または逆平行となるように、2枚の基板を、間隙(セルギャップ)を介して対向配置し、2枚の基板の周辺部をシール剤を用いて貼り合わせ、基板表面およびシール剤により区画されたセルギャップ内に液晶を注入充填し、注入孔を封止して液晶セルを構成した後、液晶セルの外表面に偏光板を配することにより、製造することができる。
ここに、シール剤としては、例えば硬化剤およびスペーサーとしての酸化アルミニウム球を含有するエポキシ樹脂などを用いることができる。
液晶としては、ネマチック液晶およびスメクチック液晶を挙げることができ、その中でもネマチック液晶が好ましく、例えばシッフベース系液晶、アゾキシ系液晶、ビフェニル系液晶、フェニルシクロヘキサン系液晶、エステル系液晶、ターフェニル系液晶、ビフェニルシクロヘキサン系液晶、ピリミジン系液晶、ジオキサン系液晶、ビシクロオクタン系液晶、キュバン系液晶などを用いることができる。また、これらの液晶に、例えばコレスチルクロライド、コレステリルノナエート、コレステリルカーボネートなどのコレステリック液晶;商品名「C−15」、「CB−15」(メルク社製)として販売されているようなカイラル剤などを添加して使用してもよい。
液晶セルの外表面に貼り合わされる偏光板としては、ポリビニルアルコールを延伸配向しながら、ヨウ素を吸収させた「H膜」と称される偏光膜を酢酸セルロース保護膜で挟んだ偏光板またはH膜そのものからなる偏光板を挙げることができる。
The liquid crystal display element of the present invention comprises the liquid crystal alignment film formed as described above. The liquid crystal display element of the present invention is produced by manufacturing a pair (two sheets) of substrates on which the liquid crystal alignment films are formed as described above, so that the rubbing directions in the respective liquid crystal alignment films are orthogonal or antiparallel. The two substrates are placed facing each other with a gap (cell gap) between them, and the peripheral parts of the two substrates are bonded together using a sealing agent, and liquid crystal is injected and filled into the substrate gap and the cell gap defined by the sealing agent. After the injection hole is sealed to form a liquid crystal cell, it can be manufactured by disposing a polarizing plate on the outer surface of the liquid crystal cell.
Here, as the sealing agent, for example, an epoxy resin containing a curing agent and aluminum oxide spheres as a spacer can be used.
Examples of the liquid crystal include nematic liquid crystal and smectic liquid crystal. Among them, nematic liquid crystal is preferable. For example, Schiff base liquid crystal, azoxy liquid crystal, biphenyl liquid crystal, phenylcyclohexane liquid crystal, ester liquid crystal, terphenyl liquid crystal, biphenyl. Cyclohexane liquid crystals, pyrimidine liquid crystals, dioxane liquid crystals, bicyclooctane liquid crystals, cubane liquid crystals, and the like can be used. Further, cholesteric liquid crystals such as cholestyl chloride, cholesteryl nonate, and cholesteryl carbonate; chiral agents such as those sold under the trade names “C-15” and “CB-15” (manufactured by Merck & Co., Inc.). Etc. may be added and used.
As a polarizing plate bonded to the outer surface of the liquid crystal cell, a polarizing film or an H film in which a polarizing film called an “H film” that absorbs iodine while stretching and aligning polyvinyl alcohol is sandwiched between cellulose acetate protective films The polarizing plate which consists of itself can be mentioned.

本発明の光学部材は、上記のようにして、あるいは上記の方法に当業者に自明の変更を加えた方法によって形成された液晶配向膜を使用するほかは、各光学部材における公知の製造方法に準じて製造することができる。   The optical member of the present invention is a known manufacturing method for each optical member, except that a liquid crystal alignment film formed by the method described above or by a method obvious to those skilled in the art is added to the above method. It can be manufactured similarly.

以下、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に制限されるものではない。
合成例における、ポリオルガノシロキサンの重量平均分子量およびエポキシ当量、重合体溶液の溶液粘度およびポリイミドのイミド化率は、それぞれ以下の方法により評価した。
[ポリオルガノシロキサンの重量平均分子量Mw]
以下の条件におけるゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定したポリスチレン換算値を用いた。
カラム:東ソー(株)製、TSKgelGRCXLII
溶剤:テトラヒドロフラン
温度:40℃
圧力:68kgf/cm
[エポキシ当量]
JIS C2105の“塩酸−メチルエチルケトン法”に準じて測定した。
[重合体の溶液粘度]
所定の重合体溶液について、E型回転粘度計を用いて25℃で測定した。
[ポリイミドのイミド化率]
ポリイミドを室温で充分に減圧乾燥した後、重水素化ジメチルスルホキシドに溶解し、テトラメチルシランを基準物質として室温で測定してH−NMRから、上記数式(i)により求めた。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
In the synthesis examples, the weight average molecular weight and epoxy equivalent of the polyorganosiloxane, the solution viscosity of the polymer solution, and the imidization ratio of the polyimide were evaluated by the following methods, respectively.
[Weight average molecular weight Mw of polyorganosiloxane]
The polystyrene conversion value measured by gel permeation chromatography under the following conditions was used.
Column: Tosoh Co., Ltd., TSKgelGRCXLII
Solvent: Tetrahydrofuran Temperature: 40 ° C
Pressure: 68 kgf / cm 2
[Epoxy equivalent]
Measured according to JIS C2105 “hydrochloric acid-methyl ethyl ketone method”.
[Solution viscosity of polymer]
About a predetermined polymer solution, it measured at 25 degreeC using the E-type rotational viscometer.
[Imidation rate of polyimide]
The polyimide was sufficiently dried at room temperature under reduced pressure, dissolved in deuterated dimethyl sulfoxide, measured at room temperature using tetramethylsilane as a reference substance, and determined from 1 H-NMR by the above formula (i).

<エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンの合成>
合成例1
撹拌機、温度計、滴下漏斗および還流冷却管を備えた反応容器に、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン100.0g、メチルイソブチルケトン500gおよびトリエチルアミン10.0gを仕込み、室温で混合した。次いで、ここに脱イオン水100gを滴下漏斗より30分かけて滴下した後、80℃で還流下に6時間反応を行った。反応終了後、有機層を取り出し、0.2重量%硝酸アンモニウム水溶液により洗浄後の水が中性になるまで洗浄した後、減圧下で溶媒および水を留去することにより、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサン(EPS−1)を粘調な透明液体として得た。
このエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンEPS−1について、H−NMR分析を行なったところ、化学シフト(δ)=3.2ppm付近にエポキシ基に基づくピークが理論強度どおりに得られ、反応中にエポキシ基の副反応が起こっていないことが確認された。
このエポキシ基を有するポリオルガノシロキサン(EPS−1)の粘度、重量平均分子量Mwおよびエポキシ当量を表1に示した。
合成例2〜3
仕込み原料を表1に示すとおりとした以外は、合成例1と同様にして、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサン(EPS−2)および(EPS−3)を、それぞれ粘調な透明液体として得た。
これらのエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンの重量平均分子量Mwおよびエポキシ当量を、それぞれ表1に示した。
なお、表1において、原料シラン化合物の略称は、それぞれ以下の意味である。
ECETS:2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン
MTMS:メチルトリメトキシシラン
PTMS:フェニルトリメトキシシラン
<Synthesis of polyorganosiloxane having epoxy group>
Synthesis example 1
A reaction vessel equipped with a stirrer, thermometer, dropping funnel and reflux condenser was charged with 100.0 g of 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 500 g of methyl isobutyl ketone and 10.0 g of triethylamine at room temperature. Mixed. Next, 100 g of deionized water was added dropwise from the dropping funnel over 30 minutes, and then reacted at 80 ° C. under reflux for 6 hours. After completion of the reaction, the organic layer is taken out and washed with a 0.2 wt% ammonium nitrate aqueous solution until the water after washing becomes neutral, and then the solvent and water are distilled off under reduced pressure, whereby a polyorgano having an epoxy group is obtained. Siloxane (EPS-1) was obtained as a viscous transparent liquid.
When 1 H-NMR analysis was performed on the polyorganosiloxane EPS-1 having an epoxy group, a peak based on the epoxy group was obtained in the vicinity of chemical shift (δ) = 3.2 ppm according to the theoretical intensity. It was confirmed that no side reaction of the epoxy group occurred.
Table 1 shows the viscosity, weight average molecular weight Mw, and epoxy equivalent of the polyorganosiloxane (EPS-1) having this epoxy group.
Synthesis Examples 2-3
Polyorganosiloxanes (EPS-2) and (EPS-3) having an epoxy group were obtained as viscous transparent liquids in the same manner as in Synthesis Example 1 except that the raw materials were as shown in Table 1. .
Table 1 shows the weight average molecular weight Mw and epoxy equivalent of the polyorganosiloxane having these epoxy groups.
In Table 1, the abbreviations of the raw material silane compounds have the following meanings.
ECETS: 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane MTMS: methyltrimethoxysilane PTMS: phenyltrimethoxysilane

Figure 0005041599
Figure 0005041599

<特定基を有するポリオルガノシロキサンの合成>
合成例4
200mLの三口フラスコに、上記合成例1で得たエポキシ基を有するポリオルガノシロキサン(EPS−1)5.0g、N,N−ジメチルアセトアミド16.9g、特定基を有するカルボン酸として下記式(b−i−1)
<Synthesis of polyorganosiloxane having specific group>
Synthesis example 4
In a 200 mL three-necked flask, 5.0 g of the polyorganosiloxane (EPS-1) having an epoxy group obtained in Synthesis Example 1 above, 16.9 g of N, N-dimethylacetamide, and a carboxylic acid having a specific group represented by the following formula (b -I-1)

Figure 0005041599
Figure 0005041599

で表される化合物2.7gおよびテトラブチルアンモニウムブロミド0.25gを仕込み、110℃で8時間撹拌下に反応を行った。反応終了後、メタノールで再沈殿を行い、沈殿物を酢酸エチルに溶解して溶液を得、該溶液を5回水洗した後、溶剤を留去することにより、特定基を有するポリオルガノシロキサン(H−1)を白色粉末として2.5g得た。特定基を有するポリオルガノシロキサン(H−1)の重量平均分子量Mwは7,000であった。
合成例5〜11
合成例4において、使用したエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンの種類ならびに特定基を有するカルボン酸の種類および量を表2に記載の通りとしたほかは合成例4を同様にして、特定基を有するポリオルガノシロキサン(H−2)〜(H−8)を、それぞれ調製した。これら特定基を有するポリオルガノシロキサンの重量平均分子量Mwを表2に示した。
表2における特定基を有するカルボン酸の略称は、それぞれ以下の化学式で表される化合物を示す。
Was charged with 2.7 g of a compound represented by the formula (II) and 0.25 g of tetrabutylammonium bromide, and the reaction was performed at 110 ° C. with stirring for 8 hours. After completion of the reaction, reprecipitation is performed with methanol, and the precipitate is dissolved in ethyl acetate to obtain a solution. The solution is washed with water five times, and then the solvent is distilled off to obtain a polyorganosiloxane having a specific group (H 2.5 g of -1) was obtained as a white powder. The weight average molecular weight Mw of the polyorganosiloxane (H-1) having a specific group was 7,000.
Synthesis Examples 5-11
In Synthesis Example 4, the type of polyorganosiloxane having an epoxy group and the type and amount of a carboxylic acid having a specific group were as shown in Table 2, and the same as in Synthesis Example 4 and having a specific group Polyorganosiloxanes (H-2) to (H-8) were respectively prepared. Table 2 shows the weight average molecular weight Mw of the polyorganosiloxane having these specific groups.
The abbreviations of carboxylic acids having specific groups in Table 2 each represent a compound represented by the following chemical formula.

Figure 0005041599
Figure 0005041599

Figure 0005041599
Figure 0005041599

<他の重合体の合成>
合成例12
テトラカルボン酸二無水物としてピロメリット酸二無水物110g(0.50モル)および1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物98g(0.50モル)ならびにジアミンとして4,4−ジアミノジフェニルエーテル200g(1.0モル)をN−メチル−2−ピロリドン(NMP)230gおよびγ―ブチロラクトン2,100gからなる混合溶媒に溶解し、40℃で3時間反応させた後、γ―ブチロラクトン1,350gを追加することにより、ポリアミック酸(A−1)を10重量%含有する溶液約4,050gを得た。このポリアミック溶液の溶液粘度は200mPa・sであった。
合成例13
テトラカルボン酸二無水物として1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物98g(0.50モル)およびピロメリット酸二無水物110g(0.50モル)ならびにジアミンとして4,4’−ジアミノジフェニルメタン200g(1.0モル)をNMP230gおよびγ―ブチロラクトン2,100gからなる混合溶媒に溶解し、40℃で3時間反応させた後、γ―ブチロラクトン1,350gを追加することにより、ポリアミック酸(A−2)を10重量%含有する溶液約4,050gを得た。このポリアミック溶液の溶液粘度は125mPa・sであった。
<Synthesis of other polymers>
Synthesis Example 12
110 g (0.50 mol) of pyromellitic dianhydride as tetracarboxylic dianhydride and 98 g (0.50 mol) of 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride and 4,4- as diamine 200 g (1.0 mol) of diaminodiphenyl ether was dissolved in a mixed solvent consisting of 230 g of N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) and 2,100 g of γ-butyrolactone, reacted at 40 ° C. for 3 hours, and then γ-butyrolactone 1 , 350 g was added to obtain about 4,050 g of a solution containing 10% by weight of polyamic acid (A-1). The solution viscosity of this polyamic solution was 200 mPa · s.
Synthesis Example 13
1,2,3,4-Cyclobutanetetracarboxylic dianhydride 98 g (0.50 mol) and pyromellitic dianhydride 110 g (0.50 mol) as tetracarboxylic dianhydride and 4,4 ′ as diamine -200 g (1.0 mol) of diaminodiphenylmethane was dissolved in a mixed solvent consisting of 230 g of NMP and 2,100 g of γ-butyrolactone, reacted at 40 ° C. for 3 hours, and then 1,350 g of γ-butyrolactone was added to add polyamic About 4,050 g of a solution containing 10% by weight of acid (A-2) was obtained. The solution viscosity of this polyamic solution was 125 mPa · s.

合成例14
テトラカルボン酸二無水物として1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物200g(1.0モル)およびジアミンとして4,4’−ジアミノジフェニルエーテル200g(1.0モル)をNMP230gおよびγ―ブチロラクトン2,050gからなる混合溶媒に溶解し、40℃で3時間反応させた後、γ―ブチロラクトン1,300gを追加することにより、ポリアミック酸(A−3)を10重量%含有する溶液約3,950gを得た。このポリアミック溶液の溶液粘度は210mPa・sであった。
合成例15
テトラカルボン酸二無水物として1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物200g(1.0モル)およびジアミンとして2,2’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル210g(1.0モル)をNMP370gおよびγ―ブチロラクトン3,300gからなる混合溶媒に溶解し、40℃で3時間反応させることにより、ポリアミック酸(A−4)を10重量%含有する溶液約4,050gを得た。このポリアミック溶液の溶液粘度は160mPa・sであった。
Synthesis Example 14
200 g (1.0 mol) of 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride as tetracarboxylic dianhydride and 200 g (1.0 mol) of 4,4′-diaminodiphenyl ether as diamine were added to 230 g of NMP and γ -A solution containing 10% by weight of polyamic acid (A-3) was obtained by dissolving in a mixed solvent consisting of 2,050 g of butyrolactone, reacting at 40 ° C for 3 hours, and then adding 1,300 g of γ-butyrolactone. 3,950 g was obtained. The solution viscosity of this polyamic solution was 210 mPa · s.
Synthesis Example 15
200 g (1.0 mol) of 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride as tetracarboxylic dianhydride and 210 g of 2,2′-dimethyl-4,4′-diaminobiphenyl as diamine (1. 0 mol) is dissolved in a mixed solvent consisting of 370 g of NMP and 3,300 g of γ-butyrolactone and reacted at 40 ° C. for 3 hours to obtain about 4,050 g of a solution containing 10% by weight of polyamic acid (A-4). It was. The solution viscosity of this polyamic solution was 160 mPa · s.

合成例16
テトラカルボン酸二無水物として2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物220g(1.0モル)およびジアミンとして4,4’−ジアミノジフェニルエーテル200g(1.0モル)をNMP240gおよびγ―ブチロラクトン3,500gからなる混合溶媒に溶解し、40℃で4時間反応させることにより、ポリアミック酸(A−5)を10重量%含有する溶液約4,150gを得た。このポリアミック溶液の溶液粘度は38mPa・sであった。
合成例17
テトラカルボン酸二無水物として2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物110g(0.50モル)ならびにジアミンとしてp−フェニレンジアミン49g(0.45モル)および3(3,5−ジアミノベンゾイルオキシ)コレスタン26g(0.05モル)をNMP750gに溶解し、60℃で6時間反応を行い、ポリアミック酸を含有する溶液を得た。得られたポリアミック酸溶液を少量分取し、NMPを加えてポリアミック酸濃度10重量%の溶液として測定した溶液粘度は58mPa・sであった。
次いで、得られたポリアミック酸溶液にNMP1,800gを追加し、ピリジン40gおよび無水酢酸51gを添加して110℃で4時間脱水閉環反応を行った。脱水閉環反応後、系内の溶剤を新たなNMPで溶剤置換(本操作にて脱水閉環反応に使用したピリジンおよび無水酢酸を系外に除去した。)することにより、イミド化率約50%のポリイミド(B−1)を15重量%含有する溶液約1,100gを得た。
Synthesis Example 16
240 g of NMP and γ-butyrolactone were obtained by adding 220 g (1.0 mol) of 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride as tetracarboxylic dianhydride and 200 g (1.0 mol) of 4,4′-diaminodiphenyl ether as diamine. It melt | dissolved in the mixed solvent which consists of 3,500g, and it was made to react at 40 degreeC for 4 hours, and about 4,150g of solutions containing 10 weight% of polyamic acids (A-5) were obtained. The solution viscosity of this polyamic solution was 38 mPa · s.
Synthesis Example 17
110 g (0.50 mol) of 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride as tetracarboxylic dianhydride and 49 g (0.45 mol) and 3 (3,5-diaminobenzoyl) of p-phenylenediamine as diamine 26 g (0.05 mol) of oxy) cholestane was dissolved in 750 g of NMP and reacted at 60 ° C. for 6 hours to obtain a solution containing polyamic acid. A small amount of the obtained polyamic acid solution was collected, NMP was added, and the solution viscosity measured as a solution having a polyamic acid concentration of 10% by weight was 58 mPa · s.
Next, 1,800 g of NMP was added to the obtained polyamic acid solution, 40 g of pyridine and 51 g of acetic anhydride were added, and dehydration ring closure reaction was performed at 110 ° C. for 4 hours. After the dehydration cyclization reaction, the solvent in the system was replaced with new NMP (in this operation, pyridine and acetic anhydride used in the dehydration cyclization reaction were removed from the system), and the imidation rate was about 50%. About 1,100 g of a solution containing 15% by weight of polyimide (B-1) was obtained.

実施例1
<液晶配向剤の調製>
上記合成例4で得られた特定基を有するポリオルガノシロキサン(H−1)100重量部と、他の重合体として上記合成例12で得られたポリアミック酸(A−1)を含有する溶液のポリアミック酸(A−1)に換算して1,000重量部に相当する量とを合わせ、これにγ−ブチロラクトン、NMPおよびブチルセロソルブを加え、溶媒組成がγ−ブチロラクトン:NMP:ブチルセロソルブ=71:17:12(重量比)、固形分濃度が2.5重量%の溶液とした。この溶液を孔径1μmのフィルターを用いて濾過することにより、液晶配向剤を調製した。
この液晶配向剤を用いて下記のようにして液晶セルを製造し、評価した。
<液晶セルの製造>
上記で調製した液晶配向剤を、スピンコート法により、ITO膜からなる透明電極付きガラス基板の透明電極面に塗布し、80℃のホットプレート上で1分間プレベーク後、庫内を窒素置換したオーブン中で200℃で1時間ポストベークして膜厚600nmの塗膜を形成した。次いで、この塗膜表面に、Hg−Xeランプおよびグランテーラープリズムを用いて313nmの輝線を含む偏光紫外線1,000J/mを、基板法線から40°傾いた方向から照射して液晶配向膜とした。同じ操作を繰り返して、液晶配向膜を有する基板を一対(2枚)作製した。
上記基板のうちの1枚の液晶配向膜を有する面の外周に直径5.5μmの酸化アルミニウム球入りエポキシ樹脂接着剤をスクリーン印刷により塗布した後、一対の基板の液晶配向膜面を対向させ、各基板の紫外線の光軸の基板面への投影方向が逆平行となるように圧着し、150℃で1時間かけて接着剤を熱硬化させた。次いで、液晶注入口より基板間の間隙に、ポジ型液晶(メルク社製、MLC−6221)を充填した後、エポキシ系接着剤で液晶注入口を封止した。さらに、液晶注入時の流動配向を除くために、これを120℃で加熱してから室温まで徐冷することにより、液晶セルを製造した。
<液晶セルの評価>
(1)液晶配向性の評価
液晶セルに対し、25℃において5Vの電圧をON・OFF(印加・解除)したときの異常ドメインの有無を偏光顕微鏡により観察し、異常ドメインのない場合を液晶配向性「良好」として評価した。上記で製造した液晶セルの液晶配向性は良好であった。
(2)プレチルト角の評価
非特許文献1(T. J. Scheffer et. al. J. Appl. Phys. vo. 19, p2013(1980))に記載の方法に準拠し、He−Neレーザー光を用いる結晶回転法により測定した。上記で製造した液晶セルのプレチルト角は0.1°であった。
Example 1
<Preparation of liquid crystal aligning agent>
Of a solution containing 100 parts by weight of the polyorganosiloxane (H-1) having a specific group obtained in Synthesis Example 4 and the polyamic acid (A-1) obtained in Synthesis Example 12 as another polymer. Combined with the amount corresponding to 1,000 parts by weight in terms of polyamic acid (A-1), γ-butyrolactone, NMP and butyl cellosolve are added thereto, and the solvent composition is γ-butyrolactone: NMP: butyl cellosolve = 71: 17. : 12 (weight ratio) and a solid content concentration of 2.5% by weight. A liquid crystal aligning agent was prepared by filtering this solution using a filter having a pore diameter of 1 μm.
Using this liquid crystal aligning agent, a liquid crystal cell was produced and evaluated as follows.
<Manufacture of liquid crystal cells>
An oven in which the liquid crystal aligning agent prepared above was applied to the transparent electrode surface of a glass substrate with a transparent electrode made of an ITO film by spin coating, prebaked on an 80 ° C. hot plate for 1 minute, and the inside of the chamber was replaced with nitrogen. The film was post-baked at 200 ° C. for 1 hour to form a film having a thickness of 600 nm. Next, the surface of the coating film was irradiated with polarized ultraviolet rays of 1,000 J / m 2 containing a 313 nm emission line from a direction inclined by 40 ° from the normal line of the liquid crystal using a Hg—Xe lamp and a Grand Taylor prism. It was. The same operation was repeated to prepare a pair (two) of substrates having a liquid crystal alignment film.
After applying an epoxy resin adhesive containing aluminum oxide spheres having a diameter of 5.5 μm to the outer periphery of the surface having one liquid crystal alignment film of the above substrates by screen printing, the liquid crystal alignment film surfaces of the pair of substrates are opposed to each other, The adhesive was heat-cured at 150 ° C. for 1 hour so that the projection direction of the optical axis of each substrate onto the substrate surface was antiparallel. Next, a positive liquid crystal (MLC-6221 manufactured by Merck & Co., Inc.) was filled into the gap between the substrates from the liquid crystal injection port, and then the liquid crystal injection port was sealed with an epoxy adhesive. Furthermore, in order to remove the flow alignment at the time of liquid crystal injection, this was heated at 120 ° C. and then gradually cooled to room temperature to produce a liquid crystal cell.
<Evaluation of liquid crystal cell>
(1) Evaluation of liquid crystal alignment The presence or absence of an abnormal domain when a voltage of 5 V is turned ON / OFF (applied / released) at 25 ° C. is observed with a polarizing microscope for a liquid crystal cell. The quality was evaluated as “good”. The liquid crystal alignment of the liquid crystal cell produced above was good.
(2) Evaluation of pretilt angle In accordance with the method described in Non-Patent Document 1 (T. J. Scheffer et. Al. J. Appl. Phys. Vo. 19, p2013 (1980)), He-Ne laser light is used. It was measured by the crystal rotation method used. The pretilt angle of the liquid crystal cell produced above was 0.1 °.

実施例2〜13
上記実施例1において、使用した特定基を有するポリオルガノシオキサンおよび他の重合体の種類および量を表3に記載の通りとしたほかは実施例1と同様にして液晶配向剤を調製し、得貴所言うセルを製造して評価した。評価結果を表3に示した。
なお、他の重合体はいずれも上記合成例で合成した重合体溶液として液晶配向剤の調製に供し、表3における他の重合体の量は、それぞれ該当する重合体溶液に含まれる重合体の量に換算した値である。
Examples 2-13
In Example 1 above, a liquid crystal aligning agent was prepared in the same manner as in Example 1 except that the types and amounts of the polyorganothioxan having a specific group and other polymers used were as shown in Table 3. A cell called “Kokusho” was manufactured and evaluated. The evaluation results are shown in Table 3.
In addition, all the other polymers are used for the preparation of the liquid crystal aligning agent as the polymer solution synthesized in the above synthesis example, and the amount of the other polymer in Table 3 is the amount of the polymer contained in the corresponding polymer solution. It is a value converted into a quantity.

Figure 0005041599
Figure 0005041599

実施例14〜22
上記実施例1において、使用した特定基を有するポリオルガノシオキサンおよび他の重合体の種類および量を表4に記載の通りとし、ポジ型液晶(メルク社製、MLC−6221)に代えてネガ型液晶(メルク社製MLC−6608)を使用したほかは実施例1と同様にして液晶配向剤を調製し、得貴所言うセルを製造して評価した。評価結果を表4に示した。
なお、他の重合体はいずれも上記合成例で合成した重合体溶液として液晶配向剤の調製に供し、表4における他の重合体の量は、それぞれ該当する重合体溶液に含まれる重合体の量に換算した値である。
Examples 14-22
In Example 1 above, the types and amounts of the polyorganosioxane having the specific group and other polymers used are as shown in Table 4, and the negative type liquid crystal (MLC-6221, manufactured by Merck & Co.) was used instead of the negative type liquid crystal. A liquid crystal aligning agent was prepared in the same manner as in Example 1 except that type liquid crystal (MLC-6608 manufactured by Merck & Co., Inc.) was used. The evaluation results are shown in Table 4.
In addition, all the other polymers are used for the preparation of the liquid crystal aligning agent as the polymer solution synthesized in the above synthesis example, and the amount of the other polymer in Table 4 is the amount of the polymer contained in the corresponding polymer solution. It is a value converted into a quantity.

Figure 0005041599
Figure 0005041599

Claims (6)

下記式(a−1)および(a−2)
Figure 0005041599
(上記式中、XおよびXは、互いに独立に、水素原子、ハロゲン原子または1価の有機基であり、YおよびYは、互いに独立に、ハロゲン原子または1価の有機基であり、WおよびWは、互いに独立に、単結合または2価の結合基であり、ただしYがハロゲン原子であるときにはWは単結合であり、Yがハロゲン原子であるときにはWは単結合であり、Zは単結合であり、n1およびn2は、互いに独立に、0〜4の整数である。)
のそれぞれで表される基から選択される少なくとも1種の基を有する重合体または化合物を含有することを特徴とする、液晶配向剤。
The following formulas (a-1) and (a-2)
Figure 0005041599
(In the above formula, X 1 and X 2 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom or a monovalent organic group, and Y 1 and Y 2 are each independently a halogen atom or a monovalent organic group. And W 1 and W 2 are each independently a single bond or a divalent linking group, provided that when Y 1 is a halogen atom, W 1 is a single bond, and when Y 2 is a halogen atom, W 1 2 is a single bond, Z 1 is Tan'yui case, n1 and n2 are each independently an integer of 0-4.)
A liquid crystal aligning agent comprising a polymer or a compound having at least one group selected from the groups represented by each of the above:
前記重合体が、上記式(a−1)および(a−2)のそれぞれで表される基から選択される少なくとも1種の基を有するポリオリガノシロキサンである、請求項1に記載の液晶配向剤。   The liquid crystal according to claim 1, wherein the polymer is a polyorganosiloxane having at least one group selected from the groups represented by the formulas (a-1) and (a-2). Alignment agent. 基板上に、請求項1または2に記載の液晶配向剤を塗布して塗膜を形成し、該塗膜に偏光または非偏光の放射線を照射して液晶配向能を付与することを特徴とする、液晶配向膜の形成方法。   A liquid crystal aligning agent according to claim 1 or 2 is applied onto a substrate to form a coating film, and the coating film is irradiated with polarized or non-polarized radiation to impart liquid crystal alignment ability. And a method for forming a liquid crystal alignment film. 請求項3に記載の方法により形成された液晶配向膜。   A liquid crystal alignment film formed by the method according to claim 3. 請求項4に記載の液晶配向膜を具備することを特徴とする、液晶表示素子。   A liquid crystal display element comprising the liquid crystal alignment film according to claim 4. 請求項4に記載の液晶配向膜を具備することを特徴とする、光学部材。   An optical member comprising the liquid crystal alignment film according to claim 4.
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