JP5051934B2 - 撮像装置及びその制御方法 - Google Patents
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Description
本発明の特徴は、レリーズタイムラグに影響のない方法で異物除去動作を行うことのできる撮像装置及びその制御方法を提供することである。
次に、異物除去動作中に撮影者による何らかの動作要求があった場合の動きについて述べる。
次に、本発明の実施の形態2について説明する。
次に、本発明の実施の形態3について説明する。
ステップS301で開始された異物除去動作は、ステップS303で所定時間が経過したと判定されるまで続行されるが、この異物除去動作中にシャッタスイッチ(SW2)64が押された場合はステップS501に進む。このステップS501では、設定絞り値や演算絞り値が所定の絞り量より大きい(小絞り)かどうかを判定し、そうであればステップS503に進み、異物除去に必要な所定時間が経過するまで待機する。そして、この所定時間が経過するとステップS504に進み、異物除去動作を終了してステップS505に進み、撮影処理を実行する。尚、ここで所定の絞り量とは、撮影画像に撮像素子のゴミの影響が目立ち始める値とする。
Claims (7)
- 撮像素子の前方に配置された光学素子に付着した異物を除去する異物除去手段と、
前記異物除去手段による異物除去動作中に撮影動作に関連した動作要求を受け付けると、設定されている撮影条件が、前記異物の影響が大きい撮影条件であるのか、前記異物の影響が小さい撮影条件であるのかを判定する判定手段と、
前記判定手段によって、前記設定されている撮影条件が前記異物の影響が大きい撮影条件であると判定される場合には、前記撮影動作よりも前記異物除去動作を優先して実行し、前記判定手段によって、前記設定されている撮影条件が前記異物の影響が小さい撮影条件であると判定される場合には、前記異物除去動作よりも前記撮影動作を優先して実行する制御手段と、
を有することを特徴とする撮像装置。 - 前記撮影条件は、絞り値を含み、
前記判定手段は、前記絞り値が所定値以下となる場合には、前記異物の影響が大きい撮影条件であると判定し、前記絞り値が所定値以下とならない場合には、前記異物の影響が小さい撮影条件であると判定することを特徴とする請求項1に記載の撮像装置。 - 前記撮影条件は、記録画質を含み、
前記判定手段は、前記記録画質が高画質モードである場合には、前記異物の影響が大きい撮影条件であると判定し、前記記録画質が高画質モードでない場合には、前記異物の影響が小さい撮影条件であると判定することを特徴とする請求項1又は2に記載の撮像装置。 - 前記異物除去手段による異物除去動作を起動するためのスイッチを更に有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の撮像装置。
- 撮像素子の前方に配置された光学素子に付着した異物を除去する異物除去工程と、
前記異物除去工程での異物除去動作中に撮影動作に関連した動作要求を受け付けると、設定されている撮影条件が前記異物の影響が大きい撮影条件であるのか、前記異物の影響が小さい撮影条件であるのかを判定する判定工程と、
前記判定工程にて、前記設定されている撮影条件が前記異物の影響が大きい撮影条件であると判定される場合には、前記撮影動作よりも前記異物除去動作を優先して実行し、前記判定手段によって、前記設定されている撮影条件が前記異物の影響が小さい撮影条件であると判定される場合には、前記異物除去動作よりも前記撮影動作を優先して実行する工程と、
を有することを特徴とする撮像装置の制御方法。 - 前記撮影条件は、絞り値を含み、
前記判定工程にて、前記絞り値が所定値以下となる場合には、前記異物の影響が大きい撮影条件であると判定し、前記絞り値が所定値以下とならない場合には、前記異物の影響が小さい撮影条件であると判定することを特徴とする請求項5に記載の撮像装置の制御方法。 - 前記撮影条件は、記録画質を含み、
前記判定工程にて、前記記録画質が高画質モードである場合には、前記異物の影響が大きい撮影条件であると判定し、前記記録画質が高画質モードでない場合には、前記異物の影響が小さい撮影条件であると判定することを特徴とする請求項5又は6に記載の撮像装置の制御方法。
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