JP5052155B2 - Check valve and vacuum pump device - Google Patents
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Description
本発明は、逆止弁、及びその逆止弁を備えた真空ポンプ装置に関する。 The present invention relates to a check valve and a vacuum pump device including the check valve.
従来から、配管内や機器内部の流路において、流体を一方向のみに流し逆流を防止する
ために逆止弁が配設されている。例えば、半導体製造装置はウエハの処理室と真空ポンプとが配管で接続されてなるが、真空ポンプが故障や異常、或いは停電などにより意図せず停止してしまった場合に、処理中のウエハが欠陥品となってしまう。このような真空ポンプ停止が生じた場合でも、処理室内の真空を保ちウエハを保護するために逆止弁が配管に組み込まれている。
Conventionally, a check valve is provided in a flow path in a pipe or in an apparatus in order to flow a fluid in only one direction and prevent backflow. For example, in a semiconductor manufacturing apparatus, a wafer processing chamber and a vacuum pump are connected by piping, but if the vacuum pump stops unintentionally due to a failure, abnormality, or power failure, the wafer being processed is It becomes a defective product. Even when such a vacuum pump stop occurs, a check valve is incorporated in the piping in order to maintain the vacuum in the processing chamber and protect the wafer.
特許文献1には、半導体製造装置において、真空排気中に開閉バルブを閉じた際の排気管中のダストの処理室側へ流れ込みを防止する技術が開示されている。この半導体製造装置は、ウエハの処理室と、処理室に排気管を介して接続された真空ポンプと、排気管に設けられた開閉バルブとを備え、処理室と開閉バルブとの間の排気管内に逆止弁が設けられている。この逆止弁は、複数のバーを、処理室側から開閉バルブ側に向けて一定の勾配を有した状態でかつ放射状に形成することにより構成されるものであり、また前記バーは開閉バルブが閉じられた際に開閉バルブ側に向けて気体(パージ流体)を吹出すように構成される。 Patent Document 1 discloses a technique for preventing the dust in the exhaust pipe from flowing into the processing chamber when the open / close valve is closed during vacuum exhaust in a semiconductor manufacturing apparatus. The semiconductor manufacturing apparatus includes a wafer processing chamber, a vacuum pump connected to the processing chamber via an exhaust pipe, and an open / close valve provided in the exhaust pipe, and an exhaust pipe between the process chamber and the open / close valve. Is provided with a check valve. This check valve is configured by forming a plurality of bars radially with a certain gradient from the processing chamber side to the opening / closing valve side, and the bar is formed by an opening / closing valve. When closed, a gas (purge fluid) is blown out toward the open / close valve side.
また、特許文献2には、真空ポンプのオイル逆流防止装置において、ポンプ室に通ずる吸気通路に吸気用逆止弁を介して吸入口を設け、その逆止弁とポンプ室との間の吸気通路にポンプ室内の回転子と電気的に連動する電磁弁の出口を接続したものが開示されている。ここで、吸気用逆止弁としては、球体の弁体を弁座にバネで固定してなり、非吸気時には吸気通路が球体で塞ぎ、吸気時にはそのバネを差圧で圧縮させて開弁するものを採用している。この逆止弁は弁体を支える支持体(バネと弁座)を必要とするものであり、同様に支持体を必要とする逆止弁としては、ヒンジ部を有しそのヒンジ部が可動することで弁を開閉するものもある。 Further, in Patent Document 2, in an oil backflow prevention device for a vacuum pump, an intake port is provided in an intake passage communicating with a pump chamber via an intake check valve, and an intake passage between the check valve and the pump chamber is provided. Discloses a solenoid valve that is electrically connected to a rotor in a pump chamber. Here, as a check valve for intake, a spherical valve body is fixed to a valve seat with a spring, the intake passage is closed with a sphere during non-intake, and the spring is compressed by differential pressure to open during intake. The thing is adopted. This check valve requires a support body (spring and valve seat) that supports the valve body. Similarly, a check valve that requires a support body has a hinge portion and the hinge portion is movable. Some open and close the valve.
逆止弁には、弁体が固定されパージ流体の吹出機構などの他の機構を必要とするものや、弁体を支える何らかの支持体を必要とするもの以外に、それらを必要としない構造をもつものがある。図4にそのような逆止弁の断面図を示している。 The check valve has a structure that does not require a valve body other than a valve body that is fixed and requires another mechanism such as a purge fluid blowing mechanism or a support that supports the valve body. There is something to have. FIG. 4 shows a cross-sectional view of such a check valve.
図4で示した逆止弁6は、平板の弁体60と、流入口61と流出口62とをもち弁体60を収納する弁室とを備える。この弁室は、弁体60を流路に厚み方向がくるように収納する収納部と、正方向に流れ込む流体のみを流出させる迂回流路64とを有する。この収納部は、流れの正逆方向に、上側移動制限部65と下側移動制限部63の双方の内壁によって所定範囲(所定の上下可動距離)だけ移動可能に弁体60を収納する。
The
正方向に流体が流動しているときには、図4(A)に示すように、弁体60はその自重と流れにより下側移動制限部63に押し付けられ、迂回流路64から流体を流出口62へ流す。一方、逆方向に流体が流動しようとした場合には、図4(B)に示すように、弁体60は流れにより上側移動制限部65に押し付けられ、迂回流路64から流入口(正方向の流れでいう流入口)61への流路が遮断され、流体を遮断する。
しかしながら、図4で示した構造の逆止弁60を真空ポンプと半導体製造用の処理室(チャンバ)との間に設け、真空ポンプの停止時で実験した結果、逆止弁60が動作して逆流を止めるまでに400msecもの時間を必要とした(図5を参照)。なお、図5で示した実験結果は、重さ25g、厚さ1mm、直径100mmの円形のアルミ合金製の弁体60を用い、その弁体60の上下可動距離を7mmとして実験したものである。
However, the
この反応速度は決して速いとは言えず、図5の実験結果ではチャンバ内の圧力が64Pa(図中、1V=13.3322Pa)まで上昇してしまい、結果としてウエハの保護ができない。これは、弁体が平板であるため、逆流する流体の流れを有効に受け止めることができないからである。 This reaction rate cannot be said to be fast, and in the experimental results of FIG. 5, the pressure in the chamber rises to 64 Pa (1 V = 13.3322 Pa in the figure), and as a result, the wafer cannot be protected. This is because since the valve body is a flat plate, the flow of the fluid that flows backward cannot be effectively received.
本発明は、上述のごとき実情に鑑みてなされたものであり、複雑な構造を必要とせず且つ反応速度が速い逆止弁の提供、並びにその逆止弁を備えた真空ポンプ装置の提供を、その目的とする。 The present invention has been made in view of the circumstances as described above, and provides a check valve that does not require a complicated structure and has a high reaction speed, and a vacuum pump device including the check valve. For that purpose.
上述の課題を解決するために、本発明の逆止弁は、弁体と、該弁体を収納する弁室とを有する逆止弁であって、前記弁体は、円形の平板の中央部分に凸状の湾曲部をもたせた形状とし、前記弁室は、前記弁体を、正方向に流れ込む流体の流入側を凸側にし、且つ流れの正逆方向に所定範囲だけ移動可能に収納する収納部と、正方向に流れ込む流体のみを流出させる迂回流路とを有し、前記収納部は、前記弁体の平板部分に当接するために流入側と流出側に設けた移動制限部の平面状の内壁によって、流れの正逆方向についての前記弁体の移動を前記所定範囲に制限にしていることを特徴としたものである。 In order to solve the above-described problems, a check valve according to the present invention is a check valve having a valve body and a valve chamber that houses the valve body, and the valve body is a central portion of a circular flat plate. in a shape remembering curvature of convex, said valve chamber, said valve body, the inlet side of the fluid flowing in the positive direction on the convex side, and is movably accommodated in the forward and reverse direction of flow by a predetermined range a housing portion, have a positive direction flows bypass flow path for only the outflow fluid, the housing section, the plane of the movement limiting portion provided on the inflow side and the outflow side to abut the flat portion of the valve body The movement of the valve body in the forward and reverse directions of the flow is limited to the predetermined range by a shaped inner wall .
本発明の真空ポンプ装置は、上述の逆止弁と、該逆止弁に接続された真空ポンプと備えたことを特徴としたものである。 The vacuum pump device of the present invention is characterized by comprising the above-described check valve and a vacuum pump connected to the check valve.
本発明に係る逆止弁によれば、弁体を支持する支持体やパージ流体供給機構などの他の機構を必要とせず、且つ反応速度を速くすることができる。また、本発明に係る真空ポンプ装置によれば、真空ポンプの予期せぬ停止が起こった場合でも、素早く逆止弁が機能するため、吸気対象の容器内の真空度の低下を最小限に防ぐことができる。 The check valve according to the present invention does not require other mechanisms such as a support for supporting the valve body and a purge fluid supply mechanism, and can increase the reaction rate. In addition, according to the vacuum pump device of the present invention, the check valve functions quickly even when the vacuum pump is unexpectedly stopped, thereby preventing a decrease in the degree of vacuum in the container to be sucked. be able to.
図1は、本発明に係る逆止弁の構成例を示す断面図で、図中、1は逆止弁である。
図1で示した逆止弁1は、弁体10と、流入口11と流出口12とをもちそれらの間に弁体10を収納する弁室とを備える。この弁室は、弁体10を収納する収納部と、正方向に流れ込む流体のみを弁室の外に流出させる迂回流路14とを有する。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a configuration example of a check valve according to the present invention, in which 1 is a check valve.
The check valve 1 shown in FIG. 1 includes a
また、この迂回流路14は、弁体10の周囲の内壁(弁体10が上側移動制限部15に押し付けられた状態では、弁体10に対し流入口11とは反対側にある内壁)から下側移動制限部13を貫通して流出口12へと続くように形成していればよく、その形状は問わない。なお、迂回流路14は、弁体10を設けない状態で流入口11と流出口12との間を通じさせる流路に対し、弁体10が下側移動制限部13に接した状態で流体を流入口11から流出口12へと流す役割をするため、「迂回」流路と呼んでいるが、この迂回流路14が正規の流路である。
Further, the
本発明の主たる特徴部分である弁体10は、少なくとも中央部分で湾曲した板状の形状をもつ。図1では、弁体10の底部10bは平板とし、弁体10の中央部分に湾曲部10aをもたせた例を示しているが、弁体10の全てが湾曲した形状であってもよい。また、湾曲形状としては、その厚み方向の断面が円弧状或いはそれに似た凸状の曲線(巨視的に曲線とみなせるものも含む)であることが、流体による応力集中が生じないため好ましい。また、弁体10の外形(上から見た外形)は、円形であっても四角形をはじめ多角形であってもよい。
The
そして、上述の収納部は、弁体10を正方向(ここでは下方向)に流れ込む流体の流入側を凸側にした状態で、流れの正逆方向に、上側移動制限部15と下側移動制限部13の双方の内壁によって所定範囲(所定の上下可動距離)だけ移動可能に、弁体10を収納する。すなわち、弁室において弁体10は、上側移動制限部15と下側移動制限部13とでなるガイド内にあればよく、圧力均衡状態ではフロートしており、弁室に弁体10を支持するための支持体を必要としない。
And the above-mentioned storage part is the state which made the inflow side of the fluid which flows the
上述のごとき構成により、正方向に流体が流動しているときには、図1(A)に示すように、弁体10はその自重と流れ(圧力差)により下側移動制限部13に当接して押し付けられ、迂回流路14から流体を流出口12へ流すことができる。一方、逆方向に流体が流動しようとした場合には、図1(B)に示すように、弁体10は流れ(圧力差)により上側移動制限部15に当接して押し付けられ、迂回流路14から流入口(正方向の流れでいう流入口)11への流路が遮断され、流体の流動を防止(逆流を防止)することができる。また、上側移動制限部15(及び下側移動制限部13)において、弁体10と当接する箇所にはOリングを設けるなど、密閉させるための機構を設けることが好ましい。
With the above-described configuration, when the fluid is flowing in the forward direction, as shown in FIG. 1 (A), the
なお、弁体10は、自重だけでも下側移動制限部13に押し付けられることが好ましく、そのため厚み方向(厳密には底部10bの厚み方向)が鉛直方向となるように配置することが好ましい。すなわち、弁体10の湾曲部10aの凸側が鉛直上向きを向いた状態(そのとき弁体10の設置されている流路が上下方向を向いた状態)で配設されることが好ましい。但し、弁体10は必ずしも水平に設ける必要はなく、流路に垂直に設けておけば圧力差のみで可動させることもできる。その場合、上側移動制限部15は上流側移動制限部を指し、下側移動制限部15は下流側移動制限部を指すこととなる。
In addition, it is preferable that the
また、弁体10はメンテナンス時に取り替えるようにしてもよく、その場合、弁室自体から弁体10を取り外し可能なような弁室の組立構造を採用するとよい。なお、本発明の弁体10は、流入口11と流出口12とを隔てる薄い膜状の構造をもつため「ダイヤフラム」ともいい、また流れ(圧力差)に応じて素早く上下動できるため「フラッパ(Flapper)」ともいう。
Further, the
図2は、図1の逆止弁を用いた真空システムの構成例を示す概略図である。図2で例示する真空システムは、真空ポンプ装置が配管(真空配管)4を介してチャンバ5に接続され、真空ポンプ装置で吸引してチャンバ5内を真空にするものである。この真空ポンプ装置は、上述した逆止弁1と、逆止弁1に配管(真空配管)3を介して接続された真空ポンプ2と備えてなる。逆止弁1は、上述したように弁体10の凸側が上向きになるように真空ポンプ2に接続することが好ましい。
FIG. 2 is a schematic diagram showing a configuration example of a vacuum system using the check valve of FIG. In the vacuum system illustrated in FIG. 2, a vacuum pump device is connected to a
チャンバ5としては、例えば半導体製造装置の処理室など真空にしたい様々な容器が適用できる。また、逆止弁1の弁室にはヒータを設け、弁体10を暖め、チャンバ5からの不要な生成物が弁体10に付着しないようにしてもよい。また、図示しないが、配管3(又は配管4)の途中或いはそれと真空ポンプ2との間などに電磁弁などの弁を設けておき、その弁を閉弁したときや、或いは真空ポンプ2の予期せぬ停止時などに、この逆止弁1で逆流を防止し、チャンバ5内の真空度を保つことができる。
As the
図3は、図1の逆止弁の反応速度を調べた実験結果を示す図である。なお、図3で示した実験結果は、重さ25g、底部10bの厚さ1mm、湾曲部10aの厚さ0.9mm、平板状の底部10bの外径100mmの円形のアルミ合金プレス製の弁体10であって、弁体10の頭頂部から底部10bまでの高さを5mm、底部10bの径方向の長さを10mm(すなわち底部10bの内径が80mm)としたものを用い、その弁体10の上下可動距離が7mmの弁室を用いて実験したものである。弁体10は、アルミ合金製としたが、チタン等の他の金属であってもよく、金属以外のカーボンなどの素材を採用してもよい。
FIG. 3 is a diagram showing experimental results obtained by examining the reaction rate of the check valve shown in FIG. The experimental result shown in FIG. 3 is a valve made of a round aluminum alloy press having a weight of 25 g, a thickness of 1 mm of the
図1で示した構造の逆止弁1を真空ポンプ2と半導体製造用の処理室(チャンバ5)との間に設け、真空ポンプの停止時で実験した結果、図3に示したように、逆止弁が動作して逆流を止めるまでに350msecしか時間を必要としなかった。この反応速度は図5で説明した従来の結果に比べて大幅に速くなっている。また、図3の実験結果ではチャンバ内の圧力が40Pa(1V=13.3322Pa)までしか上昇せず、従来に比べ、24Paもの圧力上昇を防ぐことができ、結果としてウエハの保護が可能となる。これは、弁体10が従来の平板ではなく湾曲形状(ドーム型)であるため、逆流する流体の流れを有効に受け止めることができた結果と言える。
The check valve 1 having the structure shown in FIG. 1 is provided between the vacuum pump 2 and the semiconductor manufacturing process chamber (chamber 5), and as a result of an experiment conducted when the vacuum pump was stopped, as shown in FIG. It only took 350 msec for the check valve to operate and stop the reverse flow. This reaction rate is significantly faster than the conventional results described in FIG. Further, in the experimental result of FIG. 3, the pressure in the chamber rises only up to 40 Pa (1 V = 13.3322 Pa), and a pressure increase of 24 Pa can be prevented compared to the conventional case, and as a result, the wafer can be protected. . This can be said to be the result that the
以上、本発明について説明したが、本発明に係る逆止弁は、図2で説明したような真空システムに限らず、特許文献1のオイル逆流防止装置の代わりとして組み込むことなど、様々な配管や機器内の流路に組み込むことができ、その用途に制限はない。また、本発明に係る真空ポンプ装置は、上述した逆止弁1と、逆止弁1に配管3を介さず直接接続された真空ポンプ2と備え、実質的に一つの筐体内に構成するようにしてもよい。
Although the present invention has been described above, the check valve according to the present invention is not limited to the vacuum system described with reference to FIG. 2, but includes various pipes such as being incorporated in place of the oil backflow prevention device of Patent Document 1. It can be incorporated into the flow path in the device, and its use is not limited. The vacuum pump device according to the present invention includes the check valve 1 described above and the vacuum pump 2 directly connected to the check valve 1 without a
1…逆止弁、2…真空ポンプ、3,4…配管、5…チャンバ、10…弁体、10a…弁体の湾曲部、10b…弁体の底部、11…流入口、12…流出口、13…下側移動制限部、14…迂回流路、15…上側移動制限部。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Check valve, 2 ... Vacuum pump, 3, 4 ... Pipe, 5 ... Chamber, 10 ... Valve body, 10a ... Curve part of valve body, 10b ... Bottom part of valve body, 11 ... Inlet, 12 ... Outlet , 13: Lower movement restriction unit, 14: Detour channel, 15 ... Upper movement restriction unit.
Claims (2)
前記弁体は、円形の平板の中央部分に凸状の湾曲部をもたせた形状とし、
前記弁室は、前記弁体を、正方向に流れ込む流体の流入側を凸側にし、且つ流れの正逆方向に所定範囲だけ移動可能に収納する収納部と、正方向に流れ込む流体のみを流出させる迂回流路とを有し、
前記収納部は、前記弁体の平板部分に当接するために流入側と流出側に設けた移動制限部の平面状の内壁によって、流れの正逆方向についての前記弁体の移動を前記所定範囲に制限にしていることを特徴とする逆止弁。 A check valve having a valve body and a valve chamber for housing the valve body,
The valve body has a shape with a convex curved portion at the center of a circular flat plate ,
The valve chamber has a storage portion for storing the valve body in such a manner that the inflow side of the fluid flowing in the forward direction is a convex side and movable within a predetermined range in the forward and reverse directions of the flow, and only the fluid flowing in the forward direction flows out. possess a bypass flow passage through which,
The storage portion moves the valve body in the forward and reverse directions of the flow by the planar inner walls of the movement restricting portions provided on the inflow side and the outflow side in order to contact the flat plate portion of the valve body in the predetermined range. A check valve characterized by being restricted to
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