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JP5066559B2 - Hologram laser device manufacturing apparatus and hologram laser device - Google Patents
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Description

本発明は、光源素子および受光素子を含むデバイス本体にホログラム素子を固定してホログラムレーザデバイスを製造するホログラムレーザデバイス製造装置およびホログラムレーザデバイスに関し、より詳細には、光記録媒体に情報の記録、再生または消去を行う光ピックアップ装置の光源と信号処理に用いる半導体レーザデバイスであるホログラムレーザデバイスを製造する際に、デバイス本体に対するホログラム素子の固定位置を調整するホログラムレーザデバイス製造装置およびホログラムレーザデバイスに関する。   The present invention relates to a hologram laser device manufacturing apparatus and a hologram laser device for manufacturing a hologram laser device by fixing a hologram element to a device body including a light source element and a light receiving element, and more specifically, recording information on an optical recording medium, The present invention relates to a hologram laser device manufacturing apparatus and a hologram laser device for adjusting a fixed position of a hologram element with respect to a device body when manufacturing a hologram laser device which is a semiconductor laser device used for signal processing and a light source of an optical pickup device that performs reproduction or erasure .

CD(Compact Disk)、MD(Mini Disc)またはDVD(Digital Versatile Disk)などの情報記録媒体の情報を再生、記録または消去可能な光ピックアップ装置においては、半導体レーザデバイスが利用されている。また近年においては、1つのパッケージに光源素子としての半導体レーザ素子と、光を回折するホログラム素子と、受光素子としての信号検出用受光素子とを組み込んで構成されるホログラムレーザデバイスと呼ばれるものがある。このホログラムレーザデバイスは、半導体レーザ素子から光線を出射し、光記録媒体である光ディスクから反射して戻ってきた光線をホログラム素子によって回折して光軸から離れた場所に配置された信号検出用受光素子に導く機構を有する。   A semiconductor laser device is used in an optical pickup device capable of reproducing, recording or erasing information on an information recording medium such as a CD (Compact Disk), an MD (Mini Disc), or a DVD (Digital Versatile Disk). Further, in recent years, there is a so-called hologram laser device configured by incorporating a semiconductor laser element as a light source element, a hologram element that diffracts light, and a signal detection light-receiving element as a light-receiving element in one package. . This hologram laser device emits a light beam from a semiconductor laser element, diffracts the light beam reflected and returned from the optical disk, which is an optical recording medium, and diffracts the light beam by a hologram element so as to receive light for signal detection. It has a mechanism that leads to the element.

ホログラムレーザデバイスに搭載されるホログラム素子は、従来、ソーダガラスや石英ガラス基板に対してフォトエッチ加工技術によってパターン成型を行ったものが用いられている。特許文献1,2に記載されるように、近年では低コスト化を目的として、樹脂成型技術によってパターン成型を行ったプラスチック製のホログラム素子なども開発されている。   Conventionally, a hologram element mounted on a hologram laser device has been obtained by patterning a soda glass or quartz glass substrate by a photoetching technique. As described in Patent Documents 1 and 2, in recent years, plastic hologram elements and the like that have been subjected to pattern molding by a resin molding technique have been developed for the purpose of cost reduction.

ホログラムレーザデバイス製造装置は、光源素子および受光素子などをデバイス本体として組み上げ、ホログラム素子をデバイス本体に固定してホログラムレーザデバイスを製造している。特許文献3に記載されるホログラム素子の位置決め装置は、ホログラム素子をデバイス本体に固定する際に、光源素子を実際に発光させ、光ディスクからの信号光を受光素子で受光させて、フォーカスエラー信号などの特性信号を検出する。さらにホログラム素子の位置決め装置は、受光素子によって検出されるリアルタイムな特性信号を得ながら、ホログラム素子のデバイス本体に対する位置を微調整して、所望の特性信号が得られた位置で、ホログラム素子をデバイス本体に固定する。   A hologram laser device manufacturing apparatus manufactures a hologram laser device by assembling a light source element and a light receiving element as a device body and fixing the hologram element to the device body. In the hologram element positioning apparatus described in Patent Document 3, when the hologram element is fixed to the device body, the light source element actually emits light, and the signal light from the optical disk is received by the light receiving element, and the focus error signal or the like The characteristic signal is detected. Further, the hologram element positioning device finely adjusts the position of the hologram element relative to the device body while obtaining a real-time characteristic signal detected by the light receiving element, and places the hologram element at the position where the desired characteristic signal is obtained. Secure to the body.

特許文献4に記載されるホログラムレーザ製造装置は、製造工程の簡略化を目的として、光ディスクの代わりに反射ミラーを使用して、ホログラム素子のデバイス本体に対する位置を調整する。また、他のホログラムレーザデバイス製造装置では、量産を目的として、デバイス本体やホログラム素子の供給が自動化されている。ホログラム素子をデバイス本体に固定するための接合材としては、紫外線硬化樹脂が一般に用いられており、上記のような位置調整を完了した後、UV(Ultraviolet)照射を行ってホログラム素子をデバイス本体に固定している。   The hologram laser manufacturing apparatus described in Patent Document 4 uses a reflection mirror instead of an optical disk to adjust the position of the hologram element with respect to the device body for the purpose of simplifying the manufacturing process. Also, in other hologram laser device manufacturing apparatuses, the supply of device bodies and hologram elements is automated for the purpose of mass production. As a bonding material for fixing the hologram element to the device body, an ultraviolet curable resin is generally used. After completing the position adjustment as described above, UV (Ultraviolet) irradiation is performed to attach the hologram element to the device body. It is fixed.

特開平10−187014号公報JP-A-10-187014 特開平10−254335号公報JP 10-254335 A 特開2002−190135号公報JP 2002-190135 A 特開2001−118283号公報JP 2001-118283 A

特許文献3に記載のホログラム素子の位置決め装置は、ホログラム素子のホログラムパターンが形成される領域において、ホログラムパターンの光学特性が均一であるときには、光学設計において意図した位置にホログラム素子を調整することが可能である。   The positioning device for a hologram element described in Patent Document 3 can adjust the hologram element to an intended position in the optical design when the optical characteristics of the hologram pattern are uniform in a region where the hologram pattern of the hologram element is formed. Is possible.

しかし、実際のホログラム素子は、ホログラムパターンの光学特性が均一ではなく、バラツキが存在するものが多い。したがって、特許文献3に記載のホログラム素子の位置決め装置は、光学設計において意図した最適位置にホログラム素子を配置することができないことが多い。これによって、ホログラムレーザデバイスは、光学配置のバランスが崩れることによって、あらゆる特性、たとえばフォーカス信号バランス、ラジアル信号バランス、ジッタ、温度特性などが悪影響を受ける。したがって、ホログラムレーザデバイスは、特性にバラツキが生じ、品質レベルが低下することになる。   However, there are many actual hologram elements in which the optical characteristics of the hologram pattern are not uniform and there are variations. Therefore, the hologram element positioning device described in Patent Document 3 often cannot place the hologram element at the optimum position intended in the optical design. As a result, the hologram laser device has an adverse effect on all characteristics such as focus signal balance, radial signal balance, jitter, temperature characteristics, and the like due to the loss of the balance of the optical arrangement. Therefore, the hologram laser device has variations in characteristics and the quality level is lowered.

また、ホログラム素子は、デバイス本体に固定される前に、ホログラムパターンの光学特性についての検査が行われている。ホログラムレーザデバイス製造装置は、検査した光学特性に基づいて良否判定を行い、不良品のホログラム素子を廃棄し、良品のホログラム素子のみをデバイス本体に固定して、ホログラムレーザデバイスを製造している。しかし、ホログラムレーザデバイス製造装置は、光学特性の検査を行っても、歩留まり率を高めることができず、ホログラムレーザデバイスの生産効率を向上させることができない。   In addition, before the hologram element is fixed to the device body, the optical characteristics of the hologram pattern are inspected. The hologram laser device manufacturing apparatus performs pass / fail determination based on the inspected optical characteristics, discards defective hologram elements, and fixes only good hologram elements to the device body to manufacture a hologram laser device. However, even if the hologram laser device manufacturing apparatus inspects the optical characteristics, the yield rate cannot be increased, and the production efficiency of the hologram laser device cannot be improved.

本発明の目的は、ホログラムレーザデバイスを製造する際に、ホログラム素子のデバイス本体に対する位置の調整を的確に行い、さらに生産効率を向上させることができるホログラムレーザデバイス製造装置およびホログラムレーザデバイスを提供する。   An object of the present invention is to provide a hologram laser device manufacturing apparatus and a hologram laser device capable of accurately adjusting the position of the hologram element with respect to the device body and further improving the production efficiency when manufacturing the hologram laser device. .

本発明は、レーザ光を出射する光源素子および前記光源素子から出射されたレーザ光の反射光を受光する受光素子を備えるデバイス本体に、前記レーザ光を透過しかつ反射光を回折するホログラムパターンが複数の分割領域に分割されて形成されるホログラム素子を固定する際に、前記ホログラム素子によって回折された前記反射光を前記受光素子によって受光し、受光した受光素子の出力によって示される特性信号の値が予め定める閾値に一致するように、ホログラム素子のデバイス本体に対する位置を調整するホログラムレーザデバイス製造装置であって、
前記ホログラム素子を保持する保持部と、
測定用レーザ光を出射する測定用光源素子および測定用光源素子から出射された測定用レーザ光を受光する測定用受光素子を有し、前記保持部によって保持されるホログラム素子に対して測定用光源素子から測定用レーザ光を出射し、ホログラム素子によって回折された測定用レーザ光を測定用受光素子によって受光し、受光した測定用受光素子の出力に基づいて、ホログラムパターンの光学特性を測定する測定部と、
前記測定部によって測定されたホログラムパターンの光学特性に基づいて、前記予め定める閾値を補正した補正閾値を算出し、この補正閾値に前記デバイス本体に備えられる受光素子の出力によって示される特性信号の値が一致するように、前記ホログラム素子のデバイス本体に対する位置を調整する位置調整部とを含むことを特徴とするホログラムレーザデバイス製造装置である。
The present invention provides a device body including a light source element that emits laser light and a light receiving element that receives reflected light of the laser light emitted from the light source element, and a hologram pattern that transmits the laser light and diffracts the reflected light. When fixing the hologram element formed by being divided into a plurality of divided regions, the reflected light diffracted by the hologram element is received by the light receiving element, and the value of the characteristic signal indicated by the output of the received light receiving element Is a hologram laser device manufacturing apparatus that adjusts the position of the hologram element with respect to the device main body so as to match a predetermined threshold value,
A holding unit for holding the hologram element;
A measuring light source element for emitting a measuring laser beam and a measuring light source element for receiving the measuring laser beam emitted from the measuring light source element and held by the holding unit. Measurement laser light is emitted from the element, the measurement laser light diffracted by the hologram element is received by the measurement light receiving element, and the optical characteristics of the hologram pattern are measured based on the received output of the measurement light receiving element And
Based on the optical characteristics of the hologram pattern measured by the measurement unit, a correction threshold value obtained by correcting the predetermined threshold value is calculated, and the value of the characteristic signal indicated by the output of the light receiving element included in the device body is calculated as the correction threshold value. And a position adjusting unit that adjusts the position of the hologram element with respect to the device main body so as to coincide with each other.

また本発明は、前記保持部は、前記ホログラム素子をホログラムパターンが形成される一表面に垂直な向きに押圧可能であり、かつホログラムパターンが形成される領域において前記一表面に垂直な方向に開口していることを特徴とする。   According to the present invention, the holding portion is capable of pressing the hologram element in a direction perpendicular to the one surface on which the hologram pattern is formed, and opening in a direction perpendicular to the one surface in the region where the hologram pattern is formed. It is characterized by that.

また本発明は、前記測定用光源素子が出射する測定用レーザ光は、前記デバイス本体に備えられる光源素子が出射可能なレーザ光と略同一の波長であることを特徴とする。   In the invention, it is preferable that the measurement laser light emitted from the measurement light source element has substantially the same wavelength as the laser light that can be emitted from the light source element provided in the device body.

また本発明は、前記測定部によって測定されたホログラム素子の光学特性に基づいて、ホログラム素子の良否判定を行う良否判定部と、
前記ホログラム素子を収納可能な収納部とをさらに含み、
前記良否判定部によってホログラム素子が不良品と判定された場合、前記保持部は、前記ホログラム素子に対する保持を解除してホログラム素子を前記収納部に収納し、前記良否判定部によってホログラム素子が良品と判定された場合、前記保持部は、前記ホログラム素子に対する保持を維持して、位置調整部がホログラム素子のデバイス本体に対する位置を調整することを特徴とする。
Further, the present invention provides a pass / fail determination unit for determining pass / fail of a hologram element based on the optical characteristics of the hologram element measured by the measurement unit;
A storage section capable of storing the hologram element;
When the quality determination unit determines that the hologram element is defective, the holding unit releases the hold on the hologram element and stores the hologram element in the storage unit, and the quality determination unit determines that the hologram element is non-defective. When the determination is made, the holding unit maintains the holding of the hologram element, and the position adjusting unit adjusts the position of the hologram element with respect to the device body.

また本発明は、前記測定部は、測定用発光素子から出射される測定用レーザ光を集光する集光レンズをさらに有し、前記集光レンズを用いて、前記ホログラム素子の分割領域に照射される測定用レーザ光の面積を、前記分割領域の面積よりも小さくすることを特徴とする。   Further, in the invention, the measurement unit further includes a condensing lens that condenses the measurement laser light emitted from the measurement light emitting element, and irradiates a divided region of the hologram element using the condensing lens. The area of the measurement laser beam to be measured is smaller than the area of the divided region.

また本発明は、前記測定部が測定するホログラム素子の光学特性は、前記分割領域に照射された測定用レーザ光の光量に対する、前記分割領域に形成されるホログラムパターンによって1次回折される測定用レーザ光の光量の割合を示す1次回折効率であることを特徴とする。   According to the present invention, the optical characteristic of the hologram element measured by the measurement unit is for measurement that is first-order diffracted by the hologram pattern formed in the divided area with respect to the light amount of the measurement laser light irradiated on the divided area. The first-order diffraction efficiency indicates the ratio of the amount of laser light.

また本発明は、前記測定部が測定するホログラム素子の光学特性は、前記分割領域に照射された測定用レーザ光の光量に対する、前記分割領域に形成されるホログラムパターンによって1次回折される測定用レーザ光の光量の割合を1次回折効率として、各分割領域のホログラムパターン間の1次回折効率の比率を示す1次回折効率比であることを特徴とする。   According to the present invention, the optical characteristic of the hologram element measured by the measurement unit is for measurement that is first-order diffracted by the hologram pattern formed in the divided area with respect to the light amount of the measurement laser light irradiated on the divided area. The ratio of the amount of laser light is defined as the first-order diffraction efficiency, and the first-order diffraction efficiency ratio is a ratio of the first-order diffraction efficiency between hologram patterns in each divided region.

また本発明は、前記各分割領域に形成されるホログラムパターンは、測定用レーザ光を回折する方向がそれぞれ異なり、
前記測定部が有する測定用受光素子は、1つであり、
前記測定部は、1つの前記測定用受光素子を用いて、前記各分割領域に形成されるホログラムパターンによって回折された光を順次的に受光して、分割領域のホログラムパターン間の1次回折効率比を測定することを特徴とする。
In the present invention, the hologram pattern formed in each of the divided regions has a different direction of diffracting the measurement laser beam,
The measurement unit has one light receiving element for measurement,
The measurement unit sequentially receives light diffracted by the hologram pattern formed in each divided region using one measurement light receiving element, and performs first-order diffraction efficiency between the hologram patterns in the divided regions. It is characterized by measuring the ratio.

また本発明は、前記分割領域は、少なくともホログラムパターンが形成される領域を2等分する直線によって分割され、前記ホログラムパターンが形成されるホログラム素子の一表面の面方向で、かつ前記2分割する直線に垂直な方向を第1の方向とし、前記一表面の面方向で、かつ前記2分割する直線に平行な方向を第2の方向として、
前記位置調整部がホログラム素子のデバイス本体に対する位置を調整する方向は、第1の方向および第2の方向の少なくともいずれか1つの方向であることを特徴とする。
According to the present invention, the divided region is divided by a straight line that bisects at least the region where the hologram pattern is formed, and is divided into two in the surface direction of one surface of the hologram element on which the hologram pattern is formed. A direction perpendicular to a straight line is defined as a first direction, a surface direction of the one surface, and a direction parallel to the line divided into two is defined as a second direction.
The direction in which the position adjusting unit adjusts the position of the hologram element relative to the device body is at least one of a first direction and a second direction.

また本発明は、前記ホログラムレーザデバイス製造装置によって製造されたホログラムレーザデバイスである。   Further, the present invention is a hologram laser device manufactured by the hologram laser device manufacturing apparatus.

本発明によれば、ホログラムレーザデバイス製造装置は、レーザ光を出射する光源素子および光源素子から出射されたレーザ光の反射光を受光する受光素子を備えるデバイス本体に、レーザ光を透過しかつ反射光を回折するホログラムパターンが複数の分割領域に分割されて形成されるホログラム素子を固定する際に、ホログラム素子によって回折された反射光を受光素子によって受光し、受光した受光素子の出力によって示される特性信号の値が予め定める閾値に一致するように、ホログラム素子のデバイス本体に対する位置を調整する。ホログラムレーザデバイス製造装置は、保持部と、測定部と、位置調整部とを含んで構成される。保持部は、ホログラム素子を保持する。測定部は、測定用レーザ光を出射する測定用光源素子および測定用光源素子から出射された測定用レーザ光を受光する測定用受光素子を有する。測定部は、保持部によって保持されるホログラム素子に対して測定用光源素子から測定用レーザ光を出射し、ホログラム素子によって回折された測定用レーザ光を測定用受光素子によって受光し、受光した測定用受光素子の出力に基づいて、ホログラムパターンの光学特性を測定する。位置調整部は、測定部によって測定されたホログラムパターンの光学特性に基づいて、予め定める閾値を補正した補正閾値を算出し、この補正閾値にデバイス本体に備えられる受光素子の出力によって示される特性信号の値が一致するように、ホログラム素子のデバイス本体に対する位置を調整する。   According to the present invention, a hologram laser device manufacturing apparatus transmits and reflects laser light to a device body including a light source element that emits laser light and a light receiving element that receives reflected light of the laser light emitted from the light source element. When fixing a hologram element formed by dividing a hologram pattern that diffracts light into a plurality of divided regions, reflected light diffracted by the hologram element is received by the light receiving element, and is indicated by the output of the received light receiving element The position of the hologram element relative to the device body is adjusted so that the value of the characteristic signal matches a predetermined threshold value. The hologram laser device manufacturing apparatus includes a holding unit, a measuring unit, and a position adjusting unit. The holding unit holds the hologram element. The measurement unit includes a measurement light source element that emits measurement laser light and a measurement light receiving element that receives the measurement laser light emitted from the measurement light source element. The measurement unit emits measurement laser light from the measurement light source element to the hologram element held by the holding unit, receives the measurement laser light diffracted by the hologram element by the measurement light receiving element, and receives the measurement The optical characteristics of the hologram pattern are measured based on the output of the light receiving element. The position adjustment unit calculates a correction threshold value obtained by correcting a predetermined threshold value based on the optical characteristics of the hologram pattern measured by the measurement unit, and the characteristic signal indicated by the output of the light receiving element provided in the device main body as the correction threshold value The position of the hologram element with respect to the device main body is adjusted so that the values of.

ホログラムレーザデバイス製造装置は、光学設計で意図した位置、すなわちレーザ光の中心点とホログラム素子の中心点とが略一致する位置を目標として、ホログラム素子のデバイス本体に対する位置の調整を行う。ホログラム素子の位置調整のときに用いる予め定める閾値は、ホログラムパターンの光学特性がホログラム素子の各分割領域において均一であることを前提として設定されている。   The hologram laser device manufacturing apparatus adjusts the position of the hologram element relative to the device body with the target position in the optical design, that is, the position where the center point of the laser beam substantially coincides with the center point of the hologram element. The predetermined threshold value used when adjusting the position of the hologram element is set on the assumption that the optical characteristics of the hologram pattern are uniform in each divided region of the hologram element.

測定部は、ホログラム素子の光学特性を測定して、各分割領域における光学特性のバラツキを検出することができる。これによって、位置調整部は、ホログラム素子の光学特性のバラツキに基づいて、予め定める閾値を補正することができる。したがって、位置調整部は、ホログラム素子ごとに予め定める閾値を個別に補正して、ホログラム素子の光学特性に応じたホログラム素子の固定位置を割り出すことができる。   The measurement unit can measure the optical characteristics of the hologram element and detect variations in the optical characteristics in each divided region. Thereby, the position adjusting unit can correct the predetermined threshold value based on the variation in the optical characteristics of the hologram element. Therefore, the position adjustment unit can individually correct the threshold value determined in advance for each hologram element, and can determine the fixed position of the hologram element according to the optical characteristics of the hologram element.

これによって、ホログラムレーザデバイス製造装置は、光学特性にバラツキがあるホログラム素子であっても、ホログラム素子とデバイス本体とが光学設計において意図した位置に固定されるように適切に調整することができる。したがって、ホログラムレーザデバイス製造装置は、たとえばフォーカス信号バランス、ラジアル信号バランス、ジッタなどの特性が優れた高品質のホログラムレーザデバイスを製造することができる。   Accordingly, the hologram laser device manufacturing apparatus can appropriately adjust the hologram element and the device body so that the hologram element and the device main body are fixed at the intended positions in the optical design even if the hologram element has a variation in optical characteristics. Therefore, the hologram laser device manufacturing apparatus can manufacture a high-quality hologram laser device having excellent characteristics such as focus signal balance, radial signal balance, and jitter.

また、ホログラムレーザデバイス製造装置は、光学特性にバラツキがあることが原因で従来では廃棄していたホログラム素子について、ホログラム素子のデバイス本体に対する位置を適切に調整して高品質のホログラムレーザデバイスとして製造することができる。これによって、ホログラムレーザデバイス製造装置は、ホログラムレーザデバイスを製造するときの歩留まり率を向上させて、生産効率を向上させることができる。   In addition, the hologram laser device manufacturing apparatus manufactures high-quality hologram laser devices by appropriately adjusting the position of the hologram elements with respect to the device body, with respect to the hologram elements that have been discarded in the past due to variations in optical characteristics. can do. Thereby, the hologram laser device manufacturing apparatus can improve the yield rate when manufacturing the hologram laser device and improve the production efficiency.

また本発明によれば、保持部は、ホログラム素子をホログラムパターンが形成される一表面に垂直な向きに押圧可能であり、かつホログラムパターンが形成される領域において一表面に垂直な方向に開口している。   According to the present invention, the holding portion can press the hologram element in a direction perpendicular to the one surface on which the hologram pattern is formed, and opens in a direction perpendicular to the one surface in the region on which the hologram pattern is formed. ing.

これによって、保持部は、測定用光源素子からの測定用レーザ光およびホログラム素子によって回折された測定用レーザ光を妨げることなく、測定部にホログラム素子の光学特性を測定させることができる。また、保持部は、ホログラム素子をデバイス本体の固定すべき位置付近に予め定める圧力で押圧することによって、ホログラム素子とデバイス本との位置を安定させ、位置調整部にホログラム素子の位置を適切に調整させることができる。   Accordingly, the holding unit can cause the measurement unit to measure the optical characteristics of the hologram element without interfering with the measurement laser light from the measurement light source element and the measurement laser light diffracted by the hologram element. In addition, the holding unit stabilizes the position of the hologram element and the device book by pressing the hologram element near a position where the device body is to be fixed, and appropriately adjusts the position of the hologram element to the position adjustment unit. Can be adjusted.

したがって、保持部は、ホログラム素子を保持した状態で、測定部による光学特性の測定と位置調整部による位置の調整とを順次的に行わせることができる。これによって、ホログラムレーザデバイス製造装置は、ホログラムレーザデバイスを効率よく製造することができる。   Therefore, the holding unit can sequentially perform the measurement of the optical characteristics by the measurement unit and the adjustment of the position by the position adjustment unit while holding the hologram element. Thereby, the hologram laser device manufacturing apparatus can manufacture a hologram laser device efficiently.

また本発明によれば、測定用光源素子が出射する測定用レーザ光は、デバイス本体に備えられる光源素子が出射可能なレーザ光と略同一の波長である。ホログラムパターンの光学特性は、光の波長によって変動するけれども、測定部は、デバイス本体の光源素子を用いて測定するのと同様の測定結果を正確に得ることができる。これによって、位置調整部は、測定された光学特性に基づいて補正閾値を算出し、ホログラム素子の位置調整を正確に行うことができる。   According to the invention, the measurement laser light emitted from the measurement light source element has substantially the same wavelength as the laser light that can be emitted from the light source element provided in the device body. Although the optical characteristics of the hologram pattern vary depending on the wavelength of light, the measurement unit can accurately obtain the same measurement result as that measured using the light source element of the device body. As a result, the position adjustment unit can calculate the correction threshold based on the measured optical characteristics, and can accurately adjust the position of the hologram element.

また本発明によれば、ホログラムレーザデバイス製造装置は、良否判定部と、収納部とをさらに含んで構成される。良否判定部は、測定部によって測定されたホログラム素子の光学特性に基づいて、ホログラム素子の良否判定を行う。収納部は、ホログラム素子を収納可能である。良否判定部によってホログラム素子が不良品と判定された場合、保持部は、ホログラム素子に対する保持を解除してホログラム素子を収納部に収納する。良否判定部によってホログラム素子が良品と判定された場合、保持部は、ホログラム素子に対する保持を維持して、位置調整部がホログラム素子のデバイス本体に対する位置を調整する。   According to the invention, the hologram laser device manufacturing apparatus further includes a pass / fail determination unit and a storage unit. The pass / fail determination unit performs pass / fail determination of the hologram element based on the optical characteristics of the hologram element measured by the measurement unit. The storage unit can store the hologram element. When the quality determination unit determines that the hologram element is defective, the holding unit releases the holding of the hologram element and stores the hologram element in the storage unit. When the hologram element is determined to be non-defective by the pass / fail determination unit, the holding unit maintains the holding of the hologram element, and the position adjusting unit adjusts the position of the hologram element with respect to the device body.

これによって、保持部は、良否判定の結果に応じて、ホログラム素子の保持を維持または解除することによって、良品と不良品とを効率よく選別することができる。また、ホログラムレーザデバイス製造装置は、測定部によって得られたホログラム素子の光学特性の測定結果を、良否判定部によるホログラム素子の良否判定、および位置調整部による予め定める閾値の補正に利用することができる。したがって、ホログラムレーザデバイス製造装置は、測定した光学特性を有効に活用して、ホログラムレーザデバイスの生産効率を高めることができる。   Accordingly, the holding unit can efficiently sort non-defective products and defective products by maintaining or releasing the holding of the hologram element according to the result of the quality determination. Further, the hologram laser device manufacturing apparatus can use the measurement result of the optical characteristics of the hologram element obtained by the measurement unit for the quality determination of the hologram element by the quality determination unit and the correction of the predetermined threshold value by the position adjustment unit. it can. Accordingly, the hologram laser device manufacturing apparatus can increase the production efficiency of the hologram laser device by effectively utilizing the measured optical characteristics.

また本発明によれば、測定部は、測定用発光素子から出射される測定用レーザ光を集光する集光レンズをさらに有する。測定部は、集光レンズを用いて、ホログラム素子の分割領域に照射される測定用レーザ光の面積を、分割領域の面積よりも小さくする。   According to the invention, the measurement unit further includes a condenser lens that condenses the measurement laser light emitted from the measurement light emitting element. The measurement unit uses the condensing lens to make the area of the measurement laser light irradiated to the divided area of the hologram element smaller than the area of the divided area.

これによって、測定部は、分割領域ごとに測定用レーザ光を照射して、各分割領域に形成されるホログラムパターンが回折する測定用レーザ光を、測定用受光素子に受光させることができる。したがって、測定部は、ホログラム素子の光学特性を分割領域ごとに正確に測定することができる。   Accordingly, the measurement unit can irradiate the measurement laser light for each divided region, and cause the measurement light receiving element to receive the measurement laser light diffracted by the hologram pattern formed in each divided region. Therefore, the measurement unit can accurately measure the optical characteristics of the hologram element for each divided region.

また本発明によれば、測定部が測定するホログラム素子の光学特性は、1次回折効率である。1次回折効率は、分割領域に照射された測定用レーザ光の光量に対する、分割領域に形成されるホログラムパターンによって1次回折される測定用レーザ光の光量の割合を示す。   According to the invention, the optical characteristic of the hologram element measured by the measuring unit is the first-order diffraction efficiency. The first-order diffraction efficiency indicates the ratio of the light amount of the measurement laser light that is first-order diffracted by the hologram pattern formed in the divided region to the light amount of the measurement laser light irradiated to the divided region.

これによって、ホログラムレーザデバイス製造装置は、ホログラムレーザデバイスが光ディスクから信号を読み取るときに、光ディスクからの反射光の光量のうちホログラム素子によって1次回折されて受光素子に照射される光量の割合を知ることができる。   Thereby, the hologram laser device manufacturing apparatus knows the ratio of the amount of light that is first-order diffracted by the hologram element and irradiated to the light receiving element out of the amount of reflected light from the optical disk when the hologram laser device reads a signal from the optical disk. be able to.

また本発明によれば、測定部が測定するホログラム素子の光学特性は、1次回折効率比である。1次回折効率比は、各分割領域のホログラムパターン間の1次回折効率の比率を示す。1次回折効率は、分割領域に照射された測定用レーザ光の光量に対する、分割領域に形成されるホログラムパターンによって1次回折される測定用レーザ光の光量の割合である。   According to the invention, the optical characteristic of the hologram element measured by the measuring unit is a first-order diffraction efficiency ratio. The first-order diffraction efficiency ratio indicates the ratio of the first-order diffraction efficiency between hologram patterns in each divided region. The first-order diffraction efficiency is a ratio of the light amount of the measurement laser light that is first-order diffracted by the hologram pattern formed in the divided region to the light amount of the measurement laser light irradiated to the divided region.

これによって、測定部は、各分割領域のホログラムパターン間の1次回折効率の違いを数値化することができる。したがって、位置調整部は、1次回折効率比、すなわち各分割領域のホログラムパターン間の1次回折効率のバラツキを示す値に基づいて、ホログラム素子のデバイス本体に対する位置を適切に調整することができる。   Thereby, the measurement unit can digitize the difference in the first-order diffraction efficiency between the hologram patterns in the respective divided regions. Therefore, the position adjustment unit can appropriately adjust the position of the hologram element with respect to the device body based on the first-order diffraction efficiency ratio, that is, the value indicating the variation in the first-order diffraction efficiency between the hologram patterns in each divided region. .

また本発明によれば、各分割領域に形成されるホログラムパターンは、測定用レーザ光を回折する方向がそれぞれ異なる。測定部が有する測定用受光素子は、1つである。測定部は、1つの測定用受光素子を用いて、各分割領域に形成されるホログラムパターンによって回折された光を順次的に受光して、分割領域のホログラムパターン間の1次回折効率比を測定する。   According to the invention, the hologram pattern formed in each divided region has a different direction for diffracting the measurement laser beam. The measurement unit has one measurement light receiving element. The measurement unit sequentially receives light diffracted by the hologram pattern formed in each divided region using one measuring light receiving element, and measures the first-order diffraction efficiency ratio between the hologram patterns in the divided regions. To do.

仮に複数の測定用受光素子を用いて各分割領域の1次回折効率を測定する場合、複数の測定用受光素子のそれぞれの受光感度を完全に同一にすることは困難であり、測定結果に誤差が生じる。測定部は、1つの測定用受光素子を用いる構成であるので、分割領域のホログラムパターン間の1次回折効率比を精度よく測定することができる。   If the first-order diffraction efficiency of each divided region is measured using a plurality of measurement light receiving elements, it is difficult to make the light reception sensitivities of the plurality of measurement light receiving elements completely the same, resulting in errors in measurement results. Occurs. Since the measurement unit is configured to use one light-receiving element for measurement, the first-order diffraction efficiency ratio between the hologram patterns in the divided regions can be accurately measured.

また、1つの測定用受光素子を用いる構成では、複数の測定用受光素子を用いる構成に比べて、部品点数を削減させることができる。これによって、ホログラムレーザデバイス製造装置およびホログラムレーザデバイスのコストを削減させることができる。   Further, in the configuration using one measurement light receiving element, the number of parts can be reduced as compared with the configuration using a plurality of measurement light receiving elements. Thereby, the cost of the hologram laser device manufacturing apparatus and the hologram laser device can be reduced.

また本発明によれば、分割領域は、少なくともホログラムパターンが形成される領域を2等分する直線によって分割される。ホログラムパターンが形成されるホログラム素子の一表面の面方向で、かつ2分割する直線に垂直な方向を第1の方向とし、一表面の面方向で、かつ2分割する直線に平行な方向を第2の方向とする。位置調整部がホログラム素子のデバイス本体に対する位置を調整する方向は、第1の方向および第2の方向の少なくともいずれか1つの方向である。   According to the invention, the divided region is divided by a straight line that bisects at least the region where the hologram pattern is formed. The first direction is the surface direction of one surface of the hologram element on which the hologram pattern is formed, and the direction perpendicular to the line that divides into two is the first direction, and the direction that is parallel to the surface direction of one surface and the line that divides into two is the first direction. The direction is 2. The direction in which the position adjusting unit adjusts the position of the hologram element with respect to the device main body is at least one of the first direction and the second direction.

ホログラム素子には、たとえばホログラムパターンが形成される領域が、1つの直線または互いに直交する2つの直線によって2分割または3分割されたものがある。各分割領域の1次回折効率が異なると、ホログラムパターン領域を分割する直線に垂直な方向で、かつホログラムパターンが形成される一表面の面方向に、ホログラム素子のデバイス本体に対する位置がずれる。   In some hologram elements, for example, a region where a hologram pattern is formed is divided into two or three by one straight line or two straight lines orthogonal to each other. If the first-order diffraction efficiency of each divided region is different, the position of the hologram element with respect to the device body is shifted in the direction perpendicular to the straight line dividing the hologram pattern region and in the surface direction of one surface on which the hologram pattern is formed.

したがって、位置調整部は、各分割領域で1次回折効率のバラツキのあるホログラム素子を、ホログラム素子のデバイス本体に対する位置のずれが予想される方向に修正することができる。これによって、位置調整部は、デバイス本体に対するホログラム素子の固定位置を、光学設計によって意図された固定位置に確実に修正することができる。   Therefore, the position adjusting unit can correct the hologram element having a variation in the first-order diffraction efficiency in each divided region in a direction in which a position shift of the hologram element with respect to the device body is expected. Accordingly, the position adjusting unit can surely correct the fixed position of the hologram element with respect to the device body to the fixed position intended by the optical design.

また本発明によれば、ホログラムレーザデバイスは、前記ホログラムレーザデバイス製造装置によって製造される。これによって、ホログラムレーザデバイスは、ホログラム素子とデバイス本体とが光学設計によって意図された位置に調整されて固定されている。したがって、ホログラムレーザデバイスは、優れた特性、たとえばフォーカス信号バランス、ラジアル信号バランス、ジッタなどを、安定して発揮することができる。また、ホログラムレーザデバイスは、生産効率の良いホログラムレーザデバイス製造装置によって製造されるので、コストを低く抑えることができる。   According to the invention, the hologram laser device is manufactured by the hologram laser device manufacturing apparatus. Thus, in the hologram laser device, the hologram element and the device body are adjusted and fixed at the positions intended by the optical design. Therefore, the hologram laser device can stably exhibit excellent characteristics such as focus signal balance, radial signal balance, and jitter. Further, since the hologram laser device is manufactured by a hologram laser device manufacturing apparatus with high production efficiency, the cost can be kept low.

本発明の実施形態に係るホログラムレーザデバイス製造装置2によって製造されるホログラムレーザデバイス1を示す正面図である。It is a front view which shows the hologram laser device 1 manufactured by the hologram laser device manufacturing apparatus 2 which concerns on embodiment of this invention. ホログラムレーザデバイス製造装置2によって製造されるホログラムレーザデバイス1を示す平面図である。It is a top view which shows the hologram laser device 1 manufactured by the hologram laser device manufacturing apparatus 2. FIG. ホログラムレーザデバイス1を製造する処理を説明するためのフローチャートである。4 is a flowchart for explaining a process for manufacturing the hologram laser device 1. ホログラムレーザデバイス製造装置2の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the hologram laser device manufacturing apparatus. 保持搬送ユニット22のチャッキング機構の一部を示す正面図である。FIG. 4 is a front view showing a part of a chucking mechanism of a holding conveyance unit 22. 保持搬送ユニット22のチャッキング機構の一部を示す平面図である。4 is a plan view showing a part of the chucking mechanism of the holding and conveying unit 22. FIG. 測定ユニット23の構成を示す正面図である。3 is a front view showing a configuration of a measurement unit 23. FIG. 測定ユニット23の構成を示す平面図である。3 is a plan view showing a configuration of a measurement unit 23. FIG. 測定ユニット23によるホログラム素子13の光学特性の測定を説明するための斜視図である。6 is a perspective view for explaining measurement of optical characteristics of the hologram element 13 by a measurement unit 23. FIG. 位置調整固定ユニット25が行う3分割ホログラムパターンが形成されるホログラム素子13のデバイス本体に対する位置の調整を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the adjustment of the position with respect to the device main body of the hologram element 13 in which the 3 division | segmentation hologram pattern formed by the position adjustment fixing unit 25 is formed. 3分割ホログラムパターンによって回折されたレーザ光を受光素子12が受光している状態を示す平面図である。It is a top view which shows the state which the light receiving element 12 has received the laser beam diffracted by the 3 division | segmentation hologram pattern. MSBの補正閾値を算出することなく3分割ホログラムパターンが形成されるホログラム素子13の位置調整を行った第1比較例を示す平面図である。It is a top view which shows the 1st comparative example which performed the position adjustment of the hologram element 13 in which a 3 division | segmentation hologram pattern is formed, without calculating the correction threshold value of MSB. SSBの補正閾値を算出することなく3分割ホログラムパターンが形成されるホログラム素子13の位置調整を行った第1比較例を示す平面図である。It is a top view which shows the 1st comparative example which performed the position adjustment of the hologram element 13 in which a 3 division | segmentation hologram pattern is formed, without calculating the correction threshold value of SSB. 位置調整固定ユニット25が行う2分割ホログラムパターンが形成されるホログラム素子13のデバイス本体に対する位置の調整を示す斜視図である。It is a perspective view which shows adjustment of the position with respect to the device main body of the hologram element 13 in which the 2 division | segmentation hologram pattern formed by the position adjustment fixing unit 25 is formed. 2分割ホログラムパターンによって回折されたレーザ光を受光素子12が受光している状態を示す平面図である。It is a top view which shows the state in which the light receiving element 12 has received the laser beam diffracted by the 2-part dividing hologram pattern. MSBの補正閾値を算出することなく2分割ホログラムパターンが形成されるホログラム素子13の位置調整を行った第2比較例を示す平面図である。It is a top view which shows the 2nd comparative example which adjusted the position of the hologram element 13 in which a 2 division | segmentation hologram pattern is formed, without calculating the correction threshold value of MSB. 本発明の他の実施形態に係る保持搬送ユニット22のチャッキング機構の一部を示す正面図である。It is a front view which shows a part of chucking mechanism of the holding | maintenance conveyance unit 22 which concerns on other embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態に係る保持搬送ユニット22のチャッキング機構の一部を示す平面図である。It is a top view which shows a part of chucking mechanism of the holding | maintenance conveyance unit 22 which concerns on other embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態に係る測定ユニット23によるホログラム素子13の光学特性の測定を説明するための斜視図である。It is a perspective view for demonstrating the measurement of the optical characteristic of the hologram element 13 by the measurement unit 23 which concerns on other embodiment of this invention.

図1は、本発明の実施形態に係るホログラムレーザデバイス製造装置2によって製造されるホログラムレーザデバイス1を示す正面図である。図2は、ホログラムレーザデバイス製造装置2によって製造されるホログラムレーザデバイス1を示す平面図である。   FIG. 1 is a front view showing a hologram laser device 1 manufactured by a hologram laser device manufacturing apparatus 2 according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a plan view showing the hologram laser device 1 manufactured by the hologram laser device manufacturing apparatus 2.

ホログラムレーザデバイス1は、光源素子11と、受光素子12と、ホログラム素子13と、サブマウント14と、ステム15と、キャップ16とを含んで構成される。光源素子11からホログラム素子13へレーザ光が出射される向きをZ1方向とし、Z1方向と逆の向きをZ2方向とする。Z1方向とZ2方向とを併せて、単にZ方向ともいう。Z方向に垂直な向きであって、Z方向に見て光源素子11から受光素子12へ向かう向きをX1方向とし、X1方向と逆の向きをX2方向とする。X1方向とX2方向とを併せて、単にX方向ともいう。X方向とZ方向とに互いに垂直な方向をY方向とし、一方に向かう向きをY1方向、他方に向かう向きをY2方向とする。   The hologram laser device 1 includes a light source element 11, a light receiving element 12, a hologram element 13, a submount 14, a stem 15, and a cap 16. The direction in which laser light is emitted from the light source element 11 to the hologram element 13 is defined as the Z1 direction, and the direction opposite to the Z1 direction is defined as the Z2 direction. The Z1 direction and the Z2 direction are collectively referred to simply as the Z direction. The direction perpendicular to the Z direction and viewed from the light source element 11 toward the light receiving element 12 when viewed in the Z direction is defined as the X1 direction, and the direction opposite to the X1 direction is defined as the X2 direction. The X1 direction and the X2 direction are also simply referred to as the X direction. A direction perpendicular to the X direction and the Z direction is a Y direction, a direction toward one is a Y1 direction, and a direction toward the other is a Y2 direction.

ホログラム素子13の上面、すなわちZ1方向に臨む面には、レーザ光を回折するホログラムパターン18が形成される。LD(Laser Diode)チップなどの光源素子11から出射されたレーザ光は、ホログラム素子13を透過してZ1方向へ進む。ディスクなどによって反射されたレーザ光は、Z2方向へ進み、ホログラム素子13に照射される。ホログラムパターン18は、Z2方向から照射されたレーザ光を回折する。受光素子12は、ホログラムパターン18によってX1方向に予め定める角度に回折されたレーザ光を受光する。   On the upper surface of the hologram element 13, that is, the surface facing the Z1 direction, a hologram pattern 18 for diffracting the laser light is formed. Laser light emitted from a light source element 11 such as an LD (Laser Diode) chip passes through the hologram element 13 and proceeds in the Z1 direction. The laser beam reflected by the disk or the like travels in the Z2 direction and is applied to the hologram element 13. The hologram pattern 18 diffracts the laser light irradiated from the Z2 direction. The light receiving element 12 receives laser light diffracted by the hologram pattern 18 at a predetermined angle in the X1 direction.

図3は、ホログラムレーザデバイス1を製造する処理を説明するためのフローチャートである。ホログラムレーザデバイス製造装置2は、ホログラムレーザデバイス1を製造する装置である。   FIG. 3 is a flowchart for explaining a process for manufacturing the hologram laser device 1. The hologram laser device manufacturing apparatus 2 is an apparatus that manufactures the hologram laser device 1.

ホログラムレーザデバイス製造装置2がホログラムレーザデバイス1を製造するときに、ステップS0に進んで処理が開始される。ステップS1〜S10の処理は、ホログラムレーザデバイス製造装置2によって行われる。ステップS1では、光源素子11である半導体レーザ素子をサブマウント14に接合する。ステップS2では、半導体レーザ素子が接合されているサブマウント14を、ステム15の所定の位置に接合する。ステップS3では、ステム15に受光素子12を搭載し、ステップS4では、半導体レーザ素子、受光素子12などの各電極間をワイヤによって電気的に接続する。   When the hologram laser device manufacturing apparatus 2 manufactures the hologram laser device 1, the process proceeds to step S0 and processing is started. The processing of steps S1 to S10 is performed by the hologram laser device manufacturing apparatus 2. In step S <b> 1, the semiconductor laser element that is the light source element 11 is bonded to the submount 14. In step S <b> 2, the submount 14 to which the semiconductor laser element is bonded is bonded to a predetermined position of the stem 15. In step S3, the light receiving element 12 is mounted on the stem 15, and in step S4, electrodes such as the semiconductor laser element and the light receiving element 12 are electrically connected by wires.

ステップS5では、ステム15の光学部品が搭載される側をキャップ16で覆う。キャップ16の上部には、窓が設けられている。窓は、ホログラム素子13の接合強度および光路の妨げにならなければ、どのような形状でも構わない。ステップS1〜S5によって半導体レーザ素子、サブマウント14、ステム15、受光素子12などが組み上げられたものを、「デバイス本体」と称す。ステップS6では、デバイス本体に対して、初期不良を事前に取り除くためのバーンイン検査を行う。ステップS7では、デバイス本体のレーザ特性検査を行う。   In step S <b> 5, the side on which the optical component of the stem 15 is mounted is covered with the cap 16. A window is provided on the top of the cap 16. The window may have any shape as long as it does not hinder the bonding strength and optical path of the hologram element 13. A device in which the semiconductor laser element, the submount 14, the stem 15, the light receiving element 12, and the like are assembled in steps S1 to S5 is referred to as a “device body”. In step S6, a burn-in inspection is performed on the device body in order to remove initial defects in advance. In step S7, a laser characteristic inspection of the device body is performed.

ステップS8では、ホログラム素子13の光学特性が測定される。この測定結果に基づいて、ホログラム素子13の良否が判定され、良品と判定されたホログラム素子13を、デバイス本体に固定する。ホログラム素子13は、デバイス本体のキャップ16の窓の上部に固定される。デバイス本体にホログラム素子13を固定することによって、ホログラムレーザデバイス1が完成する。ステップS9では、完成品のホログラムレーザデバイス1に、特性検査が行われ、ステップS10では、ホログラムレーザデバイス1の外観検査が行われる。ステップS11では、ホログラムレーザデバイス1が出荷されて、ステップS12に進んで処理が終了する。   In step S8, the optical characteristics of the hologram element 13 are measured. Based on this measurement result, the quality of the hologram element 13 is determined, and the hologram element 13 determined to be non-defective is fixed to the device body. The hologram element 13 is fixed to the upper part of the window of the cap 16 of the device body. The hologram laser device 1 is completed by fixing the hologram element 13 to the device body. In step S9, a characteristic inspection is performed on the completed hologram laser device 1. In step S10, an appearance inspection of the hologram laser device 1 is performed. In step S11, the hologram laser device 1 is shipped, and the process proceeds to step S12 and the process ends.

図4は、ホログラムレーザデバイス製造装置2の構成を示す図である。ホログラムレーザデバイス製造装置2によって行われる図3に示したステップS8での処理について説明する。デバイスの製造装置は、ホログラム素子供給ユニット21と、保持部である保持搬送ユニット22と、測定部および良否判定部である測定ユニット23と、収納部である廃棄ユニット24と、位置調整部である位置調整固定ユニット25と、本体供給回収ユニット26とを含んで構成される。   FIG. 4 is a diagram showing a configuration of the hologram laser device manufacturing apparatus 2. The process in step S8 shown in FIG. 3 performed by the hologram laser device manufacturing apparatus 2 will be described. The device manufacturing apparatus includes a hologram element supply unit 21, a holding conveyance unit 22 that is a holding unit, a measurement unit 23 that is a measurement unit and a quality determination unit, a discard unit 24 that is a storage unit, and a position adjustment unit. The position adjustment fixing unit 25 and the main body supply / recovery unit 26 are included.

ホログラム素子供給ユニット21は、複数のホログラム素子13を収納可能であり、ホログラム素子13を保持搬送ユニット22に供給する。保持搬送ユニット22は、ホログラム素子13をチャッキング、すなわち保持するチャッキング機構を有する。さらに保持搬送ユニット22は、3次元すなわちX方向、Y方向およびZ方向の移動動作軸と、チャッキングしたホログラム素子13のホログラムパターン18が形成される面に垂直な回転動作軸とを有している。   The hologram element supply unit 21 can store a plurality of hologram elements 13 and supplies the hologram element 13 to the holding and conveying unit 22. The holding and conveying unit 22 has a chucking mechanism for chucking, that is, holding the hologram element 13. Further, the holding and conveying unit 22 has a three-dimensional movement axis in the X direction, the Y direction, and the Z direction, and a rotational movement axis perpendicular to the surface on which the hologram pattern 18 of the chucked hologram element 13 is formed. Yes.

測定ユニット23は、保持搬送ユニット22によって保持されるホログラム素子13に対して測定用光源素子36から測定用レーザ光を出射し、ホログラム素子13によって回折された測定用レーザ光を測定用受光素子37によって受光し、受光した測定用受光素子37の出力に基づいて、ホログラムパターン18の光学特性を測定する。測定ユニット23は、測定したホログラムパターン18の光学特性に関するデータを、位置調整固定ユニット25に送る。   The measurement unit 23 emits measurement laser light from the measurement light source element 36 to the hologram element 13 held by the holding and conveying unit 22, and the measurement laser light diffracted by the hologram element 13 is measured. The optical characteristics of the hologram pattern 18 are measured on the basis of the received light receiving element 37 for measurement. The measurement unit 23 sends data relating to the measured optical characteristics of the hologram pattern 18 to the position adjustment fixing unit 25.

このホログラムパターン18の光学特性は、ホログラム素子13に形成されるホログラムパターン18の1次回折効率および1次回折効率比である。また、測定ユニット23は、ホログラム素子13の光学特性の測定結果に基づいて、ホログラム素子13の良否判定を行う。この良否判定は、1次回折効率および1次回折効率比の少なくともいずれか1つが、予め定める範囲内であるか否かによって行われる。   The optical characteristics of the hologram pattern 18 are the first-order diffraction efficiency and the first-order diffraction efficiency ratio of the hologram pattern 18 formed on the hologram element 13. Further, the measurement unit 23 determines the quality of the hologram element 13 based on the measurement result of the optical characteristics of the hologram element 13. This pass / fail judgment is made based on whether or not at least one of the first-order diffraction efficiency and the first-order diffraction efficiency ratio is within a predetermined range.

廃棄ユニット24は、測定ユニット23によって不良品と判定されたホログラム素子13を回収するための廃棄用容器を有する。位置調整固定ユニット25は、ホログラム素子13のデバイス本体に対する位置を調整して、ホログラム素子13をデバイス本体に固定する。   The disposal unit 24 includes a disposal container for collecting the hologram element 13 that is determined as a defective product by the measurement unit 23. The position adjustment fixing unit 25 adjusts the position of the hologram element 13 with respect to the device body, and fixes the hologram element 13 to the device body.

本体供給回収ユニット26は、複数のデバイス本体を収納可能であり、デバイス本体を位置調整固定ユニット25に供給する。さらに本体供給回収ユニット26は、位置調整固定ユニット25によってホログラム素子13とデバイス本体とが固定された完成品であるホログラムレーザデバイス1を回収する。   The main body supply / recovery unit 26 can store a plurality of device main bodies, and supplies the device main bodies to the position adjustment fixing unit 25. Further, the main body supply / recovery unit 26 recovers the hologram laser device 1 which is a completed product in which the hologram element 13 and the device main body are fixed by the position adjustment fixing unit 25.

ホログラムレーザデバイス製造装置2において、保持搬送ユニット22は、ホログラム素子供給ユニット21から供給されたホログラム素子13を、チャッキングすなわち保持して受け取る。保持搬送ユニット22は、受取ったホログラム素子13を測定ユニット23へ移動させる。保持搬送ユニット22は、測定ユニット23によって光学特性が測定されたホログラム素子13を、廃棄ユニット24へ移動させる。保持搬送ユニット22は、測定ユニット23によって不良品と判定されたホログラム素子13に対して、保持を解除して落下させ、廃棄ユニット24の廃棄用容器に収納させる。保持搬送ユニット22は、測定ユニット23によって良品と判定されたホログラム素子13に対する保持を維持して、位置調整固定ユニット25へ移動させる。   In the hologram laser device manufacturing apparatus 2, the holding and conveying unit 22 chucks, holds, and receives the hologram element 13 supplied from the hologram element supply unit 21. The holding and conveying unit 22 moves the received hologram element 13 to the measuring unit 23. The holding and conveying unit 22 moves the hologram element 13 whose optical characteristics have been measured by the measuring unit 23 to the disposal unit 24. The holding and conveying unit 22 releases and holds the hologram element 13 determined to be defective by the measuring unit 23 and stores it in the disposal container of the disposal unit 24. The holding and conveying unit 22 maintains the holding of the hologram element 13 determined to be a non-defective product by the measuring unit 23 and moves it to the position adjusting and fixing unit 25.

位置調整固定ユニット25は、測定ユニット23によって測定されたホログラム素子13の光学特性に基づいて、予め定める閾値を補正した補正閾値を算出する。位置調整固定ユニット25は、算出した補正閾値にデバイス本体に備えられる受光素子12の出力によって示される特性信号の値が一致するように、ホログラム素子13のデバイス本体に対する位置を調整する。デバイス本体は、本体供給回収ユニット26から位置調整固定ユニット25へ供給され、位置調整固定ユニット25によって保持される。ホログラム素子13は、保持搬送ユニット22によって保持されている。位置調整固定ユニット25は、調整した位置において、たとえば紫外線硬化型の接着材などを使用して、ホログラム素子13をデバイス本体に固定する。   The position adjustment fixing unit 25 calculates a correction threshold value obtained by correcting a predetermined threshold value based on the optical characteristics of the hologram element 13 measured by the measurement unit 23. The position adjustment fixing unit 25 adjusts the position of the hologram element 13 relative to the device body so that the value of the characteristic signal indicated by the output of the light receiving element 12 provided in the device body matches the calculated correction threshold value. The device main body is supplied from the main body supply / recovery unit 26 to the position adjustment fixing unit 25 and is held by the position adjustment fixing unit 25. The hologram element 13 is held by a holding and conveying unit 22. The position adjustment fixing unit 25 fixes the hologram element 13 to the device body at the adjusted position using, for example, an ultraviolet curable adhesive.

保持搬送ユニット22は、位置調整固定ユニット25によるホログラム素子13とデバイス本体との固定が完了すると、ホログラム素子13の保持を解除して、ホログラム素子13を開放する。本体供給回収ユニット26は、ホログラム素子13とデバイス本体との固定が完了したホログラムレーザユニットを、位置調整固定ユニット25から回収する。   The holding and conveying unit 22 releases the holding of the hologram element 13 and opens the hologram element 13 when the fixing of the hologram element 13 and the device body by the position adjustment fixing unit 25 is completed. The main body supply / recovery unit 26 recovers from the position adjustment fixing unit 25 the hologram laser unit in which the hologram element 13 and the device main body are fixed.

図5は、保持搬送ユニット22のチャッキング機構の一部を示す正面図である。図6は、保持搬送ユニット22のチャッキング機構の一部を示す平面図である。チャッキング機構は、第1チャッキング爪31と、第2チャッキング爪32とを含んで構成される。   FIG. 5 is a front view showing a part of the chucking mechanism of the holding conveyance unit 22. FIG. 6 is a plan view showing a part of the chucking mechanism of the holding and conveying unit 22. The chucking mechanism includes a first chucking claw 31 and a second chucking claw 32.

保持搬送ユニット22は、ホログラム素子13をホログラムパターン18が形成される上面に垂直な向きであるZ2方向に押圧可能であり、かつホログラムパターン18が形成される領域において上面に垂直な方向であるZ方向に開口している。   The holding and conveying unit 22 can press the hologram element 13 in the Z2 direction, which is a direction perpendicular to the upper surface where the hologram pattern 18 is formed, and in the region where the hologram pattern 18 is formed, the direction Z is perpendicular to the upper surface. Open in the direction.

ホログラム素子13の上面、すなわちZ1方向に臨む面には、ホログラムパターン18が形成される。ホログラムパターン18は、たとえば直径が1.1ミリメートル(略号:「mm」)の円状に形成され、X方向の直線によって2つの領域に等分割されている。この2等分された2つの2分の1円の領域によって構成されるホログラムパターン18を、「2分割ホログラムパターン」という。   A hologram pattern 18 is formed on the upper surface of the hologram element 13, that is, the surface facing the Z1 direction. The hologram pattern 18 is formed in a circular shape having a diameter of 1.1 millimeters (abbreviation: “mm”), for example, and is equally divided into two regions by a straight line in the X direction. The hologram pattern 18 constituted by the two half-circle regions divided into two equal parts is referred to as “two-divided hologram pattern”.

第1チャッキング爪31および第2チャッキング爪32は、Y方向すなわちホログラムパターン18による光の回折方向と直交する方向からホログラム素子13の側面を挟むことによって、ホログラム素子13を保持する。第1チャッキング爪31は、ホログラム素子13のZ1方向に臨む面、およびY2方向に臨む面を覆って当接する。第2チャッキング爪32は、ホログラム素子13のY1方向に臨む面を覆って当接する。   The first chucking claw 31 and the second chucking claw 32 hold the hologram element 13 by sandwiching the side surface of the hologram element 13 from the Y direction, that is, the direction orthogonal to the light diffraction direction by the hologram pattern 18. The first chucking claw 31 covers and abuts the surface facing the Z1 direction of the hologram element 13 and the surface facing the Y2 direction. The second chucking claw 32 covers and contacts the surface of the hologram element 13 facing the Y1 direction.

第1チャッキング爪31および第2チャッキング爪32は、ホログラム素子13を保持している状態で、ホログラム素子13をデバイス本体に対して、たとえば数十重量グラム(略号:「gf」)の圧力でZ2方向に押圧可能である。第1チャッキング爪31および第2チャッキング爪32は、ホログラム素子13の上面、すなわちホログラムパターン18が形成される面を、均一に押圧できる形状に構成される。   The first chucking claw 31 and the second chucking claw 32 hold the hologram element 13 and the hologram element 13 is pressed against the device body by a pressure of, for example, several tens of grams (abbreviation: “gf”). Can be pressed in the Z2 direction. The first chucking claw 31 and the second chucking claw 32 are configured in a shape that can uniformly press the upper surface of the hologram element 13, that is, the surface on which the hologram pattern 18 is formed.

これによって、位置調整固定ユニット25は、前述したホログラム素子13のデバイス本体に対する位置の調整および固定を行う際、ホログラム素子13が第1チャッキング爪31および第2チャッキング爪32によってデバイス本体に押圧されている状態で、安定して処理を行うことができる。   Thus, the position adjustment fixing unit 25 presses the hologram element 13 against the device body by the first chucking claw 31 and the second chucking claw 32 when adjusting and fixing the position of the hologram element 13 with respect to the device body. In this state, processing can be performed stably.

第1チャッキング爪31は、ホログラム素子13の上面を覆う部位に、チャッキング開口部33を有する。チャッキング開口部33は、ホログラムパターン18の直径よりも大きな直径を有する円柱状の開口領域を形成する。開口領域は、第1チャッキング爪31をZ方向に貫通する孔である。チャッキング開口部33は、チャッキング開口部33の円柱の軸と、ホログラムパターン18の直径の軸とが略一致する位置に形成される。   The first chucking claw 31 has a chucking opening 33 at a portion covering the upper surface of the hologram element 13. The chucking opening 33 forms a cylindrical opening region having a diameter larger than the diameter of the hologram pattern 18. The opening region is a hole that penetrates the first chucking claw 31 in the Z direction. The chucking opening 33 is formed at a position where the cylinder axis of the chucking opening 33 and the axis of the diameter of the hologram pattern 18 substantially coincide.

チャッキング開口部33の直径の寸法は、Z1方向へ進むレーザ光がホログラムパターン18に照射されて、レーザ光の軸線に対して45〜60度の角度に回折された回折光が、チャッキング開口部33によって光路を阻害しない寸法に形成される。   The size of the diameter of the chucking opening 33 is such that the diffracted light diffracted at an angle of 45 to 60 degrees with respect to the axis of the laser light when the laser beam traveling in the Z1 direction is irradiated onto the hologram pattern 18 The portion 33 is formed in a size that does not obstruct the optical path.

図7は、測定ユニット23の構成を示す正面図である。図8は、測定ユニット23の構成を示す平面図である。測定ユニット23は、第1チャッキング爪31および第2チャッキング爪32によって保持されている状態のホログラム素子13の光学特性を測定する。   FIG. 7 is a front view showing the configuration of the measurement unit 23. FIG. 8 is a plan view showing the configuration of the measurement unit 23. The measurement unit 23 measures the optical characteristics of the hologram element 13 held by the first chucking claw 31 and the second chucking claw 32.

測定ユニット23は、測定用光源素子36と、測定用受光素子37と、集光レンズ38とを含んで構成される。測定用光源素子36は、ホログラムレーザデバイス1の光源素子11が出射可能なレーザ光と略同一の波長の測定用レーザ光を出射する。光源素子11が出射するレーザ光の波長は、ホログラムレーザデバイス1の用途に応じて定まる。このレーザ光の波長は、たとえばCD(Compact Disk)、CD−R(Compact Disk
Recordable)などのディスクに用いる場合、780〜805ナノメートル(略号:「nm」)であり、DVD(Digital Versatile Disk)、書き込み型DVDなどのディスクに用いる場合、640〜675nmである。
The measurement unit 23 includes a measurement light source element 36, a measurement light receiving element 37, and a condenser lens 38. The measurement light source element 36 emits measurement laser light having substantially the same wavelength as the laser light that can be emitted by the light source element 11 of the hologram laser device 1. The wavelength of the laser light emitted from the light source element 11 is determined according to the application of the hologram laser device 1. The wavelength of this laser beam is, for example, CD (Compact Disk), CD-R (Compact Disk).
When used for a disc such as Recordable), it is 780 to 805 nanometers (abbreviation: “nm”), and when used for a disc such as a DVD (Digital Versatile Disk) and a writable DVD, it is 640 to 675 nm.

測定用受光素子37は、ホログラムパターン18によって回折された測定用レーザ光を受光して、受光した光量に応じた電圧を出力する。集光レンズ38は、測定用光源素子36から出射された測定用レーザ光を集光して、ホログラムパターン18に照射する。集光レンズ38によって集光されてホログラム素子に照射される測定用レーザ光を、矢符L1で示し、ホログラムパターン18によって回折された測定用レーザ光を、矢符L2で示す。   The measurement light receiving element 37 receives the measurement laser light diffracted by the hologram pattern 18 and outputs a voltage corresponding to the received light quantity. The condensing lens 38 condenses the measurement laser light emitted from the measurement light source element 36 and irradiates the hologram pattern 18. The measurement laser light condensed by the condenser lens 38 and irradiated on the hologram element is indicated by an arrow L1, and the measurement laser light diffracted by the hologram pattern 18 is indicated by an arrow L2.

図9は、測定ユニット23によるホログラム素子13の光学特性の測定を説明するための斜視図である。ホログラム素子13には、3分割されたホログラムパターン18が形成される。この3分割されたホログラムパターン18を「3分割ホログラムパターン」という。3分割ホログラムパターンは、2分割ホログラムパターンに形成される2つの2分の1円の領域うち1つが、Y方向の直線によって2等分に分割されて、2つの4分の1円の領域が形成される。   FIG. 9 is a perspective view for explaining the measurement of the optical characteristics of the hologram element 13 by the measurement unit 23. A hologram pattern 18 divided into three is formed on the hologram element 13. This three-divided hologram pattern 18 is referred to as a “three-divided hologram pattern”. In the three-division hologram pattern, one of the two half-circle areas formed in the two-division hologram pattern is divided into two equal parts by a straight line in the Y direction, and two quarter-circle areas are formed. It is formed.

測定用光源素子36は、Z1方向に集光レンズ38に対して、測定用レーザ光を出射する。集光レンズ38は、測定用レーザ光から出射された測定用レーザ光を集光して、Z1方向にホログラム素子13に対して、測定用レーザ光を照射する。測定用光源素子36からの測定用レーザ光は、ホログラム素子13の下面、すなわちZ2方向に臨む面から入射し、ホログラム素子13の上面に形成されるホログラムパターン18のうち2分の1円の領域に照射される。   The measurement light source element 36 emits measurement laser light to the condenser lens 38 in the Z1 direction. The condenser lens 38 condenses the measurement laser light emitted from the measurement laser light and irradiates the hologram element 13 with the measurement laser light in the Z1 direction. The measurement laser beam from the measurement light source element 36 is incident from the lower surface of the hologram element 13, that is, the surface facing in the Z <b> 2 direction, and is a half-circle region of the hologram pattern 18 formed on the upper surface of the hologram element 13. Is irradiated.

集光レンズ38は、ホログラム素子13の分割領域に照射される測定用レーザ光の面積を、分割領域の面積よりも小さくする。ホログラムパターン18は、たとえば直径寸法が1.1mmであり、ホログラムパターン18に照射されるレーザ光のスポットは、たとえば直径寸法が0.2mmである。ホログラムパターン18は、Z1方向の軸線のレーザ光を、軸線からX1方向に予め定められた角度に回折する。測定用受光素子37は、ホログラムパターン18によって回折されたレーザ光を受光して、受光したレーザ光の光量を測定する。   The condensing lens 38 makes the area of the measurement laser light irradiated to the divided area of the hologram element 13 smaller than the area of the divided area. The hologram pattern 18 has a diameter of 1.1 mm, for example, and the laser beam spot irradiated on the hologram pattern 18 has a diameter of 0.2 mm, for example. The hologram pattern 18 diffracts the laser beam having the axis line in the Z1 direction at a predetermined angle from the axis line in the X1 direction. The measurement light receiving element 37 receives the laser light diffracted by the hologram pattern 18 and measures the amount of the received laser light.

図9に示したホログラム素子13は、3分割ホログラムパターンが形成されるけれども、測定ユニット23は、2分割ホログラムパターンが形成されるホログラム素子13についても、同様に各分割領域に測定用レーザ光を照射して、測定用受光素子37によって光量を測定することができる。   Although the hologram element 13 shown in FIG. 9 is formed with a three-division hologram pattern, the measurement unit 23 similarly applies a measurement laser beam to each divided area for the hologram element 13 with a two-division hologram pattern. The amount of light can be measured by the light receiving element 37 for measurement.

測定ユニット23が測定するホログラム素子13の光学特性は、1次回折効率である。1次回折効率は、分割領域に照射された測定用レーザ光の光量に対する、分割領域に形成されるホログラムパターン18によって1次回折される測定用レーザ光の光量の割合を示す。   The optical characteristic of the hologram element 13 measured by the measurement unit 23 is first-order diffraction efficiency. The first-order diffraction efficiency indicates the ratio of the light amount of the measurement laser light that is first-order diffracted by the hologram pattern 18 formed in the divided region to the light amount of the measurement laser light irradiated to the divided region.

1次回折効率は、次のように算出される。測定ユニット23は、測定用レーザ光源をAPC(Auto Power Control)駆動方式によって出力が一定となるように、レーザ光を出射する。ホログラム素子13を配置する位置での測定用レーザ光の光量である入射光量を、予め測定する。この入射光量で、測定用受光素子37より得られた1次回折光の光量を割り付けたものを、1次回折効率とする。   The first-order diffraction efficiency is calculated as follows. The measurement unit 23 emits laser light so that the output of the measurement laser light source is constant by an APC (Auto Power Control) driving method. The amount of incident light that is the amount of laser light for measurement at the position where the hologram element 13 is disposed is measured in advance. The first-order diffraction efficiency is determined by assigning the amount of the first-order diffracted light obtained from the measurement light-receiving element 37 with the amount of incident light.

1次回折効率は、入射した光を1次回折する割合であることから、ホログラムレーザデバイス1として見た場合には、ディスクから反射されたディスク信号光を、ホログラムレーザデバイス1内の受光素子12に落射させる効率を示すものである。したがって、この1次回折効率とデバイスのディスク信号出力強度とは正比例の関係であり、ホログラムレーザデバイス1で規定した信号の出力強度に見合わない1次回折効率を持つホログラム素子13については、この測定によって、その良否を判定することが可能である。また、ホログラムパターン18内の各パターン、すなわち分割された各分割領域の1次回折効率を個々に測定することによって、各々に対応するデバイス信号の範囲に対して、個別に良否判定を行うことができる。   Since the first-order diffraction efficiency is the ratio of first-order diffraction of incident light, when viewed as the hologram laser device 1, the disc signal light reflected from the disc is converted into the light receiving element 12 in the hologram laser device 1. This shows the efficiency of the incident light. Therefore, the first-order diffraction efficiency and the disk signal output intensity of the device are directly proportional, and the hologram element 13 having the first-order diffraction efficiency that does not match the output intensity of the signal defined by the hologram laser device 1 The quality can be determined by measurement. In addition, by individually measuring the first-order diffraction efficiency of each pattern in the hologram pattern 18, that is, each divided region, it is possible to individually determine pass / fail for the corresponding device signal ranges. it can.

本実施形態では、測定ユニット23は、1つの集光レンズ38を備える構成であるけれども、このような構成に限られず、他の実施形態では、集光ユニットが2つ以上の集光レンズ38を備える構成であってもよい。   In the present embodiment, the measurement unit 23 is configured to include one condensing lens 38, but is not limited to such a configuration. In other embodiments, the condensing unit includes two or more condensing lenses 38. The structure provided may be sufficient.

また、測定ユニット23が測定するホログラム素子13の光学特性は、各分割領域のホログラムパターン間の1次回折効率の比率を示す1次回折効率比である。測定ユニット23は、測定用レーザ光源、集光レンズ38および測定用受光素子37の位置を固定した状態で、ホログラム素子13を上面に平行に移動させることによって、ホログラムパターン18の各分割領域の1次回折効率を測定する。測定ユニット23は、各分割領域のホログラムパターン18について個別の1次回折効率を測定し、各ホログラムパターン18間の1次回折効率の格差を、これの比として算出して1次回折効率比とする。   Further, the optical characteristic of the hologram element 13 measured by the measurement unit 23 is a first-order diffraction efficiency ratio indicating a ratio of the first-order diffraction efficiency between hologram patterns in each divided region. The measurement unit 23 moves the hologram element 13 parallel to the upper surface in a state where the positions of the measurement laser light source, the condensing lens 38 and the measurement light receiving element 37 are fixed, so that 1 of each divided region of the hologram pattern 18 is obtained. The next diffraction efficiency is measured. The measurement unit 23 measures the individual first-order diffraction efficiency for the hologram pattern 18 in each divided region, calculates the difference in the first-order diffraction efficiency between the hologram patterns 18 as a ratio of the first-order diffraction efficiency ratio, and the first-order diffraction efficiency ratio. To do.

1次回折効率の算出は先述のとおり、1次回折光量を入射光量で割り付けたものであり、入射光量が本実施例のように同一値である場合には、1次回折効率比は、各ホログラムパターン18の1次回折光量の比として算出できる。従って、本実施例の場合、測定用受光素子37で得た、各パターンの1次回折の光量を互いに割り付けることで、1次回折効率比を算出する。   As described above, the first-order diffraction efficiency is calculated by assigning the first-order diffracted light amount by the incident light amount. When the incident light amount is the same as in this embodiment, the first-order diffraction efficiency ratio is It can be calculated as the ratio of the first-order diffracted light quantity of the hologram pattern 18. Therefore, in the case of the present embodiment, the first-order diffraction efficiency ratio is calculated by assigning the first-order diffraction light amounts of the patterns obtained by the measurement light receiving element 37 to each other.

測定ユニット23が有する測定用受光素子37は、1つであり、測定ユニット23は、1つの測定用受光素子37を用いて、各分割領域に形成されるホログラムパターン18によって回折された光を順次的に受光して、分割領域のホログラムパターン間の1次回折効率比を測定する。また、各分割領域のホログラムパターン18によって1次回折される光の回折方向は、互いに異なる。   The measurement unit 23 has one measurement light receiving element 37, and the measurement unit 23 sequentially uses the one measurement light reception element 37 to sequentially diffract the light diffracted by the hologram pattern 18 formed in each divided region. The first order diffraction efficiency ratio between the hologram patterns in the divided areas is measured. Further, the diffraction directions of the light that is first-order diffracted by the hologram pattern 18 in each divided region are different from each other.

測定ユニット23がホログラム素子13の光学特性を測定するときのホログラム素子13の移動は、保持搬送ユニット22によって行われる。保持搬送ユニット22は、X方向およびY方向に直交した2方向の動作軸を用いて、ホログラム素子13をホログラム素子13の上面に平行なX方向およびY方向に移動させる。この動作軸は、ホログラム素子13のデバイス本体に対する位置を調整する際に、ホログラム素子13を移動させる動作軸と共用させることも可能である。これによって、部品点数を削減し、コストを削減させることができる。   The movement of the hologram element 13 when the measurement unit 23 measures the optical characteristics of the hologram element 13 is performed by the holding and conveying unit 22. The holding and conveying unit 22 moves the hologram element 13 in the X direction and the Y direction parallel to the upper surface of the hologram element 13 using two operation axes orthogonal to the X direction and the Y direction. This operation axis can be shared with the operation axis for moving the hologram element 13 when adjusting the position of the hologram element 13 with respect to the device body. Thereby, the number of parts can be reduced and the cost can be reduced.

図10は、位置調整固定ユニット25が行う3分割ホログラムパターンが形成されるホログラム素子13のデバイス本体に対する位置の調整を示す斜視図である。図11は、3分割ホログラムパターンによって回折されたレーザ光を受光素子12が受光している状態を示す平面図である。   FIG. 10 is a perspective view showing the adjustment of the position of the hologram element 13 on which the three-division hologram pattern is formed performed by the position adjustment fixing unit 25 with respect to the device body. FIG. 11 is a plan view showing a state in which the light receiving element 12 receives the laser light diffracted by the three-part hologram pattern.

位置調整固定ユニット25は、測定ユニット23によって測定されたホログラムパターン18の光学特性に基づいて、予め定める閾値を補正した補正閾値を算出し、この補正閾値にデバイス本体に備えられる受光素子12の出力によって示される特性信号の値が一致するように、ホログラム素子13のデバイス本体に対する位置を調整する。   The position adjustment fixing unit 25 calculates a correction threshold value obtained by correcting a predetermined threshold value based on the optical characteristics of the hologram pattern 18 measured by the measurement unit 23, and the output of the light receiving element 12 provided in the device body is used as the correction threshold value. The position of the hologram element 13 with respect to the device main body is adjusted so that the values of the characteristic signals indicated by.

ホログラム素子13には、3分割ホログラムパターンが形成され、ホログラムパターン18の分割領域のうち、2分の1円の領域をホログラムパターン18aとし、4分の1円の領域の一方をホログラムパターン18bとし、4分の1円の領域の他方をホログラムパターン18cとする。   The hologram element 13 is formed with a three-divided hologram pattern. Of the divided areas of the hologram pattern 18, a half-circle area is a hologram pattern 18a, and one of the quarter-circle areas is a hologram pattern 18b. The other one-quarter circle region is a hologram pattern 18c.

光源素子11から出射されたレーザ光の反射光を矢符L11で示し、ホログラムパターン18aによって回折されたレーザ光を矢符L12で示し、ホログラムパターン18bによって回折されたレーザ光を矢符L13で示し、ホログラムパターン18cによって回折されたレーザ光を矢符L14で示す。   The reflected light of the laser light emitted from the light source element 11 is indicated by an arrow L11, the laser light diffracted by the hologram pattern 18a is indicated by an arrow L12, and the laser light diffracted by the hologram pattern 18b is indicated by an arrow L13. The laser beam diffracted by the hologram pattern 18c is indicated by an arrow L14.

ホログラムパターン18a,18b,18cは、レーザ光の回折方向がそれぞれ異なる。レーザ光L12,L13,L14は、受光素子12によってそれぞれ受光される。受光素子12の受光領域41のうち、ホログラムパターン18aからのレーザ光L12を受光する領域を受光領域41a,41bとし、ホログラムパターン18bからのレーザ光L13を受光する領域を受光領域41cとし、ホログラムパターン18cからのレーザ光L14を受光する領域を受光領域41dをとする。受光領域41a,41bは、直線状の受光領域分割線42によって、互いに分割される。   The hologram patterns 18a, 18b, and 18c have different diffraction directions of laser light. The laser beams L12, L13, and L14 are received by the light receiving element 12, respectively. Of the light receiving region 41 of the light receiving element 12, regions that receive the laser light L12 from the hologram pattern 18a are light receiving regions 41a and 41b, and regions that receive the laser light L13 from the hologram pattern 18b are light receiving regions 41c. A region for receiving the laser beam L14 from 18c is defined as a light receiving region 41d. The light receiving areas 41 a and 41 b are divided from each other by a linear light receiving area dividing line 42.

位置調整固定ユニット25は、3分割ホログラムパターンが形成されるホログラム素子13をデバイス本体に固定するとき、光源素子を発光させて、3つの特性信号をリアルタイムで計測しながら、これらが所望の値となるようホログラム素子13の位置を調整している。3つの特性信号は、FES(Focus Error Signal)、MSB(Main Spot
Balance)およびSSB(Sub Spot Balance)であり、それぞれ次の式によって定義される。
FES=V−V
MSB=(V+V)÷(V+V
SSB=V÷V
When fixing the hologram element 13 on which the three-divided hologram pattern is formed to the device body, the position adjustment fixing unit 25 emits the light source element and measures the three characteristic signals in real time. Thus, the position of the hologram element 13 is adjusted. The three characteristic signals are FES (Focus Error Signal) and MSB (Main Spot).
Balance) and SSB (Sub Spot Balance), which are defined by the following equations, respectively.
FES = V a −V b
MSB = (V a + V b ) ÷ (V c + V d )
SSB = V c ÷ V d

ここで、Vは、受光領域41aからの出力電圧値を示し、Vは、受光領域41bからの出力電圧値を示し、Vは、受光領域41cからの出力電圧値を示し、Vは、受光領域41dからの出力電圧値を示す。 Here, V a indicates an output voltage value from the light receiving region 41a, V b indicates an output voltage value from the light receiving region 41b, V c indicates an output voltage value from the light receiving region 41c, and V d Indicates an output voltage value from the light receiving region 41d.

MSBは、各2分の1円の領域のホログラムパターン18aと、ホログラムパターン18b,18cとによって回折されたレーザ光L12による受光素子12からの出力電圧比であり、SSBは、各4分の1円の領域のホログラムパターン18b,18cによって回折されたレーザ光L13,L14による受光素子12からの出力電圧比である。MSBおよびSSBは、レーザ光に対するホログラムパターンの相対位置の指標として、ホログラム素子13の固定時に利用される。さらにMSBおよびSSBは、ホログラムレーザデバイス1をピックアップに搭載する際にも、ピックアップ光学系に対するホログラムレーザデバイス1の相対位置を示す指標として、位置調整に利用される。   MSB is the output voltage ratio from the light receiving element 12 by the laser beam L12 diffracted by the hologram pattern 18a in each half-circle region and the hologram patterns 18b and 18c, and SSB is each 1/4. This is the output voltage ratio from the light receiving element 12 by the laser beams L13 and L14 diffracted by the hologram patterns 18b and 18c in the circular region. MSB and SSB are used when the hologram element 13 is fixed as an index of the relative position of the hologram pattern with respect to the laser beam. Further, the MSB and SSB are used for position adjustment as an index indicating the relative position of the hologram laser device 1 with respect to the pickup optical system when the hologram laser device 1 is mounted on the pickup.

FESについては、予め定められる閾値として零ボルト(Volt:略号「V」)を狙い値としており、ホログラムパターン18の中心を軸として、ホログラムパターン18が形成される上面に平行なW方向に回転させることで、PD_AおよびPD_B間の分割線上にビームが落射するように、ホログラム素子13の位置を調整している。   For FES, zero volt (Volt: abbreviation “V”) is set as a predetermined threshold value, and is rotated in the W direction parallel to the upper surface on which the hologram pattern 18 is formed with the center of the hologram pattern 18 as an axis. Thus, the position of the hologram element 13 is adjusted so that the beam falls on the dividing line between PD_A and PD_B.

MSBおよびSSBについては、予め定められる閾値として「1」を狙い値とし、ホログラム素子13の位置を調整している。MSBであればホログラムパターン18aと、ホログラムパターン18b,18cとの分割線に垂直なY方向で、SSBであればホログラムパターン18b,18cとの分割線に平行なX方向で、ホログラム素子13を上面に平行に移動させ、各分割領域のホログラムパターン18に照射されるレーザ光の割合を変えることによって、ホログラム素子13の位置を調整している。X方向とY方向とは、互いに直交している。   For the MSB and SSB, “1” is set as a predetermined threshold value, and the position of the hologram element 13 is adjusted. In the case of MSB, the hologram element 13 is placed on the upper surface in the Y direction perpendicular to the dividing line between the hologram pattern 18a and the hologram patterns 18b and 18c, and in the X direction parallel to the dividing line between the hologram pattern 18b and 18c in the case of SSB. The position of the hologram element 13 is adjusted by changing the ratio of the laser light applied to the hologram pattern 18 in each divided region. The X direction and the Y direction are orthogonal to each other.

位置調整固定ユニット25は、各ホログラムパターン18の1次回折効率比に基づいて、MSBおよびSSBについての予め定める閾値「1」を補正する。位置調整固定ユニット25は、MSBの補正閾値を、ホログラムパターン18aの1次回折効率値と、ホログラムパターン18b,18cの1次回折効率値の平均値との比率に基づいて算出する。MSBの補正閾値は、「ホログラムパターン18aの1次回折効率値÷{(ホログラムパターン18bの1次回折効率値+ホログラムパターン18cの1次回折効率値)÷2}」によって算出される。   The position adjustment fixing unit 25 corrects the predetermined threshold “1” for the MSB and SSB based on the first-order diffraction efficiency ratio of each hologram pattern 18. The position adjustment fixing unit 25 calculates the MSB correction threshold based on the ratio between the first-order diffraction efficiency value of the hologram pattern 18a and the average value of the first-order diffraction efficiency values of the hologram patterns 18b and 18c. The MSB correction threshold value is calculated by “first-order diffraction efficiency value of hologram pattern 18a ÷ {(first-order diffraction efficiency value of hologram pattern 18b + first-order diffraction efficiency value of hologram pattern 18c) ÷ 2}”.

また位置調整固定ユニット25は、SSBの補正閾値を、ホログラムパターン18bの1次回折効率値と、ホログラムパターン18cの1次回折効率値との比率に基づいて算出する。SSBの補正閾値は、「ホログラムパターン18bの1次回折効率値÷ホログラムパターン18cの1次回折効率値」によって算出される。   The position adjustment fixing unit 25 calculates the SSB correction threshold value based on the ratio between the first-order diffraction efficiency value of the hologram pattern 18b and the first-order diffraction efficiency value of the hologram pattern 18c. The SSB correction threshold value is calculated by “first-order diffraction efficiency value of hologram pattern 18b ÷ first-order diffraction efficiency value of hologram pattern 18c”.

たとえば、ホログラムパターン18aの1次回折効率が「0.8」であり、ホログラムパターン18bの1次回折効率が「0.4」であり、ホログラムパターン18cの1次回折効率が「1.6」である場合、MSBの補正閾値は、「0.8÷{(0.4+1.6)÷2}」によって、「0.8」と算出され、SSBの補正閾値は、「0.4÷1.6」によって、「0.25」と算出される。   For example, the first-order diffraction efficiency of the hologram pattern 18a is “0.8”, the first-order diffraction efficiency of the hologram pattern 18b is “0.4”, and the first-order diffraction efficiency of the hologram pattern 18c is “1.6”. In this case, the MSB correction threshold is calculated as “0.8” by “0.8 ÷ {(0.4 + 1.6) / 2}”, and the SSB correction threshold is “0.4 ÷ 1. .6 ”,“ 0.25 ”is calculated.

位置調整固定ユニット25が行うホログラム素子13の位置調整では、FES,MSB,SSBの各特性信号をリアルタイムに確認し、FESについては予め定める閾値に、MSBおよびSSBについては補正閾値に近づくように繰り返し調整を行うことによって、ホログラム素子13を最適な位置へと追い込んでデバイス本体に固定している。これによって、位置調整固定ユニット25は、光源素子11、受光素子12およびホログラム素子13を、光学設計において意図した位置に配置することができる。   In the position adjustment of the hologram element 13 performed by the position adjustment fixing unit 25, the characteristic signals of FES, MSB, and SSB are confirmed in real time, and the FES, MSB, and SSB are repeatedly repeated so as to approach the predetermined threshold. By performing the adjustment, the hologram element 13 is driven to an optimum position and fixed to the device body. Thereby, the position adjustment fixing unit 25 can arrange the light source element 11, the light receiving element 12, and the hologram element 13 at a position intended in the optical design.

図12は、MSBの補正閾値を算出することなく3分割ホログラムパターンが形成されるホログラム素子13の位置調整を行った第1比較例を示す平面図である。図13は、SSBの補正閾値を算出することなく3分割ホログラムパターンが形成されるホログラム素子13の位置調整を行った第1比較例を示す平面図である。   FIG. 12 is a plan view showing a first comparative example in which the position of the hologram element 13 on which the three-part hologram pattern is formed is calculated without calculating the MSB correction threshold value. FIG. 13 is a plan view showing a first comparative example in which the position of the hologram element 13 on which the three-division hologram pattern is formed is calculated without calculating the SSB correction threshold value.

本第1比較例では、各ホログラムパターン18a,18b,18cの1次回折効率が不均一な場合に、位置調整固定ユニット25が、MSBおよびSSBの予め定める閾値「1」によってホログラム素子13の位置を調整した結果を示す。ホログラムパターン18aの1次回折効率が「0.8」であり、ホログラムパターン18bの1次回折効率が「0.4」であり、ホログラムパターン18cの1次回折効率が「1.6」であるとする。   In the first comparative example, when the first-order diffraction efficiencies of the hologram patterns 18a, 18b, and 18c are not uniform, the position adjustment fixing unit 25 determines the position of the hologram element 13 according to the predetermined threshold “1” of the MSB and SSB. The result of adjusting is shown. The first-order diffraction efficiency of the hologram pattern 18a is “0.8”, the first-order diffraction efficiency of the hologram pattern 18b is “0.4”, and the first-order diffraction efficiency of the hologram pattern 18c is “1.6”. And

図12に示した第1比較例では、ホログラムパターン18の中心C1が、レーザ光の中心C2よりもY2方向にズレた位置に調整されている。図13に示した第1比確例では、ホログラムパターン18の中心C1が、レーザ光の中心C2よりもX2方向にズレた位置に調整されている。これは、相対的に1次回折光効率の低いホログラムパターン18が、1次回折光効率の高いホログラムパターン18よりも多くのレーザ光を受光するように、ホログラム素子13の位置が調整された結果である。   In the first comparative example shown in FIG. 12, the center C1 of the hologram pattern 18 is adjusted to a position shifted in the Y2 direction from the center C2 of the laser beam. In the first specific example shown in FIG. 13, the center C1 of the hologram pattern 18 is adjusted to a position shifted in the X2 direction from the center C2 of the laser beam. This is a result of adjusting the position of the hologram element 13 so that the hologram pattern 18 having relatively low first-order diffracted light efficiency receives more laser light than the hologram pattern 18 having higher first-order diffracted light efficiency. .

ホログラムパターン18の中心とレーザ光の中心とが異なる位置に固定されると、たとえばフォーカス信号バランス、ラジアル信号バランス、ジッタなどの特性にバラつきが生じてホログラムレーザデバイス1の品質が低下する。したがって、予め定める閾値を補正しないでホログラム素子13の位置調整を行う場合では、ホログラムパターン18の1次回折効率比の許容範囲を、たとえば「1±0.1」に設定し、許容範囲外のホログラム素子13を廃棄している。   If the center of the hologram pattern 18 and the center of the laser beam are fixed at different positions, for example, characteristics such as focus signal balance, radial signal balance, and jitter vary, and the quality of the hologram laser device 1 deteriorates. Therefore, when the position of the hologram element 13 is adjusted without correcting the predetermined threshold value, the allowable range of the first-order diffraction efficiency ratio of the hologram pattern 18 is set to, for example, “1 ± 0.1” and is outside the allowable range. The hologram element 13 is discarded.

これに対して、本実施形態の位置調整固定ユニット25は、補正閾値を用いてホログラム素子13の位置調整を行うので、ホログラムパターン18の1次回折効率比の許容範囲を、たとえば「1±0.4」に設定することができる。これによって、ホログラムレーザデバイス製造装置2は、ホログラム素子13の特性の許容範囲を拡大させ良品率を向上させて、コストダウンおよび生産性を向上させることができる。また、ホログラムレーザデバイス1製造装置は、受光素子12上へのディスクからの往路光の落射位置を安定させてバラツキを低減させるので、ホログラムレーザデバイス1の特性を安定させ、品質を向上させることができる。   On the other hand, since the position adjustment fixing unit 25 of the present embodiment adjusts the position of the hologram element 13 using the correction threshold, the allowable range of the first-order diffraction efficiency ratio of the hologram pattern 18 is set to, for example, “1 ± 0. .4 ". As a result, the hologram laser device manufacturing apparatus 2 can expand the allowable range of the characteristics of the hologram element 13 and improve the yield rate, thereby reducing cost and improving productivity. In addition, the hologram laser device 1 manufacturing apparatus stabilizes the incident position of the outward light from the disk on the light receiving element 12 to reduce variations, so that the characteristics of the hologram laser device 1 can be stabilized and the quality can be improved. it can.

図14は、位置調整固定ユニット25が行う2分割ホログラムパターンが形成されるホログラム素子13のデバイス本体に対する位置の調整を示す斜視図である。図15は、2分割ホログラムパターンによって回折されたレーザ光を受光素子12が受光している状態を示す平面図である。位置調整固定ユニット25は、図10,図11で説明した3分割ホログラムパターンのホログラム素子13の位置調整と同様の位置調整を行う。図14,図15において、図10,図11で示した構成と同一の構成には、同じ参照符を付し、重複を避けるために説明を省略する。   FIG. 14 is a perspective view showing the adjustment of the position of the hologram element 13 on which the two-divided hologram pattern is formed performed by the position adjustment fixing unit 25 with respect to the device body. FIG. 15 is a plan view showing a state in which the light receiving element 12 receives the laser light diffracted by the two-divided hologram pattern. The position adjustment fixing unit 25 performs the same position adjustment as the position adjustment of the hologram element 13 having the three-division hologram pattern described with reference to FIGS. 14 and 15, the same reference numerals are given to the same components as those shown in FIGS. 10 and 11, and the description thereof is omitted to avoid duplication.

ホログラム素子13には、2分割ホログラムパターンが形成され、ホログラムパターン18の分割領域のうち、2分の1円の領域の一方をホログラムパターン18aとし、他方をホログラムパターン18dとする。ホログラムパターン18aによって回折されたレーザ光を矢符L12で示し、ホログラムパターン18dによって回折されたレーザ光を矢符L15で示す。ホログラムパターン18dによって回折されたレーザ光L15を受光する領域を受光領域41eとする。   A two-divided hologram pattern is formed on the hologram element 13, and one of the half-circle regions among the divided regions of the hologram pattern 18 is a hologram pattern 18 a and the other is a hologram pattern 18 d. The laser light diffracted by the hologram pattern 18a is indicated by an arrow L12, and the laser light diffracted by the hologram pattern 18d is indicated by an arrow L15. A region that receives the laser beam L15 diffracted by the hologram pattern 18d is defined as a light receiving region 41e.

位置調整固定ユニット25は、FESおよびMSBの2つの特性信号を用いて、2分割ホログラムパターンが形成されるホログラム素子13のデバイス本体に固定する位置を調整する。FESおよびMSBは、それぞれ次の式によって定義される。
FES=V−V
MSB=(V+V)÷V
ここで、Vは、受光領域41eからの出力電圧値を示す。
The position adjustment fixing unit 25 uses two characteristic signals of FES and MSB to adjust the position at which the hologram element 13 on which the two-part hologram pattern is formed is fixed to the device body. FES and MSB are respectively defined by the following equations.
FES = V a −V b
MSB = (V a + V b ) ÷ V e
Here, V e indicates an output voltage value from the light receiving region 41 e .

位置調整固定ユニット25は、各ホログラムパターン18の1次回折効率比に基づいて、MSBについての予め定める閾値「1」を補正する。位置調整固定ユニット25は、MSBの補正閾値を、ホログラムパターン18aの1次回折効率値と、ホログラムパターン18dの1次回折効率値との比率に基づいて算出する。MSBの補正閾値は、「ホログラムパターン18aの1次回折効率値÷ホログラムパターン18dの1次回折効率値」によって算出される。   The position adjustment fixing unit 25 corrects the predetermined threshold “1” for the MSB based on the first-order diffraction efficiency ratio of each hologram pattern 18. The position adjustment fixing unit 25 calculates the MSB correction threshold based on the ratio between the first-order diffraction efficiency value of the hologram pattern 18a and the first-order diffraction efficiency value of the hologram pattern 18d. The MSB correction threshold value is calculated by “first-order diffraction efficiency value of hologram pattern 18a ÷ first-order diffraction efficiency value of hologram pattern 18d”.

たとえば、ホログラムパターン18aの1次回折効率が「0.8」であり、ホログラムパターン18dの1次回折効率が「1.0」である場合、MSBの補正閾値は、「0.8÷1.0」によって、「0.8」と算出される。   For example, when the first-order diffraction efficiency of the hologram pattern 18a is “0.8” and the first-order diffraction efficiency of the hologram pattern 18d is “1.0”, the MSB correction threshold value is “0.8 ÷ 1. “0” is calculated as “0.8”.

図16は、MSBの補正閾値を算出することなく2分割ホログラムパターンが形成されるホログラム素子13の位置調整を行った第2比較例を示す平面図である。本第2比較例では、各ホログラムパターン18a,18dの1次回折効率が不均一な場合に、位置調整固定ユニット25が、MSBの予め定める閾値「1」によってホログラム素子13の位置を調整した結果を示す。ホログラムパターン18aの1次回折効率が「0.8」であり、ホログラムパターン18dの1次回折効率が「1.0」であるとする。   FIG. 16 is a plan view showing a second comparative example in which the position of the hologram element 13 on which the two-part hologram pattern is formed is calculated without calculating the MSB correction threshold value. In the second comparative example, when the first-order diffraction efficiencies of the hologram patterns 18a and 18d are not uniform, the position adjustment and fixing unit 25 adjusts the position of the hologram element 13 by the predetermined threshold value “1” of the MSB. Indicates. It is assumed that the first-order diffraction efficiency of the hologram pattern 18a is “0.8” and the first-order diffraction efficiency of the hologram pattern 18d is “1.0”.

図16に示した第2比較例では、ホログラムパターン18の中心C1が、レーザ光の中心C2よりもY2方向にズレた位置に調整されている。これは、相対的に1次回折光効率の低いホログラムパターン18aが、1次回折光効率の高いホログラムパターン18dよりも多くのレーザ光を受光するように、ホログラム素子13の位置が調整された結果である。   In the second comparative example shown in FIG. 16, the center C1 of the hologram pattern 18 is adjusted to a position shifted in the Y2 direction from the center C2 of the laser beam. This is a result of adjusting the position of the hologram element 13 so that the hologram pattern 18a having relatively low first-order diffracted light efficiency receives more laser light than the hologram pattern 18d having higher first-order diffracted light efficiency. .

図17は、本発明の他の実施形態に係る保持搬送ユニット22のチャッキング機構の一部を示す正面図である。図18は、本発明の他の実施形態に係る保持搬送ユニット22のチャッキング機構の一部を示す平面図である。図17,図18に示す他の実施の形態において、図5,図6に示した実施形態と同一の構成には同じ参照符を付し、重複を避けるために説明を省略する。   FIG. 17 is a front view showing a part of the chucking mechanism of the holding and conveying unit 22 according to another embodiment of the present invention. FIG. 18 is a plan view showing a part of the chucking mechanism of the holding and conveying unit 22 according to another embodiment of the present invention. In the other embodiments shown in FIGS. 17 and 18, the same components as those in the embodiments shown in FIGS. 5 and 6 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted to avoid duplication.

チャッキング機構は、第1チャッキング爪46と、第2チャッキング爪47とを含んで構成される。保持搬送ユニット22は、ホログラム素子13をホログラムパターン18が形成される上面に垂直な向きであるZ2方向に押圧可能であり、かつホログラムパターン18が形成される領域において上面に垂直な方向であるZ方向に開口している。   The chucking mechanism includes a first chucking claw 46 and a second chucking claw 47. The holding and conveying unit 22 can press the hologram element 13 in the Z2 direction, which is a direction perpendicular to the upper surface where the hologram pattern 18 is formed, and in the region where the hologram pattern 18 is formed, the direction Z is perpendicular to the upper surface. Open in the direction.

第1チャッキング爪46および第2チャッキング爪47は、Y方向すなわちホログラムパターン18による光の回折方向と直交する方向からホログラム素子13の側面を挟むことによって、ホログラム素子13を保持する。第1チャッキング爪46および第2チャッキング爪47は、ホログラム素子13のZ1方向に臨む面のY方向の端部、およびY2方向に臨む面を覆って当接する。   The first chucking claw 46 and the second chucking claw 47 hold the hologram element 13 by sandwiching the side surface of the hologram element 13 from the Y direction, that is, the direction orthogonal to the light diffraction direction by the hologram pattern 18. The first chucking claw 46 and the second chucking claw 47 are in contact with each other so as to cover the Y-direction end of the surface facing the Z1 direction of the hologram element 13 and the surface facing the Y2 direction.

第1チャッキング爪46および第2チャッキング爪47は、ホログラム素子13を保持している状態で、ホログラム素子13をデバイス本体に対して、たとえば数十gfの圧力でZ2方向に押圧可能である。第1チャッキング爪46および第2チャッキング爪47は、ホログラム素子13の上面、すなわちホログラムパターン18が形成される面のY方向の端部を、均一に押圧できる形状に構成される。   The first chucking claw 46 and the second chucking claw 47 can press the hologram element 13 against the device body in the Z2 direction with a pressure of several tens of gf, for example, while holding the hologram element 13. . The first chucking claw 46 and the second chucking claw 47 are formed in a shape that can uniformly press the upper surface of the hologram element 13, that is, the end in the Y direction of the surface on which the hologram pattern 18 is formed.

第1チャッキング爪46および第2チャッキング爪47は、ホログラム素子13を保持している状態において、ホログラム素子13のホログラムパターン18が形成される領域のZ1方向およびZ2方向に開口している。これによって、第1チャッキング爪46および第2チャッキング爪47は、Z1方向へ進むレーザ光がホログラムパターン18に照射されるとき、レーザ光の軸線に対して45〜60度の角度に回折された回折光の光路を阻害しない。   The first chucking claw 46 and the second chucking claw 47 open in the Z1 direction and the Z2 direction of the region where the hologram pattern 18 of the hologram element 13 is formed in a state where the hologram element 13 is held. Thus, the first chucking claw 46 and the second chucking claw 47 are diffracted at an angle of 45 to 60 degrees with respect to the axis of the laser light when the laser light traveling in the Z1 direction is irradiated onto the hologram pattern 18. Does not obstruct the optical path of the diffracted light.

図19は、本発明の他の実施形態に係る測定ユニット23によるホログラム素子13の光学特性の測定を説明するための斜視図である。図19に示す他の実施の形態において、図9に示した実施形態と同一の構成には同じ参照符を付し、重複を避けるために説明を省略する。   FIG. 19 is a perspective view for explaining the measurement of the optical characteristics of the hologram element 13 by the measurement unit 23 according to another embodiment of the present invention. In the other embodiment shown in FIG. 19, the same components as those in the embodiment shown in FIG. 9 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted to avoid duplication.

測定ユニット23は、集光レンズ38とホログラム素子13との間に、アパーチャ51をさらに含んで構成される。アパーチャ51は、板状に形成され、ホログラム素子13の上面および下面に平行に設置される。アパーチャ51には、円状のアパーチャ開口部52が形成される。集光レンズ38によって集光され、Z1方向に向かう測定用レーザ光は、アパーチャ51によって阻止され、アパーチャ開口部52によって規定される開口領域からホログラム素子13に向かう。   The measurement unit 23 is configured to further include an aperture 51 between the condenser lens 38 and the hologram element 13. The aperture 51 is formed in a plate shape and is installed in parallel to the upper surface and the lower surface of the hologram element 13. A circular aperture opening 52 is formed in the aperture 51. The laser beam for measurement focused by the condenser lens 38 and directed in the Z1 direction is blocked by the aperture 51 and travels toward the hologram element 13 from the opening region defined by the aperture opening 52.

アパーチャ51および集光レンズ38は、ホログラム素子13の分割領域に照射される測定用レーザ光の面積を、分割領域の面積よりも小さくする。ホログラムパターン18は、たとえば直径寸法が1.1mmであり、ホログラムパターン18に照射されるレーザ光のスポットは、たとえば直径寸法が0.2mmである。   The aperture 51 and the condensing lens 38 make the area of the measurement laser light irradiated to the divided area of the hologram element 13 smaller than the area of the divided area. The hologram pattern 18 has a diameter of 1.1 mm, for example, and the laser beam spot irradiated on the hologram pattern 18 has a diameter of 0.2 mm, for example.

他の実施形態では、保持したホログラム素子13と測定用受光素子37の位置を固定した状態で、レーザ光源、集光レンズ38およびアパーチャ51など含む光源ユニットをホログラム素子13の上面に対して平行に移動させることによって、分割領域の各ホログラムパターン18内に対して個別に測定光スポットを入射し、1次回折光の光量を測定用受光素子37で測定している。   In another embodiment, a light source unit including a laser light source, a condensing lens 38 and an aperture 51 is arranged in parallel with the upper surface of the hologram element 13 with the held hologram element 13 and measurement light receiving element 37 fixed in position. By moving, the measurement light spot is individually incident on each hologram pattern 18 in the divided area, and the light quantity of the first-order diffracted light is measured by the measurement light receiving element 37.

光源ユニットの稼動は、光源ユニットに配した動作軸であって、ホログラムパターン18が形成される上面に平行に可動する、直交した2方向の動作軸を用いて実施している。ホログラム素子13の位置調整用動作軸の分解能は、たとえば0.1マイクロメートル(略号:「μm」)/パルスであり、光学測定時の動作軸は、たとえば1μm/パルスである。保持搬送ユニット22の限られた寸法構成の中で、分解能の異なる2種類の動作軸を配するには、構造が複雑、かつ寸法配置が困難であるので、光源ユニット側に、分解能1μm/パルスの動作軸を配している。   The operation of the light source unit is performed using the operation axes arranged in the light source unit, which are movable in parallel to the upper surface on which the hologram pattern 18 is formed and which are orthogonal to each other. The resolution of the operation axis for position adjustment of the hologram element 13 is, for example, 0.1 micrometer (abbreviation: “μm”) / pulse, and the operation axis at the time of optical measurement is, for example, 1 μm / pulse. In order to arrange two types of operation axes with different resolutions in the limited dimensional configuration of the holding and conveying unit 22, the structure is complicated and the dimensional arrangement is difficult, so the resolution of 1 μm / pulse is provided on the light source unit side. The operation axis is arranged.

このように、ホログラムレーザデバイス製造装置2は、レーザ光を出射する光源素子11および光源素子11から出射されたレーザ光の反射光を受光する受光素子12を備えるデバイス本体に、レーザ光を透過しかつ反射光を回折するホログラムパターン18が複数の分割領域に分割されて形成されるホログラム素子13を固定する際に、ホログラム素子13によって回折された反射光を受光素子12によって受光し、受光した受光素子12の出力によって示される特性信号の値が予め定める閾値に一致するように、ホログラム素子13のデバイス本体に対する位置を調整する。ホログラムレーザデバイス製造装置2は、保持搬送ユニット22と、測定ユニット23と、位置調整固定ユニット25とを含んで構成される。保持搬送ユニット22は、ホログラム素子13を保持する。測定ユニット23は、測定用レーザ光を出射する測定用光源素子36および測定用光源素子36から出射された測定用レーザ光を受光する測定用受光素子37を有する。測定ユニット23は、保持搬送ユニット22によって保持されるホログラム素子13に対して測定用光源素子36から測定用レーザ光を出射し、ホログラム素子13によって回折された測定用レーザ光を測定用受光素子37によって受光し、受光した測定用受光素子37の出力に基づいて、ホログラムパターン18の光学特性を測定する。位置調整固定ユニット25は、測定ユニット23によって測定されたホログラムパターン18の光学特性に基づいて、予め定める閾値を補正した補正閾値を算出し、この補正閾値にデバイス本体に備えられる受光素子12の出力によって示される特性信号の値が一致するように、ホログラム素子13のデバイス本体に対する位置を調整する。   As described above, the hologram laser device manufacturing apparatus 2 transmits the laser light to the device body including the light source element 11 that emits the laser light and the light receiving element 12 that receives the reflected light of the laser light emitted from the light source element 11. When the hologram element 13 formed by dividing the hologram pattern 18 that diffracts the reflected light into a plurality of divided regions is fixed, the reflected light diffracted by the hologram element 13 is received by the light receiving element 12, and the received light is received. The position of the hologram element 13 relative to the device body is adjusted so that the value of the characteristic signal indicated by the output of the element 12 matches a predetermined threshold value. The hologram laser device manufacturing apparatus 2 includes a holding and conveying unit 22, a measuring unit 23, and a position adjusting and fixing unit 25. The holding and conveying unit 22 holds the hologram element 13. The measurement unit 23 includes a measurement light source element 36 that emits measurement laser light and a measurement light receiving element 37 that receives the measurement laser light emitted from the measurement light source element 36. The measurement unit 23 emits measurement laser light from the measurement light source element 36 to the hologram element 13 held by the holding and conveying unit 22, and the measurement laser light diffracted by the hologram element 13 is measured. The optical characteristics of the hologram pattern 18 are measured on the basis of the received light receiving element 37 for measurement. The position adjustment fixing unit 25 calculates a correction threshold value obtained by correcting a predetermined threshold value based on the optical characteristics of the hologram pattern 18 measured by the measurement unit 23, and the output of the light receiving element 12 provided in the device body is used as the correction threshold value. The position of the hologram element 13 with respect to the device main body is adjusted so that the values of the characteristic signals indicated by.

ホログラムレーザデバイス製造装置2は、光学設計で意図した位置、すなわちレーザ光の中心点とホログラム素子13の中心点とが略一致する位置を目標として、ホログラム素子13のデバイス本体に対する位置の調整を行う。ホログラム素子13の位置調整のときに用いる予め定める閾値は、ホログラムパターン18の光学特性がホログラム素子13の各分割領域において均一であることを前提として設定されている。   The hologram laser device manufacturing apparatus 2 adjusts the position of the hologram element 13 relative to the device body with the target position in the optical design, that is, the position where the center point of the laser beam and the center point of the hologram element 13 substantially coincide with each other. . The predetermined threshold value used when adjusting the position of the hologram element 13 is set on the assumption that the optical characteristics of the hologram pattern 18 are uniform in each divided region of the hologram element 13.

測定ユニット23は、ホログラム素子13の光学特性を測定して、各分割領域における光学特性のバラツキを検出することができる。これによって、位置調整固定ユニット25は、ホログラム素子13の光学特性のバラツキに基づいて、予め定める閾値を補正することができる。したがって、位置調整固定ユニット25は、ホログラム素子13ごとに予め定める閾値を個別に補正して、ホログラム素子13の光学特性に応じたホログラム素子13の固定位置を割り出すことができる。   The measurement unit 23 can measure the optical characteristics of the hologram element 13 and detect variations in the optical characteristics in each divided region. Accordingly, the position adjustment fixing unit 25 can correct the predetermined threshold value based on the variation in the optical characteristics of the hologram element 13. Therefore, the position adjustment / fixing unit 25 can individually correct the predetermined threshold value for each hologram element 13 and determine the fixed position of the hologram element 13 according to the optical characteristics of the hologram element 13.

これによって、ホログラムレーザデバイス製造装置2は、光学特性にバラツキがあるホログラム素子13であっても、ホログラム素子13とデバイス本体とが光学設計において意図した位置に固定されるように適切に調整することができる。したがって、ホログラムレーザデバイス製造装置2は、たとえばフォーカス信号バランス、ラジアル信号バランス、ジッタなどの特性が優れた高品質のホログラムレーザデバイス1を製造することができる。   Accordingly, the hologram laser device manufacturing apparatus 2 appropriately adjusts the hologram element 13 and the device body so that the hologram element 13 and the device main body are fixed at the intended positions in the optical design even if the hologram element 13 has a variation in optical characteristics. Can do. Therefore, the hologram laser device manufacturing apparatus 2 can manufacture a high-quality hologram laser device 1 having excellent characteristics such as focus signal balance, radial signal balance, and jitter.

また、ホログラムレーザデバイス製造装置2は、光学特性にバラツキがあることが原因で従来では廃棄していたホログラム素子13について、ホログラム素子13のデバイス本体に対する位置を適切に調整して高品質のホログラムレーザデバイス1として製造することができる。これによって、ホログラムレーザデバイス製造装置2は、ホログラムレーザデバイス1を製造するときの歩留まり率を向上させて、生産効率を向上させることができる。   Further, the hologram laser device manufacturing apparatus 2 appropriately adjusts the position of the hologram element 13 relative to the device main body with respect to the hologram element 13 that has been discarded in the past due to variations in optical characteristics. The device 1 can be manufactured. Thereby, the hologram laser device manufacturing apparatus 2 can improve the yield rate when manufacturing the hologram laser device 1 and improve the production efficiency.

さらに、保持搬送ユニット22は、ホログラム素子13をホログラムパターン18が形成される一表面である上面に垂直な向きに押圧可能であり、かつホログラムパターン18が形成される領域において上面に垂直な方向に開口している。   Further, the holding and conveying unit 22 can press the hologram element 13 in a direction perpendicular to the upper surface, which is one surface on which the hologram pattern 18 is formed, and in a direction perpendicular to the upper surface in the region where the hologram pattern 18 is formed. It is open.

これによって、保持搬送ユニット22は、測定用光源素子36からの測定用レーザ光およびホログラム素子13によって回折された測定用レーザ光を妨げることなく、測定ユニット23にホログラム素子13の光学特性を測定させることができる。また、保持搬送ユニット22は、ホログラム素子13をデバイス本体の固定すべき位置付近に予め定める圧力で押圧することによって、ホログラム素子13とデバイス本との位置を安定させ、位置調整固定ユニット25にホログラム素子13の位置を適切に調整させることができる。   Accordingly, the holding and conveying unit 22 causes the measurement unit 23 to measure the optical characteristics of the hologram element 13 without interfering with the measurement laser light from the measurement light source element 36 and the measurement laser light diffracted by the hologram element 13. be able to. Further, the holding and conveying unit 22 stabilizes the position of the hologram element 13 and the device book by pressing the hologram element 13 in the vicinity of the position where the device main body is to be fixed, so that the hologram is transferred to the position adjustment fixing unit 25. The position of the element 13 can be adjusted appropriately.

したがって、保持搬送ユニット22は、ホログラム素子13を保持した状態で、測定ユニット23による光学特性の測定と位置調整固定ユニット25による位置の調整とを順次的に行わせることができる。これによって、ホログラムレーザデバイス製造装置2は、ホログラムレーザデバイス1を効率よく製造することができる。   Accordingly, the holding and conveying unit 22 can sequentially perform the measurement of the optical characteristics by the measurement unit 23 and the adjustment of the position by the position adjustment fixing unit 25 while holding the hologram element 13. Thereby, the hologram laser device manufacturing apparatus 2 can manufacture the hologram laser device 1 efficiently.

さらに、測定用光源素子36が出射する測定用レーザ光は、デバイス本体に備えられる光源素子11が出射可能なレーザ光と略同一の波長である。ホログラムパターン18の光学特性は、光の波長によって変動するけれども、測定ユニット23は、デバイス本体の光源素子11を用いて測定するのと同様の測定結果を正確に得ることができる。これによって、位置調整固定ユニット25は、測定された光学特性に基づいて補正閾値を算出し、ホログラム素子13の位置調整を正確に行うことができる。   Further, the measurement laser light emitted from the measurement light source element 36 has substantially the same wavelength as the laser light that can be emitted from the light source element 11 provided in the device body. Although the optical characteristics of the hologram pattern 18 vary depending on the wavelength of light, the measurement unit 23 can accurately obtain the same measurement result as that measured using the light source element 11 of the device body. Accordingly, the position adjustment fixing unit 25 can calculate the correction threshold value based on the measured optical characteristics, and can accurately adjust the position of the hologram element 13.

さらに、ホログラムレーザデバイス製造装置2は、良否判定部である測定ユニット23と、廃棄ユニット24とをさらに含んで構成される。良否判定部は、測定ユニット23によって測定されたホログラム素子13の光学特性に基づいて、ホログラム素子13の良否判定を行う。廃棄ユニット24は、ホログラム素子13を収納可能である。良否判定部によってホログラム素子13が不良品と判定された場合、保持搬送ユニット22は、ホログラム素子13に対する保持を解除してホログラム素子13を廃棄ユニット24に収納する。良否判定部によってホログラム素子13が良品と判定された場合、保持搬送ユニット22は、ホログラム素子13に対する保持を維持して、位置調整固定ユニット25がホログラム素子13のデバイス本体に対する位置を調整する。   Furthermore, the hologram laser device manufacturing apparatus 2 further includes a measurement unit 23 that is a pass / fail determination unit and a discard unit 24. The pass / fail determination unit determines pass / fail of the hologram element 13 based on the optical characteristics of the hologram element 13 measured by the measurement unit 23. The discard unit 24 can store the hologram element 13. When the hologram element 13 is determined to be defective by the quality determination unit, the holding and conveying unit 22 releases the holding of the hologram element 13 and stores the hologram element 13 in the discard unit 24. When the hologram element 13 is determined to be a non-defective product by the quality determination unit, the holding and conveying unit 22 maintains the holding with respect to the hologram element 13 and the position adjustment fixing unit 25 adjusts the position of the hologram element 13 with respect to the device body.

これによって、保持搬送ユニット22は、良否判定の結果に応じて、ホログラム素子13の保持を維持または解除することによって、良品と不良品とを効率よく選別することができる。また、ホログラムレーザデバイス製造装置2は、測定ユニット23によって得られたホログラム素子13の光学特性の測定結果を、良否判定部によるホログラム素子13の良否判定、および位置調整固定ユニット25による予め定める閾値の補正に利用することができる。したがって、ホログラムレーザデバイス製造装置2は、測定した光学特性を有効に活用して、ホログラムレーザデバイス1の生産効率を高めることができる。   As a result, the holding and conveying unit 22 can efficiently sort non-defective products and defective products by maintaining or releasing the holding of the hologram element 13 according to the result of the quality determination. Further, the hologram laser device manufacturing apparatus 2 uses the measurement result of the optical characteristics of the hologram element 13 obtained by the measurement unit 23 to determine whether the hologram element 13 is good or bad by the good or bad judgment unit, and a predetermined threshold value by the position adjustment fixing unit 25. It can be used for correction. Therefore, the hologram laser device manufacturing apparatus 2 can increase the production efficiency of the hologram laser device 1 by effectively utilizing the measured optical characteristics.

さらに、測定ユニット23は、測定用発光素子から出射される測定用レーザ光を集光する集光レンズ38をさらに有する。測定ユニット23は、集光レンズ38を用いて、ホログラム素子13の分割領域に照射される測定用レーザ光の面積を、分割領域の面積よりも小さくする。   Furthermore, the measurement unit 23 further includes a condenser lens 38 that condenses the measurement laser light emitted from the measurement light emitting element. The measurement unit 23 uses the condensing lens 38 to make the area of the measurement laser light irradiated to the divided area of the hologram element 13 smaller than the area of the divided area.

これによって、測定ユニット23は、分割領域ごとに測定用レーザ光を照射して、各分割領域に形成されるホログラムパターン18が回折する測定用レーザ光を、測定用受光素子37に受光させることができる。したがって、測定ユニット23は、ホログラム素子13の光学特性を分割領域ごとに正確に測定することができる。   As a result, the measurement unit 23 irradiates the measurement laser light for each divided region and causes the measurement light receiving element 37 to receive the measurement laser light diffracted by the hologram pattern 18 formed in each divided region. it can. Therefore, the measurement unit 23 can accurately measure the optical characteristics of the hologram element 13 for each divided region.

さらに、測定ユニット23が測定するホログラム素子13の光学特性は、1次回折効率である。1次回折効率は、分割領域に照射された測定用レーザ光の光量に対する、分割領域に形成されるホログラムパターン18によって1次回折される測定用レーザ光の光量の割合を示す。   Furthermore, the optical characteristic of the hologram element 13 measured by the measurement unit 23 is first-order diffraction efficiency. The first-order diffraction efficiency indicates the ratio of the light amount of the measurement laser light that is first-order diffracted by the hologram pattern 18 formed in the divided region to the light amount of the measurement laser light irradiated to the divided region.

これによって、ホログラムレーザデバイス製造装置2は、ホログラムレーザデバイス1が光ディスクから信号を読み取るときに、光ディスクからの反射光の光量のうちホログラム素子13によって1次回折されて受光素子12に照射される光量の割合を知ることができる。   As a result, the hologram laser device manufacturing apparatus 2 receives the light that is first-order diffracted by the hologram element 13 and is applied to the light receiving element 12 out of the amount of reflected light from the optical disk when the hologram laser device 1 reads a signal from the optical disk. You can know the ratio of.

さらに、測定ユニット23が測定するホログラム素子13の光学特性は、1次回折効率比である。1次回折効率比は、各分割領域のホログラムパターン間の1次回折効率の比率を示す。1次回折効率は、分割領域に照射された測定用レーザ光の光量に対する、分割領域に形成されるホログラムパターン18によって1次回折される測定用レーザ光の光量の割合である。   Furthermore, the optical characteristic of the hologram element 13 measured by the measurement unit 23 is a first-order diffraction efficiency ratio. The first-order diffraction efficiency ratio indicates the ratio of the first-order diffraction efficiency between hologram patterns in each divided region. The first-order diffraction efficiency is a ratio of the light quantity of the measurement laser light that is first-order diffracted by the hologram pattern 18 formed in the divided area to the light quantity of the measurement laser light irradiated to the divided area.

これによって、測定ユニット23は、各分割領域のホログラムパターン間の1次回折効率の違いを数値化することができる。したがって、位置調整固定ユニット25は、1次回折効率比、すなわち各分割領域のホログラムパターン間の1次回折効率のバラツキを示す値に基づいて、ホログラム素子13のデバイス本体に対する位置を適切に調整することができる。   As a result, the measurement unit 23 can digitize the difference in the first-order diffraction efficiency between the hologram patterns in each divided region. Therefore, the position adjustment fixing unit 25 appropriately adjusts the position of the hologram element 13 with respect to the device body based on the first-order diffraction efficiency ratio, that is, the value indicating the variation in the first-order diffraction efficiency between the hologram patterns in each divided region. be able to.

さらに、各分割領域に形成されるホログラムパターン18は、測定用レーザ光を回折する方向がそれぞれ異なる。測定ユニット23が有する測定用受光素子37は、1つである。測定ユニット23は、1つの測定用受光素子37を用いて、各分割領域に形成されるホログラムパターン18によって回折された光を順次的に受光して、分割領域のホログラムパターン間の1次回折効率比を測定する。   Further, the hologram pattern 18 formed in each divided region is different in the direction in which the measurement laser beam is diffracted. The measurement unit 23 has one measurement light receiving element 37. The measurement unit 23 sequentially receives the light diffracted by the hologram pattern 18 formed in each divided region using one measurement light receiving element 37, and the first-order diffraction efficiency between the hologram patterns in the divided regions. Measure the ratio.

仮に複数の測定用受光素子37を用いて各分割領域の1次回折効率を測定する場合、複数の測定用受光素子37のそれぞれの受光感度を完全に同一にすることは困難であり、測定結果に誤差が生じる。測定ユニット23は、1つの測定用受光素子37を用いる構成であるので、分割領域のホログラムパターン間の1次回折効率比を精度よく測定することができる。   If the first-order diffraction efficiency of each divided region is measured using a plurality of measurement light receiving elements 37, it is difficult to make the light reception sensitivities of the plurality of measurement light reception elements 37 completely the same, and the measurement results An error occurs. Since the measurement unit 23 is configured to use one measurement light receiving element 37, it is possible to accurately measure the first-order diffraction efficiency ratio between the hologram patterns in the divided regions.

また、1つの測定用受光素子37を用いる構成では、複数の測定用受光素子37を用いる構成に比べて、部品点数を削減させることができる。これによって、ホログラムレーザデバイス製造装置2およびホログラムレーザデバイス1のコストを削減させることができる。   Further, in the configuration using one measurement light receiving element 37, the number of parts can be reduced as compared with the configuration using a plurality of measurement light receiving elements 37. Thereby, the cost of the hologram laser device manufacturing apparatus 2 and the hologram laser device 1 can be reduced.

さらに、分割領域は、少なくともホログラムパターン18が形成される領域を2等分する直線によって分割される。ホログラムパターン18が形成されるホログラム素子13の上面の面方向で、かつ2分割する直線に垂直な方向を第1の方向とし、上面の面方向で、かつ2分割する直線に平行な方向を第2の方向とする。位置調整固定ユニット25がホログラム素子13のデバイス本体に対する位置を調整する方向は、第1の方向および第2の方向の少なくともいずれか1つの方向である。   Further, the divided region is divided by a straight line that bisects at least the region where the hologram pattern 18 is formed. The first direction is the surface direction of the top surface of the hologram element 13 on which the hologram pattern 18 is formed, and the direction perpendicular to the straight line that divides into two is the first direction, and the direction that is parallel to the straight line that divides into two is the first direction. The direction is 2. The direction in which the position adjustment fixing unit 25 adjusts the position of the hologram element 13 with respect to the device body is at least one of the first direction and the second direction.

ホログラム素子13には、たとえばホログラムパターン18が形成される領域が、1つの直線または互いに直交する2つの直線によって2分割または3分割されたものがある。各分割領域の1次回折効率が異なると、ホログラムパターン18領域を分割する直線に垂直な方向で、かつホログラムパターン18が形成される上面の面方向に、ホログラム素子13のデバイス本体に対する位置がずれる。   In the hologram element 13, for example, there is one in which a region where the hologram pattern 18 is formed is divided into two or three by one straight line or two straight lines orthogonal to each other. If the first-order diffraction efficiency of each divided region is different, the position of the hologram element 13 with respect to the device body is shifted in the direction perpendicular to the straight line dividing the hologram pattern 18 region and in the surface direction of the upper surface on which the hologram pattern 18 is formed. .

したがって、位置調整固定ユニット25は、各分割領域で1次回折効率のバラツキのあるホログラム素子13を、ホログラム素子13のデバイス本体に対する位置のずれが予想される方向に修正することができる。これによって、位置調整固定ユニット25は、デバイス本体に対するホログラム素子13の固定位置を、光学設計によって意図された固定位置に確実に修正することができる。   Therefore, the position adjustment fixing unit 25 can correct the hologram element 13 having a variation in the first-order diffraction efficiency in each divided region in a direction in which the position shift of the hologram element 13 with respect to the device body is expected. Thereby, the position adjustment fixing unit 25 can surely correct the fixing position of the hologram element 13 with respect to the device main body to the fixing position intended by the optical design.

さらに、ホログラムレーザデバイス1は、前記ホログラムレーザデバイス製造装置2によって製造される。これによって、ホログラムレーザデバイス1は、ホログラム素子13とデバイス本体とが光学設計によって意図された位置に調整されて固定されている。したがって、ホログラムレーザデバイス1は、優れた特性、たとえばフォーカス信号バランス、ラジアル信号バランス、ジッタなどを、安定して発揮することができる。また、ホログラムレーザデバイス1は、生産効率の良いホログラムレーザデバイス製造装置2によって製造されるので、コストを低く抑えることができる。   Further, the hologram laser device 1 is manufactured by the hologram laser device manufacturing apparatus 2. Thus, in the hologram laser device 1, the hologram element 13 and the device body are adjusted and fixed at the intended positions by optical design. Therefore, the hologram laser device 1 can stably exhibit excellent characteristics such as focus signal balance, radial signal balance, and jitter. Moreover, since the hologram laser device 1 is manufactured by the hologram laser device manufacturing apparatus 2 with high production efficiency, the cost can be kept low.

1 ホログラムレーザデバイス
2 ホログラムレーザデバイス製造装置
11 光源素子
12 受光素子
13 ホログラム素子
14 サブマウント
15 ステム
16 キャップ
18 ホログラムパターン
21 ホログラム素子供給ユニット
22 保持搬送ユニット
23 測定ユニット
24 廃棄ユニット
25 位置調整固定ユニット
26 本体供給回収ユニット
31 第1チャッキング爪
32 第2チャッキング爪
33 チャッキング開口部
36 測定用光源素子
37 測定用受光素子
38 集光レンズ
41 受光領域
42 受光領域分割線
46 第1チャッキング爪
47 第2チャッキング爪
51 アパーチャ
52 アパーチャ開口部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Hologram laser device 2 Hologram laser device manufacturing apparatus 11 Light source element 12 Light receiving element 13 Hologram element 14 Submount 15 Stem 16 Cap 18 Hologram pattern 21 Hologram element supply unit 22 Holding conveyance unit 23 Measurement unit 24 Disposal unit 25 Position adjustment fixing unit 26 Main body supply / recovery unit 31 First chucking claw 32 Second chucking claw 33 Chucking opening 36 Measuring light source element 37 Measuring light receiving element 38 Condensing lens 41 Light receiving area 42 Light receiving area dividing line 46 First chucking claw 47 Second chucking claw 51 Aperture 52 Aperture opening

Claims (10)

レーザ光を出射する光源素子および前記光源素子から出射されたレーザ光の反射光を受光する受光素子を備えるデバイス本体に、前記レーザ光を透過しかつ反射光を回折するホログラムパターンが複数の分割領域に分割されて形成されるホログラム素子を固定する際に、前記ホログラム素子によって回折された前記反射光を前記受光素子によって受光し、受光した受光素子の出力によって示される特性信号の値が予め定める閾値に一致するように、ホログラム素子のデバイス本体に対する位置を調整するホログラムレーザデバイス製造装置であって、
前記ホログラム素子を保持する保持部と、
測定用レーザ光を出射する測定用光源素子および測定用光源素子から出射された測定用レーザ光を受光する測定用受光素子を有し、前記保持部によって保持されるホログラム素子に対して測定用光源素子から測定用レーザ光を出射し、ホログラム素子によって回折された測定用レーザ光を測定用受光素子によって受光し、受光した測定用受光素子の出力に基づいて、ホログラムパターンの光学特性を測定する測定部と、
前記測定部によって測定されたホログラムパターンの光学特性に基づいて、前記予め定める閾値を補正した補正閾値を算出し、この補正閾値に前記デバイス本体に備えられる受光素子の出力によって示される特性信号の値が一致するように、前記ホログラム素子のデバイス本体に対する位置を調整する位置調整部とを含むことを特徴とするホログラムレーザデバイス製造装置。
A device body comprising a light source element that emits laser light and a light receiving element that receives reflected light of the laser light emitted from the light source element, and a hologram pattern that transmits the laser light and diffracts the reflected light has a plurality of divided regions When the hologram element formed by being divided into two is fixed, the reflected light diffracted by the hologram element is received by the light receiving element, and the value of the characteristic signal indicated by the output of the received light receiving element is a predetermined threshold value A hologram laser device manufacturing apparatus that adjusts the position of the hologram element relative to the device body so as to match
A holding unit for holding the hologram element;
A measuring light source element for emitting a measuring laser beam and a measuring light source element for receiving the measuring laser beam emitted from the measuring light source element and held by the holding unit. Measurement laser light is emitted from the element, the measurement laser light diffracted by the hologram element is received by the measurement light receiving element, and the optical characteristics of the hologram pattern are measured based on the received output of the measurement light receiving element And
Based on the optical characteristics of the hologram pattern measured by the measurement unit, a correction threshold value obtained by correcting the predetermined threshold value is calculated, and the value of the characteristic signal indicated by the output of the light receiving element included in the device body is calculated as the correction threshold value. And a position adjusting unit that adjusts the position of the hologram element with respect to the device main body so that they coincide with each other.
前記保持部は、前記ホログラム素子をホログラムパターンが形成される一表面に垂直な向きに押圧可能であり、かつホログラムパターンが形成される領域において前記一表面に垂直な方向に開口していることを特徴とする請求項1に記載のホログラムレーザデバイス製造装置。   The holding portion is capable of pressing the hologram element in a direction perpendicular to the one surface on which the hologram pattern is formed, and is open in a direction perpendicular to the one surface in the region where the hologram pattern is formed. The hologram laser device manufacturing apparatus according to claim 1, wherein: 前記測定用光源素子が出射する測定用レーザ光は、前記デバイス本体に備えられる光源素子が出射可能なレーザ光と略同一の波長であることを特徴とする請求項1または2に記載のホログラムレーザデバイス製造装置。   3. The hologram laser according to claim 1, wherein the measurement laser light emitted from the measurement light source element has substantially the same wavelength as the laser light that can be emitted from the light source element provided in the device main body. Device manufacturing equipment. 前記測定部によって測定されたホログラム素子の光学特性に基づいて、ホログラム素子の良否判定を行う良否判定部と、
前記ホログラム素子を収納可能な収納部とをさらに含み、
前記良否判定部によってホログラム素子が不良品と判定された場合、前記保持部は、前記ホログラム素子に対する保持を解除してホログラム素子を前記収納部に収納し、前記良否判定部によってホログラム素子が良品と判定された場合、前記保持部は、前記ホログラム素子に対する保持を維持して、位置調整部がホログラム素子のデバイス本体に対する位置を調整することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1つに記載のホログラムレーザデバイス製造装置。
Based on the optical characteristics of the hologram element measured by the measurement unit, a pass / fail determination unit for determining pass / fail of the hologram element;
A storage section capable of storing the hologram element;
When the quality determination unit determines that the hologram element is defective, the holding unit releases the hold on the hologram element and stores the hologram element in the storage unit, and the quality determination unit determines that the hologram element is non-defective. When it is determined, the holding unit maintains the holding of the hologram element, and the position adjusting unit adjusts the position of the hologram element with respect to the device main body. The hologram laser device manufacturing apparatus as described.
前記測定部は、測定用発光素子から出射される測定用レーザ光を集光する集光レンズをさらに有し、前記集光レンズを用いて、前記ホログラム素子の分割領域に照射される測定用レーザ光の面積を、前記分割領域の面積よりも小さくすることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1つに記載のホログラムレーザデバイス製造装置。   The measuring unit further includes a condensing lens that condenses the measuring laser light emitted from the measuring light emitting element, and the measuring laser is applied to the divided region of the hologram element using the condensing lens. The hologram laser device manufacturing apparatus according to claim 1, wherein an area of light is smaller than an area of the divided region. 前記測定部が測定するホログラム素子の光学特性は、前記分割領域に照射された測定用レーザ光の光量に対する、前記分割領域に形成されるホログラムパターンによって1次回折される測定用レーザ光の光量の割合を示す1次回折効率であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1つに記載のホログラムレーザデバイス製造装置。   The optical characteristic of the hologram element measured by the measurement unit is the amount of light of the measurement laser light that is first-order diffracted by the hologram pattern formed in the divided region with respect to the amount of measurement laser light irradiated to the divided region. The hologram laser device manufacturing apparatus according to any one of claims 1 to 5, wherein the hologram laser device has a first-order diffraction efficiency indicating a ratio. 前記測定部が測定するホログラム素子の光学特性は、前記分割領域に照射された測定用レーザ光の光量に対する、前記分割領域に形成されるホログラムパターンによって1次回折される測定用レーザ光の光量の割合を1次回折効率として、各分割領域のホログラムパターン間の1次回折効率の比率を示す1次回折効率比であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1つに記載のホログラムレーザデバイス製造装置。   The optical characteristic of the hologram element measured by the measurement unit is the amount of light of the measurement laser light that is first-order diffracted by the hologram pattern formed in the divided region with respect to the amount of measurement laser light irradiated to the divided region. The hologram according to any one of claims 1 to 5, wherein the ratio is a first-order diffraction efficiency ratio indicating a ratio of the first-order diffraction efficiency between hologram patterns in each divided region, where the ratio is a first-order diffraction efficiency. Laser device manufacturing equipment. 前記各分割領域に形成されるホログラムパターンは、測定用レーザ光を回折する方向がそれぞれ異なり、
前記測定部が有する測定用受光素子は、1つであり、
前記測定部は、1つの前記測定用受光素子を用いて、前記各分割領域に形成されるホログラムパターンによって回折された光を順次的に受光して、分割領域のホログラムパターン間の1次回折効率比を測定することを特徴とする請求項7に記載のホログラムレーザデバイス製造装置。
The hologram pattern formed in each of the divided regions has different directions for diffracting the measurement laser beam,
The measurement unit has one light receiving element for measurement,
The measurement unit sequentially receives light diffracted by the hologram pattern formed in each divided region using one measurement light receiving element, and performs first-order diffraction efficiency between the hologram patterns in the divided regions. The hologram laser device manufacturing apparatus according to claim 7, wherein the ratio is measured.
前記分割領域は、少なくともホログラムパターンが形成される領域を2等分する直線によって分割され、前記ホログラムパターンが形成されるホログラム素子の一表面の面方向で、かつ前記2分割する直線に垂直な方向を第1の方向とし、前記一表面の面方向で、かつ前記2分割する直線に平行な方向を第2の方向として、
前記位置調整部がホログラム素子のデバイス本体に対する位置を調整する方向は、第1の方向および第2の方向の少なくともいずれか1つの方向であることを特徴とする請求項7または8に記載のホログラムレーザデバイス製造装置。
The divided region is divided by a straight line that bisects at least the region where the hologram pattern is formed, and is in the surface direction of one surface of the hologram element on which the hologram pattern is formed and in a direction perpendicular to the straight line that is divided into two As the first direction, the surface direction of the one surface, and the direction parallel to the straight line divided into two as the second direction,
The hologram according to claim 7 or 8, wherein a direction in which the position adjusting unit adjusts the position of the hologram element with respect to the device body is at least one of a first direction and a second direction. Laser device manufacturing equipment.
請求項1〜9のいずれか1つに記載のホログラムレーザデバイス製造装置によって製造されたホログラムレーザデバイス。   A hologram laser device manufactured by the hologram laser device manufacturing apparatus according to claim 1.
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