JP5066626B2

JP5066626B2 - 携帯機器用カバーガラスのガラス基材及び携帯機器用カバーガラス

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Publication number: JP5066626B2
Application number: JP2011176653A
Authority: JP
Inventors: 伴幸後藤; 和明橋本; 勇夫勝地; 貴利広瀬
Original assignee: Hoya Corp
Current assignee: Hoya Corp
Priority date: 2011-08-12
Filing date: 2011-08-12
Publication date: 2012-11-07
Anticipated expiration: 2028-03-24
Also published as: JP2011231009A

Description

本発明は、例えば携帯電話やＰＤＡ（Personal Digital Assistant）などの携帯端末装置の表示画面の保護に用いられるカバーガラスや携帯機器の本体に用いられるガラス基材に関する。

携帯電話やＰＤＡなどの携帯端末装置やその他の携帯機器において、ディスプレイに衝撃や外力が加わることを防止するために、保護板が配設されている（例えば、特許文献１）。近年、携帯端末装置や携帯機器の薄型化に伴い、撓みを抑えつつ、しかも薄板であっても強度のある化学強化ガラスを使った保護板が提案されている（例えば、特許文献２）。

特許文献２に記載された従来の加工方法では、ガラス端面の表面粗さが粗く、ガラス端面の面取り加工した面に数十μｍ〜数百μｍ程度のマイクロクラックが存在することによって、ガラス基材に求められる機械的強度が得られないという問題がある。

この問題を解決するために、本出願人は、先行出願（特願２００７−３２５５４２号）において、ガラス基板上に所望形状のレジストパターンを形成し、そのレジストパターンをマスクにしてガラス基板をエッチングすることにより、所望形状のガラス基板を得ることを提供している。

特開２００４−２９９１９９号公報特開２００７−９９５５７号公報

しかしながら、この方法においては、図６に示すように、エッチングがガラス基板６１の対向する両主表面６１ａ，６１ｂから等方的に進行するために、主表面６１ａ側からのエッチングと、主表面６１ｂ側からのエッチングとにより形成された端面６１ｃにおける頂部６１ｄが形成される。この頂部６１ｄは、端面６１ｃにおいて極端に突出する部分である。このような頂部６１ｄを持つガラス基材は、取り扱いの最中に破損したり、チッピングが生じたりすることがあり、破損やチッピングが発生することによりその部分が劈開の起点となってガラス基材の強度を低下させるという問題がある。

本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、端面において極端に突出する部分がなく、しかも機械的強度が高い携帯機器用カバーガラスのガラス基材を提供することを目的とする。

本発明の携帯機器用カバーガラスのガラス基材は、板状のガラス基板がその両主表面からエッチングされることによって所望の形状に切り抜かれてなり、一対の主表面と、前記ガラス基板がエッチングされて切り抜かれたことにより形成された端面とを持つ携帯機器用カバーガラスのガラス基材であって、前記端面における前記主表面の面方向外側へ突出する頂部は、ＵＬ（Underwriters Laboratories）−１４３９に準拠するシャープエッジテストで表面から２層が切断されない形状であり、前記ガラス基材は、イオン交換処理により化学強化されたガラスであることを特徴とする。イオン交換処理により化学強化することにより、ガラス基材の主表面や端面に圧縮応力層が形成されるので、機械的強度を高めることができる。

本発明の携帯機器用カバーガラスのガラス基材においては、前記頂部は、前記ガラス基材の板厚方向への流れをもつエッチャントでエッチング処理されたことによって形成されていることが好ましい。

本発明の携帯機器用カバーガラスのガラス基材においては、前記ガラス基材は、断面視において、それぞれの前記主表面と前記端面とで構成される２つのエッジ部と前記頂部との間をそれぞれ結ぶ２つの仮想線のなす角αが、前記ガラス基材の板厚方向への流れをもつエッチャントでエッチング処理されたことによって９０°以上１８０°以下とされていることが好ましい。

本発明の携帯機器用カバーガラスのガラス基材においては、前記ガラス基材の３点抗折強度は、５０００ｋｇｆ／ｃｍ^２以上であることが好ましい。

本発明の携帯機器用カバーガラスのガラス基材においては、前記ガラス基材は、断面視において、前記一対の主表面のそれぞれと前記端面とで構成される２つのエッジ部を結ぶ仮想線に対する、前記端面において最も突出する頂部からの最短距離Ｌと、前記ガラス基材の厚さＤとの関係がＬ≦０．０６×Ｄを満足することが好ましい。

この構成によれば、断面視において、それぞれの主表面と端面とで構成される２つのエッジ部を結ぶ仮想線に対する、端面において最も突出する頂部からの最短距離Ｌと、ガラス基材の厚さＤとの関係がＬ≦０．０６×Ｄを満足するので、端面において極端に突出する部分がなく、しかも高い機械的強度を示すことができる。

本発明の携帯機器用カバーガラスのガラス基材においては、前記ガラス基材は、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｌｉ_２Ｏ及びＮａ_２Ｏからなる群から選ばれた少なくとも一つを含有したアルミノシリケートガラスであることが好ましい。この構成によれば、板状のガラス基板をダウンドロー法（フュージョン法）により成形することが可能となるので、ガラス基板の主表面をキズがなく、ナノメートルオーダーの極めて高い平滑性を有する熔解ガラス面とすることができる。したがって、ガラス基材の作製時に主表面の鏡面研磨加工が不要となり、主表面においてもマイクロクラックのないガラス基材が得られ、機械的強度が優れたガラス基材となる。
また、本発明の携帯機器用カバーガラスは、上記携帯機器用カバーガラスのガラス基材から得られたことを特徴とする。

本発明の携帯機器用カバーガラスのガラス基材によれば、端面において極端に突出する部分がなく、しかも機械的強度が高い携帯機器用カバーガラスのガラス基材を提供することができる。

第１エッチング後のガラス基材の一部を示す図である。第２エッチング後のガラス基材の一部を示す図である。本発明に係るガラス基材の製造方法に使用する装置の一例を示す図である。抗折強度測定装置を説明するための図である。シャープエッジテストを説明するための図である。ガラス基材のエッジを説明するための図である。

以下、本発明の実施の形態について添付図面を参照して詳細に説明する。
本発明の実施の形態に係るガラス基材は、板状のガラス基板の主表面に形成したレジストパターンをマスクとして、前記ガラス基板のエッチングが可能なエッチャントで前記ガラス基板を第１エッチングすることにより所望の形状に切り抜いてガラス基材を得て、前記ガラス基材の厚さ方向の流れを持つエッチャント中で前記ガラス基材を第２エッチングすることにより得られる。

図１は、ガラス基板をエッチングして所望形状に切り抜いて得られたガラス基材の一部を示す図である。図１に示すガラス基材１は、対向する一対の主表面１１，１２と、端面１３とを有する。厚さＤのガラス基板の主表面１１，１２にそれぞれレジストパターン１７を形成し、そのレジストパターン１７をマスクとしてガラス基板をエッチング（第１エッチング）すると、エッチングがガラス基板の対向する両主表面１１，１２からそれぞれ等方的に進行するために、主表面１１側からのエッチングと、主表面１２側からのエッチングとにより端面１３に頂部１６が形成される。このエッチングにおいては、断面視において、主表面１１側及び主表面１２側からガラス基板内部に向ってそれぞれ略円弧を描くようにエッチングが進行するので、ガラス基材が切り抜かれる際には、ガラス基板の中央の厚さ付近で前記円弧が交差した端面形状となり、図１に示すように、頂部１６は端面１３において最も突出する部分となる。

ガラス基板をエッチングするエッチング方法は、湿式エッチング（ウェットエッチング）、乾式エッチング（ドライエッチング）どちらでも構わない。加工コストを低くする点からは、ウェットエッチングが好ましい。ウェットエッチングに使用するエッチャントは、ガラス基材を食刻できるものであれば、何でも良い。好ましくは、フッ酸を主成分とする酸性溶液や、フッ酸に、硫酸、硝酸、塩酸、ケイフッ酸のうち少なくとも一つの酸を含む混酸などを用いることができる。また、ドライエッチングに使用するエッチャントは、ガラス基材を食刻できるものであれば何でも良いが、例えばフッ素系ガスを使用することができる。

エッチング工程において用いるレジスト材料としては、レジストパターンをマスクにしてガラスをエッチングする際に使用するエッチャントに対して耐性を有する材料であればよい。ガラスは大抵、フッ酸を含む水溶液のウェットエッチングや、フッ素系ガスのドライエッチングにより食刻されるので、例えば、フッ酸耐性に優れたレジスト材料などを用いることができる。また、レジスト材をガラス基材から剥離するための剥離液としては、ＫＯＨやＮａＯＨなどのアルカリ溶液を用いることが好ましい。なお、レジスト材、エッチャント、剥離液の種類は、被エッチング材料であるガラス基板の材料に応じて適宜選択することができる。

このように、第１エッチングによりガラス基材１を得た後に、ガラス基材１の厚さ方向の流れを持つエッチャント中でガラス基材１をエッチング（第２エッチング）する。この第２エッチングにおいては、第１エッチングによりガラス基材１の端面１３に形成された最も突出する頂部１６を主にエッチングする。

第２エッチングは、ガラス基材１の厚さ方向の流れを持つエッチャント中で行われる。例えば、エッチング槽に収容されたエッチャント中に、第１エッチング終了後のガラス基材１をその主表面が液面と略平行になるようにして浸漬し、ガラス基材１の主表面に沿う方向に対して略垂直な方向（鉛直方向）に揺動させることによりエッチングを行う。この場合、ガラス基材１をエッチャント中に設置されたワークなどに固定し、このワークを鉛直方向に上下動（揺動）させる。第２エッチングは、ガラス基材１を板厚方向に積層させて、エッチャント中に浸漬し、主表面に沿う方向に対して鉛直方向に上下動（揺動）させてもよいし、または、ガラス基材１を積層させないで、１枚又は複数のガラス基材１をエッチャント中に浸漬し、主表面に沿う方向に対して鉛直方向に上下動（揺動）させてもよい。

あるいは、図３に示す装置を用いて、ガラス基材１を固定した状態でエッチングを行っても良い。図３に示す装置は、下部にバッフル板２２が取り付けられたエッチング槽２１を備えており、内側がエッチング領域２４であり、その外側がエッチャント貯留領域２３である。このような装置において、貯留領域２３の下方からエッチャントを供給し、貯留領域２３の上方からエッチング領域２４にエッチャントを流してエッチング領域２４においてエッチャントのダウンフローを作る。これがガラス基材１の厚さ方向の流れとなる。これにより、ガラス基材１に第２エッチングを行うことができる。なお、エッチング領域２４の下方からエッチャントが排出される。図３に示す構成は、いわゆるパラレルダウンフロータイプの構成であるが、本発明においては、ガラス基材１の厚さ方向の流れを作ることができれば、パラレルオーバーフロータイプの構成であっても良い。

この第２エッチングにおいて、エッチング時間は６００秒以下であることが好ましく、エッチャントの流速は５０ｃｍ／秒以下であることが好ましい。また、ガラス基材１を上下に揺動させる場合には、揺動サイクルは１０サイクル／秒以下であることが好ましい。また、エッチャントの温度は、１５℃〜６０℃であることが好ましい。さらに、生産性を考慮し、第２エッチングにおいては、ガラス基材１を複数枚積層させた状態で行っても良い。

このような第２エッチング（非等方エッチング）をガラス基材１の端面１３の頂部１６に施すことにより、図２に示すような端面形状を得ることができる。すなわち、断面視において端面１３の頂部１６が鈍角化（平坦化）された状態にすることができる。この頂部１６は、ＵＬ−１４３９に準拠するシャープエッジテストで表面から２層が切断されないエッジであることが好ましい。より好ましくは、頂部１６は、ＵＬ−１４３９に準拠するシャープエッジテストで全層が切断されないことである。

このようなガラス基材１においては、図１の断面視において、それぞれの主表面１１，１２と端面１３とで構成される２つのエッジ部１４，１５を結ぶ第１仮想線Ａに対する頂部１６からの最短距離Ｌと、ガラス基材１の厚さＤとの関係がＬ≦Ｄ／２を満足する。また、２つのエッジ部１４，１５と頂部１６との間をそれぞれ結ぶ２つの第２仮想線Ｂのなす角αが９０°以上１８０°以下である。

このようなガラス基材１は、頂部１６が鈍角化されているので、取り扱い中や搬送中に破損したり、チッピングが生じたりすることがないものである。また、本発明に係るガラス基材は、板状のガラス基板の主表面にレジストパターンを形成した後、前記レジストパターンをマスクとして、前記ガラス基板のエッチングが可能なエッチャントで前記ガラス基板をエッチングすることにより所望の形状に切り抜かれたものであり、かつ、ガラス基材１の端面１３は、溶解ガラス面で構成されてなり、該端面１３における表面粗さ（算術平均粗さＲａ）が１０ｎｍ以下となっている。このように、本発明に係るガラス基材は、エッチングにより外形を形成しているので、端面１３が非常に高い平滑性を有し、溶解ガラス面で構成されており、機械加工で形成された端面に必ず存在するマイクロクラックのない状態となり、高い機械的強度を発揮する。

なお、ガラス基材の機械的強度は、３点抗折強度（３点曲げ強さ）で５０００ｋｇｆ／ｃｍ^２以上が好ましく、さらに好ましくは、７０００ｋｇｆ／ｃｍ^２以上、最も好ましくは、１００００ｋｇｆ／ｃｍ^２以上であることが望ましい。

ガラス基材１としては、溶融ガラスから直接シート状に成形したもの、あるいは、ある厚さに成形されたガラス体を所定の厚さに切り出し、主表面を研磨して所定の厚さに仕上げたものなどを使用することができる。好ましくは、溶融ガラスから直接シート状に成形したものを使用することが好ましい。なぜなら、溶融ガラスから直接シート状に成形したガラス基板の主表面は、熱間成形された表面であり、極めて高い平滑性を有し、マイクロクラックのない表面状態を有するからである。溶融ガラスから直接シート状に成形する方法としては、ダウンドロー法、フロート法などが挙げられる。中でも、ダウンドロー法が好ましい。上述の高平滑性等の効果に加え、エッチング工程による外形加工を行う場合、ガラス基板の両主表面に形成されたレジストパターンをマスクにして、ガラス基材を両主表面からエッチングする際に、両主表面から均等にエッチングすることができるので、寸法精度もよく、ガラス基材の端面の断面形状も良好となるからである。ガラス基材１の厚さは、０．３ｍｍ以上１．３ｍｍ以下であることが好ましい。

ダウンドロー法によるガラス板成形が可能なガラスとしては、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｌｉ_２Ｏ及び／又はＮａ_２Ｏを含有したアルミノシリケートガラスが挙げられる。特に、アルミノシリケートガラスは、６２重量％〜７５重量％のＳｉＯ_２、５重量％〜１５重量％のＡｌ_２Ｏ_３、４重量％〜１０重量％のＬｉ_２Ｏ、４重量％〜１２重量％のＮａ_２Ｏ、及び５．５重量％〜１５重量％のＺｒＯ_２を含有することが好ましく、さらに、Ｎａ_２Ｏ／ＺｒＯ_２の重量比が０．５〜２．０であり、さらにＡｌ_２Ｏ_３／ＺｒＯ_２の重量比が０．４〜２．５である組成とすることが好ましい。

ＳｉＯ_２は、ガラス骨格を形成する主要成分である。携帯端末、特に携帯電話用カバーガラスは、人肌に触れたり、水や雨水などが接触したりするなど非常に厳しい環境下で使用されるが、このような環境化においても十分な化学的耐久性を要する必要がある。ＳｉＯ_２の割合は、前記化学的耐久性や、溶融温度を考慮すると、６２重量％〜７５重量％であることが好ましい。

Ａｌ_２Ｏ_３は、ガラス表面のイオン交換性能を向上させるため含有される。Ａｌ_２Ｏ_３の割合は、化学的耐久性や、耐失透性を考慮して、５重量％〜１５重量％であることが好ましい。

Ｌｉ_２Ｏは、ガラス表層部でイオン交換処理浴中の主としてＮａイオンとイオン交換されることにより、ガラスを化学強化する際の必須成分である。Ｌｉ_２Ｏの割合は、イオン交換性能や、耐失透性と化学的耐久性を考慮して、４重量％〜１０重量％であることが好ましい。

Ｎａ_２Ｏは、ガラス表層部でイオン交換処理浴中のＫイオンとイオン交換されることにより、ガラスを化学強化する際の必須成分である。Ｎａ_２Ｏの割合は、前記機械的強度や、耐失透性、化学的耐久性を考慮して、４重量％〜１２重量％であることが好ましい。

ＺｒＯ_２は、機械的強度を高める効果がある。ＺｒＯ_２の割合は、化学的耐久性や、均質なガラスを安定して製造することを考慮して、５．５重量％〜１５重量％であることが好ましい。

また、上述のアルミノシリケートガラスは、イオン交換処理により化学強化してガラス表面に圧縮応力層を形成することで機械的強度をさらに高めることが可能である。化学強化されたガラスとは、ガラスを構成するアルカリ金属イオンを、それよりもサイズが大きいアルカリ金属イオンで、イオン交換により置換することで強化されたガラスをいう。なお、アルミノシリケートガラスの代わりに、他の多成分系ガラスを用いても良い。また、ガラス基材として必要な透明性が確保されるのであれば、結晶化ガラスを用いても良い。

また、イオン交換処理条件としては、硝酸カリウム（ＫＮＯ_３）の単塩、硝酸ナトリウム（ＮａＮＯ_３）の単塩、及び硝酸カリウムと硝酸ナトリウムを任意の重量比で混合した混合塩を使用しても良く、温度は３５０℃〜４５０℃、時間は１時間〜２０時間の範囲で選択すれば良い。

次に、本発明の効果を明確にするために行った実施例について説明する。
（実施例１）
まず、ＳｉＯ_２を６３．５重量％、Ａｌ_２Ｏ_３を８．２重量％、Ｌｉ_２Ｏを８．０重量％、Ｎａ_２Ｏを１０．４重量％、ＺｒＯ_２を１１．９重量％含むアルミノシリケートガラスをダウンドロー法により、板厚０．５１ｍｍの板状のガラス基板（シート状ガラス）に成形した。このダウンドロー法により形成されたシート状ガラスの主表面の表面粗さ（算術平均粗さＲａ）を、原子間力顕微鏡により調べたところ０．２ｎｍであった。

次いで、シート状ガラスの両主表面上にネガ型の耐フッ酸性レジストを厚さ３２μｍでコーティングし、この耐フッ酸性レジストに対して１００℃で３０分のベーキング処理（プリベーク）を施した。次いで、所定のパターンを有するフォトマスクを介して耐フッ酸性レジストに対し両面から３００ｍＪ／ｃｍ²のエネルギーで露光し、露光後の耐フッ酸性レジストを現像液（Ｎａ_２ＣＯ_３溶液）を用いて現像してシート状ガラス上の被エッチング領域以外の領域に耐フッ酸性レジストを残存させたレジストパターンを形成した。さらに、レジストパターンが形成されたシート状ガラスを、２５０℃で３０分のベーキング処理（ポストベーク）を施した。

次いで、エッチャントとしてフッ酸（１５重量％）と硫酸（２４重量％）の混酸水溶液（４０℃）を用いて、レジストパターンをマスクにして、シート状ガラスを両主表面側から被エッチング領域を第１エッチングして所定の形状に切り抜いた。

次いで、このガラス基材をワークに固定し、エッチャント（フッ酸（１５重量％）と硫酸（２４重量％）の混酸水溶液（４０℃））が入ったエッチング槽に設置された昇降可能なワーク台上に載置し、ワーク台を上下動させてガラス基材に対して第２エッチングを行った。このとき、エッチャントの流速が２ｃｍ／秒となるようにワーク台を上下動させ、エッチング時間を２４０秒とした。その後、ＮａＯＨ溶液を用いてガラス上に残存した耐フッ酸性レジストを膨潤させてガラスから剥離し、リンス処理を行った。このようにして実施例１のガラス基材を得た。また、このガラス基材に対して、硝酸ナトリウム（ＮａＮＯ_３）と硝酸カリウム（ＫＮＯ_３）の比率（ＮａＮＯ_３：ＫＮＯ_３）を、重量比４：６で混合した熔融塩中で、３８０℃、２時間浸漬して、イオン交換処理して化学強化を行った。

得られたガラス基材について、図１における２つのエッジ部１４，１５を結ぶ第１仮想線Ａに対する頂部１６からの最短距離Ｌを測定した。また、断面視において、２つのエッジ部１４，１５と頂部１６との間をそれぞれ結ぶ２つの第２仮想線のなす角αを測定した。さらに、化学強化前後の抗折強度測定及びシャープエッジテストを行った。抗折強度測定前には、ガラス基材に対して、４０ｋＨｚの超音波を２１分間印加しながら洗浄処理を行った（加傷処理）。その結果を下記表１に示す。

なお、抗折強度測定は、図４（ａ）に示すように、ガラス基材１を一定距離に配置された２支持体（支点）２５，２６上に置き、支持体２５，２６間の中央の１点に荷重体２７を介して荷重を加えて、破壊したときの最大曲げ応力を測定することにより行った。この３点曲げ強さは、支点間距離、基板幅、基板厚さに依存するため、次式により規格化を行った。
σ＝（３ＰＬ）／（２ｗｔ²）
ここで、σは３点曲げ強さ（ｋｇｆ／ｃｍ²）を示し、Ｐはガラス基材が破壊したときの最大荷重（ｋｇｆ）を示し、Ｌは支持体２５，２６間距離（ｃｍ）を示し、ｗは図４（ｂ）に示すようにガラス基材幅（ｃｍ）を示し、ｔは図４（ｂ）に示すようにガラス基材の厚さ（ｃｍ）を示す。

シャープエッジテストは、エクセル株式会社製シャープエッジテスターＳＥＴ−５０とテープキットＴＣ−３を用い、ＵＬ−１４３９（機器の縁の鋭さの判定）に準拠した方法により行った。なお、テープキットＴＣ−３は、図５に示すように、直径１２．７ｍｍのヘッド３４に積層された、指の柔らかさを想定した３層のテープ３１〜３３を持つキットであり、シャープエッジテスターＳＥＴ−５０はそれを被測定エッジに一定荷重で押し付けるためのツールである。具体的には、シャープエッジテスターＳＥＴ−５０に取り付けられたテープキットＴＣ−３を一定荷重（図５における矢印方向：６．６７Ｎ）で被測定エッジ（ガラス基材の端面の頂部）に接触させる。その荷重を保ったまま、頂部に沿ってテープキットＴＣ−３を往復１００ｍｍ（片道５０ｍｍ）移動させる。

（実施例２）
第２エッチングにおいてエッチャントの流速が６ｃｍ／秒となるようにワーク台を上下動させ、エッチング時間を２４０秒とすること以外は実施例１と同様にして実施例２のガラス基材を得た。また、実施例２のガラス基材に対して実施例１と同様の条件でガラス基材に対して化学強化を行った。得られたガラス基材について、最短距離Ｌ及び２つの第２仮想線のなす角αを測定し、化学強化前後の抗折強度測定及びシャープエッジテストを行った。その結果を下記表１に併記する。

（実施例３）
第２エッチングにおいてエッチャントの流速が３０ｃｍ／秒となるようにワーク台を上下動させ、エッチング時間を２４０秒とすること以外は実施例１と同様にして実施例３のガラス基材を得た。また、実施例３のガラス基材に対して実施例１と同様の条件でガラス基材に対して化学強化を行った。得られたガラス基材について、最短距離Ｌ及び２つの第２仮想線のなす角αを測定し、化学強化前後の抗折強度測定及びシャープエッジテストを行った。その結果を下記表１に併記する。

（比較例）
第２エッチングを行わず、第１エッチングして所定の形状に切り抜いたガラス基材を、ＮａＯＨ溶液を用いてガラス基材上に残存した耐フッ酸性レジストを膨潤させてガラス基材から剥離し、リンス処理を行って実施例１と同様にして比較例のガラス基材を得た。また、比較例のガラス基材に対して実施例１と同様の条件でガラス基材に対して化学強化を行った。得られたガラス基材について、最短距離Ｌ及び２つの第２仮想線のなす角αを測定し、化学強化前後の抗折強度測定及びシャープエッジテストを行った。その結果を下記表１に併記する。

表１から分かるように、実施例１〜実施例３のガラス基材は、距離Ｌが短く、なす角αが鈍角であり、ガラス基材の厚さの半分以下であるので、頂部が鋭利でなく、しかも３点抗折強度（３点曲げ強さ）が５０００ｋｇｆ／ｃｍ^２以上で機械的強度が高いものであった。これは、第２エッチングにより頂部が鈍角化されたため、加傷処理を施しても劈開の起点となるものがないので、３点抗折強度（３点曲げ強さ）が高くなると考えられる。一方、比較例のガラス基材は、距離Ｌが長く、なす角αが鋭角であり、ガラス基材の厚さの半分を超えるので、頂部が鋭利であり、シャープエッジテストで不合格であった。また、３点抗折強度（３点曲げ強さ）も５０００ｋｇｆ／ｃｍ^２を遥かに下回るものであった。これは、第２エッチングがないために頂部が鋭利であり、加傷処理により劈開の起点となるものがあるため、３点抗折強度（３点曲げ強さ）が低くなると考えられる。

本発明は上記実施の形態に限定されず、適宜変更して実施することができる。例えば、上記実施の形態における材料や処理手順などは一例であり、本発明の効果を発揮する範囲内において種々変更して実施することが可能である。その他、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施することが可能である。

１ガラス基材
１１，１２主表面
１３端面
１４，１５エッジ部
１６頂部
１７レジストパターン
２５，２６支持体
２７荷重体
３１〜３３テープ
３４ヘッド

Claims

板状のガラス基板がその両主表面からエッチングされることによって所望の形状に切り抜かれてなり、一対の主表面と、前記ガラス基板がエッチングされて切り抜かれたことにより形成された端面とを持つ携帯機器用カバーガラスのガラス基材であって、
前記端面における前記主表面の面方向外側へ突出する頂部は、ＵＬ（Underwriters Laboratories）−１４３９に準拠するシャープエッジテストで表面から２層が切断されない形状であり、
前記ガラス基材は、イオン交換処理により化学強化されたガラスであることを特徴とする携帯機器用カバーガラスのガラス基材。
前記頂部は、前記ガラス基材の板厚方向への流れをもつエッチャントでエッチング処理されたことによって形成されたことを特徴とする請求項１に記載の携帯機器用カバーガラスのガラス基材。
前記ガラス基材は、断面視において、それぞれの前記主表面と前記端面とで構成される２つのエッジ部と前記頂部との間をそれぞれ結ぶ２つの仮想線のなす角αが、前記ガラス基材の板厚方向への流れをもつエッチャントでエッチング処理されたことによって９０°以上１８０°以下とされていることを特徴とする請求項２に記載の携帯機器用カバーガラスのガラス基材。
前記ガラス基材の３点抗折強度は、５０００ｋｇｆ／ｃｍ^２以上であることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載の携帯機器用カバーガラスのガラス基材。
前記ガラス基材は、断面視において、前記一対の主表面のそれぞれと前記端面とで構成される２つのエッジ部を結ぶ仮想線に対する、前記端面において最も突出する頂部からの最短距離Ｌと、前記ガラス基材の厚さＤとの関係がＬ≦０．０６×Ｄを満足することを特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記載の携帯機器用カバーガラスのガラス基材。
前記ガラス基材は、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｌｉ_２Ｏ及びＮａ_２Ｏからなる群から選ばれた少なくとも一つを含有したアルミノシリケートガラスであることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれかに記載の携帯機器用カバーガラスのガラス基材。
請求項１から請求項６のいずれかに記載の前記携帯機器用カバーガラスのガラス基材から得られたことを特徴とする携帯機器用カバーガラス。