JP5073026B2 - Liquid crystal display - Google Patents
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Description
この発明は、表示品質を向上させることができる液晶表示装置に関し、特に、外部光(外光)を反射して表示を行う反射モードと、バックライトの光を透過して表示を行う液晶表示装置に関するものである。 The present invention relates to a liquid crystal display device capable of improving display quality, and in particular, a reflection mode for performing display by reflecting external light (external light) and a liquid crystal display device for performing display by transmitting light from a backlight. It is about.
近年、液晶表示装置はテレビやパーソナルコンピューター等に使用される大型なものから、携帯情報端末に使用される中小型のものまで幅広い用途に用いられている。これらの液晶表示装置は、それぞれの用途により使い分けられ、屋内で使用されるテレビ等には主に透過型液晶表示装置が用いられており、屋外で使用される携帯情報端末においては外光の反射手段を具備した反射型液晶表装置が用いられている。 In recent years, liquid crystal display devices have been used in a wide range of applications, from large-sized devices used for televisions and personal computers to medium-sized devices used for portable information terminals. These liquid crystal display devices are selectively used according to their respective uses, and transmissive liquid crystal display devices are mainly used for televisions and the like used indoors. Reflection of external light is required for portable information terminals used outdoors. A reflection type liquid crystal surface device provided with means is used.
また、反射型と透過型の領域機能を持ち合わせた反射半透過型液晶表示装置は、太陽光、蛍光灯等の外部(外界)からの光を利用する反射型として用い、また、液晶表示パネルの表示面の反対側に配置したバックライトの光を利用する透過型とが併用されていた。このような双方の機能を有する液晶表示装置は、液晶表示パネルの裏面側(表示面と反対側の面)にバックライトを配置するとともに、この裏面側である他方の透明基板に半透過膜を形成していた。 In addition, a reflective transflective liquid crystal display device having both reflective and transmissive area functions is used as a reflective type that utilizes light from the outside (external environment) such as sunlight and fluorescent lamps, and is also used for liquid crystal display panels. A transmissive type using light from a backlight disposed on the opposite side of the display surface has been used in combination. In such a liquid crystal display device having both functions, a backlight is disposed on the back surface side (surface opposite to the display surface) of the liquid crystal display panel, and a translucent film is provided on the other transparent substrate on the back surface side. Was forming.
これらの半透過型液晶表示装置には、液晶層内に反射半透過手段を形成していた。この反射半透過膜は、実質的に1つの画素領域内の一部に、金属反射膜を形成し、この金属反射膜を形成した領域を反射領域として、また、金属反射膜が形成されていない領域を透過領域としていた。この反射半透過手段は、1つの画素領域内の構造により規定するものであり、複数の画素領域に跨がって複数の透明誘電体層を積層して反射半透過膜を形成して、外光に対しては反射半透過膜の表面、またはその誘電体層の界面で反射させるとともに、バックライトの光についてはこの反射半透過膜に透過させるようにしていた。しかし、反射半透過手段として、反射半透過膜を用いる場合、光の損失が大きくなるという問題があった。 In these transflective liquid crystal display devices, reflective transflective means are formed in the liquid crystal layer. This reflective semi-transmissive film is formed by forming a metal reflective film substantially in a part of one pixel region, using the region where the metal reflective film is formed as a reflective region, and no metal reflective film is formed. The region was a transmission region. This reflective transflective means is defined by the structure in one pixel region, and a plurality of transparent dielectric layers are stacked over a plurality of pixel regions to form a reflective transflective film, The light is reflected on the surface of the reflective semi-transmissive film or the interface of the dielectric layer, and the light of the backlight is transmitted through the reflective semi-transmissive film. However, when a reflective transflective film is used as the reflective transflective means, there is a problem that the loss of light increases.
また、画素領域内に反射領域と透過領域とを形成すべく、金属反射膜として例えばアルミニウムなどの金属を蒸着し、透過領域を形成すべくパターンニングしていた。 Further, in order to form a reflective region and a transmissive region in the pixel region, a metal such as aluminum is deposited as a metal reflective film and patterned to form a transmissive region.
図3は、金属反射膜を用いた従来の半透過型の液晶表示装置の断面であり、図4は一方の透明基板側の拡大断面図である。半透過型の液晶表示装置は液晶表示パネルとバックライトとから構成されるが、ここで、バックライトを省略して説明している。 FIG. 3 is a cross-sectional view of a conventional transflective liquid crystal display device using a metal reflective film, and FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view of one transparent substrate side. The transflective liquid crystal display device includes a liquid crystal display panel and a backlight. Here, the backlight is omitted from the description.
液晶表示パネルLPは、表示面側の他方の透明基板である例えばガラス基板2と、裏面側の一方の透明基板である例えばガラス基板11と、その間に配置された液晶層10とから構成されている。尚、ガラス基板11、2の各内面側には多数の透明電極4、5が平行に配列されている。 The liquid crystal display panel LP includes, for example, a glass substrate 2 that is the other transparent substrate on the display surface side, a glass substrate 11 that is one transparent substrate on the back surface side, and a liquid crystal layer 10 disposed therebetween. Yes. A large number of transparent electrodes 4 and 5 are arranged in parallel on the inner surfaces of the glass substrates 11 and 2.
尚、ガラス基板2の透明電極5は、例えば他方方向、図3では左右方向に延びるように形成されており、ガラス基板11の透明電極40は、例えば一方方向、図4では紙面奥行き方向に延びるように形成されている。即ち、ガラス基板2とガラス基板11とを対向させて、その間に液晶層10を介在させるように配置して、シール部材で両基板11、2を貼り合わせていた。このガラス基板11の透明電極40と透明基板2の透明電極5とが互いに交差し、この交差領域によって画素領域を構成している。このような画素領域が縦横
に配列され、全体として所定表示情報を表示する表示領域を構成している。そして、この表示領域に対応する各基板11、2上、即ち、複数の透明電極40、5に跨がって被覆するように配向膜7、8が形成されている。
The transparent electrode 5 of the glass substrate 2 is formed so as to extend in the other direction, for example, in the left-right direction in FIG. 3, and the transparent electrode 40 of the glass substrate 11 extends in, for example, one direction, in FIG. It is formed as follows. That is, the glass substrate 2 and the glass substrate 11 are opposed to each other, and the liquid crystal layer 10 is disposed therebetween, and the both substrates 11 and 2 are bonded together by the sealing member. The transparent electrode 40 of the glass substrate 11 and the transparent electrode 5 of the transparent substrate 2 intersect each other, and a pixel region is configured by this intersecting region. Such pixel areas are arranged vertically and horizontally to constitute a display area for displaying predetermined display information as a whole. Then, alignment films 7 and 8 are formed so as to cover the substrates 11 and 2 corresponding to the display area, that is, to cover the plurality of transparent electrodes 40 and 5.
尚、図では省略するが、液晶表示パネルのガラス基板11、2の外面側には偏光板、位相差板が順次被着されている。 Although not shown in the drawing, a polarizing plate and a retardation plate are sequentially attached to the outer surface side of the glass substrates 11 and 2 of the liquid crystal display panel.
また、ガラス基板11の外面側には、バックライトが配置される。そして、液晶表示パネルの複数の画素領域で構成される表示領域に、バックライトが対応して、バックライトからの光が表示領域を介して表示面に放出される。 A backlight is disposed on the outer surface side of the glass substrate 11. A backlight corresponds to a display area composed of a plurality of pixel areas of the liquid crystal display panel, and light from the backlight is emitted to the display surface through the display area.
ここで、反射領域、透過領域の構成を説明すると、図4に示すように、一方の透明基板であるガラス基板11の画素領域に相当するように透明電極40が形成される。そして、この透明電極40で画素領域に相当する領域の一部に、金属反射膜30を形成する。即ち、この金属反射膜30が形成された領域が反射領域として作用する。また、画素領域で金属反射膜30が形成されていない領域が、バックライトの光を透過させることができ、透過領域となる。 Here, the structure of the reflection region and the transmission region will be described. As shown in FIG. 4, the transparent electrode 40 is formed so as to correspond to the pixel region of the glass substrate 11 which is one of the transparent substrates. Then, the metal reflective film 30 is formed in a part of the region corresponding to the pixel region with the transparent electrode 40. That is, the region where the metal reflection film 30 is formed functions as a reflection region. In addition, a region where the metal reflective film 30 is not formed in the pixel region can transmit the light of the backlight and becomes a transmission region.
また、透明電極40上に形成された金属反射膜30を被覆するように絶縁膜60が形成されている。この絶縁膜60は、複数の画素領域に跨がって、即ち、表示領域の全面に形成される。さらに、この絶縁膜60の上面には、樹脂製の配向膜7が形成されている。配向膜7は、液晶層10の液晶分子のねじれを制御するものであり、配向膜7を形成したのちにラビング処理が施される。絶縁膜60は、透明電極40上に、透明電極40の形状よりも小さな金属反射膜30が積層されており、透明電極40のエッヂや金属反射膜30の段差部分を緩和して、配向膜7を形成して、ラビング処理したときに、配向膜7の剥がれを防止したり、また、液晶層10中に導電異物が存在するときに発生する異物による短絡を防止するものである。尚、符号9は、一方の透明基板2と他方の透明基板1との間、即ち、液晶層10の厚みを一定にするためのスペーサである。 Further, an insulating film 60 is formed so as to cover the metal reflective film 30 formed on the transparent electrode 40. The insulating film 60 is formed across a plurality of pixel areas, that is, over the entire display area. Further, an alignment film 7 made of resin is formed on the upper surface of the insulating film 60. The alignment film 7 controls the twist of the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 10 and is subjected to a rubbing process after the alignment film 7 is formed. The insulating film 60 is formed by laminating a metal reflective film 30 smaller than the shape of the transparent electrode 40 on the transparent electrode 40, and relaxes the edge of the transparent electrode 40 and the stepped portion of the metal reflective film 30, thereby aligning the alignment film 7. When the film is formed and rubbed, the alignment film 7 is prevented from being peeled off, and a short circuit caused by a foreign matter that occurs when a conductive foreign matter is present in the liquid crystal layer 10 is prevented. Reference numeral 9 denotes a spacer for making the thickness of the liquid crystal layer 10 constant between one transparent substrate 2 and the other transparent substrate 1.
上述の半透過型液晶表示装置、特に、液晶層10の液晶分子のねじれが180〜270°に設定されているSTN型の半透過型液晶表示装置においては、透明基板であるガラス基板11上の透明電極40の配線抵抗が高いと、クロストーク、濃度勾配等の表示特性が悪化するために、できるだけ配線抵抗を小さくしなければならない。そこで、表示領域に金属反射膜を形成すると同時に、配線部に金属膜を形成し、配線部の低抵抗化を図る工夫がなされている。より低抵抗化のために、このため、金属反射膜30は、結果として膜厚がより厚くなる傾向となる。 In the above-described transflective liquid crystal display device, in particular, the STN transflective liquid crystal display device in which the twist of the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 10 is set to 180 to 270 °, the glass substrate 11 which is a transparent substrate is used. If the wiring resistance of the transparent electrode 40 is high, display characteristics such as crosstalk and concentration gradient deteriorate, so the wiring resistance must be made as small as possible. In view of this, a device has been devised in which a metal reflection film is formed in the display region and a metal film is formed in the wiring portion to reduce the resistance of the wiring portion. Therefore, the metal reflective film 30 tends to be thicker as a result.
しかしながら、金属反射膜30を厚くすると、画素領域内での金属反射膜30の段差が大きくなり、絶縁膜60にクラックができるという問題点があった。この段差部での絶縁膜60のクラックは、図4のB部で発生するものである。これは、金属反射膜30の膜厚
の増加にともない、この金属反射膜30が形成された透明電極40上で、特に金属反射膜30の周囲で、この絶縁膜60の膜厚が増加し、その膜厚がある程度以上になると、膜の内部応力が集中してクラックがはいるためである。
However, when the metal reflection film 30 is made thick, the level difference of the metal reflection film 30 in the pixel region becomes large, and there is a problem that the insulating film 60 can be cracked. The crack of the insulating film 60 at the step portion is generated at a portion B in FIG. This is because the film thickness of the insulating film 60 increases on the transparent electrode 40 on which the metal reflective film 30 is formed, particularly around the metal reflective film 30, as the film thickness of the metal reflective film 30 increases. This is because when the film thickness exceeds a certain level, the internal stress of the film concentrates and cracks occur.
その結果、絶縁膜60のクラック部分から、絶縁膜60上の配向膜7が剥離してしまい、その結果、液晶層10の液晶分子の制御ができず、安定した表示ができないという問題点があった。 As a result, the alignment film 7 on the insulating film 60 is peeled off from the crack portion of the insulating film 60. As a result, the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 10 cannot be controlled and stable display cannot be performed. It was.
本発明は、上述の問題点に鑑みて案出されたものであり、その目的は、透明電極、金属反射膜、絶縁膜の3者の構造を改良し、絶縁膜に剥がれやクラックが発生することがなく、配向膜を安定的に維持でき、もって、液晶表示を安定化させることができる液晶表示装置を提供するものである。 The present invention has been devised in view of the above-mentioned problems, and its purpose is to improve the three-part structure of a transparent electrode, a metal reflection film, and an insulating film, and peeling or cracking occurs in the insulating film. Therefore, the present invention provides a liquid crystal display device that can stably maintain the alignment film and can stabilize the liquid crystal display.
本発明の液晶表示装置における一態様は、一対の透明基板と、前記一対の透明基板の間に介在される液晶層と、前記一対の透明基板のうち一方の透明基板上に設けられている反射膜と、前記反射膜を覆うように前記一方の透明基板上に設けられている透明電極と、前記透明電極上に設けられている絶縁膜と、を備え、前記透明電極は、前記反射膜上に位置する第1部位、前記反射膜の端部よりも外方に位置しており前記反射膜よりも厚みが小さい第2部位、前記第1部位と前記第2部位とを接続しており前記第2部位に近づくにつれて厚みが小さくなっている第3部位を有していることを特徴とする。 One aspect of the liquid crystal display device of the present invention is provided with a transparent substrate of a pair, and a liquid crystal layer interposed between the pair of transparent substrates, on one of the transparent substrate of the pair of transparent substrates a reflective film, said comprising: a transparent electrode which is the provided on one transparent substrate so as to cover the reflective film, and an insulating film provided on the transparent conductive electrode, wherein the transparent electrode, the reflective layer A first part located above, a second part located outside the end of the reflective film and having a smaller thickness than the reflective film, and connecting the first part and the second part It has the 3rd site | part which becomes thin as it approaches the said 2nd site | part, It is characterized by the above-mentioned .
本発明によれば、表示領域に反射領域と透過領域を有し、反射領域には、金属反射膜を有している。そして、反射領域を規定する金属反射膜は透明基板と透明電極との間に形成されている。即ち、一方のガラス基板上には、反射領域に金属反射膜が形成され、この金属反射膜が形成された反射領域及び透過領域に連続して透明電極が形成され、この透明電極を含む表示領域に絶縁膜が形成され、さらに絶縁膜上に配向膜が形成されている。 According to the present invention, the display area has the reflection area and the transmission area, and the reflection area has the metal reflection film. A metal reflection film that defines the reflection region is formed between the transparent substrate and the transparent electrode. That is, on one glass substrate, a metal reflective film is formed in a reflective region, and a transparent electrode is formed continuously in the reflective region and the transmissive region where the metal reflective film is formed, and a display region including the transparent electrode. An insulating film is formed on the insulating film, and an alignment film is formed on the insulating film.
このため、金属反射膜は、透明電極で被覆されているため、金属反射膜のエッヂ部分が緩和されて、この部分における段切れが有効に防止できる。 For this reason, since the metal reflection film is covered with the transparent electrode, the edge portion of the metal reflection film is relaxed, and disconnection at this portion can be effectively prevented.
さらに、透明電極やこの透明電極に接続する配線部の低抵抗化を図るために、配線部と同時に形成される金属反射膜の厚みを厚く設定し、結果として、金属反射膜の厚みが増加しても、金属反射膜の周囲部分には透明電極が存在し、さらに、この透明電極上に無機絶縁膜が形成されるため、無機絶縁膜の厚みが金属反射膜の上部の無機絶縁膜の厚みと、金属反射膜の周囲の無機絶縁膜の厚みの差が小さくなり、無機絶縁膜の均一化が達成でき、これにより、従来集中しやすかった金属反射膜の周囲における無機絶縁膜内部応力を有効に低減でき、その結果、無機絶縁膜に発生したクラックの発生がなく、配向膜の剥がれが一切なくなり、配向膜を安定的に維持でき、もって、液晶表示を安定化させるものである。 Furthermore, in order to reduce the resistance of the transparent electrode and the wiring part connected to the transparent electrode, the thickness of the metal reflective film formed simultaneously with the wiring part is set thick, and as a result, the thickness of the metal reflective film increases. However, since there is a transparent electrode around the metal reflective film, and an inorganic insulating film is formed on the transparent electrode, the thickness of the inorganic insulating film is the thickness of the inorganic insulating film above the metal reflective film. And the difference in thickness of the inorganic insulating film around the metal reflective film is reduced, and the inorganic insulating film can be made uniform. This makes it possible to effectively use the internal stress of the inorganic insulating film around the metal reflective film, which was easily concentrated in the past. As a result, there is no generation of cracks in the inorganic insulating film, the peeling of the alignment film is eliminated, the alignment film can be stably maintained, and the liquid crystal display is stabilized.
以下、本発明の液晶表示装置を図面に基づいて説明する。 The liquid crystal display device of the present invention will be described below with reference to the drawings.
図1は、本発明の液晶表示装置の断面であり、図2は一方の透明基板側の拡大断面図である。本発明の液晶表示装置は液晶表示パネルLpとバックライトBLとから構成される。尚、図3、図4と同一箇所には同一符号を付す。 FIG. 1 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device of the present invention, and FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of one transparent substrate side. The liquid crystal display device of the present invention comprises a liquid crystal display panel Lp and a backlight BL. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to FIG. 3, FIG. 4 and an identical location.
図1に示す液晶表示装置を構成する液晶表示パネルLPは、一方の透明基板である例えばガラス基板1と、他方の透明基板である例えばガラス基板2と、その間に配置された液晶層10とから構成されている。 A liquid crystal display panel LP constituting the liquid crystal display device shown in FIG. 1 includes, for example, a glass substrate 1 that is one transparent substrate, a glass substrate 2 that is the other transparent substrate, and a liquid crystal layer 10 disposed therebetween. It is configured.
一方のガラス基板1及び他方のガラス基板2の各内面側には、画素領域を構成するための多数の透明電極4、5が平行に配列されている。例えば一方のガラス基板1の透明電極4は、一方方向、例えば図1の紙面奥行き方向に延びるように形成されており、他方のガラス基板2の透明電極5は、他方方向、例えば図1の左右方向に延びている。即ち、一方のガラス基板1と他方のガラス基板2とを対向させて配置した時には、両基板1、2の透明電極4、5が互いに交差する。これにより、他方のガラス基板2側から目視したときに、透明電極4、5の交差部分が画素領域となる。そして、この画素領域が複数個縦横に配列され、その全体で表示領域を構成する。そして、透明電極4、5上には、液晶層10に接するように配向膜7、8が形成されている。 On each inner surface side of one glass substrate 1 and the other glass substrate 2, a large number of transparent electrodes 4 and 5 for constituting a pixel region are arranged in parallel. For example, the transparent electrode 4 of one glass substrate 1 is formed to extend in one direction, for example, the depth direction in FIG. 1, and the transparent electrode 5 of the other glass substrate 2 is formed in the other direction, for example, left and right in FIG. Extending in the direction. That is, when one glass substrate 1 and the other glass substrate 2 are arranged to face each other, the transparent electrodes 4 and 5 of both substrates 1 and 2 intersect each other. Thereby, when visually observed from the other glass substrate 2 side, the intersection of the transparent electrodes 4 and 5 becomes a pixel region. A plurality of the pixel areas are arranged vertically and horizontally, and the whole constitutes a display area. Then, alignment films 7 and 8 are formed on the transparent electrodes 4 and 5 so as to be in contact with the liquid crystal layer 10.
液晶層10は、ネマチック型液晶分子などで構成され、液晶層10の厚みを一定に保つようにスペーサ9が分散されている。この液晶層10の液晶分子は、配向膜7の配向処理方向、液晶層10に含有するカイラル物質などの制御により、駆動電圧の非印加状態で180°〜270°ツイストされるように制御されている。尚、両基板1、2は、図には省略しているが、シール部材によって貼り合わされており、貼り合わされた領域内に液晶層10が充填されている。 The liquid crystal layer 10 is composed of nematic liquid crystal molecules or the like, and spacers 9 are dispersed so as to keep the thickness of the liquid crystal layer 10 constant. The liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 10 are controlled to be twisted by 180 ° to 270 ° in a state where no driving voltage is applied, by controlling the alignment treatment direction of the alignment film 7 and the chiral substance contained in the liquid crystal layer 10. Yes. Although not shown in the drawing, both the substrates 1 and 2 are bonded together by a sealing member, and the liquid crystal layer 10 is filled in the bonded region.
また、液晶表示パネルLPの一方のガラス基板1、他方のガラス基板2の外面側には、図では省略しているが、それぞれ偏光板、位相差板が被着されている。また、必要に応じて光を散乱、拡散させるための光散乱層を設けてもよい。 Further, although not shown in the drawing, a polarizing plate and a retardation plate are respectively attached to the outer surface side of one glass substrate 1 and the other glass substrate 2 of the liquid crystal display panel LP. Moreover, you may provide the light-scattering layer for scattering and diffusing light as needed.
バックライトBLは、例えば導光板と光源とから構成され、一方のガラス基板1の外方に配置されている。具体的には、液晶表示パネルLPとバックライトBLとは、両者を支持固定するフレーム部材によって所定位置関係に固定されている。即ち、液晶表示パネルLPの複数の画素領域で構成される表示領域とバックライトBLの導光板の光放出面とが互いに対向するように配置される。 The backlight BL is composed of, for example, a light guide plate and a light source, and is disposed outside one glass substrate 1. Specifically, the liquid crystal display panel LP and the backlight BL are fixed in a predetermined positional relationship by a frame member that supports and fixes them. That is, the display area composed of a plurality of pixel areas of the liquid crystal display panel LP and the light emission surface of the light guide plate of the backlight BL are arranged to face each other.
ここで、図2の拡大断面図で示すように、一方のガラス基板1の内面と透明電極4との間には、画素領域内に反射領域を構成する金属反射膜3が形成されている。そして、画素領域内でこの金属反射膜が形成されていない領域が透過領域となる。即ち、1つの画素領域内に形成された反射領域と透過領域とでその層構造が相違する。 Here, as shown in the enlarged sectional view of FIG. 2, a metal reflection film 3 constituting a reflection region is formed in the pixel region between the inner surface of one glass substrate 1 and the transparent electrode 4. And the area | region in which this metal reflective film is not formed in a pixel area turns into a transmissive area | region. That is, the layer structure is different between the reflective region and the transmissive region formed in one pixel region.
ガラス基板1の内面には、例えば膜厚500〜5000Åのアルミニウム、クロム、銀などの金属反射膜3が形成されている。このアルミニウム、クロム、銀以外に、アルミニウム合金、クロム合金、銀合金でなどであってもよい。 On the inner surface of the glass substrate 1, for example, a metal reflective film 3 made of aluminum, chromium, silver or the like having a film thickness of 500 to 5000 mm is formed. In addition to aluminum, chromium, and silver, an aluminum alloy, a chromium alloy, a silver alloy, and the like may be used.
この金属反射膜3は、透明電極4を形成する以前に形成されるものであり、単に外光を反射させるとともに、金属反射膜3が透明電極4の抵抗値を低減するための配線部として活用できる。この反射領域を規定する金属反射膜3は、図1、図2の紙面奥行き方向に透明電極4と同様にストライプ状に形成することができる。これにより、透明電極4の下部には複数の画素領域に連続したこの金属膜が存在することになり、さらに、表示領域以外では、この透明電極4に所定駆動電圧を供給する配線部として利用される。透明電極4は、金属反射膜3上に、金属反射膜3の段差を覆うように、膜厚500〜2000ÅのITO(酸化インジウム・錫)や酸化錫ITO等から形成される。この透明電極4は、ITO(酸化インジウム・錫)や酸化錫などの金属酸化膜からなるため、抵抗値が金属単体に比
較して高抵抗となってしまう。このような透明電極4の下部に抵抗値の小さい金属膜(金属反射膜)を形成することにより、透明電極4全体の抵抗値を低下させ、駆動電圧の電圧降下を有効に防止でき、安定した液晶表示を行うためには有効である。
The metal reflection film 3 is formed before the transparent electrode 4 is formed. The metal reflection film 3 simply reflects external light, and the metal reflection film 3 is used as a wiring portion for reducing the resistance value of the transparent electrode 4. it can. The metal reflection film 3 that defines the reflection region can be formed in a stripe shape in the depth direction of the paper surface of FIGS. As a result, the metal film continuous to the plurality of pixel regions is present below the transparent electrode 4, and is used as a wiring portion for supplying a predetermined driving voltage to the transparent electrode 4 outside the display region. The The transparent electrode 4 is formed of ITO (indium tin / tin oxide), tin oxide ITO or the like having a thickness of 500 to 2000 mm on the metal reflective film 3 so as to cover the step of the metal reflective film 3. Since the transparent electrode 4 is made of a metal oxide film such as ITO (indium tin oxide) or tin oxide, the resistance value is higher than that of a single metal. By forming a metal film (metal reflective film) having a small resistance value below the transparent electrode 4 as described above, the resistance value of the entire transparent electrode 4 can be reduced, and the voltage drop of the driving voltage can be effectively prevented and stabilized. It is effective for performing liquid crystal display.
このように、透明電極4においては、透明電極4の幅方向の中央部付近に金属反射膜3が帯び状に形成され、反射領域となり、透明電極4の幅方向の両端部が透過領域となる。即ち、バックライトからの光は、この透過領域を通過することになる。 As described above, in the transparent electrode 4, the metal reflective film 3 is formed in a band shape in the vicinity of the central portion in the width direction of the transparent electrode 4 to be a reflective region, and both end portions in the width direction of the transparent electrode 4 are transmissive regions. . That is, light from the backlight passes through this transmission region.
また、複数の透明電極4上には、共通した無機絶縁膜6が形成されている。即ち、無機絶縁膜6は、縦横に配列された画素領域から構成される表示領域に形成される。このため、透明電極4及び透明電極4間から露出するガラス基板1上に形成されることになる。 A common inorganic insulating film 6 is formed on the plurality of transparent electrodes 4. That is, the inorganic insulating film 6 is formed in a display area composed of pixel areas arranged vertically and horizontally. For this reason, it forms on the glass substrate 1 exposed from between the transparent electrodes 4 and the transparent electrodes 4.
この無機絶縁膜6は、液晶層10に導電異物が混入した場合、基板間の短絡や透明電極間の短絡を防止するために形成されるとともに、同時に、その上面に形成された配向膜7の接着強度を向上させるものである。 This inorganic insulating film 6 is formed in order to prevent short circuit between substrates and short circuit between transparent electrodes when a conductive foreign matter is mixed in the liquid crystal layer 10, and at the same time, the alignment film 7 formed on the upper surface thereof. It improves the adhesive strength.
この無機絶縁膜6は、SiO2に代表されるSiOx、Si3N4代表されるSiNx、TiO2に代表されるTiOx、ZrO2、Al2O3、Ta2O5、Nb2O3等からなる透明な無機物材料で形成される。この時、無機絶縁膜6の膜厚は、300〜1500Åの範囲内である。 The inorganic insulating film 6 is formed of a transparent inorganic material made of SiOx typified by SiO2, SiNx typified by Si3N4, TiOx typified by TiO2, ZrO2, Al2O3, Ta2O5, Nb2O3, or the like. At this time, the film thickness of the inorganic insulating film 6 is in the range of 300 to 1500 mm.
この時、金属反射膜3の上部エッヂ部の段差部分は、透明電極4で覆われているため、段差が緩和され、無機絶縁膜6の膜厚が必要以上に厚くする必要がなく、上述したように、300〜1500Åで形成でき、膜厚の厚みに比例して発生する内部応力を低減できる。 At this time, since the step portion of the upper edge portion of the metal reflection film 3 is covered with the transparent electrode 4, the step is relaxed, and it is not necessary to increase the thickness of the inorganic insulating film 6 more than necessary. Thus, it can be formed with 300 to 1500 mm, and the internal stress generated in proportion to the thickness of the film thickness can be reduced.
この無機絶縁膜6上には、表示領域全面にわたり、配向膜7が形成されている。例えば配向7は、ポリイミド系の樹脂を塗布し、硬化した後、ラビング処理する。 On the inorganic insulating film 6, an alignment film 7 is formed over the entire display area. For example, the orientation 7 is rubbed after a polyimide resin is applied and cured.
このように、一方のガラス基板1において、画素領域の一部である反射領域は、ガラス基板1側から金属反射膜6、透明電極4、無機絶縁膜6、配向膜7の順に積層され、同時に、画素領域の一部である透過領域は、ガラス基板1側から透明電極4、無機絶縁膜6、配向膜7の順に積層されることになる。 Thus, in one glass substrate 1, the reflective region which is a part of the pixel region is laminated in the order of the metal reflective film 6, the transparent electrode 4, the inorganic insulating film 6, and the alignment film 7 from the glass substrate 1 side. The transparent region, which is a part of the pixel region, is laminated in the order of the transparent electrode 4, the inorganic insulating film 6, and the alignment film 7 from the glass substrate 1 side.
尚、他方のガラス基板2の内面には、ガラス基板2側から透明電極5、配向膜8の順に積層されている。 The transparent electrode 5 and the alignment film 8 are laminated in this order from the glass substrate 2 side on the inner surface of the other glass substrate 2.
上述の構成の一方のガラス基板1においては、従来、金属反射膜3の周囲で無機絶縁膜6の厚みに起因するクラックが発生していたものの、金属反射膜6、透明電極4の順に形成し、金属反射膜6の全体を透明電極4で覆い、金属反射膜3の上部エッヂの段差部分を緩和して、無機絶縁膜6の厚みを薄くすることにより、内部応力に起因するクラックの発生が防止できる。即ち、図2に示すA部の膜厚を、従来例の図4のB部の膜厚より薄く、しかも、無機絶縁膜のクラックが発生しない膜厚にできるためである。 In one glass substrate 1 having the above-described configuration, a crack caused by the thickness of the inorganic insulating film 6 has conventionally occurred around the metal reflective film 3, but the metal reflective film 6 and the transparent electrode 4 are formed in this order. By covering the entire metal reflective film 6 with the transparent electrode 4, relaxing the stepped portion of the upper edge of the metal reflective film 3, and reducing the thickness of the inorganic insulating film 6, cracks due to internal stress are generated. Can be prevented. That is, the thickness of the A portion shown in FIG. 2 can be made thinner than the thickness of the B portion of FIG. 4 of the conventional example, and the inorganic insulating film can be cracked.
本発明者は、一方のガラス基板1における金属反射膜6及び透明電極4の膜厚を変化させて、無機絶縁膜6、絶縁膜60(表では絶縁膜と表記)のクラック発生を調査した。 The inventor investigated the occurrence of cracks in the inorganic insulating film 6 and the insulating film 60 (shown as an insulating film in the table) by changing the film thicknesses of the metal reflective film 6 and the transparent electrode 4 in one glass substrate 1.
尚、絶縁膜の厚みは、本発明の実施品及び従来例ともに、800Åに設定した。 The thickness of the insulating film was set to 800 mm for both the product of the present invention and the conventional example.
表1によれば、金属反射膜3及び透明電極4の膜厚を厚くすることで、クロストーク、濃度勾配の表示品位は向上するが、従来の膜構成(透明電極4、金属反射膜3の順)では、反射膜3が3000Åを越えると、図4のB部分でクラックが発生し、配向膜の剥離を発生させてしまう。 According to Table 1, the display quality of the crosstalk and the density gradient is improved by increasing the thickness of the metal reflective film 3 and the transparent electrode 4, but the conventional film configuration (transparent electrode 4 and metal reflective film 3 In order, if the reflective film 3 exceeds 3000 mm, cracks occur in the portion B of FIG. 4 and peeling of the alignment film occurs.
しかしながら、本発明の実施品の膜構成では、反射膜が3000Åを越えても、透明電極4の膜厚が1500Å以上に設定さえすれば、無機絶縁膜6のクラックが発生することがないことを確認した。 However, in the film configuration of the product of the present invention, even if the reflective film exceeds 3000 mm, the inorganic insulating film 6 will not crack if the film thickness of the transparent electrode 4 is set to 1500 mm or more. confirmed.
さらに、画素領域間に表示情報のクロストーク、濃度勾配の表示品位も同時に良好な結果を得るには、反射膜を4000Å形成し、且つ透明電極を1500Å以上形成することが重要である。これは、金属反射膜6を厚くすることで、透明電極4全体の抵抗を下げ、また、透明電極4の抵抗を下げることができ、その結果、クロストーク及び濃度勾配を少なくできるものである。さらに、金属反射膜3を5000Å形成し、透明電極4を2000Å形成することにより、クロストーク、濃度勾配及び無機絶縁膜6のクラックがない液晶表示装置を得ることができた。 Furthermore, in order to obtain good results in crosstalk of display information and display quality of density gradient between pixel areas, it is important to form a reflective film of 4000 mm and a transparent electrode of 1500 mm or more. This is because, by increasing the thickness of the metal reflection film 6, the resistance of the entire transparent electrode 4 can be lowered, and the resistance of the transparent electrode 4 can be lowered. As a result, crosstalk and concentration gradient can be reduced. Furthermore, by forming 5000 mm of the metal reflective film 3 and 2000 mm of the transparent electrode 4, a liquid crystal display device free from crosstalk, concentration gradient, and cracks in the inorganic insulating film 6 could be obtained.
1・・・一方のガラス基板
2・・・他方のガラス基板
3・・・金属反射膜
4、5・・・透明電極
6・・・無機絶縁膜
7、8・・・配向膜
9・・・スペーサ
10・・・液晶層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... One glass substrate 2 ... The other glass substrate 3 ... Metal reflective film 4, 5 ... Transparent electrode 6 ... Inorganic insulating film 7, 8 ... Alignment film 9 ... Spacer 10 ... Liquid crystal layer
Claims (3)
前記一対の透明基板の間に介在される液晶層と、
前記一対の透明基板のうち一方の透明基板上に設けられている反射膜と、
前記反射膜を覆うように前記一方の透明基板上に設けられている透明電極と、
前記透明電極上に設けられている絶縁膜と、を備え、
前記透明電極は、前記反射膜上に位置する第1部位、前記反射膜の端部よりも外方に位置しており前記反射膜よりも厚みが小さい第2部位、前記第1部位と前記第2部位とを接続しており前記第2部位に近づくにつれて厚みが小さくなっている第3部位を有していることを特徴とする液晶表示装置。 And the transparent substrate of a pair,
A liquid crystal layer interposed between the pair of transparent substrates;
A reflective film provided on one of the pair of transparent substrates;
A transparent electrode provided on the one transparent substrate so as to cover the reflective film;
And an insulating film provided on the transparent conductive electrode,
The transparent electrode includes a first part located on the reflective film, a second part located outside the end of the reflective film and having a smaller thickness than the reflective film, the first part and the first part A liquid crystal display device having a third part that connects two parts and has a thickness that decreases as the second part is approached .
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010185679A JP5073026B2 (en) | 2010-08-21 | 2010-08-21 | Liquid crystal display |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2010185679A JP5073026B2 (en) | 2010-08-21 | 2010-08-21 | Liquid crystal display |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003398796A Division JP4731112B2 (en) | 2003-11-28 | 2003-11-28 | Liquid crystal display |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2010262315A JP2010262315A (en) | 2010-11-18 |
| JP5073026B2 true JP5073026B2 (en) | 2012-11-14 |
Family
ID=43360352
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2010185679A Expired - Fee Related JP5073026B2 (en) | 2010-08-21 | 2010-08-21 | Liquid crystal display |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5073026B2 (en) |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4352492B2 (en) * | 1998-02-04 | 2009-10-28 | セイコーエプソン株式会社 | Liquid crystal device and electronic device |
| JP3987231B2 (en) * | 1998-04-08 | 2007-10-03 | セイコーエプソン株式会社 | Liquid crystal device and electronic device |
| JP2002229009A (en) * | 2001-02-06 | 2002-08-14 | Seiko Epson Corp | Liquid crystal display and electronic equipment |
| JP2002258304A (en) * | 2001-03-02 | 2002-09-11 | Seiko Epson Corp | Liquid crystal device, method of manufacturing the same, and electronic equipment |
| JP2003098537A (en) * | 2001-09-20 | 2003-04-03 | Seiko Epson Corp | Electro-optical device, method of manufacturing the same, and electronic apparatus |
| JP2003255378A (en) * | 2002-03-05 | 2003-09-10 | Sanyo Electric Co Ltd | Liquid crystal display |
-
2010
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2010262315A (en) | 2010-11-18 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
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|
| A977 | Report on retrieval |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A521 | Written amendment |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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