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JP5076741B2 - Electro-optical device, drive circuit for electro-optical device, and electronic apparatus - Google Patents
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JP5076741B2 - Electro-optical device, drive circuit for electro-optical device, and electronic apparatus - Google Patents

Electro-optical device, drive circuit for electro-optical device, and electronic apparatus Download PDF

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JP5076741B2 JP2007223555A JP2007223555A JP5076741B2 JP 5076741 B2 JP5076741 B2 JP 5076741B2 JP 2007223555 A JP2007223555 A JP 2007223555A JP 2007223555 A JP2007223555 A JP 2007223555A JP 5076741 B2 JP5076741 B2 JP 5076741B2
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Description

本発明は、例えばアクティブマトリックス型の液晶装置等の電気光学装置、該電気光学装置を駆動する電気光学装置用駆動回路、及び電気光学装置を備えた、例えば液晶プロジェクタ等の電子機器に関し、特に、例えば走査線駆動回路等の電気光学装置の駆動回路に含まれるNAND回路の技術分野に関する。   The present invention relates to an electro-optical device such as an active matrix liquid crystal device, an electro-optical device driving circuit for driving the electro-optical device, and an electronic apparatus such as a liquid crystal projector including the electro-optical device. For example, the present invention relates to a technical field of a NAND circuit included in a driving circuit of an electro-optical device such as a scanning line driving circuit.

この種の電気光学装置では、該電気光学装置の小型化や画素ピッチの微細化を目的として、例えば電気光学装置における駆動回路の小型化等が図られる。例えば、特許文献1には、一対のNMOS(N−channel Metal Oxided Semiconductor)プルダウントランジスタと一対のPMOS(P−channel Metal Oxided Semiconductor)プルアップトランジスタとが垂直に積層された配列を有するNAND回路が記載されている。   In this type of electro-optical device, for example, downsizing of a drive circuit in the electro-optical device is achieved for the purpose of reducing the size of the electro-optical device and reducing the pixel pitch. For example, Patent Document 1 describes a NAND circuit having an array in which a pair of NMOS (N-channel Metal Oxide Semiconductor) pull-down transistors and a pair of PMOS (P-Channel Metal Oxide Semiconductor) pull-up transistors are vertically stacked. Has been.

他方、フリッカを防止すること等を目的として、複数の画素が配列された画素領域又は画素アレイ領域(或いは画像表示領域とも呼ばれる)を、例えば上下2分割や上下4分割など、部分的な領域に分けて、それらの領域別に垂直走査を行うと共に該垂直走査を領域間で交互に又は交替で行い、好ましくは部分的な領域別に上述の倍速駆動を行うと共に該倍速駆動を領域間で交互に又は交替で行うといった、領域を跨ぐ形で画素のライン状配列を飛ばして走査する走査方式(以下単に、“領域走査”或いは“領域走査方式”と称する)も、本願出願人により提案されている。ここに倍速駆動とは、1フレーム分の画像信号をメモリに蓄え、同一フレームの画像信号を、極性のみ反転させて2度用いることにより駆動周波数を高める駆動方式であり、駆動周波数を上げると、人間の目ではフリッカが視認できなくなることを利用している(特許文献2及び3参照)。   On the other hand, for the purpose of preventing flicker or the like, a pixel area or a pixel array area (also referred to as an image display area) in which a plurality of pixels are arranged is divided into partial areas such as upper and lower two divisions and upper and lower four divisions. Separately, vertical scanning is performed for each region and the vertical scanning is performed alternately or alternately between the regions. Preferably, the above-described double speed driving is performed for each partial region and the double speed driving is performed alternately between the regions. A scanning method (hereinafter simply referred to as “region scanning” or “region scanning method”), in which scanning is performed by skipping a linear array of pixels across regions, is also proposed by the present applicant. Here, double speed driving is a driving method in which an image signal for one frame is stored in a memory, and the image signal of the same frame is inverted twice and used twice to increase the driving frequency. When the driving frequency is increased, The fact that flicker is invisible to the human eye is used (see Patent Documents 2 and 3).

特開2006−49914号公報JP 2006-49914 A 特開2004−177930号公報JP 2004-177930 A 特開2005−227764号公報JP-A-2005-227764

しかしながら、上述の背景技術によれば、トランジスタが積層されているので、積層方向の距離(即ち、高さ)が大きくなるという技術的問題点がある。特に、領域走査のためには、複数のトランジスタを含んで夫々構成される複数の論理回路を、走査線毎に設ける必要があり、限られた基板上領域内で且つ規定の走査線ピッチに合わせて、これらの論理回路を作りこむことは困難であるという技術的問題点もある。   However, according to the background art described above, since the transistors are stacked, there is a technical problem that the distance (ie, height) in the stacking direction becomes large. In particular, for area scanning, it is necessary to provide a plurality of logic circuits each including a plurality of transistors for each scanning line, and within a limited area on the substrate and according to a prescribed scanning line pitch. Therefore, there is a technical problem that it is difficult to create these logic circuits.

本発明は、例えば上記問題点に鑑みてなされたものであり、例えば領域走査等を可能ならしめるべく走査線駆動回路を複雑高度化させつつも、例えば高さの増加を伴うことなく、走査線ピッチを微細化することで画素ピッチを微細化することができる電気光学装置、電気光学装置用駆動回路及び電子機器を提供することを課題とする。   The present invention has been made in view of, for example, the above-described problems. For example, while the scanning line driving circuit is complicated and sophisticated so as to enable area scanning or the like, for example, the scanning line is not accompanied by an increase in height. It is an object of the present invention to provide an electro-optical device, a driving circuit for an electro-optical device, and an electronic apparatus that can reduce the pixel pitch by reducing the pitch.

本発明の電気光学装置は、上記課題を解決するために、基板と、該基板上の画素領域において互いに交差する複数のデータ線及び複数の走査線と、前記複数のデータ線にデータ信号を供給するデータ線駆動回路と、前記複数の走査線に走査信号を所定順序で供給する走査線駆動回路と、該走査線駆動回路に前記走査信号の出力期間を制御するためのイネーブル信号を供給する複数のイネーブル信号配線とを備え、前記走査線駆動回路は、前記走査線毎に、前記供給されるイネーブル信号に基づいて前記出力期間を制御するNAND回路を含み、前記NAND回路を構成する複数のトランジスタのうち、互いに隣り合う一のトランジスタ及び他のトランジスタ間に、少なくとも一の前記イネーブル信号配線が配置されている。   In order to solve the above problems, an electro-optical device of the present invention supplies a data signal to a substrate, a plurality of data lines and a plurality of scanning lines that intersect with each other in a pixel region on the substrate, and the plurality of data lines. A data line driving circuit for performing scanning, a scanning line driving circuit for supplying scanning signals to the plurality of scanning lines in a predetermined order, and a plurality of supplying an enable signal for controlling an output period of the scanning signals to the scanning line driving circuit. Enable signal wiring, and the scanning line driving circuit includes a NAND circuit for controlling the output period based on the supplied enable signal for each scanning line, and a plurality of transistors constituting the NAND circuit Among these, at least one of the enable signal wirings is disposed between one transistor and another transistor adjacent to each other.

本発明の電気光学装置によれば、例えば石英基板等の基板上の画素領域において、複数のデータ線及び複数の走査線が互いに交差しており、該交差の夫々に対応して複数の画素電極が設けられている。ここに、本発明に係る「画素領域」とは、個々の画素の領域を意味するのではなく、複数の画素がマトリックス状に配列されてなる領域の全体を意味し、典型的には「画像表示領域」となるべき領域を意味する。   According to the electro-optical device of the present invention, a plurality of data lines and a plurality of scanning lines intersect each other in a pixel region on a substrate such as a quartz substrate, and a plurality of pixel electrodes correspond to each of the intersections. Is provided. Here, the “pixel area” according to the present invention does not mean an area of individual pixels, but means an entire area in which a plurality of pixels are arranged in a matrix. It means the area that should be the “display area”.

データ線駆動回路は、複数のデータ線各々にデータ信号を供給する。走査線駆動回路は、複数の走査線各々に走査信号を所定順序で供給する。イネーブル信号配線は、走査線駆動回路に走査信号の出力期間を制御するためのイネーブル信号を供給する。尚、「所定順序」とは、複数の走査線に走査信号が次々に供給又は出力されるという意味であり、必ずしも走査信号の時系列が各走査線の物理的な配列と対応している場合に限られない。例えば、線順次という意味に限られず、典型的には、画素領域を二分割或いは複数分割しての領域走査に対応して、走査信号を領域毎にとばして交互に或いは入れ替わりに走査線に供給するという意味である。   The data line driving circuit supplies a data signal to each of the plurality of data lines. The scanning line driving circuit supplies scanning signals to each of the plurality of scanning lines in a predetermined order. The enable signal wiring supplies an enable signal for controlling an output period of the scanning signal to the scanning line driving circuit. The “predetermined order” means that scanning signals are sequentially supplied to or output from a plurality of scanning lines, and the time series of scanning signals necessarily correspond to the physical arrangement of each scanning line. Not limited to. For example, it is not limited to the meaning of line-sequential, and typically, in response to region scanning in which the pixel region is divided into two or more, the scanning signal is skipped for each region and supplied to the scanning lines alternately or alternately. It means to do.

駆動時には、走査線駆動回路による水平走査で選択された画素電極列に、データ線駆動回路からデータ線を介して各画素電極にデータ信号が供給される、所謂アクティブマトリックス方式によって画像が表示される。   At the time of driving, an image is displayed by a so-called active matrix system in which a data signal is supplied from the data line driving circuit to each pixel electrode via the data line to the pixel electrode column selected by horizontal scanning by the scanning line driving circuit. .

走査線駆動回路は、走査線毎に、供給されるイネーブル信号に基づいて出力期間を制御するNAND回路を含んでいる。該NAND回路を構成する複数のトランジスタのうち、互いに隣り合う一のトランジスタ及び他のトランジスタ間に、複数のイネーブル信号配線のうち少なくとも一のイネーブル信号配線が配置されている。即ち、一のトランジスタ及び他のトランジスタ間に、少なくとも一本のイネーブル信号配線が配置されている。   The scanning line driving circuit includes a NAND circuit that controls an output period for each scanning line based on the supplied enable signal. Among the plurality of transistors constituting the NAND circuit, at least one enable signal wiring among the plurality of enable signal wirings is disposed between one transistor and another transistor adjacent to each other. That is, at least one enable signal wiring is arranged between one transistor and another transistor.

本願発明者の研究によれば、一般に、画素ピッチの微細化に伴い、走査線駆動回路におけるNAND回路のレイアウト面積を小さくする必要がある。他方、NAND回路を構成するトランジスタを垂直に積層することによって面積を小さくする技術が提案されているが、電気光学装置の高さが増加することが判明している。   According to the research by the inventors of the present application, it is generally necessary to reduce the layout area of the NAND circuit in the scanning line driving circuit as the pixel pitch becomes finer. On the other hand, a technique for reducing the area by vertically stacking transistors constituting the NAND circuit has been proposed, but it has been found that the height of the electro-optical device increases.

しかるに本発明では、NAND回路の互いに隣り合う一のトランジスタ及び他のトランジスタ間に、少なくとも一本のイネーブル信号配線を配置することによって、即ち、NAND回路内にイネーブル信号配線を挿入することによって、NAND回路を含む走査線駆動回路全体のレイアウト面積を小さくしている。この際、NAND回路を構成しているトランジスタを同一平面上に配置すると共に、走査線が延びる方向に沿って配列すれば、当該電気光学装置の高さの増加を抑制することができると共に、走査線が延びる方向に交わる方向(即ち、データ線が延びる方向)の距離を抑制することができ、画素ピッチの微細化を実現することが可能となる。特に、領域走査の場合に、複数のトランジスタを含んでなるNAND回路を走査線毎に、即ち、限られた基板上領域内で規定の走査線ピッチに合わせてNAND回路を作りこむことが可能となる。   However, in the present invention, the NAND signal is arranged by disposing at least one enable signal wiring between one transistor and another transistor adjacent to each other in the NAND circuit, that is, by inserting the enable signal wiring in the NAND circuit. The layout area of the entire scanning line driving circuit including the circuit is reduced. At this time, if the transistors constituting the NAND circuit are arranged on the same plane and arranged along the direction in which the scanning line extends, an increase in the height of the electro-optical device can be suppressed and scanning can be performed. The distance in the direction intersecting the direction in which the lines extend (that is, the direction in which the data lines extend) can be suppressed, and the pixel pitch can be miniaturized. In particular, in the case of area scanning, a NAND circuit including a plurality of transistors can be formed for each scanning line, that is, in accordance with a prescribed scanning line pitch within a limited area on the substrate. Become.

加えて、イネーブル信号配線がNAND回路の外部に配置されている場合と比較して、イネーブル信号配線からNAND回路を構成するトランジスタまでの距離を短くすることができるので、出力遅延を防止することができ、実用上非常に有利である。   In addition, compared with the case where the enable signal wiring is arranged outside the NAND circuit, the distance from the enable signal wiring to the transistor constituting the NAND circuit can be shortened, so that output delay can be prevented. This is very advantageous in practice.

以上のように、本発明によれば、例えば領域走査などを可能ならしめるべく走査線駆動回路を複雑高度化させつつも、例えば高さの増加を伴うことなく、走査線ピッチを微細化することで画素ピッチを微細化することができる。   As described above, according to the present invention, for example, the scanning line pitch can be reduced without increasing the height while the scanning line driving circuit is complicated and sophisticated so as to enable, for example, area scanning. Thus, the pixel pitch can be reduced.

本発明の電気光学装置の一態様では、前記一のトランジスタ及び前記他のトランジスタは、前記走査線が延びる方向に沿って配列されており、前記一のイネーブル信号配線は、前記基板上で平面的に見て、前記データ線が延びる方向に沿って延びる配線部分を含み、該配線部分が、前記一のトランジスタ及び前記他のトランジスタ間に配置されている。   In one aspect of the electro-optical device of the present invention, the one transistor and the other transistor are arranged along a direction in which the scanning line extends, and the one enable signal wiring is planar on the substrate. As shown in FIG. 5, the data line includes a wiring portion extending along the direction in which the data line extends, and the wiring portion is disposed between the one transistor and the other transistor.

この態様によれば、データ線が延びる方向の距離を抑制することができ、画素ピッチの微細化を実現することが可能となる。   According to this aspect, the distance in the direction in which the data lines extend can be suppressed, and the pixel pitch can be miniaturized.

本発明の電気光学装置の他の態様では、前記走査線駆動回路は、前記所定順序として領域走査に対応する順序で、前記複数の走査線に走査信号を供給する。   In another aspect of the electro-optical device of the present invention, the scanning line driving circuit supplies scanning signals to the plurality of scanning lines in the order corresponding to the area scanning as the predetermined order.

この態様によれば、領域走査を可能ならしめ、例えば高精細な画像を表示可能な電気光学装置を実現することができる。   According to this aspect, it is possible to realize an electro-optical device that can perform area scanning and display, for example, a high-definition image.

本発明の電気光学装置の他の態様では、前記一のトランジスタ及び前記他のトランジスタ間に、前記複数のイネーブル信号配線が配置されている。   In another aspect of the electro-optical device of the present invention, the plurality of enable signal lines are arranged between the one transistor and the other transistor.

この態様によれば、例えば2本のイネーブル信号配線が配置されている場合、奇数段目の走査線は2本のイネーブル信号配線のうち一方のイネーブル信号配線を介して供給されるイネーブル信号によって制御され、偶数段目の走査線は他方のイネーブル信号配線を介して供給されるイネーブル信号によって制御される。   According to this aspect, for example, when two enable signal lines are arranged, the odd-numbered scanning lines are controlled by an enable signal supplied via one enable signal line of the two enable signal lines. The even-numbered scanning lines are controlled by an enable signal supplied via the other enable signal wiring.

本発明の電気光学装置の他の態様では、前記一のトランジスタは、第1導電型トランジスタであり、前記他のトランジスタは、第2導電型トランジスタである。   In another aspect of the electro-optical device of the invention, the one transistor is a first conductivity type transistor, and the other transistor is a second conductivity type transistor.

この態様によれば、一のトランジスタは、例えばPチャネルトランジスタである第1導電型トランジスタであり、他のトランジスタは、例えばNチャネルトランジスタである第2導電型トランジスタである。   According to this aspect, one transistor is a first conductivity type transistor that is a P-channel transistor, for example, and the other transistor is a second conductivity type transistor that is an N-channel transistor, for example.

本発明の電気光学装置の他の態様では、前記複数のトランジスタは、同一平面上に配置されている。   In another aspect of the electro-optical device of the invention, the plurality of transistors are arranged on the same plane.

この態様によれば、当該電気光学装置の高さの増加を抑制することができ、実用上非常に有利である。   According to this aspect, an increase in the height of the electro-optical device can be suppressed, which is very advantageous in practice.

本発明の電気光学装置用駆動回路は、上記課題を解決するために、基板と、該基板上の画素領域において互いに交差する複数のデータ線及び複数の走査線とを備える電気光学装置を駆動する電気光学装置用駆動回路であって、前記複数のデータ線にデータ信号を供給するデータ線駆動回路と、前記複数の走査線に走査信号を所定順序で供給する走査線駆動回路と、該走査線駆動回路に前記走査信号の出力期間を制御するためのイネーブル信号を供給する複数のイネーブル信号配線とを備え、前記走査線駆動回路は、前記走査線毎に、前記供給されるイネーブル信号に基づいて前記出力期間を制御するNAND回路を含み、前記NAND回路を構成する複数のトランジスタのうち、互いに隣り合う一のトランジスタ及び他のトランジスタ間に、少なくとも一の前記イネーブル信号配線が配置されている。   In order to solve the above problems, the drive circuit for an electro-optical device according to the present invention drives an electro-optical device including a substrate and a plurality of data lines and a plurality of scanning lines that intersect with each other in a pixel region on the substrate. A driving circuit for an electro-optical device, the data line driving circuit supplying a data signal to the plurality of data lines, the scanning line driving circuit supplying a scanning signal to the plurality of scanning lines in a predetermined order, and the scanning line A plurality of enable signal wirings for supplying an enable signal for controlling an output period of the scan signal to the drive circuit, the scan line drive circuit for each scan line based on the supplied enable signal Including a NAND circuit for controlling the output period, and among a plurality of transistors constituting the NAND circuit, between one transistor and another transistor adjacent to each other, One of the enable signal lines are arranged even without.

本発明の電気光学装置用駆動回路によれば、例えばアクティブマトリックス方式によって画像が表示される電気光学装置を駆動可能である。当該電気光学装置用駆動回路は、電気光学装置の複数のデータ線各々にデータ信号を供給するデータ線駆動回路と、複数の走査線各々に走査信号を供給する走査線駆動回路と、該走査線駆動回路にイネーブル信号を供給するイネーブル信号配線とを備える。   According to the drive circuit for an electro-optical device of the present invention, it is possible to drive an electro-optical device that displays an image by, for example, an active matrix method. The electro-optical device driving circuit includes a data line driving circuit that supplies a data signal to each of the plurality of data lines of the electro-optical device, a scanning line driving circuit that supplies a scanning signal to each of the plurality of scanning lines, and the scanning line An enable signal line for supplying an enable signal to the drive circuit.

走査線駆動回路は、走査線毎に、供給されるイネーブル信号に基づいて出力期間を制御するNAND回路を含んでいる。該NAND回路を構成する複数のトランジスタのうち、互いに隣り合う一のトランジスタ及び他のトランジスタ間に、複数のイネーブル信号配線のうち少なくとも一のイネーブル信号配線が配置されている。これにより、NAND回路を含む走査線駆動回路全体のレイアウト面積を小さくすることができる。   The scanning line driving circuit includes a NAND circuit that controls an output period for each scanning line based on the supplied enable signal. Among the plurality of transistors constituting the NAND circuit, at least one enable signal wiring among the plurality of enable signal wirings is disposed between one transistor and another transistor adjacent to each other. As a result, the layout area of the entire scanning line driving circuit including the NAND circuit can be reduced.

この際、NAND回路を構成しているトランジスタを同一平面上に配置すると共に、走査線が延びる方向に沿って配列すれば、当該電気光学装置用駆動回路を備える電気光学装置の高さの増加を抑制することができると共に、走査線が延びる方向に交わる方向(即ち、データ線が延びる方向)の距離を抑制することができ、画素ピッチの微細化を実現することが可能となる。   At this time, if the transistors constituting the NAND circuit are arranged on the same plane and arranged along the direction in which the scanning line extends, the height of the electro-optical device including the electro-optical device driving circuit can be increased. In addition to being able to suppress, the distance in the direction intersecting the direction in which the scanning lines extend (that is, the direction in which the data lines extend) can be suppressed, and the pixel pitch can be miniaturized.

本発明の電子機器は、上記課題を解決するために、上述した本発明の電気光学装置(但し、その各種態様を含む)を備える。   In order to solve the above problems, an electronic apparatus according to the present invention includes the above-described electro-optical device according to the present invention (including various aspects thereof).

本発明の電子機器によれば、上述した本発明の電気光学装置を備えてなるので、高さの増加が抑制されつつ画素ピッチが微細化された、投射型表示装置、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルなどの各種電子機器を実現できる。   According to the electronic apparatus of the present invention, since the electro-optical device of the present invention described above is provided, a projection display device, a mobile phone, an electronic notebook, in which the pixel pitch is miniaturized while suppressing an increase in height, Various electronic devices such as a word processor, a viewfinder type or a monitor direct-view type video tape recorder, a workstation, a videophone, a POS terminal, and a touch panel can be realized.

本発明の作用及び他の利得は次に説明する実施するための最良の形態から明らかにされる。   The operation and other advantages of the present invention will become apparent from the best mode for carrying out the invention described below.

以下図1乃至図11を参照しながら、本発明に係る電気光学装置、電気光学装置用駆動回路及び電子機器の各実施形態を説明する。尚、本実施形態では、電気光学装置の一例として、駆動回路内蔵型のTFT(Thin Film Transistor)アクティブマトリックス駆動方式の液晶装置を例に挙げる。   Hereinafter, embodiments of an electro-optical device, a drive circuit for an electro-optical device, and an electronic apparatus according to the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 11. In the present embodiment, as an example of an electro-optical device, a TFT (Thin Film Transistor) active matrix driving type liquid crystal device with a built-in driving circuit is taken as an example.

先ず、本実施形態に係る液晶装置の全体構成について、図1及び図2を参照して説明する。ここに図1は、TFTアレイ基板をその上に形成された各構成要素と共に対向基板の側からみた平面図であり、図2は、図1のH−H´線断面図である。   First, the overall configuration of the liquid crystal device according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 1 and 2. FIG. 1 is a plan view of the TFT array substrate as viewed from the side of the counter substrate together with the components formed thereon, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line HH ′ of FIG.

図1及び図2において、本実施形態に係る液晶装置では、TFTアレイ基板10及び対向基板20が対向配置されている。TFTアレイ基板10は、例えば、石英基板、ガラス基板、シリコン基板等の透明基板からなり、対向基板20は、例えば、石英基板、ガラス基板等の透明基板からなる。TFTアレイ基板10と対向基板20との間に液晶層50が封入されており、TFTアレイ基板10と対向基板20とは、本発明に係る「画素領域」の一例としての画像表示領域10aの周囲に位置するシール領域に設けられたシール材52により相互に接着されている。   1 and 2, in the liquid crystal device according to the present embodiment, a TFT array substrate 10 and a counter substrate 20 are arranged to face each other. The TFT array substrate 10 is made of a transparent substrate such as a quartz substrate, a glass substrate, or a silicon substrate, and the counter substrate 20 is made of a transparent substrate such as a quartz substrate or a glass substrate, for example. A liquid crystal layer 50 is sealed between the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20, and the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 are surrounded by an image display region 10a as an example of the “pixel region” according to the present invention. They are bonded to each other by a sealing material 52 provided in a sealing region located in the area.

シール材52は、両基板を貼り合わせるための、例えば紫外線硬化樹脂や熱硬化樹脂、又は紫外線・熱併用型硬化樹脂等からなり、製造プロセスにおいてTFTアレイ基板10上に塗布された後、紫外線照射、加熱等により硬化させられたものである。シール材52中には、TFTアレイ基板10と対向基板20との間隔(即ち、ギャップ)を所定値とするためのグラスファイバ或いはガラスビーズ等のギャップ材が散布されている。尚、ギャップ材を、シール材52に混入されるものに加えて若しくは代えて、画像表示領域10a又は画像表示領域10aの周辺に位置する周辺領域に、配置するようにしてもよい。   The sealing material 52 is made of, for example, an ultraviolet curable resin, a thermosetting resin, or an ultraviolet / heat combination type curable resin for bonding the two substrates, and is applied to the TFT array substrate 10 in the manufacturing process, and then irradiated with ultraviolet rays. And cured by heating or the like. In the sealing material 52, a gap material such as glass fiber or glass beads for dispersing the distance (ie, gap) between the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 to a predetermined value is dispersed. Note that the gap material may be arranged in the image display region 10a or a peripheral region located around the image display region 10a in addition to or instead of the material mixed in the seal material 52.

図1において、シール材52が配置されたシール領域の内側に並行して、画像表示領域10aの額縁領域を規定する遮光性の額縁遮光膜53が、対向基板20側に設けられている。但し、このような額縁遮光膜53の一部又は全部は、TFTアレイ基板10側に内蔵遮光膜として設けられてもよい。   In FIG. 1, a light-shielding frame light-shielding film 53 that defines the frame area of the image display region 10a is provided on the counter substrate 20 side in parallel with the inside of the seal region where the sealing material 52 is disposed. However, part or all of the frame light shielding film 53 may be provided as a built-in light shielding film on the TFT array substrate 10 side.

周辺領域のうち、シール材52が配置されたシール領域の外側に位置する領域には、データ線駆動回路101及び外部回路接続端子102がTFTアレイ基板10の一辺に沿って設けられている。この一辺に沿ったシール領域よりも内側に、サンプリング回路7が額縁遮光膜53に覆われるようにして設けられている。走査線駆動回路104は、この一辺に隣接する2辺に沿ったシール領域の内側に、額縁遮光膜53に覆われるようにして設けられている。   A data line driving circuit 101 and an external circuit connection terminal 102 are provided along one side of the TFT array substrate 10 in a region located outside the sealing region in which the sealing material 52 is disposed in the peripheral region. The sampling circuit 7 is provided so as to be covered with the frame light shielding film 53 on the inner side of the seal region along the one side. The scanning line driving circuit 104 is provided so as to be covered with the frame light-shielding film 53 inside the seal region along two sides adjacent to the one side.

TFTアレイ基板10上には、対向基板20の4つのコーナー部に対向する領域に、両基板間を上下導通材107で接続するための上下導通端子106が配置されている。これらにより、TFTアレイ基板10と対向基板20との間で電気的な導通をとることができる。更に、外部回路接続端子102と、データ線駆動回路101、走査線駆動回路104、上下導通端子106等とを電気的に接続するための引回配線90が形成されている。   On the TFT array substrate 10, vertical conduction terminals 106 for connecting the two substrates with the vertical conduction material 107 are arranged in regions facing the four corner portions of the counter substrate 20. Thus, electrical conduction can be established between the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20. Further, a lead wiring 90 for electrically connecting the external circuit connection terminal 102 to the data line driving circuit 101, the scanning line driving circuit 104, the vertical conduction terminal 106, and the like is formed.

図2において、TFTアレイ基板10上には、駆動素子である画素スイッチング用のTFTや走査線、データ線等の配線が作り込まれた積層構造が形成される。この積層構造の詳細な構成については図2では図示を省略してあるが、この積層構造の上に、ITO(Indium Tin Oxide)等の透明材料からなる画素電極9aが、画素毎に所定のパターンで島状に形成されている。   In FIG. 2, on the TFT array substrate 10, a laminated structure in which pixel switching TFTs as drive elements, wiring lines such as scanning lines and data lines are formed is formed. Although the detailed structure of this laminated structure is not shown in FIG. 2, pixel electrodes 9a made of a transparent material such as ITO (Indium Tin Oxide) are provided on the laminated structure in a predetermined pattern for each pixel. It is formed in an island shape.

画素電極9aは、後述する対向電極21に対向するように、TFTアレイ基板10上の画像表示領域10aに形成されている。TFTアレイ基板10における液晶層50の面する側の表面、即ち画素電極9a上には、配向膜16が画素電極9aを覆うように形成されている。   The pixel electrode 9a is formed in the image display region 10a on the TFT array substrate 10 so as to face a counter electrode 21 described later. On the surface of the TFT array substrate 10 facing the liquid crystal layer 50, that is, on the pixel electrode 9a, an alignment film 16 is formed so as to cover the pixel electrode 9a.

対向基板20におけるTFTアレイ基板10との対向面上に、遮光膜23が形成されている。遮光膜23は、例えば対向基板20における対向面上に平面的に見て、格子状に形成されている。対向基板20において、遮光膜23によって非開口領域が規定され、遮光膜23によって区切られた領域が、例えばプロジェクタ用のランプや直視用のバックライトから出射された光を透過させる開口領域となる。尚、遮光膜23をストライプ状に形成し、該遮光膜23と、TFTアレイ基板10側に設けられたデータ線等の各種構成要素とによって、非開口領域を規定するようにしてもよい。   A light shielding film 23 is formed on the surface of the counter substrate 20 facing the TFT array substrate 10. For example, the light shielding film 23 is formed in a lattice shape when viewed in plan on the facing surface of the facing substrate 20. In the counter substrate 20, a non-opening area is defined by the light shielding film 23, and an area partitioned by the light shielding film 23 is an opening area that transmits light emitted from, for example, a projector lamp or a direct viewing backlight. The light shielding film 23 may be formed in a stripe shape, and the non-opening region may be defined by the light shielding film 23 and various components such as data lines provided on the TFT array substrate 10 side.

遮光膜23上に、ITO等の透明材料からなる対向電極21が複数の画素電極9aと対向して形成されている。遮光膜23上に、画像表示領域10aにおいてカラー表示を行うために、開口領域及び非開口領域の一部を含む領域に、図2には図示しないカラーフィルタが形成されるようにしてもよい。対向基板20の対向面上における、対向電極21上には、配向膜22が形成されている。   On the light shielding film 23, a counter electrode 21 made of a transparent material such as ITO is formed so as to face the plurality of pixel electrodes 9a. In order to perform color display in the image display region 10a on the light shielding film 23, a color filter (not shown in FIG. 2) may be formed in a region including a part of the opening region and the non-opening region. An alignment film 22 is formed on the counter electrode 21 on the counter surface of the counter substrate 20.

尚、図1及び図2に示したTFTアレイ基板10上には、これらのデータ線駆動回路101、走査線駆動回路104、サンプリング回路7等に加えて、複数のデータ線に所定電圧レベルのプリチャージ信号を画像信号に先行して各々供給するプリチャージ回路、製造途中や出荷時の当該液晶装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路等を形成してもよい。   In addition to the data line driving circuit 101, the scanning line driving circuit 104, the sampling circuit 7, etc., a plurality of data lines are pre-set at a predetermined voltage level on the TFT array substrate 10 shown in FIGS. A precharge circuit that supplies a charge signal prior to an image signal, an inspection circuit for inspecting the quality, defects, and the like of the liquid crystal device during manufacture or at the time of shipment may be formed.

次に、図3を参照して、液晶パネル100を駆動するデータ線駆動回路101及び走査線駆動回路104の構成について具体的に説明する。図3は、本実施形態に係る液晶装置の要部の概略構成を示す概略構成図である。   Next, the configuration of the data line driving circuit 101 and the scanning line driving circuit 104 for driving the liquid crystal panel 100 will be specifically described with reference to FIG. FIG. 3 is a schematic configuration diagram illustrating a schematic configuration of a main part of the liquid crystal device according to the present embodiment.

図3に示すように、TFTアレイ基板10における画像表示領域10aには、マトリックス状に配置された複数の画素部100cと、互いに交差して配列された複数の走査線100a及び複数のデータ線100bとが形成されている。尚、ここでは図示しないが、複数の画素部100cの各々は、画素電極9aと、該画素電極9aをスイッチング制御するためのTFTと、画素電極9aに印加された電圧を維持するための蓄積容量とを備えて構成されている。   As shown in FIG. 3, the image display area 10a of the TFT array substrate 10 includes a plurality of pixel portions 100c arranged in a matrix, a plurality of scanning lines 100a and a plurality of data lines 100b arranged so as to cross each other. And are formed. Although not shown here, each of the plurality of pixel portions 100c includes a pixel electrode 9a, a TFT for switching control of the pixel electrode 9a, and a storage capacitor for maintaining a voltage applied to the pixel electrode 9a. And is configured.

データ線駆動回路101は、入力されるスタートパルスDX及びデータ転送クロックCLXを、サンプリング回路駆動信号をサンプリング回路7に供給する。サンプリング回路7は、このサンプルリング回路駆動信号に応じて、入力されるデータ信号Dsを、サンプリングする。これらにより、液晶パネル100のデータ線100bに対して、データ信号di(i=1、2、3、…、m)が供給される。   The data line driving circuit 101 supplies the input start pulse DX and data transfer clock CLX to the sampling circuit 7 as a sampling circuit driving signal. The sampling circuit 7 samples the input data signal Ds according to the sampling circuit drive signal. As a result, the data signal di (i = 1, 2, 3,..., M) is supplied to the data line 100b of the liquid crystal panel 100.

ここで、図4を参照して、走査線駆動回路104についてより具体的に説明する。図4は、本実施形態に係る走査線駆動回路104の回路構成を示す図である。   Here, the scanning line driving circuit 104 will be described more specifically with reference to FIG. FIG. 4 is a diagram showing a circuit configuration of the scanning line driving circuit 104 according to the present embodiment.

図4に示すように、走査線駆動回路104は、シフトレジスタ1041、複数の論理回路(即ち、NAND回路1042及び1044、並びにNOT回路1043及び1045)、並びにイネーブル信号配線1046及び1047を備えて構成されている。シフトレジスタ1041は、当該走査線駆動回路104に入力されるスタートパルスDYを、当該走査線駆動回路104に入力される走査側転送クロックCLYに従って、各段から転送信号を順次出力するように構成されている。   As shown in FIG. 4, the scan line driver circuit 104 includes a shift register 1041, a plurality of logic circuits (that is, NAND circuits 1042 and 1044, and NOT circuits 1043 and 1045), and enable signal wirings 1046 and 1047. Has been. The shift register 1041 is configured to sequentially output a transfer signal from each stage in accordance with the scan-side transfer clock CLY input to the scan line drive circuit 104, with respect to the start pulse DY input to the scan line drive circuit 104. ing.

複数の論理回路1042〜1045は、シフトレジスタ1041から順次出力される転送信号に対して波形整形等を施すことによって、最終的に走査線100aに対し、走査信号Gj(j=1、2、3、…、n)を順次出力する。   The plurality of logic circuits 1042 to 1045 finally perform the waveform shaping or the like on the transfer signals sequentially output from the shift register 1041, so that the scanning signal Gj (j = 1, 2, 3) is finally output to the scanning line 100 a. ,..., N) are sequentially output.

ここで、特に、NAND回路1044には、イネーブル信号ENBY1及びENBY2のいずれかが入力される。該入力されるイネーブル信号ENBY1又はENBY2がハイレベルである場合には、走査線100aに走査信号Gjが出力されることとなる。即ち、走査線100aが走査されることとなる。他方、入力されるイネーブル信号ENBY1又はENBY2がローレベルである場合には、走査線100aに走査信号Gjが出力されない。即ち、走査線100aが走査されない。これにより、当該走査線駆動回路104は、イネーブル信号ENBY1及びENBY2のいずれかに応じて、走査線100aの走査を制御することができる。   Here, in particular, one of the enable signals ENBY1 and ENBY2 is input to the NAND circuit 1044. When the input enable signal ENBY1 or ENBY2 is at a high level, the scanning signal Gj is output to the scanning line 100a. That is, the scanning line 100a is scanned. On the other hand, when the input enable signal ENBY1 or ENBY2 is at a low level, the scanning signal Gj is not output to the scanning line 100a. That is, the scanning line 100a is not scanned. As a result, the scanning line driving circuit 104 can control scanning of the scanning line 100a in accordance with one of the enable signals ENBY1 and ENBY2.

また、NAND回路1044は、NAND回路1042及びNOT回路1043を通過した転送信号qk(k=1、2、3、…、n)を、イネーブル信号ENBY1又ENBY2に基づいて整形する機能を有している。   The NAND circuit 1044 has a function of shaping the transfer signal qk (k = 1, 2, 3,..., N) that has passed through the NAND circuit 1042 and the NOT circuit 1043 based on the enable signal ENBY1 or ENBY2. Yes.

次に、図5を参照して、NAND回路1044の回路構成について説明する。図5は、NAND回路1044の回路構成を示す回路図である。   Next, the circuit configuration of the NAND circuit 1044 will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a circuit diagram showing a circuit configuration of the NAND circuit 1044.

図5において、NAND回路1044のゲートαには、シフトレジスタ1041の対応する段より出力され、NAND回路1042及びNOT回路1043を通過した転送信号qkが供給される。また、NAND回路1044のゲートβには、イネーブル信号ENBY1及びENBY2のいずれかが供給される。   In FIG. 5, the transfer signal qk output from the corresponding stage of the shift register 1041 and passed through the NAND circuit 1042 and the NOT circuit 1043 is supplied to the gate α of the NAND circuit 1044. One of the enable signals ENBY1 and ENBY2 is supplied to the gate β of the NAND circuit 1044.

次に、図6を参照して、走査線駆動回路104において走査信号Gjを生成する過程について説明する。図6は、走査信号Gjを生成する過程を説明するためのタイミングチャートである。   Next, a process of generating the scanning signal Gj in the scanning line driving circuit 104 will be described with reference to FIG. FIG. 6 is a timing chart for explaining the process of generating the scanning signal Gj.

図6において、走査線駆動回路104におけるシフトレジスタ1041から、スタートパルスDY及び走査側転送クロックCLYに基づいて転送信号(図示せず)が順次出力され、NAND回路1042及びNOT回路1043を通過した転送信号qkがNAND回路1044に入力される。   In FIG. 6, a transfer signal (not shown) is sequentially output from the shift register 1041 in the scanning line driving circuit 104 based on the start pulse DY and the scanning-side transfer clock CLY, and the transfer that has passed through the NAND circuit 1042 and the NOT circuit 1043. The signal qk is input to the NAND circuit 1044.

NAND回路1044において、イネーブル信号ENBY1及びENBY2のいずれかを用いて波形整形が行われる。これにより、例えば転送信号qkのパルス幅が、イネーブル信号ENBY1又はENBY2のパルス幅に制限されると共に、各々異なる出力タイミングを有する信号が生成されることとなる。続いて、NOT回路1045を介して走査信号Gjとして出力される。   In the NAND circuit 1044, waveform shaping is performed using one of the enable signals ENBY1 and ENBY2. Thereby, for example, the pulse width of the transfer signal qk is limited to the pulse width of the enable signal ENBY1 or ENBY2, and signals having different output timings are generated. Subsequently, the scan signal Gj is output via the NOT circuit 1045.

本実施形態に係る液晶装置では、図6に示すように、イネーブル信号ENBY1及びENBY2におけるパルスは二山になっており、二山のうちの一方を、画像表示領域10aを上下に等しく分割した一方の部分領域における走査線の駆動に使用し、二山のうちの他方を、分割した他方の部分領域における走査線の駆動に使用している。即ち、本実施形態に係る液晶装置は、領域走査方式により画像の表示を行っている。具体的には例えば、走査線数が800本の場合、二山のうち一方を使用して1本目〜400本目の走査線を駆動し、他方を使用して401本目〜800本目の走査線を駆動する。これにより、高精細な液晶装置を実現することができる。   In the liquid crystal device according to the present embodiment, as shown in FIG. 6, the pulses in the enable signals ENBY1 and ENBY2 are two peaks, and one of the two peaks is divided equally into the image display region 10a up and down. The other of the two peaks is used for driving the scanning line in the other divided partial region. That is, the liquid crystal device according to the present embodiment displays an image by the area scanning method. Specifically, for example, when the number of scanning lines is 800, the first to 400th scanning lines are driven using one of the two peaks, and the 401st to 800th scanning lines are used using the other. To drive. Thereby, a high-definition liquid crystal device can be realized.

次に、図7乃至図10を参照して、NAND回路1044の具体的な構成について説明する。図7は、NAND回路1044の平面図であり、図8は、図7のA−A´線断面図であり、図9は、図7のB−B´線断面図であり、図10は、図7のC−C´線断面図である。尚、図7乃至図10では、各層・各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層・各部材毎に縮尺を異ならしめてある。また、図8乃至図10では、後述する層間絶縁膜43より上層側の構成要素については図示を省略している。   Next, a specific configuration of the NAND circuit 1044 will be described with reference to FIGS. 7 is a plan view of the NAND circuit 1044, FIG. 8 is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of FIG. 7, FIG. 9 is a cross-sectional view taken along the line BB ′ of FIG. FIG. 8 is a cross-sectional view taken along the line CC ′ of FIG. 7 to 10, the scales of the layers and the members are different from each other in order to make the layers and the members large enough to be recognized on the drawings. Further, in FIG. 8 to FIG. 10, the components on the upper layer side from the later-described interlayer insulating film 43 are not shown.

図7において、NAND回路1044は、TFTアレイ基板10上に設けられたトランジスタ411、413、415及び417を備えて構成されている。そして、トランジスタ415及び417間には、イネーブル信号配線1046及び1047が配置されている。ここで、トランジスタ411、416及び417は、本発明の「第1導電型トランジスタ」の一例としてのPチャネルトランジスタであり、トランジスタ412、413、414及び415は、本発明の「第2導電型トランジスタ」の一例としてのNチャネルトランジスタである。   In FIG. 7, the NAND circuit 1044 includes transistors 411, 413, 415, and 417 provided on the TFT array substrate 10. In addition, enable signal wirings 1046 and 1047 are arranged between the transistors 415 and 417. Here, the transistors 411, 416 and 417 are P-channel transistors as examples of the “first conductivity type transistor” of the present invention, and the transistors 412, 413, 414 and 415 are “second conductivity type transistors” of the present invention. As an example, an N-channel transistor.

尚、図7において、トランジスタ411、413、415及び417によって一つのNAND回路が構成され、トランジスタ411、412、414及び416によって他の一つのNAND回路が構成されている。即ち、図7は、第n本目の走査線に対応するNAND回路、及び第n+1本目の走査線に対応するNAND回路を示している。本実施形態に係る液晶装置では、トランジスタ411を二つのNAND回路で共有している。   In FIG. 7, transistors 411, 413, 415, and 417 constitute one NAND circuit, and transistors 411, 412, 414, and 416 constitute another NAND circuit. That is, FIG. 7 shows a NAND circuit corresponding to the nth scanning line and a NAND circuit corresponding to the (n + 1) th scanning line. In the liquid crystal device according to this embodiment, the transistor 411 is shared by two NAND circuits.

TFTアレイ基板10上には、上記トランジスタ411、413、415及び417、並びにイネーブル信号配線1046及び1047の他、これらを含む各種の構成が積層構造をなして備えられている。この積層構造は、図8に示すように、下から順に、トランジスタ411、413、415及び417を夫々構成する半導体層451、453、455及び457を含む第1層、ゲート電極を含む配線441、443及び445を含む第2層、イネーブル信号配線1046及び1047、電源配線VDD1、VDD2及びVSS、並びに配線433及び437を含む第3層、配線421を含む第4層を備えて構成されている。尚、電源配線VDD1及びVDD2は、図5におけるVDDに対応している。   On the TFT array substrate 10, in addition to the transistors 411, 413, 415 and 417, the enable signal wirings 1046 and 1047, various configurations including these are provided in a stacked structure. As shown in FIG. 8, this stacked structure includes, in order from the bottom, a first layer including semiconductor layers 451, 453, 455, and 417 constituting transistors 411, 413, 415, and 417, a wiring 441 including a gate electrode, The second layer including 443 and 445, the enable signal wirings 1046 and 1047, the power supply wirings VDD1, VDD2 and VSS, the third layer including the wirings 433 and 437, and the fourth layer including the wiring 421 are configured. The power supply wirings VDD1 and VDD2 correspond to VDD in FIG.

また、第1層及び第2層間には下地絶縁膜41が、第2層及び第3層間には層間絶縁膜42が、第3層及び第4層間には層間絶縁膜43が、夫々設けられており、前記各要素間が短絡することを防止している。また、これら各種の絶縁膜12、41、42及び43には、各層に含まれる配線等を相互に電気的に接続するためのコンタクトホール等が形成されている。   A base insulating film 41 is provided between the first layer and the second layer, an interlayer insulating film 42 is provided between the second layer and the third layer, and an interlayer insulating film 43 is provided between the third layer and the fourth layer. This prevents short-circuiting between the elements. Further, in these various insulating films 12, 41, 42 and 43, contact holes and the like for electrically connecting wirings and the like included in each layer are formed.

尚、図8には示されていないが、第1層には、半導体層452、454及び456が更に含まれており、第2層には、配線442、444及び446が更に含まれており、第3層には、配線431、432、434、435、436及び438が更に含まれており、第4層には、配線422が更に含まれている。また、第3層に含まれる各種配線は、例えば下層から順にアルミニウムからなる層、窒化チタンからなる層、プラズマ窒化膜からなる層の三層構造を有し、第4層に含まれる各種配線は、例えば下層にアルミニウムからなる層、上層に窒化チタンからなる層の二層構造を有している。   Although not shown in FIG. 8, the first layer further includes semiconductor layers 452, 454, and 456, and the second layer further includes wirings 442, 444, and 446. The third layer further includes wirings 431, 432, 434, 435, 436, and 438, and the fourth layer further includes wiring 422. The various wirings included in the third layer have a three-layer structure of, for example, an aluminum layer, a titanium nitride layer, and a plasma nitride film in order from the bottom layer. For example, it has a two-layer structure in which a lower layer is made of aluminum and an upper layer is made of titanium nitride.

再び図7に戻り、配線431は、コンタクトホール431aを介して配線441に電気的に接続されている。尚、配線441は、図5におけるゲートαに対応している。電源配線VDD1は、コンタクトホール439aを介して半導体層451に電気的に接続されている。尚、図7では便宜上、一つのコンタクトホールにのみ引き出し線を付与しているが、図7の上下方向に三つ連続して設けられたコンタクトホール全てを介して、電源配線VDD1及び半導体層451が接続されている。後述するコンタクトホール433a、433b、434a、434b、435a、435b、436a、436b、437a、438a、439b、439c、439d及び439eについても同様である。   Returning to FIG. 7 again, the wiring 431 is electrically connected to the wiring 441 through the contact hole 431a. The wiring 441 corresponds to the gate α in FIG. The power supply wiring VDD1 is electrically connected to the semiconductor layer 451 through the contact hole 439a. In FIG. 7, for the sake of convenience, a lead line is given to only one contact hole. However, the power supply wiring VDD1 and the semiconductor layer 451 are connected through all three contact holes provided in the vertical direction in FIG. Is connected. The same applies to contact holes 433a, 433b, 434a, 434b, 435a, 435b, 436a, 436b, 437a, 438a, 439b, 439c, 439d and 439e which will be described later.

配線433は、コンタクトホール433aを介して半導体層451に電気的に接続されていると共に、コンタクトホール433bを介して半導体層453に電気的に接続されている。また、配線433は、コンタクトホール421aを介して配線421に電気的に接続されている(図8参照)。配線421は、コンタクトホール421bを介して配線437に電気的に接続されている。   The wiring 433 is electrically connected to the semiconductor layer 451 through the contact hole 433a and electrically connected to the semiconductor layer 453 through the contact hole 433b. The wiring 433 is electrically connected to the wiring 421 through the contact hole 421a (see FIG. 8). The wiring 421 is electrically connected to the wiring 437 through the contact hole 421b.

配線435は、コンタクトホール435aを介して半導体層453に電気的に接続されていると共に、コンタクトホール453bを介して半導体層455に電気的に接続されている。電源配線VSSは、コンタクトホール439bを介して半導体層455に電気的に接続されていると共に、コンタクトホール439cを介して半導体層454に電気的に接続されている(図9参照)。   The wiring 435 is electrically connected to the semiconductor layer 453 through the contact hole 435a and electrically connected to the semiconductor layer 455 through the contact hole 453b. The power supply wiring VSS is electrically connected to the semiconductor layer 455 through the contact hole 439b and electrically connected to the semiconductor layer 454 through the contact hole 439c (see FIG. 9).

イネーブル信号配線1046は、コンタクトホール1046aを介して配線443に電気的に接続されている(図8参照)。尚、配線443は、図5におけるゲートβに対応している。配線437は、コンタクトホール437aを介して半導体層457に電気的に接続されていると共に、コンタクトホール437bを介して配線445に電気的に接続されている。尚、配線445は、図5におけるOUTに対応している。電源配線VDD2は、コンタクトホール439dを介して半導体層457に電気的に接続されていると共に、コンタクトホール439eを介して半導体層456に電気的に接続されている(図10参照)。   The enable signal wiring 1046 is electrically connected to the wiring 443 through the contact hole 1046a (see FIG. 8). Note that the wiring 443 corresponds to the gate β in FIG. The wiring 437 is electrically connected to the semiconductor layer 457 through the contact hole 437a and electrically connected to the wiring 445 through the contact hole 437b. Note that the wiring 445 corresponds to OUT in FIG. The power supply wiring VDD2 is electrically connected to the semiconductor layer 457 through the contact hole 439d and is also electrically connected to the semiconductor layer 456 through the contact hole 439e (see FIG. 10).

配線432は、コンタクトホール432aを介して配線442に電気的に接続されている。配線434は、コンタクトホール434aを介して半導体層451に電気的に接続されていると共に、コンタクトホール434bを介して半導体層452に電気的に接続されている。また、配線434は、コンタクトホール422aを介して配線422に電気的に接続されている。配線422は、コンタクトホール422bを介して配線438に電気的に接続されている。   The wiring 432 is electrically connected to the wiring 442 through the contact hole 432a. The wiring 434 is electrically connected to the semiconductor layer 451 through the contact hole 434a and electrically connected to the semiconductor layer 452 through the contact hole 434b. The wiring 434 is electrically connected to the wiring 422 through the contact hole 422a. The wiring 422 is electrically connected to the wiring 438 through the contact hole 422b.

配線436は、コンタクトホール436aを介して半導体層452に電気的に接続されていると共に、コンタクトホール436bを介して半導体層454に電気的に接続されている。イネーブル信号配線1047は、コンタクトホール1047aを介して配線444に電気的に接続されている。   The wiring 436 is electrically connected to the semiconductor layer 452 through the contact hole 436a and electrically connected to the semiconductor layer 454 through the contact hole 436b. The enable signal wiring 1047 is electrically connected to the wiring 444 through the contact hole 1047a.

配線438は、コンタクトホール438aを介して半導体層456に電気的に接続されていると共に、コンタクトホール438bを介して配線446に電気的に接続されている。   The wiring 438 is electrically connected to the semiconductor layer 456 through the contact hole 438a and electrically connected to the wiring 446 through the contact hole 438b.

上述の如く構成されたNAND回路1044の距離W1は、約10μm(マイクロメートル)である。これにより、画素ピッチの微細化を実現することが可能となる。また、図7に示すように、コンタクトホール1046aからトランジスタ415までの距離と、コンタクトホール1046aからトランジスタ417までの距離とがほぼ同じであり且つ短いので、トランジスタ415及び417夫々に入力されるイネーブル信号ENBY1の振幅をほぼ同じにすることができる。同様に、トランジスタ414及び416夫々に入力されるイネーブル信号ENBY2の振幅をほぼ同じにすることができる。   The distance W1 of the NAND circuit 1044 configured as described above is about 10 μm (micrometer). As a result, it is possible to reduce the pixel pitch. Further, as shown in FIG. 7, since the distance from the contact hole 1046a to the transistor 415 and the distance from the contact hole 1046a to the transistor 417 are almost the same and short, the enable signal input to each of the transistors 415 and 417. The amplitude of ENBY1 can be made substantially the same. Similarly, the amplitude of the enable signal ENBY2 input to each of the transistors 414 and 416 can be made substantially the same.

一方、本実施形態では、トランジスタ411、413、415及び417(或いは、トランジスタ411、412、414及び416)を、Y方向に沿って配列したため、走査線駆動回路104のY方向の距離が長くなるが、例えば走査線駆動回路104におけるシフトレジスタ1041をシール領域に配置しさえすれば、NAND回路1044のY方向の距離が増加することによる、例えば画像表示領域10aに対する影響を解消することができる。尚、シフトレジスタ1041がシール領域に配置されたとしても、液晶装置の動作に何らの影響を与えないことが本願発明者の研究により判明している。   On the other hand, in this embodiment, since the transistors 411, 413, 415, and 417 (or the transistors 411, 412, 414, and 416) are arranged along the Y direction, the distance in the Y direction of the scanning line driving circuit 104 becomes long. However, for example, as long as the shift register 1041 in the scanning line driving circuit 104 is arranged in the seal region, the influence on the image display region 10a due to the increase of the distance in the Y direction of the NAND circuit 1044 can be eliminated. It has been found by the inventor's research that even if the shift register 1041 is arranged in the seal region, it does not affect the operation of the liquid crystal device.

<電子機器>
次に、図11を参照しながら、上述した液晶装置を電子機器の一例であるプロジェクタに適用した場合を説明する。上述した液晶装置における液晶パネル100は、プロジェクタのライトバルブとして用いられている。図11は、プロジェクタの構成例を示す平面図である。
<Electronic equipment>
Next, a case where the above-described liquid crystal device is applied to a projector which is an example of an electronic device will be described with reference to FIG. The liquid crystal panel 100 in the above-described liquid crystal device is used as a light valve of a projector. FIG. 11 is a plan view showing a configuration example of the projector.

図11に示すように、プロジェクタ1100内部には、ハロゲンランプ等の白色光源からなるランプユニット1102が設けられている。このランプユニット1102から射出された投射光は、ライトガイド1104内に配置された4枚のミラー1106および2枚のダイクロイックミラー1108によってRGBの3原色に分離され、各原色に対応するライトバルブとしての液晶パネル1110R、1110Bおよび1110Gに入射される。   As shown in FIG. 11, a projector 1100 includes a lamp unit 1102 made up of a white light source such as a halogen lamp. The projection light emitted from the lamp unit 1102 is separated into three primary colors of RGB by four mirrors 1106 and two dichroic mirrors 1108 arranged in the light guide 1104, and serves as a light valve corresponding to each primary color. The light enters the liquid crystal panels 1110R, 1110B, and 1110G.

液晶パネル1110R、1110Bおよび1110Gの構成は、上述した液晶装置と同等の構成を有しており、画像信号処理回路から供給されるR、G、Bの原色信号でそれぞれ駆動されるものである。そして、これらの液晶パネルによって変調された光は、ダイクロイックプリズム1112に3方向から入射される。このダイクロイックプリズム1112においては、RおよびBの光が90度に屈折する一方、Gの光が直進する。したがって、各色の画像が合成される結果、投射レンズ1114を介して、スクリーン等にカラー画像が投写されることとなる。   The configurations of the liquid crystal panels 1110R, 1110B, and 1110G have the same configuration as that of the above-described liquid crystal device, and are driven by R, G, and B primary color signals supplied from the image signal processing circuit, respectively. The light modulated by these liquid crystal panels enters the dichroic prism 1112 from three directions. In this dichroic prism 1112, R and B light is refracted at 90 degrees, while G light travels straight. Accordingly, as a result of the synthesis of the images of the respective colors, a color image is projected onto the screen or the like via the projection lens 1114.

ここで、各液晶パネル1110R、1110Bおよび1110Gによる表示像について着目すると、液晶パネル1110R、1110Bによる表示像は、液晶パネル1110Gによる表示像に対して左右反転することが必要となる。   Here, paying attention to the display images by the liquid crystal panels 1110R, 1110B, and 1110G, the display images by the liquid crystal panels 1110R and 1110B need to be horizontally reversed with respect to the display images by the liquid crystal panel 1110G.

尚、液晶パネル1110R、1110Bおよび1110Gには、ダイクロイックミラー1108によって、R、G、Bの各原色に対応する光が入射するので、カラーフィルタを設ける必要はない。   Since light corresponding to the primary colors R, G, and B is incident on the liquid crystal panels 1110R, 1110B, and 1110G by the dichroic mirror 1108, it is not necessary to provide a color filter.

尚、図11を参照して説明した電子機器の他にも、モバイル型のパーソナルコンピュータや、携帯電話、液晶テレビ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた装置等が挙げられる。そして、これらの各種電子機器に適用可能なのは言うまでもない。   In addition to the electronic device described with reference to FIG. 11, a mobile personal computer, a mobile phone, a liquid crystal television, a viewfinder type or a monitor direct view type video tape recorder, a car navigation device, a pager, and an electronic notebook , Calculators, word processors, workstations, videophones, POS terminals, devices with touch panels, and the like. Needless to say, the present invention can be applied to these various electronic devices.

また本発明は、上述の実施形態で説明した液晶装置以外にも、シリコン基板上に素子を形成する反射型液晶装置(LCOS)、プラズマディスプレイ(PDP)、電界放出型ディスプレイ(FED、SED)、有機ELディスプレイ、デジタルマイクロミラーデバイス(DMD)、電気泳動装置等にも適用可能である。   In addition to the liquid crystal device described in the above embodiment, the present invention also includes a reflective liquid crystal device (LCOS) in which elements are formed on a silicon substrate, a plasma display (PDP), a field emission display (FED, SED), The present invention can also be applied to an organic EL display, a digital micromirror device (DMD), an electrophoresis apparatus, and the like.

尚、本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨、或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う電気光学装置、電気光学装置用駆動回路、及び電気光学装置を具備してなる電子機器もまた、本発明の技術的範囲に含まれるものである。   The present invention is not limited to the above-described embodiments, and can be appropriately changed without departing from the spirit or idea of the invention that can be read from the claims and the entire specification. An optical device, an electro-optical device drive circuit, and an electronic apparatus including the electro-optical device are also included in the technical scope of the present invention.

本発明の実施形態に係る液晶装置の全体構成を示す平面図である。It is a top view which shows the whole structure of the liquid crystal device which concerns on embodiment of this invention. 図1のH−H´線断面図である。It is the HH 'sectional view taken on the line of FIG. 本発明の実施形態に係る液晶装置の要部の概略構成を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows schematic structure of the principal part of the liquid crystal device which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る走査線駆動回路の回路構成を示す図である。It is a figure which shows the circuit structure of the scanning line drive circuit which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係るNAND回路の回路構成を示す回路図である。1 is a circuit diagram showing a circuit configuration of a NAND circuit according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施形態に係る走査線駆動回路において、走査信号を生成する過程を説明するためのタイミングチャートである。4 is a timing chart for explaining a process of generating a scanning signal in the scanning line driving circuit according to the embodiment of the present invention. 本発明の実施形態に係るNAND回路の平面図である。1 is a plan view of a NAND circuit according to an embodiment of the present invention. 図7のA−A´線断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view taken along line AA ′ in FIG. 7. 図7のB−B´線断面図である。FIG. 8 is a sectional view taken along line BB ′ of FIG. 図7のC−C´線断面図である。It is CC 'sectional view taken on the line of FIG. 電気光学装置を適用した電子機器の一例たるプロジェクタの構成を示す平面図である。It is a top view which shows the structure of the projector which is an example of the electronic device to which the electro-optical apparatus is applied.

符号の説明Explanation of symbols

100…液晶パネル、100a…走査線、100b…データ線、101…データ線駆動回路、104…走査線駆動回路、411〜417…トランジスタ、1041…シフトレジスタ、1042、1044…NAND回路、1043、1045…NOT回路、1046、1047…イネーブル信号配線   DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 ... Liquid crystal panel, 100a ... Scan line, 100b ... Data line, 101 ... Data line drive circuit, 104 ... Scan line drive circuit, 411-417 ... Transistor, 1041 ... Shift register, 1042, 1044 ... NAND circuit, 1043, 1045 ... NOT circuit, 1046, 1047 ... Enable signal wiring

Claims (7)

基板と、
該基板上の画素領域において互いに交差する複数のデータ線及び複数の走査線と、
前記複数のデータ線にデータ信号を供給するデータ線駆動回路と、
前記複数の走査線に走査信号を所定順序で供給する走査線駆動回路と、
該走査線駆動回路に前記走査信号の出力期間を制御するためのイネーブル信号を供給する複数のイネーブル信号配線と
を備え、
前記走査線駆動回路は、前記イネーブル信号に基づいて前記走査信号の出力期間を制御するNAND回路を含み、
前記NAND回路を構成する複数のトランジスタのうち、前記走査線の延在方向に沿って配置された互いに隣り合う一のトランジスタ及び他のトランジスタ間に、前記複数のイネーブル信号配線のうちの少なくとも一のイネーブル信号配線が配置され、
前記一のイネーブル信号配線は、前記基板上で平面的に見て、前記データ線の延在方向に沿って配置された配線部分を含み、該配線部分が、前記一のトランジスタ及び前記他のトランジスタ間に配置されている
ことを特徴とする電気光学装置。
A substrate,
A plurality of data lines and a plurality of scanning lines intersecting with each other in a pixel region on the substrate;
A data line driving circuit for supplying a data signal to the plurality of data lines;
A scanning line driving circuit for supplying scanning signals to the plurality of scanning lines in a predetermined order;
A plurality of enable signal lines for supplying an enable signal for controlling an output period of the scan signal to the scan line driving circuit;
The scanning line driving circuit includes a NAND circuit that controls an output period of the scanning signal based on the enable signal,
Among the plurality of transistors constituting the NAND circuit, at least one of the plurality of enable signal wirings is disposed between one adjacent transistor and another transistor arranged along the extending direction of the scanning line. Enable signal wiring is placed,
The one enable signal wiring includes a wiring portion arranged along the extending direction of the data line when viewed in plan on the substrate, and the wiring portion includes the one transistor and the other transistor. An electro-optical device characterized by being disposed between.
前記走査線駆動回路は、前記所定順序として領域走査に対応する順序で、前記複数の走査線に走査信号を供給することを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。   The electro-optical device according to claim 1, wherein the scanning line driving circuit supplies scanning signals to the plurality of scanning lines in an order corresponding to region scanning as the predetermined order. 前記一のトランジスタ及び前記他のトランジスタ間に、前記複数のイネーブル信号配線が配置されていることを特徴とする請求項1または2に記載の電気光学装置。   3. The electro-optical device according to claim 1, wherein the plurality of enable signal wirings are arranged between the one transistor and the other transistor. 前記一のトランジスタは、第1導電型トランジスタであり、
前記他のトランジスタは、第2導電型トランジスタである
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の電気光学装置。
The one transistor is a first conductivity type transistor;
The electro-optical device according to any one of claims 1 to 3, wherein the other transistor is a second conductivity type transistor.
前記複数のトランジスタは、同一平面上に配置されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の電気光学装置。   The electro-optical device according to claim 1, wherein the plurality of transistors are arranged on the same plane. 基板と、該基板上の画素領域において互いに交差する複数のデータ線及び複数の走査線とを備える電気光学装置を駆動する電気光学装置用駆動回路であって、
前記複数のデータ線にデータ信号を供給するデータ線駆動回路と、
前記複数の走査線に走査信号を所定順序で供給する走査線駆動回路と、
該走査線駆動回路に前記走査信号の出力期間を制御するためのイネーブル信号を供給する複数のイネーブル信号配線と
を備え、
前記走査線駆動回路は、前記イネーブル信号に基づいて前記走査信号の出力期間を制御するNAND回路を含み、
前記NAND回路を構成する複数のトランジスタのうち、前記走査線の延在方向に沿って配置された互いに隣り合う一のトランジスタ及び他のトランジスタ間に、前記複数のイネーブル信号配線のうちの少なくとも一のイネーブル信号配線が配置され、
前記一のイネーブル信号配線は、前記基板上で平面的に見て、前記データ線の延在方向に沿って配置された配線部分を含み、該配線部分が、前記一のトランジスタ及び前記他のトランジスタ間に配置されている
ことを特徴とする電気光学装置用駆動回路。
An electro-optical device drive circuit for driving an electro-optical device comprising a substrate and a plurality of data lines and a plurality of scanning lines intersecting each other in a pixel region on the substrate,
A data line driving circuit for supplying a data signal to the plurality of data lines;
A scanning line driving circuit for supplying scanning signals to the plurality of scanning lines in a predetermined order;
A plurality of enable signal lines for supplying an enable signal for controlling an output period of the scan signal to the scan line driving circuit;
The scanning line driving circuit includes a NAND circuit that controls an output period of the scanning signal based on the enable signal,
Among the plurality of transistors constituting the NAND circuit, at least one of the plurality of enable signal wirings is disposed between one adjacent transistor and another transistor arranged along the extending direction of the scanning line. Enable signal wiring is placed,
The one enable signal wiring includes a wiring portion arranged along the extending direction of the data line when viewed in plan on the substrate, and the wiring portion includes the one transistor and the other transistor. A drive circuit for an electro-optical device, which is disposed between the two.
請求項1乃至5のいずれか一項に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the electro-optical device according to claim 1.
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