JP5082073B2

JP5082073B2 - ファイバブラッググレーティングの調整方法、ファイバブラッググレーティングを備えた光部品の製造方法及び同光部品の製造装置

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Publication number: JP5082073B2
Application number: JP2007086091A
Authority: JP
Inventors: 篤至横谷; 好成前薗
Original assignee: Japan Science and Technology Agency; National Institute of Japan Science and Technology Agency
Current assignee: Japan Science and Technology Agency; National Institute of Japan Science and Technology Agency
Priority date: 2006-08-28
Filing date: 2007-03-28
Publication date: 2012-11-28
Anticipated expiration: 2027-03-28
Also published as: JP2008083670A

Description

本発明は、ファイバブラッググレーティングの消去方法、ファイバブラッググレーティングの調整方法、ファイバブラッググレーティングを備えた光部品の製造方法及び同光部品の製造装置に関するものである。

昨今、ひずみセンサの一種として、ファイバブラッググレーティング（以下、単に「ＦＢＧ」と呼ぶ。）が形成された光ファイバで構成された光部品が用いられている。

ＦＢＧとは、光ファイバのコアの一部に屈折率の高い部分と、屈折率の低い部分とを長手方向に一定間隔で交互に配置して回折格子（グレーティング）を形成したものであって、ＦＢＧが形成された光ファイバに光を入射させると、回折格子における回折条件に基づく反射光が生じることとなっている。

ここで、ＦＢＧにおける交互に連続する屈折率の高い部分と屈折率の低い部分のピッチをΛ、ＦＢＧ部分の実効屈折率をｎ_effとした場合では、ＦＢＧはλ_Ｂ＝２×ｎ_eff×Λの波長の反射光を生じさせるものであり、このようなＦＢＧが形成された光ファイバからなる光部品をひずみセンサとして用いた場合には、ＦＢＧ部分に生じたひずみによって屈折率の高い部分と屈折率の低い部分のピッチが変動して反射光の波長が変動し、この波長の変動量からひずみ量を計測している。

光ファイバにＦＢＧを形成する場合には、通常、光ファイバに沿ってフェーズマスクを配置して、フェーズマスク越しに光ファイバに対して紫外線レーザ光を照射することにより光ファイバのコアに屈折率を異ならせた領域を所定間隔で形成している。

ここで、光ファイバは、紫外光の照射によってコアの屈折率が変化するいわゆるフォトリフラクティブ効果（光励起屈折率変化）、あるいはフォトセンシティブ効果などを有する光ファイバであり、一般的にはコア部分にゲルマニウム原子がドーピングされた光ファイバが用いられることが多い。

また、フェーズマスクは、光ファイバに対向させた面に、ＦＢＧに形成する屈折率の高い部分と屈折率の低い部分のピッチΛの２倍のピッチで光ファイバの長手方向に複数のスリットを設けたフィルタである。

フェーズマスクでは、紫外線レーザ光が入射されると、この紫外線レーザ光を回折させて光ファイバに照射し、光ファイバにピッチをΛとする干渉縞を生じさせてＦＢＧを形成している（例えば、特許文献１参照。）。
特開２００５−１２７７４４号公報

しかしながら、光ファイバに形成したＦＢＧは、製造バラツキによって所望の特性からのズレが大きくなりやすく、たとえばひずみセンサとして用いる場合に、十分な検出精度が得られないおそれがあった。

本発明者らはこのような現状に鑑み、製造精度の高いＦＢＧを備えた光部品を提供すべく研究開発を行って、本発明を成すに至ったものである。

また、本発明のＦＢＧの調整方法では、紫外光の照射によってコアの屈折率を調整可能な光ファイバに、紫外線レーザ光の干渉光を照射して形成したファイバブラッググレーティングの調整方法であって、ファイバブラッググレーティングが形成された光ファイバを収容した容器内を窒素置換する窒素置換ステップと、窒素置換ステップにおいて窒素置換された容器内で、ファイバブラッググレーティングに波長１４６ｎｍの紫外光を照射してファイバブラッググレーティングを消去するステップと、消去するステップにおいてファイバブラッググレーティングが消去された光ファイバに、波長２４８ｎｍの紫外光レーザ光の干渉光を照射してファイバブラッググレーティングを再形成するステップと、光ファイバに検査光を入射してファイバブラッググレーティングにより反射される光の波長を計測しながら、ファイバブラッググレーティングに波長１４６ｎｍの紫外光を照射してファイバブラッググレーティングを調整するステップと、を含み、消去するステップと再形成するステップと調整するステップとにより、ファイバブラッググレーティングの屈折率を調整することとした。

さらに、容器内は調整するステップにおいて大気圧以下に減圧し、減圧状態で紫外光を照射することにも特徴を有し、そのうえ、光ファイバはコアにゲルマニウム原子をドーピングした光ファイバであって、波長２４８ｎｍの紫外線レーザ光を照射してＦＢＧを形成しており、調整するステップでは、ＦＢＧ部分に波長１４６ｎｍの紫外光を照射することにも特徴を有するものである。

また、本発明のＦＢＧを備えた光部品の製造方法では、紫外光の照射によってコアの屈折率を調整可能な光ファイバに、紫外線レーザ光の干渉光を照射して形成したファイバブラッググレーティングを備えた光部品の製造方法であって、ファイバブラッググレーティングが形成された光部品を収容した容器内を窒素置換する窒素置換ステップと、窒素置換ステップにおいて窒素置換された容器内で、ファイバブラッググレーティングに波長１４６ｎｍの紫外光を照射してファイバブラッググレーティングを消去するステップと、消去するステップにおいてファイバブラッググレーティングが消去された光部品に、波長２４８ｎｍの紫外光レーザ光の干渉光を照射してファイバブラッググレーティングを再形成するステップと、光ファイバに検査光を入射してファイバブラッググレーティングにより反射される光の波長を計測しながら、ファイバブラッググレーティングに波長１４６ｎｍの紫外光を照射してファイバブラッググレーティングを調整するステップと、を含み、消去するステップと再形成するステップと調整するステップとにより、ファイバブラッググレーティングの屈折率を調整することとした。

また、本発明のＦＢＧを備えた光部品の製造装置では、紫外光の照射によってコアの屈折率を調整可能な光ファイバに、紫外線レーザ光の干渉光を照射して形成したファイバブラッググレーティングを備えた光部品を収容する容器と、この容器内に窒素を導入する窒素ボンベと、容器内に収容された光部品に形成されたファイバブラッググレーティングに、波長１４６ｎｍの紫外光を照射する第１光源と、光部品に波長２４８ｎｍの紫外光レーザ光の干渉光を照射する第２光源と、を備え、第１の光源からの紫外光の照射によってファイバブラッググレーティングを消去した後、第２の光源からの紫外光レーザ光の干渉光の照射により光部品にファイバブラッググレーティングを再形成し、その後、再形成されたファイバブラッググレーティングの屈折率を第１の光源からの紫外光の照射によって調整することとした。

本発明では、光ファイバで構成した光部品において、光ファイバの所定位置に形成したＦＢＧに紫外光を照射してＦＢＧ部分の屈折率を調整しているものであり、ＦＢＧにおける屈折率をＦＢＧの形成後に調整することにより、特性バラツキの抑制されたＦＢＧを備えた光部品を製造することができる。

特に、ＦＢＧ部分に照射する紫外光の照射量を調整することによって、ＦＢＧ部分の屈折率を均一化させてＦＢＧを消去することもでき、ＦＢＧの消去後に、ＦＢＧを再度形成することもできる。

また、ＦＢＧ部分の屈折率を調整すべく紫外光を照射する際に、ＦＢＧを備えた光ファイバを収容した容器内を大気圧以下に減圧し、減圧状態で紫外光を照射することにより、温度変化時のＦＢＧの透過減衰率の変動を抑制でき、温度変化に耐性のあるＦＢＧを製造可能とすることができる。

本発明では、ファイバブラッググレーティング（以下、単に「ＦＢＧ」と呼ぶ。）が形成された光ファイバに紫外光を照射した際に、ＦＢＧにおける屈折率の高い部分と屈折率の低い部分では、屈折率の低い部分の方が屈折率の高い部分よりも屈折率の変動率が大きいことを利用して、屈折率の低い部分の屈折率を屈折率の高い部分の屈折率よりも大きく変化させてＦＢＧ部分の実効屈折率を調整しているものである。

このように、ＦＢＧが形成された光ファイバで構成された光部品は、紫外光の照射によってＦＢＧにおける特性を調整することができ、製造バラツキが抑制された光部品を提供可能とすることができる。

特に、光ファイバがコアにゲルマニウム原子がドーピングされた光ファイバであって、フェーズマスク越しに波長２４８ｎｍの紫外線レーザ光を光ファイバに照射してＦＢＧを形成した場合には、ＦＢＧ部分に例えば波長１４６ｎｍの紫外光を照射することにより高精度で屈折率を調整でき、照射時間を調整することによりＦＢＧ部分の屈折率を均一化させてＦＢＧを消去することもできる。

光ファイバのＦＢＧ部分に紫外光を照射してＦＢＧ部分の屈折率を調整する際には、ＦＢＧ部分は窒素置換された容器内に収容して紫外光を照射することにより、ＦＢＧ部分の屈折率を安定的に調整できる。

しかも、容器内は、大気圧以下に減圧し、減圧状態で紫外光を照射することにより、温度変化時の減衰率の変動を抑制でき、温度変化に耐性のあるＦＢＧを形成できる。

以下において、図面に基づいて本発明の実施形態を詳説する。図１は、本実施形態のＦＢＧを備えた光部品の製造装置の概略模式図である。

光部品の製造装置では、ＦＢＧを備えた光部品Ａを収容する容器11と、容器11内の光部品Ａに検査光を入射してＦＢＧにより反射される光の波長を計測する計測器13と、ＦＢＧ部分に紫外光を照射する光源14とを備えている。図１中、15は容器11内を窒素置換するために容器11内に導入する窒素を貯蔵した窒素ボンベ、16は容器11に収容された光部品Ａに検査光を入射させるための検査光用光源である。

光部品Ａは、コアにゲルマニウム原子がドーピングされた光ファイバであって、所定位置にフェーズマスク越しに波長２４８ｎｍの紫外線レーザ光を照射してＦＢＧを形成している。

容器11は、本実施形態では、光部品Ａが収容される筒状の収容部11aと、この収容部11aに収容された光部品Ａに照射する紫外光の照射光路に沿った筒状の光路部11bとで構成している。容器11はステンレス製としている。

収容部11aの両端は、それぞれ光ファイバが接続されるコネクタＣを備えた閉塞板11a-1で閉塞しており、この閉塞板11a-1は収容部11aに着脱自在としている。光部品Ａは、コネクタＣを介して閉塞板11a-1間に架設され、光部品Ａの閉塞板11a-1間への架設後に閉塞板11a-1を収容部11aに装着して、光部品Ａを収容部11a内に収容可能としている。

光部品Ａを閉塞板11a-1間に架設する場合には、光部品ＡのＦＢＧ部分を紫外光の照射光路上に位置させて架設している。

なお、収容部11aは、収容した光部品Ａを窒素雰囲気下に維持できれば上記の形態に限定するものではなく、適宜の形態で光部品Ａを収容部11a内に配置してもよい。

一方の閉塞板11a-1には接続用の光ファイバf1を介して査光用光源16と接続し、他方の閉塞板11a-1には接続用の光ファイバf2を介して計測器13と接続している。なお、収容部11a内の光部品Ａからそれぞれ光ファイバの両端を引き出して、査光用光源16及び計測器13にそれぞれ直接接続してもよい。

査光用光源16は、本実施形態ではＡＳＥ(Amplified Spontaneous Emission)光源を用いて所定の光を光部品Ａに入射している。

計測器13は、本実施形態では光スペクトラムアナライザを用い、光部品ＡにおけるＦＢＧでの反射によって反射光部分の強度の低下を計測器13で検出することにより、反射光の波長を計測している。

収容部11aから突出させた光路部11bの端部は、容器11内の雰囲気を調整するために設けている雰囲気調整管17を介して光源14に接続している。

光源14は、本実施形態では、波長１４６ｎｍの紫外光を照射可能なクリプトンエキシマランプを用いており、容器11の光部品ＡのＦＢＧ部分に波長１４６ｎｍの紫外光を照射可能としている。

雰囲気調整管17は、上端側に第１連結管17aを設けるとともに、下端側に第２連結管17bを設け、第２連結管17bに窒素ボンベ15に接続して、この窒素ボンベ15によって容器11内に窒素を導入して容器11内を窒素雰囲気としている。第１連結管17aからは、窒素ボンベ15による容器11内への窒素導入にともなって自然に窒素を放出しているが、適宜の吸気ポンプを設けて容器11内の窒素置換を円滑に行えるようにしてもよいし、さらには、容器11内を減圧状態としてもよく、可能であれば後述するように大気圧以下に減圧することが望ましい。なお、図示していないが、第２連結管17bには適宜の流量調整弁を設け、窒素の供給量を調整している。

このように構成した光部品の製造装置では、次のようにして光部品ＡにおけるＦＢＧの調整を行っている。

まず、ＦＢＧが形成されている光部品Ａを閉塞板11a-1間に架設して、閉塞板11a-1を収容部11aに装着し、光部品Ａを容器11に収容している。

次いで、接続用の光ファイバf1,f2を用いて査光用光源16及び計測器13を光部品Ａに接続するとともに、窒素ボンベ15から容器11内に窒素を送給して容器11内を窒素置換している。

容器11内が窒素置換されたところで、査光用光源16から光部品Ａに検査光を入射して、計測器13で光部品ＡのＦＢＧによる反射光の波長を計測しながら、光源14から波長１４６ｎｍの紫外光の照射を開始する。

光部品ＡのＦＢＧでは、紫外光の照射にともなってＦＢＧ部分の実効屈折率が、たとえば紫外光の照射前の実効屈折率ｎ₁から照射後の実効屈折率ｎ₂（＞ｎ₁）に変化することにより、ＦＢＧでの反射波の波長が、紫外光の照射前のλ₁＝２×ｎ₁×Λから、紫外光の照射前のλ₂＝２×ｎ₂×Λとなって、図２に示すように、計測器13で計測される等価損失のボトムとなる波長がシフトすることとなる。

図３は、波長１４６ｎｍの紫外光の照射時間と、ＦＢＧによる反射波の中心波長との関係を示したグラフである。

図４は、光源としてキセノンエキシマランプを用いて波長１７２ｎｍの紫外光の照射を行った場合の照射時間と、ＦＢＧによる反射波の中心波長との関係を示したグラフである。

図３及び図４に示すように、紫外光の照射によってＦＢＧによる反射波の波長を調整することができ、特に、照射時間によって調整可能であることがわかる。光部品の製造装置では、計測器13での検出値があらかじめ設定した値となったところで紫外光の照射を停止してＦＢＧの調整を終了し、光部品Ａを容器11から取り出している。

図３及び図４に示すように、各反射波のシフト量は、波長１７２ｎｍの場合が約１．６ｐｍ／ｍｉｎであり、波長１４６ｎｍの場合が約０．８ｐｍ／ｍｉｎであって、波長１７２ｎｍの方が効率よく反射波の波長をシフトさせることができるように見えるが、波長１７２ｎｍの紫外光の照射するキセノンエキシマランプは１５ｍＷ／ｃｍ^２であるのに対し、波長１４６ｎｍの紫外光の照射するクリプトンエキシマランプは１．８ｍＷ／ｃｍ^２であるので、１．０ｍＷ／ｃｍ^２の光強度での１分当たりのシフト量は、波長１７２ｎｍの場合が約０．１ｐｍ／ｍｉｎであり、波長１４６ｎｍの場合が約０．４ｐｍ／ｍｉｎとなり、波長１４６ｎｍの紫外光を用いた方が高効率であることがわかる。

さらに、図５に示す波長１４６ｎｍの紫外光の照射終了後におけるＦＢＧによる反射波の波長の時間変動を示したグラフ、及び図６に示す波長１７２ｎｍの紫外光の照射終了後におけるＦＢＧによる反射波の波長の時間変動を示したグラフのように、波長１７２ｎｍを用いた場合には、紫外光の照射終了後に大きな変動が生じるのに対して、波長１４６ｎｍを用いた場合には、紫外光の照射終了後に大きな変動が生じることがなく、ＦＢＧを確実に調整可能であることがわかる。

このように、ＦＢＧが形成された光ファイバでは、紫外光を照射することによってＦＢＧにおける反射波の波長を調整することができ、特に、光ファイバのコアに屈折率の高い部分と屈折率の低い部分とを所定ピッチΛで交互に連続させて形成したＦＢＧでは、紫外光の照射にともなって、屈折率の低い部分では屈折率の高い部分よりも屈折率が大きく変動するため、紫外光を長時間照射することによって、屈折率の差を小さくすることができ、ＦＢＧを消去することができる。

したがって、たとえば、図７に示すように、光ファイバで構成される光部品A'を収容した収容部11a'では、収容部11a'内の光部品A'にＦＢＧの調整用の紫外光を照射するための照射光路に沿った第１光路部11b'を設けるとともに、収容部11a'内の光部品A'にＦＢＧを形成するための紫外線レーザ光を照射するための照射光路に沿った第２光路部11c'を設けて、所定の紫外光を収容部11a'内の光部品A'のＦＢＧ部分に照射してＦＢＧを一旦消去した後、第２光路部11c'から光部品A'にフェーズマスクＤ越しに波長２４８ｎｍの紫外線レーザ光を照射してＦＢＧを再形成してもよい。さらに、再形成されたＦＢＧに紫外光を照射して、反射波の波長調整を行ってもよい。

なお、ＦＢＧの形成時に、フェーズマスクＤは光部品A'を構成する光ファイバにできるだけ近接させて配置することが望ましいが、フェーズマスクＤを光ファイバに常に近接させて配置していた場合には、ＦＢＧの調整用に照射した紫外光がフェーズマスクＤに反射して光ファイバのコアの屈折率にムラが生じるおそれがある。

そこで、ＦＢＧの調整用の紫外光を照射する場合には、フェーズマスクＤを光ファイバから離隔させておくことが望ましく、図７に示すように、ＦＢＧの調整に用いる紫外光の照射方向L1と、ＦＢＧの形成に用いる紫外線レーザ光の照射方向L2とを交差状態に配置することにより、フェーズマスクＤを、ＦＢＧの調整に用いる紫外光の照射方向L1における光ファイバの後方側に平行移動させて待避させることにより、フェーズマスクＤでの反射波が光ファイバに当たることを防止でき、光ファイバのコアの屈折率にムラが生じることを防止できる。

そして、ＦＢＧを形成する場合には、フェーズマスクＤ越しに紫外線レーザ光を照射できるようにフェーズマスクＤを移動させてＦＢＧを形成することができる。この場合、フェーズマスクＤの待避前と、フェーズマスクＤの復帰後とで光ファイバに対するフェーズマスクＤの距離に変動がなく、フェーズマスクＤを適正位置に配置できる。

なお、ＦＢＧの形成は、フェーズマスクＤを用いて行う場合に限定するものではなく、例えば二光束干渉法で行ってもよい。

上述した実施形態では、容器11内を窒素置換しているだけであるが、容器11内を窒素置換した後に容器11内を大気圧以下に減圧しながら調整用の紫外光を照射することにより、温度変化時におけるＦＢＧの透過減衰率の変動が小さいＦＢＧを形成できる。

すなわち、図８に示すように、波長２４８ｎｍの紫外線レーザ光を光ファイバに照射してＦＢＧを形成した場合には、温度が高くなるにつれてＦＢＧの反射波長が長波長側へシフトするだけでなく、ＦＢＧの透過減衰量が減少することとなっている。

これに対して、波長２４８ｎｍの紫外線レーザ光を光ファイバに照射してＦＢＧを形成した後、この光ファイバに大気圧以下の窒素雰囲気下でキセノンエキシマランプを用いて波長１７２ｎｍの紫外光の照射を行った場合には、図９に示すように、温度が高くなるにつれてＦＢＧの反射波長は長波長側へシフトするが、ＦＢＧの透過減衰量の減少を抑制することができた。

図１０は、温度に対する透過減衰量の変化を減圧状態での紫外光照射の有無で比較したものであり、減圧状態で紫外光を照射した場合には、１３０℃まで透過減衰量の現象が見られず、温度変化に耐性を有していることが確認された。したがって、紫外線レーザ光の照射のみで作製したＦＢＧに、減圧状態で紫外光を照射することにより過酷な温度環境で使用できるＦＢＧを形成することができる。

なお、減圧状態は大気圧以下の状態であればよく、可能であればできるだけ減圧することが望ましく、好適には１００Pa以下が望ましい。光ファイバを収容した容器内を減圧することによって、照射した紫外光のロスを少なくすることができるとともに、紫外光の照射にともなう発熱が発生すること抑制でき、品質の安定化を図ることができる。

紫外光の照射時間は、照射する紫外光の強度との兼ね合いで決定されるものであり、少なくとも、紫外光の照射によるＦＢＧの反射波長の長波長側へのシフトが生じる程度以上であって、長ければ長いほどよい。したがって、ＦＢＧを形成する際には、紫外光の照射によってＦＢＧの屈折率を調整することを考慮してＦＢＧを形成することが望ましく、紫外光の照射によりＦＢＧの屈折率を調整することにより、合わせてＦＢＧの温度変化に対する耐性の向上を図ることができる。

なお、ＦＢＧの温度変化に対する耐性の向上を目的として照射する紫外光と、ＦＢＧの屈折率の調整を目的として照射する紫外光とは同一である必要はなく、たとえば、ＢＧの温度変化に対する耐性の向上を目的とした紫外光の照射処理を行った後に、ＦＢＧの屈折率の調整を目的とする紫外光の照射処理を行ってもよい。

本発明の実施形態にかかる光部品の製造装置の説明図である。紫外光の照射によるファイバブラッググレーティングの調整の説明図である。波長１４６ｎｍの紫外光の照射時間と、ＦＢＧによる反射波の中心波長との関係を示したグラフである。波長１７２ｎｍの紫外光の照射を行った場合の照射時間と、ＦＢＧによる反射波の中心波長との関係を示したグラフである。波長１４６ｎｍの紫外光の照射終了後におけるＦＢＧによる反射波の波長の時間変動を示したグラフである。波長１７２ｎｍの紫外光の照射終了後におけるＦＢＧによる反射波の波長の時間変動を示したグラフである。他の実施形態の光部品の製造装置の説明図である。温度変化によるＦＢＧの透過減衰量の変化を示すグラフである。温度変化によるＦＢＧの透過減衰量の変化を示すグラフである。温度変化によるＦＢＧの透過減衰量の変化を示すグラフである。

符号の説明

Ａ光部品
Ｃコネクタ
11 容器
11a 収容部
11a-1 閉塞板
11b 光路部
13 計測器
14 光源
15 窒素ボンベ
16 検査光用光源
17 雰囲気調整管
17a 第１連結管
17b 第２連結管

Claims

紫外光の照射によってコアの屈折率を調整可能な光ファイバに、紫外線レーザ光の干渉光を照射して形成したファイバブラッググレーティングの調整方法であって、
前記ファイバブラッググレーティングが形成された前記光ファイバを収容した容器内を窒素置換する窒素置換ステップと、
前記窒素置換ステップにおいて窒素置換された容器内で、前記ファイバブラッググレーティングに波長１４６ｎｍの紫外光を照射して前記ファイバブラッググレーティングを消去するステップと、
前記消去するステップにおいて前記ファイバブラッググレーティングが消去された光ファイバに、波長２４８ｎｍの紫外光レーザ光の干渉光を照射してファイバブラッググレーティングを再形成するステップと、
前記光ファイバに検査光を入射して前記ファイバブラッググレーティングにより反射される光の波長を計測しながら、前記ファイバブラッググレーティングに波長１４６ｎｍの紫外光を照射して前記ファイバブラッググレーティングを調整するステップと、
を含み、前記消去するステップと前記再形成するステップと前記調整するステップとにより、前記ファイバブラッググレーティングの屈折率を調整することを特徴とするファイバブラッググレーティングの調整方法。
前記調整するステップにおいて、前記容器内を大気圧以下に減圧し、減圧状態で前記紫外光を照射することを特徴とする請求項１に記載のファイバブラッググレーティングの調整方法。
紫外光の照射によってコアの屈折率を調整可能な光ファイバに、紫外線レーザ光の干渉光を照射して形成したファイバブラッググレーティングを備えた光部品の製造方法であって、
前記ファイバブラッググレーティングが形成された前記光部品を収容した容器内を窒素置換する窒素置換ステップと、
前記窒素置換ステップにおいて窒素置換された容器内で、前記ファイバブラッググレーティングに波長１４６ｎｍの紫外光を照射して前記ファイバブラッググレーティングを消去するステップと、
前記消去するステップにおいて前記ファイバブラッググレーティングが消去された光部品に、波長２４８ｎｍの紫外光レーザ光の干渉光を照射してファイバブラッググレーティングを再形成するステップと、
前記光ファイバに検査光を入射して前記ファイバブラッググレーティングにより反射される光の波長を計測しながら、前記ファイバブラッググレーティングに波長１４６ｎｍの紫外光を照射して前記ファイバブラッググレーティングを調整するステップと、
を含み、前記消去するステップと前記再形成するステップと前記調整するステップとにより、前記ファイバブラッググレーティングの屈折率を調整することを特徴とする光部品の製造方法。
紫外光の照射によってコアの屈折率を調整可能な光ファイバに、紫外線レーザ光の干渉光を照射して形成したファイバブラッググレーティングを備えた光部品を収容する容器と、
前記容器内に窒素を導入する窒素ボンベと、
前記容器内に収容された光部品に形成されたファイバブラッググレーティングに、波長１４６ｎｍの紫外光を照射する第１光源と、
前記光部品に波長２４８ｎｍの紫外光レーザ光の干渉光を照射する第２光源と、
を備え、
前記第１の光源からの紫外光の照射によって前記ファイバブラッググレーティングを消去した後、前記第２の光源からの紫外光レーザ光の干渉光の照射により前記光部品にファイバブラッググレーティングを再形成し、その後、再形成された前記ファイバブラッググレーティングの屈折率を前記第１の光源からの紫外光の照射によって調整することを特徴とする光部品の製造装置。