JP5116726B2 - 露光装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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- 原版のパターンを投影光学系によって基板に投影して該基板を露光する露光装置であって、
前記投影光学系は、ミラーアセンブリを含み、前記ミラーアセンブリは、前記投影光学系を通る光線を折り曲げる第1反射面を有する第1ミラー部材と、前記光線を折り曲げる第2反射面を有する第2ミラー部材と、前記第1ミラー部材および前記第2ミラー部材をそれぞれ支持する第1支持面および第2支持面を有する支持機構とを含み、
前記第1ミラー部材は、前記第1反射面が斜め上方を向くように配置され、かつ、前記第1反射面の裏側に第1窪み部が設けられ、前記第1窪み部の内面に固定された取付部によって第1支持点が構成され、
前記第2ミラー部材は、前記第2反射面が斜め下方を向くように配置され、かつ、前記第2反射面の側に第2窪み部が設けられ、前記第2窪み部の内面に固定された取付部によって第2支持点が構成され、
前記第1ミラー部材は、前記第1支持点において前記支持機構の前記第1支持面によって支持され、前記第2ミラー部材は、前記第2支持点において前記支持機構の前記第2支持面によって支持され、
前記ミラーアセンブリは、さらに、
前記第1ミラー部材の前記第1反射面と前記第2ミラー部材の前記第2反射面とがなす角度を調整する調整機構を含む、ことを特徴とする露光装置。 - 前記第1ミラー部材および前記第2ミラー部材は、それぞれの重量が前記支持機構によって支えられつつ前記支持機構に対して位置決めされている
ことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 前記第1支持点は、前記第1反射面が属する面と前記第1反射面の裏側の第1裏面が属する面との間に位置し、
前記第2支持点は、前記第2反射面が属する面と前記第2反射面の裏側の第2裏面が属する面との間に位置する、
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の露光装置。 - 原版のパターンを投影光学系によって基板に投影して該基板を露光する露光装置であって、
前記投影光学系は、ミラーアセンブリを含み、前記ミラーアセンブリは、前記投影光学系を通る光線を折り曲げる第1反射面を有する第1ミラー部材と、前記光線を折り曲げる第2反射面を有する第2ミラー部材と、前記第1ミラー部材および前記第2ミラー部材をそれぞれ支持する第1支持面および第2支持面を有する支持機構とを含み、前記支持機構が位置決めされることによって前記第1ミラー部材および前記第2ミラー部材の相互の位置関係が維持されたまま前記第1ミラー部材および前記第2ミラー部材が位置決めされ、
前記第1ミラー部材は、前記第1反射面が属する面と前記第1反射面の裏側の第1裏面が属する面との間に第1支持点を有し、前記第1支持点において前記支持機構の第1支持面によって支持され、
前記第2ミラー部材は、前記第2反射面が属する面と前記第2反射面の裏側の第2裏面が属する面との間に第2支持点を有し、前記第2支持点において前記支持機構の第2支持面によって支持され、
前記第1ミラー部材は、前記第1裏面の側に第1窪み部を有し、前記第1支持点は、前記第1窪み部の内面に固定された取付部によって構成され、
前記第2ミラー部材は、前記第2反射面の側に第2窪み部を有し、前記第2支持点は、前記第2窪み部の内面に固定された取付部によって構成され、
前記ミラーアセンブリは、さらに、
前記第1ミラー部材の前記第1反射面と前記第2ミラー部材の前記第2反射面とがなす角度を調整する調整機構を含む、
ことを特徴とする露光装置。 - 前記第1支持点の数が4個であり、前記第1ミラー部材は、前記第1裏面であって4個の前記第1支持点よりも低い位置に支持点を更に有する、
ことを特徴とする請求項3又は4に記載の露光装置。 - 前記第2支持点の数が5個である、
ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の露光装置。 - 前記投影光学系は、第1凹反射面と、凸反射面と、第2凹反射面とを更に含み、前記投影光学系の物体面と像面との間に、前記物体面から前記像面に向って、前記第1反射面、前記第1凹反射面、前記凸反射面、前記第2凹反射面、前記第2反射面が順に配置されている、
ことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の露光装置。 - 前記調整機構は、前記第1支持点または前記第2支持点を支持する受け部の位置を調整することで前記角度を調整することができるように構成されている、
ことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の露光装置。 - デバイスを製造するデバイス製造方法であって、
請求項1乃至8のいずれか1項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
該基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009132427A JP5116726B2 (ja) | 2009-06-01 | 2009-06-01 | 露光装置およびデバイス製造方法 |
| KR1020100047849A KR101248360B1 (ko) | 2009-06-01 | 2010-05-24 | 노광 장치 및 디바이스의 제조 방법 |
| TW099116679A TWI420255B (zh) | 2009-06-01 | 2010-05-25 | 曝光設備及裝置製造方法 |
| US12/791,539 US8456612B2 (en) | 2009-06-01 | 2010-06-01 | Exposure apparatus and method of manufacturing device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009132427A JP5116726B2 (ja) | 2009-06-01 | 2009-06-01 | 露光装置およびデバイス製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2010277050A JP2010277050A (ja) | 2010-12-09 |
| JP5116726B2 true JP5116726B2 (ja) | 2013-01-09 |
Family
ID=43219850
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009132427A Expired - Fee Related JP5116726B2 (ja) | 2009-06-01 | 2009-06-01 | 露光装置およびデバイス製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8456612B2 (ja) |
| JP (1) | JP5116726B2 (ja) |
| KR (1) | KR101248360B1 (ja) |
| TW (1) | TWI420255B (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6386896B2 (ja) * | 2014-12-02 | 2018-09-05 | キヤノン株式会社 | 投影光学系、露光装置、および、デバイス製造方法 |
Family Cites Families (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5453867A (en) * | 1977-10-06 | 1979-04-27 | Canon Inc | Printing device |
| JPS6032657Y2 (ja) * | 1980-07-10 | 1985-09-30 | 株式会社ニコン | ダブルミラ−の角度調整装置 |
| JPS6134941A (ja) * | 1984-07-26 | 1986-02-19 | Canon Inc | 合焦検知装置 |
| JPH0752712B2 (ja) * | 1989-12-27 | 1995-06-05 | 株式会社東芝 | 露光装置 |
| US5636003A (en) * | 1992-11-05 | 1997-06-03 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and scanning exposure apparatus |
| JPH0887080A (ja) * | 1994-09-19 | 1996-04-02 | Noritsu Koki Co Ltd | 写真焼付装置のミラー固定方法 |
| JPH08181063A (ja) * | 1994-12-26 | 1996-07-12 | Nikon Corp | 露光装置 |
| JP3445021B2 (ja) | 1995-04-28 | 2003-09-08 | キヤノン株式会社 | 光学装置 |
| JPH09289160A (ja) * | 1996-04-23 | 1997-11-04 | Nikon Corp | 露光装置 |
| JPH10256147A (ja) * | 1997-03-13 | 1998-09-25 | Nikon Corp | 露光装置 |
| US6043863A (en) * | 1996-11-14 | 2000-03-28 | Nikon Corporation | Holder for reflecting member and exposure apparatus having the same |
| AU1260099A (en) * | 1997-11-25 | 1999-06-15 | Nikon Corporation | Projection exposure system |
| JP2000028898A (ja) * | 1998-07-15 | 2000-01-28 | Nikon Corp | 光学素子支持装置及び鏡筒並びに露光装置 |
| JP2001013603A (ja) * | 1999-07-01 | 2001-01-19 | Canon Inc | 光学装置及び液晶表示装置 |
| JP2002118058A (ja) * | 2000-01-13 | 2002-04-19 | Nikon Corp | 投影露光装置及び方法 |
| JP4836102B2 (ja) * | 2000-06-30 | 2011-12-14 | Hoya株式会社 | 光学素子の位置決め部材、光学素子の位置決め部材の製造方法、光学ユニット、光学ユニットの製造方法、レンズチップ、光メモリ媒体用浮上型ヘッド |
| JP2003124095A (ja) * | 2001-10-11 | 2003-04-25 | Nikon Corp | 投影露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法 |
| JP3652329B2 (ja) * | 2002-06-28 | 2005-05-25 | キヤノン株式会社 | 走査露光装置、走査露光方法、デバイス製造方法およびデバイス |
| US7130020B2 (en) * | 2003-04-30 | 2006-10-31 | Whitney Theodore R | Roll printer with decomposed raster scan and X-Y distortion correction |
| JP4590205B2 (ja) * | 2003-05-14 | 2010-12-01 | キヤノン株式会社 | ミラー保持方法、光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法 |
| JP2005345582A (ja) * | 2004-06-01 | 2005-12-15 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 投影光学系およびパターン描画装置 |
| US7173686B2 (en) * | 2004-09-02 | 2007-02-06 | Agilent Technologies, Inc. | Offner imaging system with reduced-diameter reflectors |
| JP2006073905A (ja) * | 2004-09-06 | 2006-03-16 | Canon Inc | 光学系及び当該光学系の調整方法、露光装置、並びにデバイス製造方法 |
| US7184124B2 (en) * | 2004-10-28 | 2007-02-27 | Asml Holding N.V. | Lithographic apparatus having an adjustable projection system and device manufacturing method |
| US20090286055A1 (en) * | 2005-11-08 | 2009-11-19 | Behnam Pourdeyhimi | Methods and Devices for Providing Flexible Electronics |
| JP2007333715A (ja) * | 2006-06-19 | 2007-12-27 | Koodotekku:Kk | 表面形状測定装置 |
| JP4598793B2 (ja) * | 2007-03-29 | 2010-12-15 | 株式会社トプコン | 露光装置の照明光学系におけるコリメートミラーの撓ませ方法及びその方法による露光装置の照明光学系 |
-
2009
- 2009-06-01 JP JP2009132427A patent/JP5116726B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2010
- 2010-05-24 KR KR1020100047849A patent/KR101248360B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 2010-05-25 TW TW099116679A patent/TWI420255B/zh not_active IP Right Cessation
- 2010-06-01 US US12/791,539 patent/US8456612B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW201044123A (en) | 2010-12-16 |
| KR20100129685A (ko) | 2010-12-09 |
| JP2010277050A (ja) | 2010-12-09 |
| US20100302517A1 (en) | 2010-12-02 |
| TWI420255B (zh) | 2013-12-21 |
| KR101248360B1 (ko) | 2013-04-01 |
| US8456612B2 (en) | 2013-06-04 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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| A977 | Report on retrieval |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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| R151 | Written notification of patent or utility model registration |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |