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JP5127969B2 - Surface acoustic wave device, filter device, and communication device - Google Patents
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JP5127969B2 - Surface acoustic wave device, filter device, and communication device - Google Patents

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  • Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)

Description

本発明は、例えば携帯電話等の通信装置に用いられる小型な弾性表面波装置に関するものであり、詳細には弾性表面波を発生する電極をウェハレベルで簡単かつ良好に封止することができる弾性表面波装置、それを用いたフィルタ装置および通信装置に関するものである。   The present invention relates to a small surface acoustic wave device used for a communication device such as a cellular phone, and more specifically, an elastic material capable of easily and satisfactorily sealing an electrode for generating a surface acoustic wave at a wafer level. The present invention relates to a surface wave device, a filter device using the surface wave device, and a communication device.

従来から、圧電基板上に弾性表面波を発生する電極とその電極を収容する収容空間を形成する部材とが設けられることにより、圧電基板上で電極が封止された弾性表面波装置が広く知られている。このような弾性表面波装置は、圧電効果により電極が振動する空間が確保されるとともに、圧電基板上で電極が封止されるため、通常の弾性表面波装置全体をパッケージに収容して封止するものと比べて小型にすることができるというものである。   2. Description of the Related Art Conventionally, a surface acoustic wave device in which electrodes are sealed on a piezoelectric substrate by providing an electrode that generates surface acoustic waves on a piezoelectric substrate and a member that forms an accommodation space for accommodating the electrode is widely known. It has been. Such a surface acoustic wave device secures a space in which the electrode vibrates due to the piezoelectric effect and seals the electrode on the piezoelectric substrate. Therefore, the entire surface acoustic wave device is accommodated in a package and sealed. It can be made smaller than what it does.

このような収容空間を形成する方法として、例えば、ウェハ上に、電極が形成された領域を複数個形成し、ウェハ状態でそれぞれの領域に対して上記のような収容空間を形成してウェハ段階(ウェハレベル)で封止してから、封止された各領域毎にウェハから切り出し、複数個の弾性表面波装置を得るものが開示されている(例えば、特許文献1,特許文献2,非特許文献1を参照)。なお、このようなウェハレベルで封止された弾性表面波装置をウェハレベルパッケージ(WLP)型の弾性表面波装置と呼ぶことがある。   As a method for forming such an accommodation space, for example, a plurality of regions where electrodes are formed are formed on a wafer, and an accommodation space as described above is formed for each region in a wafer state, so that a wafer stage is formed. After sealing at (wafer level), what is cut out from the wafer for each sealed region to obtain a plurality of surface acoustic wave devices is disclosed (for example, Patent Document 1, Patent Document 2, Non-Patent Document 2) (See Patent Document 1). Such a surface acoustic wave device sealed at the wafer level may be referred to as a wafer level package (WLP) type surface acoustic wave device.

特開平6−318625号公報JP-A-6-318625 特開2002−300000号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2002-300000

「ウェハレベルパッケージ フォー バルク アコースティック ウェーブ フィルタ」(Wafer−Level−Package for Bulk Acoustic wave filter) アイトリプルイー エムティーティーエス ダイジェスト(IEEE MTT−S 2004 Digest)"Wafer-Level-Package for Bulk Acoustic Wave Filter" (Iwae MMT-S 2004 Digest) "Wafer-Level-Package for Bulk Acoustic Wave Filter"

一方、弾性表面波装置として、Q値を高めるために、伝搬する弾性表面波を閉じ込めて弾性表面波のロスを抑制することが望まれている。   On the other hand, as a surface acoustic wave device, in order to increase the Q value, it is desired to confine propagating surface acoustic waves and suppress the loss of surface acoustic waves.

また、弾性表面波を閉じ込めるように、電極の弾性表面波の伝搬方向の両端に設けられる反射器電極を配置した弾性表面波装置が提案されている。しかしながら、これら反射器電極を含む場合には、収容空間が大きくなり弾性表面波装置が大型になったり、収容空間の大型化に伴い、中空構造の作製が困難になったりするなどの課題もあった。   Further, a surface acoustic wave device has been proposed in which reflector electrodes provided at both ends of the surface acoustic wave propagation direction of the electrode are arranged so as to confine the surface acoustic wave. However, when these reflector electrodes are included, there is a problem that the accommodation space becomes larger and the surface acoustic wave device becomes larger, or the production of the hollow structure becomes difficult as the accommodation space becomes larger. It was.

本発明は上記事情に鑑みて完成されたものであり、その目的は、ウェハレベルで簡単かつ良好に封止することができる小型でQ値の高い弾性表面波装およびそれを用いたフィルタ装置,通信装置を提供することにある。   The present invention has been completed in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a small surface acoustic wave device having a high Q value that can be easily and satisfactorily sealed at a wafer level, and a filter device using the same. It is to provide a communication device.

本発明の弾性表面波装置は、1)弾性表面波を伝搬する圧電基板と、前記圧電基板上に
形成され、前記弾性表面波の伝搬方向に伸びて互いに対向配置された一対のバスバー電極を有するIDT電極と、前記圧電基板上に配置され、前記圧電基板との間に前記IDT電極を収容する収容空間を形成する封止部材と、を含む弾性表面波装置であって、前記伝搬方向と一致し、前記圧電基板上において、前記IDT電極の中心を通る仮想的な中心線を定義したときに、前記封止部材の前記圧電基板側の面である配設面の外郭線は、前記中心線の両側において、この中心線に沿って前記IDT電極から離れるにしたがって、この中心線から前記配設面を構成する外郭線までの距離が短くなる反射部を有し、前記反射部は、少なくとも一部が、前記一対のバスバー電極を前記伝搬方向に沿って伸ばした一対の仮想線で挟まれた領域である軌跡上に存在するものである。
The surface acoustic wave device of the present invention includes 1) a piezoelectric substrate that propagates a surface acoustic wave, and a pair of bus bar electrodes that are formed on the piezoelectric substrate and extend in the propagation direction of the surface acoustic wave and are opposed to each other. A surface acoustic wave device including: an IDT electrode; and a sealing member that is disposed on the piezoelectric substrate and forms a housing space for housing the IDT electrode between the piezoelectric substrate and the piezoelectric substrate. Then, when a virtual center line passing through the center of the IDT electrode is defined on the piezoelectric substrate, the outline of the arrangement surface that is the surface of the sealing member on the piezoelectric substrate side is the center line. On both sides of the substrate, the distance from the center line to the contour line constituting the arrangement surface decreases as the distance from the IDT electrode along the center line decreases. Part is the pair Being present sandwiched between trajectory on a region by a pair of imaginary lines extend along the bus bar electrode on the propagation direction.

また、本発明のフィルタ装置は、入力端子と出力端子とグランド端子とを有し、前記入力端子と前記出力端子とをつなぐ入出力ライン上、または前記入出力ラインとグランド端子との間に、上記の弾性表面波装置を設けたものである。   Further, the filter device of the present invention has an input terminal, an output terminal, and a ground terminal, on the input / output line connecting the input terminal and the output terminal, or between the input / output line and the ground terminal, The surface acoustic wave device described above is provided.

また、本発明の通信装置は、上記のフィルタ装置を有する、受信回路および送信回路の少なくとも一方を備えるものである。   Moreover, the communication apparatus of this invention is provided with at least one of a receiving circuit and a transmission circuit which has said filter apparatus.

本発明の弾性表面波装置によれば、上記の構成により、中心線から配設面を構成する外郭線までの距離が、IDT電極から離れるにしたがって短くなる反射部が、IDT電極の外側に漏洩する弾性表面波をIDT電極側に反射させ、弾性表面波を閉じ込めることができるので、Q値の高いものを提供することができる。   According to the surface acoustic wave device of the present invention, with the above-described configuration, the reflecting portion whose distance from the center line to the outline forming the arrangement surface becomes shorter as the distance from the IDT electrode is leaked to the outside of the IDT electrode. Since the surface acoustic wave to be reflected can be reflected to the IDT electrode side and the surface acoustic wave can be confined, a high Q value can be provided.

また、封止部材が反射部を有することから、配設面の面積を増やすことができるので、封止部材の屋根部分を確実に支えることができる。このため、屋根部分が自加重により変形することを抑制できる。これにより、確実に収容空間を維持することができるので、安定して且つ継続して良好な特性を発現することが可能となる。   Moreover, since the sealing member has a reflection part, the area of the arrangement surface can be increased, so that the roof portion of the sealing member can be reliably supported. For this reason, it can suppress that a roof part deform | transforms by self-loading. Thereby, since the accommodation space can be reliably maintained, it becomes possible to stably and continuously express good characteristics.

また、上記のように、反射器電極を設けなくても、封止部材の形状によりQ値の高いものとすることができるので、小型な弾性表面波装置とすることができる。また、複数の反射器電極も含めて封止するように収容空間を大きくする必要がない。このため、収容空間の大型化に伴う封止部材の製造が困難になるという問題も発生しないので、ウェハレベルで簡単に弾性表面波装置を提供することができ、生産性の高いものとなる。   In addition, as described above, even if no reflector electrode is provided, the Q value can be increased depending on the shape of the sealing member, so that a small surface acoustic wave device can be obtained. Further, it is not necessary to enlarge the accommodation space so as to seal the plurality of reflector electrodes. For this reason, the problem that it becomes difficult to manufacture the sealing member due to the increase in the size of the accommodation space does not occur, so the surface acoustic wave device can be easily provided at the wafer level, and the productivity becomes high.

また、本発明のフィルタ装置によれば、上記の構成により、小型でQ値の高い、生産性の高いものを提供できる。   In addition, according to the filter device of the present invention, a small product with a high Q value and high productivity can be provided by the above configuration.

さらに、本発明の通信装置によれば、上記の構成により、小型でQ値の高い、生産性の高いものを提供できる。   Furthermore, according to the communication apparatus of the present invention, the above configuration can provide a small, high Q value, high productivity device.

(a)は本発明の弾性表面波装置の実施の形態の一例を示す模式的な透視状態の平面図,(b)は(a)のA−A’線矢視断面図,(c)は(a)のB−B’線矢視断面図である。(A) is a schematic perspective view showing an example of an embodiment of the surface acoustic wave device of the present invention, (b) is a cross-sectional view taken along line AA ′ in (a), and (c) is It is BB 'sectional view taken on the line of (a). 図1(a)に示す弾性表面波装置の要部を拡大した透視状態の平面図である。It is the top view of the see-through state which expanded the principal part of the surface acoustic wave apparatus shown to Fig.1 (a). (a)〜(c)はそれぞれ、本発明の弾性表面波装置の実施の形態の他の例を示す模式的な透視状態の平面図である。(A)-(c) is a top view of the typical see-through state which shows the other example of embodiment of the surface acoustic wave apparatus of this invention, respectively. (a)〜(d)はそれぞれ、本発明の弾性表面波装置の製造方法の一例を示す工程毎の断面図である。(A)-(d) is sectional drawing for every process which shows an example of the manufacturing method of the surface acoustic wave apparatus of this invention, respectively. (a)〜(b)はそれぞれ、本発明のフィルタ装置の実施の形態の一例を示す等価回路図である。(A)-(b) is an equivalent circuit diagram which respectively shows an example of embodiment of the filter apparatus of this invention. 本発明の通信装置の実施の形態の一例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows an example of embodiment of the communication apparatus of this invention.

本発明の弾性表面波装置について、図面を参照しつつ詳細に説明する。   The surface acoustic wave device of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

図1(a)〜(c)は、それぞれ本発明の弾性表面波装置の実施の形態の一例を示す模式的な透視状態の平面図,(a)のA−A’線の矢視断面図,(a)のB−B’線の矢視断面図である。   1A to 1C are schematic plan views showing an example of an embodiment of a surface acoustic wave device according to the present invention, and a cross-sectional view taken along line AA ′ in FIG. 6A is a cross-sectional view taken along line BB ′ in FIG.

図1において、1は圧電基板、2はIDT電極、3はIDT電極2を収容する収容空間、4は封止部材、4aは圧電基板1と接する封止部材4の配設面、4Aは配設面4aの外郭線の一部である反射部、7は保護部材、8はIDT電極2を外部回路と接続するための導電パターン、9は導電パターン8から装置の外側に電気信号を取り出すための外部接続電極、10はIDT電極2の伝搬方向の両端部に隣接して配置された反射器電極である。なお、図1(a)において、弾性表面波装置の構成を分かり易くするために、上面に位置する部材の一部を省略するとともに、配設面4a部に斜線を付している。   In FIG. 1, 1 is a piezoelectric substrate, 2 is an IDT electrode, 3 is an accommodating space for accommodating the IDT electrode 2, 4 is a sealing member, 4a is an arrangement surface of the sealing member 4 in contact with the piezoelectric substrate 1, and 4A is an arrangement surface. A reflection part which is a part of the outline of the installation surface 4a, 7 is a protective member, 8 is a conductive pattern for connecting the IDT electrode 2 to an external circuit, and 9 is for extracting an electrical signal from the conductive pattern 8 to the outside of the apparatus. The external connection electrodes 10 and 10 are reflector electrodes disposed adjacent to both ends of the IDT electrode 2 in the propagation direction. In FIG. 1A, in order to facilitate understanding of the configuration of the surface acoustic wave device, a part of the members located on the upper surface is omitted and the arrangement surface 4a is hatched.

なお、以下の図面においても同様であるが、同様の箇所には同一の符合を付し、重複する説明を省略する。また、図中のIDT電極2の電極指の本数及び間隔等は模式的に示したものであり、図に示す限りではない。   The same applies to the following drawings, but the same portions are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted. Further, the number and interval of the electrode fingers of the IDT electrode 2 in the figure are schematically shown and are not limited to those shown in the figure.

図1において、本発明の弾性表面波装置は、圧電基板1と、圧電基板1上に形成された弾性表面波を発生する電極であるIDT電極2と、圧電基板1上に形成され、IDT電極2と外部の回路とを接続する導電パターン8と、圧電基板1との間に、IDT電極2を収容する収容空間3を形成する封止部材4と、これらの構造体を覆うように形成された保護部材7と、導電パターン8に接続され、保護部材7の上面に一端が露出する外部接続電極9とから構成される。外部接続端子9は、信号が入力される入力端子9in,信号が出力される出力端子9out,接地される接地端子9groundからなる。 In FIG. 1, a surface acoustic wave device of the present invention includes a piezoelectric substrate 1, an IDT electrode 2 that is an electrode for generating surface acoustic waves formed on the piezoelectric substrate 1, and an IDT electrode formed on the piezoelectric substrate 1. 2 and a conductive pattern 8 that connects an external circuit and the piezoelectric substrate 1, and a sealing member 4 that forms an accommodating space 3 that accommodates the IDT electrode 2, and a structure that covers these structures. The protective member 7 is connected to the conductive pattern 8, and the external connection electrode 9 is exposed on the upper surface of the protective member 7. The external connection terminal 9 includes an input terminal 9 in for inputting a signal, an output terminal 9 out for outputting a signal, and a ground terminal 9 ground for grounding.

なお、ここでIDT電極2は、バスバー電極2aとこれに共通に接続された複数本の電極指2bからなる櫛歯状電極が組み合わされている。具体的には、IDT電極2の一対の櫛歯状電極は、互いの電極指2b同士が交互に配置されるように組み合わされており、電極指2bは、隣接する互いの電極指2bと対向する(交叉する)部分(以下、対向部とする)を有する。また、このIDT電極2から励振された弾性表面波の主たる伝搬方向(以下、単に伝搬方向ということもある)である電極指2bの繰り返し方向の両側にIDT電極2に隣接して配置された反射器電極10を設けても良い。なお、これらのIDT電極2および反射器電極10は、求める特性に応じて複数個配置したり、それらを相互に接続する接続線等をさらに含んだりするものとする。   Here, the IDT electrode 2 is a combination of a bus bar electrode 2a and a comb-like electrode composed of a plurality of electrode fingers 2b commonly connected thereto. Specifically, the pair of comb-like electrodes of the IDT electrode 2 are combined so that the electrode fingers 2b are alternately arranged, and the electrode fingers 2b are opposed to the adjacent electrode fingers 2b. A portion (hereinafter referred to as an opposing portion) that performs (crosses). Further, reflections disposed adjacent to the IDT electrode 2 on both sides of the repetition direction of the electrode finger 2b, which is the main propagation direction (hereinafter, simply referred to as the propagation direction) of the surface acoustic wave excited from the IDT electrode 2. Instrument electrode 10 may be provided. Note that a plurality of these IDT electrodes 2 and reflector electrodes 10 are arranged according to required characteristics, or further include a connection line or the like for connecting them to each other.

また、封止部材4は、キャップ状の部材で、圧電基板1との間にIDT電極2を封止する収容空間3を形成するものであり、IDT電極2を囲むように圧電基板1に配設される配設面4aを有する。この配設面4aの形状について図1(a)および図2を用いて詳細に説明する。なお、図2は図1(a)のうち、反射部4A周辺の要部拡大図である。   The sealing member 4 is a cap-shaped member, and forms an accommodation space 3 for sealing the IDT electrode 2 between the sealing member 4 and the piezoelectric substrate 1. The sealing member 4 is arranged on the piezoelectric substrate 1 so as to surround the IDT electrode 2. It has the arrangement | positioning surface 4a provided. The shape of the arrangement surface 4a will be described in detail with reference to FIG. 1 (a) and FIG. FIG. 2 is an enlarged view of the main part around the reflecting portion 4A in FIG.

まず、配設面4aの形状を説明するために、IDT電極2に対して仮想的な中心線を定義する。中心線は、IDT電極2から励振された弾性表面波の主たる伝搬方向である電極指2bの繰り返し方向と一致し、圧電基板1上においてIDT電極2の中心を通るものである。図1においては、例えば、A−A’線となる。ここで、IDT電極2の中心とは、
電極指2bの対向部を伝搬方向と直交する方向でみたときにその中心となる部分を指すものである。
First, a virtual center line is defined for the IDT electrode 2 in order to describe the shape of the arrangement surface 4a. The center line coincides with the repetition direction of the electrode finger 2 b, which is the main propagation direction of the surface acoustic wave excited from the IDT electrode 2, and passes through the center of the IDT electrode 2 on the piezoelectric substrate 1. In FIG. 1, for example, the line AA ′. Here, the center of the IDT electrode 2 is
This indicates a portion that becomes the center when the facing portion of the electrode finger 2b is viewed in a direction orthogonal to the propagation direction.

配設面4aは、この中心線の両側において、この中心線から配設面4aの外郭線までの、伝搬方向と直交する方向における距離が、IDT電極2から中心線に沿って離れるにしたがい短くなる箇所(反射部4A)を有するものである。ここで、配設面4aの外郭線は、配設面4aの外形を作るものであり、図2では4eで示す。   On the both sides of the center line, the disposition surface 4a has a shorter distance from the center line to the outline of the disposition surface 4a in the direction perpendicular to the propagation direction as the distance from the IDT electrode 2 increases along the center line. It has a location (reflecting part 4A). Here, the outline of the arrangement surface 4a forms the outer shape of the arrangement surface 4a, and is indicated by 4e in FIG.

また、この反射部4Aの少なくとも一部は、IDT電極2を中心線に沿って移動させたときの軌跡上に存在するように配置されている。なお、図1(a)および図2において、圧電基板1上における軌跡外郭線15を破線で示している。軌跡は2本の軌跡外郭線で挟まれた領域である。図1(a)および図2においては、IDT電極2の弾性表面波の伝搬方向の外側において、配設面4aの外郭線のうち、収容空間3を挟んで対向する部分の距離が、IDT電極2から離れるにしたがい一次関数的に短くなるように設計されている。このような反射部4Aを中心線の両側に有することから、IDT電極2から漏洩した弾性表面波が中心線を挟んだ一方に位置する反射部4Aに到達すると、他方に位置する反射部4Aを介して確実にIDT電極2側に反射させることができ、弾性表面波を閉じ込めることができる。   Further, at least a part of the reflecting portion 4A is arranged so as to exist on a locus when the IDT electrode 2 is moved along the center line. In FIG. 1A and FIG. 2, the locus outline 15 on the piezoelectric substrate 1 is indicated by a broken line. The trajectory is an area sandwiched between two trajectory outlines. In FIG. 1A and FIG. 2, the distance between the IDT electrode 2 and the outer surface of the IDT electrode 2 facing the sandwiching space 3 in the outer surface of the arrangement surface 4 a is the IDT electrode. It is designed to shorten in a linear function as the distance from 2 increases. Since the reflection part 4A is provided on both sides of the center line, when the surface acoustic wave leaked from the IDT electrode 2 reaches the reflection part 4A located on one side of the center line, the reflection part 4A located on the other side is formed. Therefore, it can be reliably reflected to the IDT electrode 2 side, and a surface acoustic wave can be confined.

なお、反射部4AとIDT電極2とは近接配置させることが好ましい。   In addition, it is preferable to arrange | position the reflection part 4A and the IDT electrode 2 close.

配設面4aがこのような形状であることから、図1に示す本発明の弾性表面波装置は、配設面4aの面積が大きくなる。このため、圧電基板1と収容空間3を挟んで対向する封止部材4の屋根部分の自荷重による変形で収容空間3が潰れたり、また、これらを保護部材7で覆う際に保護部材7の自荷重や縮合時に発生する圧力の影響で収容空間3が潰れたりすることをなくすことが可能となる。また、配設面4a自体に漏洩した弾性表面波をIDT電極2側に反射させる構造を採用したことにより、弾性表面波の閉じ込め効率を上昇させることができる。これにより、伝搬損失が少なくQ値の高い弾性表面波装置を安定して提供することができる。さらに、反射器電極10を設けなくても、弾性表面波配設面4aの反射部により弾性表面波を閉じ込めることが可能なので、収容空間3を形成する面積を最少にすることができる。これにより、小型でQ値の高い弾性表面波装置を提供することができる。   Since the arrangement surface 4a has such a shape, the surface acoustic wave device of the present invention shown in FIG. 1 has an increased area of the arrangement surface 4a. For this reason, the housing space 3 is crushed due to deformation of the roof portion of the sealing member 4 facing the piezoelectric substrate 1 across the housing space 3, or when the protective member 7 is covered with the protective member 7, It is possible to prevent the accommodating space 3 from being crushed due to the influence of the self-load or the pressure generated during condensation. Further, by adopting a structure in which the surface acoustic wave leaked to the arrangement surface 4a itself is reflected to the IDT electrode 2, the surface acoustic wave confinement efficiency can be increased. Accordingly, it is possible to stably provide a surface acoustic wave device having a small propagation loss and a high Q value. Further, since the surface acoustic wave can be confined by the reflecting portion of the surface acoustic wave arrangement surface 4a without providing the reflector electrode 10, the area for forming the accommodation space 3 can be minimized. Thereby, a small surface acoustic wave device having a high Q value can be provided.

また、図1に示すように、反射部4Aは、中心線から軌跡の軌跡外郭線まで連続的に形成されていることが好ましい。このように構成にすることで、伝搬方向におけるIDT電極2の端部を囲うように反射部4Aを配置することができるので、さらに効率的に弾性表面波を閉じ込めることができる。   Moreover, as shown in FIG. 1, it is preferable that the reflection part 4A is continuously formed from the center line to the locus outline of the locus. With this configuration, the reflective portion 4A can be disposed so as to surround the end portion of the IDT electrode 2 in the propagation direction, so that the surface acoustic wave can be confined more efficiently.

また、図1に示すように、IDT電極2の伝搬方向の両端に隣接するように反射器電極10を設け、封止部材4の配設面4aのうち、反射部4Aの少なくとも一部が、この反射器電極10上に配置されていることが好ましい。IDT電極2から漏洩した弾性表面波を、封止部材4の反射部4Aに加えて反射器電極10によりIDT電極2に反射して弾性表面波を閉じ込めることができるので、より確実に弾性表面波を閉じ込め、Q値の高い弾性表面波装置を提供することができる。特に、配設面4aの反射部4Aが反射器電極10上に配置されている場合には、反射器電極10を設けても収容空間3の大型化を抑制することができるので、生産性の高いものとすることができる。また、IDT電極2の弾性表面波の主伝搬方向の両端は、最も弾性表面波の漏洩が多い部位であるが、ここに反射部4Aと反射器電極10を配置することで、効果的に弾性表面波を閉じ込めることができる。なお、反射器電極10上に配設面4aを設けるときには、反射器電極2と封止部材4の配設面4aとで電気的にショートしないように、封止部材4を絶縁性材料で形成する。   In addition, as shown in FIG. 1, the reflector electrode 10 is provided so as to be adjacent to both ends of the propagation direction of the IDT electrode 2, and at least a part of the reflecting portion 4 </ b> A is provided on the arrangement surface 4 a of the sealing member 4. It is preferable to arrange on the reflector electrode 10. The surface acoustic wave leaked from the IDT electrode 2 can be reflected to the IDT electrode 2 by the reflector electrode 10 in addition to the reflecting portion 4A of the sealing member 4 and confined to the surface acoustic wave, so that the surface acoustic wave can be more reliably generated. And a surface acoustic wave device having a high Q value can be provided. In particular, when the reflecting portion 4A of the arrangement surface 4a is disposed on the reflector electrode 10, even if the reflector electrode 10 is provided, an increase in the size of the accommodation space 3 can be suppressed. Can be expensive. Further, both ends of the IDT electrode 2 in the main propagation direction of the surface acoustic wave are portions where the leakage of the surface acoustic wave is the largest. However, by arranging the reflecting portion 4A and the reflector electrode 10 here, the elastic surface is effectively elastic. Surface waves can be confined. When the arrangement surface 4 a is provided on the reflector electrode 10, the sealing member 4 is formed of an insulating material so that the reflector electrode 2 and the arrangement surface 4 a of the sealing member 4 are not electrically short-circuited. To do.

また、このような封止部材4を含む構造体を覆うように保護部材7を形成する。なお、IDT電極2,導電パターン8の一部は封止部材4により封止されており、導電パターン8の一部が封止部材4の外側まで導出されている。また、導電パターン8は、封止部材4の外側でIDT電極2と接続されていない側の端部に、外部接続電極9が接続されている。この外部接続電極9は保護部材7を介して外部に導出されている。すなわち、導電パターン8上に直接外部接続電極9が形成され、外部接続電極9の上面を露出させるように保護部材7が形成されている。このような構造とすることにより、収容空間3を形成するとともに外部の回路基板等に接続するために、圧電基板1とLTCC基板(Low Temperature Co fire Ceramic)、HTCC基板(High Temperature Co fire Ceramic)、有機多層基板等のインターポーザとを貼り合せる必要がなくなるので、インターポーザなしに外部の回路との接続が可能となる。これにより、部品点数の低減や低背化、小型化が可能となる。   Moreover, the protective member 7 is formed so that the structure containing such a sealing member 4 may be covered. Part of the IDT electrode 2 and the conductive pattern 8 is sealed by the sealing member 4, and a part of the conductive pattern 8 is led out to the outside of the sealing member 4. The conductive pattern 8 has an external connection electrode 9 connected to the end of the sealing member 4 on the side not connected to the IDT electrode 2. The external connection electrode 9 is led out to the outside through the protective member 7. That is, the external connection electrode 9 is formed directly on the conductive pattern 8, and the protective member 7 is formed so that the upper surface of the external connection electrode 9 is exposed. With such a structure, the piezoelectric substrate 1, the LTCC substrate (Low Temperature Cofire Ceramic), and the HTCC substrate (High Temperature Cofire Ceramic) are formed in order to form the accommodating space 3 and connect to an external circuit board or the like. Since there is no need to attach an interposer such as an organic multilayer substrate, connection to an external circuit is possible without an interposer. As a result, the number of parts can be reduced, the profile can be reduced, and the size can be reduced.

また、保護部材7が封止部材4を機械的に保護するので、弾性表面波装置を回路基板等に実装する際に機械的な衝撃や応力が発生しても良好な封止状態が維持される。   In addition, since the protective member 7 mechanically protects the sealing member 4, a good sealing state is maintained even if mechanical impact or stress occurs when the surface acoustic wave device is mounted on a circuit board or the like. The

このように、本発明の弾性表面波装置によれば、ウェハレベルで簡単かつ良好に封止することができる小型でQ値の高いものを提供することができる。   Thus, according to the surface acoustic wave device of the present invention, it is possible to provide a small and high Q value that can be easily and satisfactorily sealed at the wafer level.

なお、図1に示す例では、封止部材4の平面形状(外形)は矩形状であったが、IDT電極2を封止できれば、特に平面形状は限定されない。例えば、反射部4Aの形状を反映したものとしてもよい。   In the example shown in FIG. 1, the planar shape (outer shape) of the sealing member 4 is rectangular, but the planar shape is not particularly limited as long as the IDT electrode 2 can be sealed. For example, the shape of the reflecting portion 4A may be reflected.

また、配設面4aのうち、反射部4Aの形状は、図1に示すような直線状以外にも、円弧状など湾曲した形状でも良く、漏洩した弾性表面波が効率的に反射できればその形状に制限はない。例えば、中心線の両側で反射部4Aの形状が異なるものであってもよい。ここで、軌跡外郭線15と反射部4Aとでなす角度のうち小さい方を反射部4Aの角度とすると、特に、反射部4Aの角度が小さくなるにしたがって弾性表面波装置の電気特性上、共振周波数以外と共振周波数付近の信号抑圧度が良好となる。一方、角度を小さく取ることは反射器電極10及び反射部4Aの面積を大きくすることになるため適当な角度とすることが好ましい。   In addition, in the arrangement surface 4a, the shape of the reflecting portion 4A may be a curved shape such as an arc shape in addition to the linear shape as shown in FIG. 1, and if the leaked surface acoustic wave can be reflected efficiently, the shape There is no limit. For example, the shape of the reflecting portion 4A may be different on both sides of the center line. Here, when the smaller one of the angles formed by the locus outline 15 and the reflecting portion 4A is the angle of the reflecting portion 4A, the resonance is caused by the electrical characteristics of the surface acoustic wave device as the angle of the reflecting portion 4A decreases. The signal suppression degree near the resonance frequency other than the frequency is good. On the other hand, taking a small angle increases the areas of the reflector electrode 10 and the reflecting portion 4A, and therefore it is preferable to set the angle appropriately.

また、配設面4aのうち反射部4Aを設ける位置は、IDT電極2の伝搬方向の両端に限定されるものではなく、例えば、IDT電極2の伝搬方向の一端にのみ設けてもよいし、伝搬方向に垂直な方向に設けても良い。   In addition, the position where the reflecting portion 4A is provided on the arrangement surface 4a is not limited to both ends in the propagation direction of the IDT electrode 2, and may be provided only at one end in the propagation direction of the IDT electrode 2, for example. You may provide in the direction perpendicular | vertical to a propagation direction.

また、配設面4aの少なくとも一部がバスバー電極2a上に配置されていても良い。バスバー電極2a部において封止部材4の質量が付加されたこととなり、質量効果により、電極指2b部とバスバー電極2a部において弾性表面波の伝搬速度に差を持たせることができるので、弾性表面波がバスバー電極2a側に漏洩することを防ぐことができる。このため、弾性表面波の閉じ込め効率をさらに上昇させ、Q値の高い弾性表面波装置を実現することができる。   Further, at least a part of the arrangement surface 4a may be arranged on the bus bar electrode 2a. Since the mass of the sealing member 4 is added to the bus bar electrode 2a portion, a difference in the propagation speed of the surface acoustic wave can be provided between the electrode finger 2b portion and the bus bar electrode 2a portion due to the mass effect. Waves can be prevented from leaking to the bus bar electrode 2a side. For this reason, the surface acoustic wave confinement efficiency can be further increased, and a surface acoustic wave device having a high Q value can be realized.

また、図1では、配設面4aが一体である例で説明しているが、図3(a)に示すように、配設面4aは、収容空間3を形成するための枠状のリング部4bとリング部4bと別体で、反射部4Aを構成する補助部4cを有するものとしてもよい。なお、補助部4cを設けた場合には、リング部4bの収容空間3と接する側の外郭線は、矩形状でもよいし、図1に示すように、軌跡外郭線15に対して角度を有するものでもよい。   In FIG. 1, an example in which the arrangement surface 4 a is integrated is described. However, as shown in FIG. 3A, the arrangement surface 4 a is a frame-shaped ring for forming the accommodation space 3. It is good also as what has the auxiliary | assistant part 4c which comprises 4 A of reflection parts by the part 4b and the ring part 4b separately. When the auxiliary portion 4c is provided, the outline of the ring portion 4b on the side in contact with the accommodation space 3 may be rectangular or have an angle with respect to the locus outline 15 as shown in FIG. It may be a thing.

また、図1では、圧電基板1上に複数組のIDT電極2がある場合を例にとり、封止部材4中に一つの収容空間3が形成された例で説明しているが、図3(b)に示すように、一つの封止部材4に複数の収容空間3を形成しても良い。さらに、図3(b)に示す例では、1つの封止部材4中に複数の収容空間3を形成しているが、1つの収容空間3としてもよい。この場合には、封止部材4の屋根部分を支えるために、複数のIDT電極2の間に柱4dを設けることが好ましい。   FIG. 1 illustrates an example in which a plurality of sets of IDT electrodes 2 are provided on the piezoelectric substrate 1, and an example in which one accommodating space 3 is formed in the sealing member 4. As shown in b), a plurality of accommodating spaces 3 may be formed in one sealing member 4. Furthermore, in the example shown in FIG. 3B, a plurality of storage spaces 3 are formed in one sealing member 4, but a single storage space 3 may be used. In this case, in order to support the roof portion of the sealing member 4, it is preferable to provide a column 4 d between the plurality of IDT electrodes 2.

次に、本発明の弾性表面波装置の各部について説明する。   Next, each part of the surface acoustic wave device of the present invention will be described.

圧電基板1の材質は、タンタル酸リチウム(LiTaO,LiTaO;x<3),ニオブ酸リチウム(LiNbO,LiNbO;y<3),四ホウ酸リチウム(Li,Li;z<4),酸化亜鉛(ZnO),ランガサイト,水晶等の圧電性誘電体の中から選択することができる。 The material of the piezoelectric substrate 1 is lithium tantalate (LiTaO 3 , LiTaO x ; x <3), lithium niobate (LiNbO 3 , LiNbO y ; y <3), lithium tetraborate (Li 2 B 7 O 4 , Li 2 B 7 O z ; z <4), zinc oxide (ZnO), langasite, quartz, and other piezoelectric dielectric materials can be selected.

また、弾性表面波を発生させるIDT電極2の材質としては、アルミニウム(Al),アルミニウム・銅合金(Al−Cu),アルミニウム・銅・マグネシウム合金(Al−Cu−Mg)等が好適である。また、これらの下地層としてチタン(Ti)またはクロム(Cr)を用いてもよい。   Moreover, as a material of the IDT electrode 2 that generates surface acoustic waves, aluminum (Al), aluminum / copper alloy (Al—Cu), aluminum / copper / magnesium alloy (Al—Cu—Mg), or the like is preferable. Further, titanium (Ti) or chromium (Cr) may be used as the underlayer.

また、封止部材4の材料は、圧電基板1との密着性が良いことを考慮すると、ポリイミド樹脂,エポキシ樹脂,フェノール樹脂,シロキサン樹脂,アクリル樹脂,ポリメチルメタクリート(PMMA)樹脂,ポリカーボネート(PC)樹脂,ベンゾシクロブテン(BCB)樹脂等が挙げられる。特に、圧電基板1と熱膨張係数が近いエポキシ樹脂が好適に用いられる。   Further, considering that the material of the sealing member 4 has good adhesion to the piezoelectric substrate 1, polyimide resin, epoxy resin, phenol resin, siloxane resin, acrylic resin, polymethylmethacrylate (PMMA) resin, polycarbonate ( PC) resin, benzocyclobutene (BCB) resin, and the like. In particular, an epoxy resin having a thermal expansion coefficient close to that of the piezoelectric substrate 1 is preferably used.

また、封止部材4の配設面4aから屋根部分へと続く部位の厚さは連続膜として機能する5μm程度の厚さから形成可能な数百ミクロンμm程度が利用されるが、封止部材4としての機械的な強度およびIDT電極2の厚さを考慮すると10μmから100μmが好適な範囲である。   Further, the thickness of the portion that continues from the arrangement surface 4a of the sealing member 4 to the roof portion is about several hundred microns that can be formed from a thickness of about 5 μm that functions as a continuous film. Considering the mechanical strength as 4 and the thickness of the IDT electrode 2, 10 μm to 100 μm is a preferable range.

さらに、封止部材4は単一材料で形成してもよいし、複数の材料からなるものとしてもよいが、気密性を考慮すると単一材料が好ましい。   Furthermore, the sealing member 4 may be formed of a single material or may be formed of a plurality of materials, but a single material is preferable in consideration of airtightness.

また、保護部材7としては、圧電基板1と同等の熱膨張係数を有するエポキシ系の樹脂を用いることが好ましい。これにより、回路基板へ実装する時に、リフローによる熱応力が圧電基板1および外部接続電極9に加わることを防止する。このため、圧電基板の破損や外部接続電極9と回路基板上のパターンとの接続不良の発生を抑制し、信頼性の高いものとすることができる。なお、保護部材7の熱膨張係数を圧電基板1と同等にするためには保護部材7を形成する材料にSiO等のフィラーを添加して調整することが好ましい。また、基本的には、封止部材4により収容空間3内への水分の浸入を遮断するが、さらに確実に水分の浸入を遮断するように保護部材7にシリカゲル、ゼオライト、ポリアクリル酸塩系の吸湿剤を添加しても良い。さらに、保護部材7には250℃以上での耐熱性がある材料を選択することが好ましい。これは、外部接続電極9の封止部材4からの露出部にバンプ電極等の電極端子を設け、その電極端子を介して弾性表面波装置を実装する回路基板側の電極に電気的に接続する際のプロセスに対応するためであり、このような材料を用いることにより、実装基板に弾性表面波装置を安定に固定することができる。 In addition, as the protective member 7, it is preferable to use an epoxy resin having a thermal expansion coefficient equivalent to that of the piezoelectric substrate 1. This prevents thermal stress due to reflow from being applied to the piezoelectric substrate 1 and the external connection electrode 9 when mounted on the circuit board. For this reason, it is possible to suppress the occurrence of breakage of the piezoelectric substrate and the connection failure between the external connection electrode 9 and the pattern on the circuit board, and to achieve high reliability. In order to make the thermal expansion coefficient of the protective member 7 equal to that of the piezoelectric substrate 1, it is preferable to adjust the material for forming the protective member 7 by adding a filler such as SiO 2 . Basically, the sealing member 4 blocks moisture intrusion into the accommodation space 3, but the protective member 7 is silica gel, zeolite, polyacrylate based so as to more reliably block moisture penetration. A hygroscopic agent may be added. Furthermore, it is preferable to select a material having heat resistance at 250 ° C. or higher for the protective member 7. This is because an electrode terminal such as a bump electrode is provided at an exposed portion of the external connection electrode 9 from the sealing member 4 and is electrically connected to the electrode on the circuit board side on which the surface acoustic wave device is mounted via the electrode terminal. The surface acoustic wave device can be stably fixed to the mounting substrate by using such a material.

また、導電パターン8の材質としては、アルミニウム(Al),アルミニウム・銅合金(Al−Cu),アルミニウム・銅・マグネシウム合金(Al−Cu−Mg)等が好適である。また、これらの下地層としてチタン(Ti)またはクロム(Cr)を用いてもよい
。また、弾性表面波共振器2同士を接続するための接続線も導電パターン8と同様の材料を用いることができる。
The material of the conductive pattern 8 is preferably aluminum (Al), aluminum / copper alloy (Al—Cu), aluminum / copper / magnesium alloy (Al—Cu—Mg), or the like. Further, titanium (Ti) or chromium (Cr) may be used as the underlayer. In addition, the same material as that of the conductive pattern 8 can be used for a connection line for connecting the surface acoustic wave resonators 2 to each other.

また、外部接続電極9は、金(Au),銅(Cu),ニッケル(Ni)等から成り、径が50〜100ミクロン(μm),高さが20〜400ミクロン(μm)程度が好適である。なお、弾性表面波共振器2上への外部接続電極9形成のため、チタン、Cu等の積層膜を下地層として形成しても良い。   The external connection electrode 9 is made of gold (Au), copper (Cu), nickel (Ni) or the like, and preferably has a diameter of 50 to 100 microns (μm) and a height of about 20 to 400 microns (μm). is there. In order to form the external connection electrode 9 on the surface acoustic wave resonator 2, a laminated film of titanium, Cu, or the like may be formed as a base layer.

反射器電極10の材質としては、IDT電極2と同じ材料を用いることができる。   As the material of the reflector electrode 10, the same material as that of the IDT electrode 2 can be used.

次に、図4を用いて、本発明の弾性表面波装置の製造方法について説明する。   Next, the manufacturing method of the surface acoustic wave device of the present invention will be described with reference to FIG.

本発明の弾性表面波装置の製造方法の一例は、IDT電極2および導電パターン8が形成された圧電基板1上に、IDT電極2を囲繞する枠体5を形成する工程Aと、蓋体6を枠体5上に形成し、枠体5と蓋体6とで封止部材4を形成し、圧電基板1との間に収容空間3を形成する工程Bと、導電パターン8上に外部接続電極9を形成する工程Cと、封止部材4,入出力電極9を保護部材7で覆う工程Dを具備する。なお、図4(a)〜(d)の断面図はそれぞれ弾性表面波装置の製造工程における工程A〜Dの各段階を示している。   An example of a method for manufacturing a surface acoustic wave device according to the present invention includes a step A of forming a frame 5 surrounding the IDT electrode 2 on the piezoelectric substrate 1 on which the IDT electrode 2 and the conductive pattern 8 are formed, and a lid 6. Is formed on the frame body 5, the sealing member 4 is formed by the frame body 5 and the lid body 6, and the housing space 3 is formed between the piezoelectric substrate 1 and the external connection on the conductive pattern 8. A process C for forming the electrode 9 and a process D for covering the sealing member 4 and the input / output electrode 9 with the protective member 7 are provided. 4A to 4D show the respective stages of steps A to D in the manufacturing process of the surface acoustic wave device.

まず、図4(a)に示す通り、圧電基板1上に、IDT電極2,導電パターン8,反射器電極10を、スパッタリング法、蒸着法またはCVD(Chemical Vapor
Deposition)法等の薄膜形成法により形成し、縮小投影露光機(ステッパー)とRIE(Reactive Ion Etching)装置とを用いたフォトリソグラフィ法等によりパターニングして所望の形状を得る。
First, as shown in FIG. 4A, an IDT electrode 2, a conductive pattern 8, and a reflector electrode 10 are formed on a piezoelectric substrate 1 by sputtering, vapor deposition or CVD (Chemical Vapor).
The film is formed by a thin film forming method such as a deposition method, and is patterned by a photolithography method using a reduction projection exposure machine (stepper) and a RIE (Reactive Ion Etching) apparatus to obtain a desired shape.

次に、圧電基板1上にIDT電極2を囲むように枠体5を形成する。ここで枠体5は、
液状の材料を用いてスピンコート法により形成したり、フィルム状の材料をフィルム貼り装置を用いたりして形成後、パターニングして形成しても良い。
Next, a frame 5 is formed on the piezoelectric substrate 1 so as to surround the IDT electrode 2. Here, the frame 5 is
A liquid material may be formed by a spin coating method, or a film material may be formed by using a film sticking apparatus and then patterned.

次に、図4(b)に示す通り、枠体5上に蓋体6を形成する。蓋体6は、フィルム状の材料をフィルム貼り装置を用いて加圧しながら枠体5上に載置することが好ましい。これは、蓋体6にフィルム状の材料を用いることにより、容易に収容空間3を形成することが可能となるためである。なお、枠体5および蓋体6は所望の形状に加工することを考慮すると、感光性の材料を用いてフォトリソグラフィ法により形成することが好ましい。次に、枠体5と蓋体6とを加熱・硬化することで、枠体5と蓋体6を一体化させて、封止部材4とすることができる。   Next, as shown in FIG. 4B, the lid body 6 is formed on the frame body 5. The lid 6 is preferably placed on the frame 5 while pressurizing a film-like material using a film sticking apparatus. This is because the storage space 3 can be easily formed by using a film-like material for the lid 6. The frame body 5 and the lid body 6 are preferably formed by a photolithography method using a photosensitive material in consideration of processing into a desired shape. Next, the frame body 5 and the lid body 6 are heated and cured, whereby the frame body 5 and the lid body 6 can be integrated to form the sealing member 4.

また、不活性ガス雰囲気下で蓋体6を形成すれば、収容空間3内に窒素やアルゴンなどの不活性ガスを充填することができ、収容空間3内のIDT電極2等の酸化等を防ぎ、信頼性の高いものとすることができる。   Further, if the lid 6 is formed under an inert gas atmosphere, the accommodation space 3 can be filled with an inert gas such as nitrogen or argon, and oxidation of the IDT electrode 2 and the like in the accommodation space 3 can be prevented. Can be reliable.

次に、図4(c)に示す通り、導電パターン8上に外部接続電極9を形成する。具体的には、無電解や電界等のメッキプロセス、スクリーン印刷等が好ましい。   Next, as shown in FIG. 4C, the external connection electrode 9 is formed on the conductive pattern 8. Specifically, electroless and electric field plating processes, screen printing, and the like are preferable.

次に、図4(d)に示す通り、保護部材7の上面に外部接続電極9が露出するように、これらの構造体を保護部材7で覆う。保護部材7は、樹脂を印刷機や真空印刷機を用いて形成することが可能である。なお、本発明品の構成では樹脂を印刷する基材(構造体)の表面に数百ミクロン程度の大きな段差があるため、印刷時に保護部材7の内部に気泡が入りやすい。そのため、真空印刷方式にて気泡を抜きながら印刷する方式が好適である。   Next, as shown in FIG. 4D, these structures are covered with the protective member 7 so that the external connection electrodes 9 are exposed on the upper surface of the protective member 7. The protective member 7 can be formed of resin using a printing machine or a vacuum printing machine. In the configuration of the product of the present invention, since there is a large step of about several hundred microns on the surface of the substrate (structure) on which the resin is printed, air bubbles easily enter the protective member 7 during printing. Therefore, a method of printing while removing bubbles by a vacuum printing method is preferable.

このように、図4に示す本発明の弾性表面波装置の製造方法によれば、上記構成とすることが可能なことから、収容空間3においてその良好な状態を維持することができるので、弾性表面波を発生する電極を含む弾性表面波共振器をウェハレベルで簡単かつ良好に封止することができるものとなる。特に、封止部材4を枠体5と蓋体6とで形成したことから、簡易に収容空間3を形成することができ生産性の高いものとすることができる。さらに、収容空間3を形成するために、犠牲層を用いる必要がないことから、工程の削減ができるとともに、収容空間3内に犠牲層を除去する際のエッチャントや犠牲層が残り、IDT電極2に悪影響を及ぼす恐れがないので、生産性が高く、信頼性の高いものとすることができる。   As described above, according to the method for manufacturing the surface acoustic wave device of the present invention shown in FIG. 4, since the above-described configuration can be used, the favorable state can be maintained in the accommodation space 3. A surface acoustic wave resonator including an electrode for generating a surface wave can be easily and satisfactorily sealed at the wafer level. In particular, since the sealing member 4 is formed by the frame body 5 and the lid body 6, the housing space 3 can be easily formed and the productivity can be increased. Further, since it is not necessary to use a sacrificial layer to form the accommodating space 3, the number of processes can be reduced, and an etchant and a sacrificial layer for removing the sacrificial layer remain in the accommodating space 3, and the IDT electrode 2 Therefore, productivity and reliability can be increased.

なお、前述した収容空間3の形成方法の他に、収容空間3形成部分に犠牲層と呼ばれる層を形成し、封止部材4を形成する材料を犠牲層の上に形成した後、犠牲層を除去して収容空間3を形成するような方法を採用してもかまわない。   In addition to the method for forming the housing space 3 described above, a layer called a sacrificial layer is formed in the housing space 3 forming portion, and a material for forming the sealing member 4 is formed on the sacrificial layer. A method of removing and forming the accommodation space 3 may be adopted.

次に、本発明の可変共振回路を用いてフィルタを形成した例について説明する。   Next, an example in which a filter is formed using the variable resonance circuit of the present invention will be described.

図5は、本発明のフィルタ装置の一実施形態のフィルタ装置を示す等価回路図である。   FIG. 5 is an equivalent circuit diagram showing a filter device according to an embodiment of the filter device of the present invention.

本発明の弾性表面波装置100が共振子としての特性を有する場合には、本発明のフィルタ装置は、図5(a)に示すように、入力端子Inと出力端子Outとをつなぐ入出力ラインとグランド端子との間に、本発明の弾性表面波装置100を接続すればよい。また、図5(b)に示すように、入出力ライン上に、弾性表面波装置100を接続してもよい。さらに、入力端子Inと出力端子Outとをつなぐ入出力ラインとグランド端子との間および入出力ライン上の両方に、弾性表面波装置100を接続してもよい。共振子としての特性を有する弾性表面波装置としては、例えば、IDT電極2を構成する櫛歯状電極のうち、一方が入力端子Inに接続され、他方が出力端子Outに接続されているものがあげられる。   When the surface acoustic wave device 100 of the present invention has a characteristic as a resonator, the filter device of the present invention has an input / output line connecting the input terminal In and the output terminal Out, as shown in FIG. The surface acoustic wave device 100 of the present invention may be connected between the ground terminal and the ground terminal. Further, as shown in FIG. 5B, a surface acoustic wave device 100 may be connected on the input / output line. Further, the surface acoustic wave device 100 may be connected both between the input / output line connecting the input terminal In and the output terminal Out and the ground terminal and on the input / output line. As the surface acoustic wave device having the characteristics as a resonator, for example, one of comb-like electrodes constituting the IDT electrode 2 is connected to the input terminal In and the other is connected to the output terminal Out. can give.

このようにしてラダー型のフィルタを形成してもよいし、非平衡入力―平衡出力等のバランス型のフィルタを形成してもよい。   In this way, a ladder type filter may be formed, or a balanced type filter such as an unbalanced input-balanced output may be formed.

例えば、図1に示す弾性表面波装置は、複数組のIDT電極2をバランス型のフィルタを形成するように接続している。すなわち、信号入力端子9inを入力端子In,2つの出力端子9outをそれぞれ出力端子Outとすると、この入力端子Inと出力端子Outとを結ぶそれぞれの入出力ラインに以下のようにIDT電極2が接続されている。まず、IDT電極2は、入力端子Inに接続された第1IDT電極と、出力端子Outに接続された第2IDT電極と、この第2IDT電極の両側に配置された第3および第4IDT電極とがある。入力端子In(9in)は第1IDT電極の一方の櫛歯状電極に接続され、他方の櫛歯状電極は、第3および第4IDT電極の一方の櫛歯状電極に接続されている。第2IDT電極の櫛歯状電極の一方は出力端子Out(9out)に接続されている。第2から第4IDT電極の他方の櫛歯状電極はグランド端子に接続されている。このように接続することで、入力端子Inから入力された信号は、第1IDT電極から第3および第4IDT電極を介して第2IDT電極に達し出力端子Outから取り出される。以上から、入出力ライン上または入出力ライン上からグランド端子との間に複数のIDT電極2を接続したフィルタ装置となり、この複数のIDT電極2の少なくとも1つを含む本発明の弾性表面波装置を用いることで、本発明の弾性表面波装置を用いたフィルタ装置とすることができる。 For example, the surface acoustic wave device shown in FIG. 1 connects a plurality of sets of IDT electrodes 2 so as to form a balanced filter. That is, if the signal input terminal 9 in is the input terminal In and the two output terminals 9 out are the output terminals Out, the IDT electrode 2 is connected to each input / output line connecting the input terminal In and the output terminal Out as follows. Is connected. First, the IDT electrode 2 includes a first IDT electrode connected to the input terminal In, a second IDT electrode connected to the output terminal Out, and third and fourth IDT electrodes arranged on both sides of the second IDT electrode. . The input terminal In (9 in ) is connected to one comb-like electrode of the first IDT electrode, and the other comb-like electrode is connected to one comb-like electrode of the third and fourth IDT electrodes. One of the comb-like electrodes of the second IDT electrode is connected to the output terminal Out (9 out ). The other comb-like electrodes of the second to fourth IDT electrodes are connected to the ground terminal. By connecting in this way, the signal input from the input terminal In reaches the second IDT electrode from the first IDT electrode via the third and fourth IDT electrodes and is extracted from the output terminal Out. From the above, a filter device in which a plurality of IDT electrodes 2 are connected on the input / output line or between the input / output line and the ground terminal, and the surface acoustic wave device of the present invention including at least one of the plurality of IDT electrodes 2 is provided. The filter device using the surface acoustic wave device of the present invention can be obtained.

次に、本発明のフィルタ装置を用いて通信装置を形成した例について説明する。   Next, an example in which a communication device is formed using the filter device of the present invention will be described.

図6は、本発明の通信装置の一実施形態の通信装置を示すブロック図である。   FIG. 6 is a block diagram showing a communication apparatus according to an embodiment of the communication apparatus of the present invention.

図6において、アンテナ140に送信回路Txと受信回路Rxが分波器150を介して接続されている。送信される高周波信号は、フィルタ210によりその不要信号が除去され、パワーアンプ220で増幅された後、アイソレータ230と分波器150を通り、アンテナ140から放射される。また、アンテナ140で受信された高周波信号は、分波器150を通りローノイズアンプ160で増幅されフィルタ170でその不要信号を除去された後、アンプ180で再増幅されミキサ190で低周波信号に変換される。   In FIG. 6, a transmission circuit Tx and a reception circuit Rx are connected to an antenna 140 via a duplexer 150. The high-frequency signal to be transmitted is removed from the unnecessary signal by the filter 210, amplified by the power amplifier 220, and then radiated from the antenna 140 through the isolator 230 and the duplexer 150. The high-frequency signal received by the antenna 140 is amplified by the low-noise amplifier 160 through the duplexer 150, the unnecessary signal is removed by the filter 170, re-amplified by the amplifier 180, and converted to a low-frequency signal by the mixer 190. Is done.

図6において、分波器150,フィルタ170,フィルタ210のいずれかに、本発明のフィルタ装置を用いれば、小型でQ値の高いものとすることができる。   In FIG. 6, if the filter device of the present invention is used for any one of the duplexer 150, the filter 170, and the filter 210, it can be made small and have a high Q value.

なお、図6では送信回路Txと受信回路Rxとを有する通信装置について説明したが、送信回路Txまたは受信回路Rxのいずれか一方を有する通信装置としてもよい。   In FIG. 6, the communication device having the transmission circuit Tx and the reception circuit Rx has been described. However, a communication device having either the transmission circuit Tx or the reception circuit Rx may be used.

このように、上記各構成のいずれかの弾性表面波装置を有する、受信回路および送信回路の少なくとも一方を備えた通信装置を構成すれば、通信装置の受信回路または送信回路に用いられる弾性表面波装置を、ウェハレベルで良好に封止することにより実用的な性能を備えつつ小型にすることができるので、通信装置を小型にすることができる。例えば、このように小型化された通信装置は、携帯電話,パーソナルハンディホン(PHS),アマチュア無線用ポータブルトランシーバ,ICカード等の携帯通信端末、パームトップコンピュータ等の電子情報処理端末または車載用のカーナビケーションシステムおよびETC(エレクトロニック・トール・コレクション・システム)車載端末等に好適に使用することができる。   As described above, if a communication device including at least one of a reception circuit and a transmission circuit having the surface acoustic wave device having any one of the above-described configurations is configured, the surface acoustic wave used for the reception circuit or the transmission circuit of the communication device. Since the device can be reduced in size while having practical performance by being well sealed at the wafer level, the communication device can be reduced in size. For example, the communication device thus miniaturized is a portable communication terminal such as a mobile phone, a personal handyphone (PHS), an amateur radio portable transceiver, an IC card, an electronic information processing terminal such as a palmtop computer, or an in-vehicle communication device. It can be suitably used for a car navigation system and an ETC (Electronic Toll Collection System) vehicle-mounted terminal.

かくして、本発明によれば、弾性表面波を発生する電極をウェハレベルで簡単かつ良好に封止することができる小型な弾性表面波装置およびその小型な弾性表面波装置を具備する小型なフィルタ装置及び通信装置を提供することができる。   Thus, according to the present invention, a small surface acoustic wave device capable of easily and satisfactorily sealing an electrode for generating a surface acoustic wave at the wafer level and a small filter device including the small surface acoustic wave device. And a communication device can be provided.

なお、本発明は以上の実施の形態の例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の変更・改良を施すことは何等差し支えない。   It should be noted that the present invention is not limited to the examples of the embodiments described above, and various modifications and improvements can be made without departing from the scope of the present invention.

例えば、上述の実施の形態の例においては、封止部材4を保護部材7で覆う形式をとっているが、保護部材7を形成せず入出力電極9を露出させた状態でも良い。さらに、本実施の形態では外部接続電極9を用いて外部の回路との接続を実現したが、圧電基板1に導電パターン8と接続するビアホールを設け、圧電基板1の裏面において外部の回路と接続してもよい。また、外部接続電極9を形成せず導電パターン8上の保護部材7に穴を開けておき、外部の回路との接続をワイヤーボンディング等の手法を用いるようにしても良い。また、図4(a)において、枠体5を形成する前に、圧電基板1の外部接続電極9が形成される位置を除く全面に、IDT電極2を保護するSiOから成る保護膜を形成し、この保護膜上に枠体5を形成しても良い。このようにすれば、枠体5を段差のない面に形成することができるので好ましい。 For example, in the example of the above-described embodiment, the sealing member 4 is covered with the protective member 7, but the protective member 7 may not be formed and the input / output electrode 9 may be exposed. Furthermore, in the present embodiment, the external connection electrode 9 is used to connect to an external circuit. However, a via hole that connects to the conductive pattern 8 is provided in the piezoelectric substrate 1 and the back surface of the piezoelectric substrate 1 is connected to an external circuit. May be. Alternatively, a hole may be formed in the protective member 7 on the conductive pattern 8 without forming the external connection electrode 9, and a method such as wire bonding may be used for connection with an external circuit. 4A, before forming the frame body 5, a protective film made of SiO 2 that protects the IDT electrode 2 is formed on the entire surface of the piezoelectric substrate 1 except for the position where the external connection electrode 9 is formed. The frame 5 may be formed on the protective film. This is preferable because the frame 5 can be formed on a surface having no step.

1:圧電基板
2:IDT電極
2a:バスバー電極
2b:電極指
3:収容空間
4:封止部材
4A:反射部
4a:配設面
5:枠体
6:蓋体
7:保護部材
8:導電パターン
9:外部接続電極
10:反射器電極
15:軌跡外郭線
1: Piezoelectric substrate 2: IDT electrode 2a: Bus bar electrode 2b: Electrode finger 3: Accommodating space 4: Sealing member 4A: Reflecting portion 4a: Installation surface 5: Frame body 6: Lid body 7: Protection member 8: Conductive pattern 9: External connection electrode 10: Reflector electrode 15: Trajectory outline

Claims (8)

弾性表面波を伝搬する圧電基板と、
前記圧電基板上に形成され、前記弾性表面波の伝搬方向に伸びて互いに対向配置された一対のバスバー電極を有するIDT電極と、
前記圧電基板上に配置され、前記圧電基板との間に前記IDT電極を収容する収容空間を形成する封止部材と、を含む弾性表面波装置であって、
前記圧電基板上において、前記伝搬方向と一致する、前記IDT電極の中心を通る仮想的な中心線を定義したときに、
前記封止部材の前記圧電基板側の面である配設面の外郭線は、前記中心線の両側において、この中心線に沿って前記IDT電極から離れるにしたがって、この中心線から前記配設面を構成する前記外郭線までの距離が短くなる反射部を有し、
前記反射部は、少なくとも一部が、前記一対のバスバー電極を前記伝搬方向に沿って伸ばした一対の仮想線で挟まれた領域である軌跡上に存在する、弾性表面波装置。
A piezoelectric substrate that propagates surface acoustic waves;
An IDT electrode having a pair of bus bar electrodes formed on the piezoelectric substrate and extending in the propagation direction of the surface acoustic wave and arranged to face each other;
A surface acoustic wave device including a sealing member disposed on the piezoelectric substrate and forming a housing space for housing the IDT electrode between the piezoelectric substrate,
When a virtual center line passing through the center of the IDT electrode, which coincides with the propagation direction, is defined on the piezoelectric substrate,
The outline of the arrangement surface, which is the surface on the piezoelectric substrate side of the sealing member, is separated from the IDT electrode along the center line on both sides of the center line. Having a reflecting portion that shortens the distance to the contour line constituting
The surface acoustic wave device, wherein at least a part of the reflecting portion exists on a locus that is a region sandwiched between a pair of virtual lines obtained by extending the pair of bus bar electrodes along the propagation direction.
前記封止部材は、前記圧電基板上に配置された、前記IDT電極を囲繞する枠体と、前記枠体上に配置された蓋体とを含む、請求項1に記載の弾性表面波装置。   2. The surface acoustic wave device according to claim 1, wherein the sealing member includes a frame body disposed on the piezoelectric substrate and surrounding the IDT electrode, and a lid body disposed on the frame body. 前記圧電基板上に形成され、前記IDT電極の弾性表面波の主伝搬方向の両端部に隣接して配置された反射器電極をさらに含み、
前記封止部材は、前記反射部の少なくとも一部が前記反射器電極上となる位置に配置されている、請求項1または請求項2に記載の弾性表面波装置。
A reflector electrode formed on the piezoelectric substrate and disposed adjacent to both ends in the main propagation direction of the surface acoustic wave of the IDT electrode;
The surface acoustic wave device according to claim 1, wherein the sealing member is disposed at a position where at least a part of the reflecting portion is on the reflector electrode.
前記封止部材は、前記配設面の少なくとも一部が前記バスバー電極上に配置されている、請求項1乃至3のいずれかに記載の弾性表面波装置。   The surface acoustic wave device according to claim 1, wherein at least a part of the arrangement surface of the sealing member is disposed on the bus bar electrode. 前記IDT電極を保護する保護膜をさらに備え、
前記保護膜は前記圧電基板と前記封止部材との間に介在している、請求項1乃至4のいずれかに記載の弾性表面波装置。
A protective film for protecting the IDT electrode;
The surface acoustic wave device according to claim 1, wherein the protective film is interposed between the piezoelectric substrate and the sealing member.
前記反射部は湾曲した部分を有している、請求項1乃至5のいずれかに記載の弾性表面波装置。   The surface acoustic wave device according to claim 1, wherein the reflection portion has a curved portion. 入力端子と出力端子とグランド端子とを有し、前記入力端子と前記出力端子とをつなぐ入出力ライン上、または前記入出力ラインとグランド端子との間に、請求項1乃至6のいずれかに記載の弾性表面波装置を設けたフィルタ装置。   7. The device according to claim 1, further comprising: an input terminal, an output terminal, and a ground terminal, on an input / output line connecting the input terminal and the output terminal, or between the input / output line and the ground terminal. The filter apparatus provided with the surface acoustic wave apparatus of description. 請求項7に記載のフィルタ装置を有する、受信回路および送信回路の少なくとも一方を備えた通信装置。 A communication device comprising at least one of a reception circuit and a transmission circuit, comprising the filter device according to claim 7.
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