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JP5145289B2 - Manufacturing method of semiconductor device - Google Patents
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Description

本発明は、液状もしくはゲル状の半導体封止用樹脂組成物を冷却固化してなる半導体封止用樹脂組成物を用いたトランスファー成形による半導体装置の製造方法に関するものである。 The present invention relates to a method of manufacturing a semiconductor device according to a transfer molding using a resin composition for semiconductor encapsulation comprising a liquid or gel-like resin composition for semiconductor encapsulation was cooled and solidified.

一般に、半導体装置は、つぎのような構成をとるものである。すなわち、金属リードフレーム上に半導体素子が実装され、外部との導通を図る目的で、上記半導体素子と金属リードフレームのインナーリードとが、金属ワイヤーをボンディングすることにより電気的に接続されている。そして、このような半導体素子およびリードフレームは、エポキシ樹脂組成物等の封止材料によって樹脂封止されパッケージ化されている。   Generally, a semiconductor device has the following configuration. That is, a semiconductor element is mounted on a metal lead frame, and the semiconductor element and the inner lead of the metal lead frame are electrically connected by bonding a metal wire for the purpose of electrical connection with the outside. Such a semiconductor element and a lead frame are resin-sealed and packaged with a sealing material such as an epoxy resin composition.

上記半導体素子およびリードフレームの樹脂封止は、通常、固形タブレット状の半導体封止用樹脂組成物を用いたトランスファー成形法により行なわれている。このトランスファー成形法は、固形タブレット状の半導体封止用樹脂組成物を成形金型のポットに投入し、このポット内にて加熱することにより流動状態とした後、プランジャーにて押し出すことによりキャビティ内に流入させる。そして、キャビティ内の半導体素子およびリードフレームを樹脂封止するものである。あるいは、上記トランスファー成形法以外に、例えば、常温(約25℃程度)で液状もしくはゲル状の半導体封止用樹脂組成物を、スペンサーで定量にした後、キャスティング方式またはスクリーン印刷等により樹脂封止する方法もある。ここで、上記ゲル状の高粘度の非固形物質を示す半導体封止用樹脂組成物は、通常、溶剤等に希釈した状態で、液状の半導体封止用樹脂組成物と同様の状態とした後、樹脂封止に供される。   Resin sealing of the semiconductor element and the lead frame is usually performed by a transfer molding method using a solid tablet-shaped resin composition for semiconductor sealing. In this transfer molding method, a resin composition for encapsulating a semiconductor in the form of a solid tablet is put into a pot of a molding die, heated in this pot to be in a fluid state, and then extruded into a cavity by a plunger. Let it flow into. Then, the semiconductor element and the lead frame in the cavity are sealed with resin. Alternatively, in addition to the transfer molding method described above, for example, a resin composition for semiconductor encapsulation that is liquid or gel at room temperature (about 25 ° C.) is quantified with a spencer, and then encapsulated with a casting method or screen printing There is also a way to do it. Here, the resin composition for semiconductor encapsulation showing the gel-like high-viscosity non-solid substance is usually in a state diluted with a solvent or the like in the same state as the liquid semiconductor encapsulation resin composition. It is used for resin sealing.

さらに、上記常温で液状もしくはゲル状の半導体封止用樹脂組成物を、固形タブレット化したものが従来から提案されている(特許文献1,2参照)。これは、容器に、液状もしくはゲル状の半導体封止用樹脂組成物を封入して擬似的にタブレット化した包装体を用いるものである。上記容器に封入された半導体封止用樹脂組成物である包装体は、通常のトランスファー成形と同様に、上記封入容器をポット内に投入し、成形温度において上記包装体をプランジャーにて圧縮することにより、上記封入容器の一部を破裂させ、内部の半導体封止用樹脂組成物を押し出してキャビティ内に流入させるというように使用されるものである。   Furthermore, what solidified the resin composition for semiconductor sealing liquid or gel-like at the said normal temperature has been proposed conventionally (refer patent documents 1, 2). This uses a package body in which a liquid or gel-like resin composition for encapsulating a semiconductor is sealed in a container to form a pseudo tablet. The package, which is a semiconductor sealing resin composition enclosed in the container, is charged into the pot in the pot, and the package is compressed with a plunger at the molding temperature, as in normal transfer molding. Thus, a part of the enclosure is ruptured, and the resin composition for semiconductor sealing inside is pushed out to flow into the cavity.

特開平9−174591号公報Japanese Patent Laid-Open No. 9-174591 特開2006−21788号公報JP 2006-21788 A

ところで、半導体装置の生産性に関しては、上記トランスファー成形による製造が、キャスティング方式またはスクリーン印刷に比べて優れており、樹脂封止に用いられる封止材料の状態に関わらず、可能であるならばトランスファー成形による樹脂封止が望まれている。   By the way, regarding the productivity of the semiconductor device, the manufacture by the transfer molding is superior to the casting method or the screen printing, and if possible regardless of the state of the sealing material used for the resin sealing, the transfer is possible. Resin sealing by molding is desired.

しかしながら、常温で液状もしくはゲル状の半導体封止用樹脂組成物は、当然ながら常温でタブレット状等の固体とすることはできないため、トランスファー成形に供することはできなかった。   However, the resin composition for semiconductor encapsulation that is liquid or gel at room temperature cannot be used for transfer molding because it cannot be converted into a tablet or other solid at room temperature.

一方、上記特許文献1,2に記載のように、液状もしくはゲル状の半導体封止用樹脂組成物を容器に封入してなる包装体においては、封入容器の一部を破裂させた際に断片が混入することが考えられ、また封入容器の使用によるコストアップや、使用後の容器の排出処理等の環境負荷、さらには樹脂組成物を容器に封入する際の手間が懸念されている。   On the other hand, as described in Patent Documents 1 and 2 above, in a package formed by enclosing a liquid or gel-like resin composition for semiconductor encapsulation in a container, fragments are formed when a part of the encapsulated container is ruptured. In addition, there are concerns about the cost increase due to the use of the sealed container, the environmental load such as the discharge processing of the container after use, and the trouble of sealing the resin composition in the container.

このようなことから、高い生産性を備えたトランスファー成形に際して、常温で液状もしくはゲル状の半導体封止用樹脂組成物を使用可能とする手法が望まれている。   For these reasons, there is a demand for a technique that makes it possible to use a resin composition for semiconductor encapsulation that is liquid or gel-like at room temperature during transfer molding with high productivity.

本発明は、このような事情に鑑みなされたもので、封止材料として常温で液状もしくはゲル状の半導体封止用樹脂組成物をトランスファー成形に供することを可能とする半導体封止用樹脂組成物を用いた半導体装置の製造方法の提供をその目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and a semiconductor sealing resin composition that can be used for transfer molding a liquid or gel semiconductor sealing resin composition at room temperature as a sealing material . An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a semiconductor device using the semiconductor device.

上記の目的を達成するために、本発明は、トランスファー成形機を用い半導体素子を樹脂封止することにより半導体装置を製造する方法であって、常温で液状もしくはゲル状の樹脂組成物を冷却固化用型に充填してタブレット状に冷却固化した冷却固化状態の半導体封止用樹脂組成物を準備する工程と、トランスファー成形用金型のポット内に、上記冷却固化状態を維持しながら冷却固化状態の半導体封止用樹脂組成物を投入する工程と、ポット内にて、150〜175℃の温度下、上記投入した半導体封止用樹脂組成物を解凍した後、もしくは解凍しながら、プランジャーにて解凍された液状もしくはゲル状の半導体封止用樹脂組成物を圧縮しポット内から押し出すことによりキャビティ内に流入させる工程と、流入させた半導体封止用樹脂組成物によってキャビティ内の半導体素子を樹脂封止する工程とを備えた半導体装置の製造方法を要旨とする。 In order to achieve the above object, the present invention is a method of manufacturing a semiconductor device by resin-sealing a semiconductor element using a transfer molding machine, and cooling and solidifying a liquid or gel-like resin composition at room temperature The step of preparing a resin composition for semiconductor sealing in a cooled and solidified state filled into a mold and cooled and solidified into a tablet shape, and a cooled and solidified state while maintaining the above-mentioned cooled and solidified state in a pot of a transfer mold The semiconductor sealing resin composition is charged into the plunger after the thawing of the charged semiconductor sealing resin composition at a temperature of 150 to 175 ° C. or while thawing in the pot. A step of compressing and extruding the thawed liquid or gel semiconductor sealing resin composition and extruding it from the pot; The semiconductor device in the cavity by the composition and Abstract a method for manufacturing a semiconductor device comprising a step of resin encapsulation.

本発明者らは、液状もしくはゲル状の半導体封止用樹脂組成物をトランスファー成形に供する手法を得るべく鋭意検討を行なった。その結果、上記液状もしくはゲル状の半導体封止用樹脂組成物を冷却固化して冷却固化体とし、これをトランスファー成形に供することを見出し本発明に到達した。すなわち、液状もしくはゲル状の半導体封止用樹脂組成物はそのままの状態ではトランスファー成形に供することはできないことから、様々な形態を検討した。その過程で、コストを上げることなく、しかも環境負荷の懸念も生じない、かつ煩雑な作業を要せずにトランスファー成形に供することを可能とする態様について検討した結果、液状もしくはゲル状の半導体封止用樹脂組成物を冷却固化して固体状態とする(冷却固化体)ことを想起した。これにより、コストアップおよび環境負荷の懸念を招くことなく、しかも煩雑な作業を要せずに冷却固化された半導体封止用樹脂組成物が得られる。   The present inventors have intensively studied to obtain a technique for subjecting a liquid or gel-like resin composition for encapsulating a semiconductor to transfer molding. As a result, the inventors have found that the liquid or gel-like resin composition for encapsulating a semiconductor is cooled and solidified to obtain a cooled solidified body, which is used for transfer molding, and reached the present invention. That is, since a liquid or gel-like resin composition for encapsulating a semiconductor cannot be used for transfer molding as it is, various forms were examined. In the process, as a result of investigating an aspect that can be used for transfer molding without increasing the cost and without concern for environmental burden, and without requiring complicated work, a liquid or gel-like semiconductor encapsulation is obtained. It was recalled that the resin composition for cooling is solidified by cooling to a solid state (cooled solidified body). Thereby, the resin composition for semiconductor sealing cooled and solidified without incurring concern about cost increase and environmental burden and without requiring complicated work can be obtained.

このように、本発明は、トランスファー成形の際に用いられる、常温で液状もしくはゲル状の樹脂組成物の冷却固化体となる半導体封止用樹脂組成物である。このため、常温で液状もしくはゲル状の樹脂組成物であってもトランスファー成形に供することができる。しかも、封入容器等を必要としないため、コストアップにもならず、使用後の容器の廃棄等による環境負荷や、樹脂組成物の封入作業等を懸念する必要もない。また、容器に封入して供するものではないことから、トランスファー成形時に容器の破片等が混入することもなく信頼性の高い樹脂封止を行なうことができる。さらに、シリンジを使用した封止作業に比べて、封止材料のロスの発生が抑制され歩留りの向上が図られる。   As described above, the present invention is a resin composition for encapsulating a semiconductor that is used in transfer molding and becomes a cooled and solidified resin composition in a liquid or gel form at room temperature. For this reason, even if it is a liquid or gel-like resin composition at normal temperature, it can be used for transfer molding. In addition, since a sealed container or the like is not required, the cost is not increased, and there is no need to worry about the environmental load due to disposal of the container after use or the like, the resin composition sealing work, and the like. In addition, since it is not used after being enclosed in a container, it is possible to perform highly reliable resin sealing without introducing fragments or the like of the container during transfer molding. Furthermore, compared with a sealing operation using a syringe, the loss of the sealing material is suppressed and the yield is improved.

そして、トランスファー成形機を用い半導体素子を樹脂封止することにより半導体装置を製造する方法において、上記冷却固化状態の半導体封止用樹脂組成物を準備した後、これをトランスファー成形用金型のポット内に、上記冷却固化状態を維持しながら投入する。ついで、上記投入した半導体封止用樹脂組成物を解凍した後、もしくは解凍しながら、液状もしくはゲル状とした半導体封止用樹脂組成物をプランジャーにて押し出すことによりキャビティ内に流入させた後、流入させた半導体封止用樹脂組成物によってキャビティ内の半導体素子を樹脂封止することにより半導体装置を製造する。このため、従来では、容器に封入する以外にトランスファー成形に供することのできなかった液状もしくはゲル状の半導体封止用樹脂組成物を、煩雑な作業を経由することなく封止工程に供することができ、生産性に優れたトランスファー成形法にて半導体装置の樹脂封止が行なわれることから液状もしくはゲル状の半導体封止用樹脂組成物使用による生産性の向上が実現する。そして、冷却固化体である半導体封止用樹脂組成物をトランスファー成形に用いるため、例えば、従来、固形化やBステージ化(半硬化)が困難であった樹脂材料をトランスファー成形に供することが可能となることから、作業性が向上し、高耐熱性や高信頼性のパッケージを低価格で提供できるようになる。このようなことから、本発明の半導体封止用樹脂組成物によって半導体素子が樹脂封止された半導体装置は、信頼性に優れ、その機能を充分に発揮することができる。   And in the method of manufacturing a semiconductor device by resin-sealing a semiconductor element using a transfer molding machine, after preparing the above-mentioned cooled and solidified resin composition for semiconductor sealing, it is transferred to a pot for transfer molding Into the inside while maintaining the above-mentioned cooling and solidification state. Next, after thawing the charged semiconductor sealing resin composition, or after thawing, the semiconductor sealing resin composition in liquid or gel form is extruded into the cavity by pushing it out with a plunger. A semiconductor device is manufactured by resin-sealing the semiconductor element in the cavity with the introduced resin composition for semiconductor sealing. For this reason, conventionally, the liquid or gel-like resin composition for semiconductor encapsulation that could not be used for transfer molding other than enclosing in a container can be subjected to a sealing process without going through complicated operations. In addition, since the semiconductor device is resin-sealed by a transfer molding method having excellent productivity, the productivity can be improved by using a liquid or gel-like resin composition for semiconductor sealing. And since the resin composition for semiconductor encapsulation which is a cooling solidified body is used for transfer molding, it is possible to use, for example, resin materials that have conventionally been difficult to solidify and B-stage (semi-curing) for transfer molding. Therefore, workability is improved, and high heat resistance and high reliability packages can be provided at a low price. For this reason, the semiconductor device in which the semiconductor element is encapsulated with the resin composition for encapsulating a semiconductor of the present invention is excellent in reliability and can sufficiently exhibit its function.

また、上記半導体封止用樹脂組成物が、液状もしくはゲル状の半導体封止用樹脂組成物を冷却固化用型に充填してタブレット状に冷却固化したものであるため、従来のトランスファー成形機と同様の方法,装置にて樹脂封止することが容易となる。 Further, the semiconductor encapsulating resin composition, since they are cooled and solidified into tablets by filling a liquid or gel-like resin composition for semiconductor encapsulation to cool and solidify mold, the conventional transfer molding machine It becomes easy to perform resin sealing with the same method and apparatus.

つぎに、本発明を実施するための形態について詳しく説明する。ただし、本発明は、この実施の形態に限られるものではない。   Next, an embodiment for carrying out the present invention will be described in detail. However, the present invention is not limited to this embodiment.

<半導体封止用樹脂組成物>
本発明に係る半導体封止用樹脂組成物は、常温で液状もしくはゲル状を示す樹脂組成物であり、液状やゲル状(半固形状)を示す各種封止材料が用いられる。そして、本発明の半導体封止用樹脂組成物は、これを冷却固化状態とした冷却固化体である。なお、本発明において、液状とは常温で流動性を呈するものであり、ゲル状とは、具体的には、常温において、500Paの応力を加えたときに変形を起こすものをいう。また、本発明において、特に断りのない限り、常温とは、20〜25℃の範囲をいう。
<Resin composition for semiconductor encapsulation>
The resin composition for encapsulating a semiconductor according to the present invention is a resin composition that is liquid or gel at normal temperature, and various sealing materials that are liquid or gel (semi-solid) are used. And the resin composition for semiconductor sealing of this invention is the cooling solidification body which made this the cooling solidification state. In the present invention, the liquid means fluidity at room temperature, and the gel state specifically refers to a material that deforms when stress of 500 Pa is applied at room temperature. Moreover, in this invention, unless there is particular notice, normal temperature means the range of 20-25 degreeC.

上記半導体封止用樹脂組成物としては、例えば、主剤としてエポキシ樹脂を用いたエポキシ樹脂組成物、シリコーン樹脂を用いたシリコーン樹脂組成物、またはエポキシ樹脂/シリコーン樹脂のハイブリッド樹脂組成物等があげられる。   Examples of the semiconductor sealing resin composition include an epoxy resin composition using an epoxy resin as a main agent, a silicone resin composition using a silicone resin, or an epoxy resin / silicone resin hybrid resin composition. .

上記エポキシ樹脂組成物としては、例えば、エポキシ樹脂、硬化剤、その他各種添加剤を配合したものが用いられる。   As said epoxy resin composition, what mix | blended the epoxy resin, the hardening | curing agent, and other various additives is used, for example.

上記エポキシ樹脂としては、各種エポキシ樹脂、例えば、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレート等の複素環式エポキシ樹脂等の各種エポキシ樹脂を用いることができる。これらは単独でもしくは2種以上併せて用いることができる。   Examples of the epoxy resin include various epoxy resins such as cresol novolac type epoxy resins, phenol novolac type epoxy resins, bisphenol A type epoxy resins, alicyclic epoxy resins, and heterocyclic epoxy resins such as triglycidyl isocyanurate. Epoxy resin can be used. These may be used alone or in combination of two or more.

上記硬化剤は、エポキシ樹脂の硬化剤成分として作用するものであり、通常、透明性を考慮した場合、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸等の無色ないし淡黄色の酸無水物系硬化剤等が用いられる。   The curing agent acts as a curing agent component of the epoxy resin, and in general, when considering transparency, hexahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, etc. A colorless to light yellow acid anhydride curing agent is used.

上記エポキシ樹脂と硬化剤の配合割合は、上記エポキシ樹脂中のエポキシ基1当量に対して、硬化剤におけるエポキシ基と反応可能な活性基(酸無水基または水酸基)が0.5〜1.5当量となるような割合に設定することが好ましく、より好ましくは0.7〜1.2当量である。すなわち、活性基が少なすぎると、半導体封止用樹脂組成物の硬化速度が遅くなるとともに、ガラス転移温度が低くなる傾向がみられ、逆に活性基が多すぎる耐湿性が低下する傾向がみられるからである。   The mixing ratio of the epoxy resin and the curing agent is such that the active group (acid anhydride group or hydroxyl group) capable of reacting with the epoxy group in the curing agent is 0.5 to 1.5 with respect to 1 equivalent of the epoxy group in the epoxy resin. It is preferable to set the ratio so as to be equivalent, and more preferably 0.7 to 1.2 equivalent. That is, when there are too few active groups, the curing rate of the resin composition for semiconductor encapsulation becomes slow and the glass transition temperature tends to decrease, and conversely, the moisture resistance with too many active groups tends to decrease. Because it is.

上記その他各種添加剤としては、硬化促進剤、シランカップリング剤、離型剤、低応力剤、酸化防止剤、無機質充填剤等を適宜配合することができる。   As the above various other additives, a curing accelerator, a silane coupling agent, a release agent, a low stress agent, an antioxidant, an inorganic filler, and the like can be appropriately blended.

上記硬化促進剤としては、例えば、アミン系硬化促進剤、イミダゾール系硬化促進剤、有機リン系硬化促進剤、ホウ素系硬化促進剤、リン−ホウ素系硬化促進剤等があげられる。これら硬化促進剤は単独でもしくは2種以上併せて用いられる。   Examples of the curing accelerator include amine-based curing accelerators, imidazole-based curing accelerators, organic phosphorus-based curing accelerators, boron-based curing accelerators, and phosphorus-boron-based curing accelerators. These curing accelerators may be used alone or in combination of two or more.

上記シランカップリング剤としては、例えば、アミノ系シランカップリング剤、エポキシ系シランカップリング剤等があげられる。さらに、カップリング剤としてメルカプト系シランカップリング剤を用いることもできる。これらは単独でもしくは2種以上併せて用いられる。上記シランカップリング剤の含有量は、エポキシ樹脂組成物全体の0.05〜2.0重量%の範囲に設定することが好ましい。   Examples of the silane coupling agent include amino silane coupling agents and epoxy silane coupling agents. Furthermore, a mercapto silane coupling agent can also be used as a coupling agent. These may be used alone or in combination of two or more. The content of the silane coupling agent is preferably set in the range of 0.05 to 2.0% by weight of the entire epoxy resin composition.

上記離型剤としては、例えば、ポリエチレングリコール系化合物を用いることができる。なお、上記離型剤の使用量は、可能な限り少ない方が好ましい。   As the mold release agent, for example, a polyethylene glycol compound can be used. The amount of the release agent used is preferably as small as possible.

つぎに、上記シリコーン樹脂を用いたシリコーン樹脂組成物における、上記シリコーン樹脂としては、不可反応硬化型シリコーン樹脂、縮合反応硬化型シリコーン樹脂、過酸化物硬化型シリコーン樹脂等があげられる。さらに、添加剤として、例えば、硬化遅延剤、シランカップリング剤等を必要に応じて適宜配合することができる。   Next, examples of the silicone resin in the silicone resin composition using the silicone resin include non-reactive curable silicone resins, condensation reaction curable silicone resins, and peroxide curable silicone resins. Furthermore, as an additive, for example, a curing retarder, a silane coupling agent, and the like can be appropriately blended as necessary.

上記エポキシ樹脂/シリコーン樹脂のハイブリッド樹脂組成物としては、前述のエポキシ樹脂およびシリコーン樹脂を用い、これにエポキシ樹脂の態様にて述べた配合と同様のものがあげられる。   As the above-mentioned epoxy resin / silicone resin hybrid resin composition, the same epoxy resin and silicone resin as those described above in the aspect of the epoxy resin are used.

本発明に係る半導体封止用樹脂組成物は、常温で液状もしくはゲル状を示すものであり、これを冷却固化して固体状態の冷却固化体とすることにより得られる。そして、本発明の半導体封止用樹脂組成物としては、冷却固化して固体状態とすることから、その凝固開始点が、−196〜0℃であることが好ましい。特に好ましくは−40〜0℃である。 The resin composition for semiconductor encapsulation according to the present invention is liquid or gel-like at room temperature, and is obtained by cooling and solidifying it to obtain a solid-state cooling solidified body. And as a resin composition for semiconductor sealing of this invention, since it solidifies by cooling and it is set as a solid state, it is preferable that the solidification start point is -196-0 degreeC. Especially preferably, it is -40-0 degreeC.

上記半導体封止用樹脂組成物を冷却固化する方法としては、例えば、冷却された型にキャスティングする方法、型にキャスティングした後冷却する方法、氷片状の半導体封止用樹脂組成物を圧縮する方法等があげられる。   Examples of the method for cooling and solidifying the resin composition for semiconductor encapsulation include, for example, a method of casting into a cooled mold, a method of cooling after casting into a mold, and compressing an ice flake-shaped resin composition for semiconductor encapsulation. Methods and the like.

そして、その際の冷却方法としては、例えば、液体窒素等の冷却媒体に浸漬する方法、冷却媒体(液化ガス等)雰囲気に曝す方法、冷凍機等の冷却機を用いる方法等があげられる。   And as a cooling method in that case, the method of immersing in cooling media, such as liquid nitrogen, the method of exposing to cooling medium (liquefied gas etc.) atmosphere, the method of using cooling machines, such as a refrigerator, etc. are mention | raise | lifted, for example.

また、上記冷却固化の際の条件としては、常温で液状もしくはゲル状を示す半導体封止用樹脂組成物を凝固により固化状態に形成可能とする設定条件であればよく、前述の半導体封止用樹脂組成物の凝固開始点を考慮した場合、一般に、−196〜0℃の範囲で1〜24時間程度に設定することが好ましく、特に好ましくは−40〜0℃の範囲で1〜5時間である。   The cooling and solidifying conditions may be set conditions that allow the semiconductor sealing resin composition that is liquid or gel at room temperature to be solidified by solidification. In consideration of the solidification start point of the resin composition, it is generally preferable to set it to about 1 to 24 hours in the range of −196 to 0 ° C., and particularly preferably in the range of −40 to 0 ° C. for 1 to 5 hours. is there.

また、上記冷却作業においては、液状もしくはゲル状の半導体封止用樹脂組成物を充填するための充填用の型が使用されるが、このときに使用する冷却固化用の型としては、冷却固化する際の温度に対して耐熱性を有するものを用いる必要がある。例えば、アルミニウム製等からなる金属製型、ポリエチレン製,シリコーン樹脂製等からなる樹脂製型等があげられる。このような上記充填,冷却固化用の型は、通常、繰り返し使用することが可能であり好ましいものである。そして、充填用の型としては、複数個の充填用開口凹部が形成され連結された状態のものを用いることが充填作業効率の点から好ましい。   In the cooling operation, a filling mold for filling a liquid or gel-like semiconductor sealing resin composition is used. As a cooling and solidification mold used at this time, cooling and solidification is used. It is necessary to use one having heat resistance with respect to the temperature at the time of carrying out. For example, a metal mold made of aluminum or the like, a resin mold made of polyethylene, silicone resin, or the like can be used. Such a mold for filling and cooling and solidification is usually preferable because it can be used repeatedly. And as a filling type | mold, it is preferable from the point of filling work efficiency to use the thing of the state in which the some opening recessed part for filling was formed and connected.

さらに、上記型の形状としては、冷却固化された封止材料がトランスファー成形機のポット内に投入可能な形状であればよく適宜に設定されるものである。このような点から、型に充填し冷却固化された冷却固化体の形状としては、例えば、円柱状(タブレット状)、円錐状等各種形状があげられる。   Furthermore, the shape of the mold may be appropriately set as long as the cooling and solidifying sealing material can be put into the pot of the transfer molding machine. From such a point, examples of the shape of the cooled and solidified body filled in the mold and cooled and solidified include various shapes such as a columnar shape (tablet shape) and a conical shape.

<半導体装置の製造>
つぎに、上記冷却固化された半導体封止用樹脂組成物(冷却固化体)を用いた本発明の半導体装置の製造方法について述べる。
<Manufacture of semiconductor devices>
Next, a method for manufacturing a semiconductor device of the present invention using the above-described cooled and solidified resin composition for semiconductor encapsulation (cooled solidified body) will be described.

まず、上記のようにして冷却固化体である半導体封止用樹脂組成物を準備する。ついで、トランスファー成形機の成形用金型のポット内に、上記冷却固化状態を維持しながら冷却固化体である半導体封止用樹脂組成物を投入する。投入後、ポット内にて、投入した冷却固化状態の半導体封止用樹脂組成物を解凍した後、もしくは解凍しながら、液状もしくはゲル状の半導体封止用樹脂組成物とし、これをプランジャーにて圧縮し押し出すことによりキャビティ内に流入させる。つぎに、流入させた半導体封止用樹脂組成物によって、キャビティ内の、リードフレーム上に実装された半導体素子を樹脂封止することにより半導体装置を製造することができる。   First, the resin composition for semiconductor sealing which is a cooling solidified body is prepared as mentioned above. Subsequently, the resin composition for semiconductor encapsulation which is a cooling solidified body is thrown into the pot of the molding die of the transfer molding machine while maintaining the above-mentioned cooling solidified state. After charging, in the pot, after thawing or thawing the cooled and solidified semiconductor sealing resin composition, a liquid or gel-like semiconductor sealing resin composition is prepared, which is used as a plunger. Compressed and extruded to flow into the cavity. Next, the semiconductor device can be manufactured by resin-sealing the semiconductor element mounted on the lead frame in the cavity with the introduced resin composition for semiconductor sealing.

上記冷却固化状態の半導体封止用樹脂組成物のトランスファー成形機のポット内への投入方法としては、上記半導体封止用樹脂組成物を融解させることなく固化状態を維持させたまま投入することが可能であればいかなる手段を用いてもよい。このようなことからも、従来の固形タブレットと同様の手段にてトランスファー成形用金型のポット内に投入してトランスファー成形することが可能であり、新たな成形機を設置する必要はないという利点を有している。   As a method for charging the cooled and solidified semiconductor sealing resin composition into the pot of the transfer molding machine, the semiconductor sealing resin composition may be charged while maintaining the solidified state without melting. Any means may be used if possible. For this reason, it is possible to perform transfer molding by placing it in a pot for transfer molding by the same means as conventional solid tablets, and there is no need to install a new molding machine. have.

上記ポット内に投入した冷却固化状態の半導体封止用樹脂組成物の解凍条件としては、解凍により液状あるいはゲル状とすることができればよく、150〜175℃の温度下で、5〜30秒程度で解凍することが可能となる。 The thawing condition of the cooled and solidified resin composition for encapsulating a semiconductor charged in the pot is only required to be liquid or gelled by thawing , at a temperature of 150 to 175 ° C. for 5 to 30 seconds. It becomes possible to defrost at a degree.

上記トランスファー成形が可能な成形機としては、例えば、低圧トランスファー成形機、コンベンションタイプ、マルチギャングポットタイプ、マルチプランジャータイプ等、通常の各種トランスファー成形機を用いることができる。   As a molding machine capable of the transfer molding, for example, various ordinary transfer molding machines such as a low-pressure transfer molding machine, a convention type, a multi-gang pot type, and a multi-plunger type can be used.

上記トランスファー成形による半導体装置の製造条件としては、用いる半導体封止用樹脂組成物の種類等によって適宜に設定されるが、例えば、成形温度130〜175℃、成形時間3〜10分間、圧力1.96〜7.84MPa(20〜80kg/cm2)に設定
される。
The manufacturing conditions of the semiconductor device by the transfer molding are appropriately set depending on the type of the resin composition for semiconductor encapsulation to be used. For example, the molding temperature is 130 to 175 ° C., the molding time is 3 to 10 minutes, the pressure is 1. It is set to 96-7.84 MPa (20-80 kg / cm < 2 >).

つぎに、実施例について比較例と併せて説明する。ただし、本発明は、これら実施例に限定されるものではない。   Next, examples will be described together with comparative examples. However, the present invention is not limited to these examples.

まず、下記に示す、常温(25℃)で液状を示す各エポキシ樹脂組成物を準備した。   First, each epoxy resin composition showing liquid at normal temperature (25 ° C.) shown below was prepared.

〔エポキシ樹脂組成物a〕
NT−8038−10000(日東電工社製、液状、凝固開始点−38.4℃)
〔エポキシ樹脂組成物b〕
NT−S100B−10000(日東電工社製、液状、凝固開始点−38.2℃)
〔エポキシ樹脂組成物c〕
NT−S100B−10500(日東電工社製、液状、凝固開始点−38.2℃)
〔エポキシ樹脂組成物d〕
NT−S100B−10700(日東電工社製、液状、凝固開始点−38.2℃)
[Epoxy resin composition a]
NT-8038-10000 (manufactured by Nitto Denko Corporation, liquid, solidification start point-38.4 ° C.)
[Epoxy resin composition b]
NT-S100B-10000 (manufactured by Nitto Denko Corporation, liquid, solidification start point-38.2 ° C.)
[Epoxy resin composition c]
NT-S100B-10500 (manufactured by Nitto Denko Corporation, liquid, solidification start point-38.2 ° C.)
[Epoxy resin composition d]
NT-S100B-10700 (manufactured by Nitto Denko Corporation, liquid, solidification start point-38.2 ° C.)

〔実施例1〜4〕
上記エポキシ樹脂組成物a〜dをポリエチレン製カップに充填した。その後、このエポキシ樹脂組成物a〜dを充填したカップを−40℃に維持された冷凍機内で約3時間冷却することにより固化して固体状態とすることによりタブレット化(冷却固化体)した。
[Examples 1 to 4]
The epoxy resin compositions a to d were filled in a polyethylene cup. Thereafter, the cup filled with the epoxy resin compositions a to d was solidified by cooling in a refrigerator maintained at −40 ° C. for about 3 hours to form a solid (cooled solidified body).

〔比較例1〜4〕
上記エポキシ樹脂組成物a〜dを、HENKE SASS WOLF社製の2mLのシリンジに充填した。
[Comparative Examples 1-4]
The epoxy resin compositions a to d were filled in a 2 mL syringe manufactured by HENKE SASS WOLF.

上記方法により冷却固化された半導体封止用樹脂組成物(実施例1〜4)と、シリンジに充填した半導体封止用樹脂組成物(比較例1〜4)を、各々5つ作製する際に要する作業時間を計測した。なお、実施例1〜4は冷却固化させる前までの時間とし、2g±0.1gを5回計量するのに要した作業時間とした。一方、比較例1〜4はシリンジに充填する時間とし、2g±0.1gを5回計量するのに要した作業時間とした。その結果を各エポキシ樹脂組成物a〜dの粘度とともに下記の表1に併せて示す。上記粘度は、25℃における粘度をE型粘度計(東機産業社製、TVE−22HT)を用いて計測した値である。   When producing five semiconductor sealing resin compositions (Examples 1 to 4) cooled and solidified by the above method and five semiconductor sealing resin compositions (Comparative Examples 1 to 4) filled in a syringe, respectively. The required work time was measured. In Examples 1 to 4, the time until cooling and solidification was used, and the working time required to measure 2 g ± 0.1 g five times was used. On the other hand, in Comparative Examples 1 to 4, the time for filling the syringe was used, and the working time required for weighing 2 g ± 0.1 g five times was used. The results are shown in Table 1 below together with the viscosities of the epoxy resin compositions a to d. The viscosity is a value obtained by measuring the viscosity at 25 ° C. using an E-type viscometer (manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd., TVE-22HT).

Figure 0005145289
Figure 0005145289

上記結果から、比較例と比べて実施例の方が、作業時間が短時間ですむことがわかる。また、比較例の場合、溶液粘度が高くなるほど作業時間も比例して長くなるが、実施例では溶液粘度が高くなっても作業時間は変わらないことから、生産性に優れていることがわかる。   From the above results, it can be seen that the working time is shorter in the example than in the comparative example. Further, in the case of the comparative example, the working time increases proportionally as the solution viscosity increases. However, in the examples, the working time does not change even when the solution viscosity increases, and thus it is understood that the productivity is excellent.

また、上記方法により冷却固化されたエポキシ樹脂組成物(実施例1〜4)と、エポキシ樹脂組成物を充填したシリンジ(比較例1〜4)をそれぞれ作製する際に発生する樹脂のロス量も計測した。なお、上記樹脂ロス量は、2g±0.1gを3回計量する際に生じた樹脂のロス量である。その結果を下記の表2に示す。   Moreover, the loss amount of the resin which generate | occur | produces when producing the epoxy resin composition (Examples 1-4) cooled and solidified by the said method and the syringe (Comparative Examples 1-4) filled with the epoxy resin composition, respectively. Measured. In addition, the said resin loss amount is the loss amount of the resin produced when measuring 2g +/- 0.1g 3 times. The results are shown in Table 2 below.

Figure 0005145289
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上記結果から、比較例であるシリンジを用いると、シリンジ周りにエポキシ樹脂組成物が付着するため、ロス樹脂量が多いことがわかる。特に粘度の高いものほどロス樹脂量は多くなった。また、比較例ではシリンジを使用することにより使用後に廃棄物が発生するが、実施例では冷却固化に使用したポリエチレン製カップは繰り返し使用することが可能でありコストの低減が図られ、かつ廃棄処理の環境負荷の懸念も生じない。   From the above results, it can be seen that when a syringe as a comparative example is used, the amount of loss resin is large because the epoxy resin composition adheres around the syringe. In particular, the higher the viscosity, the greater the amount of loss resin. In addition, in the comparative example, waste is generated after use by using a syringe, but in the example, the polyethylene cup used for cooling and solidification can be used repeatedly, reducing costs, and disposal processing There is no concern about environmental impact.

〔半導体装置の作製〕
つぎに、上記実施例1〜4で作製した、冷却固化して固体状態としたエポキシ樹脂組成物a〜dを用い、つぎのようにして半導体装置を作製した。すなわち、冷却固化体であるエポキシ樹脂組成物a〜dを、その冷却固化状態を維持しながら、トランスファー成形機(東邦インターナショナル社製、TDF−37)のポット内に投入した後、ポット内にて、上記投入した半導体封止用樹脂組成物を、解凍(条件:150℃×10秒)した。そして、解凍することにより液状となった半導体封止用樹脂組成物をプランジャーにて押し出すことによりキャビティ内に流入させた。流入させた半導体封止用樹脂組成物によってキャビティ内の、リードフレーム上に実装した半導体素子(大きさ:1.5mm×1.5mm×厚み370μm)を樹脂封止(条件:150℃×4分)することにより半導体装置を作製した。このようにして、大きさ:4.9mm×3.9mm×厚み1.5mmの半導体装置(SOP)を得た。得られた半導体装置は、特に問題のない信頼性に優れたものであった。
[Fabrication of semiconductor devices]
Next, using the epoxy resin compositions a to d produced in the above Examples 1 to 4 and solidified by cooling, a semiconductor device was produced as follows. That is, the epoxy resin compositions a to d, which are cooled and solidified bodies, are placed in a pot of a transfer molding machine (TDF-37 manufactured by Toho International Co., Ltd.) while maintaining the cooled and solidified state, and then in the pot. The above-mentioned semiconductor sealing resin composition was thawed (condition: 150 ° C. × 10 seconds). And the resin composition for semiconductor sealing which became liquid by thawing | decompression was made to flow in in a cavity by extruding with a plunger. The semiconductor element (size: 1.5 mm × 1.5 mm × thickness 370 μm) mounted on the lead frame in the cavity by the inflowing resin composition for semiconductor sealing is resin-sealed (condition: 150 ° C. × 4 minutes) ) To fabricate a semiconductor device. Thus, a semiconductor device (SOP) having a size: 4.9 mm × 3.9 mm × thickness 1.5 mm was obtained. The obtained semiconductor device was excellent in reliability with no particular problem.

本発明に係る半導体封止用樹脂組成物は、常温で液状もしくはゲル状の樹脂組成物を冷却固化した冷却固化体であり、トランスファー成形による樹脂封止の際の封止材料として有用である。そして、本発明に係る半導体封止用樹脂組成物を用いることにより、封止作業性の向上とともに、コスト低減が実現し、環境負荷の懸念も解消される。 The semiconductor sealing resin composition according to the present invention is a cooled and solidified body obtained by cooling and solidifying a liquid or gel-like resin composition at room temperature, and is useful as a sealing material for resin sealing by transfer molding. And by using the resin composition for semiconductor sealing which concerns on this invention, a cost reduction is implement | achieved with the improvement of sealing workability | operativity, and the concern of environmental impact is also eliminated.

Claims (3)

トランスファー成形機を用い半導体素子を樹脂封止することにより半導体装置を製造する方法であって、常温で液状もしくはゲル状の樹脂組成物を冷却固化用型に充填してタブレット状に冷却固化した冷却固化状態の半導体封止用樹脂組成物を準備する工程と、トランスファー成形用金型のポット内に、上記冷却固化状態を維持しながら冷却固化状態の半導体封止用樹脂組成物を投入する工程と、ポット内にて、150〜175℃の温度下、上記投入した半導体封止用樹脂組成物を解凍した後、もしくは解凍しながら、プランジャーにて解凍された液状もしくはゲル状の半導体封止用樹脂組成物を圧縮しポット内から押し出すことによりキャビティ内に流入させる工程と、流入させた半導体封止用樹脂組成物によってキャビティ内の半導体素子を樹脂封止する工程とを備えたことを特徴とする半導体装置の製造方法。 A method of manufacturing a semiconductor device by resin-sealing a semiconductor element using a transfer molding machine, in which a cooling or solidifying mold is filled with a liquid or gel-like resin composition at room temperature and cooled and solidified into a tablet shape. A step of preparing a solidified resin composition for encapsulating a semiconductor, and a step of introducing a cooled and solidified resin composition for encapsulating a semiconductor into a pot of a transfer molding mold while maintaining the above-mentioned cooled and solidified state; In a pot, after thawing the above-mentioned resin composition for encapsulating a semiconductor at a temperature of 150 to 175 ° C. or while thawing, the liquid or gel-like semiconductor encapsulated that has been thawed with a plunger A step of compressing and extruding the resin composition from the pot, and allowing the semiconductor element in the cavity to flow into the cavity by the injecting resin composition for semiconductor sealing. And a step of resin-sealing the child. 冷却固化条件が、−40〜0℃の範囲で1〜5時間である請求項記載の半導体装置の製造方法。 Cooling and solidification conditions, method according to claim 1, wherein from 1 to 5 hours in the range of -40~0 ℃. 冷却固化の手段が、冷却媒体に浸漬する方法、冷却媒体雰囲気に曝す方法または冷却機を用いる方法である請求項1または2記載の半導体装置の製造方法。3. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein the cooling and solidifying means is a method of immersing in a cooling medium, a method of exposing to a cooling medium atmosphere, or a method of using a cooling machine.
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