JP5148341B2 - Plastic substrate for display element and display device - Google Patents
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Description
本発明は、フレキシブル基板として、酸素や水蒸気等の透過に対するガスバリア性が要求される電子部品に対し、紫外線照射による表面洗浄を行なっても、クラック等の変形を防止できる表示素子用プラスチック基板及び表示装置に関するものである。 The present invention relates to a plastic substrate for a display element and a display capable of preventing deformation such as cracks even when surface cleaning by ultraviolet irradiation is performed on an electronic component requiring a gas barrier property against permeation of oxygen, water vapor, or the like as a flexible substrate. It relates to the device.
有機エレクトロルミネッセント(以下、有機ELと略す場合がある。)素子等を使用した表示装置の基板や、半導体素子等を用いた半導体装置の基板において、近年の表示装置等の小型化、薄型化、携帯化等に伴い、可撓性を有する有機樹脂フィルムを用いて、フレキシブル基板を用いることが多くなっている。例えば、特許文献1では、色変換層を有する有機EL素子に用いることが可能な、ガスバリア性が高く、かつ平坦性を有する有機EL素子用基板に関し、透明基材と、前記透明基材上に形成された色変換層と、前記色変換層上に形成されたオーバーコート層と、前記オーバーコート層上に形成された蒸着膜からなるガスバリア層と、前記ガスバリア層上に形成され、かつカルドポリマーを有する平坦化層とを有する有機EL素子用基板が提案されている。そして、そのオーバーコート層は、紫外線硬化型樹脂で構成することが示されている。
2. Description of the Related Art In recent years, a display device substrate using an organic electroluminescent (hereinafter, abbreviated as an organic EL) element or a semiconductor device substrate using a semiconductor element can be made smaller and thinner. With the increase in size and portability, a flexible substrate is often used using a flexible organic resin film. For example,
上記のようなフレキシブル基板においても、従来のガラス基板の場合と同様に、基板表面の異物付着を防止することが要求されている。その表面に付着して残留する汚染物を洗浄する方法として、例えば、紫外線ランプの光により、オゾンを発生させ、このオゾンの分解により生成した活性酸素により、表面に付着した有機汚染物を分解して洗浄することが行なわれている。しかし、上記のフレキシブル基板において、オーバーコート層の紫外線の硬化した樹脂層は、上記の紫外線照射による表面洗浄(いわゆるUV洗浄)が行なわれると、その樹脂層がもろくなり、分解して、無機化合物からなる蒸着膜のガスバリア層にクラックが発生し、ガスバリア性が低下してしまう問題がある。
したがって、上記のような課題を解決するために、本発明は、フレキシブル基板として、酸素や水蒸気等の透過に対するガスバリア性が要求される電子部品に対し、紫外線照射による表面洗浄を行なっても、クラック等の変形を防止できる表示素子用プラスチック基板及び表示装置を提供することを目的とする。 Therefore, in order to solve the above-described problems, the present invention provides a flexible substrate that is free from cracks even if it is subjected to surface cleaning by ultraviolet irradiation for electronic components that require gas barrier properties against permeation of oxygen, water vapor, and the like. An object of the present invention is to provide a plastic substrate for a display element and a display device that can prevent deformation of the above.
請求項1に記載の発明は、プラスチックフィルムの少なくとも片面に、無機化合物層と紫外線硬化樹脂層が該順序で交互に1回以上積層してあり、さらに最外層に無機化合物層が積層された表示素子用プラスチック基板であって、
該紫外線硬化樹脂層は、2官能以上の環状構造を有したアクリルモノマーを主成分とする樹脂を硬化したものからなることを特徴とする。
The invention according to
The ultraviolet curable resin layer is formed by curing a resin whose main component is an acrylic monomer having a bifunctional or higher cyclic structure.
請求項2の発明は、プラスチックフィルムの少なくとも片面に、無機化合物層と紫外線硬化樹脂層が該順序で交互に1回以上積層してあり、さらに最外層に無機化合物層が積層された表示素子用プラスチック基板であって、
該紫外線硬化樹脂層は、ポリエステルアクリレートオリゴマーを主成分とする樹脂を硬化したものからなることを特徴とする。また、請求項3の表示装置の発明は、請求項1または2に記載の表示素子用プラスチック基板に対し、紫外線照射による表面洗浄を行なった後に、該プラスチック基板を用いて、組み立てられたことを特徴とする。
The invention of
The ultraviolet curable resin layer is formed by curing a resin mainly composed of a polyester acrylate oligomer. Further, the invention of the display device according to
本発明は、プラスチックフィルムの少なくとも片面に、無機化合物層と紫外線硬化樹脂層が該順序で交互に1回以上積層してあり、さらに最外層に無機化合物層が積層された表示素子用プラスチック基板であって、該紫外線硬化樹脂層は、2官能以上の環状構造を有したアクリルモノマーを主成分とする樹脂を硬化したもの、またはポリエステルアクリレートオリゴマーを主成分とする樹脂を硬化したものからなる構成とした。これにより、表示素子用プラスチック基板に対し、紫外線照射による表面洗浄を行なっても、紫外線による該紫外線硬化樹脂層の分解反応を遅らせることが可能となり、プラスチック基板の表面におけるクラック等の変形を防止でき、結果として、ガスバリア性が低下することを防止できた。 The present invention provides a plastic substrate for a display element in which an inorganic compound layer and an ultraviolet curable resin layer are alternately laminated at least once in this order on at least one side of a plastic film, and an inorganic compound layer is laminated on the outermost layer. The ultraviolet curable resin layer is composed of a cured resin mainly composed of an acrylic monomer having a bifunctional or higher cyclic structure, or a cured resin based on a polyester acrylate oligomer. did. As a result, even if the surface of the plastic substrate for display elements is cleaned by ultraviolet irradiation, the decomposition reaction of the ultraviolet curable resin layer by ultraviolet rays can be delayed, and deformation such as cracks on the surface of the plastic substrate can be prevented. As a result, it was possible to prevent the gas barrier property from being lowered.
本発明の表示装置は、上記の特定した樹脂の硬化物を紫外線硬化樹脂層に用いた表示素子用プラスチック基板に対し、紫外線照射による表面洗浄を行なって、表面に付着した有機汚染物を分解し洗浄して、その清潔な表示素子用プラスチック基板を用いて、表示装置を組み立てることができる。その表示装置は、ガスバリア性や、その他の耐久性、表示性能に優れたものが得られた。 The display device of the present invention decomposes organic contaminants adhering to the surface by cleaning the surface of the plastic substrate for a display element using the cured product of the specified resin in the ultraviolet curable resin layer by ultraviolet irradiation. The display device can be assembled using the clean plastic substrate for a display element after washing. The display device was excellent in gas barrier properties, other durability, and display performance.
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。本発明の表示素子用プラスチック基板は、例えば、図1に示すような構成をとることができる。プラスチックフィルム1の上に、無機化合物層2と紫外線硬化樹脂層3が積層され、さらに最外層として、無機化合物層4が積層された表示素子用プラスチック基板10である。また、本発明の表示素子用プラスチック基板は、例えば、図2に示すような構成をとることもできる。プラスチックフィルム1の上に、無機化合物層2、紫外線硬化樹脂層3、無機化合物層2´、紫外線硬化樹脂層3´が積層され、さらに最外層として、無機化合物層4が積層された表示素子用プラスチック基板10である。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The plastic substrate for a display element of the present invention can be configured as shown in FIG. 1, for example. A plastic substrate 10 for a display element in which an
図2の場合は、無機化合物層と紫外線硬化樹脂層が該順序で交互に2回、積層された構成で、最外層に無機化合物層4を設けたものである。図示した表示素子用プラスチック基板は、プラスチックフィルム1上に、無機化合物層と紫外線硬化樹脂層が該順序で交互に1回と2回、積層したものであるが、それに限らず、無機化合物層と紫外線硬化樹脂層の単位を3回以上とることも可能である。無機化合物層と紫外線硬化樹脂層の単位を多くとることにより、ガスバリア性がより向上するが、多層を積層した構成で、表示素子用プラスチック基板のカール等の変形が生じない条件から、無機化合物層と紫外線硬化樹脂層を1回、あるいは2回の単位で設けることが好ましい。
In the case of FIG. 2, the inorganic compound layer and the ultraviolet curable resin layer are alternately laminated twice in this order, and the inorganic compound layer 4 is provided as the outermost layer. The illustrated plastic substrate for a display element is obtained by laminating an inorganic compound layer and an ultraviolet curable resin layer alternately and once in this order on the
以下に、本発明の表示素子用プラスチック基板を構成する各層ごとに詳細に説明する。
(プラスチックフィルム)
プラスチックフィルム1として、例えば、ポリプロピレン、ポリエチレンなどのポリオレフィン系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステルフィルム、ポリアミドフィルム、ポリカーボネートフィルム、その他の各種の樹脂のフィルム、ないしシートを使用することができる。本発明において、プラスチックフィルムの膜厚としては、12〜400μm、より好ましくは50〜200μmが望ましい。
Below, it demonstrates in detail for every layer which comprises the plastic substrate for display elements of this invention.
(Plastic film)
As the
プラスチックフィルムは、必要に応じて、例えば、コロナ放電処理、オゾン処理、酸素ガス若しくは窒素ガスなどを用いて低温プラズマ処理、グロー放電処理、化学薬品などを用いて処理する酸化処理、その他の前処理を任意に施すことができる。また、上記表面前処理は、プラスチックフィルムと無機酸化物の蒸着薄膜との密着性を改善するための方法として実施するものであるが、上記の密着性を改善する方法として、例えば、プラスチックフィルムの表面に、あらかじめ、プライマーコート剤層、アンダーコート層、あるいは、蒸着アンカーコート剤層などを任意に形成することもできる。 The plastic film may be subjected to, for example, corona discharge treatment, ozone treatment, low temperature plasma treatment using oxygen gas or nitrogen gas, glow discharge treatment, oxidation treatment using chemicals, or other pretreatment. Can be applied arbitrarily. Further, the surface pretreatment is performed as a method for improving the adhesion between the plastic film and the inorganic oxide vapor-deposited thin film. As a method for improving the adhesion, for example, a plastic film A primer coating agent layer, an undercoat layer, a vapor deposition anchor coating agent layer, or the like can be arbitrarily formed on the surface in advance.
(無機化合物層)
本発明の表示素子用プラスチック基板における無機化合物層は、上記のプラスチックフィルムと隣接した層、あるいは紫外線硬化樹脂層同士で挟まれる層、あるいは最外層であっても、いずれでも以下に説明する無機化合物層を適用することができる。この無機化合物層は、ガスバリア性を付与することができるので、ガスバリア層として機能することができる。無機化合物層を形成する材料としては、透明性を有し、かつ酸素、水蒸気等のガスバリア性を有する物であればよく、例えば、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化ホウ素、酸化ハフニウム、酸化バリウム等の酸化物であるが、特に、ガスバリア性、生産効率の点などから、酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素、酸化炭化ケイ素のいずれかが好ましい。
(Inorganic compound layer)
The inorganic compound layer in the plastic substrate for a display element of the present invention may be a layer adjacent to the plastic film, a layer sandwiched between ultraviolet curable resin layers, or an outermost layer, and any inorganic compound described below Layers can be applied. Since this inorganic compound layer can impart gas barrier properties, it can function as a gas barrier layer. The material for forming the inorganic compound layer may be any material having transparency and gas barrier properties such as oxygen and water vapor. For example, aluminum oxide, silicon oxide, magnesium oxide, calcium oxide, zirconium oxide, oxidation Examples of the oxide include titanium, boron oxide, hafnium oxide, and barium oxide. In particular, any of silicon oxide, silicon oxynitride, and silicon oxide carbide is preferable in terms of gas barrier properties and production efficiency.
無機化合物層の形成方法としては、真空蒸着法、反応蒸着法、イオンビームアシスト蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマCVD法、熱CVD法等の真空成膜法で行なうことが挙げられる。また、膜厚は20〜200nm、より好ましくは50〜150nmの範囲で適宜設定することができる。200nmを超えると、薄膜のフレキシビリティ性が低下し、成膜後に折り曲げ、引っ張りなどの外力で、薄膜に亀裂を生じる恐れがあり、透明性が低下したりし、また、材料自身の応力が大きくなり、着色したりして好ましくない。また、上記の厚さが200nmを超えると、生産性を著しく低下させ、さらに異常粒の成長から突起が形成され、Rmaxが増加する傾向があるので好ましくない。また一方で、無機化合物層の厚さが20nm未満では、透明性は良いが、均一な膜が得られにくく、膜厚が充分ではないことがあり、ガスバリア性の機能を十分に果たすことが難しい。 Examples of the method for forming the inorganic compound layer include vacuum deposition, reactive deposition, ion beam assisted deposition, sputtering, ion plating, plasma CVD, and thermal CVD. . The film thickness can be appropriately set in the range of 20 to 200 nm, more preferably 50 to 150 nm. If the thickness exceeds 200 nm, the flexibility of the thin film is reduced, and the thin film may be cracked by external forces such as bending and pulling after film formation, transparency may be reduced, and the stress of the material itself may be large. It is not preferable because it is colored. On the other hand, when the thickness exceeds 200 nm, the productivity is remarkably lowered, and further, protrusions are formed from the growth of abnormal grains, and Rmax tends to increase. On the other hand, when the thickness of the inorganic compound layer is less than 20 nm, the transparency is good, but it is difficult to obtain a uniform film, the film thickness may not be sufficient, and it is difficult to sufficiently fulfill the gas barrier function. .
(紫外線硬化樹脂層)
本発明の表示素子用プラスチック基板における紫外線硬化樹脂層は、2官能以上の環状構造を有したアクリルモノマーを主成分とする樹脂、あるいはポリエステルアクリレートオリゴマーを主成分とする樹脂である紫外線硬化性樹脂が、紫外線により硬化した層からなる。したがって、本発明では、「紫外線硬化性樹脂」は、未硬化である樹脂を意味し、「紫外線硬化樹脂」は、紫外線により硬化された樹脂のことを意味する。
(UV curable resin layer)
The ultraviolet curable resin layer in the plastic substrate for a display element of the present invention is made of an ultraviolet curable resin which is a resin mainly composed of an acrylic monomer having a bifunctional or higher cyclic structure or a resin mainly composed of a polyester acrylate oligomer. It consists of a layer hardened by ultraviolet rays. Accordingly, in the present invention, “ultraviolet curable resin” means an uncured resin, and “ultraviolet curable resin” means a resin cured by ultraviolet rays.
紫外線硬化樹脂層における2官能以上の環状構造を有するアクリルモノマーを主成分とする樹脂の具体例としては、アクリレート系の官能基を有するもの、例えばジメチロール・トリシクロデカンジ(メタ)アクリレート、ジメチロール・ジシクロペンタンジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、シクロヘキサンジメタノールジ(メタ)アクリレート、アルコキシ化シクロヘキサンジメタノールジ(メタ)アクリレート、5−エチル−2−(2−ヒドロキシ−1,1−ジメチルエチル)−5−(ヒドロキシメチル)−1,3−ジオキサンジアクリレート、イソシアヌル酸EO変性トリアクリレート等が挙げられる。特に本発明では、ジメチロール・トリシクロデカンジ(メタ)アクリレートのアクリルモノマーが重合時の収縮が小さく、紫外線照射による分解反応が遅く、好ましく用いられる。本明細書において「(メタ)アクリレート」とは、アクリレート又はメタクリレートを意味する。 Specific examples of the resin mainly composed of an acrylic monomer having a bifunctional or higher functional cyclic structure in the ultraviolet curable resin layer include those having an acrylate functional group, such as dimethylol / tricyclodecane di (meth) acrylate, dimethylol Dicyclopentanedi (meth) acrylate, tricyclodecane dimethanol di (meth) acrylate, cyclohexanedimethanol di (meth) acrylate, alkoxylated cyclohexanedimethanol di (meth) acrylate, 5-ethyl-2- (2-hydroxy) -1,1-dimethylethyl) -5- (hydroxymethyl) -1,3-dioxane diacrylate, isocyanuric acid EO-modified triacrylate, and the like. In particular, in the present invention, an acrylic monomer of dimethylol tricyclodecane di (meth) acrylate is preferably used because it has a small shrinkage during polymerization and a slow decomposition reaction by ultraviolet irradiation. In this specification, “(meth) acrylate” means acrylate or methacrylate.
また、紫外線硬化樹脂層におけるポリエステルアクリレートオリゴマーを主成分とする樹脂は、ポリエステルの構造単位の繰り返しの数が2〜50、好ましくは2〜20の重合体中に、アクリレート基を結合させた化合物である。本発明の紫外線硬化樹脂層におけるポリエステルアクリレートオリゴマーは、特に東亞合成(株)製アロニックスM−8030、8060、9050が、重合時の収縮が小さく、紫外線照射による分解反応が遅く、好ましい。 The resin mainly composed of a polyester acrylate oligomer in the ultraviolet curable resin layer is a compound in which an acrylate group is bonded to a polymer having 2 to 50, preferably 2 to 20, repeating structural units of polyester. is there. As the polyester acrylate oligomer in the ultraviolet curable resin layer of the present invention, Aronix M-8030, 8060, and 9050 manufactured by Toagosei Co., Ltd. are particularly preferable because they have small shrinkage during polymerization and a slow decomposition reaction due to ultraviolet irradiation.
さらに、上記の紫外線硬化性樹脂中に光重合開始剤として、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、チオキサントン類や、光増感剤としてn−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリーn−ブチルホスフィン等を混合して用いることができる。この光重合開始剤は、紫外線硬化性樹脂100質量部に対し、0.1〜20質量部、好ましくは0.5〜10質量部程度である。 Further, in the above ultraviolet curable resin, as a photopolymerization initiator, acetophenones, benzophenones, Michler benzoylbenzoate, α-amyloxime ester, tetramethylthiuram monosulfide, thioxanthones, and n- Butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, and the like can be mixed and used. This photoinitiator is 0.1-20 mass parts with respect to 100 mass parts of ultraviolet curable resin, Preferably it is about 0.5-10 mass parts.
上記の2官能以上の環状構造を有するアクリルモノマーを主成分とする樹脂、あるいはポリエステルアクリレートオリゴマーを主成分とする樹脂である紫外線硬化性樹脂と、光重合開始剤、溶媒等を加えた組成物を用意し、その組成物を塗布する。その塗布する方法としては、ロールコート法、グラビアロールコート法、キスロールコート法、リバースロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等の一般的に用いられる塗布方法が挙げられる。上記の樹脂組成物の塗布後に、乾燥と紫外線照射による硬化を行う。 A composition comprising an ultraviolet curable resin which is a resin whose main component is an acrylic monomer having a bi- or higher functional cyclic structure, or a resin whose main component is a polyester acrylate oligomer, a photopolymerization initiator, a solvent and the like. Prepare and apply the composition. Examples of the coating method include commonly used coating methods such as a roll coating method, a gravure roll coating method, a kiss roll coating method, a reverse roll coating method, a Miya bar coating method, a gravure coating method, and a die coating method. After application of the resin composition, drying and curing by ultraviolet irradiation are performed.
紫外線硬化に用いる紫外線源の具体例としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯等の光源が挙げられる。紫外線の波長としては、190〜380nmの波長域を使用することができる。形成される紫外線硬化樹脂層の膜厚は、1〜10μmが好ましく、さらに好ましくは1〜5μm、最も好ましくは、1〜3μmである。膜厚が1μm未満であると、紫外線照射による表面洗浄により、紫外線硬化樹脂層のダメージが生じ、また10μmを超えると表示素子用プラスチック基板がカールしてしまい、使用することが困難となる。 Specific examples of ultraviolet light sources used for ultraviolet curing include light sources such as ultra-high pressure mercury lamps, high pressure mercury lamps, low pressure mercury lamps, carbon arc lamps, black light fluorescent lamps, and metal halide lamps. As the wavelength of the ultraviolet light, a wavelength range of 190 to 380 nm can be used. The film thickness of the ultraviolet curable resin layer to be formed is preferably 1 to 10 μm, more preferably 1 to 5 μm, and most preferably 1 to 3 μm. When the film thickness is less than 1 μm, the ultraviolet curable resin layer is damaged by surface cleaning by ultraviolet irradiation, and when it exceeds 10 μm, the plastic substrate for display element is curled, making it difficult to use.
(表示装置)
本発明で規定する表示装置は、上記に説明した表示素子用プラスチック基板に対し、紫外線照射による表面洗浄を行なった後に、該プラスチック基板を部品の一部として用いて、その他の部品を使用して、組み立てられたものである。例えば、表示素子として、有機EL(エレクトロルミネッセンス)素子の場合で、説明する。本発明のプラスチック基板である透光性基板に透光性電極を形成してから、有機EL層、対向電極の順に形成して、有機EL素子が製造される。この有機EL素子は電極間に電場を印加し、EL層に電流を通じることで発光するものである。この有機EL素子を電子回路に組み込んで、発光の制御を行なう表示装置とすることができる。
(Display device)
The display device defined by the present invention uses the plastic substrate as a part of the parts after performing surface cleaning by ultraviolet irradiation on the plastic substrate for display elements described above, and uses other parts. , Assembled. For example, the case where an organic EL (electroluminescence) element is used as the display element will be described. After forming the translucent electrode on the translucent substrate which is the plastic substrate of the present invention, the organic EL layer and the counter electrode are formed in this order to produce an organic EL element. This organic EL element emits light by applying an electric field between electrodes and passing an electric current through the EL layer. By incorporating this organic EL element into an electronic circuit, a display device that controls light emission can be obtained.
有機EL素子のみならず、薄膜の形成された表示装置用基板にも、本発明の表示素子用プラスチック基板を適用することができる。例えば、プラズマディスプレイ(PDP)、フィールドエミッションディスプレイ(FED)などの自発光型表示装置、あるいは、液晶表示装置の基板に、本発明の表示素子用プラスチック基板を適用することができる。 The plastic substrate for a display element of the present invention can be applied not only to an organic EL element but also to a display device substrate on which a thin film is formed. For example, the plastic substrate for a display element of the present invention can be applied to a substrate of a self-luminous display device such as a plasma display (PDP) or a field emission display (FED) or a liquid crystal display device.
本発明の表示素子用プラスチック基板を具体的な実施例を挙げてさらに説明する。
(実施例1)
(表示素子用プラスチック基板の製造)
プラスチックフィルムとして厚さ100μmのPETフィルム(東洋紡績(株)製、A4100:商品名)を用い、この片面に巻き取り式真空成膜装置を用いて成膜を行った。成膜にあたり、まず成膜室内においてターゲットとしてシリコンを用い、Arを20sccm及びN2を15sccm供給して、成膜を行い膜厚80nmの酸化窒化ケイ素膜の無機化合物層を得た。
The plastic substrate for a display element of the present invention will be further described with specific examples.
Example 1
(Manufacture of plastic substrates for display elements)
A 100 μm thick PET film (Toyobo Co., Ltd., A4100: trade name) was used as a plastic film, and film formation was performed on one side using a roll-up vacuum film forming apparatus. In film formation, first, silicon was used as a target in the film formation chamber, Ar was supplied at 20 sccm and N 2 was supplied at 15 sccm to form an inorganic compound layer of a silicon oxynitride film having a thickness of 80 nm.
得られた酸化窒化ケイ素膜上に、ポリエステルアクリレートオリゴマーを主成分とする紫外線硬化性樹脂である東亞合成(株)製アロニックスM−8060(アクリロイル当量計算値136g/当量)と、光重合開始剤、溶媒等を加えた組成物によるコーティング液をダイコートにて膜厚1μmとなるように塗布し、乾燥温度120℃、3min乾燥させた後、150mJ/cm2の紫外線を照射して紫外線硬化樹脂層を形成した。
さらに、その紫外線硬化樹脂層上に保護層として先の無機化合物層の形成と同様にして膜厚80nmの酸化ケイ素成膜を形成し、表示素子用プラスチック基板を得た。
On the obtained silicon oxynitride film, ARONIX M-8060 (acryloyl equivalent calculated value 136 g / equivalent) manufactured by Toagosei Co., Ltd., which is an ultraviolet curable resin mainly composed of a polyester acrylate oligomer, a photopolymerization initiator, A coating solution of a composition to which a solvent or the like has been added is applied by die coating to a film thickness of 1 μm, dried at a drying temperature of 120 ° C. for 3 minutes, and then irradiated with 150 mJ / cm 2 of ultraviolet rays to form an ultraviolet curable resin layer. Formed.
Further, a silicon oxide film having a film thickness of 80 nm was formed on the ultraviolet curable resin layer as a protective layer in the same manner as the formation of the inorganic compound layer, thereby obtaining a plastic substrate for a display element.
(実施例2)
紫外線硬化樹脂層用コーティング剤を2官能の環状構造を有するアクリルモノマーである下記化学式(1)で示されるジメチロール・トリシクロデカンジアクリレートを主成分とする紫外線硬化性樹脂と、光重合開始剤、溶媒等を加えた組成物によるコーティング剤にして、1μmの膜厚になるように塗布した以外は、前記実施例1と同様の条件にて表示素子用プラスチック基板を得た。
An ultraviolet curable resin mainly composed of dimethylol / tricyclodecane diacrylate represented by the following chemical formula (1), which is an acrylic monomer having a bifunctional cyclic structure, and a photopolymerization initiator; A plastic substrate for a display element was obtained under the same conditions as in Example 1 except that the coating agent was made of a composition to which a solvent or the like was added and was applied so as to have a film thickness of 1 μm.
(実施例3)
紫外線硬化樹脂層用コーティング剤の膜厚が5μmになるように、塗布した以外は、前記実施例1と同様の条件にて表示素子用プラスチック基板を得た。
(Example 3)
A plastic substrate for a display element was obtained under the same conditions as in Example 1 except that the coating agent for the ultraviolet curable resin layer was applied so as to have a film thickness of 5 μm.
(実施例4)
実施例1および実施例2で塗布した紫外線硬化樹脂層用コーティング剤を1:1の割合(質量比)で混合させたものを1.5μmの膜厚になるように、塗布した以外は前記実施例1と同様の条件にて表示素子用プラスチック基板を得た。
Example 4
Except that the UV curable resin layer coating agent applied in Example 1 and Example 2 was mixed at a ratio of 1: 1 (mass ratio) so as to have a film thickness of 1.5 μm. A plastic substrate for a display element was obtained under the same conditions as in Example 1.
(比較例1)
ポリウレタンオリゴマーを主成分とした紫外線硬化性樹脂と、光重合開始剤、溶媒等を加えた組成物による紫外線硬化樹脂層用コーティング剤を1.5μmの膜厚になるように、塗布した以外は前記実施例1と同様の条件にて表示素子用プラスチック基板を得た。
(Comparative Example 1)
Except for coating the UV-curable resin layer coating composition with an ultraviolet curable resin mainly composed of polyurethane oligomer and a composition obtained by adding a photopolymerization initiator, a solvent, etc., so as to have a film thickness of 1.5 μm. A plastic substrate for a display element was obtained under the same conditions as in Example 1.
(比較例2)
紫外線硬化樹脂層用コーティング剤の紫外線硬化性樹脂の主成分を2官能の直鎖構造を有したアクリルモノマーに変更して、塗布した以外は前記実施例1と同様の条件にて表示素子用プラスチック基板を得た。
(Comparative Example 2)
A plastic for a display element under the same conditions as in Example 1 except that the main component of the ultraviolet curable resin of the coating agent for the ultraviolet curable resin layer was changed to an acrylic monomer having a bifunctional linear structure and applied. A substrate was obtained.
(評価条件)
前記実施例1〜4及び比較例1〜2で製造した表示素子用プラスチック基板について、紫外線照射テスト(600mJ×15min)を行い、表面及びカールの観察を行なった。その結果を下記の表1に示す。
(Evaluation conditions)
About the plastic substrate for display elements manufactured by the said Examples 1-4 and Comparative Examples 1-2 , the ultraviolet irradiation test (600mJ * 15min) was done and the surface and the curl were observed. The results are shown in Table 1 below.
(紫外線照射の条件)
156mm□厚み2mmの鉄板(もしくはSUS板)の4辺に鉄板から8mm上にガラス板が載置できる樹脂製の台を設け、その台の上に150mm□、1mm厚のガラス板を載せる。このガラス板の上にテストサンプルを載せるが、カールが大きい場合にはカプトンテープなどで4辺を貼る。この状態で、UV洗浄装置(オーク製作所製UV DRY PROCESSOR 120W×7灯)に台ごとセットし、15分間照射する。この条件で照射を3回繰り返す。
(Conditions for UV irradiation)
A resin base on which a glass plate can be placed 8 mm above the iron plate is provided on the four sides of an iron plate (or SUS plate) having a thickness of 156 mm □ and a thickness of 2 mm. A test sample is placed on this glass plate. If the curl is large, 4 sides are pasted with Kapton tape or the like. In this state, the unit is set on a UV cleaning device (UV DRY PROCESSOR 120W × 7 lamp manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.) and irradiated for 15 minutes. Irradiation is repeated 3 times under these conditions.
表1において、表面外観における○は、気泡発生がなく黄変を除いて、UV照射前と同じ外観であることを意味し、×はUV照射により気泡もしくは気泡のような斑点状のものが観察されることを意味し、カールにおける○は、150mm角にカットした時の4つの角の反りの和の平均が5mm以内であることを意味し、×は150mm角にカットした時の4つの角の反りの和の平均が5mmより大きい場合であることを意味する。但し、上記カールの評価は、150mm角のカットサイズで、水平板の上方に向かって凹カールになる状態で測定したものである。 In Table 1, “◯” in the surface appearance means that there is no bubble generation and the appearance is the same as before UV irradiation except for yellowing, and “×” indicates a spot-like thing like bubbles or bubbles by UV irradiation. The circle in the curl means that the average of the warp of the four corners when cut to 150 mm square is within 5 mm, and the × is the four corners when cut to 150 mm square This means that the average of the sum of the warpage is greater than 5 mm. However, the evaluation of the curl was measured with a cut size of 150 mm square and a concave curl toward the upper side of the horizontal plate.
本発明のプラスチック基板の用途は、例えば、液晶、有機EL,無機EL、タッチパネル等のディスプレイ基板、太陽電池基板、光ディスク基板、各種レンズ、光学フィルター等が挙げられ、特に制限は無い。 Applications of the plastic substrate of the present invention include, for example, display substrates such as liquid crystal, organic EL, inorganic EL, and touch panels, solar cell substrates, optical disk substrates, various lenses, optical filters, and the like, and are not particularly limited.
1 プラスチックフィルム
2、2´ 無機化合物層
3、3´ 紫外線硬化樹脂層
4 無機化合物層(最外層)
10 表示素子用プラスチック基板
DESCRIPTION OF
10 Plastic substrates for display elements
Claims (2)
該紫外線硬化樹脂層は、2官能以上の環状構造を有したアクリルモノマーを主成分とする樹脂、およびポリエステルアクリレートオリゴマーを主成分とする樹脂の混合物を硬化したものからなることを特徴とする表示素子用プラスチック基板。 A plastic substrate for a display element in which an inorganic compound layer and an ultraviolet curable resin layer are alternately laminated one or more times in this order on at least one surface of a plastic film, and further an inorganic compound layer is laminated on the outermost layer,
The ultraviolet curable resin layer is formed by curing a mixture of a resin mainly composed of an acrylic monomer having a cyclic structure having two or more functions and a resin mainly composed of a polyester acrylate oligomer. Plastic substrate.
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