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JP5155751B2 - Elemental analyzer - Google Patents
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JP5155751B2 - Elemental analyzer - Google Patents

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Description

本発明は、例えば鉄鋼や非鉄金属、セラミックスなどの測定試料中に含まれる窒素(N)、水素(H)、酸素(O)等の元素を分析する元素分析装置に関し、特に元素分析装置に用いられる上部電極及び下部電極を清掃するための清掃ユニット及び下部電極上にるつぼを搬送する搬送ユニットに関するものである。   The present invention relates to an element analyzer for analyzing elements such as nitrogen (N), hydrogen (H) and oxygen (O) contained in a measurement sample such as steel, non-ferrous metal, and ceramics, and more particularly to an element analyzer. The present invention relates to a cleaning unit for cleaning the upper electrode and the lower electrode and a transport unit for transporting the crucible onto the lower electrode.

この種の元素分析装置は、例えば特許文献1に示すように、上部電極及び下部電極に持されたるつぼに測定試料を収容して、電圧を印加することにより、るつぼ内の測定試料を加熱溶解して、それによって生じたガスを分析して前記測定試料の元素を分析している。 This type of elemental analyzers, for example, as shown in Patent Document 1, to accommodate the sample to be measured sandwiched crucible to the upper electrode and the lower electrode, by applying a voltage, heating the sample in the crucible The element of the measurement sample is analyzed by analyzing the gas generated by dissolution.

このように、上部電極及び下部電極は黒鉛るつぼと接触しており、また、溶解した測定試料、フラックス等の一部が飛散して付着することから、上部電極及び下部電極が汚れてしまう。そして、電極面が汚れると、その汚れが電気抵抗になって、るつぼを持したときに、るつぼに電流が流れにくくなり、測定試料などの加熱が不十分になって、分析用ガスの抽出性能が低下する等の問題がある。 As described above, the upper electrode and the lower electrode are in contact with the graphite crucible, and part of the dissolved measurement sample, flux, etc. is scattered and attached, so that the upper electrode and the lower electrode are contaminated. When the electrode surface is dirty, the dirt becomes electric resistance, the crucible when pinched, hardly current flows through the crucible becomes insufficient heat, such as the measurement sample, extraction of the analyzing gas There is a problem such as a decrease in performance.

したがって、分析用ガスの抽出が終わると上部電極及び下部電極の清掃を行うことが必要である。   Accordingly, it is necessary to clean the upper electrode and the lower electrode after extraction of the analysis gas is completed.

そして従来、上部電極及び下部電極を清掃するものとして、特許文献2に示す自動清掃装置がある。   Conventionally, as an apparatus for cleaning the upper electrode and the lower electrode, there is an automatic cleaning device disclosed in Patent Document 2.

この自動清掃装置は、上部電極を清掃する回転ブラシ及び下部電極を清掃する回転ブラシを有する清掃ユニットを、水平なガイドバーに沿ってエアシリンダにより直進移動させて、回転ブラシが上部電極及び下部電極に対向する対向位置と、当該対向位置から離間した退避位置との間を進退移動するようにしている。また、この自動清掃装置の清掃ユニットは、るつぼホルダ(使用済みるつぼ除去手段)を備えており、清掃ユニットが、対向位置に水平移動する途中で、そのるつぼホルダが下部電極上のるつぼを吸着することにより、るつぼを除去するようにしている。   This automatic cleaning device moves a cleaning unit having a rotating brush for cleaning an upper electrode and a rotating brush for cleaning a lower electrode, by a pneumatic cylinder along a horizontal guide bar, so that the rotating brush moves to the upper electrode and the lower electrode. Is moved forward and backward between a facing position opposite to and a retracted position separated from the facing position. The cleaning unit of the automatic cleaning apparatus includes a crucible holder (used crucible removing means), and the crucible holder adsorbs the crucible on the lower electrode while the cleaning unit moves horizontally to the opposing position. By doing so, the crucible is removed.

そして、清掃ユニットが対向位置に到達したときに、下部電極を上昇させることにより、清掃ユニットを上昇させて、各回転ブラシを各電極に圧接させた後に、回転ブラシを回転させて、電極を清掃するというものである。   When the cleaning unit reaches the facing position, the lower electrode is raised to raise the cleaning unit, press the rotary brushes against the electrodes, rotate the rotary brushes, and clean the electrodes. It is to do.

しかしながら、清掃ユニットを水平方向に直進移動するものであれば、対向位置と退避位置とが離れていれば離れているほどガイドバー及びエアシリンダが大きくなってしまい、自動洗浄機構が肥大化してしまい、元素分析装置も肥大化してしまうという問題がある。   However, if the cleaning unit moves straight in the horizontal direction, the guide bar and the air cylinder become larger as the facing position and the retracted position are further away from each other, and the automatic cleaning mechanism becomes enlarged. There is also a problem that the elemental analyzer becomes enlarged.

また、従来の元素分析装置では、下部電極上にピンセットなどでるつぼを載置させており、その作業が極めて面倒であり、分析の自動化を妨げる要因となっている。さらに、別途搬送ユニットを設けることも考えられるが、清掃ユニットの他に搬送ユニットを設けると、元素分析装置の製造コスト増及び肥大化は妨げられない。
特許2949501号公報 特公昭58−23886号公報
Further, in the conventional elemental analyzer, a crucible is placed on the lower electrode with tweezers or the like, and the work is extremely troublesome, which hinders the automation of analysis. Furthermore, it is conceivable to provide a separate transport unit. However, if a transport unit is provided in addition to the cleaning unit, an increase in manufacturing cost and enlargement of the elemental analyzer are not hindered.
Japanese Patent No. 2949501 Japanese Patent Publication No.58-23886

そこで本発明は、上記問題点を一挙に解決するためになされたものであり、従来の清掃ユニットの駆動方式を変更するとともに、その清掃ユニットに搬送機能を付加して、下部電極へのるつぼの供給、下部電極からのるつぼの廃棄及び下部電極又は上部電極の清掃を簡単な機構により自動化するとともに、元素分析装置の小型化を可能にすることをその主たる所期課題とするものである。   Therefore, the present invention has been made to solve the above problems all at once, changing the driving method of the conventional cleaning unit, adding a transport function to the cleaning unit, and The main objective is to automate the supply, the disposal of the crucible from the lower electrode, and the cleaning of the lower electrode or the upper electrode by a simple mechanism, and to enable the element analyzer to be miniaturized.

すなわち本発明に元素分析装置は、上部電極及び下部電極により、試料を収容するるつぼを持し、当該電極に電圧を印加することにより、前記るつぼを加熱して、それによって生じるガスから前記試料の元素を分析する元素分析装置であって、るつぼが設置されるるつぼ設置部から下部電極上にるつぼを搬送するとともに、前記上部電極又は下部電極を清掃する搬送・清掃ユニットを備え、前記搬送・清掃ユニットが、前記上部電極又は前記下部電極を清掃するための清掃体、及び前記るつぼ設置部に設置されたるつぼを把持する把持爪を備えたアーム部と、前記アーム部を回転軸により支持し、前記清掃体が上部電極又は下部電極と対向する対向位置、前記把持爪に把持されたるつぼを下部電極上に載置する載置位置、及び前記対向位置及び前記載置位置から離間した退避位置それぞれに前記アーム部を回転移動して停止させる回転駆動機構と、を備えることを特徴とする。 That elemental analyzer of the present invention, the upper and lower electrodes, a crucible for containing a sample is sandwiched, by applying a voltage to the electrodes, and heating the crucible, the sample from the thereby producing gas An elemental analysis apparatus for analyzing the element of the above, wherein the crucible is transported from the crucible installation part where the crucible is installed onto the lower electrode, and includes a transport / cleaning unit for cleaning the upper electrode or the lower electrode, A cleaning unit supports a cleaning body for cleaning the upper electrode or the lower electrode, an arm unit having a gripping claw for gripping a crucible installed in the crucible installation unit, and the arm unit by a rotation shaft. , A position where the cleaning body faces the upper electrode or the lower electrode, a placement position where the crucible gripped by the gripping claws is placed on the lower electrode, and the facing position Beauty said arm portion in rotational movement to each spaced a retracted position from the placement position, characterized in that it comprises a rotary drive mechanism for stopping.

このようなものであれば、上部電極又は下部電極を清掃するための清掃体及びるつぼを把持する把持爪を備えるアーム部を回転させて、対向位置、載置位置及び退避位置それぞれに移動させるようにしているので、るつぼの搬送、廃棄及び電極の清掃を簡単な機構により自動化することができ、また、元素分析装置を小型化することができる。   If this is the case, the cleaning unit for cleaning the upper electrode or the lower electrode and the arm unit including the gripping claws for gripping the crucible are rotated to move to the facing position, the mounting position, and the retracted position, respectively. Therefore, the crucible can be transported, discarded, and the electrodes can be automated by a simple mechanism, and the elemental analyzer can be miniaturized.

搬送ユニットにより下部電極上にるつぼを載置する場合には、分析の度に同一の位置に載置してしまうと、るつぼを持する上部電極及び下部電極の同じ部分が摩耗してしまい、上部電極及び下部電極の寿命が短くなってしまうという問題がある。この問題を解決して、上部電極及び下部電極の長寿命化を可能にするためには、前記回転駆動機構が、下部電極上にるつぼを載置する毎に当該下部電極上におけるるつぼの位置が異なるように、前記アーム部を前記載置位置に移動させる毎に当該載置位置が異なるようにしていることが望ましい。 When placing the crucible on the lower electrode by the transport unit, when every time the analysis result is placed in the same position, would be the same portion wear of the upper and lower electrodes which sandwich the crucible, There exists a problem that the lifetime of an upper electrode and a lower electrode will become short. In order to solve this problem and to extend the life of the upper electrode and the lower electrode, the position of the crucible on the lower electrode is changed each time the rotary drive mechanism places the crucible on the lower electrode. It is desirable that the mounting position is different every time the arm unit is moved to the mounting position.

このように本発明によれば、るつぼを下部電極上に搬送する搬送機構と下部電極を清掃する清掃ユニットを一体化し、下部電極へのるつぼの供給、下部電極からのるつぼの廃棄及び下部電極又は上部電極の清掃を、簡単な機構により自動化するとともに、元素分析装置の小型化及びコストダウンを可能にするができる。   As described above, according to the present invention, the transport mechanism that transports the crucible onto the lower electrode and the cleaning unit that cleans the lower electrode are integrated, the crucible is supplied to the lower electrode, the crucible is discarded from the lower electrode, and the lower electrode or The cleaning of the upper electrode can be automated by a simple mechanism, and the element analyzer can be reduced in size and cost.

次に、本発明の一実施形態について図面を参照して説明する。なお、図1は本実施形態の元素分析装置100の概略構成図、図2はるつぼ供給機構2の構成を示す模式的断面図、図3は元素分析装置の電極部分及び搬送・清掃ユニット3を主として示す断面図、図4は、アーム部の各停止位置を示す図、図5は退避位置R2を示す模式図、図6は把持位置R3を示す図、図7は載置位置R4を示す図、図8は廃棄位置R5を示す図、図9は対向位置R1を示す図、図10は清掃段階を示す図である。   Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. 1 is a schematic configuration diagram of the elemental analyzer 100 according to the present embodiment, FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing the configuration of the crucible supply mechanism 2, and FIG. 3 shows the electrode portion of the elemental analyzer and the transport / cleaning unit 3. 4 is a diagram showing each stop position of the arm portion, FIG. 5 is a schematic diagram showing the retracted position R2, FIG. 6 is a diagram showing the gripping position R3, and FIG. 7 is a diagram showing the placement position R4. 8 is a view showing the disposal position R5, FIG. 9 is a view showing the facing position R1, and FIG. 10 is a view showing a cleaning stage.

<装置構成>   <Device configuration>

本実施形態に係る元素分析装置100は、るつぼR内に収容された金属試料(以下、単に試料とも言う)を加熱溶解し、その際に発生するガス成分を分析することによって、当該試料中に含まれている元素を測定するもので、分析装置本体1と、当該分析装置本体に搬送されるるつぼを供給するるつぼ供給機構2と、当該るつぼ供給機構2により供給されたるつぼを前記分析装置本体1に搬送するとともに、前記分析装置本体1を清掃する搬送・清掃ユニット3と、を備えている。以下それぞれについて説明する。   The elemental analysis apparatus 100 according to the present embodiment heats and dissolves a metal sample (hereinafter also simply referred to as a sample) accommodated in the crucible R, and analyzes the gas components generated at that time, thereby analyzing the sample. Measuring the contained elements, the analyzer main body 1, the crucible supply mechanism 2 for supplying the crucible conveyed to the analyzer main body, and the crucible supplied by the crucible supply mechanism 2 are used as the analyzer main body. And a transport / cleaning unit 3 for cleaning the analyzer main body 1. Each will be described below.

<<分析装置本体1>>     << Analyzer body 1 >>

分析装置本体1から説明すると、この分析装置本体1の正面には、図1に示すように、上部電極12及び下部電極11が上下に離間させて設けられており、下部電極11上に、試料を収容したるつぼRを載置できるように構成してある。この図1に示す下降位置にある下部電極11上に載置されたるつぼ位置が加熱位置P1である。なお、図1中、符号13は下部電極11上におけるるつぼの有無を検知する検知センサ(例えば光電センサ)である。また、るつぼRは、上部が開口した円筒状をなす黒鉛を素材としたもので、下端部は先細りのテーパ形状をなしている。なお、るつぼRは、下端部が先細りテーパ形状をなすものの他、下端部の外周に環状凹溝が形成されたものであっても良い。
If it demonstrates from the analyzer main body 1, as shown in FIG. 1, the upper electrode 12 and the lower electrode 11 are provided in the front surface of this analyzer main body 1 at intervals up and down, and a sample is provided on the lower electrode 11. It is comprised so that the crucible R which accommodated can be mounted. The crucible position placed on the lower electrode 11 in the lowered position shown in FIG. 1 is the heating position P1. In FIG. 1, reference numeral 13 denotes a detection sensor (for example, a photoelectric sensor) that detects the presence or absence of a crucible on the lower electrode 11. The crucible R is made of graphite having a cylindrical shape with an open top, and the lower end has a tapered shape. In addition, the crucible R may be one in which an annular concave groove is formed on the outer periphery of the lower end portion in addition to a taper shape whose lower end portion is tapered.

そして分析時は、加熱位置P1に置かれたるつぼRに対して、下部電極11が上方にスライドし、上部電極12との間でるつぼRを挟み込む。この状態で、上部電極12の上方に設けられた試料投入部14から、るつぼR内に試料を投入されると、その後、電極11、12間に電流が印加され、るつぼRが発熱して内部の試料が加熱融解される。融解した試料から発生したガスは、図示しない分析部に送られて成分が測定され、その結果から、試料に元々含まれていた元素が分析される。   At the time of analysis, the lower electrode 11 slides upward with respect to the crucible R placed at the heating position P <b> 1, and the crucible R is sandwiched between the upper electrode 12. In this state, when a sample is loaded into the crucible R from the sample loading portion 14 provided above the upper electrode 12, a current is then applied between the electrodes 11 and 12, and the crucible R generates heat to generate heat. The sample is heated and melted. The gas generated from the melted sample is sent to an analysis unit (not shown) to measure the components, and from the result, the element originally contained in the sample is analyzed.

例えば、試料中の酸素量を測定する場合には、試料の融解によって反応生成物であるCO(一酸化炭素)を発生させ、COを例えば分析部を構成する非分散形赤外線検出器を用いて測定し、そのCO値に基づいて当該試料中に存在していた酸素量を測定・算出する。その他、反応生成物とそれに応じた分析部を設定することにより、水素窒素などの成分も測定することができる。なお、分析後は、使用したるつぼRは、るつぼ搬送機構2により試料と共に廃棄処分される。   For example, when measuring the amount of oxygen in a sample, CO (carbon monoxide), which is a reaction product, is generated by melting the sample, and the CO is detected using, for example, a non-dispersive infrared detector that constitutes the analysis unit. Measure and calculate the amount of oxygen present in the sample based on the CO value. In addition, components such as hydrogen nitrogen can be measured by setting a reaction product and an analysis unit corresponding to the reaction product. After the analysis, the used crucible R is discarded together with the sample by the crucible transport mechanism 2.

<<るつぼ供給機構2>>     << Crucible supply mechanism 2 >>

るつぼ供給機構2は、後述する搬送・清掃ユニット3により搬送されるるつぼRを自動的に供給するものであり、特に図2に示すように、複数のるつぼRを収容可能なるつぼ収容部21と、るつぼ収容部21からるつぼRを自重により落下させる案内路22と、案内路22の導出口22bに設けられ、落下したるつぼRを受け取るるつぼ設置部23と、を備えている。   The crucible supply mechanism 2 automatically supplies a crucible R conveyed by a conveyance / cleaning unit 3 to be described later. In particular, as shown in FIG. 2, a crucible accommodating portion 21 capable of accommodating a plurality of crucibles R And a guide path 22 for dropping the crucible R from the crucible housing part 21 by its own weight, and a crucible installation part 23 provided in the outlet 22b of the guide path 22 for receiving the dropped crucible R.

るつぼ収容部21は、複数のるつぼRが並列に載置される傾斜面211と、当該傾斜面211の下方に設けられた排出口212と、傾斜面211の下方に滑下したるつぼRを保持して前記排出口212に移動させるるつぼ排出機構213とを備えている。るつぼ排出機構213としては、例えば、側面にるつぼRを収容する凹部を有し、一軸周りに回転する回転体(図1参照)と、当該回転体を回転させる駆動部(図示しない)とからなり、前記凹部に収容されたるつぼRを回転することにより、排出口212に移動させるものが考えられる。そして、るつぼ排出機構213により、排出口212上部に移動されたるつぼRは自重により、排出口212から落下して排出される。これならば、るつぼRを並列に収容しているので、るつぼRを可及的に多く収容することができる。またるつぼRの自重を用いて排出するようにしているので排出機構213の構造を簡単にすることができる。   The crucible housing part 21 holds an inclined surface 211 on which a plurality of crucibles R are placed in parallel, a discharge port 212 provided below the inclined surface 211, and a crucible R sliding down below the inclined surface 211. And a crucible discharge mechanism 213 that moves to the discharge port 212. The crucible discharging mechanism 213 includes, for example, a rotating body (see FIG. 1) that has a concave portion that accommodates the crucible R on its side surface and rotates around one axis, and a drive unit (not shown) that rotates the rotating body. It is possible to move the crucible R accommodated in the recess to the discharge port 212 by rotating it. Then, the crucible R moved to the upper portion of the discharge port 212 by the crucible discharge mechanism 213 falls from the discharge port 212 and is discharged by its own weight. In this case, since the crucibles R are accommodated in parallel, as many crucibles R as possible can be accommodated. Further, since the discharge is performed using the dead weight of the crucible R, the structure of the discharge mechanism 213 can be simplified.

案内路22は、るつぼRを略鉛直方向に落下させて、るつぼ設置部23に案内するものであり、図2に示すように、るつぼ収容部21の供給口214に連通して、略鉛直に形成されている。   The guide path 22 drops the crucible R in a substantially vertical direction and guides the crucible R to the crucible installation part 23. As shown in FIG. 2, the guide path 22 communicates with the supply port 214 of the crucible accommodating part 21 and is substantially vertically. Is formed.

また、案内路22は、るつぼ収容部21から導入されたるつぼRを上下正向きの状態のまま落下させるものであり、るつぼRが落下する際に上下反転しない内径、例えば、るつぼRの最長の対角線の長さ寸法よりも小さい内径である。   In addition, the guide path 22 is for dropping the crucible R introduced from the crucible housing portion 21 in a vertically positive state, and when the crucible R falls, the inner diameter that does not turn upside down, for example, the longest of the crucible R The inner diameter is smaller than the length of the diagonal.

案内管5の側壁には、供給口214から導入されたるつぼR以外の異物(例えばるつぼRの破片等)を出口(導出口22b)に到達させること無く案内管5の外部に排出するための、例えばスリット状の貫通孔5Aが1又は複数個設けられている。具体的には、案内管5中、傾斜面211に略垂直に設けられた屈曲部51の側壁下方に貫通孔5Aが設けられている。これにより、破片は自重により貫通孔5Aを通って案内管5外に排出される。また、この貫通孔5Aにより、案内路22におけるるつぼRの詰まりを確認することもできる。   On the side wall of the guide tube 5, foreign matter other than the crucible R introduced from the supply port 214 (for example, fragments of the crucible R) is discharged outside the guide tube 5 without reaching the outlet (outlet port 22 b). For example, one or a plurality of slit-shaped through holes 5A are provided. Specifically, in the guide tube 5, a through hole 5 </ b> A is provided below the side wall of the bent portion 51 provided substantially perpendicular to the inclined surface 211. Thereby, the fragments are discharged out of the guide tube 5 through the through holes 5A by their own weight. Further, the clogging of the crucible R in the guide path 22 can be confirmed by the through hole 5A.

また、案内路22の出口近傍には、るつぼRの落下速度を低下させるためのテーパ部221が形成されている。このテーパ部221の最小径は、るつぼRの外径よりも若干大きく、るつぼRが通過可能なものである。また案内路22におけるテーパ部221の下流側は、テーパ部221の最小径と同一径を有する。これならば、案内路22の出口近傍におけるるつぼRの落下速度を小さくすることができ、るつぼ設置部23に着地する際のるつぼRの損傷を防止することができる。また、るつぼ設置部23での設置位置の位置ずれを防止することができ、精度良く設置することができる。   Further, a tapered portion 221 for reducing the falling speed of the crucible R is formed in the vicinity of the exit of the guide path 22. The minimum diameter of the taper portion 221 is slightly larger than the outer diameter of the crucible R, and the crucible R can pass through. Further, the downstream side of the tapered portion 221 in the guide path 22 has the same diameter as the minimum diameter of the tapered portion 221. In this case, the falling speed of the crucible R in the vicinity of the exit of the guide path 22 can be reduced, and damage to the crucible R when landing on the crucible installation portion 23 can be prevented. Moreover, the position shift of the installation position in the crucible installation part 23 can be prevented, and it can install accurately.

るつぼ設置部23は、図1及び図2に示すように、基台101に設けられたエアシリンダ等からなる設置部昇降機構24の駆動軸241の先端部に設けられている。そして、るつぼ設置部23は、案内路22に接続されて、落下したるつぼRを受け取る受取位置Q1と、当該受取位置Q1から鉛直下方に離間した離間位置であるるつぼ搬送位置Q2との間を昇降移動するものである。   The crucible installation part 23 is provided in the front-end | tip part of the drive shaft 241 of the installation part raising / lowering mechanism 24 which consists of an air cylinder etc. which were provided in the base 101, as shown in FIG.1 and FIG.2. The crucible installation unit 23 is connected to the guide path 22 and moves up and down between a receiving position Q1 that receives the crucible R that has fallen and a crucible conveying position Q2 that is a separated position vertically below the receiving position Q1. It is something that moves.

具体的にるつぼ設置部23は、図2に示すように、るつぼRを収容可能な凹部231xを有し、るつぼRを受け取るるつぼ受け本体231と、当該るつぼ受け本体231の凹部231x内に設けられた載置突起232とを備えている。   Specifically, as shown in FIG. 2, the crucible installation portion 23 has a recess 231 x that can accommodate the crucible R, and is provided in the crucible receiving body 231 that receives the crucible R, and in the recess 231 x of the crucible receiving body 231. Mounting protrusions 232.

るつぼ受け本体231は、概略有底円筒形状をなし、内部を視認可能な透明樹脂から形成されており、その凹部231xの内径は、るつぼRの外径よりも大きい。また、るつぼ受け本体231の上端部外周面には、テーパ面231tが形成されている。そして、るつぼ設置部23がるつぼ搬送位置Q2から受取位置Q1に移動するにつれて、前記案内路22を形成する案内管5の出口側端面に設けられたテーパ面5tと嵌ることにより、るつぼ受け本体231及び載置突起232と案内路22との位置決めを行う位置決め機能を発揮する(図2参照)。   The crucible receiving main body 231 has a substantially bottomed cylindrical shape and is formed of a transparent resin whose inside can be visually recognized. The inner diameter of the concave portion 231x is larger than the outer diameter of the crucible R. A tapered surface 231t is formed on the outer peripheral surface of the upper end portion of the crucible receiving body 231. Then, as the crucible installation portion 23 moves from the crucible transport position Q2 to the receiving position Q1, the crucible receiving body 231 is fitted with the tapered surface 5t provided on the outlet side end surface of the guide tube 5 forming the guide path 22. And the positioning function which positions the mounting protrusion 232 and the guide path 22 is demonstrated (refer FIG. 2).

載置突起232は、概略円柱形状をなすものであり、その直径がるつぼRの開口径よりも若干小さく設定されている。そして、載置突起232は、るつぼ受け本体231の凹部231x内において同軸上に設けられ、るつぼRが上下正向きに設置された場合には、その略水平な上面232aにるつぼRが載置される。一方、載置突起232は、るつぼRが上下逆向きに設置された場合には、るつぼR内に収容される。この構成により、るつぼRを上下正向きに設置した場合と、るつぼRを上下逆向きに設置した場合とで、るつぼ設置部23におけるるつぼRの高さ位置が異なる。   The mounting protrusion 232 has a substantially cylindrical shape, and its diameter is set slightly smaller than the opening diameter of the crucible R. The mounting protrusion 232 is provided coaxially within the recess 231x of the crucible receiving body 231. When the crucible R is installed in the vertical direction, the crucible R is mounted on the substantially horizontal upper surface 232a. The On the other hand, the mounting protrusion 232 is accommodated in the crucible R when the crucible R is installed upside down. With this configuration, the height position of the crucible R in the crucible installation portion 23 differs depending on whether the crucible R is installed in the upside down direction or when the crucible R is installed upside down.

また、載置突起232の長さは、用いられる種々のるつぼRにおいて、いずれの深さ寸法よりも長くして、るつぼRのサイズを問わない構造としている。つまり、載置突起232の長さは、上下逆向きに設置した場合に、るつぼRの開口が凹部底面に接触しない長さである。つまり、載置突起232の長さは、上下逆向きに設置した場合に、凹部底面と、るつぼRの開口端面との間に空間が形成されるように設定されている。これにより、るつぼRの破片等の異物が凹部231xに蓄積されている場合であっても、るつぼ受け本体231は、上下逆向きにるつぼRを収容することができる。   Moreover, the length of the mounting protrusion 232 is longer than any depth dimension in the various crucibles R used, and the size of the crucible R is not limited. That is, the length of the mounting protrusion 232 is a length that prevents the opening of the crucible R from coming into contact with the bottom surface of the recess when it is installed upside down. That is, the length of the mounting protrusion 232 is set so that a space is formed between the bottom surface of the recess and the opening end surface of the crucible R when installed in the upside down direction. Thereby, even if foreign matter such as fragments of the crucible R is accumulated in the recess 231x, the crucible receiving body 231 can accommodate the crucible R upside down.

さらにこのるつぼ供給機構2は、図1及び図2に示すように、るつぼ検知センサ41を備え、前記るつぼ設置部23とともに反転検出機構4を構成する。   Further, as shown in FIGS. 1 and 2, the crucible supply mechanism 2 includes a crucible detection sensor 41 and constitutes the reversal detection mechanism 4 together with the crucible installation portion 23.

るつぼ検知センサ41は、載置突起232にるつぼRが上下正向きに設置された場合にのみるつぼRを検出する、光を利用したものである。具体的には、光電センサを用いており、光電センサ41の発光部を出て受光部に到達する光L1の軌道が、るつぼ設置部23に上下正向きに設置されたるつぼRの外周面で反射して受光部に到達するように構成されている。   The crucible detection sensor 41 uses light to detect the crucible R when the crucible R is installed on the mounting protrusion 232 in the vertical direction. Specifically, a photoelectric sensor is used, and the trajectory of the light L1 that exits the light emitting portion of the photoelectric sensor 41 and reaches the light receiving portion is the outer peripheral surface of the crucible R that is installed in the crucible installation portion 23 in the vertical direction. It is configured to reflect and reach the light receiving unit.

このような構成により、るつぼRを上下正向きに設置した場合には、発光部から出た光L1は、るつぼRの側面により反射されて受光部により受光される。一方、るつぼRを上下逆向きに設置した場合には、発光部から出た光L1は、るつぼRの外側周面により反射されることなく、受光部により受光されない。以上により、るつぼ設置部23にるつぼRが設置されていない場合、設置されていても上下逆向きに設置されている場合には、受光部が光L1を受光しないことから、るつぼRの有無及びるつぼRの反転を検知できる。また、受光部の検知信号は、図示しない報知手段に出力され、警報音等でオペレータに報知するようにしている。なお、るつぼ検知センサ41は、上述した反射型のものに限られず、透過型のものでもよいし、超音波を利用したもの等を用いても構わない。   With such a configuration, when the crucible R is installed vertically upward, the light L1 emitted from the light emitting unit is reflected by the side surface of the crucible R and received by the light receiving unit. On the other hand, when the crucible R is installed upside down, the light L1 emitted from the light emitting unit is not reflected by the outer peripheral surface of the crucible R and is not received by the light receiving unit. As described above, if the crucible R is not installed in the crucible installation part 23, or if the crucible R is installed upside down even if installed, the light receiving unit does not receive the light L1. Inversion of the crucible R can be detected. Further, the detection signal of the light receiving unit is output to notifying means (not shown) so as to notify the operator with an alarm sound or the like. The crucible detection sensor 41 is not limited to the reflective type described above, and may be a transmissive type or a type using ultrasonic waves.

<<搬送・清掃ユニット3>>     << Conveying / cleaning unit 3 >>

搬送・清掃ユニット3は、るつぼRが設置されるるつぼ設置部23から下部電極11上にるつぼRを搬送して載置、又は下部電極11上のるつぼRを廃棄ボックス7に搬送して廃棄するとともに、上部電極12及び下部電極11を清掃するものである。   The transport / cleaning unit 3 transports and places the crucible R on the lower electrode 11 from the crucible installation portion 23 where the crucible R is installed, or transports the crucible R on the lower electrode 11 to the disposal box 7 and discards it. At the same time, the upper electrode 12 and the lower electrode 11 are cleaned.

具体的にこのものは、第1清掃体311、第2清掃体312、及び把持部である把持爪313を有するアーム部31と、このアーム部31を回転軸322により支持し、当該回転軸322を回転させることにより、アーム部31を回転軸322周りに回転させる回転駆動機構32とを、備えている。   Specifically, this includes an arm part 31 having a first cleaning body 311, a second cleaning body 312, and a gripping claw 313 as a gripping part, and the arm part 31 supported by a rotating shaft 322, and the rotating shaft 322. , And a rotation drive mechanism 32 that rotates the arm portion 31 around the rotation shaft 322.

アーム部31は、基端部が後述する回転駆動機構32の回転軸322に連結され、その先端部の上部電極12側に第1清掃体311を保持し、下部電極11側に第2清掃体312を保持する。また、アーム部31の下部電極11への進行方向を向く側面には、るつぼRを把持する把持爪313が設けられている。   The arm portion 31 has a base end portion connected to a rotation shaft 322 of a rotation drive mechanism 32 described later, holds the first cleaning body 311 on the upper electrode 12 side of the distal end portion, and the second cleaning body on the lower electrode 11 side. 312 is held. A gripping claw 313 that grips the crucible R is provided on a side surface of the arm portion 31 that faces the traveling direction toward the lower electrode 11.

第1清掃体311(上部電極清掃体)は、図3に示すように、上部電極12を清掃するものであり、本実施形態では回転ブラシである。具体的には、第1清掃体311は、上部電極12の電極面121を清掃するため第1電極面ブラシ311aと、上部電極12の試料通過孔12aを清掃するための通過孔ブラシ311bと、それらブラシ311a、311bを保持する第1基体311cとからなる。   The 1st cleaning body 311 (upper electrode cleaning body) cleans the upper electrode 12, as shown in FIG. 3, and is a rotating brush in this embodiment. Specifically, the first cleaning body 311 includes a first electrode surface brush 311a for cleaning the electrode surface 121 of the upper electrode 12, a passage hole brush 311b for cleaning the sample passage hole 12a of the upper electrode 12, The first base 311c that holds the brushes 311a and 311b.

第1電極面ブラシ311aは、例えばステンレス製のブラシ毛からなり、通過孔ブラシ311bは、例えばナイロン製のブラシ毛からなる。また、通過孔ブラシ311bは、電極面ブラシ311aよりも先端側に設けられている。第1基体311cは、後述する清掃体回転機構6の第1駆動軸64に固定される。   The 1st electrode surface brush 311a consists of brush hair made from stainless steel, for example, and the passage hole brush 311b consists of brush hair made from nylon, for example. Further, the passage hole brush 311b is provided on the tip side of the electrode surface brush 311a. The first base 311c is fixed to a first drive shaft 64 of the cleaning body rotating mechanism 6 described later.

第2清掃体312(下部電極清掃体)は、図3に示すように、下部電極11を清掃するものであり、前記第1清掃体311と同様、回転ブラシである。具体的には、第2清掃体312は、下部電極11の電極面111を清掃する第2電極面ブラシ312aと、下部電極11の電極面111の周辺部を清掃するための周辺部ブラシ312bと、それらブラシを保持する第2基体312cとからなる。   As shown in FIG. 3, the second cleaning body 312 (lower electrode cleaning body) cleans the lower electrode 11, and is a rotating brush like the first cleaning body 311. Specifically, the second cleaning body 312 includes a second electrode surface brush 312a for cleaning the electrode surface 111 of the lower electrode 11, and a peripheral brush 312b for cleaning the peripheral portion of the electrode surface 111 of the lower electrode 11. And a second base 312c for holding the brushes.

第2電極面ブラシ312aは、例えばステンレス製のブラシ毛からなり、周辺部ブラシ312bは、例えばナイロン製のブラシ毛からなる。なお、第2電極面ブラシ312aの外側に周辺部ブラシ312bが設けられている。第2基体312cは、後述する清掃体回転機構6の第2駆動軸65に固定される。   The second electrode surface brush 312a is made of, for example, stainless brush hair, and the peripheral brush 312b is made of, for example, nylon brush hair. A peripheral brush 312b is provided outside the second electrode surface brush 312a. The second base 312c is fixed to a second drive shaft 65 of the cleaning body rotating mechanism 6 described later.

把持爪313は、少なくとも一方が例えば概略くの字形をなすものである。各把持爪313は、エアチャック機構を用いたものであり、基端部においてアーム部31にスライド駆動可能に保持されており、別に設けた制御機器(図示しない)からの指令で把持爪313間の距離を縮めるようにスライドさせることによって、各把持爪313の中央部分間で前記るつぼRの側周面を圧把持できるように構成されている。 At least one of the gripping claws 313 has, for example, a generally square shape. Each gripping claw 313 uses an air chuck mechanism, and is slidably held on the arm portion 31 at the base end portion. Between the gripping claws 313 by a command from a separately provided control device (not shown). The side circumferential surface of the crucible R can be clamped and gripped between the central portions of the gripping claws 313 by sliding so as to reduce the distance.

また、アーム部31は、内部に吸気通路31Aを有する(図3参照)。この吸気通路31Aは、アーム部31基端側上面に形成された接続口と、アーム部31先端側上面に形成された上部電極側開口及びアーム部31先端側下面に設けられた下部電極側開口とを連通するものである。上部電極側開口は、第1駆動軸64と同心円上となるように形成されている。   The arm portion 31 has an intake passage 31A inside (see FIG. 3). The intake passage 31A has a connection port formed on the upper surface on the proximal end side of the arm portion 31, an upper electrode side opening formed on the upper surface on the distal end side of the arm portion 31, and a lower electrode side opening provided on the lower surface on the distal end side of the arm portion 31. It communicates with. The upper electrode side opening is formed to be concentric with the first drive shaft 64.

さらに、アーム部31基端側上面には、接続口と連通するように、弾性材料からなる中空の連結体33が設けられている。そして、対向位置R1にあるアーム部31が上昇したときに、連結体33が、基台101の枠体102に設けられた吸引口102Aと連結するようにしている。吸引口102Aは、装置1の外部に設けられた吸引装置(図示しない)に接続されている。対向位置R1におけるアーム部31の昇降移動は、前述した設置部昇降機構24により行われる。アーム部31は、対向位置R1において、設置部昇降機構24の駆動軸241の先端と接触する接触片31xを有している。この接触片31xは、概略L字形状をなすものであり、アーム部の側面に設けられている。なお、設置部昇降機構24の駆動軸241がアーム部31の底面に接触して、アーム部31を持ち上げるように構成しても良い。   Furthermore, a hollow coupling body 33 made of an elastic material is provided on the upper surface on the base end side of the arm portion 31 so as to communicate with the connection port. And when the arm part 31 in opposing position R1 raises, the connection body 33 connects with the suction port 102A provided in the frame 102 of the base 101. FIG. The suction port 102A is connected to a suction device (not shown) provided outside the device 1. The raising / lowering movement of the arm part 31 in the facing position R1 is performed by the installation part raising / lowering mechanism 24 described above. The arm portion 31 has a contact piece 31x that comes into contact with the tip of the drive shaft 241 of the installation portion lifting mechanism 24 at the facing position R1. The contact piece 31x is substantially L-shaped and is provided on the side surface of the arm portion. The drive shaft 241 of the installation unit elevating mechanism 24 may be configured to contact the bottom surface of the arm unit 31 and lift the arm unit 31.

さらに、アーム部31において、上部電極側開口の開口縁には、上部電極12の下面と接触するシール部材34が設けられている。下部電極側開口は、第2清掃体312の周囲に立設された側壁により形成されている。この側壁314は、アーム部31が上部電極12及び下部電極11により持されたときの、下部電極11と第2清掃体312との距離、つまり下部電極11の電極面111に対する第2清掃体312の高さを調節するものである。 Further, in the arm portion 31, a seal member 34 that contacts the lower surface of the upper electrode 12 is provided at the opening edge of the upper electrode side opening. The lower electrode side opening is formed by a side wall provided upright around the second cleaning body 312. The side wall 314, when the arm portion 31 is sandwiched by the upper electrode 12 and lower electrode 11, the distance between the lower electrode 11 and the second cleaning body 312, i.e., the second cleaning body against the electrode surface 111 of the lower electrode 11 The height of 312 is adjusted.

また、アーム部31には、第1清掃体311及び第2清掃体312を回転するための清掃体回転機構6が設けられている。この清掃体回転機構6は、図3に示すように、アーム部31の基端側下面に固定されたモータ等のアクチュエータ61と、アクチュエータ61の駆動軸に固定された第1プーリ62と、アーム部31の先端側に設けられた第2プーリ63と、当該第1プーリ62の回転駆動を第2プーリ63に伝達する伝達ベルト63と、第2プーリ63の上面に設けられ、第1清掃体311の第1基体311cに連結される第1駆動軸64と、第2プーリ63の下面に設けられ、第2清掃体312の第2基体312cに連結される第2駆動軸65とからなる。なお、アクチュエータ61は、前記制御機器により制御される。   Further, the arm unit 31 is provided with a cleaning body rotating mechanism 6 for rotating the first cleaning body 311 and the second cleaning body 312. As shown in FIG. 3, the cleaning body rotating mechanism 6 includes an actuator 61 such as a motor fixed to the lower surface of the base end side of the arm portion 31, a first pulley 62 fixed to the drive shaft of the actuator 61, and an arm A second pulley 63 provided on the distal end side of the portion 31, a transmission belt 63 for transmitting the rotational drive of the first pulley 62 to the second pulley 63, and an upper surface of the second pulley 63. The first drive shaft 64 connected to the first base 311c of 311 and the second drive shaft 65 provided on the lower surface of the second pulley 63 and connected to the second base 312c of the second cleaning body 312. The actuator 61 is controlled by the control device.

回転駆動機構32は、図3に示すように、回転軸322によりアーム部31を昇降自在に支持して、アーム部31を回転させるものであり、各清掃体311、312が各電極11、12に対向する対向位置R1及びその対向位置R1から離間した退避位置R2の間で、アーム部31を回転移動させるものである。また、回転駆動機構32は、対向位置R1及び退避位置R2の間における複数の回転位置でアーム部31を停止可能なものである。   As shown in FIG. 3, the rotation drive mechanism 32 supports the arm unit 31 by a rotary shaft 322 so as to be movable up and down, and rotates the arm unit 31, and the cleaning bodies 311 and 312 correspond to the electrodes 11 and 12. The arm portion 31 is rotated and moved between a facing position R1 that faces the arm and a retracted position R2 that is spaced from the facing position R1. The rotation drive mechanism 32 can stop the arm unit 31 at a plurality of rotation positions between the facing position R1 and the retracted position R2.

回転駆動機構32の具体的な構成は、アーム部31が固定される固定部321と、その固定部321に設けられた貫通孔に相対回転不能且つ軸方向にスライド可能に挿通された回転軸322と、当該回転軸322の下端部に連結され、当該回転軸322を回転させるアクチュエータ323とからなる。これらは、ブラケット324により装置本体11に固定される。アクチュエータ323は、ステッピングモータであり、図示しない制御機器からの駆動パルスにより制御される。   A specific configuration of the rotation drive mechanism 32 includes a fixed portion 321 to which the arm portion 31 is fixed, and a rotary shaft 322 that is inserted in a through hole provided in the fixed portion 321 so as not to be relatively rotatable and to be slidable in the axial direction. And an actuator 323 that is coupled to the lower end of the rotary shaft 322 and rotates the rotary shaft 322. These are fixed to the apparatus main body 11 by a bracket 324. The actuator 323 is a stepping motor and is controlled by a drive pulse from a control device (not shown).

このような駆動昇降機構32により、アクチュエータ323により回転軸322を回転させると、回転軸322と相対回転不能なアーム部31も回転する。これにより、アーム部31は、回転軸322を回転中心として、対向位置R1と退避位置R2との間を回転移動する。   When the rotary shaft 322 is rotated by the actuator 323 by such a drive lifting mechanism 32, the arm portion 31 that cannot rotate relative to the rotary shaft 322 also rotates. Thereby, the arm part 31 rotates between the opposing position R1 and the retracted position R2 with the rotation shaft 322 as the rotation center.

また、回転軸322と固定部321とは軸方向にスライド可能であり、アーム部31が設置部昇降機構24により押し上げられるに従って、アーム部31は回転軸322をスライドして上昇する。   The rotating shaft 322 and the fixed portion 321 are slidable in the axial direction. As the arm portion 31 is pushed up by the installation portion lifting mechanism 24, the arm portion 31 slides on the rotating shaft 322 and rises.

具体的に回転駆動機構32は、図4に示すように、各清掃体311、312が各電極11、12に対向する対向位置R1、るつぼ設置部23上のるつぼRを把持する把持位置R3、把持爪313に把持されたるつぼRを下部電極11上に載置する載置位置R4、把持爪313に把持されたるつぼRを廃棄ボックス7に廃棄する廃棄位置R5、前記各位置から離間した退避位置R2でアーム部31を停止可能である。なお、退避位置R2は、各停止位置R1、R3〜R5に対して、下部電極11及びるつぼ設置部23よりも外方に位置している。   Specifically, as shown in FIG. 4, the rotation drive mechanism 32 includes a facing position R <b> 1 where each cleaning body 311, 312 faces each electrode 11, 12, a gripping position R <b> 3 for gripping the crucible R on the crucible installation part 23, A mounting position R4 for placing the crucible R gripped by the gripping claws 313 on the lower electrode 11; a disposal position R5 for discarding the crucible R gripped by the gripping claws 313 in the disposal box 7; The arm part 31 can be stopped at the position R2. The retreat position R2 is located outside the lower electrode 11 and the crucible installation part 23 with respect to the respective stop positions R1, R3 to R5.

また、本実施形態の搬送・清掃ユニット3はアーム部昇降機構(図示しない)を備えている。このアーム部昇降機構は、アーム部31が把持位置R3にある状態において、把持爪313がるつぼ設置部23上にあるるつぼRを把持したときに、アーム部31を鉛直上方に持ち上げる機能を発揮するものである。具体的にアーム部昇降機構は、アーム部31の下面に当接し、昇降移動する駆動軸と、当該駆動軸を昇降移動させるエアシリンダとからなる。このエアシリンダは、前記制御機器により制御される。これならば、るつぼ設置部23のるつぼ受け本体231に収容されているるつぼRを持ち上げて取り出すことができる。   Further, the transport / cleaning unit 3 of the present embodiment includes an arm unit lifting mechanism (not shown). This arm lifting mechanism exhibits a function of lifting the arm 31 vertically upward when the gripping claw 313 grips the crucible R on the crucible installation portion 23 in a state where the arm 31 is in the gripping position R3. Is. Specifically, the arm unit elevating mechanism includes a drive shaft that contacts the lower surface of the arm unit 31 and moves up and down, and an air cylinder that moves the drive shaft up and down. The air cylinder is controlled by the control device. If this is the case, the crucible R accommodated in the crucible receiving body 231 of the crucible installation portion 23 can be lifted and taken out.

<<搬送・清掃ユニット3の動作>>     << Operation of transport / cleaning unit 3 >>

次に、このように構成した搬送・清掃ユニット3の動作について説明する。   Next, the operation of the transport / cleaning unit 3 configured as described above will be described.

るつぼ供給段階において、るつぼ供給機構2のるつぼ設置部23が、受取位置Q1まで上昇して、るつぼ収容部21から案内路22に落下するるつぼRを受け取り、搬送位置Q2に下降する。このとき、搬送・清掃ユニット3のアーム部31は退避位置R2にある(図4及び図5参照)。   In the crucible supply stage, the crucible installation part 23 of the crucible supply mechanism 2 rises to the receiving position Q1, receives the crucible R falling from the crucible accommodating part 21 to the guide path 22, and descends to the transport position Q2. At this time, the arm portion 31 of the transport / cleaning unit 3 is in the retracted position R2 (see FIGS. 4 and 5).

そして、るつぼ搬送段階において、搬送・清掃ユニット3は、回転駆動機構32により、退避位置R2にあるアーム部31を把持位置R3まで回転移動する(図4及び図6参照)。このとき、アーム部31の側面に設けられた把持爪313がるつぼ設置部23に設置されたるつぼRを把持する。その後、アーム部昇降機構により、アーム部31が若干持ち上げられる。このとき持ち上げる量は、るつぼRがるつぼ設置部23のるつぼ受け本体241から出る程度である。   In the crucible transport stage, the transport / cleaning unit 3 rotates and moves the arm portion 31 at the retracted position R2 to the gripping position R3 by the rotation drive mechanism 32 (see FIGS. 4 and 6). At this time, the gripping claws 313 provided on the side surface of the arm part 31 grip the crucible R installed in the crucible installation part 23. Thereafter, the arm portion 31 is slightly lifted by the arm portion lifting mechanism. The amount to be lifted at this time is such that the crucible R comes out of the crucible receiving body 241 of the crucible installation portion 23.

次に、回転駆動機構32により、アーム部31は把持位置R3から載置位置R4まで回転移動する(図4及び図7参照)。なお、この回転移動の最中において、アーム部昇降機構によりアーム部31は、若干持ち上げられた状態のままである。   Next, the arm portion 31 is rotationally moved from the gripping position R3 to the mounting position R4 by the rotation drive mechanism 32 (see FIGS. 4 and 7). During this rotational movement, the arm unit 31 remains slightly lifted by the arm unit lifting mechanism.

そして、アーム部31が載置位置R4に到達して、るつぼRを下部電極11上に載置する際に、アーム部昇降機構はアーム部31を下降させる。このとき、アーム部31を下降させて、把持爪313が把持しているるつぼRの底面が、下部電極11の電極面111と面接触した状態で、把持爪313がるつぼRを放す。これにより、るつぼRは、下部電極11上に押し付けられるように載置され、仮に把持爪313がるつぼRを斜めに把持している場合であっても、下部電極11に押さえ付けられる過程で、るつぼRの下面が下部電極11の電極面111に接触して向きを変えるので、るつぼRを下部電極11上に安定して載置することができ、またるつぼRを上方から落下させて下部電極11上で跳ね返ってしまうことを防止できる。   Then, when the arm unit 31 reaches the mounting position R4 and the crucible R is mounted on the lower electrode 11, the arm unit lifting mechanism lowers the arm unit 31. At this time, the arm portion 31 is lowered, and the gripping claws 313 release the crucible R in a state where the bottom surface of the crucible R gripped by the gripping claws 313 is in surface contact with the electrode surface 111 of the lower electrode 11. Thereby, the crucible R is placed so as to be pressed onto the lower electrode 11, and even if the gripping claws 313 are holding the crucible R diagonally, in the process of being pressed against the lower electrode 11, Since the lower surface of the crucible R contacts the electrode surface 111 of the lower electrode 11 and changes its direction, the crucible R can be stably placed on the lower electrode 11, and the crucible R is dropped from above to lower the lower electrode. 11 can be prevented from bouncing over.

下部電極11上にるつぼRを載置後、アーム部31は回転駆動機構32により退避位置R2に回転移動する(図4参照)。   After placing the crucible R on the lower electrode 11, the arm portion 31 is rotationally moved to the retracted position R2 by the rotation drive mechanism 32 (see FIG. 4).

その後、分析段階において、下部電極11が上昇して、上部電極12との間でるつぼRを持し、試料が投入されて、当該試料の分析が行われる。分析終了後、下部電極11は下降して下降位置に戻る。
Thereafter, in the analysis stage, the lower electrode 11 is increased, the crucible R nipped between the upper electrode 12, the sample is turned, the analysis of the sample is performed. After the analysis is completed, the lower electrode 11 descends and returns to the lowered position.

次に、るつぼ廃棄段階において、アーム部31は、回転駆動機構32より、退避位置R2から載置位置R4まで回転移動する(図4及び図7参照)。そして、把持爪313により下部電極11上にあるるつぼRを把持する。   Next, in the crucible disposal stage, the arm portion 31 is rotationally moved from the retraction position R2 to the placement position R4 by the rotation drive mechanism 32 (see FIGS. 4 and 7). Then, the crucible R on the lower electrode 11 is gripped by the gripping claws 313.

下部電極11上のるつぼRを把持したアーム部31は、回転駆動機構32により廃棄位置R5に回転移動して、当該廃棄位置R5でるつぼRを放し、廃棄位置R5の下方に設けられた廃棄ボックス7にるつぼRを落とす(図4及び図8参照)。   The arm portion 31 holding the crucible R on the lower electrode 11 is rotated and moved to the disposal position R5 by the rotation drive mechanism 32 to release the crucible R at the disposal position R5, and a disposal box provided below the disposal position R5. The crucible R is dropped to 7 (see FIGS. 4 and 8).

その後、電極清掃段階において、アーム部31は、回転駆動機構32により、廃棄位置R5から対向位置R1まで回転移動する(図4、図9及び図10(a)参照)。このとき、第1清掃体311及び第2清掃体312は、清掃体回転機構6より回転する。   Thereafter, in the electrode cleaning stage, the arm portion 31 is rotationally moved from the disposal position R5 to the facing position R1 by the rotation drive mechanism 32 (see FIGS. 4, 9, and 10A). At this time, the first cleaning body 311 and the second cleaning body 312 are rotated by the cleaning body rotating mechanism 6.

そうすると、設置部昇降機構24の駆動軸241の先端が接触片31xに接触して、アーム部31を持ち上げる。このとき、アーム部31の先端側上面に設けたシール部材34が、上部電極12の下面に接触する(図10(b))。また、第1清掃体311のブラシ311a、311bは、上部電極12の電極面121及び試料通過孔12aに押圧接触した状態である。さらに、連結体33は、基台101の枠体102に設けられた吸引口102Aに接続される。   Then, the tip of the drive shaft 241 of the installation unit elevating mechanism 24 comes into contact with the contact piece 31x and lifts the arm unit 31. At this time, the seal member 34 provided on the upper surface on the distal end side of the arm portion 31 contacts the lower surface of the upper electrode 12 (FIG. 10B). Further, the brushes 311a and 311b of the first cleaning body 311 are in a state of being pressed and in contact with the electrode surface 121 of the upper electrode 12 and the sample passage hole 12a. Furthermore, the coupling body 33 is connected to a suction port 102 </ b> A provided in the frame body 102 of the base 101.

このとき、上部電極12に生じるダストは、上部電極12側開口から吸引されて、アーム部31の吸気通路31Aを通り吸引口102Aから外部に排出される。   At this time, dust generated in the upper electrode 12 is sucked from the opening on the upper electrode 12 side, passes through the intake passage 31A of the arm portion 31, and is discharged to the outside from the suction port 102A.

次に、下部電極昇降機構15により、下部電極11が上昇する。このとき、下部電極11の電極面111の周辺部は、第2清掃体312の周囲に設けられた側壁314に接触する(図10(c))また、第2清掃体312のブラシ312a、312bは、下部電極11の電極面111及びその周辺部に押圧接触した状態である。   Next, the lower electrode 11 is raised by the lower electrode lifting mechanism 15. At this time, the peripheral part of the electrode surface 111 of the lower electrode 11 is in contact with the side wall 314 provided around the second cleaning body 312 (FIG. 10C). Also, the brushes 312 a and 312 b of the second cleaning body 312. Is a state in which the electrode surface 111 of the lower electrode 11 and the periphery thereof are in press contact.

このとき、下部電極11に生じるダストは、側壁314に設けられた吸気路314A及びアーム部31の吸気通路31Aを通り吸引口102Aから外部に排出される。   At this time, dust generated in the lower electrode 11 passes through the intake passage 314A provided in the side wall 314 and the intake passage 31A of the arm portion 31 and is discharged to the outside from the suction port 102A.

清掃後、下部電極11を下降させた後、設置部昇降機構24により、アーム部31は対向位置R1まで下降し、さらに回転駆動機構32により、退避位置R2に回転移動する。そして、連続して複数の試料を分析する場合には、再び、るつぼ供給段階に移行する。   After cleaning, the lower electrode 11 is lowered, and then the arm portion 31 is lowered to the facing position R1 by the installation portion raising / lowering mechanism 24, and further rotated to the retreat position R2 by the rotation driving mechanism 32. And when analyzing a some sample continuously, it transfers to a crucible supply stage again.

以上の搬送・清掃ユニット3の動作において、本実施形態では、回転駆動機構32が、把持爪313によりるつぼRを把持したアーム部31を、下部電極11上にるつぼRを載置するために載置位置R4に移動させる毎に、当該載置位置R4が下部電極11上で異なるようにしている。つまり、下部電極11上にるつぼRを載置する位置を分析毎に異なるようにしている。例えば分析毎に、下部電極11上にるつぼRを載置する位置を0.5mm程度変化させている。   In the operation of the transport / cleaning unit 3 described above, in the present embodiment, the rotation drive mechanism 32 mounts the arm part 31 gripping the crucible R by the gripping claws 313 in order to place the crucible R on the lower electrode 11. The mounting position R4 is made different on the lower electrode 11 every time it is moved to the mounting position R4. That is, the position where the crucible R is placed on the lower electrode 11 is made different for each analysis. For example, for each analysis, the position where the crucible R is placed on the lower electrode 11 is changed by about 0.5 mm.

具体的には、制御機器が、回転駆動機構32のアクチュエータ323であるステッピングモータに出力する駆動パルスを、下部電極11上にるつぼRを載置するためにアーム部31を載置位置R4に回転移動させる毎に、異なるように設定している。より詳細には、各分析において、把持爪313によりるつぼRを把持したアーム部31を載置位置R4に移動させる毎に、駆動パルスのパルス量を数パルスだけ異ならせてランダムに設定している。これならば、下部電極11及び上部電極12が同一部分のみ摩耗してしまうという問題を解決することができ、下部電極11及び上部電極12の長寿命化を可能にすることができる。   Specifically, the control device rotates the arm portion 31 to the mounting position R4 in order to place the crucible R on the lower electrode 11 with a drive pulse output to the stepping motor that is the actuator 323 of the rotation drive mechanism 32. Each time it is moved, it is set differently. More specifically, in each analysis, every time the arm portion 31 holding the crucible R by the holding claw 313 is moved to the mounting position R4, the pulse amount of the drive pulse is set to be different by several pulses and set randomly. . If this is the case, it is possible to solve the problem that the lower electrode 11 and the upper electrode 12 are worn only in the same portion, and it is possible to extend the lifetime of the lower electrode 11 and the upper electrode 12.

<本実施形態の効果>   <Effect of this embodiment>

このように構成した本実施形態に係る元素分析装置100によれば、上部電極12及び下部電極11を清掃するための清掃体311、312及びるつぼRを把持する把持爪313を備えるアーム部31を回転させて、対向位置R1、把持位置R3、載置位置R4、廃棄位置R5及び退避位置R2それぞれに移動させるようにしているので、るつぼの搬送、廃棄及び電極の清掃を簡単な構成である1つの機構により自動化することができ、また、元素分析装置100を小型化することができる。   According to the elemental analysis device 100 according to the present embodiment configured as described above, the arm unit 31 including the cleaning bodies 311 and 312 for cleaning the upper electrode 12 and the lower electrode 11 and the gripping claws 313 for gripping the crucible R is provided. Since it is rotated and moved to each of the facing position R1, the gripping position R3, the mounting position R4, the discarding position R5, and the retracting position R2, the crucible is transported, discarded, and the electrode is cleaned. It can be automated by one mechanism, and the elemental analyzer 100 can be miniaturized.

さらに回転駆動機構32のアクチュエータ323としてステッピングモータを用いているので、アーム部31の各停止位置の増減、各停止位置の微調整等を容易に行うことができ、元素分析装置100のメンテナンス性を向上させることができ、また、元素分析装置100の使いやすさ及びるつぼRの載置位置R4等の位置精度を向上させることができる。   Further, since a stepping motor is used as the actuator 323 of the rotational drive mechanism 32, the increase and decrease of each stop position of the arm portion 31 and the fine adjustment of each stop position can be easily performed, and the maintainability of the element analyzer 100 can be improved. In addition, it is possible to improve the usability of the elemental analyzer 100 and the position accuracy of the placement position R4 of the crucible R and the like.

<その他の変形実施形態>   <Other modified embodiments>

なお、本発明は前記実施形態に限られるものではない。以下の説明において前記実施形態に対応する部材には同一の符号を付すこととする。   The present invention is not limited to the above embodiment. In the following description, the same reference numerals are given to members corresponding to the above-described embodiment.

例えば、回転駆動機構のアクチュエータとしては、ステッピングモータの他に、サーボモータや回転エアシリンダ等の複数の回転位置で停止可能なアクチュエータを用いることができる。また、回転駆動機構は、直動式のエアシリンダの往復運動を回転運動に変換して、回転軸を回転させる構成でも良い。   For example, an actuator that can be stopped at a plurality of rotational positions, such as a servo motor or a rotating air cylinder, can be used as the actuator of the rotational drive mechanism in addition to the stepping motor. Further, the rotational drive mechanism may be configured to convert the reciprocating motion of the direct acting air cylinder into a rotational motion and rotate the rotating shaft.

前記実施形態では、対向位置にあるアーム部は、設置部昇降機構により昇降移動するものであったが、設置部昇降機構とは異なる専用の昇降機構を設けても良い。   In the above-described embodiment, the arm portion at the facing position is moved up and down by the installation unit lifting mechanism, but a dedicated lifting mechanism different from the installation unit lifting mechanism may be provided.

その他、前述した実施形態や変形実施形態の一部又は全部を適宜組み合わせてよいし、本発明は前記実施形態に限られず、その趣旨を逸脱しない範囲で種々の変形が可能であることは言うまでもない。   In addition, some or all of the above-described embodiments and modified embodiments may be combined as appropriate, and the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention. .

本発明の一実施形態に係る元素分析装置の模式的構成図。The typical block diagram of the elemental analyzer which concerns on one Embodiment of this invention. るつぼ供給機構の模式的構成図。The schematic block diagram of a crucible supply mechanism. 電極部分及び搬送・清掃ユニットを主として示す断面図。Sectional drawing which mainly shows an electrode part and a conveyance / cleaning unit. アーム部の各停止位置を示す図。The figure which shows each stop position of an arm part. アーム部の退避位置R2を示す模式図。The schematic diagram which shows retraction position R2 of an arm part. アーム部の把持位置R3を示す模式図。The schematic diagram which shows the holding position R3 of an arm part. アーム部の載置位置R4を示す模式図。The schematic diagram which shows mounting position R4 of an arm part. アーム部の廃棄位置R5を示す模式図。The schematic diagram which shows the discard position R5 of an arm part. アーム部の対向位置R1を示す模式図。The schematic diagram which shows the opposing position R1 of an arm part. 清掃段階を示す模式図。The schematic diagram which shows a cleaning stage.

符号の説明Explanation of symbols

100 ・・・元素分析装置
R ・・・るつぼ
12 ・・・上部電極
11 ・・・下部電極
23 ・・・るつぼ設置部
3 ・・・搬送・清掃ユニット
31 ・・・アーム部
311、312・・・清掃体(第1清掃体、第2清掃体)
313 ・・・把持部
32 ・・・回転駆動機構
322 ・・・回転軸
R1 ・・・対向位置
R2 ・・・退避位置
R4 ・・・載置位置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 ... Element analyzer R ... Crucible 12 ... Upper electrode 11 ... Lower electrode 23 ... Crucible installation part 3 ... Conveying / cleaning unit 31 ... Arm parts 311, 312, ...・ Cleaning body (first cleaning body, second cleaning body)
313: Grasping part 32 ... Rotation drive mechanism 322 ... Rotating axis R1 ... Opposite position R2 ... Retraction position R4 ... Placement position

Claims (2)

上部電極及び下部電極により、試料を収容するるつぼを持し、当該電極に電圧を印加することにより、前記るつぼを加熱して、それによって生じるガスから前記試料の元素を分析する元素分析装置であって、
るつぼが設置されるるつぼ設置部から下部電極上にるつぼを搬送するとともに、前記上部電極又は下部電極を清掃する搬送・清掃ユニットを備え、
前記搬送・清掃ユニットが、
前記上部電極又は前記下部電極を清掃するための清掃体、及び前記るつぼ設置部に設置されたるつぼを把持する把持部を備えたアーム部と、
前記アーム部を回転軸により支持し、前記清掃体が上部電極又は下部電極と対向する対向位置、前記把持部に把持されたるつぼを下部電極上に載置する載置位置、及び前記対向位置及び前記載置位置から離間した退避位置それぞれに前記アーム部を回転移動して停止させる回転駆動機構と、を備える元素分析装置。
The upper and lower electrodes, a crucible for containing a sample is sandwiched, by applying a voltage to the electrodes, and heating the crucible, an elemental analyzer for analyzing the elemental of the sample from the thereby producing gas There,
While transporting the crucible on the lower electrode from the crucible installation part where the crucible is installed, the transport / cleaning unit for cleaning the upper electrode or the lower electrode,
The transport / cleaning unit is
A cleaning body for cleaning the upper electrode or the lower electrode, and an arm unit having a gripping part for gripping a crucible installed in the crucible installation part;
The arm portion is supported by a rotation shaft, and the cleaning body is opposed to the upper electrode or the lower electrode, the mounting position where the crucible gripped by the gripping portion is mounted on the lower electrode, and the facing position An elemental analysis apparatus comprising: a rotary drive mechanism that rotationally moves and stops the arm unit at each retreat position separated from the mounting position.
前記回転駆動機構が、下部電極上にるつぼを載置する毎に当該下部電極上におけるるつぼの位置が異なるように、前記アーム部を前記載置位置に移動させる毎に当該載置位置が異なるようにしている請求項1記載の元素分析装置。   Each time the rotational driving mechanism moves the crucible on the lower electrode, the placement position changes each time the arm portion is moved to the placement position, so that the crucible position on the lower electrode is different. The elemental analysis apparatus according to claim 1.
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