JP5162941B2 - Transparent conductive film and method for producing the same - Google Patents
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Description
本発明は、導電性、透明性及び塗膜強度に優れ、さらに高湿度環境下に長期間保存しても導電性の低下が小さい透明導電性フィルム及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a transparent conductive film excellent in conductivity, transparency and coating film strength, and having a small decrease in conductivity even when stored for a long time in a high humidity environment, and a method for producing the same.
透明導電性フィルムは、液晶ディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、プラズマディスプレイ、エレクトロクロミックディスプレイ、太陽電池、タッチパネル等の透明電極、ならびに電磁波シールド材等に用いられている。 Transparent conductive films are used for liquid crystal displays, electroluminescence displays, plasma displays, electrochromic displays, solar cells, transparent electrodes such as touch panels, and electromagnetic shielding materials.
広く応用されている透明導電性フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等の透明フィルムの表面の少なくとも一方に、インジウム−スズの複合酸化物(ITO)を真空蒸着法やスパッタリング法等のドライプロセスにて成膜する方法であるが、成膜に高温が必要である、成膜コストが高いという問題点がある。また、フィルム基材上でのITO膜等の無機酸化物膜はフィルム基材の撓みによりクラックが入りやすく、そのため導電性の低下が起こりやすい問題があった。 As a transparent conductive film widely applied, indium-tin composite oxide (ITO) is deposited on at least one surface of a transparent film such as polyethylene terephthalate (PET) or polyethylene naphthalate (PEN) by vacuum deposition or Although it is a method of forming a film by a dry process such as a sputtering method, there is a problem that a high temperature is required for the film formation and the film formation cost is high. In addition, an inorganic oxide film such as an ITO film on a film base material is liable to crack due to the bending of the film base material.
一方、ウェットプロセスによる低温かつ低コストで成膜可能な導電性高分子層を透明フィルムに成膜した透明導電性フィルムが提案されている。導電性高分子により形成される透明導電性層は、膜自体に柔軟性があるため、クラック等の問題が生じにくいが、ITO膜並の導電性を得ることは困難であった。例えば、水分散性が良好なポリ(3,4−ジアルコキシチオフェン)とポリアニオンとの酸化重合体(特許文献1参照)や、さらに近年では導電性高分子の分散液に極性溶媒を添加することで導電性を大きく改良させた材料(特許文献2参照)が開示されているが、まだ十分な導電性が得られていない。この原因として導電性高分子を塗布乾燥したときに、導電性の低いポリアニオンが表層付近に移行しやすいことが知られている(非特許文献1参照)。この問題を解決するために、導電性高分子コーティング液を2回以上に分けて塗布したり、塗膜形成後にコロナ放電処理やプラズマ放電処理でポリアニオン成分を除去する方法(特許文献3参照)が開示されている。しかし、これらの方法でも導電性が不十分であるだけでなく、塗膜強度やフィルム支持体への膜付きを改良するために、バインダーやシラン化合物等を添加する必要性があり、さらに導電性の低下を招いてしまう問題があった。
本発明の目的は、導電性、透明性及び塗膜強度に優れ、さらに高湿度環境下に長期間保存しても導電性の低下が小さい透明導電性フィルム及びその製造方法を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a transparent conductive film excellent in conductivity, transparency and coating film strength, and having a small decrease in conductivity even when stored for a long time in a high humidity environment, and a method for producing the same. .
本発明の上記課題は、以下の構成により達成される。 The above object of the present invention is achieved by the following configurations.
1.透明な基材フィルムの少なくとも一方の面に、ポリアニオンとπ共役高分子を含有する透明導電性塗膜が設けられた透明導電性フィルムであって、前記透明導電性塗膜の上層における前記ポリアニオンに対する前記π共役高分子の割合が、透明導電性塗膜全体の平均値より高いことを特徴とする透明導電性フィルム。 1. A transparent conductive film in which a transparent conductive coating film containing a polyanion and a π-conjugated polymer is provided on at least one surface of a transparent substrate film, wherein the transparent conductive film has an upper layer with respect to the polyanion. A transparent conductive film, wherein the ratio of the π-conjugated polymer is higher than the average value of the entire transparent conductive coating film.
2.透明な基材フィルムの少なくとも一方の面に、ポリアニオン溶液を塗布し、その後、π共役高分子溶液を塗布することを特徴とする透明導電性フィルムの製造方法。 2. A method for producing a transparent conductive film, comprising applying a polyanion solution to at least one surface of a transparent substrate film, and then applying a π-conjugated polymer solution.
3.前記π共役高分子溶液が極性有機溶媒を含有することを特徴とする前記2に記載の透明導電性フィルムの製造方法。 3. 3. The method for producing a transparent conductive film as described in 2 above, wherein the π-conjugated polymer solution contains a polar organic solvent.
4.前記ポリアニオン溶液中のポリアニオンと前記π共役高分子溶液中のπ共役高分の質量比が0.5:1から10:1になるように塗布することを特徴とする前記2または3に記載の透明導電性フィルムの製造方法。 4). 4. The coating composition according to 2 or 3, wherein the polyanion in the polyanion solution and the π-conjugated polymer solution in the π-conjugated polymer solution are applied so that a mass ratio thereof is from 0.5: 1 to 10: 1. A method for producing a transparent conductive film.
本発明により、導電性、透明性及び塗膜強度に優れ、さらに高湿度環境下に長期間保存しても導電性の低下が小さい透明導電性フィルムを提供することができる。この透明導電性フィルムは、液晶ディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、プラズマディスプレイ、エレクトロクロミックディスプレイ、太陽電池等の透明電極として好ましく使用することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a transparent conductive film which is excellent in conductivity, transparency and coating film strength, and has a small decrease in conductivity even when stored for a long time in a high humidity environment. This transparent conductive film can be preferably used as a transparent electrode for liquid crystal displays, electroluminescence displays, plasma displays, electrochromic displays, solar cells and the like.
本発明者等は上記課題を解決するため鋭意検討を行った結果、透明な基材フィルム上に設けられた透明導電性塗膜において、透明導電性塗膜上層のポリアニオンに対するπ共役高分子の割合を、透明導電性塗膜全体の平均値より高くすることで、本発明の効果、すなわち、導電性、透明性及び塗膜強度に優れ、さらに高湿度環境下に長期間保存しても導電性の低下が小さい透明導電性フィルムを得ることに成功した。 As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that the ratio of the π-conjugated polymer to the polyanion of the transparent conductive film upper layer in the transparent conductive film provided on the transparent substrate film Is higher than the average value of the entire transparent conductive coating film, so that the effect of the present invention, that is, excellent conductivity, transparency and coating film strength, and conductivity even when stored for a long time in a high humidity environment. Succeeded in obtaining a transparent conductive film with a small decrease in the thickness.
一般に導電性高分子は着色しており、高い導電性を得るために導電性塗膜を厚くすると透明性が劣化してしまう。本発明では、導電性の高いπ共役高分子を上層(表面に近い層)に多く含有させることで、高い透明性を維持したまま導電性も高くできるものと思われる。ここで上層とは、乾燥後の透明導電性塗膜の膜厚の半分より表面に近い側を意味する。さらに、透明導電性塗膜の膜厚の1/3より表面に近い側の、ポリアニリンに対するπ共役高分子の割合が、透明導電性塗膜全体の平均値より高くすることが好ましい。 In general, the conductive polymer is colored, and if the conductive coating film is thickened to obtain high conductivity, the transparency is deteriorated. In the present invention, it is considered that the conductivity can be increased while maintaining high transparency by containing a large amount of π-conjugated polymer having high conductivity in the upper layer (layer close to the surface). Here, the upper layer means a side closer to the surface than half the film thickness of the transparent conductive coating film after drying. Furthermore, it is preferable that the ratio of the π-conjugated polymer to polyaniline on the side closer to the surface than 1/3 of the film thickness of the transparent conductive coating film is higher than the average value of the entire transparent conductive coating film.
ポリアニオンに対するπ共役高分子の割合が、上層で透明導電性塗膜膜厚全体の平均値より多いことは、ESCA(Electron Spectroscopy for Chemical Analysis)等を用いて、ミクロトーム等で超薄膜に切り出した切片の厚さ方向に何箇所か測定したり、デプスプロファイル測定をすることで求められる。 The ratio of the π-conjugated polymer to the polyanion is higher than the average value of the total thickness of the transparent conductive coating film in the upper layer. The section cut into an ultrathin film using a microtome or the like using ESCA (Electron Spectroscopy for Chemical Analysis) or the like. It is obtained by measuring several places in the thickness direction of the film or by measuring the depth profile.
また、基材フィルムに、ポリアニオンを塗布した後に、π共役高分子を積層塗布する透明導電性フィルムの製造方法により、本発明の効果、すなわち、導電性、透明性及び塗膜強度に優れ、さらに高湿度環境下に長期間保存しても導電性の低下が小さい透明導電性フィルムの製造方法を得ることに成功した。 In addition, according to the method for producing a transparent conductive film in which a π-conjugated polymer is laminated and applied after applying a polyanion to a base film, the effect of the present invention, that is, conductivity, transparency and coating strength are excellent. We have succeeded in obtaining a method for producing a transparent conductive film in which the decrease in conductivity is small even when stored for a long time in a high humidity environment.
以下、本発明を詳しく説明する。 The present invention will be described in detail below.
(π共役高分子)
本発明に用いられるπ共役高分子としては、主鎖がπ共役系で構成されている有機高分子であればよく、例えばポリピロール類、ポリチオフェン類、ポリアセチレン類、ポリフェニレン類、ポリフェニレンビニレン類、ポリアニリン類、ポリアセン類、ポリチオフェンビニレン類、及びこれらの共重合体等が挙げられる。これらの中でも、ポリピロール類、ポリチオフェン類及びポリアニリン類が好ましい。
(Π-conjugated polymer)
The π-conjugated polymer used in the present invention may be an organic polymer whose main chain is composed of a π-conjugated system. For example, polypyrroles, polythiophenes, polyacetylenes, polyphenylenes, polyphenylene vinylenes, polyanilines , Polyacenes, polythiophene vinylenes, and copolymers thereof. Among these, polypyrroles, polythiophenes, and polyanilines are preferable.
本発明に用いられるπ共役高分子は、無置換のままでも、アルキル基、カルボキシ基、スルホ基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、シアノ基等の官能基で置換してもよい。 The π-conjugated polymer used in the present invention may be unsubstituted or substituted with a functional group such as an alkyl group, a carboxy group, a sulfo group, an alkoxy group, a hydroxy group, or a cyano group.
このようなπ共役高分子の具体例としては、ポリピロール、ポリ(N−メチルピロール)、ポリ(3−メチルピロール)、ポリ(3−エチルピロール)、ポリ(3−n−プロピルピロール)、ポリ(3−ブチルピロール)、ポリ(3−オクチルピロール)、ポリ(3−デシルピロール)、ポリ(3−ドデシルピロール)、ポリ(3,4−ジメチルピロール)、ポリ(3,4−ジブチルピロール)、ポリ(3−カルボキシピロール)、ポリ(3−メチル−4−カルボキシピロール)、ポリ(3−メチル−4−カルボキシエチルピロール)、ポリ(3−メチル−4−カルボキシブチルピロール)、ポリ(3−ヒドロキシピロール)、ポリ(3−メトキシピロール)、ポリ(3−エトキシピロール)、ポリ(3−ブトキシピロール)、ポリ(3−ヘキシルオキシピロール)、ポリ(3−メチル−4−ヘキシルオキシピロール)、ポリ(3−メチル−4−ヘキシルオキシピロール)、ポリ(チオフェン)、ポリ(3−メチルチオフェン)、ポリ(3−エチルチオフェン)、ポリ(3−プロピルチオフェン)、ポリ(3−ブチルチオフェン)、ポリ(3−ヘキシルチオフェン)、ポリ(3−ヘプチルチオフェン)、ポリ(3−オクチルチオフェン)、ポリ(3−デシルチオフェン)、ポリ(3−ドデシルチオフェン)、ポリ(3−オクタデシルチオフェン)、ポリ(3−ブロモチオフェン)、ポリ(3−クロロチオフェン)、ポリ(3−ヨードチオフェン)、ポリ(3−シアノチオフェン)、ポリ(3−フェニルチオフェン)、ポリ(3,4−ジメチルチオフェン)、ポリ(3,4−ジブチルチオフェン)、ポリ(3−ヒドロキシチオフェン)、ポリ(3−メトキシチオフェン)、ポリ(3−エトキシチオフェン)、ポリ(3−ブトキシチオフェン)、ポリ(3−ヘキシルオキシチオフェン)、ポリ(3−ヘプチルオキシチオフェン)、ポリ(3−オクチルオキシチオフェン)、ポリ(3−デシルオキシチオフェン)、ポリ(3−ドデシルオキシチオフェン)、ポリ(3−オクタデシルオキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジヒドロキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジメトキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジエトキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジプロポキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジブトキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジヘキシルオキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジヘプチルオキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジオクチルオキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジデシルオキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジドデシルオキシチオフェン)、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)、ポリ(3,4−プロピレンジオキシチオフェン)、ポリ(3,4−ブテンジオキシチオフェン)、ポリ(3−メチル−4−メトキシチオフェン)、ポリ(3−メチル−4−エトキシチオフェン)、ポリ(3−カルボキシチオフェン)、ポリ(3−メチル−4−カルボキシチオフェン)、ポリ(3−メチル−4−カルボキシエチルチオフェン)、ポリ(3−メチル−4−カルボキシブチルチオフェン)、ポリアニリン、ポリ(2−メチルアニリン)、ポリ(3−イソブチルアニリン)、ポリ(2−アニリンスルホン酸)、ポリ(3−アニリンスルホン酸)等が挙げられる。 Specific examples of such π-conjugated polymers include polypyrrole, poly (N-methylpyrrole), poly (3-methylpyrrole), poly (3-ethylpyrrole), poly (3-n-propylpyrrole), poly (3-butylpyrrole), poly (3-octylpyrrole), poly (3-decylpyrrole), poly (3-dodecylpyrrole), poly (3,4-dimethylpyrrole), poly (3,4-dibutylpyrrole) , Poly (3-carboxypyrrole), poly (3-methyl-4-carboxypyrrole), poly (3-methyl-4-carboxyethylpyrrole), poly (3-methyl-4-carboxybutylpyrrole), poly (3 -Hydroxypyrrole), poly (3-methoxypyrrole), poly (3-ethoxypyrrole), poly (3-butoxypyrrole), poly (3- Siloxypyrrole), poly (3-methyl-4-hexyloxypyrrole), poly (3-methyl-4-hexyloxypyrrole), poly (thiophene), poly (3-methylthiophene), poly (3-ethylthiophene) ), Poly (3-propylthiophene), poly (3-butylthiophene), poly (3-hexylthiophene), poly (3-heptylthiophene), poly (3-octylthiophene), poly (3-decylthiophene), Poly (3-dodecylthiophene), poly (3-octadecylthiophene), poly (3-bromothiophene), poly (3-chlorothiophene), poly (3-iodothiophene), poly (3-cyanothiophene), poly ( 3-phenylthiophene), poly (3,4-dimethylthiophene), poly (3,4-dibutylthio) Offene), poly (3-hydroxythiophene), poly (3-methoxythiophene), poly (3-ethoxythiophene), poly (3-butoxythiophene), poly (3-hexyloxythiophene), poly (3-heptyloxy) Thiophene), poly (3-octyloxythiophene), poly (3-decyloxythiophene), poly (3-dodecyloxythiophene), poly (3-octadecyloxythiophene), poly (3,4-dihydroxythiophene), poly (3,4-dimethoxythiophene), poly (3,4-diethoxythiophene), poly (3,4-dipropoxythiophene), poly (3,4-dibutoxythiophene), poly (3,4-dihexyloxy) Thiophene), poly (3,4-diheptyloxythiophene), poly (3,4 Dioctyloxythiophene), poly (3,4-didecyloxythiophene), poly (3,4-didodecyloxythiophene), poly (3,4-ethylenedioxythiophene), poly (3,4-propylenedioxy) Thiophene), poly (3,4-butenedioxythiophene), poly (3-methyl-4-methoxythiophene), poly (3-methyl-4-ethoxythiophene), poly (3-carboxythiophene), poly (3 -Methyl-4-carboxythiophene), poly (3-methyl-4-carboxyethylthiophene), poly (3-methyl-4-carboxybutylthiophene), polyaniline, poly (2-methylaniline), poly (3-isobutyl Aniline), poly (2-aniline sulfonic acid), poly (3-aniline sulfonic acid), etc. It is.
これらの中でも、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリ(N−メチルピロール)、ポリ(3−メチルチオフェン)、ポリ(3−メトキシチオフェン)、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)から選ばれる重合体または共重合体が、抵抗値、反応性の点から好適に用いられる。特に、下記一般式(1)で表されるポリチオフェンが好ましい。 Among these, polymers or copolymers selected from polypyrrole, polythiophene, poly (N-methylpyrrole), poly (3-methylthiophene), poly (3-methoxythiophene), poly (3,4-ethylenedioxythiophene). A polymer is preferably used from the viewpoint of resistance and reactivity. In particular, polythiophene represented by the following general formula (1) is preferable.
(式中、R1及びR2は、相互に独立して水素原子または炭素数1〜4のアルキル基、または結合して置換されてもよい炭素数1〜12のアルキレン基を表す。)
(ポリアニオン)
本発明に用いられるポリアニオンとしては、高分子状カルボン酸塩、高分子状スルホン酸が挙げられる。
(In the formula, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms which may be bonded and substituted.)
(Polyanion)
Examples of the polyanion used in the present invention include polymeric carboxylates and polymeric sulfonic acids.
高分子状カルボン酸としては、例えばポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリマレイン酸等が挙げられる。高分子状スルホン酸としては、リスチレンスルホン酸、ポリビニルスルホン酸等が挙げられる。これらの高分子状カルボン酸及びスルホン酸類は、ビニルカルボン酸及びビニルスルホン酸類と、他の重合可能な低分子化合物、例えばアクリレート類及びスチレン等との共重合体であってもよい。 Examples of the polymeric carboxylic acid include polyacrylic acid, polymethacrylic acid, and polymaleic acid. Examples of the polymeric sulfonic acid include restyrene sulfonic acid and polyvinyl sulfonic acid. These polymeric carboxylic acids and sulfonic acids may be copolymers of vinyl carboxylic acids and vinyl sulfonic acids with other polymerizable low molecular compounds such as acrylates and styrene.
本発明に用いられるポリアニオンの具体例としては、ポリビニルスルホン酸、ポリスチレンスルホン酸、ポリアリルスルホン酸、ポリアクリルスルホン酸、ポリメタクリルスルホン酸、ポリ−2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸、ポリビニルカルボン酸、ポリスチレンカルボン酸、ポリアリルカルボン酸、ポリアクリルカルボン酸、ポリメタクリルカルボン酸、ポリ−2−アクリルアミド−2−メチルプロパンカルボン酸、ポリイソプレンカルボン酸、ポリアクリル酸等が挙げられる。これらの単独重合体であってもよいし、2種以上の共重合体であってもよい。これらポリアニオンの中でも、ポリアクリルスルホン酸、ポリメタクリルスルホン酸、ポリスチレンスルホン酸、及びその全てもしくは一部が金属塩であるものが好ましく用いられる。特にポリスチレンスルホン酸が最も好ましい。かかるポリアニオンの数平均分子量は、1,000〜2,000,000の範囲が適当であり、2,000〜500,000の範囲が好ましい。 Specific examples of the polyanion used in the present invention include polyvinyl sulfonic acid, polystyrene sulfonic acid, polyallyl sulfonic acid, polyacryl sulfonic acid, polymethacryl sulfonic acid, poly-2-acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid, polyisoprene. Examples include sulfonic acid, polyvinyl carboxylic acid, polystyrene carboxylic acid, polyallyl carboxylic acid, polyacryl carboxylic acid, polymethacryl carboxylic acid, poly-2-acrylamido-2-methylpropane carboxylic acid, polyisoprene carboxylic acid, polyacrylic acid and the like. It is done. These homopolymers may be sufficient and 2 or more types of copolymers may be sufficient. Among these polyanions, polyacryl sulfonic acid, polymethacryl sulfonic acid, polystyrene sulfonic acid, and all or part of which are metal salts are preferably used. In particular, polystyrene sulfonic acid is most preferable. The number average molecular weight of such a polyanion is suitably in the range of 1,000 to 2,000,000, and preferably in the range of 2,000 to 500,000.
本発明において、ポリアニオンとπ共役高分子の比率は、π共役高分子1gに対してポリアニオンが0.5〜10gの範囲であることが好ましく、1〜5gの範囲であることがより好ましい。ポリアニオンの含有量が0.5g未満の場合には、塗膜強度が弱くなり、10gより多い場合には、十分な導電性が得られない。 In the present invention, the ratio of the polyanion to the π-conjugated polymer is preferably in the range of 0.5 to 10 g and more preferably in the range of 1 to 5 g with respect to 1 g of the π-conjugated polymer. When the polyanion content is less than 0.5 g, the coating film strength is weak, and when it is more than 10 g, sufficient conductivity cannot be obtained.
本発明に用いられるπ共役高分子には、ポリアニオン以外に他のドーパントを含んでもよい。他のドーパントとしては、π共役高分子を酸化還元できればドナー性のものであっても、アクセプタ性のものであってもよい。ドナー性ドーパントとしては、例えば、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、カルシウム、マグネシウム等のアルカリ土類金属、テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、テトラプロピルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム、メチルトリエチルアンモニウム、ジメチルジエチルアンモニウム等の4級アミン化合物等が挙げられる。アクセプタ性ドーパントとしては、例えば、ハロゲン化合物、ルイス酸、プロトン酸、有機シアノ化合物、有機金属化合物、フラーレン、水素化フラーレン、水酸化フラーレン、カルボン酸化フラーレン、スルホン酸化フラーレン等が挙げられる。 The π-conjugated polymer used in the present invention may contain other dopants in addition to the polyanion. Other dopants may be donor or acceptor as long as the π-conjugated polymer can be oxidized and reduced. Examples of the donor dopant include alkali metals such as sodium and potassium, alkaline earth metals such as calcium and magnesium, tetramethylammonium, tetraethylammonium, tetrapropylammonium, tetrabutylammonium, methyltriethylammonium, dimethyldiethylammonium, and the like. A quaternary amine compound etc. are mentioned. Examples of the acceptor dopant include halogen compounds, Lewis acids, proton acids, organic cyano compounds, organometallic compounds, fullerenes, hydrogenated fullerenes, hydroxylated fullerenes, carboxylated fullerenes, and sulfonated fullerenes.
(透明導電性フィルムの製造方法)
本発明の透明導電性フィルムは、フィルム基材にポリアニオン溶液を塗布し、次いでπ共役高分子溶液を塗布積層して透明導電性塗膜を形成することで得られる。ポリアニオン溶液とπ共役高分子溶液の塗布は交互に繰り返して塗布しても構わない。ただし、その場合には、π共役高分子溶液の塗布が最上層(最後の塗布)になることが重要である。
(Method for producing transparent conductive film)
The transparent conductive film of the present invention is obtained by applying a polyanion solution to a film substrate and then applying and laminating a π-conjugated polymer solution to form a transparent conductive coating film. The polyanion solution and the π-conjugated polymer solution may be applied alternately and repeatedly. However, in that case, it is important that the application of the π-conjugated polymer solution is the uppermost layer (last application).
塗布する方法としては、例えばリップダイレクト法、コンマコーター法、スリットリバース法、ダイコーター法、グラビアロールコーター法、ブレードコーター法、スプレーコーター法、エアーナイフコート法、ディップコート法、バーコーター法等、従来公知の方法を採用することができる。 Examples of the application method include a lip direct method, a comma coater method, a slit reverse method, a die coater method, a gravure roll coater method, a blade coater method, a spray coater method, an air knife coat method, a dip coat method, and a bar coater method. Conventionally known methods can be employed.
塗布前に、フィルム基材表面をカチオン変成(カチオン電荷付与)しておくことが好ましい。この理由としては、基材表面の電荷密度が高い方が、基材上に均一にポリアニオンの層を形成でき、一方、基材上に高分子電解質膜を形成することにより、電荷密度を高くすることができる。従って、高分子電解質膜を基材上に形成し、この高分子電解質膜とポリアニオンとの静電的相互作用によりポリアニオンが均一に付着した層とすることができるからである。 Prior to coating, the surface of the film substrate is preferably subjected to cation modification (cation charge imparting). The reason for this is that when the charge density on the substrate surface is higher, a polyanion layer can be uniformly formed on the substrate, while the polymer electrolyte membrane is formed on the substrate to increase the charge density. be able to. Therefore, a polymer electrolyte membrane can be formed on a substrate, and a layer in which the polyanion is uniformly attached can be formed by electrostatic interaction between the polymer electrolyte membrane and the polyanion.
基材表面にカチオン電荷を付与する方法としては、カチオン性高分子電解質の塗布、高分子電解質多層膜の形成等が挙げられる。 Examples of a method for imparting a cationic charge to the substrate surface include application of a cationic polymer electrolyte, formation of a polymer electrolyte multilayer film, and the like.
カチオン性高分子電解質としては、ポリアリルアミン塩酸塩、ポリエチレンイミン、ポリジアリルジメチルアンモニウムクロリド等が好ましい。 As the cationic polymer electrolyte, polyallylamine hydrochloride, polyethyleneimine, polydiallyldimethylammonium chloride and the like are preferable.
なお、基材表面は疎水性であることが多いため、基材表面に、コロナ放電処理、グロー放電処理、プラズマ処理、加水分解処理、シランカップリング処理の少なくとも一つを施した後、高分子電解質塗布または高分子電解質多層膜形成を行なうことも可能であり、好ましい方法である。 Since the substrate surface is often hydrophobic, the polymer surface is subjected to at least one of corona discharge treatment, glow discharge treatment, plasma treatment, hydrolysis treatment, and silane coupling treatment, and then polymer It is also possible to perform electrolyte coating or polymer electrolyte multilayer film formation, which is a preferred method.
乾燥後の透明導電性塗膜の膜厚は50〜500nm、好ましくは70〜200nmが適当である。50nm未満では、十分な導電性が得られず、500nmより厚い場合には透明性が悪くなる。 The thickness of the transparent conductive coating film after drying is 50 to 500 nm, preferably 70 to 200 nm. If it is less than 50 nm, sufficient conductivity cannot be obtained, and if it is thicker than 500 nm, the transparency is deteriorated.
ポリアニオン溶液、π共役高分子溶液の溶媒としては、例えば水、メタノール、エタノール等のアルコール類、アセトン等のケトン類、ヘキサン、トルエン等の炭化水素類、酢酸等のカルボン酸等が挙げられ、これらの溶媒は、単独でも2種以上の混合物のいずれでもよい。 Examples of the solvent for the polyanion solution and the π-conjugated polymer solution include water, alcohols such as methanol and ethanol, ketones such as acetone, hydrocarbons such as hexane and toluene, carboxylic acids such as acetic acid, and the like. These solvents may be used alone or as a mixture of two or more.
さらにπ共役高分子溶液には、透明導電層の耐久性に悪影響を起こさない範囲で、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホオキシド等の極性有機溶媒を少量添加しておくことが好ましい。極性有機溶媒の添加量は、π共役高分子1質量%水溶液に対して0.5〜50質量%、好ましくは1〜10質量%である。50質量%より多い場合には、膜の耐久性が劣化するだけでなく、ヘイズが増大し、透明性も劣化する。0.5質量%未満では極性有機溶媒を添加した効果が得られない。 Furthermore, a small amount of a polar organic solvent such as diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide or the like is added to the π-conjugated polymer solution within a range that does not adversely affect the durability of the transparent conductive layer. It is preferable. The addition amount of the polar organic solvent is 0.5 to 50% by mass, preferably 1 to 10% by mass with respect to the 1% by mass aqueous solution of the π-conjugated polymer. When it is more than 50% by mass, not only the durability of the film is deteriorated, but also haze is increased and transparency is also deteriorated. If it is less than 0.5 mass%, the effect of adding a polar organic solvent cannot be obtained.
(基材フィルム)
本発明に用いられる基材フィルムとしては、用途に応じて任意のものを用いることができ、例えばポリエステル、ポリスチレン、ポリイミド、ポリアミド、ポリスルホン、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、並びにこれらの混合物及び共重合体、さらにはフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ABS樹脂等からなるフィルムを挙げることができる。これらの中でも、二軸配向したポリエステルフィルムが、寸法安定性、機械的性質、耐熱性、電気的性質等に優れた性質を有することから好ましく、特にポリエチレンテレフタレートフィルムまたはポリエチレン−2,6−ナフタレートフィルムが、高ヤング率等の機械的特性に優れ、耐熱寸法安定性にも優れているため好ましい。なお、ポリエステルフィルムの厚みは500μm以下が好ましく、これを超える場合には剛性が強くなりすぎ、取扱い性が低下しやすい。
(Base film)
As the base film used in the present invention, any film can be used depending on the application, for example, polyester, polystyrene, polyimide, polyamide, polysulfone, polycarbonate, polyvinyl chloride, polyethylene, polypropylene, and mixtures thereof. Examples thereof include a film made of a copolymer, and further a phenol resin, an epoxy resin, an ABS resin, or the like. Among these, a biaxially oriented polyester film is preferable because it has excellent properties such as dimensional stability, mechanical properties, heat resistance, and electrical properties, and particularly polyethylene terephthalate film or polyethylene-2,6-naphthalate. A film is preferable because it is excellent in mechanical properties such as a high Young's modulus and excellent in heat-resistant dimensional stability. The thickness of the polyester film is preferably 500 μm or less, and if it exceeds this, the rigidity becomes too strong and the handleability tends to be lowered.
本発明の透明導電性フィルムの透明度としては、全光線透過率が70%以上、好ましくは80%以上である。全光線透過率が70%未満では、透明性が不十分であり、液晶ディスプレイ等に用いるには好ましくない。 As the transparency of the transparent conductive film of the present invention, the total light transmittance is 70% or more, preferably 80% or more. When the total light transmittance is less than 70%, the transparency is insufficient and it is not preferable for use in a liquid crystal display or the like.
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。なお、実施例において「%」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量%」を表す。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated concretely, this invention is not limited to these. In addition, although the display of "%" is used in an Example, unless otherwise indicated, "mass%" is represented.
実施例
〔透明導電性フィルムの作製〕
(試料101の作製)
100μmのPETフィルムの片面にコロナ放電処理を施した後、コロナ放電処理した面側にワイヤーバーを用いてポリスチレンスルホン酸(分子量4000)10%水溶液を乾燥後の膜厚が107nmになるように塗布し、120℃で乾燥した。さらにこの上に、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)を1%分散した水溶液にジメチルスルホオキシドを5%添加した塗布液を、乾燥後の膜厚が150nmになるように塗布し、150℃で乾燥させ、試料101(透明導電性フィルム)を作製した。
Example [Production of transparent conductive film]
(Preparation of sample 101)
After corona discharge treatment was applied to one side of a 100 μm PET film, a 10% aqueous solution of polystyrenesulfonic acid (molecular weight 4000) was applied to the corona discharge-treated surface side using a wire bar so that the film thickness after drying was 107 nm. And dried at 120 ° C. Furthermore, a coating solution in which 5% of dimethyl sulfoxide was added to an aqueous solution in which 1% of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) was dispersed thereon was applied so that the film thickness after drying was 150 nm. It dried at ° C and produced sample 101 (transparent conductive film).
(試料102〜107の作製)
試料101の作製において、乾燥膜厚が150nmになるように、ポリスチレンスルホン酸とポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)の乾燥後の含有比率を表1のように変更した以外は同様にして、試料102〜107を作製した。
(Production of samples 102 to 107)
In the preparation of Sample 101, the content ratio after drying of polystyrene sulfonic acid and poly (3,4-ethylenedioxythiophene) was changed as shown in Table 1 so that the dry film thickness was 150 nm. Samples 102 to 107 were produced.
(試料108〜110の作製)
試料101の作製において、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)を1%分散した水溶液に添加するジメチルスルホオキシドの添加量を9%と未添加に変更した以外は同様にして、それぞれ試料108、109を作製した。また、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)を1%分散させた水溶液に添加するジメチルスルホオキシドをジエチレングリコール5%に変更した以外は同様にして、試料110を作製した。
(Production of samples 108 to 110)
Sample 108 was prepared in the same manner except that the amount of dimethyl sulfoxide added to an aqueous solution in which 1% poly (3,4-ethylenedioxythiophene) was dispersed was changed to 9% and not added. 109 were produced. A sample 110 was prepared in the same manner except that dimethyl sulfoxide added to an aqueous solution in which 1% poly (3,4-ethylenedioxythiophene) was dispersed was changed to 5% diethylene glycol.
(試料111、112の作製)
試料101の作製において、ポリスチレンスルホン酸10%水溶液を塗布、乾燥後の膜厚を50nm、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)を1%分散した水溶液にジメチルスルホオキシドを5%添加した塗布液の塗布後の全膜厚を70nmにしたものを試料111、ポリスチレンスルホン酸10%水溶液を塗布、乾燥後の膜厚を200nm、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)を1%分散した水溶液にジメチルスルホオキシドを5%添加した塗布液の塗布後の全膜厚を280nmにしたものを試料112とした。
(Preparation of samples 111 and 112)
In the preparation of Sample 101, a 10% aqueous solution of polystyrene sulfonic acid was applied, the film thickness after drying was 50 nm, and 5% dimethyl sulfoxide was added to an aqueous solution in which 1% of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) was dispersed. Sample 111 having a total film thickness of 70 nm after application of the liquid was coated with a 10% aqueous solution of polystyrene sulfonic acid, the film thickness after drying was 200 nm, and poly (3,4-ethylenedioxythiophene) was dispersed 1%. Sample 112 was prepared by adding a coating solution obtained by adding 5% of dimethyl sulfoxide to an aqueous solution so that the total film thickness after coating was 280 nm.
(試料113の作製)
試料101の作製と同様のコロナ放電処理を施したPETフィルムに、ワイヤーバーを用いてポリスチレンスルホン酸(分子量4000)10%水溶液を乾燥後の膜厚が72nmになるように塗布し、120℃で乾燥した。さらにこの上に、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)を1%分散させた水溶液にジメチルスルホオキシドを5%添加した塗布液を乾燥後の膜厚が85nmになるように塗布し、120℃で乾燥した。さらに、この塗膜の上にもう一度同じポリスチレンスルホン酸水溶液を乾燥後の膜厚が120nm、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)を1%分散させた水溶液にジメチルスルホオキシドを5%添加した塗布液を乾燥後の膜厚が150nmになるようにこの順で塗布し、試料113を作製した。
(Preparation of sample 113)
Using a wire bar, a 10% aqueous solution of polystyrene sulfonic acid (molecular weight 4000) was applied to a PET film that had been subjected to the same corona discharge treatment as that for the preparation of Sample 101 so that the film thickness after drying would be 72 nm, at 120 ° C. Dried. Furthermore, a coating solution in which 5% of dimethyl sulfoxide was added to an aqueous solution in which 1% of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) was dispersed thereon was applied so that the film thickness after drying was 85 nm. Dried at ℃. Furthermore, 5% of dimethyl sulfoxide was added to an aqueous solution in which the same polystyrene sulfonic acid aqueous solution was dried once again on this coating film with a thickness of 120 nm and poly (3,4-ethylenedioxythiophene) was dispersed by 1%. The coating solution was applied in this order so that the film thickness after drying was 150 nm, and sample 113 was produced.
(試料114の作製)
試料101の作製において、PETフィルム上に予めポリジアリルジメチルアンモニウムクロライドを塗布した以外は同様にして、試料114を作製した。
(Preparation of sample 114)
Sample 114 was prepared in the same manner as in the preparation of Sample 101 except that polydiallyldimethylammonium chloride was previously applied onto a PET film.
(試料115、116の作製)
あらかじめポリスチレンスルホン酸の存在下で重合したポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)(BaytronP、固形分濃度約1.3%:H.C.Starck製)を用いて、試料101と同じPETフィルム上に乾燥後の膜厚が150nmになるように塗布した後、120℃で乾燥し、試料115を作製した。
(Preparation of samples 115 and 116)
The same PET film as sample 101 using poly (3,4-ethylenedioxythiophene) polymerized in the presence of polystyrene sulfonic acid (BaytronP, solid content concentration of about 1.3%: manufactured by HC Starck) A sample 115 was prepared by coating the film so that the film thickness after drying was 150 nm, and drying at 120 ° C.
さらに、BaytronPにジエチレングリコールを2.5%添加した液を乾燥後の膜厚が100nmになるように塗布、乾燥した後、もう一度その上に同じ液を乾燥後の全膜厚が150nmになるように塗布、乾燥して、試料116を作製した。 Furthermore, after applying and drying a solution obtained by adding 2.5% of diethylene glycol to BaytronP so that the film thickness after drying is 100 nm, the same liquid is again deposited thereon so that the total film thickness after drying is 150 nm. The sample 116 was produced by coating and drying.
〔透明導電性フィルムの測定及び評価〕
以上のようにして得られた透明導電性フィルム試料101〜116について、以下の方法で、透明導電性塗膜の上層のポリスチレンスルホン酸に対するポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)の割合を測定し、全光線透過率、表面抵抗率、塗膜強度及び高湿度保存後表面抵抗率の評価を行った。
[Measurement and evaluation of transparent conductive film]
With respect to the transparent conductive film samples 101 to 116 obtained as described above, the ratio of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) to polystyrenesulfonic acid in the upper layer of the transparent conductive coating film is measured by the following method. The total light transmittance, surface resistivity, coating film strength, and surface resistivity after high humidity storage were evaluated.
(上層のポリスチレンスルホン酸に対するポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)の割合)
透明導電性フィルムをミクロトームで表面に垂直方向に切り出し、VGサイエンティフィックス社製のESCALAB−200Rを用いて、チオフェン起因のピーク強度より算出した。
(Ratio of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) to polystyrenesulfonic acid in the upper layer)
The transparent conductive film was cut out in a direction perpendicular to the surface with a microtome and calculated from the peak intensity due to thiophene using ESCALAB-200R manufactured by VG Scientific.
(全光線透過率)
JIS K7150に従い、スガ試験機(株)製のヘイズメーターHCM−2Bにて全光線透過率を測定した。
(Total light transmittance)
According to JIS K7150, the total light transmittance was measured with a haze meter HCM-2B manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.
(表面抵抗率)
JIS K7194に準拠して、三菱化学社製ロレスターGP(MCP−T610型)を用いて、表面抵抗率を測定した。測定は対角35.56cm(14インチ)の長方形(17.43cm×30.99cm)サイズの中で任意の50点をサンプリングして行い、その平均値を表面抵抗値として求めた。
(Surface resistivity)
In accordance with JIS K7194, the surface resistivity was measured using a Lorester GP (MCP-T610 type) manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation. The measurement was performed by sampling 50 arbitrary points in a rectangular (17.43 cm × 30.99 cm) size having a diagonal size of 35.56 cm (14 inches), and the average value was obtained as the surface resistance value.
(塗膜強度)
透明導電性フィルムの最上層の透明導電性膜を親指にて同一場所を3回こすり、塗膜の状態を目視で観察し、下記基準で評価した。
(Coating strength)
The transparent conductive film of the uppermost layer of the transparent conductive film was rubbed with the thumb three times at the same place, the state of the coating film was visually observed, and evaluated according to the following criteria.
◎:塗膜上にこすり剥がれた跡が全く見られない
○:塗膜上にこすり剥がれた跡がわずかに見られるが、性能上問題ない
△:塗膜上にこすり剥がれた跡が少し見られる
×:塗膜上にこすり剥がれた跡がはっきり見られる
(高湿度保存後表面抵抗率)
透明導電性フィルムを60℃、90%RH環境下に30日間放置した後、室温条件で上記表面抵抗率の測定と同様にして表面抵抗率を測定した。
◎: No trace of rubbing on the coating film is observed ○: Trace of rubbing on the coating film is slightly seen, but there is no problem in performance △: Some trace of rubbing on the coating film is seen X: A trace of rubbing on the coating film is clearly seen (surface resistivity after high humidity storage)
The transparent conductive film was left in an environment of 60 ° C. and 90% RH for 30 days, and then the surface resistivity was measured in the same manner as the measurement of the surface resistivity at room temperature.
測定及び評価の結果を表2に示す。 The results of measurement and evaluation are shown in Table 2.
表2から分かるように、本発明の試料は導電性、透明性及び塗膜強度に優れ、さらに高湿度環境下に長期間保存しても導電性の低下をほとんど起こさないことが分かる。 As can be seen from Table 2, it can be seen that the sample of the present invention is excellent in conductivity, transparency and coating film strength, and hardly deteriorates in conductivity even when stored for a long time in a high humidity environment.
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