JP5199786B2 - Method for acquiring drawing region divided data amount and drawing data divided region data amount acquisition device - Google Patents
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Description
本発明は、描画データの分割領域データ量の取得方法及び描画データの分割領域データ量の取得装置に関する。例えば、電子ビームを用いて試料に所定のパターンを描画する描画装置で使用する描画データの分割領域データ量の取得方法および装置に関する。 The present invention relates to a method for acquiring a divided area data amount of drawing data and a device for acquiring a divided area data amount of drawing data. For example, the present invention relates to a method and an apparatus for acquiring a divided area data amount of drawing data used in a drawing apparatus that draws a predetermined pattern on a sample using an electron beam.
半導体デバイスの微細化の進展を担うリソグラフィ技術は半導体製造プロセスのなかでも唯一パターンを生成する極めて重要なプロセスである。近年、LSIの高集積化に伴い、半導体デバイスに要求される回路線幅は年々微細化されてきている。これらの半導体デバイスへ所望の回路パターンを形成するためには、高精度の原画パターン(レチクル或いはマスクともいう。)が必要となる。ここで、電子線(電子ビーム)描画技術は本質的に優れた解像性を有しており、高精度の原画パターンの生産に用いられる。 Lithography technology, which is responsible for the progress of miniaturization of semiconductor devices, is an extremely important process for generating a pattern among semiconductor manufacturing processes. In recent years, with the high integration of LSI, circuit line widths required for semiconductor devices have been reduced year by year. In order to form a desired circuit pattern on these semiconductor devices, a highly accurate original pattern (also referred to as a reticle or a mask) is required. Here, the electron beam (electron beam) drawing technique has an essentially excellent resolution, and is used for producing a high-precision original pattern.
図14は、従来の可変成形型電子線描画装置の動作を説明するための概念図である。
可変成形型電子線(EB:Electron beam)描画装置は、以下のように動作する。第1のアパーチャ410には、電子線330を成形するための矩形例えば長方形の開口411が形成されている。また、第2のアパーチャ420には、開口411を通過した電子線330を所望の矩形形状に成形するための可変成形開口421が形成されている。荷電粒子ソース430から照射され、開口411を通過した電子線330は、偏向器により偏向される。そして、可変成形開口421の一部を通過して、ステージ上に搭載された試料340に照射される。また、ステージは、描画中、所定の一方向(例えば、X方向とする)に連続的に移動する。すなわち、開口411と可変成形開口421との両方を通過できる矩形形状が、連続的に移動するステージ上に搭載された試料340の描画領域に描画される。開口411と可変成形開口421との両方を通過させ、任意形状を作成する方式を可変成形方式という。
FIG. 14 is a conceptual diagram for explaining the operation of a conventional variable shaping type electron beam drawing apparatus.
The variable shaped electron beam (EB) drawing apparatus operates as follows. In the
かかる電子ビーム描画を行なうにあたり、まず、半導体集積回路のレイアウトが設計される。そして、パターンレイアウトが定義されたレイアウトデータ(設計データ)が生成される。そして、レイアウトデータが変換され、電子線描画装置に適応した描画データが生成される。そして、描画データは、描画装置に入力され、複数のデータ処理の後、描画する際のショットデータとして生成される(例えば、特許文献1参照)。そして、このショットデータに従って描画処理が行なわれる。描画装置内でのこれらの動作はリアルタイムで進んでいく。ここで、描画装置内では、複数のデータ処理を行う際に、描画領域を複数のブロック領域に分割して、ブロック領域毎に分散してデータ処理を行っている。そして、描画データがブロック領域毎に展開されていき、ショットデータが生成される前のブロック領域毎の中間データが生成されることになる。かかるブロック領域毎の中間データは、バッファメモリに一時的に格納されることになる。昨今のパターンの微細化に伴い、データ量は増加している。特に、クリティカルレイヤーのデータ量は膨大である。あるブロック領域についてこのようなデータ量の大きい中間データが生成されるとバッファメモリのメモリ容量を超えてしまい、バッファオーバーフローといった演算処理エラーを引き起こしてしまう。演算処理エラーが生じると描画ができなくなってしまい、描画中のマスクは廃棄されてしまうことになるといった問題があった。
上述したように、あるブロック領域についてこのようなデータ量の大きい中間データが生成されるとバッファメモリのメモリ容量を超えてしまい、バッファオーバーフローといった演算処理エラーを引き起こしてしまう。これを回避するためには、ブロック領域のサイズを小さくしてブロック領域数を増やせばよいことになるが、不必要に小さいサイズでブロック領域を設定してしまうと、各データを処理する際のオーバーヘッド時間がブロック領域を増やした分だけ余計にかかってしまい演算処理にかかる時間が増大してしまう。演算処理にかかる時間が増大してしまうと実際の描画処理が演算処理の結果を待たなくてはならないため描画時間全体が増加してしまい、スループットが劣化してしまう。そのため、かかるバッファメモリのメモリ容量を超えないが不必要に小さくならないサイズのブロック領域になるようにブロック領域サイズを描画装置に設定することが望ましい。しかしながら、その手法は従来確立されていなかった。また、描画装置内でブロック領域毎の中間データのデータ量を得るには入力された描画データに対して数多くの演算処理を行なった後でなければ得られない。そのため、実描画の前にビームを照射しない空描画を行なってブロック領域毎の中間データのデータ量を演算し、バッファメモリの容量と比較することも装置の機能上は可能かもしれないが数多くの演算処理を行なければならない点に代わりはなく時間が長くかかってしまう。さらに、最適なブロック領域が見つかるまで、空描画を行なってブロック領域毎の中間データのデータ量を得ることを繰り返すことになりますます描画時間が長くかかってしまう。 As described above, when such a large amount of intermediate data is generated for a certain block area, it exceeds the memory capacity of the buffer memory, causing an arithmetic processing error such as buffer overflow. In order to avoid this, it is only necessary to reduce the size of the block area and increase the number of block areas. However, if the block area is set with an unnecessarily small size, each data is processed. Overhead time is increased by an amount corresponding to an increase in the block area, and the time required for arithmetic processing increases. When the time required for the arithmetic processing increases, the actual drawing processing must wait for the result of the arithmetic processing, so that the entire drawing time increases and the throughput deteriorates. Therefore, it is desirable to set the block area size in the drawing apparatus so that the block area does not exceed the memory capacity of the buffer memory but does not become unnecessarily small. However, the method has not been established conventionally. Further, in order to obtain the data amount of the intermediate data for each block area in the drawing apparatus, it is not possible to obtain it unless many arithmetic processes are performed on the inputted drawing data. Therefore, although it may be possible in terms of the function of the device, it may be possible to calculate the amount of intermediate data for each block area by performing blank drawing without irradiating the beam before actual drawing and compare it with the capacity of the buffer memory. Instead of having to perform arithmetic processing, it takes a long time. Furthermore, until the optimum block area is found, it is repeated to obtain the amount of intermediate data for each block area by performing empty drawing, and drawing time becomes longer.
そこで、本発明は、かかる問題を克服すべく、各分割領域のデータ量を簡易に取得する方法及び装置を提供することを目的とする。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a method and an apparatus for easily acquiring the data amount of each divided region in order to overcome such a problem.
本発明の一態様の描画データの分割領域データ量の取得方法は、
荷電粒子ビームを用いて試料にパターンを描画するための描画データを入力する工程と、
所定の分割領域サイズを入力し、描画データに定義される描画領域を所定の分割領域サイズの複数の分割領域に分割する工程と、
描画データに定義された図形が分割される確率に基づいて導かれる分割後の図形個数期待値を用いて、各分割領域内に配置される図形のデータ量を見積もる工程と、
分割領域毎のデータ量を出力する工程と、
を備えたことを特徴とする。
The method for acquiring the divided area data amount of the drawing data according to one aspect of the present invention is as follows.
Inputting drawing data for drawing a pattern on a sample using a charged particle beam;
A step of inputting a predetermined divided area size and dividing a drawing area defined in the drawing data into a plurality of divided areas having a predetermined divided area size;
A step of estimating a data amount of a figure arranged in each divided area using an expected figure number after division derived based on a probability that the figure defined in the drawing data is divided;
Outputting the amount of data for each divided area;
It is provided with.
かかる構成では、複数段の演算処理の末に各分割領域のデータ量を求めるのではなく、確率に基づく図形個数期待値で図形数を見積もり、各分割領域のデータ量を見積もる。その結果、描画装置で行われる複数段の演算処理を行う場合よりも短時間で各分割領域のデータ量を見積もることができる。 In such a configuration, the data amount of each divided region is not obtained after the calculation process of a plurality of stages, but the number of figures is estimated by the expected number of figures based on the probability, and the data amount of each divided region is estimated. As a result, the data amount of each divided region can be estimated in a shorter time than when performing a plurality of stages of arithmetic processing performed by the drawing apparatus.
そして、描画データに定義される少なくとも1つの図形により構成されるセルを互いに重なり部分を持って分割する複数の小領域における重なり部分のサイズ(2f)以下のサイズの図形はかかるサイズについて上述した確率が0になり、
重なり部分のサイズ(2f)と小領域のサイズ(S)との中間のサイズの図形は図形サイズ(L)を用いて表すとかかるサイズについて上述した確率が(L−2f)/Sになり、
図形サイズ(L)と2以上の整数(n)とを用いて表すと(n−1)S≦L<nSの範囲となるサイズの図形はかかるサイズについて上述した確率が(L−2f)/(nS−(n−1)×2f)となるように設定すると好適である。
A figure having a size equal to or smaller than the size (2f) of the overlapping portion in a plurality of small regions that divide a cell constituted by at least one figure defined in the drawing data with an overlapping portion is the probability described above for the size. Becomes 0,
When a figure having an intermediate size between the size (2f) of the overlapping portion and the size (S) of the small area is expressed using the figure size (L), the probability described above for the size is (L-2f) / S.
When expressed using a graphic size (L) and an integer (n) of 2 or more, a graphic having a size in the range of (n−1) S ≦ L <nS has a probability of (L−2f) / It is preferable to set to be (nS− (n−1) × 2f).
そして、重なり部分のサイズ(2f)以下のサイズの図形はかかるサイズについて上述した図形個数期待値が1になり、
重なり部分のサイズ(2f)と小領域のサイズ(S)との中間のサイズの図形は図形サイズ(L)を用いて表すとかかるサイズについて上述した図形個数期待値が1+(L−2f)/Sになり、
図形サイズ(L)と2以上の整数(n)とを用いて表すと(n−1)S≦L<nSの範囲に入るサイズの図形はかかるサイズについて上述した図形個数期待値がn+(L−2f)/(nS−(n−1)×2f)になるように設定すると好適である。
Then, a figure having a size equal to or smaller than the size (2f) of the overlapping portion has a figure number expected value of 1 for the size,
When a figure having an intermediate size between the size (2f) of the overlapping portion and the size (S) of the small area is expressed using the figure size (L), the figure number expected value for the size is 1+ (L-2f) / S
When the figure size (L) and an integer (n) of 2 or more are used to express the figure, a figure having a size that falls within the range of (n−1) S ≦ L <nS has an expected figure number value of n + (L −2f) / (nS− (n−1) × 2f).
そして、上述したデータ量は、図形個数期待値を用いた図形種ごとの演算式により求める各図形の図形個数を該当するセル毎に合計した合計図形個数に1つの図形あたりの単位データ量を乗じた値を該当する分割領域に累積加算して求めると好適である。 The above-mentioned data amount is obtained by multiplying the total figure number obtained by calculating the figure number of each figure for each corresponding cell using the figure number expectation value for each figure type by the unit data amount per figure. It is preferable that the obtained value is obtained by accumulatively adding to the corresponding divided area.
本発明の一態様の描画データの分割領域データ量の取得装置は、
荷電粒子ビームを用いて試料にパターンを描画するための描画データを入力して記憶する記憶部と、
所定の分割領域サイズを入力し、描画データに定義される描画領域を所定の分割領域サイズの複数の分割領域に分割する分割部と、
描画データに定義された図形が分割される確率に基づいて導かれる分割後の図形個数期待値を用いて、各分割領域内に配置される図形のデータ量を見積もる見積もり部と、
分割領域毎のデータ量を出力する出力部と、
を備えたことを特徴とする。
An apparatus for acquiring a divided area data amount of drawing data according to an aspect of the present invention includes:
A storage unit for inputting and storing drawing data for drawing a pattern on a sample using a charged particle beam;
A division unit that inputs a predetermined division area size and divides the drawing area defined in the drawing data into a plurality of division areas having a predetermined division area size;
An estimation unit that estimates the data amount of the figure arranged in each divided area using the figure figure expected value after division derived based on the probability that the figure defined in the drawing data is divided;
An output unit for outputting the amount of data for each divided area;
It is provided with.
本発明によれば、各分割領域のデータ量を描画前に簡易に取得することができる。そのデータ量に基づき、ユーザはバッファメモリのメモリ容量を超えない分割領域サイズを決定することができる。よって、バッファオーバーフローを回避することができる。 According to the present invention, the data amount of each divided area can be easily acquired before drawing. Based on the data amount, the user can determine a divided area size that does not exceed the memory capacity of the buffer memory. Therefore, buffer overflow can be avoided.
以下、実施の形態では、荷電粒子ビームの一例として、電子ビームを用いた構成について説明する。但し、荷電粒子ビームは、電子ビームに限るものではなく、イオンビーム等の荷電粒子を用いたビームでも構わない。また、荷電粒子ビーム装置の一例として、荷電粒子ビーム描画装置、特に、可変成形型の電子ビーム描画装置について説明する。 Hereinafter, in the embodiment, a configuration using an electron beam will be described as an example of a charged particle beam. However, the charged particle beam is not limited to an electron beam, and a beam using charged particles such as an ion beam may be used. As an example of the charged particle beam apparatus, a charged particle beam drawing apparatus, particularly, a variable shaping type electron beam drawing apparatus will be described.
実施の形態1.
上述したように、電子ビーム描画を行なうにあたっては、まず、半導体集積回路のレイアウトが設計される。そして、パターンレイアウトが定義されたレイアウトデータ(設計データ)が生成される。そして、レイアウトデータが変換され、描画装置に適応した描画データが生成される。そして、描画データは、描画装置に入力される。描画装置内では、複数のデータ処理の後、描画する際のショットデータとして生成される。そして、ショットデータに基づいてパターンが試料に描画される。実施の形態1では、描画データが描画装置に入力される前、或いは並行して、描画データの最適な分割領域サイズ(ブロックサイズ)を描画装置外のオフラインで演算により求める。
As described above, when performing electron beam drawing, first, the layout of a semiconductor integrated circuit is designed. Then, layout data (design data) in which the pattern layout is defined is generated. Then, the layout data is converted, and drawing data suitable for the drawing apparatus is generated. Then, the drawing data is input to the drawing apparatus. In the drawing apparatus, after a plurality of data processing, it is generated as shot data for drawing. A pattern is drawn on the sample based on the shot data. In the first embodiment, an optimal divided area size (block size) of drawing data is obtained by calculation off-line outside the drawing apparatus before or after drawing data is input to the drawing apparatus.
図1は、実施の形態1における描画データの分割領域データ量の取得方法の要部工程を示すフローチャート図である。図1において、実施の形態1における描画データの分割領域データ量の取得方法は、入力/記憶工程(S202)と、マージ処理工程(S204)と、ブロック分割工程(S206)と、チップ毎のセル抽出工程(S208)と、図形数見積り工程(S210)と、セル毎の図形データ量見積り工程(S212)と、判定工程(S214)と、ブロック毎のデータ量見積り工程(S216)と、データ量リスト作成工程(S218)と、出力工程(S224)という一連の工程を実施する。 FIG. 1 is a flowchart showing main steps of a method for acquiring a divided area data amount of drawing data according to the first embodiment. In FIG. 1, the method for obtaining the divided area data amount of the drawing data in the first embodiment includes an input / storage step (S202), a merge processing step (S204), a block division step (S206), and a cell for each chip. Extraction step (S208), figure number estimation step (S210), graphic data amount estimation step for each cell (S212), determination step (S214), data amount estimation step for each block (S216), data amount A series of steps of a list creation step (S218) and an output step (S224) are performed.
図2は、実施の形態1における描画データの階層構造の一例を示す図である。
描画データでは、描画領域が、チップ10の層、チップ領域を例えばy方向に向かって短冊状に仮想分割したストライプ20の層、ストライプ20を分割したブロック30の層、少なくとも1つ以上の図形で構成されるセル32の層、セル32を分割したクラスタ34の層、クラスタ34内に配置され、セル32を構成する図形36(パターン)の層といった一連の複数の内部構成単位ごとに階層化されている。また、1つの試料101の描画領域に対して複数のチップがレイアウトされていることが一般的である。そのため、後述するマージ処理部において、チップマージ処理が行なわれ、図2に示すようなマージ後の階層が構成される。尚、ここではストライプ20についてチップ領域を例えばy方向に向かって短冊状に分割した領域としてあるが、これは一例であり、描画面と平行しy方向と直交するx方向に分割する場合もありうる。或いは描画面と平行するその他の方向であっても構わない。
FIG. 2 is a diagram illustrating an example of a hierarchical structure of drawing data according to the first embodiment.
In the drawing data, the drawing area is a layer of the
図3は、実施の形態1における描画データの分割領域サイズの取得装置の構成を示す概念図である。
図3において、描画データの分割領域データ量の取得装置100は、制御計算機110、メモリ134、外部インターフェース(I/F)136、及び磁気ディスク装置138を備えている。制御計算機110、メモリ134、外部I/F136、及び磁気ディスク装置138は、互いに図示しないバスにより接続されている。制御計算機110内では、入力部111、マージ処理部112、セル抽出部114、分割部116、図形数見積り部118、セルデータ量見積り部120、判定部122、ブロックデータ量見積り部124、リスト作成部126、及び出力部132が配置されている。磁気ディスク装置138及びメモリ134は、記憶部或いは記憶装置の一例となる。外部I/F136は、入力部或いは出力部の一例にもなる。
FIG. 3 is a conceptual diagram showing the configuration of the drawing data divided region size acquisition apparatus according to the first embodiment.
In FIG. 3, the drawing data divided area data amount
ここで、入力部111、マージ処理部112、セル抽出部114、分割部116、図形数見積り部118、セルデータ量見積り部120、判定部122、ブロックデータ量見積り部124、リスト作成部126、及び出力部132は、ソフトウェアによる各処理機能として構成してもよい。或いは、入力部111、マージ処理部112、セル抽出部114、分割部116、図形数見積り部118、セルデータ量見積り部120、判定部122、ブロックデータ量見積り部124、リスト作成部126、及び出力部132の各構成を電気的な回路によるハードウェアにより構成してもよい。或いは、電気的な回路によるハードウェアとソフトウェアとの組合せにより実施させても構わない。或いは、かかるハードウェアとファームウェアとの組合せでも構わない。また、ソフトウェアにより、或いはソフトウェアとの組合せにより実施させる場合には、処理を実行する計算機に入力される情報或いは演算処理中及び処理後の各情報はその都度メモリ134に記憶される。
Here, the input unit 111, the
図3では、本実施の形態1を説明する上で必要な構成部分について記載している。分割領域サイズの取得装置100にとって、通常、必要なその他の構成が含まれても構わないことは言うまでもない。
In FIG. 3, components necessary for explaining the first embodiment are described. It goes without saying that the divided region
S(ステップ)202において、入力/記憶工程として、入力部111は、電子ビームを用いて試料にパターンを描画するための描画データを外部I/F136を介して外部から入力し、磁気ディスク装置138に記憶する。1つのマスク基板には、通常、複数のチップのパターンが描画される。そのため、描画データは、通常、複数のチップデータファイルから構成される。
In S (step) 202, as an input / storage process, the input unit 111 inputs drawing data for drawing a pattern on the sample using an electron beam from the outside via the external I /
S204において、マージ処理工程として、マージ処理部112は、磁気ディスク装置138から描画データを読み出し、複数のチップのうち、チップ間の距離が所定のサイズよりも狭いチップ同士についてマージ処理を行う。
In S204, as the merge processing step, the
S206において、ブロック分割工程として、分割部116は、外部からブロックサイズB1(所定の分割領域サイズ)を入力し、描画データに定義される描画領域をブロックサイズの複数のブロック(分割領域)に分割する。外部I/F136、或いは図示しないキーボード(K/B)やマウス等を介して外部から入力(設定)されたブロックサイズは、磁気ディスク装置138に記憶される。
In S206, as a block dividing step, the dividing
S208において、チップ毎のセル抽出工程として、セル抽出部114は、マージ後の各チップについて、チップ毎に、描画データに定義されるセルデータから各チップ内に配置されるセルを抽出する。図2に示したように、描画データは階層構造を持って定義されており、それぞれの階層の配置位置、サイズ、階層関係等が描画データに定義される。よって、描画データから各チップに配置されるセルを抽出することができる。
In S208, as a cell extraction process for each chip, the
S210において、図形数見積り工程として、図形数見積り部118は、抽出されたセル毎に、セル内に配置される図形数を見積もる。描画装置では、図2に示したクラスタ34(小領域)内に収まるように各図形が分割される。そのため、分割によって当初の描画データ内に定義された図形数よりもその数が増えることになる。1つの図形を定義するためのデータ量は一定であるので図形数が増えるとその分だけデータ量も増えることになる。そこで、図形数見積り部118は、クラスタのサイズやマージンサイズ等の情報を入力して、分割後の図形数を確率に基づいて導かれる分割後の図形個数期待値を用いて見積もる。クラスタのサイズやマージンサイズ等の情報は、外部I/F136、或いは図示しないキーボード(K/B)やマウス等を介して外部から入力(設定)されればよい。
In S210, as a figure number estimation step, the figure
図4は、実施の形態1におけるクラスタ領域の一例を示す概念図である。図4において、縦横の幅(S)の複数のクラスタ34が、互いに重なりながら配置するように定義される。各クラスタ34では、点線で示す図形のカットライン40から外側にマージン42が付され、各クラスタ34の領域は、各辺についてマージン42のマージン幅(f)が付加されたクラスタ境界44で囲まれた領域となる。そして、各クラスタ34は、隣り合うクラスタ34とマージン幅(f)の2倍の重なり幅(2f)(重なり部分のサイズ)で互いに重なるように定義される。幅(S)は、例えば、12.8μm或いは6.4μmで設定される。マージン幅(f)は、例えば、0.8μmで設定される。
FIG. 4 is a conceptual diagram showing an example of a cluster area in the first embodiment. In FIG. 4, a plurality of
図5は、実施の形態1におけるクラスタ領域内に配置され得る図形の一例を示す概念図である。図5に示すように、クラスタ領域内には、ある方向のサイズが、重なり幅(2f)以下のサイズの図形52、重なり幅(2f)とクラスタのサイズ(S)との中間のサイズの図形54、及びクラスタのサイズ(S)以上の図形56とが配置され得る。重なり幅(2f)以下のサイズの図形52については、分割すると小さすぎて描画できない微小図形となる(スリバーが生じる)おそれがあるのでたとえカットライン40を跨っていたとしても分割しない。図形52が図5に示す位置の場合、図形52は左側のクラスタに定義されることになる。また、重なり幅(2f)とクラスタのサイズ(S)との中間のサイズの図形54については、分割される場合と分割されない場合とが生じ得る。図形54が図5に示す位置の場合、図形54はカットライン40で分割されて左右のクラスタに分かれて定義されることになる。また、クラスタのサイズ(S)以上の図形56については必ず分割される。図形56が図5に示す位置の場合、図形56は3つのカットライン40で分割されて左端部は図示しない左側のクラスタに、右端部は図示しない右側のクラスタに、2つの中央部は、それぞれが位置するクラスタに分かれて定義されることになる。そこで、各条件について、分割を見積もる図形サイズについての分割される確率を求める。その際、分割を見積もる図形のサイズを(L)とする。後述するように、分割の対象となる図形サイズは一方向だけではないが、内容を理解しやすくするために、ここでは一方向のサイズについて説明する。
FIG. 5 is a conceptual diagram showing an example of a figure that can be arranged in the cluster area in the first embodiment. As shown in FIG. 5, in the cluster area, a figure 52 having a size in a certain direction is a size less than or equal to the overlap width (2f), and a figure having an intermediate size between the overlap width (2f) and the cluster size (S). 54 and a graphic 56 larger than the size (S) of the cluster may be arranged. The figure 52 having a size equal to or smaller than the overlap width (2f) is not divided even if it extends over the
(1)L≦2fの範囲の場合
重なり幅(2f)以下のサイズ(L)の図形52が分割される確率は、上述したように分割されないので0となる。
(2)2f<L<Sの範囲の場合
重なり幅(2f)とクラスタのサイズ(S)との中間のサイズの図形54が分割される確率は、最大2個に分割され得るので、(L−2f)/Sで定義することができる。分割される確率=1−分割されない確率=1−(2f//S+(S−L)/S)=(L−2f)/Sという式の展開により導くことができる。
(3)(n−1)S≦L<nSの範囲の場合(但し、nは2以上の整数)
図形のサイズ(L)は無限ではないので、クラスタのサイズ(S)以上であり、かつ、(n−1)S≦L<nSの範囲になる場合について示す。図5では、一例として、2つのクラスタよりも大きく3つのクラスタよりも小さい場合(n=3の場合)が示されている。かかる場合には必ず分割されるが、今度は何個に分割されるのかが問題となる。そこで、(n+1)個に分割される確率を用いる。(n−1)S≦L<nSの範囲となるサイズの図形56が(n+1)個に分割される確率は、(L−2f)/(nS−(n−1)×2f)で定義することができる。(n+1)個に分割される確率は、1−((n+1)個に分割されない確率)から導くことができる。
(1) In the case of L ≦ 2f The probability that the figure 52 having the size (L) not exceeding the overlap width (2f) is divided is 0 because it is not divided as described above.
(2) When 2f <L <S The probability that the figure 54 having an intermediate size between the overlap width (2f) and the cluster size (S) can be divided can be divided into a maximum of two. -2f) / S. Probability of being divided = 1−Probability of not being divided = 1− (2f // S + (S−L) / S) = (L−2f) / S
(3) (n-1) When S ≦ L <nS (where n is an integer of 2 or more)
Since the figure size (L) is not infinite, the case where it is equal to or larger than the cluster size (S) and (n−1) S ≦ L <nS will be described. In FIG. 5, as an example, a case where it is larger than two clusters and smaller than three clusters (when n = 3) is shown. In such a case, it is surely divided, but this time it becomes a problem how many pieces are divided. Therefore, the probability of being divided into (n + 1) pieces is used. The probability that the figure 56 having a size in the range of (n−1) S ≦ L <nS is divided into (n + 1) pieces is defined by (L−2f) / (nS− (n−1) × 2f). be able to. The probability of being divided into (n + 1) pieces can be derived from 1− (probability of not being divided into (n + 1) pieces).
以上説明した各範囲の確率から導かれる、分割を見積もる図形サイズについての図形個数期待値は、以下のようになる。
(1)L≦2fの範囲の場合
重なり幅(2f)以下のサイズ(L)の図形52は、確率が0であるので分割されず、その図形のまま(1個のまま)であるので、図形個数期待値は1と定義することができる。
(2)2f<L<Sの範囲の場合
重なり幅(2f)とクラスタのサイズ(S)との中間のサイズの図形54は、確率が(L−2f)/Sで定義され、最大2個に分割され得るので、図形個数期待値は1+(L−2f)/Sと定義することができる。図形個数期待値は、(1個のままの確率)×1+(2個に分割される確率)×2で求めることができる。
(3)(n−1)S≦L<nSの範囲の場合(但し、nは2以上の整数)
(n−1)S≦L<nSの範囲に入るサイズの図形56は、(n+1)個に分割される確率が(L−2f)/(nS−(n−1)×2f)で定義され、最大(n+1)個に分割され得るので、図形個数期待値がn+(L−2f)/(nS−(n−1)×2f)と定義することができる。図形個数期待値は、((n+1)個に分割されない確率)×n+((n+1)個に分割される確率)×(n+1)で求めることができる。
The figure number expectation value for the figure size for estimating the division, which is derived from the probabilities of the respective ranges described above, is as follows.
(1) In the case of L ≦ 2f Since the
(2) In the case of 2f <L <S The figure 54 having an intermediate size between the overlap width (2f) and the cluster size (S) has a probability defined by (L-2f) / S, and a maximum of two figures 54 Therefore, the expected number of figures can be defined as 1+ (L−2f) / S. The figure number expectation value can be obtained by (probability of remaining one) × 1 + (probability of being divided into two) × 2.
(3) (n-1) When S ≦ L <nS (where n is an integer of 2 or more)
A figure 56 having a size within the range of (n−1) S ≦ L <nS is defined as (L−2f) / (nS− (n−1) × 2f) with a probability of being divided into (n + 1) pieces. Therefore, the figure number expected value can be defined as n + (L−2f) / (nS− (n−1) × 2f). The figure number expectation value can be obtained by (probability of not being divided into (n + 1) pieces) × n + (probability of being divided into (n + 1) pieces) × (n + 1).
ここで、図形のサイズは一方向だけではないので、各サイズについて、上述した図形個数期待値で分割され得る。そして、1つの図形としての分割され得る図形個数期待値は、図形種によって以下のように定義することができる。 Here, since the size of a figure is not only in one direction, each size can be divided by the above-mentioned expected number of figures. The expected number of figures that can be divided as one figure can be defined as follows according to the figure type.
図6は、実施の形態1における長方形の図形個数期待値を説明するための概念図である。図6において、長方形或いは正方形は、横サイズ(X方向サイズ)LXと縦サイズ(Y方向サイズ)LYで定義される。そして、1つの長方形或いは正方形の全体の図形個数期待値NTOTALは、図6に示すように、X方向サイズの図形個数期待値ND(LX)とY方向サイズの図形個数期待値ND(LY)との積で定義することができる。 FIG. 6 is a conceptual diagram for explaining the expected number of rectangular figures in the first embodiment. 6, rectangular or square, the transverse size (X-direction size) L X and the vertical size (Y-direction size) is defined by L Y. Then, one rectangular or whole figure number expected value N TOTAL of square, as shown in FIG. 6, figure number expected value of X-direction size N D (L X) a figure number expected value N D in the Y-direction size It can be defined by the product of (L Y ).
X方向サイズの図形個数期待値ND(LX)は、上述したように、(1)LX≦2fの範囲の場合、図形個数期待値ND(LX)=1と定義することができる。(2)2f<LX<Sの範囲の場合、図形個数期待値ND(LX)=1+(L−2f)/Sと定義することができる。(3)(n−1)S≦LX<nSの範囲の場合(但し、nは2以上の整数)、図形個数期待値ND(LX)=n+(L−2f)/(nS−(n−1)×2f)と定義することができる。 As described above, the figure number expected value N D (L X ) of the size in the X direction can be defined as (1) figure number expected value N D (L X ) = 1 in the range of L X ≦ 2f. it can. (2) In the case of 2f <L X <S, the figure number expected value N D (L X ) = 1 + (L−2f) / S can be defined. (3) In the case of (n−1) S ≦ L X <nS (where n is an integer of 2 or more), the figure number expected value N D (L X ) = n + (L−2f) / (nS− (N-1) × 2f).
Y方向サイズの図形個数期待値ND(LY)も、上述したように、(1)LY≦2fの範囲の場合、図形個数期待値ND(LY)=1と定義することができる。(2)2f<LY<Sの範囲の場合、図形個数期待値ND(LY)=1+(L−2f)/Sと定義することができる。(3)(n−1)S≦LY<nSの範囲の場合(但し、nは2以上の整数)、図形個数期待値ND(LY)=n+(L−2f)/(nS−(n−1)×2f)と定義することができる。 As described above, the figure number expected value N D (L Y ) of the size in the Y direction can also be defined as (1) L Y ≦ 2f in the range of the figure number expected value N D (L Y ) = 1. it can. (2) In the case of 2f <L Y <S, the figure number expected value N D (L Y ) = 1 + (L−2f) / S can be defined. (3) In the case of (n−1) S ≦ L Y <nS (where n is an integer of 2 or more), the figure number expected value N D (L Y ) = n + (L−2f) / (nS− (N-1) × 2f).
図7は、実施の形態1における直角二等辺三角形の図形個数期待値を説明するための概念図である。図7において、直角二等辺三角形は、直角を挟む二辺のサイズLで定義される。そして、1つの直角二等辺三角形の全体の図形個数期待値NTOTALは、図7に示すように、直角を挟む二辺の一方のサイズの図形個数期待値ND(L)と他方のサイズの図形個数期待値ND(L)に補正値1を加算した値との積の1/2で定義することができる。直角二等辺三角形が分割されない場合の個数は1なので、図形個数期待値NTOTALが1より小さくなることはあり得ない。そのため、補正値1を加算することで1より小さくなることを防止することができる。
FIG. 7 is a conceptual diagram for explaining the expected figure number of a right isosceles triangle in the first embodiment. In FIG. 7, a right-angled isosceles triangle is defined by a size L of two sides sandwiching a right angle. As shown in FIG. 7, the total figure number expected value N TOTAL of one right isosceles triangle is equal to the figure number expected value N D (L) of one size of two sides sandwiching the right angle and the other size. It can be defined by 1/2 of the product of the figure number expected value N D (L) and the value obtained by adding the
直角を挟む二辺のサイズLの図形個数期待値ND(L)は、上述したように、(1)L≦2fの範囲の場合、図形個数期待値ND(L)=1と定義することができる。(2)2f<L<Sの範囲の場合、図形個数期待値ND(L)=1+(L−2f)/Sと定義することができる。(3)(n−1)S≦L<nSの範囲の場合(但し、nは2以上の整数)、図形個数期待値ND(L)=n+(L−2f)/(nS−(n−1)×2f)と定義することができる。 As described above, the figure number expected value N D (L) of the size L of two sides sandwiching the right angle is defined as (1) L ≦ 2f in the range of the figure number expected value N D (L) = 1. be able to. (2) In the case of 2f <L <S, it can be defined as figure expected value N D (L) = 1 + (L−2f) / S. (3) In the case of (n−1) S ≦ L <nS (where n is an integer of 2 or more), the figure number expected value N D (L) = n + (L−2f) / (nS− (n -1) x 2f).
図8は、実施の形態1における台形の図形個数期待値を説明するための概念図である。図8(a)では、上下の辺が平行であり、高さをH、平行な2辺の長辺のサイズをW、短辺のサイズをW−Hとする台形を示している。図8(b)は左右の辺が平行あり、高さをH、平行な2辺の長辺のサイズをW、短辺のサイズをW−Hとする台形を示している。そして、かかる1つの台形の全体の図形個数期待値NTOTALは、図8に示すように、平行な2辺の長辺のサイズWの図形個数期待値ND(W)と高さHの図形個数期待値ND(H)との積から、高さHの図形個数期待値ND(H)と高さHの図形個数期待値ND(H)から補正値1を引いた値との積の1/2を引いた差分で定義することができる。台形についても分割されない場合の個数は1なので、図形個数期待値NTOTALが1より小さくなることはあり得ない。そのため、補正値1を引くことで1より小さくなることを防止することができる。
FIG. 8 is a conceptual diagram for explaining the expected number of trapezoidal figures in the first embodiment. FIG. 8A shows a trapezoid in which the upper and lower sides are parallel, the height is H, the size of the long sides of the two parallel sides is W, and the size of the short sides is WH. FIG. 8B shows a trapezoid in which the left and right sides are parallel, the height is H, the size of the long sides of the two parallel sides is W, and the size of the short sides is WH. Then, the total figure number expected value N TOTAL of one trapezoid as shown in FIG. 8 is a figure having a figure W expected value N D (W) and a height H of two parallel long sides of size W. from the product of the number expected value N D (H), the value obtained by subtracting the
2辺の長辺のサイズWの図形個数期待値ND(W)は、上述したように、(1)W≦2fの範囲の場合、図形個数期待値ND(W)=1と定義することができる。(2)2f<W<Sの範囲の場合、図形個数期待値ND(W)=1+(L−2f)/Sと定義することができる。(3)(n−1)S≦W<nSの範囲の場合(但し、nは2以上の整数)、図形個数期待値ND(W)=n+(L−2f)/(nS−(n−1)×2f)と定義することができる。 The figure number expectation value N D (W) of the size W of the two long sides is defined as figure expectation value N D (W) = 1 in the range of (1) W ≦ 2f as described above. be able to. (2) In the case of 2f <W <S, it can be defined as figure expected value N D (W) = 1 + (L−2f) / S. (3) In the case of (n−1) S ≦ W <nS (where n is an integer of 2 or more), the figure number expected value N D (W) = n + (L−2f) / (nS− (n -1) x 2f).
高さHの図形個数期待値ND(H)も、上述したように、(1)H≦2fの範囲の場合、図形個数期待値ND(H)=1と定義することができる。(2)2f<H<Sの範囲の場合、図形個数期待値ND(H)=1+(L−2f)/Sと定義することができる。(3)(n−1)S≦H<nSの範囲の場合(但し、nは2以上の整数)、図形個数期待値ND(H)=n+(L−2f)/(nS−(n−1)×2f)と定義することができる。 As described above, the figure number expected value N D (H) at the height H can also be defined as figure figure expected value N D (H) = 1 in the range of (1) H ≦ 2f. (2) In the case of 2f <H <S, the figure number expectation value N D (H) = 1 + (L−2f) / S can be defined. (3) In the case of (n−1) S ≦ H <nS (where n is an integer of 2 or more), the figure number expected value N D (H) = n + (L−2f) / (nS− (n -1) x 2f).
図9は、実施の形態1における等脚台形と二等辺三角形の図形個数期待値を説明するための概念図である。図9(a)(b)では、二等辺ではない残りの辺のサイズをH、かかる残りの辺からの高さをHとする二等辺三角形を示している。図9(a)では頂点が横向き、図9(b)では頂点が上向きの場合を示している。図9(c)(d)では、高さをH、平行な2辺の長辺のサイズをW、短辺のサイズをW−2Hとする等脚台形を示している。図9(c)では、左右の辺が平行である場合を示している。図9(d)では、上下の辺が平行である場合を示している。そして、かかる1つの等脚台形或いは二等辺三角形の全体の図形個数期待値NTOTALは、図9に示すように、サイズWの図形個数期待値ND(W)とサイズHの図形個数期待値ND(H)との積から、サイズHの図形個数期待値ND(H)とサイズHの図形個数期待値ND(H)から補正値1を引いた値との積を引いた差分で定義することができる。かかる等脚台形或いは二等辺三角形についても分割されない場合の個数は1なので、図形個数期待値NTOTALが1より小さくなることはあり得ない。そのため、補正値1を引くことで1より小さくなることを防止することができる。
FIG. 9 is a conceptual diagram for explaining the expected number of figures of isosceles trapezoids and isosceles triangles in the first embodiment. FIGS. 9A and 9B show an isosceles triangle in which the size of the remaining side that is not isosceles is H, and the height from the remaining side is H. FIG. 9A shows a case where the vertex is horizontal, and FIG. 9B shows a case where the vertex is upward. FIGS. 9C and 9D show an isosceles trapezoid in which the height is H, the size of the long sides of the two parallel sides is W, and the size of the short sides is W-2H. FIG. 9C shows a case where the left and right sides are parallel. FIG. 9D shows a case where the upper and lower sides are parallel. The total figure expected value N TOTAL of the entire isosceles trapezoid or isosceles triangle is the figure W expected figure number N D (W) and the figure H expected figure number of size H as shown in FIG. from the product of the N D (H), the difference obtained by subtracting the product of the value obtained by subtracting the correction value from 1 to the size H of the figure number expected value N D graphics number expected value of (H) and the size H N D (H) Can be defined in Since the number of such isosceles trapezoids or isosceles triangles is not divided, the figure number expectation value N TOTAL cannot be smaller than 1. Therefore, it is possible to prevent the
サイズWの図形個数期待値ND(W)は、上述したように、(1)W≦2fの範囲の場合、図形個数期待値ND(W)=1と定義することができる。(2)2f<W<Sの範囲の場合、図形個数期待値ND(W)=1+(L−2f)/Sと定義することができる。(3)(n−1)S≦W<nSの範囲の場合(但し、nは2以上の整数)、図形個数期待値ND(W)=n+(L−2f)/(nS−(n−1)×2f)と定義することができる。 As described above, the figure number expected value N D (W) of the size W can be defined as the figure number expected value N D (W) = 1 in the range of (1) W ≦ 2f. (2) In the case of 2f <W <S, it can be defined as figure expected value N D (W) = 1 + (L−2f) / S. (3) In the case of (n−1) S ≦ W <nS (where n is an integer of 2 or more), the figure number expected value N D (W) = n + (L−2f) / (nS− (n -1) x 2f).
サイズHの図形個数期待値ND(H)も、上述したように、(1)H≦2fの範囲の場合、図形個数期待値ND(H)=1と定義することができる。(2)2f<H<Sの範囲の場合、図形個数期待値ND(H)=1+(L−2f)/Sと定義することができる。(3)(n−1)S≦H<nSの範囲の場合(但し、nは2以上の整数)、図形個数期待値ND(H)=n+(L−2f)/(nS−(n−1)×2f)と定義することができる。 As described above, the figure number expected value N D (H) of the size H can also be defined as the figure number expected value N D (H) = 1 in the range of (1) H ≦ 2f. (2) In the case of 2f <H <S, the figure number expectation value N D (H) = 1 + (L−2f) / S can be defined. (3) In the case of (n−1) S ≦ H <nS (where n is an integer of 2 or more), the figure number expected value N D (H) = n + (L−2f) / (nS− (n -1) x 2f).
図10は、実施の形態1における平行四辺形の図形個数期待値を説明するための概念図である。図10(a)では、上下の辺が平行であり、高さをH、平行な2辺のサイズをWとする平行四辺形を示している。図10(b)では、左右の辺が平行であり、高さをH、平行な2辺のサイズをWとする平行四辺形を示している。そして、かかる1つの平行四辺形の全体の図形個数期待値NTOTALは、図10に示すように、サイズHの図形個数期待値ND(H)とサイズWとサイズHの和の図形個数期待値ND(W+H)との積から、サイズHの図形個数期待値ND(H)とサイズHの図形個数期待値ND(H)から補正値1を引いた値との積を引いた差分で定義することができる。かかる平行四辺形についても分割されない場合の個数は1なので、図形個数期待値NTOTALが1より小さくなることはあり得ない。そのため、補正値1を引くことで1より小さくなることを防止することができる。
FIG. 10 is a conceptual diagram for explaining the expected number of parallelogram figures in the first embodiment. FIG. 10A shows a parallelogram in which the upper and lower sides are parallel, the height is H, and the size of the two parallel sides is W. FIG. 10B shows a parallelogram in which the left and right sides are parallel, the height is H, and the size of the two parallel sides is W. The total figure expected value N TOTAL of one parallelogram is the figure figure expected value of the sum of the figure H expected size N D (H) and the sum of the size W and the size H, as shown in FIG. The product of the size H figure number expected value N D (H) and the size H figure number expected value N D (H) minus the
サイズHの図形個数期待値ND(H)も、上述したように、(1)H≦2fの範囲の場合、図形個数期待値ND(H)=1と定義することができる。(2)2f<H<Sの範囲の場合、図形個数期待値ND(H)=1+(L−2f)/Sと定義することができる。(3)(n−1)S≦H<nSの範囲の場合(但し、nは2以上の整数)、図形個数期待値ND(H)=n+(L−2f)/(nS−(n−1)×2f)と定義することができる。 As described above, the figure number expected value N D (H) of the size H can also be defined as the figure number expected value N D (H) = 1 in the range of (1) H ≦ 2f. (2) In the case of 2f <H <S, the figure number expectation value N D (H) = 1 + (L−2f) / S can be defined. (3) In the case of (n−1) S ≦ H <nS (where n is an integer of 2 or more), the figure number expected value N D (H) = n + (L−2f) / (nS− (n -1) x 2f).
サイズWとサイズHの和の図形個数期待値ND(W+H)も、上述したように、(1)W+H≦2fの範囲の場合、図形個数期待値ND(W+H)=1と定義することができる。(2)2f<W+H<Sの範囲の場合、図形個数期待値ND(W+H)=1+(L−2f)/Sと定義することができる。(3)(n−1)S≦W+H<nSの範囲の場合(但し、nは2以上の整数)、図形個数期待値ND(W+H)=n+(L−2f)/(nS−(n−1)×2f)と定義することができる。 As described above, the figure figure expected value N D (W + H) of the sum of the size W and the size H is defined as (1) W + H ≦ 2f in the range of the figure figure expected value N D (W + H) = 1. Can do. (2) In the case of 2f <W + H <S, the figure number expectation value N D (W + H) = 1 + (L−2f) / S can be defined. (3) (n−1) In the case of S ≦ W + H <nS (where n is an integer of 2 or more), the figure number expected value N D (W + H) = n + (L−2f) / (nS− (n -1) x 2f).
以上のようにして、図形数見積り部118は、抽出されたセル毎に、セル内に配置される各図形について、図形個数期待値NTOTALを計算し、その合計を分割後の図形数と見積もる。
As described above, for each extracted cell, the figure
S212において、セル毎の図形データ量見積り工程として、セルデータ量見積り部120は、セル毎に、前工程で求められた該当するセル内の分割後の図形数に1図形あたりのデータ量を乗じて、セル毎の図形データ量を見積もる。例えば、1図形を定義するにあたり16バイトのデータ量とする。
In step S212, as a graphic data amount estimation process for each cell, the cell data amount
S214において、判定工程として、判定部122は、すべてのセルについてデータ量の見積りが終了しているかどうかを判定する。まだ、終了しておらず、セルが残っている場合にはS208に戻る。そして、すべてのセルについてデータ量の見積りが終了するまでS208〜S214を繰り返す。
In S214, as a determination step, the
S216において、ブロック毎のデータ量見積り工程として、ブロックデータ量見積り部124は、ブロック分割工程(S206)で分割されたブロック領域毎に、各ブロック領域内に配置されるセルの図形のデータ量を累積加算して、各ブロック領域内に配置される図形のデータ量を見積もる。ここで、例えば、セルが複数のブロック領域に跨るような場合には、セル内の図形が位置するブロック領域に、該当する図形のデータ量が加算されるようにすればよい。既に図形毎に図形個数期待値NTOTALが計算されているので、セルが複数のブロック領域に跨るような場合でも該当するブロック領域に図形データを振り分けることが容易となる。
In S216, as a data amount estimation process for each block, the block data amount
以上のように、描画データに定義された図形が分割される確率に基づいて導かれる分割後の図形個数期待値を用いて、各分割領域内に配置される図形のデータ量が見積もられる。その際、データ量は、図形個数期待値NDを用いた図形種ごとの演算式により求める各図形の図形個数NTOTALを該当するセル毎に合計した合計図形個数に1つの図形あたりの単位データ量を乗じた値を該当するブロック領域に累積加算して求める。 As described above, the data amount of the figure arranged in each divided region is estimated using the figure number expected value after division derived based on the probability that the figure defined in the drawing data is divided. At that time, data volume, the unit data per one figure to the total figure number which is the sum of figure number N TOTAL of the figure obtained by calculation formula for each figure type with figure number expected value N D to each corresponding cell A value obtained by multiplying the quantity is obtained by cumulative addition to the corresponding block area.
S218において、データ量リスト作成工程として、リスト作成部126は、ブロック領域毎のデータ量リストを作成する。
In S218, as the data amount list creation step, the
図11は、実施の形態1におけるデータ量リストの一例を示す図である。図11に示すように、リスト作成部126は、ブロック座標(X,Y)とデータ量(バイト)とを対応させたデータ量リスト60を作成する。データ量リスト60には、マージ処理後のチップ毎に、各チップ内の全てのブロック領域について、対応するデータ量が記録される。データ量リスト60は、磁気ディスク装置138に格納される。
FIG. 11 is a diagram illustrating an example of a data amount list according to the first embodiment. As shown in FIG. 11, the
S224において、出力工程として、出力部132は、各ブロック領域についてのデータ量dを出力する。ここでは、上述したデータ量リスト60を外部I/F136を介して出力すると好適である。或いは、図示しないモニタ等に表示してもよい。
In S224, as an output process, the
図12は、実施の形態1における図形数の見積り誤差とデータ量とバッファメモリのメモリ容量との関係の一例を示す図である。図12に示すように、データ量が大きくなるにしたがい図形数の見積もり誤差は急激に減少する。見積り方法において、ランダムな大きさの図形がランダムに配置されていることを仮定とすると、サンプル数を増やせば増やすほど、中心極限定理により正規分布に従い、且つ分布の幅は狭まる。以上のように、描画データの最適なブロックサイズの取得にあたって、描画データに定義された図形が分割される確率に基づいて導かれる分割後の図形個数期待値を用いることが有効である。 FIG. 12 is a diagram showing an example of the relationship between the estimation error of the number of figures, the data amount, and the memory capacity of the buffer memory in the first embodiment. As shown in FIG. 12, as the amount of data increases, the estimation error of the number of figures sharply decreases. In the estimation method, assuming that figures of a random size are randomly arranged, the larger the number of samples, the more the normal distribution follows the central limit theorem and the width of the distribution becomes narrower. As described above, in obtaining the optimum block size of the drawing data, it is effective to use the expected figure number after division derived based on the probability that the figure defined in the drawing data is divided.
実施の形態1によれば、ユーザは、あるブロックサイズで分割した場合の各ブロック領域のデータ量dを把握することができる。よって、ユーザは、各ブロック領域のデータ量dを確認して、描画装置のバッファメモリのメモリ容量を超えているブロックが無いかどうかを検証することができる。その結果、超えているブロックが存在する場合には、ブロックサイズを小さくした新たなブロックサイズを再設定して、再度、ブロック分割(S206)から出力工程(S224)までを実行すればよい。かかる処理を繰り返すことで、描画装置外(オフライン)で最適なブロックサイズを見つけることができる。そして、見つけ出したブロックサイズを描画装置に設定すればよい。 According to the first embodiment, the user can grasp the data amount d of each block area when divided by a certain block size. Therefore, the user can check the data amount d of each block area and verify whether there is a block exceeding the memory capacity of the buffer memory of the drawing apparatus. As a result, if there is an exceeding block, a new block size with a reduced block size is reset, and the process from block division (S206) to output step (S224) may be executed again. By repeating such processing, the optimum block size can be found outside the drawing apparatus (offline). Then, the found block size may be set in the drawing apparatus.
図13は、実施の形態1における描画装置内でのデータ処理の流れを示すフローチャート図である。上述したように、電子ビーム描画を行なうにあたっては、まず、半導体集積回路のレイアウトが設計される。そして、パターンレイアウトが定義されたレイアウトデータ(設計データ)が生成される。そして、レイアウトデータが変換され、描画装置に適応した描画データが生成される。そして、描画データは、描画装置に入力される。描画装置内では、磁気ディスク装置310に描画データが格納される。そして、後述するように複数のデータ処理の後、描画する際のショットデータとして生成される。
FIG. 13 is a flowchart showing a flow of data processing in the drawing apparatus according to the first embodiment. As described above, when performing electron beam drawing, first, the layout of a semiconductor integrated circuit is designed. Then, layout data (design data) in which the pattern layout is defined is generated. Then, the layout data is converted, and drawing data suitable for the drawing apparatus is generated. Then, the drawing data is input to the drawing apparatus. In the drawing apparatus, drawing data is stored in the
データ処理工程(S102)として、磁気ディスク装置310から複数のチップのそれぞれの描画データを読み出し、入力する。そして、描画領域内に再配置して、チップマージ処理を行なう。そして、処理が実行された後の描画データは、磁気ディスク装置312に格納される。
In the data processing step (S102), drawing data of each of the plurality of chips is read from the
ブロック分割工程(S104)として、上段の工程でデータ処理された描画データを展開して、チップ或いは各ストライプを複数のブロック領域に仮想分割する。この際、上述したように既にバッファ容量を超えない最適なブロックサイズが求まっているので、描画装置にはこのブロックサイズが設定される。そして、設定されたブロックサイズで複数のブロック領域に仮想分割することになる。 As the block division step (S104), the drawing data processed in the upper step is developed, and the chip or each stripe is virtually divided into a plurality of block areas. At this time, as described above, since an optimum block size that does not exceed the buffer capacity has already been obtained, this block size is set in the drawing apparatus. Then, it is virtually divided into a plurality of block areas with the set block size.
セル配置工程(S106)として、描画データをさらに展開して、各ブロック内にレイアウトされたセルを配置する。 In the cell placement step (S106), the drawing data is further expanded to place the laid out cells in each block.
クラスタ分割工程(S108)として、描画データをさらに展開して、各セルを複数のクラスタに仮想分割する。 In the cluster dividing step (S108), the drawing data is further expanded and each cell is virtually divided into a plurality of clusters.
パターン分割工程(S110)として、描画データをさらに展開して、各クラスタ34を各クラスタ内にレイアウトされた複数の図形(パターン)に分割する。
In the pattern dividing step (S110), the drawing data is further developed to divide each
フォーマット変換工程(S120)として、描画データに定義されるデータを変換する。描画データをフォーマット変換することで、ショットデータへと変換される前段階となる中間データを生成する。そして、中間データはバッファメモリ314に一時的に格納される。ここで、実施の形態1では、既にバッファメモリ314のメモリ容量を超えないようにブロックサイズを指定しているので、バッファオーバーフローといった演算処理エラーを引き起こしてしまうことを防止することができる。その結果、演算処理エラーが生じて描画ができなくなってしまうといった不具合を防止することができる。
In the format conversion step (S120), data defined in the drawing data is converted. By converting the format of the drawing data, intermediate data that is a stage before being converted into shot data is generated. The intermediate data is temporarily stored in the
ショットデータ生成工程(S122)として、バッファメモリ314から中間データを読み出し、ショットデータを生成する。以上のようにして生成されたショットデータは磁気ディスク装置316に格納される。
As a shot data generation step (S122), intermediate data is read from the
そして、描画装置は、以上のように生成されたショットデータにより制御された電子ビームを用いて以下のように試料にパターンを描画する。 Then, the drawing apparatus draws a pattern on the sample as follows using the electron beam controlled by the shot data generated as described above.
以上のように、実施の形態1における描画データの分割領域サイズの取得方法およびその装置によれば、バッファメモリ314のメモリ容量を超えないようにブロックサイズを簡易に取得することができる。
As described above, according to the drawing data divided region size acquisition method and apparatus thereof according to
以上、具体例を参照しつつ実施の形態について説明した。しかし、本発明は、これらの具体例に限定されるものではない。 The embodiments have been described above with reference to specific examples. However, the present invention is not limited to these specific examples.
また、装置構成や制御手法等、本発明の説明に直接必要しない部分等については記載を省略したが、必要とされる装置構成や制御手法を適宜選択して用いることができる。例えば、描画データの分割領域サイズの取得装置100を制御する制御部構成や描画装置の構成については、記載を省略したが、必要とされる構成等を適宜選択して用いることは言うまでもない。
In addition, although descriptions are omitted for parts and the like that are not directly required for the description of the present invention, such as a device configuration and a control method, a required device configuration and a control method can be appropriately selected and used. For example, the description of the configuration of the control unit that controls the drawing data divided region
その他、本発明の要素を具備し、当業者が適宜設計変更しうる全ての描画データの分割領域サイズの取得方法及び描画データの分割領域サイズの取得装置は、本発明の範囲に包含される。 In addition, any drawing data divided region size acquisition method and drawing data divided region size acquisition apparatus that include elements of the present invention and that can be appropriately modified by those skilled in the art are included in the scope of the present invention.
10 チップ
12 中間データ
20 ストライプ
30 ブロック
32 セル
34 クラスタ
36 図形
40 カットライン
42 マージン
44 クラスタ境界
52,54,56 図形
60 データ量リスト
100 分割領域サイズの取得装置
110 制御計算機
111 入力部
112 マージ処理部
114 セル抽出部
116 分割部
118 図形数見積り部
120 セルデータ量見積り部
122 判定部
124 ブロックデータ量見積り部
126 リスト作成部
132 出力部
134 メモリ
136 外部I/F
138,310,312,316 磁気ディスク装置
314 バッファメモリ
330 電子線
340 試料
410 第1のアパーチャ
420 第2のアパーチャ
411 開口
421 可変成形開口
430 荷電粒子ソース
10 chip 12
138, 310, 312, 316
Claims (5)
所定の分割領域サイズを入力し、前記描画データに定義される描画領域を前記所定の分割領域サイズの複数の分割領域に分割する工程と、
前記描画データに定義された図形が分割される確率に基づいて導かれる分割後の図形個数期待値を用いて、各分割領域内に配置される図形のデータ量を見積もる工程と、
分割領域毎の前記データ量を出力する工程と、
を備えたことを特徴とする描画データの分割領域データ量の取得方法。 Inputting drawing data for drawing a pattern on a sample using a charged particle beam;
A step of inputting a predetermined divided area size and dividing a drawing area defined in the drawing data into a plurality of divided areas having the predetermined divided area size;
Using the expected figure number after division derived based on the probability that the figure defined in the drawing data is divided, and estimating the data amount of the figure arranged in each divided area;
Outputting the data amount for each divided region;
A method for acquiring a divided area data amount of drawing data.
前記重なり部分のサイズ(2f)と前記小領域のサイズ(S)との中間のサイズの図形は図形サイズ(L)を用いて表すと前記サイズについて前記確率が(L−2f)/Sになり、
図形サイズ(L)と2以上の整数(n)とを用いて表すと(n−1)S≦L<nSの範囲となるサイズの図形は前記サイズについて前記確率が(L−2f)/(nS−(n−1)×2f)となることを特徴とする請求項1記載の描画データの分割領域データ量の取得方法。 A graphic having a size equal to or smaller than the size (2f) of the overlapping portion in a plurality of small regions that divide a cell constituted by at least one graphic defined in the drawing data with an overlapping portion has the probability of the size. 0,
If a figure having an intermediate size between the size (2f) of the overlapping portion and the size (S) of the small area is expressed using a figure size (L), the probability of the size is (L-2f) / S. ,
When expressed using a figure size (L) and an integer (n) of 2 or more, a figure having a size in the range of (n−1) S ≦ L <nS has the probability (L−2f) / ( 2. The method for acquiring the divided area data amount of drawing data according to claim 1, wherein nS- (n-1) * 2f).
前記重なり部分のサイズ(2f)と前記小領域のサイズ(S)との中間のサイズの図形は図形サイズ(L)を用いて表すと前記サイズについての前記図形個数期待値が1+(L−2f)/Sになり、
図形サイズ(L)と2以上の整数(n)とを用いて表すと(n−1)S≦L<nSの範囲に入るサイズの図形は前記サイズについての前記図形個数期待値がn+(L−2f)/(nS−(n−1)×2f)になることを特徴とする請求項2記載の描画データの分割領域データ量の取得方法。 The figure having a size equal to or smaller than the size (2f) of the overlapping portion has the figure number expectation value of 1 for the size,
When a figure having an intermediate size between the size (2f) of the overlapping portion and the size (S) of the small area is represented using a figure size (L), the expected figure number for the size is 1+ (L-2f). ) / S,
When expressed using a graphic size (L) and an integer (n) of 2 or more, a graphic having a size that falls within the range of (n−1) S ≦ L <nS has an expected value of the graphic number n + (L -2f) / (nS- (n-1) .times.2f). 3. The method according to claim 2, wherein the divided data amount of drawing data is obtained.
所定の分割領域サイズを入力し、前記描画データに定義される描画領域を前記所定の分割領域サイズの複数の分割領域に分割する分割部と、
前記描画データに定義された図形が分割される確率に基づいて導かれる分割後の図形個数期待値を用いて、各分割領域内に配置される図形のデータ量を見積もる見積もり部と、
分割領域毎の前記データ量を出力する出力部と、
を備えたことを特徴とする描画データの分割領域データ量の取得装置。 A storage unit for inputting and storing drawing data for drawing a pattern on a sample using a charged particle beam;
A division unit that inputs a predetermined division area size and divides the drawing area defined in the drawing data into a plurality of division areas having the predetermined division area size;
Using an expected figure number after division derived based on the probability that the figure defined in the drawing data is divided, and an estimation unit for estimating the data amount of the figure arranged in each divided area;
An output unit for outputting the data amount for each divided area;
An apparatus for acquiring a divided area data amount of drawing data.
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