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JP5216725B2 - Substrate processing apparatus and substrate processing method - Google Patents
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Description

本発明は基板処理装置及び基板処理方法に係り、更に詳しくは、コンパクトディスク、DVD等のディスク基板を成形する際に、当該ディスク基板の反り変形等を低減させることのできる基板処理装置及び基板処理方法に関する。   The present invention relates to a substrate processing apparatus and a substrate processing method, and more particularly, a substrate processing apparatus and a substrate processing capable of reducing warpage deformation and the like of a disk substrate such as a compact disk and a DVD. Regarding the method.

コンパクトディスク等のディスク基板は射出成形により成形される。射出成形は、加熱溶融された樹脂を金型キャビティ内に充填して得られるものであることから、金型から取り出した直後においては、未硬化状態にあり、その後の処理に際して硬化するまでの間に反り等の変形が生じ易い。   A disk substrate such as a compact disk is formed by injection molding. Since injection molding is obtained by filling the mold cavity with heat-melted resin, it is in an uncured state immediately after removal from the mold and until it is cured during subsequent processing. Deformation such as warpage is likely to occur.

特許文献1には、ディスク基板の反りを防止する基板処理装置が開示されている。同装置は、ディスク基板の中央部を支持するディスク受け台と、このディスク受け台を回転させる回転駆動装置と、ディスク受け台の下面側から気体を噴出させる気体吹き付け手段とを備えて構成されている。この基板処理装置は、回転駆動装置の駆動によって生じるディスク基板の遠心力と、気体吹き付け手段から吹き付けられる冷却空気によって、反りを防止しながら硬化が促進されるようになっている。   Patent Document 1 discloses a substrate processing apparatus that prevents a disk substrate from warping. The apparatus includes a disk cradle that supports the central portion of the disk substrate, a rotation drive device that rotates the disk cradle, and a gas blowing unit that ejects gas from the lower surface side of the disk cradle. Yes. In this substrate processing apparatus, curing is promoted while preventing warpage by the centrifugal force of the disk substrate generated by driving the rotary drive device and the cooling air blown from the gas blowing means.

特許第3593660号公報Japanese Patent No. 3593660

しかしながら、特許文献1に記載された基板処理装置にあっては、回転駆動装置と気体吹き付け手段とがそれぞれが独立した構成となっているため、回転駆動装置と気体吹き付け手段との2系統の駆動装置が必要となり、装置の大型化や、エネルギーを無駄に消費する、という不都合がある。   However, in the substrate processing apparatus described in Patent Document 1, since the rotation driving device and the gas blowing means are independent from each other, the two systems of the rotation driving device and the gas blowing means are driven. An apparatus is required, and there is an inconvenience that the apparatus is increased in size and energy is wasted.

[発明の目的]
本発明は、このような不都合に着目して案出されたものであり、その目的は、ディスク基板を回転させる駆動装置を有効に利用して構造の簡易化を達成するとともに、ディスク基板の反りを防止しつつ、当該ディスクの硬化促進を図ることのできる基板処理装置及び基板処理方法を提供することにある。
[Object of invention]
The present invention has been devised by paying attention to such inconveniences, and an object of the present invention is to effectively use a drive device for rotating a disk substrate to achieve a simplified structure and to warp the disk substrate. It is an object of the present invention to provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method capable of promoting curing of the disk while preventing the above-described problem.

前記目的を達成するため、本発明は、硬化前のディスク基板を平面内で回転させることで、当該ディスク基板の反りを低減しつつ硬化させる基板処理装置であって、前記ディスク基板の中央部を支持する支持手段と、前記支持手段に回転力を付与する駆動手段と、前記駆動手段の出力軸に連結されるとともに当該出力軸の回転によって前記ディスク基板の面に空気を引き当てる気流発生手段とを備える、という構成を採っている。   In order to achieve the above object, the present invention provides a substrate processing apparatus for curing a disk substrate before curing while rotating the disk substrate in a plane while reducing warpage of the disk substrate. Supporting means for supporting, driving means for applying a rotational force to the supporting means, and airflow generating means connected to the output shaft of the driving means and attracting air to the surface of the disk substrate by rotation of the output shaft. It has the structure of preparing.

本発明において、前記空気の通路を確保する筒状の導風手段を更に含むことが好ましい。   In the present invention, it is preferable to further include a cylindrical air guide means for securing the air passage.

また、前記導風手段は、空気の入り口に外側に反り返るファンネル部が設けられる構成を採るとよい。   Moreover, the said air guide means is good to take the structure by which the funnel part which curves outward is provided in the entrance of air.

更に、前記導風手段は、両端が閉塞される筒状ケースと、当該筒状ケースの一部に設けられた排気穴と、筒状ケース内に空気を引き込む吸気穴とにより構成することもできる。   Further, the air guide means may be constituted by a cylindrical case whose both ends are closed, an exhaust hole provided in a part of the cylindrical case, and an intake hole for drawing air into the cylindrical case. .

また、前記気流発生手段は回転羽根により構成され、当該回転羽根は前記支持手段と一体に回転する、という構成を採っている。   The airflow generating means is constituted by a rotating blade, and the rotating blade rotates integrally with the supporting means.

更に、本発明は、硬化前のディスク基板の中央部を支持する支持手段と、当該支持手段に回転力を付与する駆動手段とを備えた基板処理装置を用いて前記ディスク基板の反りを低減しつつ硬化させる基板処理方法であって、前記駆動手段の出力軸に連結されて気流を形成する気流発生手段を設け、前記出力軸の回転で、前記ディスク基板と前記気流発生手段とを同時に回転させることで、前記ディスク基板に空気を引き当てて当該ディスク基板を冷却しつつ硬化させる、という手法を採っている。   Furthermore, the present invention reduces warpage of the disk substrate using a substrate processing apparatus comprising a support means for supporting the central portion of the disk substrate before curing and a drive means for applying a rotational force to the support means. A substrate processing method for curing while providing an airflow generating means connected to the output shaft of the driving means to form an airflow, and rotating the output shaft simultaneously rotates the disk substrate and the airflow generating means. Thus, a technique is adopted in which air is applied to the disk substrate and the disk substrate is cured while being cooled.

本発明によれば、ディスク基板を回転させる駆動手段の出力軸に気流発生手段が連結されているため、ディスク基板に遠心力を付与して当該ディスク基板の反りを防止若しくは低減すると同時に、ディスク基板に向かって引き込まれる空気の流れでディスク基板が冷却されて硬化促進される。よって、従来では回転駆動装置と気体吹き付け手段との2系統必要だった駆動装置を1系統で賄うことができるため、装置が大型化するといった不都合を解消することができる上、ディスク基板の回転のみに使われていたエネルギーをディスク基板の冷却にも使用することができ、エネルギーを無駄に消費するといった不都合をも解消することができる。
また、導風手段を設けることで、冷却風としての空気の通路を確保して当該空気が確実にディスク基板に当たるようにすることができる。
更に、導風手段の空気の入り口側にファンネル部を設けた場合には、空気の吸気抵抗が減少し、当該空気の吸入効率を上げることができ、効果的に導風手段に空気を導入してディスク基板を冷却することができる。
また、前記筒状ケースに排気穴と吸気穴とを備えた導風手段では、略閉塞構造としても、筒状ケース内おける空気の温度上昇を回避でき、また、筒状ケースの内面形状を曲面形状等にすることで、旋回流若しくは渦流を生じさせて空気の流れを促進してディスク基板の硬化を一層促進することができる。
更に、気流発生手段を回転羽根により構成することで、ディスク基板の回転数と同一の回転数による空気引き込みを行うことができる。
According to the present invention, since the airflow generating means is connected to the output shaft of the driving means for rotating the disk substrate, the centrifugal force is applied to the disk substrate to prevent or reduce the warpage of the disk substrate, and at the same time The disk substrate is cooled by the flow of air drawn toward the disk to accelerate curing. Therefore, since the drive device which conventionally required two systems of the rotation drive device and the gas blowing means can be covered by one system, the problem that the device becomes large can be solved and only the rotation of the disk substrate can be solved. The energy used for the disk can also be used for cooling the disk substrate, and the inconvenience of wasting energy can be solved.
Further, by providing the air guiding means, it is possible to secure a passage of air as cooling air and ensure that the air hits the disk substrate.
Further, when a funnel portion is provided on the air inlet side of the air guiding means, the air intake resistance is reduced, the efficiency of air suction can be increased, and air is effectively introduced into the air guiding means. The disk substrate can be cooled.
Further, in the air guiding means provided with the exhaust hole and the intake hole in the cylindrical case, it is possible to avoid an increase in the temperature of the air in the cylindrical case, and the inner surface shape of the cylindrical case is a curved surface, even if it is a substantially closed structure. By adopting the shape or the like, it is possible to generate a swirling flow or a vortex flow and promote the air flow to further promote the hardening of the disk substrate.
Furthermore, by constructing the airflow generating means with rotating blades, air can be drawn in at the same rotational speed as that of the disk substrate.

実施形態に係る基板処理装置の正面図。The front view of the substrate processing apparatus which concerns on embodiment. 図1の平面図Plan view of FIG. 基板処理装置の変形例を示す正面図。The front view which shows the modification of a substrate processing apparatus. 他の変形例を示す模式図。The schematic diagram which shows another modification.

以下、本発明の好ましい実施の形態について図面を参照しながら説明する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1及び図2において、基板処理装置10は、射出成形して得られた硬化前のディスク基板としてのコンパクトディスクD(以下、単に「ディスクD」という)を平面内で回転させて、当該ディスクDの反りを低減しつつ硬化させる装置として構成されている。この基板処理装置10は、ディスクDの中央部を支持する支持手段11と、この支持手段11に回転力を付与する駆動手段13と、駆動手段13の出力軸23に連結されるとともに当該出力軸23の回転によってディスクDの面に空気を引き当てる気流発生手段15と、ディスクDの面に向かう空気の通路を確保する筒状の導風手段17とを備えて構成されている。   1 and 2, the substrate processing apparatus 10 rotates a compact disk D (hereinafter simply referred to as “disk D”) as a disk substrate before curing obtained by injection molding in a plane, and It is comprised as an apparatus which hardens | cures, reducing the curvature of D. The substrate processing apparatus 10 is connected to a support means 11 for supporting the central portion of the disk D, a drive means 13 for applying a rotational force to the support means 11, and an output shaft 23 of the drive means 13 and the output shaft. An airflow generating means 15 for attracting air to the surface of the disk D by rotation of the disk 23 and a cylindrical airflow guiding means 17 for securing a passage of air toward the surface of the disk D are provided.

前記支持手段11は、ディスクDの中央部に設けられた穴D1内に位置し、図示しないばね等の付勢手段によって互いに離れる方向に移動することで、ディスクDを保持するチャック20と、このチャック20を移動可能に支持するとともに、ディスクDの中央領域を図1中下方から支持する支持体21とを含む。   The support means 11 is located in a hole D1 provided in the central portion of the disk D, and moves in a direction away from each other by a biasing means such as a spring (not shown). A support 21 that supports the chuck 20 in a movable manner and supports the central region of the disk D from below in FIG.

前記駆動手段13は、モータMからなり、このモータMの出力軸23に支持手段11が連結されている。この駆動手段13は、略十字形状のフレームFを介して導風手段17内の内部中央に保持される。   The driving means 13 includes a motor M, and a support means 11 is connected to an output shaft 23 of the motor M. The driving means 13 is held at the center inside the air guiding means 17 through a substantially cross-shaped frame F.

前記気流発生手段15は、支持体21の外周に固定された回転羽根27により構成され、出力軸23の回転によってディスクDと一体回転可能に設けられている。この回転羽根27は、特に限定されるものではないが、本実施形態では3枚用いられており、出力軸23の周方向120度間隔を隔てて配置されているが、回転羽根27の数は限定されることはない。また、回転羽根27は、出力軸23を中心としたときの外周縁が、平面視でディスクDの外周縁よりも外側に位置する大きさに設けられているが、ディスクDの外周縁よりも内側に位置する大きさに設けてもよい。   The air flow generating means 15 is constituted by a rotating blade 27 fixed to the outer periphery of the support 21 and is provided so as to be able to rotate integrally with the disk D by the rotation of the output shaft 23. Although there are no particular limitations on the rotary blades 27, three blades are used in the present embodiment and are arranged at intervals of 120 degrees in the circumferential direction of the output shaft 23, but the number of rotary blades 27 is There is no limit. Further, the rotary blade 27 is provided such that the outer peripheral edge when the output shaft 23 is the center is positioned outside the outer peripheral edge of the disk D in a plan view, but is larger than the outer peripheral edge of the disk D. You may provide in the magnitude | size located inside.

前記導風手段17は、上下に開口部30A、30Bを有する両端開放型の筒状部材30により構成されている。この筒状部材30は、回転羽根27が回転したときに、上部の開口部30Aから外部空気を内部に引き込むとともに、下部の開口部30Bから外部に空気を排出するようになっている。これにより、図1中矢印GAで示されるように、冷却風としての空気の通路を確保して当該空気が確実にディスク基板Dに当たるようになっており、当該ディスクDを冷却して硬化促進するようになっている。また、筒状部材30の上部の開口部30Aには、ファンネル部30Cが設けられている。これにより、空気の吸気抵抗が減少し、当該空気の吸入効率を上げることができ、効果的に導風手段に空気を導入してディスク基板Dを冷却することができる。   The air guide means 17 is constituted by a cylindrical member 30 having open ends 30A and 30B at the upper and lower ends. When the rotary blade 27 rotates, the tubular member 30 draws outside air from the upper opening 30A and discharges air from the lower opening 30B to the outside. Thereby, as indicated by an arrow GA in FIG. 1, a passage of air as cooling air is secured so that the air reliably hits the disk substrate D, and the disk D is cooled to accelerate hardening. It is like that. A funnel portion 30 </ b> C is provided in the opening 30 </ b> A at the top of the cylindrical member 30. As a result, the air intake resistance is reduced, the air intake efficiency can be increased, and the disk substrate D can be cooled by effectively introducing air into the air guide means.

次に、本実施形態に係る基板処理装置10でディスクDを処理する作用について説明する。   Next, the effect | action which processes the disk D with the substrate processing apparatus 10 which concerns on this embodiment is demonstrated.

射出成型機の金型を開放して取り出される硬化前のディスクDは、適宜な保持機構を有する図示しない搬送手段によって基板処理装置10の支持体21に受け渡され、当該ディスクDの穴D1内にチャック20が入り込んで支持体21に対して回転不能に保持される。この際、ディスク基板Dは硬化前の状態にあるため、図1中二点鎖線で示されるように、外周縁が自重により相対的に垂れ下がった状態となる。そして、駆動手段13のモータMを駆動して支持体21を介してディスクDを矢印R方向に所定の回転数(例えば4000rpm)で回転させることで、当該ディスクDに遠心力fが付与され、当該ディスクDが平面姿勢に維持される。   The uncured disc D that is taken out by opening the mold of the injection molding machine is delivered to the support 21 of the substrate processing apparatus 10 by a conveying means (not shown) having an appropriate holding mechanism, and is inside the hole D1 of the disc D. The chuck 20 enters and is held so as not to rotate with respect to the support 21. At this time, since the disk substrate D is in a state before being cured, as shown by a two-dot chain line in FIG. 1, the outer peripheral edge is relatively hung down by its own weight. Then, by driving the motor M of the driving means 13 and rotating the disk D in the direction of the arrow R at a predetermined rotational speed (for example, 4000 rpm) via the support member 21, a centrifugal force f is applied to the disk D, The disk D is maintained in a flat posture.

ディスクDの回転と同時に、支持体21に固定された回転羽根27が一体的に回転することにより、筒状部材30の上部の開口部30Aから空気を引き込み、下部の開口部30Bから外部に放出する気流が発生する。これにより、筒状部材30内に引き込まれた空気がディスクDの上面に吹き当てられて冷却を行うこととなる。従って、ディスクDは遠心力で自重に伴う反りを防止されつつ硬化が促進されることとなる。   Simultaneously with the rotation of the disk D, the rotating blades 27 fixed to the support 21 rotate integrally, thereby drawing air from the upper opening 30A of the cylindrical member 30 and releasing it from the lower opening 30B to the outside. An air current is generated. As a result, the air drawn into the cylindrical member 30 is blown against the upper surface of the disk D to perform cooling. Therefore, the disk D is hardened while being prevented from warping due to its own weight due to centrifugal force.

従って、このような実施形態によれば、ディスクDを回転させる駆動手段13を利用して回転羽根27が同時に一体回転することでディスク冷却用の気流を発生させることができ、個別的に空気をディスクに吹き付ける従来装置に比べて構成が簡単になるとともに、無駄なエネルギーを消費することがない基板処理装置を提供することができる。
また、導風手段17を構成する筒状部材30の内部に冷却風としての空気の通路を確保することができるので、空気をディスクDの上面に確実に当てることができる。
Therefore, according to such an embodiment, the airflow for cooling the disk can be generated by simultaneously rotating the rotating blades 27 using the driving means 13 that rotates the disk D, and the air is individually supplied. It is possible to provide a substrate processing apparatus that has a simpler structure than a conventional apparatus that sprays on a disk and that does not consume useless energy.
Further, since a passage of air as cooling air can be secured inside the cylindrical member 30 constituting the air guiding means 17, air can be reliably applied to the upper surface of the disk D.

以上のように、本発明を実施するための最良の構成、方法等は、前記記載で開示されているが、本発明は、これに限定されるものではない。
すなわち、本発明は、主に特定の実施形態に関して特に図示、説明されているが、本発明の技術的思想及び目的の範囲から逸脱することなく、以上説明した実施形態に対し、形状、位置若しくは配置等に関し、必要に応じて当業者が様々な変更を加えることができるものである。
As described above, the best configuration, method and the like for carrying out the present invention have been disclosed in the above description, but the present invention is not limited to this.
In other words, the present invention has been illustrated and described mainly with respect to specific embodiments, but without departing from the scope of the technical idea and object of the present invention, the shape, position, or With respect to the arrangement and the like, those skilled in the art can make various changes as necessary.

例えば、前記実施形態では導風手段17の筒状部材30は上下開放型としたが、これに限定されるものではない。例えば、図3に示されるように、下部側がベース40で閉塞される一方、上部側に蓋体41が着脱自在に設けられて両端が閉塞される筒状ケース43と、当該筒状ケース43の下部外周に形成された排気穴45と、筒状ケース43内に空気を引き込む吸気穴46とにより閉塞型に近い構成することもできる。この場合、ベース40や蓋体41は、断面視略m字形状となるドーム型とされることで、回転羽根が回転したときに、筒状ケース43内で旋回流を形成しやすくなる。また、筒状ケース43内の空気が排気穴45から外部に排気される一方、外気が吸気穴46から導入されてディスクDの上面に吹き当てられるようになっている。   For example, in the above embodiment, the cylindrical member 30 of the air guide means 17 is an open top and bottom type, but is not limited to this. For example, as shown in FIG. 3, a cylindrical case 43 whose lower side is closed by a base 40, a lid 41 is detachably provided on the upper side and both ends are closed, and the cylindrical case 43 The exhaust hole 45 formed on the outer periphery of the lower portion and the intake hole 46 for drawing air into the cylindrical case 43 can be configured close to a closed type. In this case, the base 40 and the lid body 41 are formed in a dome shape having a substantially m-shaped cross-sectional view, so that it becomes easy to form a swirl flow in the cylindrical case 43 when the rotary blade rotates. In addition, air in the cylindrical case 43 is exhausted to the outside through the exhaust hole 45, while outside air is introduced from the intake hole 46 and blown against the upper surface of the disk D.

また、前記実施形態では、コンパクトディスクDを処理対象としたが、DVD等、種々のディスク基板を処理対象とすることができる。この場合において、ディスクの直径に応じて回転数を変化させる等の手段を講じて反り防止を図れば足りる。   Moreover, in the said embodiment, although the compact disk D was made into the process target, various disk substrates, such as DVD, can be made into a process target. In this case, it is sufficient to prevent warping by taking measures such as changing the rotational speed in accordance with the diameter of the disk.

更に、本発明の基板処理装置は、ディスク基板にスピンコートを施す基板処理装置とすることもできる。この場合、処理対象物を硬化後のディスク基板とし、当該ディスク基板を平面内で回転させることでコート剤の遠心(延伸)を行うと共に、気流発生手段によって当該コート剤の硬化を促進させることができる。   Furthermore, the substrate processing apparatus of the present invention may be a substrate processing apparatus that applies spin coating to a disk substrate. In this case, the object to be treated is a disk substrate after curing, and the disk substrate is rotated in a plane to perform centrifugation (stretching) of the coating agent, and to accelerate the curing of the coating agent by the airflow generating means. it can.

また、気流発生手段は回転羽根27以外に、コンプレッサ等を採用することができる。この場合、ディスク基板を回転させる駆動手段の出力によって、コンプレッサ等を駆動させてディスク基板に空気を吹き付けるようにすればよい。   In addition to the rotating blades 27, a compressor or the like can be employed as the airflow generation means. In this case, air may be blown onto the disk substrate by driving a compressor or the like by the output of the driving means for rotating the disk substrate.

更に、図1の筒状部材の開口部30Aや、図3の筒状ケース43の吸気穴46にエアフィルターを設け、空気中に含まれる塵埃等を除去させる機能を付加することができる。   Further, an air filter can be provided in the opening 30A of the cylindrical member in FIG. 1 or the intake hole 46 of the cylindrical case 43 in FIG. 3 to add a function of removing dust or the like contained in the air.

また、図1に示されるディスク処理装置10は、天地反転タイプとすることもできる。   Further, the disk processing device 10 shown in FIG.

更に、図4に模式的に示されるように、ギヤ、プーリ、スプロケット等を適宜に組み合わせて構成可能な出力方向変換手段DCと、シャフト、ベルト、チェイン等の出力伝達手段OTとを適宜に組み合わせ、モータMの出力軸23の回転力を回転羽根27に伝達するように構成してもよい。   Further, as schematically shown in FIG. 4, an output direction conversion means DC that can be configured by appropriately combining gears, pulleys, sprockets, etc., and an output transmission means OT such as a shaft, belt, chain, etc., are appropriately combined. The rotational force of the output shaft 23 of the motor M may be transmitted to the rotary blade 27.

10 基板処理装置
11 支持手段
13 駆動手段
15 気流発生手段
17 導風手段
23 出力軸
27 回転羽根
30C ファンネル部
43 筒状ケース
45 排気穴
46 吸気穴
D コンパクトディスク(ディスク基板)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Substrate processing apparatus 11 Support means 13 Drive means 15 Airflow generation means 17 Air guide means 23 Output shaft 27 Rotating blade 30C Funnel part 43 Cylindrical case 45 Exhaust hole 46 Intake hole D Compact disc (disc substrate)

Claims (5)

硬化前のディスク基板を平面内で回転させることで、当該ディスク基板の反りを低減しつつ硬化させる基板処理装置であって、
前記ディスク基板の中央部を支持する支持手段と、
前記支持手段に回転力を付与する駆動手段と、
前記駆動手段の出力軸に連結されるとともに当該出力軸の回転によって前記ディスク基板の面に空気を引き当てる気流発生手段とを備えたことを特徴とする基板処理装置。
A substrate processing apparatus that cures while reducing warpage of the disk substrate by rotating the disk substrate before curing in a plane,
A support means for supporting a central portion of the disk substrate;
Drive means for applying a rotational force to the support means;
An apparatus for processing a substrate, comprising: an airflow generating means coupled to the output shaft of the drive means and for attracting air to the surface of the disk substrate by rotation of the output shaft.
前記空気の通路を確保する筒状の導風手段を更に含むことを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。   2. The substrate processing apparatus according to claim 1, further comprising a cylindrical air guide means for securing the air passage. 前記導風手段は、空気の入り口に外側に反り返るファンネル部が設けられていることを特徴とする請求項2記載の基板処理装置。   3. The substrate processing apparatus according to claim 2, wherein the air guide means is provided with a funnel portion that warps outward at an air inlet. 前記導風手段は、両端が閉塞される筒状ケースと、当該筒状ケースの一部に設けられた排気穴と、筒状ケース内に空気を引き込む吸気穴とにより構成されていることを特徴とする請求項2記載の基板処理装置。   The air guide means includes a cylindrical case whose both ends are closed, an exhaust hole provided in a part of the cylindrical case, and an intake hole that draws air into the cylindrical case. The substrate processing apparatus according to claim 2. 硬化前のディスク基板の中央部を支持する支持手段と、当該支持手段に回転力を付与する駆動手段とを備えた基板処理装置を用いて前記ディスク基板の反りを低減しつつ硬化させる基板処理方法であって、
前記駆動手段の出力軸に連結されて気流を形成する気流発生手段を設け、
前記出力軸の回転で、前記ディスク基板と前記気流発生手段とを同時に回転させることで、前記ディスク基板に空気を引き当てて当該ディスク基板を冷却しつつ硬化させることを特徴とする基板処理方法。
A substrate processing method for curing while reducing warpage of the disk substrate using a substrate processing apparatus comprising a support means for supporting the central portion of the disk substrate before curing and a driving means for applying a rotational force to the support means. Because
An airflow generating means connected to the output shaft of the driving means to form an airflow;
A substrate processing method comprising: simultaneously rotating the disk substrate and the air flow generating means by rotating the output shaft to attract air to the disk substrate and curing the disk substrate while cooling.
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