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JP5234866B2 - Light irradiation device - Google Patents
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JP5234866B2 - Light irradiation device - Google Patents

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JP5234866B2 JP2012032263A JP2012032263A JP5234866B2 JP 5234866 B2 JP5234866 B2 JP 5234866B2 JP 2012032263 A JP2012032263 A JP 2012032263A JP 2012032263 A JP2012032263 A JP 2012032263A JP 5234866 B2 JP5234866 B2 JP 5234866B2
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Description

本発明は光照射装置に係り、更に詳しくは、光反応型の接着シートが貼付された半導体ウエハ等の処理対象物に光を照射することで、接着シートの接着力を消失若しくは低下させることができる光照射装置に関する。   The present invention relates to a light irradiation apparatus. More specifically, the adhesive force of an adhesive sheet can be lost or reduced by irradiating light to a processing object such as a semiconductor wafer to which a photoreactive adhesive sheet is attached. It is related with the light irradiation apparatus which can be performed.

半導体ウエハ(以下、単に、「ウエハ」と称する)の処理装置においては、ウエハの回路面に保護用の接着シートを貼付して裏面研削を行ったり、ダイシングテープを貼付して複数のチップに個片化したりする処理が行われる。このような処理に使用される接着シートには、接着剤に紫外線硬化型(光反応型)のものが採用されており、上記のような処理の後、紫外線照射装置(光照射装置)により接着剤を硬化させることによって接着力を弱めて、ウエハが破損しないように容易に接着シートの剥離が行えるようになっている。   In a processing apparatus for a semiconductor wafer (hereinafter simply referred to as “wafer”), a protective adhesive sheet is applied to the circuit surface of the wafer to perform back surface grinding, or a dicing tape is applied to a plurality of chips. A process of tidy up is performed. The adhesive sheet used for such treatment employs an ultraviolet curable (photoreactive) adhesive as the adhesive, and is bonded by an ultraviolet irradiation device (light irradiation device) after the above treatment. The adhesive is weakened by curing the agent, and the adhesive sheet can be easily peeled off so that the wafer is not damaged.

前記紫外線照射装置としては、例えば、特許文献1に開示されている。同文献における紫外線照射装置は、接着シートに貼付されたウエハを多段型に収容するケースと、当該ケースの下部に位置するとともに上面側に板ガラスが配置された紫外線照射手段と、ウエハの搬出入手段とを備え、当該搬出入手段がウエハをケースから一枚ずつ取り出して前記板ガラス上にウエハを位置させることで紫外線の照射が可能となっている。   For example, Patent Document 1 discloses the ultraviolet irradiation device. The ultraviolet irradiation apparatus in the same document includes a case that accommodates wafers affixed to an adhesive sheet in a multi-stage shape, an ultraviolet irradiation means that is located at the lower part of the case and has a plate glass disposed on the upper surface side, and a wafer carry-in / out means The unloading / unloading means takes out the wafers one by one from the case and positions the wafers on the plate glass so that ultraviolet irradiation can be performed.

特開2007−329300号公報JP 2007-329300 A

しかしながら、特許文献1に開示された紫外線照射装置にあっては、一枚のウエハ毎に紫外線を照射する構成であるため、多数のウエハを紫外線照射の対象とする場合の処理効率が非常に低いという不都合がある。   However, since the ultraviolet irradiation apparatus disclosed in Patent Document 1 is configured to irradiate ultraviolet rays for each wafer, the processing efficiency when a large number of wafers are subjected to ultraviolet irradiation is very low. There is an inconvenience.

[発明の目的]
本発明は、このような不都合に着目して案出されたものであり、その目的は、複数の処理対象物に対して、同時に光を照射して反応させることのできる高能率型の紫外線照射装置を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、複数の処理対象物を光照射の対象としたときに、処理対象物の形状や存否に対応して光照射を制御することのできる紫外線照射装置を提供することにある。
[Object of invention]
The present invention has been devised by paying attention to such inconveniences, and its purpose is to provide a high-efficiency ultraviolet irradiation capable of simultaneously irradiating and reacting a plurality of processing objects. To provide an apparatus.
Another object of the present invention is to provide an ultraviolet irradiation device capable of controlling light irradiation in accordance with the shape and presence / absence of a processing object when a plurality of processing objects are targets of light irradiation. There is.

前記目的を達成するため、本発明は、光反応型の接着シートが貼付されるとともに、相互に所定間隔を隔てて支持された複数の処理対象物のシート貼付面側を被照射面として光を照射する光照射装置において、前記被照射面に光を照射する複数の照射体を有する光照射手段と、前記複数の処理対象物と光照射手段とを離間接近方向に相対移動可能に設けられた移動手段とを含み、前記複数の照射体は、移動手段を介して前記複数の処理対象物の被照射面にそれぞれ対向配置可能に設けられ、これら複数の被照射面に対して同時に光照射可能に設けられている、という構成を採っている。   In order to achieve the above-mentioned object, the present invention has a light-reactive adhesive sheet attached thereto and emits light with the sheet application surface side of a plurality of processing objects supported at a predetermined interval from each other as an irradiated surface. In the light irradiation apparatus for irradiation, the light irradiation means having a plurality of irradiation bodies for irradiating the irradiated surface with light, and the plurality of processing objects and the light irradiation means are provided so as to be relatively movable in the approaching and separating directions. The plurality of irradiation bodies are provided so as to be opposed to the irradiated surfaces of the plurality of processing objects via the moving means, and the plurality of irradiated surfaces can be irradiated with light simultaneously. It has a configuration that is provided.

本発明において、前記光照射手段は光源を有し、前記照射体は、光源から発光された光を前記被照射面に照射するための導光部材を含み、当該導光部材が前記処理対象物間に位置可能に設けられる、という構成を採ることができる。   In this invention, the said light irradiation means has a light source, The said irradiation body contains the light guide member for irradiating the said light-emitted surface with the light emitted from the light source, and the said light guide member is the said process target object. It is possible to adopt a configuration in which it can be positioned between them.

また、前記照射体は、前記被照射面に平行な面内であって、前記相対移動方向に直交する方向に配置された単数又は複数の発光ダイオードにより構成されている。   Moreover, the said irradiation body is comprised in the surface parallel to the said to-be-irradiated surface, and is comprised by the one or several light emitting diode arrange | positioned in the direction orthogonal to the said relative movement direction.

更に、前記発光ダイオードは、前記処理対象物の形状に対応した領域のみに光照射する、という構成を採ることができる。   Further, the light emitting diode can be configured to irradiate light only to a region corresponding to the shape of the processing object.

また、前記処理対象物の有無を検知する検知手段を含み、前記光照射手段は、検知手段の検知結果に基づいて照射体の発光と未発光とを制御する発光制御手段を含む構成を採っている。   In addition, it includes a detection unit that detects the presence or absence of the processing object, and the light irradiation unit includes a light emission control unit that controls light emission and non-light emission of the irradiation body based on a detection result of the detection unit. Yes.

更に、前記処理対象物を整列させる整列手段を更に含む構成を採用することができる。   Furthermore, it is possible to adopt a configuration further including an aligning means for aligning the processing objects.

また、前記複数の処理対象物及び光照射手段は、密閉可能なケース内に配置され、当該ケースに不活性ガスが供給可能に設けられる、という構成を採ることが好ましい。   Further, it is preferable that the plurality of processing objects and the light irradiation means are arranged in a case that can be sealed and provided with an inert gas in the case so that an inert gas can be supplied.

本発明によれば、複数の処理対象物に対して同時に光照射を行うことが可能となり、光照射の処理効率を飛躍的に向上させることができる。
また、被照射面に光を照射する導光部材を採用した構成では、複数の処理対象物間に導光部材を位置させて光照射を行うことが可能となる。従って、複数の処理対象物に、一括して光照射を行うことができ、この点からも光照射の効率向上を図ることができる。
更に、発光ダイオードを採用した場合には、省電力化が達成できる他、照射領域の可変設定により、無駄な電力消費が回避可能となる。
また、光照射手段を検知手段の検知結果に基づいて照射体の発光と未発光とを制御する構成では、一部の処理対象物が過大に光照射されてしまうような不都合を未然に防止することができるうえ、発光ダイオードを採用した場合の消費電力を抑制することができる。
更に、整列手段を含む構成とすれば、処理対象物を適性位置に保って光照射ができ、部分的な照射漏れを回避できる。
また、ケース内に不活性ガスが供給可能であれば、例えば、紫外線硬化型の接着シートを採用した場合、酸素阻害による接着剤の硬化不良を防止することができる。
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it becomes possible to light-irradiate with respect to a several process target object simultaneously, and the processing efficiency of light irradiation can be improved greatly.
Moreover, in the structure which employ | adopted the light guide member which irradiates light to a to-be-irradiated surface, it becomes possible to position a light guide member between several process target objects, and to perform light irradiation. Therefore, it is possible to irradiate a plurality of objects to be processed in a lump, and the efficiency of light irradiation can be improved also from this point.
Furthermore, when a light emitting diode is used, power saving can be achieved, and wasteful power consumption can be avoided by variably setting the irradiation area.
Further, in the configuration in which the light irradiation means controls the light emission and non-light emission of the irradiation body based on the detection result of the detection means, it is possible to prevent inconvenience that a part of the processing object is excessively irradiated with light. In addition, power consumption when a light emitting diode is employed can be suppressed.
Furthermore, if it is set as the structure containing an alignment means, a process target object can be kept in a suitable position, light irradiation can be performed, and partial irradiation omission can be avoided.
Further, if an inert gas can be supplied into the case, for example, when an ultraviolet curable adhesive sheet is employed, poor curing of the adhesive due to oxygen inhibition can be prevented.

本実施形態に係る紫外線照射装置の概略斜視図。The schematic perspective view of the ultraviolet irradiation device concerning this embodiment. 処理対象物の概略斜視図。The schematic perspective view of a process target object. 紫外線照射装置の一部を断面視した概略正面図。The schematic front view which looked at a part of ultraviolet irradiation device in cross section. 紫外線照射装置の概略平面図。The schematic plan view of an ultraviolet irradiation device. 紫外線照射装置の動作説明図。Operation | movement explanatory drawing of an ultraviolet irradiation device. 紫外線照射装置の変形例を示す概略平面図。The schematic plan view which shows the modification of an ultraviolet irradiation device.

以下、本発明の好ましい実施の形態について図面を参照しながら説明する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1には、本発明が紫外線照射装置に適用された実施形態に係る概略斜視図が示され、図2には、処理対象物の概略斜視図が示されている。これらの図において、紫外線照射装置10は、回路面に紫外線硬化型(光反応型)の接着シートSが貼付されたウエハWを処理対象物として収容する収容手段11と、ウエハWの接着シートS貼付面側を被照射面として光を照射する光照射手段としての紫外線照射ユニット12と、収容手段11と光照射手段12とを相互に離間接近方向に移動させる移動手段13と、前記収容手段11を昇降可能に支持する支持手段14と、収容手段11内におけるウエハWの有無を検知する検知手段15と、ウエハWの位置を所定位置に整列させる整列手段17と、これら各手段を一体的に収容するケース18とを備えて構成されている。ここで、本実施形態における処理対象物を構成するウエハWは、図2に示されるように、接着シートSが貼付された面の反対側の面からダイシングテープTを介してリングフレームRFにマウントされている。   FIG. 1 shows a schematic perspective view according to an embodiment in which the present invention is applied to an ultraviolet irradiation device, and FIG. 2 shows a schematic perspective view of a processing object. In these drawings, the ultraviolet irradiation device 10 includes an accommodating means 11 that accommodates a wafer W having an ultraviolet curable (photoreactive) adhesive sheet S attached to a circuit surface as an object to be processed, and an adhesive sheet S for the wafer W. The ultraviolet irradiation unit 12 as light irradiation means for irradiating light with the application surface as the irradiated surface, the moving means 13 for moving the accommodation means 11 and the light irradiation means 12 in the direction of separation from each other, and the accommodation means 11 The supporting means 14 for supporting the movement of the wafer W, the detecting means 15 for detecting the presence or absence of the wafer W in the accommodating means 11, the aligning means 17 for aligning the position of the wafer W at a predetermined position, and these means are integrated. The housing 18 is configured to be accommodated. Here, the wafer W constituting the object to be processed in the present embodiment is mounted on the ring frame RF via the dicing tape T from the surface opposite to the surface to which the adhesive sheet S is attached, as shown in FIG. Has been.

前記収容手段11は、リングフレームRFにマウントされウエハWを収納可能にする開口部20を有するカセットケース21からなる。このカセットケース21は、一対の側壁25の内面側対称位置において、等間隔を隔ててリングフレームRFを支持するための複数のレール27を含む。   The accommodating means 11 includes a cassette case 21 that is mounted on the ring frame RF and has an opening 20 that can accommodate the wafer W. The cassette case 21 includes a plurality of rails 27 for supporting the ring frame RF at equal intervals at symmetrical positions on the inner surface side of the pair of side walls 25.

前記紫外線照射ユニット12は、図3にも示されるように、上下方向に延びるランプケース30と、当該ランプケース30内に配置された高圧水銀ランプ等の光源31と、この光源31から発光された光を導入して面発光する照射体としての導光部材33(面光源)と、当該導光部材33を支持するとともに、導光部材33に光を導く導光板を含むアーム34と光源31との間に配置された発光制御手段としてのシャッター35とを備えて構成されている。導光部材33は、カセットケース21における処理対象物の間隔に対して同間隔で、その数に対して同数設けられている。これにより、光源31によって発せられた光は、シャッター35を経て導光部材33によって発光され、シャッター35によって、導光部材33への導光をON−OFF制御機能に構成されている。導光部材33はウエハWの平面形状に略一致する形状に設けられており、その上面側が発光面となるように構成されている。なお、アーム34の表面からは紫外線は発光されないようになっている。   As shown in FIG. 3, the ultraviolet irradiation unit 12 includes a lamp case 30 extending in the vertical direction, a light source 31 such as a high-pressure mercury lamp disposed in the lamp case 30, and light emitted from the light source 31. A light guide member 33 (surface light source) as an illuminator that emits light by introducing light, an arm 34 including a light guide plate that supports the light guide member 33 and guides light to the light guide member 33, and a light source 31 And a shutter 35 as a light emission control means disposed between the two. The light guide members 33 are provided at the same interval with respect to the interval between the processing objects in the cassette case 21, and the same number of the light guide members 33 is provided. Thereby, the light emitted by the light source 31 is emitted by the light guide member 33 through the shutter 35, and the light guide to the light guide member 33 is configured to have an ON-OFF control function by the shutter 35. The light guide member 33 is provided in a shape substantially coinciding with the planar shape of the wafer W, and is configured such that its upper surface side becomes a light emitting surface. Note that ultraviolet rays are not emitted from the surface of the arm 34.

前記移動手段13は、X軸方向に沿って配置された単軸ロボット40により構成され、当該単軸ロボット40のスライダ41の上面に紫外線照射ユニット12のランプケース30を支持するよう構成されている。従って、スライダ41がX軸方向に移動することで、紫外線照射ユニット12がカセットケース21に対して離間接近可能となり、これにより、前記導光部材33が開口部20を通じてウエハWの被照射面に対向するように配置されるようになっている。   The moving means 13 is constituted by a single-axis robot 40 arranged along the X-axis direction, and is configured to support the lamp case 30 of the ultraviolet irradiation unit 12 on the upper surface of the slider 41 of the single-axis robot 40. . Accordingly, when the slider 41 moves in the X-axis direction, the ultraviolet irradiation unit 12 can be separated from and approached to the cassette case 21, whereby the light guide member 33 is brought into contact with the irradiated surface of the wafer W through the opening 20. It is arranged to face each other.

前記支持手段14は、Z軸方向に沿って配置された単軸ロボット45と、当該単軸ロボット45のスライダ46にブラケット47(図3参照)を介して固定された受け板48と、カセットケース21を位置決めする位置決手段49とからなり、カセットケース21は、受け板48の所定の位置に載置され、昇降可能に支持されるようになっている。   The support means 14 includes a single-axis robot 45 disposed along the Z-axis direction, a receiving plate 48 fixed to the slider 46 of the single-axis robot 45 via a bracket 47 (see FIG. 3), a cassette case The cassette case 21 is placed at a predetermined position on the receiving plate 48 and is supported so as to be able to move up and down.

前記検知手段15は、図示しないブラケット等を介してケース18に固定された光電管、リミットスイッチ、CCDカメラ等のセンサにより構成されている。この検知手段15は、カセットケース21内の各段における収容位置に処理対象物が存在しているか否かを検知するようになっており、当該検知信号を図示しない制御装置に出力する機能を含む。   The detection means 15 is constituted by a sensor such as a photoelectric tube, a limit switch, a CCD camera, etc. fixed to the case 18 via a bracket (not shown). The detection means 15 is configured to detect whether or not a processing target exists at the accommodation position in each stage in the cassette case 21 and includes a function of outputting the detection signal to a control device (not shown). .

前記整列手段17は、開口部20側に一対配置されたモータMと、各モータMの出力軸に固定された位置決めアーム52とを備えて構成されている。位置決めアーム52は、図4中二点鎖線で示される位置と実線位置で示される位置との間で回転可能となっており、開口部20を通じてカセットケース21内のリングフレームRFに当接し、処理対象物を所定位置に位置決めするようになっている。   The alignment means 17 includes a pair of motors M arranged on the opening 20 side, and a positioning arm 52 fixed to the output shaft of each motor M. The positioning arm 52 is rotatable between a position indicated by a two-dot chain line in FIG. 4 and a position indicated by a solid line position. The positioning arm 52 abuts on the ring frame RF in the cassette case 21 through the opening 20 to perform processing. The object is positioned at a predetermined position.

前記ケース18は略直方体状の外形に設けられ、カセットケース21を通過可能な窓穴54を有するケース本体53と、図示しない駆動手段を介して窓穴54を開閉するとともに、ケース18内を密閉可能とするスライド天板55とを備えて構成されている。また、ケース本体53の上部側壁部分には配管56が接続され、この配管56を通じて不活性ガスとしての窒素ガスをケース18内に充填することで、窒素ガス雰囲気で紫外線照射が行えるように構成されている。   The case 18 is provided in a substantially rectangular parallelepiped outer shape, opens and closes the window hole 54 via a case main body 53 having a window hole 54 that can pass through the cassette case 21 and driving means (not shown), and seals the inside of the case 18. A slide top plate 55 that can be used is provided. Further, a pipe 56 is connected to the upper side wall portion of the case body 53, and the case 18 is filled with nitrogen gas as an inert gas through the pipe 56 so that ultraviolet irradiation can be performed in a nitrogen gas atmosphere. ing.

次に、本実施形態に係る紫外線照射方法について、図5をも参照しながら説明する。   Next, the ultraviolet irradiation method according to this embodiment will be described with reference to FIG.

図5に示されるように、スライド天板55によって窓穴54が開放され、受け板48が上昇した状態で、処理対象物を各段に収容したカセットケース21が図示しない搬送手段を介して受け板48に移載される。次いで、単軸ロボット45が駆動して受け板48が下降してカセットケース21をケース18内に位置させた後、スライド天板55が窓穴54を閉塞する(図3参照)。なお、カセットケース21が下降する際に、検知手段15は、カセットケース21の各段に処理対象物が存在しているか否かを検知し、その検知信号を図示しない制御装置に出力する。   As shown in FIG. 5, in a state where the window hole 54 is opened by the slide top plate 55 and the receiving plate 48 is raised, the cassette case 21 in which the processing object is stored in each stage is received via a conveying means (not shown). Transferred to the plate 48. Next, after the single axis robot 45 is driven and the receiving plate 48 is lowered to position the cassette case 21 in the case 18, the slide top plate 55 closes the window hole 54 (see FIG. 3). When the cassette case 21 is lowered, the detection means 15 detects whether or not a processing object is present in each stage of the cassette case 21 and outputs a detection signal to a control device (not shown).

カセットケース21がケース18内に所定配置されると、位置決めアーム52が図4中二点鎖線で示される位置から実線で示される位置に回転し、リングフレームRFの外周に当接して処理対象物の位置決めが行われる。これと前後して配管56から窒素ガスがケース18内に充填される。   When the cassette case 21 is disposed in the case 18 in a predetermined manner, the positioning arm 52 rotates from the position indicated by the two-dot chain line in FIG. 4 to the position indicated by the solid line, and comes into contact with the outer periphery of the ring frame RF. Positioning is performed. Before and after this, the case 18 is filled with nitrogen gas from the pipe 56.

次いで、紫外線照射ユニット12が単軸ロボット40を介してカセットケース21側に移動すると、導光部材33が開口部20を通じて被照射面に対向するように配置され、シャッター35が開いて導光部材33を発光させて紫外線の照射が所定時間行われる。なお、検知手段15によってカセットケース21内の特定位置に処理対象物が存在しないことが検知されている場合には、図示しない制御装置の動作信号により、シャッター35が開くことなく光路を遮断し、対応する導光部材33からの光照射は行われない。   Next, when the ultraviolet irradiation unit 12 moves to the cassette case 21 side via the single-axis robot 40, the light guide member 33 is disposed so as to face the irradiated surface through the opening 20, and the shutter 35 opens to open the light guide member. 33 is caused to emit light and irradiated with ultraviolet rays for a predetermined time. When it is detected by the detection means 15 that there is no object to be processed at a specific position in the cassette case 21, the optical signal is blocked without opening the shutter 35 by an operation signal of a control device (not shown), Light irradiation from the corresponding light guide member 33 is not performed.

紫外線照射を完了すると、シャッター35が閉塞され、紫外線照射ユニット12が単軸ロボット40を介して後退する一方、スライド天板55が窓穴54を開放する位置に移動する。そして、単軸ロボット45が駆動してカセットケース21を上昇させた後(図5参照)、当該カセットケース21が図示しない搬送手段を介して次工程に搬送され、新たなカセットケース21が受け板48に移載される。   When the ultraviolet irradiation is completed, the shutter 35 is closed and the ultraviolet irradiation unit 12 moves backward via the single-axis robot 40, while the slide top plate 55 moves to a position where the window hole 54 is opened. Then, after the single-axis robot 45 is driven to raise the cassette case 21 (see FIG. 5), the cassette case 21 is transported to the next process via transport means (not shown), and a new cassette case 21 is received. 48.

従って、このような実施形態によれば、多数の処理対象物に対して同時に紫外線照射が可能となり、単位時間当たりの処理効率を飛躍的に向上させることができる、という効果を得る。   Therefore, according to such an embodiment, it is possible to simultaneously irradiate a large number of processing objects with ultraviolet rays, and it is possible to obtain an effect that the processing efficiency per unit time can be dramatically improved.

以上のように、本発明を実施するための最良の構成、方法等は、前記記載で開示されているが、本発明は、これに限定されるものではない。
すなわち、本発明は、主に特定の実施形態に関して特に図示、説明されているが、本発明の技術的思想及び目的の範囲から逸脱することなく、以上説明した実施形態に対し、形状、位置若しくは配置等に関し、必要に応じて当業者が様々な変更を加えることができるものである。
As described above, the best configuration, method and the like for carrying out the present invention have been disclosed in the above description, but the present invention is not limited to this.
In other words, the present invention has been illustrated and described mainly with respect to specific embodiments, but without departing from the scope of the technical idea and object of the present invention, the shape, position, or With respect to the arrangement and the like, those skilled in the art can make various changes as necessary.

例えば、前記実施形態では、紫外線照射ユニット12が導光部材33を備えた場合を図示、説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、図6に示される紫外線照射ユニット60を採用することができる。この紫外線照射ユニット60は、単軸ロボット40のスライダ41に支持された支柱61と、この支柱61の側端面から突出するアーム63と、当該アーム63上でスライダ41の移動方向に直交する方向に配置された複数の発光ダイオード(照射体)65とを備えて構成されている。ここで、各発光ダイオード65は、個々に光照射が独立して制御できるように設けられ、これにより、被照射面の平面形状に応じて必要な部位のみに光照射を行えるようになっている。   For example, in the above embodiment, the case where the ultraviolet irradiation unit 12 includes the light guide member 33 is illustrated and described, but the present invention is not limited to this, and the ultraviolet irradiation unit 60 shown in FIG. 6 is adopted. can do. The ultraviolet irradiation unit 60 includes a support 61 supported by the slider 41 of the single-axis robot 40, an arm 63 protruding from the side end surface of the support 61, and a direction orthogonal to the moving direction of the slider 41 on the arm 63. A plurality of light emitting diodes (illuminating bodies) 65 arranged are provided. Here, each light-emitting diode 65 is provided so that light irradiation can be controlled independently, so that light irradiation can be performed only on necessary portions according to the planar shape of the irradiated surface. .

図6に示される変形例では、発光ダイオード65がカセットケース21の開口部30から内部に入り込む直前に発光し、被照射面に沿って往復動作することで光照射が行われ、開口部30の外側に抜け出たときに発光を停止するように制御される。この際、ウエハWが円形であるため、当初は中央部に位置する発光ダイオード65が発光し、ウエハWの中央部に近づくに連れてその発光領域を拡大させ、中央部を過ぎると発光領域を縮小させて最終的に中央部のみの発光に戻すという個別制御を行うようになっている。このように発光ダイオード65を採用した場合、当該発光ダイオード65に発光指令を行う図示しない制御手段が発光制御手段となる。   In the modification shown in FIG. 6, the light emitting diode 65 emits light just before entering the inside through the opening 30 of the cassette case 21, and light irradiation is performed by reciprocating along the irradiated surface. The light emission is controlled to stop when the light exits outside. At this time, since the wafer W is circular, the light emitting diode 65 located in the central portion initially emits light, and the light emitting region is enlarged as it approaches the central portion of the wafer W. Individual control is performed to reduce the size and finally return to light emission only in the central portion. When the light emitting diode 65 is employed in this way, a control means (not shown) that gives a light emission command to the light emitting diode 65 becomes the light emission control means.

従って、このような変形例では、被照射面の平面形状に応じても発光ダイオード65の発光制御を行うことができるので、前記実施形態で得られる効果の他に、消費電力を削減できる、という別途の効果を得ることができる。   Therefore, in such a modification, the light emission control of the light emitting diode 65 can be performed even in accordance with the planar shape of the irradiated surface, so that the power consumption can be reduced in addition to the effects obtained in the embodiment. A separate effect can be obtained.

また、前記紫外線照射装置10を構成する各部の相対位置、すなわちレイアウトは図示構成例に限定されるものではない。例えば、前記実施形態では、ケース18の上側からカセットケース21を出し入れできる構成としたが、平面内で回転可能な機構を支持手段14に付与することで、ケース18の側壁部分からカセットケース21を出し入れする構成等を採用することができる。   Further, the relative positions of the respective parts constituting the ultraviolet irradiation apparatus 10, that is, the layout, are not limited to the illustrated configuration example. For example, in the above embodiment, the cassette case 21 can be inserted and removed from the upper side of the case 18. However, the cassette case 21 can be removed from the side wall portion of the case 18 by providing the support means 14 with a mechanism that can rotate in a plane. A configuration for taking in and out can be adopted.

更に、前記実施形態では、紫外線照射ユニット12、60がX軸方向に沿って移動することでカセットケース21に離間接近可能としたが、紫外線照射ユニット12、60とカセットケース21との少なくとも一方が移動するように構成すれば足りる。   Furthermore, in the said embodiment, although the ultraviolet irradiation units 12 and 60 moved along the X-axis direction, the cassette case 21 could be separated and approached, but at least one of the ultraviolet irradiation units 12 and 60 and the cassette case 21 is It is sufficient to configure it to move.

また、前記実施形態では、紫外線を照射することによって接着シートSの接着剤を硬化させるものとしたが、感熱接着性の接着シートを被着体に仮着し、これを加熱することで当該接着シートを被着体に強力に貼付する装置等にも適用することが可能である。この場合の光としては、赤外線等が例示できる。   Moreover, in the said embodiment, although the adhesive agent of the adhesive sheet S was hardened by irradiating with an ultraviolet-ray, the said heat-sensitive adhesive sheet is temporarily attached to a to-be-adhered body, and the said adhesion | attachment is carried out by heating this. The present invention can also be applied to an apparatus for strongly attaching a sheet to an adherend. Examples of light in this case include infrared rays.

更に、被照射体はウエハWに限定されるものではなく、ガラス板、鋼板、または、樹脂板等、その他のものも対象とすることができ、半導体ウエハは、シリコンウエハや化合物ウエハであってもよい。   Further, the irradiated object is not limited to the wafer W, and other objects such as a glass plate, a steel plate, or a resin plate can be targeted. The semiconductor wafer is a silicon wafer or a compound wafer. Also good.

また、紫外線照射ユニット12の光源としては、高圧水銀ランプの他、ハロゲンランプ、蛍光灯、メタルハライドランプ等の採用を妨げない。   Further, as the light source of the ultraviolet irradiation unit 12, the use of a halogen lamp, a fluorescent lamp, a metal halide lamp, etc. in addition to a high-pressure mercury lamp is not hindered.

更に、支持手段14の受け板48は、単軸ロボット45を介して昇降可能としたが、カセットケース21を搬送する手段がケース18内にアクセス可能なものであれば、受け板48を固定してもよい。この場合には、単軸ロボット45を省略することができる。   Further, the support plate 48 of the support means 14 can be raised and lowered via the single-axis robot 45. However, if the means for transporting the cassette case 21 is accessible in the case 18, the support plate 48 is fixed. May be. In this case, the single axis robot 45 can be omitted.

10 紫外線照射装置(光照射装置)
11 収容手段
12、60 紫外線照射ユニット(光照射手段)
13 移動手段
15 検知手段
17 整列手段
18 ケース
20 開口部
31 光源
33 導光部材(照射体)
35 シャッター(発光制御手段)
65 発光ダイオード(照射体)
S 接着シート(処理対象物)
W 半導体ウエハ(処理対象物)
10 Ultraviolet irradiation device (light irradiation device)
11 Storage means 12, 60 Ultraviolet irradiation unit (light irradiation means)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 13 Movement means 15 Detection means 17 Alignment means 18 Case 20 Opening part 31 Light source 33 Light guide member (irradiation body)
35 Shutter (light emission control means)
65 Light-emitting diode (irradiator)
S Adhesive sheet (object to be processed)
W Semiconductor wafer (object to be processed)

Claims (7)

光反応型の接着シートが貼付されるとともに、相互に所定間隔を隔てて支持された複数の処理対象物のシート貼付面側を被照射面として光を照射する光照射装置において、
前記被照射面に光を照射する複数の照射体を有する光照射手段と、前記複数の処理対象物と光照射手段とを離間接近方向に相対移動可能に設けられた移動手段とを含み、
前記複数の照射体は、移動手段を介して前記複数の処理対象物の被照射面にそれぞれ対向配置可能に設けられ、これら複数の被照射面に対して同時に光照射可能に設けられていることを特徴とする光照射装置。
In the light irradiation device that irradiates light with the light application type adhesive sheet being attached and irradiating the irradiated surface with the sheet attaching surface side of a plurality of processing objects supported at a predetermined interval from each other,
A light irradiating means having a plurality of irradiating bodies for irradiating the irradiated surface with light, and a moving means provided so as to be relatively movable in the separation approaching direction with the plurality of processing objects and the light irradiating means,
The plurality of irradiated bodies are provided so as to be opposed to the irradiated surfaces of the plurality of processing objects via a moving unit, respectively, and are provided so as to be capable of irradiating light to the plurality of irradiated surfaces simultaneously. The light irradiation apparatus characterized by this.
前記光照射手段は光源を有し、前記照射体は、光源から発光された光を前記被照射面に照射するための導光部材を含み、当該導光部材が前記処理対象物間に位置可能に設けられていることを特徴とする請求項1記載の光照射装置。   The light irradiation means includes a light source, and the irradiation body includes a light guide member for irradiating the irradiated surface with light emitted from the light source, and the light guide member can be positioned between the processing objects. The light irradiation apparatus according to claim 1, wherein the light irradiation apparatus is provided. 前記照射体は、前記被照射面に平行な面内であって、前記相対移動方向に直交する方向に配置された単数又は複数の発光ダイオードにより構成されていることを特徴とする請求項1記載の光照射装置。   The said irradiation body is comprised in the surface parallel to the said to-be-irradiated surface, and is comprised by the one or several light emitting diode arrange | positioned in the direction orthogonal to the said relative movement direction. Light irradiation device. 前記発光ダイオードは、前記処理対象物の形状に対応した領域のみに光照射することを特徴する請求項3記載の光照射装置。   The said light emitting diode irradiates light only to the area | region corresponding to the shape of the said process target object, The light irradiation apparatus of Claim 3 characterized by the above-mentioned. 前記処理対象物の有無を検知する検知手段を含み、前記光照射手段は、検知手段の検知結果に基づいて照射体の発光と未発光とを制御する発光制御手段を含むことを特徴とする請求項1ないし4記載の光照射装置。   The light irradiation means includes a light emission control means for controlling light emission and non-light emission of the irradiation body based on a detection result of the detection means. Item 5. The light irradiation device according to items 1 to 4. 前記処理対象物を整列させる整列手段を更に含むことを特徴とする請求項1ないし5の何れかに記載の光照射装置。   6. The light irradiation apparatus according to claim 1, further comprising alignment means for aligning the processing objects. 前記複数の処理対象物及び光照射手段は、密閉可能なケース内に配置され、当該ケースに不活性ガスが供給可能に設けられていることを特徴とする請求項1ないし6の何れかに記載の光照射装置。   The plurality of processing objects and the light irradiation means are arranged in a case that can be sealed, and are provided so that an inert gas can be supplied to the case. Light irradiation device.
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JPH11255306A (en) * 1998-03-13 1999-09-21 Hitachi Ltd Detector for wafer in cassette
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