JP5250166B2 - Tof質量分析計用のイオン光学システム - Google Patents
Tof質量分析計用のイオン光学システム Download PDFInfo
- Publication number
- JP5250166B2 JP5250166B2 JP2001268393A JP2001268393A JP5250166B2 JP 5250166 B2 JP5250166 B2 JP 5250166B2 JP 2001268393 A JP2001268393 A JP 2001268393A JP 2001268393 A JP2001268393 A JP 2001268393A JP 5250166 B2 JP5250166 B2 JP 5250166B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mass spectrometer
- tof mass
- spectrometer according
- lens
- plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 18
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 92
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 90
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims description 14
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 claims description 13
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 10
- 238000001840 matrix-assisted laser desorption--ionisation time-of-flight mass spectrometry Methods 0.000 claims description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 5
- 230000035515 penetration Effects 0.000 claims description 5
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000012777 electrically insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000000816 matrix-assisted laser desorption--ionisation Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/26—Mass spectrometers or separator tubes
- H01J49/34—Dynamic spectrometers
- H01J49/40—Time-of-flight spectrometers
- H01J49/403—Time-of-flight spectrometers characterised by the acceleration optics and/or the extraction fields
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/06—Electron- or ion-optical arrangements
- H01J49/067—Ion lenses, apertures, skimmers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Description
反発プレートからイオンを反発するように電圧が印加できる反発プレートと、
前記ドリフト領域に向かってイオンを加速するために電圧が印加できる、本発明の第1の態様による少なくとも一つの抽出レンズとを含むことを特徴とする、TOF質量分析計が提供される。
サンプルプレートを有するイオン源と、
ドリフト領域と、
開口を有する支持要素と少なくとも一つの反射要素とを含む光反射システムと、
光を反射要素に向けるための光源とを有する、飛行時間質量分析計であって、
質量分析計は、使用時に、イオン源からのイオンが、支持要素の開口を通り抜け、光源から反射要素に入射する光が、サンプルプレートと支持要素の開口の軸とに向かう経路に沿って反射されるように構成されており、
反射要素が、前記支持要素に解放可能に、また着脱可能に接続されることを特徴とする、飛行時間質量分析計が提供される。
2 加速領域
3 ドリフト領域
4 サンプルプレート
5 加速電極
6 開口
7 接地プレート
8、8a、8b 検出器
10 抽出レンズ
11 アインセルレンズ
13、15、16 円形平面要素
14、17 管状部材
18 プリズム
19 レーザービーム経路
20 イオン光軸
21 リフレクトロン
25 イオン経路
Claims (36)
- イオン源、光源、ドリフト領域、および前記ドリフト領域に配置される静電レンズを有するTOF質量分析計であって、
前記イオン源は、
反発プレートからイオンを反発するように電圧が印加できる反発プレートを含み、前記反発プレートが、イオン化に先立ってサンプルが置かれるサンプルプレートであり、前記イオン源はさらに、
前記ドリフト領域に向かってイオンを加速するために電圧が印加できる少なくとも一つの抽出レンズを含み、
前記反発プレートおよび前記抽出レンズによって画定される電界は、前記反発プレートと前記抽出レンズとの間の抽出領域からイオンを抽出するためにパルス化され、
前記抽出レンズは、開口を有する要素を含み、前記開口は、使用時にイオンが、貫通チャネルを通り抜けることによって前記要素の一方側から他方側へ通り抜けることができるように前記貫通チャネルを形成するように前記要素を通って延びており、前記貫通チャネルが、前記開口の直径の8/10以上の長さを持ち、
イオンが前記反発プレートから反発されるときにイオンが取る経路は、空間と角度との2つの分布を有し、空間分布は、前記抽出レンズおよび前記静電レンズの一方によって焦点合わせ可能であり、角度分布は、前記抽出レンズおよび前記静電レンズの他方によって焦点合わせ可能であり、使用時に前記反発プレートから反発されたイオンが、前記抽出レンズを通り抜けるときに、イオンに対する前記抽出レンズの焦点合わせ作用が、続く前記静電レンズによるイオンの焦点合わせによって有意に影響されないように、前記静電レンズが、前記抽出レンズから十分に遠く離れて配置され、
前記光源は、前記要素の前記開口を通して前記サンプルプレート上に光を向けるためのものであるTOF質量分析計。
- 前記貫通チャネルが、前記開口を囲む突き出たフランジの形をした、前記要素の表面から直立する中空で細長い部材を含んでおり、前記中空で細長い部材を含む前記貫通チャネルの長さは、前記開口の直径以上である、請求項1に記載のTOF質量分析計。
- 前記要素が平面状の要素である、請求項1または2に記載のTOF質量分析計。
- 前記貫通チャネルが、実質的に均一な横断面を有する、請求項1から3のいずれか一項に記載のTOF質量分析計。
- 前記貫通チャネルが、実質的に円形の横断面を有する、請求項1から4のいずれか一項に記載のTOF質量分析計。
- 前記質量分析計が、Maldi TOF質量分析計である、請求項1に記載のTOF質量分析計。
- 接地プレートを含み、前記接地プレートは、前記抽出レンズと前記接地プレートとの間の前記質量分析計の加速領域を、前記接地プレートのもう一方の側のドリフト領域から分離する、請求項1または6に記載のTOF質量分析計。
- 前記接地プレートが、前記抽出レンズの前記開口よりも大きな直径の開口を有する、請求項7に記載のTOF質量分析計。
- 前記抽出レンズの貫通チャネルの軸が、前記反発プレートの平面に対して実質的に垂直であり、前記質量分析計のイオン光軸とは実質的に一直線上にある、請求項1から8のいずれか一項に記載のTOF質量分析計。
- 前記抽出レンズの開口が、前記抽出レンズと前記反発プレートとの間の距離の0.5倍から2倍である、請求項1から9のいずれか一項に記載のTOF質量分析計。
- イオン軌道が、前記抽出レンズと前記静電レンズとの間のある点で、前記質量分析計のイオン光軸と交差する、請求項1に記載のTOF質量分析計。
- 前記抽出レンズが、イオンの空間分布を焦点合わせし、それに対して前記静電レンズは、イオンの角度分布を焦点合わせする、請求項1に記載のTOF質量分析計。
- 前記静電レンズが、前記質量分析計のドリフト領域内で、前記抽出レンズから50mmから900mmの距離に配置される、請求項1に記載のTOF質量分析計。
- 前記静電レンズが、前記質量分析計のドリフト領域内で、前記抽出レンズから100mmから300mmの距離に配置される、請求項1に記載のTOF質量分析計。
- 開口を有する支持要素と少なくとも一つの反射要素とを含む光反射システムを有する、請求項1に記載のTOF質量分析計であって、
前記光源は、光を前記反射要素に向けるために使用可能であり、
前記質量分析計が、使用時に、前記イオン源からのイオンが、前記支持要素の開口を通り抜け、前記光源から前記反射要素に入射する光が、前記サンプルプレートと前記支持要素の開口の軸とに向かう経路に沿って反射されるように構成されており、
前記反射要素が、前記支持要素に解放可能に、また着脱可能に接続される、TOF質量分析計。
- 前記支持要素が平面状の要素である、請求項15に記載のTOF質量分析計。
- 前記反射要素がプリズムである、請求項15に記載のTOF質量分析計。
- 前記反射要素がガラス製である、請求項15から17のいずれか一項に記載のTOF質量分析計。
- 前記反射要素が、導電性材料で形成されているか、または導電性材料で被覆されている、請求項15から18のいずれか一項に記載のTOF質量分析計。
- 前記支持要素が、複数の反射要素を持っている、請求項15から19のいずれか一項に記載のTOF質量分析計。
- 前記支持要素の前記開口が、前記支持要素の表面から直立する中空で細長い部材を形成する突き出たフランジによって囲まれている、請求項15から20のいずれか一項に記載のTOF質量分析計。
- 一つまたは複数の前記反射要素が、前記反射要素の側面の一つが、前記中空で細長い部材に接触し、および該部材によって支持されている、請求項21に記載のTOF質量分析計。
- 前記中空で細長い部材が、接地された導電性管であることを特徴とする、請求項21または22に記載のTOF質量分析計。
- 前記支持要素が導電性であって、接地されている、請求項15から23のいずれか一項に記載のTOF質量分析計。
- 前記光反射システムが、前記少なくとも一つの反射要素への入射光が、前記開口の軸が前記サンプルプレートと交差する点で、前記サンプルプレートに当たるように構成されている、請求項15から24のいずれか一項に記載のTOF質量分析計。
- 前記反射要素への入射光の経路が、30度以下の角度で、前記反発プレートで前記開口の軸と交差する、請求項25に記載のTOF質量分析計。
- 前記反射要素への入射光の経路が、4度から5度の角度で、前記反発プレートで前記開口の軸と交差する、請求項26に記載のTOF質量分析計。
- 前記光源がレーザーである、請求項15から27のいずれか一項に記載のTOF質量分析計。
- 前記光源が、前記サンプルが散乱光の検出によって観察できるように、前記反射要素を介して前記サンプルプレート上の前記サンプルに、光を向けるためのものである、請求項15から27のいずれか一項に記載のTOF質量分析計。
- 前記光反射システムが、前記質量分析計の前記ドリフト領域内に配置されている、請求項15から29のいずれか一項に記載のTOF質量分析計。
- 前記静電レンズが、前記サンプルプレートと前記光反射システムとの間に配置されている、請求項30に記載のTOF質量分析計。
- 前記光反射システムが、前記サンプルプレートと前記静電レンズとの間に配置されている、請求項31に記載のTOF質量分析計。
- 前記貫通チャネルが、前記要素の表面から直立する管状部材によって提供される、請求項1に記載のTOF質量分析計。
- 前記貫通チャネルが、前記開口の直径以上の長さを有する、請求項1に記載のTOF質量分析計。
- イオン軌道が、前記抽出レンズと前記静電レンズとの間の点で前記質量分析計のイオン光軸と交差する、請求項1に記載のTOF質量分析計。
- 前記光源が、前記サンプルプレート上のサンプルを脱離させるためのレーザーである、請求項1に記載のTOF質量分析計。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB0021902.2 | 2000-09-06 | ||
| GBGB0021902.2A GB0021902D0 (en) | 2000-09-06 | 2000-09-06 | Ion optics system for TOF mass spectrometer |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002141016A JP2002141016A (ja) | 2002-05-17 |
| JP2002141016A5 JP2002141016A5 (ja) | 2008-09-11 |
| JP5250166B2 true JP5250166B2 (ja) | 2013-07-31 |
Family
ID=9898981
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001268393A Expired - Lifetime JP5250166B2 (ja) | 2000-09-06 | 2001-09-05 | Tof質量分析計用のイオン光学システム |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6888129B2 (ja) |
| EP (1) | EP1220288B1 (ja) |
| JP (1) | JP5250166B2 (ja) |
| GB (2) | GB0021902D0 (ja) |
Families Citing this family (31)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB0021902D0 (en) * | 2000-09-06 | 2000-10-25 | Kratos Analytical Ltd | Ion optics system for TOF mass spectrometer |
| US6818887B2 (en) * | 2002-11-25 | 2004-11-16 | DRäGERWERK AKTIENGESELLSCHAFT | Reflector for a time-of-flight mass spectrometer |
| US7157701B2 (en) * | 2004-05-20 | 2007-01-02 | Mississippi State University Research And Technology Corporation | Compact time-of-flight mass spectrometer |
| US7067802B1 (en) * | 2005-02-11 | 2006-06-27 | Thermo Finnigan Llc | Generation of combination of RF and axial DC electric fields in an RF-only multipole |
| US7385186B2 (en) * | 2005-05-13 | 2008-06-10 | Applera Corporation | Methods of operating ion optics for mass spectrometry |
| US7351959B2 (en) * | 2005-05-13 | 2008-04-01 | Applera Corporation | Mass analyzer systems and methods for their operation |
| US7405396B2 (en) * | 2005-05-13 | 2008-07-29 | Applera Corporation | Sample handling mechanisms and methods for mass spectrometry |
| GB2462065B (en) * | 2008-07-17 | 2013-03-27 | Kratos Analytical Ltd | TOF mass spectrometer for stigmatic imaging and associated method |
| CA2755661C (en) * | 2009-03-27 | 2017-09-26 | Dh Technologies Development Pte. Ltd. | Heated time of flight source |
| JP5403509B2 (ja) * | 2009-04-17 | 2014-01-29 | 国立大学法人大阪大学 | イオン源および質量分析装置 |
| US8093565B2 (en) * | 2010-01-28 | 2012-01-10 | The United States of America as represented by the Adminstrator of the National Aeromautics and Space Administration | Wind and temperature spectrometer with crossed small-deflection energy analyzer |
| CN103109347B (zh) * | 2010-05-11 | 2016-12-21 | Dh科技发展私人贸易有限公司 | 用于减少质谱仪的离子引导件中的污染物效应的离子透镜 |
| GB2486628B (en) * | 2010-08-02 | 2016-05-25 | Kratos Analytical Ltd | Methods and apparatuses for cleaning at least one surface of an ion source |
| WO2013051321A1 (ja) * | 2011-10-03 | 2013-04-11 | 株式会社島津製作所 | 飛行時間型質量分析装置 |
| JP2013101918A (ja) | 2011-10-13 | 2013-05-23 | Canon Inc | 質量分析装置 |
| GB201118270D0 (en) | 2011-10-21 | 2011-12-07 | Shimadzu Corp | TOF mass analyser with improved resolving power |
| JP6053919B2 (ja) * | 2012-05-31 | 2016-12-27 | シーメンス アクチエンゲゼルシヤフトSiemens Aktiengesellschaft | 荷電粒子を偏向させる偏向板および偏向装置 |
| GB2533608B (en) * | 2014-12-23 | 2019-08-28 | Kratos Analytical Ltd | A time of flight mass spectrometer |
| CN107895684B (zh) * | 2017-12-14 | 2024-03-26 | 广州禾信康源医疗科技有限公司 | 离子源及质谱仪 |
| GB201808936D0 (en) | 2018-05-31 | 2018-07-18 | Micromass Ltd | Bench-top time of flight mass spectrometer |
| US11373849B2 (en) | 2018-05-31 | 2022-06-28 | Micromass Uk Limited | Mass spectrometer having fragmentation region |
| GB201808932D0 (en) | 2018-05-31 | 2018-07-18 | Micromass Ltd | Bench-top time of flight mass spectrometer |
| WO2019229469A1 (en) | 2018-05-31 | 2019-12-05 | Micromass Uk Limited | Mass spectrometer |
| GB201808949D0 (en) | 2018-05-31 | 2018-07-18 | Micromass Ltd | Bench-top time of flight mass spectrometer |
| GB201808893D0 (en) | 2018-05-31 | 2018-07-18 | Micromass Ltd | Bench-top time of flight mass spectrometer |
| GB201808892D0 (en) | 2018-05-31 | 2018-07-18 | Micromass Ltd | Mass spectrometer |
| GB201808890D0 (en) | 2018-05-31 | 2018-07-18 | Micromass Ltd | Bench-top time of flight mass spectrometer |
| GB201808894D0 (en) | 2018-05-31 | 2018-07-18 | Micromass Ltd | Mass spectrometer |
| GB201808912D0 (en) | 2018-05-31 | 2018-07-18 | Micromass Ltd | Bench-top time of flight mass spectrometer |
| GB201810824D0 (en) | 2018-06-01 | 2018-08-15 | Micromass Ltd | An outer source assembly and associated components |
| GB2625377A (en) * | 2022-12-16 | 2024-06-19 | Thermo Fisher Scient Bremen Gmbh | Interface Ion guide |
Family Cites Families (25)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR1580234A (ja) * | 1968-05-15 | 1969-09-05 | ||
| DE2739828C2 (de) * | 1977-09-03 | 1986-07-03 | Gesellschaft für Strahlen- und Umweltforschung mbH, 8000 München | Einrichtung zur Analyse von Proben |
| JPS6220231A (ja) * | 1985-07-18 | 1987-01-28 | Seiko Instr & Electronics Ltd | Icp質量分析装置 |
| US4864130A (en) * | 1986-06-04 | 1989-09-05 | Arch Development Corporation | Photo ion spectrometer |
| DE3718244A1 (de) * | 1987-05-30 | 1988-12-08 | Grix Raimund | Speicherionenquelle fuer flugzeit-massenspektrometer |
| US5118937A (en) * | 1989-08-22 | 1992-06-02 | Finnigan Mat Gmbh | Process and device for the laser desorption of an analyte molecular ions, especially of biomolecules |
| GB2250858B (en) * | 1990-10-22 | 1994-11-30 | Kratos Analytical Ltd | Charged particle extraction arrangement |
| DE4220802A1 (de) | 1992-06-25 | 1994-01-05 | Bosch Gmbh Robert | Vorrichtung zum Auflöten von Bauelementen auf Platinen |
| DE4322102C2 (de) * | 1993-07-02 | 1995-08-17 | Bergmann Thorald | Flugzeit-Massenspektrometer mit Gasphasen-Ionenquelle |
| AU2622195A (en) * | 1994-05-31 | 1995-12-21 | University Of Warwick | Tandem mass spectrometry apparatus |
| US5495108A (en) * | 1994-07-11 | 1996-02-27 | Hewlett-Packard Company | Orthogonal ion sampling for electrospray LC/MS |
| JP3549005B2 (ja) | 1994-08-31 | 2004-08-04 | 株式会社トプコン | 電界放出型電子銃 |
| JPH08148116A (ja) * | 1994-11-18 | 1996-06-07 | Hitachi Ltd | 顕微レーザ飛行時間型質量分析計 |
| US5614711A (en) * | 1995-05-04 | 1997-03-25 | Indiana University Foundation | Time-of-flight mass spectrometer |
| DE19520276C2 (de) * | 1995-06-02 | 1999-08-26 | Bruker Daltonik Gmbh | Vorrichtung für die Einführung von Ionen in ein Massenspektrometer |
| US5742049A (en) | 1995-12-21 | 1998-04-21 | Bruker-Franzen Analytik Gmbh | Method of improving mass resolution in time-of-flight mass spectrometry |
| JP3424431B2 (ja) * | 1996-03-29 | 2003-07-07 | 株式会社日立製作所 | 質量分析装置 |
| US5777325A (en) * | 1996-05-06 | 1998-07-07 | Hewlett-Packard Company | Device for time lag focusing time-of-flight mass spectrometry |
| JP3643917B2 (ja) * | 1996-05-17 | 2005-04-27 | 株式会社ルネサステクノロジ | 顕微レーザ質量分析計 |
| JPH09326243A (ja) * | 1996-06-05 | 1997-12-16 | Shimadzu Corp | Maldi−tof質量分析装置 |
| JPH10172506A (ja) * | 1997-09-19 | 1998-06-26 | United States Department Of Energ | フォトイオン分光計 |
| GB9807915D0 (en) * | 1998-04-14 | 1998-06-10 | Shimadzu Res Lab Europe Ltd | Apparatus for production and extraction of charged particles |
| US5965884A (en) * | 1998-06-04 | 1999-10-12 | The Regents Of The University Of California | Atmospheric pressure matrix assisted laser desorption |
| US6614021B1 (en) * | 1998-09-23 | 2003-09-02 | Varian Australian Pty Ltd | Ion optical system for a mass spectrometer |
| GB0021902D0 (en) * | 2000-09-06 | 2000-10-25 | Kratos Analytical Ltd | Ion optics system for TOF mass spectrometer |
-
2000
- 2000-09-06 GB GBGB0021902.2A patent/GB0021902D0/en not_active Ceased
-
2001
- 2001-08-29 GB GB0120893A patent/GB2368715B/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-08-29 EP EP01307313.5A patent/EP1220288B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-09-05 JP JP2001268393A patent/JP5250166B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2001-09-06 US US09/946,823 patent/US6888129B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2004
- 2004-07-21 US US10/895,476 patent/US7041970B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB0021902D0 (en) | 2000-10-25 |
| GB2368715B (en) | 2004-10-06 |
| US20040256549A1 (en) | 2004-12-23 |
| US7041970B2 (en) | 2006-05-09 |
| JP2002141016A (ja) | 2002-05-17 |
| GB0120893D0 (en) | 2001-10-17 |
| GB2368715A (en) | 2002-05-08 |
| US20020036262A1 (en) | 2002-03-28 |
| US6888129B2 (en) | 2005-05-03 |
| EP1220288B1 (en) | 2019-05-22 |
| EP1220288A2 (en) | 2002-07-03 |
| EP1220288A3 (en) | 2005-08-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5250166B2 (ja) | Tof質量分析計用のイオン光学システム | |
| US5742049A (en) | Method of improving mass resolution in time-of-flight mass spectrometry | |
| JP5554764B2 (ja) | 電子ビーム装置 | |
| US5594243A (en) | Laser desorption ionization mass monitor (LDIM) | |
| JP4023738B2 (ja) | 遅延引き出し付きタンデム飛行時間型質量分析計および使用方法 | |
| US6953928B2 (en) | Ion source and methods for MALDI mass spectrometry | |
| US5864137A (en) | Mass spectrometer | |
| US7564026B2 (en) | Linear TOF geometry for high sensitivity at high mass | |
| JP4766549B2 (ja) | レーザー照射質量分析装置 | |
| JP2013101918A (ja) | 質量分析装置 | |
| US5164594A (en) | Charged particle extraction arrangement | |
| JP2009521788A (ja) | イオン質量分析計と結合するイオンガイドを有するレーザ脱離イオン源 | |
| JP6750684B2 (ja) | イオン分析装置 | |
| JP6706622B2 (ja) | 飛行時間型質量分析計 | |
| US7750312B2 (en) | Method and apparatus for generating ions for mass analysis | |
| JP2012518246A (ja) | リフレクトロンを含む広い角度受け入れを有する質量分析装置 | |
| US9754772B2 (en) | Charged particle image measuring device and imaging mass spectrometry apparatus | |
| GB2400976A (en) | Ion optics system for TOF mass spectrometer | |
| GB2308491A (en) | Time-of-flight mass spectrometry | |
| JPS61227355A (ja) | 質量分析計用粒子線源 | |
| JPS5889764A (ja) | 中性粒子衝撃型イオン源におけるアライメント方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080724 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080724 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110415 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110419 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20110714 |
|
| A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20110720 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111018 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120626 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20120924 |
|
| A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20120927 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121220 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20130306 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130409 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130415 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 5250166 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160419 Year of fee payment: 3 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |