Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP5253677B2 - ヘキサクロロジシラン含有蒸気の廃棄処理方法 - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP5253677B2 - ヘキサクロロジシラン含有蒸気の廃棄処理方法 - Google Patents

ヘキサクロロジシラン含有蒸気の廃棄処理方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5253677B2
JP5253677B2 JP2012556501A JP2012556501A JP5253677B2 JP 5253677 B2 JP5253677 B2 JP 5253677B2 JP 2012556501 A JP2012556501 A JP 2012556501A JP 2012556501 A JP2012556501 A JP 2012556501A JP 5253677 B2 JP5253677 B2 JP 5253677B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
hexachlorodisilane
steam
disposal method
alcohol
hydrocarbon
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2012556501A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2013522001A (ja
Inventor
クニース ヴォルフガング
ベーガースハウゼン カーリン
アイプルマイヤー ハンス
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Wacker Chemie AG
Original Assignee
Wacker Chemie AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Wacker Chemie AG filed Critical Wacker Chemie AG
Publication of JP2013522001A publication Critical patent/JP2013522001A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5253677B2 publication Critical patent/JP5253677B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D53/00Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/46Removing components of defined structure
    • B01D53/68Halogens or halogen compounds
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2251/00Reactants
    • B01D2251/20Reductants
    • B01D2251/206Ammonium compounds
    • B01D2251/2067Urea
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2251/00Reactants
    • B01D2251/20Reductants
    • B01D2251/208Hydrocarbons
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2257/00Components to be removed
    • B01D2257/20Halogens or halogen compounds
    • B01D2257/204Inorganic halogen compounds
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2258/00Sources of waste gases
    • B01D2258/02Other waste gases
    • B01D2258/0216Other waste gases from CVD treatment or semi-conductor manufacturing

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Treating Waste Gases (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)
  • Gas Separation By Absorption (AREA)
  • Processing Of Solid Wastes (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

ヘキサクロロジシランは、チップ製造において増大する規模で使用されている。しばしば、これは、CVDプロセスを用いて気相を経て堆積される。この場合に、しかしながらなお蒸気が残留し、これらの蒸気は、堆積室を去った後に処理されなければならない。
米国特許出願公開(US-A1)第2009/0104100号明細書には、ヘキサクロロジシラン含有廃ガスの処理が記載されている。この場合に、前記廃ガスは、繁雑な装置中でまず最初に水分の排除下に酸化されてから、水が充填されているスクラバーに導通される。
ヘキサクロロジシランと水又は水分との反応の際に、一般的に、HClガスが放出される。このガスはケイ素−ケイ素結合を攻撃する。これにより、Si−H含有加水分解生成物が生じ、これらの生成物は機械的な接触の際に、例えば摩擦により、火花を発生しながら分解する。固体形の加水分解生成物は、それどころか水中で火花を発生しながら分解しうる。
本発明の課題は、技術水準を改善すること、特にヘキサクロロジシラン残留物が危険なく廃棄処理されることができる方法を提供することである。
この点では、蒸気あるいはまた液体ヘキサクロロジシランの危険のない廃棄処理を可能にする方法が探求されなければならなかった。ヘキサクロロジシランを尿素とアルコールとの混合物へ通す場合に、可燃性混合物が生じないことが見出された。
尿素が、一方では、放出されたHClを結合するのに十分に塩基性であるが、しかしながら他方では、ヘキサクロロジシランの転位に全く触媒作用を及ぼさないことが意外にも見出された。
本発明の対象は、ヘキサクロロジシラン含有蒸気の廃棄処理方法であって、ヘキサクロロジシラン含有蒸気が、以下:900〜1100hPa及び25℃で液体の無極性炭化水素と、尿素と、900〜1100hPa及び25℃で液体のアルコールとの混合物へ通されることにより特徴付けられる。
溶剤として、次の無極性炭化水素が使用されることができる:
好ましくは無極性炭化水素、例えば脂肪族又は芳香族の炭化水素、より好ましくは常圧(900〜1100hPa)で好ましくは100℃未満の沸点を有する炭化水素をベースとする溶剤、好ましくは炭素原子1〜20個を有する、より好ましくは炭素原子6〜12個を有する炭化水素、特に好ましくはオクタン、ノナン、デカン、ベンゼン、トルエン、キシレン、その際にキシレンが特に好ましい。
アルコールとして、次のものが使用されることができる:
好ましくは900〜1100hPa及び25℃で液体であるアルコール、好ましくは全て900〜1100hPaの圧力で50℃〜150℃、より好ましくは90℃〜110℃、特に好ましくは100℃〜120℃の沸点を有し、好ましくは炭素原子1〜6個、好ましくは炭素原子3〜5個を有する、単官能性のアルコール、二官能性又は多官能性のアルコール、特に好ましくはペンタノール類、例えば1−ペンタノール、2−ペンタノール、3−ペンタノール並びに1−ブタノール、2−ブタノール、3−ブタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、その際に3−ブタノールが特に好ましい。
廃ガス処理するために高沸点アルコールを使用する場合には、アルコール1モルを基準として:
・尿素0.1〜0.5モル、特に好ましくは0.2〜0.4モル
・溶剤10〜200ml、特に好ましくは溶剤50〜100mlが使用される。
ヘキサクロロジシラン含有廃ガスの処理
ヘキサクロロジシランが窒素下に蒸留される装置からの廃ガスを、キシレン50ml、t−ブタノール50ml及び尿素10gの混合物に通す。混合物を、マグネチックスターラーを用いて撹拌する。ガス出口で、廃ガスをシリコーン油のみに通す装置とは異なり、金属と接触する際に発火する白色付着物は形成されない。
本発明の範囲内で、それぞれ他に記載されない場合には、全ての量及びパーセントの記載は質量を基準としており、かつ全てのパーセントの記載は、全質量を基準としており、全ての温度は室温25℃であり、かつ全ての圧力は周囲大気、すなわち900〜1100hPaである。全ての粘度は、25℃で測定される。

Claims (7)

  1. ヘキサクロロジシラン含有蒸気の廃棄処理方法であって、
    ヘキサクロロジシラン含有蒸気を、900〜1100hPa及び25℃で液体の無極性炭化水素と、尿素と、900〜1100hPa及び25℃で液体のアルコールとを含有する混合物へ通す
    ことを特徴とする、ヘキサクロロジシラン含有蒸気の廃棄処理方法。
  2. 炭化水素が常圧(900〜1100hPa)で100℃未満の沸点を有する、請求項1記載のヘキサクロロジシラン含有蒸気の廃棄処理方法。
  3. 炭化水素が炭素原子1〜20個を有する、請求項1又は2記載のヘキサクロロジシラン含有蒸気の廃棄処理方法。
  4. 炭化水素が炭素原子6〜12個を有する、請求項3記載のヘキサクロロジシラン含有蒸気の廃棄処理方法。
  5. 炭化水素がキシレンである、請求項1から4までのいずれか1項記載のヘキサクロロジシラン含有蒸気の廃棄処理方法。
  6. アルコールが、炭素原子1〜6個を有するアルコールである、請求項1から5までのいずれか1項記載のヘキサクロロジシラン含有蒸気の廃棄処理方法。
  7. アルコールが、1−ペンタノール、2−ペンタノール、3−ペンタノール、1−ブタノール、2−ブタノール、3−ブタノール、1−プロパノール、2−プロパノールから選択される、請求項1から6までのいずれか1項記載のヘキサクロロジシラン含有蒸気の廃棄処理方法。
JP2012556501A 2010-03-12 2011-03-09 ヘキサクロロジシラン含有蒸気の廃棄処理方法 Expired - Fee Related JP5253677B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102010002812.6 2010-03-12
DE102010002812A DE102010002812A1 (de) 2010-03-12 2010-03-12 Verfahren zur Entsorgung Hexachlordisilan-haltiger Dämpfe
PCT/EP2011/053523 WO2011110586A1 (de) 2010-03-12 2011-03-09 Verfahren zur entsorgung hexachlordisilan-haltiger dämpfe

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2013522001A JP2013522001A (ja) 2013-06-13
JP5253677B2 true JP5253677B2 (ja) 2013-07-31

Family

ID=44168188

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012556501A Expired - Fee Related JP5253677B2 (ja) 2010-03-12 2011-03-09 ヘキサクロロジシラン含有蒸気の廃棄処理方法

Country Status (7)

Country Link
US (1) US9504959B2 (ja)
EP (1) EP2544795B1 (ja)
JP (1) JP5253677B2 (ja)
KR (1) KR101469336B1 (ja)
CN (1) CN102791360B (ja)
DE (1) DE102010002812A1 (ja)
WO (1) WO2011110586A1 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6225812B2 (ja) 2014-04-18 2017-11-08 日亜化学工業株式会社 発光装置
DE102014018435A1 (de) 2014-12-10 2016-06-16 Silicon Products Bitterfeld GmbH&CO.KG Verfahren zur Gewinnung von Hexachlordisilan aus in Prozessabgasströmen enthaltenen Gemischen von Chlorsilanen
KR101750451B1 (ko) 2015-06-05 2017-06-27 오션브릿지 주식회사 고순도 헥사클로로디실란 파티클 제거 장치
US10550002B2 (en) 2018-05-23 2020-02-04 National Kaohsiung University Of Science And Technology Method for treatment of hexachlorodisilane and hydrolyzed product

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB993249A (en) * 1961-03-02 1965-05-26 Unilever Ltd Organic silicates
DE3503262A1 (de) * 1985-01-31 1986-08-07 Wacker-Chemitronic Gesellschaft für Elektronik-Grundstoffe mbH, 8263 Burghausen Verfahren zum aufarbeiten von bei der siliciumherstellung anfallenden halogensilangemischen
JPH0749093B2 (ja) * 1987-02-28 1995-05-31 高純度シリコン株式会社 珪素化合物を含むガスの処理方法
DE19654556A1 (de) * 1996-12-27 1998-07-02 Wacker Chemie Gmbh Harnstoffgruppen aufweisende Organosiliciumverbindungen, deren Herstellung sowie deren Verwendung
JPH11253741A (ja) * 1998-03-13 1999-09-21 Tokuyama Corp シラン類の処理方法
JP4465961B2 (ja) 2000-08-02 2010-05-26 三菱マテリアル株式会社 六塩化二珪素の製造方法
EP2000195B1 (en) * 2006-03-07 2013-10-23 Kanken Techno Co. Ltd. Method of making hcd gas harmless and apparatus therefor
CN101143297B (zh) * 2006-09-15 2010-08-18 中国石油化工股份有限公司 污水储罐排放气的净化处理方法
JP4793407B2 (ja) * 2008-05-26 2011-10-12 東亞合成株式会社 クロロポリシランを含む廃ガスの処理方法及びその処理装置

Also Published As

Publication number Publication date
US20130004399A1 (en) 2013-01-03
KR101469336B1 (ko) 2014-12-10
US9504959B2 (en) 2016-11-29
CN102791360A (zh) 2012-11-21
WO2011110586A1 (de) 2011-09-15
EP2544795A1 (de) 2013-01-16
DE102010002812A1 (de) 2011-09-15
CN102791360B (zh) 2015-06-24
KR20130004319A (ko) 2013-01-09
EP2544795B1 (de) 2014-04-30
JP2013522001A (ja) 2013-06-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5253677B2 (ja) ヘキサクロロジシラン含有蒸気の廃棄処理方法
JP5362731B2 (ja) 高純度ヘキサクロロジシランの製造方法
KR101506136B1 (ko) 네오펜타실란을 포함하는 조성물 및 이의 제조 방법
MY146528A (en) Repairing and restoring strength of etch-damaged low-k dielectric materials
JP5623296B2 (ja) トリシリルアミンの製造方法
US9669400B2 (en) Method for purifying silane compound or chlorosilane compound, method for producing polycrystalline silicon, and method for regenerating weakly basic ion-exchange resin
RU2006134502A (ru) Способ получения кремния
TWI775011B (zh) 環己矽烷
Lin et al. Characterization of shock-sensitive deposits from the hydrolysis of hexachlorodisilane
JP6969759B2 (ja) 処理液及び処理方法
KR20170035981A (ko) 모노실란, 폴리실란, 및/또는 올리고실란에서 규소-규소 결합 및/또는 규소-염소 결합의 분해 방법
CN101918310B (zh) 回收硅烷的方法
Zhou et al. Study on the shock sensitivity of the hydrolysis products of hexachlorodisilane
KR20110125651A (ko) 저 유전상수 실릴화를 위한 시클릭 아미노 화합물
JP7360116B2 (ja) 判定方法及び処理方法
Colomb et al. Characterization and hazards of the silicon-based polymers produced in the manufacture of ultrapure polysilicon
JP6368465B2 (ja) 排ガス処理方法
WO2018092448A1 (ja) クロロシランポリマーの安定化方法
JP7028604B2 (ja) ヘキサクロロジシランの製造方法
Sánchez‐Molina et al. Synthesis and Covalent Grafting of Tripod‐Shaped Oligo (p‐phenylene) s End‐Capped with Azide Groups
JP2533582B2 (ja) 微粉処理方法
JP2006089770A (ja) 処理装置クリーニング方法
JPH05506604A (ja) 排気ガス状態調節
Gorshkov et al. Solvent Role in the Triethoxysilane Direct Process
JP2013533198A (ja) 貯蔵物質及びそれからh−シランを得る方法

Legal Events

Date Code Title Description
TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130319

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130416

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5253677

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160426

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees