JP5266495B2 - シアノ化触媒及びそれを用いた光学活性シアンヒドリン化合物類の製造方法 - Google Patents
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Description
しかしながら、上記したJ.Chem.Soc.Chem.Commun.,1973,p55−56およびChem.Ber.,1973,106,p587−593に記載の技術の場合、多量((基質/触媒)で表される比が1〜100)の触媒を必要とする、触媒の調製が煩雑である、触媒が不安定である、カルボニル化合物に対してシアン化トリアルキルシリル化合物を過剰量用いる必要がある、反応後の後処理が煩雑である、等の問題がある。
又、特開2006−219457号公報記載の技術の場合、触媒の調製は容易であり、触媒の安定性にも優れるが、高いエナンチオ選択性を有する光学活性な生成物が得られないという問題がある。すなわち、この技術においてはLiCl等のアキラルな塩だけを触媒として用いるため、生成物が全てラセミ体(すなわち0%ee)となる。
本発明者らは、光学活性なシアンヒドリン類を得られる触媒について鋭意研究した結果、アキラルな塩(第2の触媒)に加え、光学活性な錯体(第1の触媒)を触媒に用いることで不斉反応が生じ、光学活性な生成物を得ることができることを見出した。
すなわち、本発明の一実施形態は、下記一般式(I)
(式(I)中、R1〜R4は同一又はそれぞれ異なっていてもよく、それぞれ置換基を有していてもよい炭化水素基であって、R1とR2及び/又はR3とR4が置換基を有していてもよい炭素鎖環を形成してもよく;R5〜R8は同一又はそれぞれ異なっていてもよく、それぞれ水素原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基であって、R5とR6及び/又はR7とR8が置換基を有していてもよい炭素鎖環を形成してもよく;R9およびR10は同一又はそれぞれ異なっていてもよく、それぞれ水素原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基;W、X、Yは同一又はそれぞれ異なっていてもよく、それぞれ置換基を有していてもよい結合鎖を表し、但し、X及び/又はYは存在しなくともよい;Mは金属又は金属イオンを示し、Mの各配位子はどのように配置されていてもよい)で表されるシアノ化触媒である。
本発明の好ましい実施形態は、上記一般式(I)におけるMが二価ルテニウムであるシアノ化触媒である。
また、本発明の別の好ましい実施形態は、上記一般式(I)におけるWが1,1’−ビナフチル基又は1,1’−ビフェニル基であるシアノ化触媒である。
また、本発明の別の好ましい実施形態は、上記いずれかのシアノ化触媒と、金属化合物の塩とを反応させて得られるシアノ化触媒である。
更に、本発明の別の好ましい実施形態は、上記金属化合物の塩がリチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム、マグネシウム及びランタノイドの群から選ばれる1種以上の塩、及び/又はアンモニウム塩であるシアノ化触媒である。
本発明の別の実施形態は、上記一般式(I)で表されるシアノ化触媒の製造方法であって、下記一般式(A)で表されるジホスフィン類と一般式(I)におけるMで表される金属の錯体とを反応させる工程と、
一般式(A)
(式(A)中、R1〜R4およびWは、式(I)に記載のものと同じ。)
上記工程で得られた反応生成物と下記一般式(B)及び/又は一般式(C)
(式(B)及び式(C)中、XおよびR5〜R10は、式(I)に記載のものと同じ。R11は水素原子又は金属化合物を表す。)
で表されるアミノ酸塩を反応させる工程を含む、一般式(I)で表されるシアノ化触媒の製造方法である。
本発明の好ましい実施形態は、上記シアノ化触媒の製造方法において、さらに金属化合物の塩を反応させる工程を含む、シアノ化触媒の製造方法である。
本発明の更に別の実施形態は、上記金属化合物の塩と反応させていないシアノ化触媒の存在下、下記一般式(D)で表されるカルボニル化合物と、
一般式(D)
R12R13C=O
(式(D)中、R12はそれぞれ置換基を有していてもよい芳香族基、ヘテロ環、鎖状アルキル基、環状アルキル基、アルケニル基又はアルキニル基を表し;R13は水素原子、又はそれぞれ置換基を有していてもよいアルキル基若しくは芳香族基を表し;但しR12とR13は互いに結合して環を形成していてもよい)
一般式(E)
R14CN
(式(E)中、R14は水素原子、アルカリ金属、置換基を有していてもよい炭化水素基又は置換基を有していてもよいシリル基を表す)で表されるシアン化化合物とを反応させる工程;および
前記工程で得られた反応生成物中に金属化合物の塩を加え反応させる工程を有する、下記一般式(F)で表される光学活性シアンヒドリンの製造方法である。
一般式(F)
(式(F)中、R12はそれぞれ置換基を有していてもよい芳香族基、ヘテロ環、鎖状アルキル基、環状アルキル基、アルケニル基又はアルキニル基を表し;R13は水素原子、又はそれぞれ置換基を有していてもよいアルキル基若しくは芳香族基を表し;但しR12とR13は互いに結合して環を形成していてもよい;R14は水素原子、アルカリ金属、置換基を有していてもよい炭化水素基又は置換基を有していてもよいシリル基を表す。)
本発明の更に別の実施形態は、上記金属化合物の塩と反応させたシアノ化触媒の存在下、下記一般式(D)で表されるカルボニル化合物と
一般式(D)
R12R13C=O
(式(D)中、R12はそれぞれ置換基を有していてもよい芳香族基、ヘテロ環、鎖状アルキル基、環状アルキル基、アルケニル基又はアルキニル基を表し;R13は水素原子、又はそれぞれ置換基を有していてもよいアルキル基若しくは芳香族基を表し;但しR12とR13は互いに結合して環を形成していてもよい)
一般式(E)
R14CN
(式(E)中、R14は水素原子、アルカリ金属、置換基を有していてもよい炭化水素基又は置換基を有していてもよいシリル基を表す)で表されるシアン化化合物とを反応させる工程を有する、下記一般式(F)で表される光学活性シアンヒドリンの製造方法である。
一般式(F)
(式(F)中、R12はそれぞれ置換基を有していてもよい芳香族基、ヘテロ環、鎖状アルキル基、環状アルキル基、アルケニル基又はアルキニル基を表し;R13は水素原子、又はそれぞれ置換基を有していてもよいアルキル基若しくは芳香族基を表し;但しR12とR13は互いに結合して環を形成していてもよい;R14は水素原子、置換基を有していてもよい炭化水素基又は置換基を有していてもよいシリル基を表す。)
本発明の好ましい実施形態は、R14が水素原子である上記一般式(F)で表されるシアンヒドリンの製造方法である。
本発明の別の好ましい実施形態は、R14がトリメチルシリル(TMS)である上記一般式(F)で表されるシアンヒドリンの製造方法である。
本発明の更に別の好ましい実施形態は、酸無水物を共存させることを特徴とする上記一般式(F)で表されるシアンヒドリンの製造方法である。
本発明の好ましい態様によれば、触媒の調製が容易で触媒の安定性も高く、かつ光学活性なシアンヒドリン類が得られる。
本発明の一実施形態は、前記一般式(I)で表されるシアノ化触媒である。本発明の別の実施形態は、第1の触媒としてこの一般式(I)で表されるシアノ化触媒を用い、第2の触媒として金属化合物の塩を用い、これらを反応させて得られたシアノ化触媒である。これらのシアノ化触媒は、光学活性なシアンヒドリン類を製造するための触媒として好適に用いられる。 以下、第1の触媒および第2の触媒の順に説明し、更に、これらを用いた光学活性シアンヒドリンの製造方法について説明する。
〈第1の触媒〉
第1の触媒は、一般式(I)
で表される。
式(I)中、R1〜R4は同一又はそれぞれ異なっていてもよく、かつそれぞれ置換基を有していてもよい炭化水素基であって、R1とR2及び/又はR3とR4が置換基を有していてもよい炭素鎖環を形成してもよい。
R1〜R4の具体例としては、アルキル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、フェニルアルキルなどの炭化水素基が挙げられる。特に、R1〜R4としてフェニル基やトリル基が好ましい。R1〜R4が有する置換基の具体例としては、水素原子、アルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルコキシ、エステル、アシルオキシ、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ基などが挙げられ、これらの基は許容される各種の置換基を有してもよい。特に、置換基として水素原子、p−メチル基が好ましい。
R1とR2(またはR3とR4)が炭素鎖環を形成する場合には、この炭素鎖上にアルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アルコキシ、エステル、アシルオキシ、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ基等の許容される各種の置換基が置換されたものを用いてもよい。R1〜R4としては、フェニル、p−トリル、m−トリル、3,5−キシリル、p−tert−ブチルフェニル、p−メトキシフェニル、シクロペンチル、シクロヘキシル基が好ましい。
R5〜R8は同一又はそれぞれ異なっていてもよく、かつそれぞれ水素原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基であって、R5とR6及び/又はR7とR8が置換基を有していてもよい炭素鎖環を形成してもよい。
R5〜R8の具体例としては、水素原子、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール基が好ましい。特に、R5〜R8としては、R5とR7が水素原子であり、R6とR8がフェニル基であることが好ましい。
R5〜R8が有する置換基の具体例としては、アルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルコキシ、エステル、アシルオキシ、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ基などの許容される各種の置換基が挙げられる。特に、置換基として水素原子、メチル基、メトキシ基が好ましい。
R5とR6(またはR7とR8)が炭素鎖環を形成する場合には、この炭素鎖上にアルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アルコキシ、エステル、アシルオキシ、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ基等の許容される各種の置換基が置換されたものを用いてもよい。R5〜R8として、R5とR7が水素原子であり、R6とR8がフェニル基であることが好ましい。
R9およびR10は同一又はそれぞれ異なっていてもよく、かつそれぞれ水素原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基である。
R9およびR10の具体例としては、水素原子、アルキル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、フェニルアルキルなどの炭化水素基が挙げられる。特に、R9およびR10として水素原子が好ましい。R9およびR10が有する置換基の具体例としては、アルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルコキシ、エステル、アシルオキシ、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ基などの許容される各種の置換基が挙げられる。特に、置換基として水素原子、メチル基、メトキシ基が好ましい。
一般式(I)におけるWの結合鎖としては、2価の炭化水素鎖(例えば、−CH2−、−(CH2)2−、−(CH2)3−、−(CH2)4−等の直鎖状炭化水素鎖;−CH2CH(CH3)−、−CH(CH3)CH(CH3)−などの分岐を有する炭化水素鎖;−C6H4−、−C6H10−などの環状炭化水素など)、2価のビナフチル、2価のビフェニル、2価のパラシクロファン、2価のビピリジン、2価の環状複素環などが挙げられる。このうち、置換基を有していてもよく2位または2’位がそれぞれホスフィンに結合した1,1’−ビナフチル基または1,1’−ビフェニル基が好ましい。また、これらの結合鎖は、アルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルコキシ、エステル、アシルオキシ、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ基などの許容される各種の置換基をしていてもよく、置換基同士が炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子などを介して結合していてもよい。またWは光学活性を有していることが好ましい。例えば、Wが1,1’−ビナフチル基を含む場合には、(R)−1,1’−ビナフチル基又は(S)−1,1’−ビナフチル基であることが好ましく、Wが1,1’−ビフェニル基を含む場合には(R)−1,1’−ビフェニル基又は(S)−1,1’−ビフェニル基であることが好ましい。
なお、Wを含む2座配位子であるジホスフィン誘導体(R1R2P−W−PR3R4)がMに配位していることから、Wの好ましい具体例として、このジホスフィン誘導体を例示する。即ち、ジホスフィン誘導体としてはBINAP(2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル)、TolBINAP(2,2’−ビス[(4−メチルフェニル)ホスフィノ]−1,1’−ビナフチル)、XylBINAP(2,2’−ビス[(3,5−ジメチルフェニル)ホスフィノ]−1,1’−ビナフチル)、2,2’−ビス[(4−t−ブチルフェニル)ホスフィノ]−1,1’−ビナフチル、2,2’−ビス[(4−イソプロピルフェニル)ホスフィノ]−1,1’−ビナフチル、2,2’−ビス[(ナフタレン−1−イル)ホスフィノ]−1,1’−ビナフチル、2,2’−ビス[(ナフタレン−2−イル)ホスフィノ]−1,1’−ビナフチル、BICHEMP(2,2’−ビス(ジシクロヘキシルホスフィノ)−6,6’−ジメチル−1,1’−ビフェニル)、BPPFA(1−[1,2−ビス−(ジフェニルホスフィノ)フェロセニル]エチルアミン)、CHIRAPHOS(2,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン)、CYCPHOS(1−シクロヘキシル−1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン)、DEGPHOS(1−置換−3,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ピロリジン)、DIOP(2,3−イソプロピリデン−2,3−ジヒドロキシ−1,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン)、SKEWPHOS(2,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ペンタン)、DuPHOS(置換−1,2−ビス(ホスホラノ)ベンゼン)、DIPAMP(1,2−ビス[(o−メトキシフェニル)フェニルホスフィノ]エタン)NORPHOS(5,6−ビス(ジフェニルホスフィノ)−2−ノルボルネン)、PROPHOS(1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン)、PHANEPHOS(4,12−ビス(ジフェニルホスフィノ)−[2,2’]−パラシクロファン)、置換−2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビピリジン、SEGPHOS((4,4’−ビ−1,3−ベンゾジオキソール)−5,5’−ジイル−ビス(ジフェニルホスフィノ))、BIFAP(2,2’−ビス(ジフェニルホスファニル)−1,1’−ビジベンゾフラニル)などが例示される。
特に、上記ジホスフィン誘導体としてBINAP(2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル)、TolBINAP(2,2’−ビス[(4−メチルフェニル)ホスフィノ]−1,1’−ビナフチル)が好ましい。
一般式(I)におけるXおよびYは同一又はそれぞれ異なっていてもよく、かつそれぞれ置換基を有していてもよい結合鎖である。但し、X及び/又はYは存在しなくともよい。
XおよびYの具体例としては、2価の炭化水素鎖(例えば、−CH2−、−(CH2)2−、−(CH2)3−、−(CH2)4−等の直鎖状炭化水素鎖;−CH2CH(CH3)−、−CH(CH3)CH(CH3)−などの分岐を有する炭化水素鎖;−C6H4−、C6H10−などの環状炭化水素など)、2価の環状複素環などが挙げられる。
なお、X及び/又はYが存在しない場合とは、例えば以下の式(II)の化合物のように、C=とC(R5)R6とが直接結合しているような場合をいう。
一般式(I)におけるMは金属又は金属イオンを示す。Mの具体例としては、Ru、Fe、Pd、Rh、Coなどが挙げられる。特に、Mとして二価ルテニウムが好ましい。
式(I)中、Mの各配位子がどのように配置されていてもよいということは、Mに結合しているN、P、O、Oの位置が任意であることを意味する。例えば、式(I)においてOとOがMをはさんで向かい合っているが、例えば、OとN、OとPが向かい合った配置でもよい。
第1の触媒の具体例としては、例えば、一般式(II)
で表される化合物(Ru[(S)−phenylglycine]2[(S)−binap])が挙げられる。
(第1の触媒の製造)
第1の触媒の製造方法としては、下記一般式(A)で表されるジホスフィン類と一般式(I)におけるMで表される金属の錯体とを反応させる工程と、
一般式(A)
(式(A)中、R1〜R4およびWは、式(I)に記載のものと同じ。)
上記工程で得られた反応生成物と下記一般式(B)及び/又は一般式(C)
(式(B)及び式(C)中、XおよびR5〜R10は、式(I)に記載のものと同じ。R11は水素原子又は金属化合物を表す。)
で表されるアミノ酸塩を反応させる工程とを有する。
一般式(A)〜(C)における各置換基の好ましい例としては、一般式(I)の説明において好ましい置換基として挙げられたものと同じである。
第1の触媒の製造方法の例としては、まず、Mの錯体(二価のルテニウム塩化物錯体等)と上記一般式(A)で表される光学活性なジホスフィンを反応させてMのジホスフィン錯体溶液を生成し、次に上記一般式(B)又は(C)で表される光学活性なアミノ酸塩(例えばナトリウム塩)の溶液(通常、メタノール等のアルコール溶液)を上述のジホスフィン錯体溶液に加えて錯体を形成させ、薄層クロマトグラフィ等で単離精製する方法が挙げられる。
Mのジホスフィン錯体溶液の生成は、溶媒(例えばDMF溶媒等の有機溶媒)中で、加熱攪拌(例えば、80〜120℃(好ましくは100℃程度)、5〜20分(好ましくは10分間程度)の撹拌)して行うことができる。Mのジホスフィン錯体溶液に上記一般式(B)又は(C)で表される光学活性なアミノ酸塩の溶液を加えて反応させる条件としては、例えば、10〜30℃(好ましくは室温程度)で8〜15時間(好ましくは12時間程度)撹拌すればよい。
〈第2の触媒〉
第2の触媒は、金属化合物の塩であり、好ましくは、リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム、マグネシウム及びランタノイドの群から選ばれる1種以上の塩、及び/又はアンモニウム塩から選ばれる。第2の触媒は、第1の触媒の共触媒である。
リチウムの塩としては、ハロゲン化リチウム(LiF,LiCl,LiBr,LiI)、LiClO4、Li(OTf)、Li(OAc)、LiCN、Li2CO3等が挙げられるが、その他の塩でもよい。又、上記特開2006−219457号公報に記載のリチウム塩を用いることもできる(特開2006−219457号公報の段落0008)。特に、LiCl及び/又はLiClO4が好ましい。
ナトリウム、カリウム、セシウムの塩としては、上記したリチウム塩に対応するものを用いることができる。マグネシウムの塩としてはマグネシウムトリフラートが挙げられ、ランタノイドの塩としては、イッテルビウムトリフラートが挙げられる。アンモニウム塩としては、例えば塩化テトラブチルアンモニウム等の有機アンモニウム塩が挙げられる。
本発明の一実施形態であるシアノ化触媒は、アキラルな塩(第2の触媒)に加え、光学活性な錯体(第1の触媒)も触媒に用いるため、光学活性な生成物を得ることができる。一方、LiCl等のアキラルな塩だけを触媒として用いる場合(例えば特開2006−219457号公報記載の触媒)、生成物は全てラセミ体(すなわち0%ee)となる。
すなわち、LiCl等のアキラルな塩だけを触媒とするとアキラルな反応が生じるが、本発明においては不斉反応を生じさせることができる。
〈光学活性シアンヒドリンの製造方法〉
本発明の別の実施形態は、第1の触媒の存在下、R12R13C=O(一般式(D))で表されるカルボニル化合物と、R14CN(一般式(E))で表されるシアン化化合物とを反応させる工程およびこの工程で得られた反応生成物中に第2の触媒を加え反応させる工程を有する、下記一般式(F)で表される光学活性シアンヒドリンの製造方法である。
更に、本発明の別の実施形態は、第1の触媒と第2の触媒を反応させて得られた触媒の存在下、前記一般式(D)で表されるカルボニル化合物と、前記一般式(E)で表されるシアン化化合物とを反応させる工程を有する、下記一般式(F)で表される光学活性シアンヒドリンの製造方法である。
一般式(F)
式(F)中、R12は、それぞれ置換基を有していてもよい芳香族基、ヘテロ環、鎖状アルキル基、環状アルキル基、アルケニル基又はアルキニル基を表し、R13は、水素原子、又はそれぞれ置換基を有していてもよいアルキル基若しくは芳香族基を表す。R12とR13は、互いに結合して環を形成してもよい。R14は、水素原子、置換基を有していてもよい炭化水素基又は置換基を有していてもよいシリル基を表す。
R12における芳香族基としては、例えばフェニル、トリル、キシリル、ナフチル等が挙げられる。又、これらの芳香族基が更にアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルコキシ、エステル、アシルオキシ、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ等の許容される各種の置換基を有していてもよい。
R12におけるヘテロ環としては、例えばピロール、チオフェン、フラン、ピラゾール、イミダゾール、チアゾール、オキサゾール等の5員環骨格を有するものや、ピリジン、ピリミジン、ピリダジン等の6員環骨格を有するものが挙げられる。又、これらのヘテロ環が更にアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルコキシ、エステル、アシルオキシ、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ等の許容される各種の置換基を有していてもよい。
R12における鎖状アルキル基としては、例えばメチル、エチル、プロピル、n−ブチル等の分岐を有さないものや、イソプロピル、sec−ブチル等の分岐を有するものなどが挙げられる。
R12における環状アルキル基としては、シクロペンチル、シクロヘキシル等のほか、これらに更に上記した芳香族基に用いたアルキル等の置換基を有していてもよい。
R12におけるアルケニル基としては、例えばエテニル基、プロペニル基、ブテニル基、プロペニル基などが挙げられる。
R12におけるアルキニル基としては、例えばエチニル基、プロピニル基、ブチニル基などが挙げられる。
R13におけるアルキル基としては、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチルなどが挙げられる。又、これらのアルキル基に更にアリール、シクロアルキル、アルコキシ、エステル、アシルオキシ、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ等の許容される各種の置換基を有していてもよい。
R13における芳香族基としては、例えばフェニル、トリル、キシリル、ナフチルなどが挙げられる。又、これらの芳香族基に更にアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルコキシ、エステル、アシルオキシ、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ等の許容される各種の置換基を有していてもよい。
また、R12とR13が互いに結合して形成する環としては、炭素鎖が挙げられ、更にこの炭素鎖上にアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルコキシ、エステル、アシルオキシ、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ等の許容される各種の置換基を有していてもよい。
R14における炭化水素基としては、脂肪族、脂環族の飽和又は不飽和の炭化水素基、単環の芳香族もしくは芳香脂肪族の炭化水素、多環の芳香族もしくは芳香脂肪族の炭化水素などが挙げられる。又、これらの炭化水素基に更にアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルコキシ、エステル、アシルオキシ、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ等の許容される各種の置換基を有していてもよい。また、R14におけるシリル基に更にアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルコキシ、エステル、アシルオキシ、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ等の許容される各種の置換基を有していてもよい。
炭化水素基の具体例としては、例えば、アルキル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、フェニル、トリル、キシリル、ナフチル、フェニルアルキル等が挙げられる。
シリル基の具体例としては、トリメチルシリル、ジ−t−ブチルメチルシリル、ジフェニル−t−ブチルシリルなどが挙げられる。
基質であるカルボニル化合物としては、R12R13C=O(式中、R12及びR13は式(F)と同義である)を用いることができる。
基質であるカルボニル化合物の代表例としては、ベンズアルデヒド及びその誘導体(ベンゼン環上にアルキル、アルコキシ、トリフルオロメチル、ハロゲンなどの置換基を有するもの)、アセトフェノン及びその誘導体(ベンゼン環上に置換基を有するハロゲン、トリフルオロメチル、シアノ、ニトロ、アルコキシを有するもの)などが挙げられる。
シアン化化合物としては、R14CN(式中、R14は式(F)と同義である)を用いることができる。
なお、原料であるシアン化化合物(R14CN)としては、NaCNやKCNなどを用いることができる。従って、この場合、R14は、NaやKなどのアルカリ金属であってもよい。
本発明のシアノ化触媒に対するカルボニル化合物のモル比S/C(Sは基質であるカルボニル化合物、Cは触媒)は1〜1000000が好ましく、1〜100000がより好ましい。また、カルボニル化合物に対するシアン化化合物のモル比は1〜3が好ましく、1〜1.3がより好ましい。
本発明のシアノ化触媒は、カルボニル炭素のα位にヘテロ原子を有するカルボニル化合物のシアノ化に特に有用である。このようなカルボニル化合物としては、特に限定されるものではないが、例えばα−クロロアセトフェノン、α−メトキシアセトフェノン、α,α−ジエトキシアセトフェノン、α,α−ジメトキシアセトンなどが挙げられる。
シアンヒドリンを製造するためのシアノ化反応は、アルゴンなどの不活性雰囲気下、常圧で行うのが好ましい。
また、シアノ化反応は、無溶媒であっても反応溶媒中であっても進行する。反応溶媒としては、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素溶媒、ペンタン、ヘキサンなどの脂肪族炭化水素溶媒、塩化メチレンなどのハロゲン含有炭化水素溶媒、エーテル、テトラヒドロフラン(THF)などのエーテル系溶媒、アセトニトリル、N,N−ジメチルアセトアミド(DMA)、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキサイド(DMSO)などヘテロ原子を含む溶媒が挙げられる。なお、本発明のシアノ化触媒を溶解させて反応に用いる際、上記したのと同様の溶媒を用いることができる。
反応温度は特に限定されないが、−78〜50℃が好ましく、0〜30℃がより好ましい。反応時間は基質の種類などによって異なるが、多くの場合は1分〜12時間の範囲である。反応終了後に反応混合液からシアンヒドリンを採取する方法としては、蒸留や抽出を採用すればよい。
シアンヒドリンは、上述したシアノ化触媒の存在下、カルボニル化合物とシアン化化合物とを反応させることにより対応するシアンヒドリンを製造することができる。具体的には、例えば、カルボニル化合物(アルデヒド類やケトン類)とシアン化化合物を入れた容器へ、シアノ化触媒を有機溶媒に溶解して得た触媒溶液又はシアノ化触媒の固形物(触媒固形物)を加えて撹拌することにより、カルボニル化合物とシアン化化合物とを反応させることができる。
ここで、カルボニル化合物が油状の場合、カルボニル化合物とシアン化化合物とを入れた無溶媒の容器へ、触媒溶液又は触媒固形物を加えて反応させてもよい。また、カルボニル化合物が固体の場合、カルボニル化合物とシアン化化合物と反応溶媒とを入れた容器へ、触媒溶液又は触媒固形物を加えて反応させてもよい。
(実施例1)
〈第1の触媒の製造例1〉
十分に加熱乾燥した100mlシュレンク管Aに塩化ベンゼンルテニウムダイマー(375mg,0.75mmol)と、(S)−BINAP(2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル)(935mg,1.50mmol)とをアルゴン雰囲気下、DMF(15ml、関東化学社製の脱水溶媒を凍結脱気(3サイクル)操作したもの)に溶解した。これを100℃の油浴中で加熱しながら10分間撹拌し、RuCl2[(S)−binap](dmf)nへ変換した(この中間体は既知化合物であり、例えば論文(Org.Synth.,1993,72,74)中で合成されている)。これを室温(20−25℃)まで放冷した。
一方、50mlシュレンク管Bに、(S)−フェニルグリシン(519mg,3mmol)をメタノール(30ml、関東化学社製の脱水溶媒)に溶解したものを装入し、凍結脱気(3サイクル)を行った後、室温に戻した。
次に、アルゴン雰囲気下、上記したフェニルグリシン溶液を、RuCl2[(S)−binap](dmf)nを調製したシュレンク管Aに撹拌しながら加えたところ、直ちに赤褐色から黄橙色に変化した。これを12時間、同じ温度で撹拌した。撹拌しながら蒸留水(50mL)を加えると、黄橙色の固体が水溶液中に分散した。液中の固体分を濾取し、さらに塩化メチレン(50ml)で溶解した後、蒸留水(50ml)で5回水洗した。塩化メチレン相を硫酸ナトリウムまたは硫酸マグネシウムで乾燥させ、セライトパッドでろ過し、さらに溶媒を減圧留去して黄〜黄橙色の固体を得た。
この固体を薄層クロマトグラフィ(シリカゲル、展開溶媒:酢酸エチル、抽出溶媒:塩化メチレン/メタノール=10/1)で単離精製した。得られた固体を少量の塩化メチレンに溶解し、ジエチルエーテルあるいはペンタンに撹拌しながら滴下すると黄色の固体が分散した。これらを濾取して、減圧乾燥した。乾燥物はRu[(S)−phenylglycine]2[(S)−BINAP](式(II)、(III)の化合物)であった。
乾燥物の各種物性を示す。
mp>203℃(decomposition)
1H NMR(400MHz,CDCl3)δ2.45(m,2H,NHH),3.25(m,2H,NHH),3.63(m,2H,CH),6.23−8.08(m,42H,aromatic H)This assignment was confirmed by 1H−13C COSY.
31P NMR(161.7MHz,CDCl3)δ52.3(s)
FAB−MS(relative intensity)1024(75),874(100),723(75),647(22).
FAB−HRMS Calcd for C60H48N2O4P2Ru m/z 1024.05.Found m/z 1024.21.
(実施例2)
〈第1の触媒の製造例2〉
(S)−フェニルグリシンの代わりに、ラセミ体のフェニルグリシンを用いたこと以外は実施例1とまったく同様にして式(III)の目的物を得た。なお、上記した薄層クロマトグラフィによる単離精製の際、反応で同時に生成したジアステレオマーを分離することができた。この結果、純粋なRu[(S)−phenylglycine]2[(S)−BINAP]とRu[(R)−phenylglycine]2[(S)−BINAP]とが得られた。これは実施例1の目的物と同一であり、各種物性も上記の通りであった。
(実施例3)
〈ベンズアルデヒドの不斉シアノシリル化〉
(第2の触媒(塩化リチウム溶液)の調製)
10ml枝付きフラスコに塩化リチウム(21.2mg,500μmol,Aldrich社製,無水物)を装入し、フラスコ内のアルゴン置換を行い、THF(10mL,関東化学社製の脱水溶媒を凍結脱気操作(3サイクル)したもの)を加えて溶解した。
(第1の触媒(ルテニウム錯体溶液)の調製)
10ml枝付きフラスコにRu[(S)−phenylglycine]2[(S)−binap](式(III)の化合物;10.2mg,10μmol)を装入し、フラスコ内のアルゴン置換を行い、THF(0.5mL,関東化学社製の脱水溶媒を凍結脱気操作(3サイクル)したもの)を加えて溶解した。
(不斉シアノシリル化反応)
アルゴン雰囲気とした25ml枝付きフラスコに、tBuOMe(5mL)と第1の触媒(Ru[(S)−phenylglycine]2[(S)−binap])のTHF溶液(50μl,Ru錯体換算1μmol)を加え、さらに、ベンズアルデヒド(1.01ml,10mmol,関東化学社製、蒸留直後のもの)とシアン化トリメチルシリル(1.33ml,10mmol,ワコーケミカル社製、蒸留してから1週間以内のもの)とを加え、10分間、−20℃(恒温槽の温度)に冷却した。
第2の触媒(塩化リチウム)のTHF溶液(20μl,塩化リチウム換算1μmol)をマイクロシリンジで上記フラスコに加え、−20℃で1時間撹拌した。内部標準としてテトラリン(1.08ml,8mmol)を加えてさらに撹拌し、反応溶液からサンプリングを行ってガスクロマトグラフィーの測定に供し、生成物の収率及び鏡像体過剰率を算出した(式(IV);収率100%,83%ee)。
(実施例4)
〈2,2−ジエトキシアセトフェノンの不斉シアノシリル化〉
(第1、2の触媒の調製)
実施例3とまったく同様にして第1の触媒(Ru[(S)−phenylglycine]2[(S)−binap])及び第2の触媒(塩化リチウム)の溶液を調製した。
(不斉シアノシリル化反応)
25ml枝付きフラスコにRu[(S)−phenylglycine]2[(S)−binap](20.5mg,20μmol)を入れてアルゴン雰囲気とし、これにtBuOMe(5mL)と2,2−ジエトキシアセトフェノン(2.0ml,10mmol,関東化学社製、蒸留直後のもの)とシアン化トリメチルシリル(1.33ml,10mmol,ワコーケミカル社製、蒸留してから1週間以内のもの)とを加えて、10分間、0℃(恒温槽の温度)で冷却した。又、冷却温度を−20℃及び−78℃とした実験を同様に行った。このフラスコに、塩化リチウムのTHF溶液(20μl,塩化リチウム換算1μmol)をマイクロシリンジで加え、0℃で1時間撹拌した。又、冷却温度を−20℃及び−78℃とした実験については、攪拌時の温度を同様にそれぞれ−20℃及び−78℃とした。内部標準としてテトラリン(1.08ml,8mmol)を加えてさらに撹拌し、反応溶液からサンプリングを行ってガスクロマトグラフィーの測定に供し、収率及び鏡像体過剰率を算出した。(式(V);0℃:収率100%,83%ee。−20℃:収率95%,88%ee。−78℃:収率100%,94%ee。)
(実施例5)
〈o−メチルベンズアルデヒドの不斉シアノシリル化〉
(第1、2の触媒の調製)
実施例3とまったく同様にして第1の触媒(Ru[(S)−phenylglycine]2[(S)−binap])及び第2の触媒(塩化リチウム)の溶液を調製した。
(不斉シアノシリル化反応)
アルゴン雰囲気とした25ml枝付きフラスコに、Ru[(S)−phenylglycine]2[(S)−binap]のTHF溶液(50μl,Ru錯体換算1μmol)とtBuOMe(5mL)とを装入し、これにo−メチルベンズアルデヒド(1.15ml,10mmol,関東化学社製、蒸留直後のもの)とシアン化トリメチルシリル(1.33ml,10mmol,ワコーケミカル社製、蒸留してから1週間以内のもの)とを加えて、10分間、0℃(恒温槽の温度)で冷却した。又、冷却温度を−78℃とした実験を同様に行った。
このフラスコに、塩化リチウムのTHF溶液(20μl,塩化リチウム換算1μmol)をマイクロシリンジで加え、0℃で1時間撹拌した。内部標準としてテトラリン(1.08ml,8mmol)を加えてさらに撹拌し、反応溶液からサンプリングを行ってガスクロマトグラフィーの測定に供し、収率及び鏡像体過剰率を算出した。(式(VI);0℃:収率100%,73%ee。−78℃:収率100%,95%ee。)
(実施例6)
〈o−クロロベンズアルデヒドの不斉シアノシリル化〉
o−メチルベンズアルデヒドの代わりに、同モル量のo−クロロベンズアルデヒドを用いたこと以外は、実施例5とまったく同様にして不斉シアノシリル化反応を行った。
反応溶液からサンプリングを行ってガスクロマトグラフィーの測定に供し、収率及び鏡像体過剰率を算出した。(式(VII);収率100%,59%ee)
(実施例7)
〈m−アニスアルデヒドの不斉シアノシリル化〉
o−メチルベンズアルデヒドの代わりに、同モル量のm−アニスアルデヒドを用い、さらに不斉シアノシリル化反応の時間を1時間から3時間に延長したこと以外は、実施例5とまったく同様にして不斉シアノシリル化反応を行った。
反応溶液からサンプリングを行ってガスクロマトグラフィーの測定に供し、収率及び鏡像体過剰率を算出した。(式(VIII);0℃:収率100%,76%ee。−78℃:収率100%,92%ee。)
(実施例8)
〈2−ナフチルアルデヒドの不斉シアノシリル化〉
(第1、2の触媒の調製)
実施例3とまったく同様にして第1の触媒(Ru[(S)−phenylglycine]2[(S)−binap])及び第2の触媒(塩化リチウム)の溶液を調製した。
(不斉シアノシリル化反応)
25ml枝付きフラスコにRu[(S)−phenylglycine]2[(S)−binap](20.5mg,20μmol)と2−ナフトアルデヒド(1.56g,10mmol)とを入れてアルゴン雰囲気とし、これにtBuOMe(5ml)とシアン化トリメチルシリル(1.33ml,10mmol,ワコーケミカル社製、蒸留してから1週間以内のもの)とを加えた。
このフラスコに、塩化リチウムのTHF溶液(20μl,塩化リチウム換算1μmol)をマイクロシリンジで加え、室温(20〜25℃)で1時間撹拌した。内部標準としてテトラリン(1.08ml,8mmol)を加えてさらに撹拌し、反応溶液からサンプリングを行ってガスクロマトグラフィーの測定に供し、収率及び鏡像体過剰率を算出した。(式(IX);収率100%,72%ee)
(実施例9)
〈ピバルアルデヒドの不斉シアノシリル化〉
2−ナフチルアルデヒドの代わりに、同モル量のピバルアルデヒドを用いたこと以外は、実施例8とまったく同様にして不斉シアノシリル化反応を行った。また、−78℃で10時間撹拌し反応を実施した。
反応溶液からサンプリングを行ってガスクロマトグラフィーの測定に供し、収率及び鏡像体過剰率を算出した。(式(X);室温:収率100%,67%ee。−78℃:収率100%,94%ee。)
(実施例10)
〈シンナムアルデヒドの不斉シアノシリル化〉
2−ナフチルアルデヒドの代わりに、同モル量のシンナムアルデヒドを用いたこと以外は、実施例8とまったく同様にして不斉シアノシリル化反応を行った。
反応溶液からサンプリングを行ってガスクロマトグラフィーの測定に供し、収率及び鏡像体過剰率を算出した。(式(XI);収率100%,57%ee)
(実施例11)
tBuOMeの代わりに、ヘキサンを用い、反応温度を0℃にした以外は、実施例3とまったく同様にして不斉シアノシリル化反応を行った。反応溶液からサンプリングを行ってガスクロマトグラフィーの測定に供し、収率及び鏡像体過剰率を算出した。(収率100%,65%ee)
(実施例12)
tBuOMeの代わりに、トルエンを用い、反応温度を0℃にした以外は、実施例3とまったく同様にして不斉シアノシリル化反応を行った。反応溶液からサンプリングを行ってガスクロマトグラフィーの測定に供し、収率及び鏡像体過剰率を算出した。(収率100%,71%ee)
(実施例13)
〈ベンズアルデヒドの不斉シアノ化〉
(シアン化水素溶液の調製)
攪拌子を入れたアルゴン雰囲気の50mlシュリンク管にtert−ブチルメチルエーテル(18ml、以下「TBME」)とシアン化トリメチルシラン(0.75ml,6mmol)を加え、0℃で10分間冷却した。その後、2−プロパノール(0.46ml,6mmol)をシリンジで滴下し、同温度で15分間攪拌した。
(不斉ヒドロシアノ化反応)
シアン化水素溶液が入ったシュリンク管を−40℃で40分間冷却した。その後、
ベンズアルデヒド(0.51ml,5mmol)、Ru[(S)−phenylglycine]2[(S)−binap]のTHF溶液(100μl、10μmolに相当)、塩化リチウムのTHF溶液(100μl、10μmolに相当)を加えて、−40℃で6時間反応させた。反応終了後、0.1Nの塩酸アセトン溶液(予め調整し、−40℃で冷却)を加えた後、エーテルで抽出し、次いで硫酸マグネシウムで乾燥した後濃縮し、粗生成物を得た。
得られた粗生成物に塩化メチレン(7ml)及びピリジン(0.7ml)を加え氷冷した後、無水酢酸(1ml,約10mmol)を加え、室温で1時間攪拌した。これに、2N塩酸を加えた後、内部標準としてテトラリン(1.08ml,8mmol)を加えてさらに撹拌し、反応溶液からサンプリングを行ってガスクロマトグラフィーの測定に供し、生成物の収率及び鏡像体過剰率を算出した(収率87%,90%ee)。
Claims (10)
- 一般式(I)
(式(I)中、R1〜R4は同一又はそれぞれ異なっていてもよく、それぞれ置換基を有していてもよい炭化水素基であって、R1とR2及び/又はR3とR4が置換基を有していてもよい炭素鎖環を形成してもよく;R5〜R8は同一又はそれぞれ異なっていてもよく、それぞれ水素原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基であって、R5とR6及び/又はR7とR8が置換基を有していてもよい炭素鎖環を形成してもよく;R9およびR10は同一又はそれぞれ異なっていてもよく、それぞれ水素原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基;W、X、Yは同一又はそれぞれ異なっていてもよく、それぞれ置換基を有していてもよい結合鎖を表し、但し、X及び/又はYは存在しなくともよい;Mは二価ルテニウムを示し、Mの各配位子はどのように配置されていてもよい)で表されるシアノ化触媒。 - 一般式(I)におけるWは1,1'−ビナフチル基又は1,1'−ビフェニル基である請求項1に記載のシアノ化触媒。
- 請求項1または2に記載のシアノ化触媒と、塩化リチウム、臭化リチウムおよびヨウ化リチウムからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属化合物の塩とを、反応させて得られるシアノ化触媒。
- 請求項4に記載のシアノ化触媒の製造方法において、さらに塩化リチウム、臭化リチウムおよびヨウ化リチウムからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属化合物の塩、を反応させる工程を含む、シアノ化触媒の製造方法。
- 請求項1または2に記載のシアノ化触媒の存在下、下記一般式(D)で表されるカルボニル化合物と、
一般式(D)
R12R13C=O
(式(D)中、R12はそれぞれ置換基を有していてもよい芳香族基、ヘテロ環、鎖状アルキル基、環状アルキル基、アルケニル基又はアルキニル基を表し;R13は水素原子、又はそれぞれ置換基を有していてもよいアルキル基若しくは芳香族基を表し;但しR12とR13は互いに結合して環を形成していてもよい)
一般式(E)
R14CN
(式(E)中、R14は水素原子、アルカリ金属、置換基を有していてもよい炭化水素基又は置換基を有していてもよいシリル基を表す)で表されるシアン化化合物とを反応させる工程;および
前記工程で得られた反応生成物中に、塩化リチウム、臭化リチウムおよびヨウ化リチウムからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属化合物の塩、を加え反応させる工程を含む、下記一般式(F)で表される光学活性シアンヒドリンの製造方法。
一般式(F)
(式(F)中、R12はそれぞれ置換基を有していてもよい芳香族基、ヘテロ環、鎖状アルキル基、環状アルキル基、アルケニル基又はアルキニル基を表し;R13は水素原子、又はそれぞれ置換基を有していてもよいアルキル基若しくは芳香族基を表し;但しR12とR13は互いに結合して環を形成していてもよい;R14は水素原子、置換基を有していてもよい炭化水素基又は置換基を有していてもよいシリル基を表す。) - 請求項3に記載のシアノ化触媒の存在下、下記一般式(D)で表されるカルボニル化合物と
一般式(D)
R12R13C=O
(式(D)中、R12はそれぞれ置換基を有していてもよい芳香族基、ヘテロ環、鎖状アルキル基、環状アルキル基、アルケニル基又はアルキニル基を表し;R13は水素原子、又はそれぞれ置換基を有していてもよいアルキル基若しくは芳香族基を表し;但しR12とR13は互いに結合して環を形成していてもよい)
一般式(E)
R14CN
(式(E)中、R14は水素原子、アルカリ金属、置換基を有していてもよい炭化水素基又は置換基を有していてもよいシリル基を表す)で表されるシアン化化合物とを反応させる工程を有する、下記一般式(F)で表される光学活性シアンヒドリンの製造方法。
一般式(F)
(式(F)中、R12はそれぞれ置換基を有していてもよい芳香族基、ヘテロ環、鎖状アルキル基、環状アルキル基、アルケニル基又はアルキニル基を表し;R13は水素原子、又はそれぞれ置換基を有していてもよいアルキル基若しくは芳香族基を表し;但しR12とR13は互いに結合して環を形成していてもよい;R14は水素原子、置換基を有していてもよい炭化水素基又は置換基を有していてもよいシリル基を表す。) - R14が水素原子である請求項6または7に記載の一般式(F)で表されるシアンヒドリンの製造方法。
- R14がトリメチルシリル(TMS)である請求項6または7に記載の一般式(F)で表されるシアンヒドリンの製造方法。
- 酸無水物を共存させることを特徴とする、請求項6〜9のいずれかに記載の一般式(F)で表されるシアンヒドリンの製造方法。
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