JP5267403B2 - Electrode film for touch panel, method for producing electrode film for touch panel, and touch panel - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、表示装置等の画面上に配置されるタッチパネル、及び該タッチパネルに用いられる電極フィルム、並びに該電極フィルムの製造方法に関する。 The present invention relates to a touch panel disposed on a screen of a display device or the like, an electrode film used for the touch panel, and a method for manufacturing the electrode film.
タッチパネルは、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の表示装置の画面上に装着された入力装置として使用されている。タッチパネルの形式は、入力位置の検出方法により、静電容量式、光学式、超音波式、薄膜抵抗式等が提案されているが、特に薄膜抵抗式のタッチパネルは、構造や検出方法が単純であることから広く普及している。一般的な薄膜抵抗式のタッチパネルは、表面にITO等の透明導電膜を形成した2枚の電極フィルムと、該電極フィルムのいずれか一方の透明導電膜側に形成された絶縁体のスペーサとを備え、それぞれの電極フィルムの透明導電膜同士を対向させ、該スペーサを介して一定間隔を隔てるように構成されている。 The touch panel is used as an input device mounted on a screen of a display device such as a liquid crystal display or a plasma display. Capacitance type, optical type, ultrasonic type, thin film resistance type, etc. have been proposed as the touch panel type depending on the input position detection method, but especially the thin film resistance type touch panel has a simple structure and detection method. It is widely used because it is. A general thin film resistance type touch panel includes two electrode films having a transparent conductive film such as ITO formed on the surface, and an insulating spacer formed on one of the transparent conductive film sides of the electrode film. Provided, the transparent conductive films of the respective electrode films are opposed to each other, and are configured to be spaced apart from each other by the spacer.
従来の薄膜抵抗式のタッチパネルには、ITO等の透明導電膜が形成されているが、該透明導電膜は、脆く、曲げ等によって亀裂が生じたり、剥離したりすることがあり、十分な導電性が得られないという問題があった。また、従来の薄膜抵抗式のタッチパネルには、光の透過率を向上させるという課題があった。
これらの問題に対し、特許文献1では、透明導電膜を用いない電極フィルム、具体的には、レジスト膜で格子網目状の開口パターンを形成し、その開口パターンに無電解メッキで格子網目状の金属膜を形成してなる電極フィルムが提案されている。
上記金属膜は、格子網目状の開口パターンを有することで可撓性が付与されるため、曲げ等による亀裂の発生や剥離の問題を解消することができる。但し、無電解メッキによる金属膜の成長速度は低く、製造速度(生産効率)が低いという課題が残っていた。
A conventional thin film resistance type touch panel is formed with a transparent conductive film such as ITO. However, the transparent conductive film is brittle and may be cracked or peeled off due to bending or the like. There was a problem that sex could not be obtained. Further, the conventional thin film resistance type touch panel has a problem of improving the light transmittance.
With respect to these problems, in Patent Document 1, an electrode film that does not use a transparent conductive film, specifically, a lattice network-like opening pattern is formed with a resist film, and the opening network is formed with a lattice network-like shape by electroless plating. An electrode film formed with a metal film has been proposed.
Since the metal film has a lattice network-like opening pattern, flexibility is imparted to the metal film, so that the problem of cracking due to bending or the like and the problem of peeling can be solved. However, the growth rate of the metal film by electroless plating is low, and the problem remains that the production rate (production efficiency) is low.
これらの課題に対し、特許文献2では、基材上に形成された透明導電膜に欠落部を設けることにより光の透過率を向上させた電極フィルムが提案されている。
In response to these problems,
また、樹脂フィルム等透明基材上に、銅などの金属から成る金属配線パターン(金属パターン層)を形成したタッチパネルシート(電極フィルム)も提案されている(例えば、特許文献3)。 There has also been proposed a touch panel sheet (electrode film) in which a metal wiring pattern (metal pattern layer) made of a metal such as copper is formed on a transparent substrate such as a resin film (for example, Patent Document 3).
上記金属パターン層は、透明基材上に透明接着剤層を介して未加工の金属箔を積層した後、フォトリソグラフィー法によって、該金属箔をエッチング加工することにより、メッシュ状に形成される。このようにして得られた電極フィルムでは、エッチングにより金属箔が除去された開口部において、金属箔表面の微細な凹凸形状が転写された透明接着剤層の表面が剥き出しとなるため、該透明接着剤層の凹凸表面では光が散乱しやすく、該電極フィルムは不透明となり、ヘイズが高くなるという問題がある。 The metal pattern layer is formed in a mesh shape by laminating an unprocessed metal foil on a transparent substrate via a transparent adhesive layer, and then etching the metal foil by a photolithography method. In the electrode film obtained in this way, the surface of the transparent adhesive layer onto which the fine irregularities on the surface of the metal foil are transferred is exposed in the opening from which the metal foil has been removed by etching. There is a problem that light is easily scattered on the uneven surface of the agent layer, the electrode film becomes opaque, and haze increases.
近年、電極フィルムの低ヘイズ化とともに、低コスト化が求められている。
上記電極フィルムの金属パターン層に用いられる金属箔の材料としては、一般に、銅(銅箔)が多用されてきたが、該銅箔を用いることによりコスト高となる。従って、低コスト化を図るには、該銅箔よりも安価な材料を採用することが考えられる。
In recent years, there is a demand for cost reduction along with reduction in haze of electrode films.
As a material of the metal foil used for the metal pattern layer of the electrode film, generally copper (copper foil) has been widely used. However, the use of the copper foil increases the cost. Therefore, in order to reduce the cost, it is conceivable to use a material that is less expensive than the copper foil.
本発明は、上記問題点を鑑みてなされたものであり、ヘイズを低減することができ、且つ安価なタッチパネル用電極フィルム、及び該電極フィルムの製造方法、並びに該電極フィルムを用いたタッチパネルを提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and provides an electrode film for a touch panel that can reduce haze and is inexpensive, a method for producing the electrode film, and a touch panel using the electrode film. The purpose is to do.
本発明者らは、金属パターン層に用いられる金属箔の材料として銅よりも安価なアルミニウム(アルミニウム薄膜)を用いてタッチパネル用電極フィルムを製造することを検討した。該アルミニウム薄膜は、その作る工程で、2枚のアルミニウム箔を重ね合わせて、該アルミニウム箔を圧延ロールで延ばして薄膜化する。その際に、圧延ロールと接する面は圧延ロールの平滑面が賦形される為、この面を鏡面といい、一方、アルミニウム箔同士が接する面は、その表面が確率的揺らぎによって乱雑な微小凹凸となる為、この面を粗面という。従って、アルミニウム薄膜には鏡面と粗面がある。
また本発明者らの実験の結果、従来、金属箔表面の凹凸形状を表す一般的な指標とされてきた算術平均粗さRaや十点平均粗さRzを規定しても、必ずしも電極フィルムのヘイズを低減できるとは限らないことが分かった。
そこで、本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、ある特定の範囲内にある、特定の指標を有するアルミニウム薄膜の鏡面(光散乱性の低い平滑面)を、透明基材側と向き合わせて積層することにより、得られるタッチパネル用電極フィルムのヘイズが低減することを見出し、本発明を完成させるに至った。
すなわち、本発明に係るタッチパネル用電極フィルムは、透明基材の一方の面に、透明接着剤層を介して、複数の開口部とこれを囲繞し区画するライン部を有するアルミニウムパターン層からなる電極が設けられ、且つ、該アルミニウムパターン層の該透明接着剤層側表面のJIS Z 8722に準拠して測定した全光線反射率(RSCI)に対する拡散光線反射率(RSCE)の比(RSCE/RSCI)が0.4以下であることを特徴とする。
The inventors of the present invention studied to manufacture an electrode film for a touch panel using aluminum (aluminum thin film) that is cheaper than copper as a material for a metal foil used for a metal pattern layer. In the production process, the aluminum thin film is formed by superposing two aluminum foils and extending the aluminum foil with a rolling roll. At that time, the surface in contact with the rolling roll is shaped as a smooth surface of the rolling roll, so this surface is called a mirror surface, while the surface in contact with the aluminum foils has minute irregularities whose surface is messy due to stochastic fluctuations. Therefore, this surface is called a rough surface. Therefore, the aluminum thin film has a mirror surface and a rough surface.
Further, as a result of the experiments by the present inventors, even when the arithmetic average roughness Ra or the ten-point average roughness Rz, which has been conventionally used as a general index representing the uneven shape on the surface of the metal foil, is defined, It was found that haze cannot always be reduced.
Therefore, as a result of intensive studies, the present inventors faced the mirror surface (smooth surface with low light scattering property) of an aluminum thin film having a specific index within a specific range with the transparent substrate side. Thus, the haze of the obtained electrode film for a touch panel is reduced, and the present invention has been completed.
That is, the electrode film for a touch panel according to the present invention is an electrode composed of an aluminum pattern layer having a plurality of openings and a line portion surrounding and partitioning it on one surface of the transparent substrate with a transparent adhesive layer interposed therebetween. It is provided, and the ratio (R SCE of total light reflectance was measured in conformity with JIS Z 8722 of the transparent adhesive layer side surface of the aluminum pattern layer diffuse light reflectance for (R SCI) (R SCE) / R SCI ) is 0.4 or less.
本発明のタッチパネル用電極フィルムは、アルミニウムパターン層の透明基材側の面を、光散乱性の低い平滑面(鏡面)とすることにより(かかるアルミニウム薄膜のかかる面を選択したことにより)、該アルミニウムパターン層の開口部における透明接着剤層表面の全光線反射率(RSCI)に対する拡散光線反射率(RSCE)の比(RSCE/RSCI)を上記特定の範囲とすることができ、該透明接着剤層表面が光散乱し難い形状となるため、ヘイズを低減することができる。 The electrode film for a touch panel of the present invention is such that the surface on the transparent substrate side of the aluminum pattern layer is a smooth surface (mirror surface) having a low light scattering property (by selecting such a surface of the aluminum thin film), diffuse light reflectance to the total light reflectance of the transparent adhesive layer surface of the opening portion of the aluminum pattern layer (R SCI) the ratio of (R SCE) (R SCE / R SCI) can be the above specific range, Since the transparent adhesive layer surface has a shape that hardly scatters light, haze can be reduced.
また、本発明に係るタッチパネル用電極フィルムの製造方法は、透明基材の一方の面に、複数の開口部とこれを囲繞し区画するライン部を有するアルミニウムパターン層からなる電極を備えたタッチパネル用電極フィルムの製造方法であって、
(i)JIS Z 8722に準拠して測定した全光線反射率(RSCI)に対する拡散光線反射率(RSCE)の比(RSCE/RSCI)が0.4以下の面を有するアルミニウム薄膜を用意する工程、
(ii)透明基材の一方の面に、透明接着剤層を介して、前記アルミニウム薄膜を、そのRSCE/RSCIが0.4以下の面を前記透明基材と向き合わせて積層する工程、及び
(iii)前記アルミニウム薄膜を所定のパターン形状にエッチングして電極とする工程を含むことを特徴とする。
Moreover, the manufacturing method of the electrode film for touchscreens which concerns on this invention is for touchscreens provided with the electrode which consists of an aluminum pattern layer which has a several opening part and the line part which encloses and partitions this on one surface of a transparent base material. A method for producing an electrode film,
(I) An aluminum thin film having a surface having a diffused light reflectance ( RSCE ) ratio ( RSCE / RSCI ) of 0.4 or less to the total light reflectance ( RSCI ) measured according to JIS Z 8722 The process to prepare,
(Ii) A step of laminating the aluminum thin film on one surface of the transparent substrate with the surface of which R SCE / R SCI is 0.4 or less facing the transparent substrate via a transparent adhesive layer And (iii) a step of etching the aluminum thin film into a predetermined pattern shape to form an electrode.
本発明のタッチパネル用電極フィルムの製造方法によれば、金属パターン層に用いられる金属箔の材料として銅よりも安価なアルミニウムを用いることにより、電極フィルムの低コスト化が図れる。
また、透明基材の一方の面に、透明接着剤層を介して、アルミニウム薄膜の全光線反射率(RSCI)に対する拡散光線反射率(RSCE)の比(RSCE/RSCI)が上記特定の範囲となる光散乱性の低い平滑面(鏡面)とすることにより、該アルミニウムパターン層の透明接着剤層側表面の全光線反射率(RSCI)に対する拡散光線反射率(RSCE)の比(RSCE/RSCI)を特定の範囲とすることができる。更には、これを、該透明基材と向き合わせて積層することにより、該アルミニウム薄膜のエッチング処理後の開口部における該透明接着剤層表面も光散乱し難い形状となるため、ヘイズが低減された電極フィルムを得ることができる。
According to the manufacturing method of the electrode film for touch panels of this invention, the cost reduction of an electrode film can be achieved by using aluminum cheaper than copper as a material of the metal foil used for a metal pattern layer.
Further, on one surface of a transparent substrate, through a transparent adhesive layer, a ratio of the diffuse light reflectance to the total light reflectance of the aluminum thin film (R SCI) (R SCE) (R SCE / R SCI) is the with light scattering of less smooth surface which is a specific range (mirror), the total light reflectance of the transparent adhesive layer side surface of the aluminum pattern layer (R SCI) diffuse light reflectance for the (R SCE) The ratio ( RSCE / RSCI ) can be in a specific range. Furthermore, by laminating this facing the transparent base material, the surface of the transparent adhesive layer in the opening after the etching treatment of the aluminum thin film also has a shape that hardly scatters light, thereby reducing haze. An electrode film can be obtained.
また、本発明に係るタッチパネルは、透明基材の一方の面に透明導電性の電極を有する2枚の電極フィルムが、スペーサを介して互いに電極を対向させて配置されたタッチパネルであって、
該2枚の電極フィルムのうち少なくとも一方の電極フィルムが前記本発明に係るタッチパネル用電極フィルムであることを特徴とする。
Moreover, the touch panel according to the present invention is a touch panel in which two electrode films having transparent conductive electrodes on one surface of a transparent substrate are arranged with electrodes facing each other via a spacer,
Of the two electrode films, at least one of the electrode films is the electrode film for a touch panel according to the present invention.
本発明によれば、タッチパネルの2枚の電極フィルムのうち少なくとも一方の電極フィルムに本発明に係るタッチパネル用電極フィルムを用いることにより、ヘイズを低減することができるタッチパネルを低コストで提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, providing the touch panel which can reduce a haze at low cost by using the electrode film for touch panels which concerns on this invention for at least one electrode film among the two electrode films of a touch panel. it can.
本発明のタッチパネル用電極フィルムによれば、アルミニウムパターン層の透明基材側の面の全光線反射率(RSCI)に対する拡散光線反射率(RSCE)の比(RSCE/RSCI)を特定の範囲とすることにより、該アルミニウムパターン層の開口部における透明接着剤層表面を、光散乱性の低い平滑面(鏡面)とすることができ、該透明接着剤層表面が光散乱しにくい形状となるため、ヘイズを低減することができる。 According to the touch panel electrode film of the present invention, the particular spreading light reflectance to the total light reflectance of the surface of the transparent substrate side of the aluminum pattern layer (R SCI) the ratio of (R SCE) (R SCE / R SCI) By setting it as the range, the transparent adhesive layer surface at the opening of the aluminum pattern layer can be a smooth surface (mirror surface) with low light scattering property, and the transparent adhesive layer surface is less likely to be light scattered. Therefore, haze can be reduced.
また、本発明のタッチパネル用電極フィルムの製造方法によれば、金属パターン層に用いられる金属箔の材料として銅よりも安価なアルミニウムを用いることにより、電極フィルムの低コスト化が図れる。
また、透明基材の一方の面に、透明接着剤層を介して、アルミニウム薄膜の全光線反射率(RSCI)に対する拡散光線反射率(RSCE)の比(RSCE/RSCI)が上記特定の範囲となる光散乱性の低い平滑面(鏡面)を、該透明基材と向き合わせて積層することにより、該アルミニウム薄膜のエッチング処理後の開口部における該透明接着剤層表面が光散乱し難い形状となるため、ヘイズが低減された電極フィルムを得ることができる。更に、透明基材の一方の面に、透明接着剤層を介してアルミニウム薄膜の光散乱性が低い平滑面(鏡面)を、該透明基材と向き合わせて積層するため、該アルミニウム薄膜と該透明接着剤層との間の気泡の噛み込みが抑制され、残留気泡の光散乱に起因するヘイズの上昇をも抑えることができる。
Moreover, according to the manufacturing method of the electrode film for touchscreens of this invention, the cost reduction of an electrode film can be achieved by using aluminum cheaper than copper as a material of the metal foil used for a metal pattern layer.
Further, on one surface of a transparent substrate, through a transparent adhesive layer, a ratio of the diffuse light reflectance to the total light reflectance of the aluminum thin film (R SCI) (R SCE) (R SCE / R SCI) is the By laminating a smooth surface (mirror surface) with a low light scattering property in a specific range so as to face the transparent substrate, the surface of the transparent adhesive layer in the opening after etching of the aluminum thin film is subjected to light scattering. Since it is difficult to form, an electrode film with reduced haze can be obtained. Further, a smooth surface (mirror surface) having a low light scattering property of the aluminum thin film is laminated on one surface of the transparent base material through the transparent adhesive layer so as to face the transparent base material. Intrusion of bubbles between the transparent adhesive layer is suppressed, and an increase in haze due to light scattering of residual bubbles can also be suppressed.
また、タッチパネルの少なくとも一方の電極フィルムに本発明に係るタッチパネル用電極フィルムを用いることにより、ヘイズを低減することができるタッチパネルを低コストで提供することができる。 Moreover, the touch panel which can reduce a haze can be provided at low cost by using the electrode film for touch panels which concerns on this invention for the at least one electrode film of a touch panel.
本発明は、タッチパネル用電極フィルム(以下、単に電極フィルムともいう)、及びその製造方法、並びに該電極フィルムを用いたタッチパネルを含むものである。以下、それぞれについて詳述する。
尚、本発明においていう「粗面」、「鏡面」の語の定義であるが、金属箔メーカの業界用語であり、アルミニウム箔の外表面(表裏面)のうち、金属箔製造メーカにおいて、表面の凹凸の程度を増大せしめる物理的、或いは化学的処理を施して、相対的に凹凸の程度が増大した側の面を「粗面」と(その他、「粗化面」、或いは「マット面」とも)呼称する。一方、そうでない側の面を「鏡面」と(その他、「平滑面」、「光沢面」、或いは「ミラー面」とも)呼称する。
尚、これら、「粗面」及び「鏡面」は投錨効果による接着力の観点から形成され又評価されてきた尺度であり、後述するように、これら「粗面」或いは「鏡面」が、必ずしも接着剤層表面に転写、賦形された状態でのヘイズ値と直接相関するとは限らない。また、本発明で規定する特定の光線反射率比(RSCE/RSCI)の数値範囲とも相関しないことがわかる。
また、本発明において、透明基材の一方の面に積層したアルミニウム薄膜としては、アルミニウム箔を用いている。
The present invention includes an electrode film for a touch panel (hereinafter, also simply referred to as an electrode film), a manufacturing method thereof, and a touch panel using the electrode film. Each will be described in detail below.
Incidentally, the terms “rough surface” and “mirror surface” in the present invention are definitions of the industry terms of the metal foil manufacturer. Among the outer surfaces (front and back surfaces) of the aluminum foil, the surface of the metal foil manufacturer Applying physical or chemical treatment to increase the degree of unevenness of the surface, the surface with the relatively increased degree of unevenness is referred to as “roughened surface” (others, “roughened surface” or “matte surface”). Both) On the other hand, the surface on the other side is referred to as “mirror surface” (also referred to as “smooth surface”, “glossy surface”, or “mirror surface”).
Incidentally, these “rough surface” and “mirror surface” are scales that have been formed and evaluated from the viewpoint of the adhesive force by the throwing effect, and as described later, these “rough surface” or “mirror surface” are not necessarily bonded. It does not always correlate directly with the haze value in the state of being transferred and shaped on the surface of the agent layer. Moreover, it turns out that it does not correlate with the numerical range of the specific light reflectance ratio ( RSCE / RSCI ) prescribed | regulated by this invention.
In the present invention, an aluminum foil is used as the aluminum thin film laminated on one surface of the transparent substrate.
I.タッチパネル用電極フィルム
本発明に係るタッチパネル用電極フィルムは、透明基材の一方の面に、透明接着剤層を介して、複数の開口部とこれを囲繞し区画するライン部を有するアルミニウムパターン層が電極として設けられ、且つ、該アルミニウムパターン層の該透明接着剤層側表面のJIS Z 8722に準拠して測定した全光線反射率(RSCI)に対する拡散光線反射率(RSCE)の比(RSCE/RSCI)が0.4以下であることを特徴とする。
I. An electrode film for a touch panel according to the present invention has an aluminum pattern layer having a plurality of openings and a line portion surrounding and partitioning the openings on one surface of a transparent substrate via a transparent adhesive layer. Ratio of diffused light reflectance (R SCE ) to total light reflectance (R SCI ) provided as an electrode and measured according to JIS Z 8722 of the surface of the aluminum pattern layer on the transparent adhesive layer side (R SCE / R SCI ) is 0.4 or less.
透明基材上に設けられたアルミニウムパターン層の開口部、即ち、透明接着剤層の露出面には、アルミニウム薄膜の透明基材側に向き合わせた面(光散乱性の低い平滑面)の微細な凹凸形状が転写される。そのため、該アルミニウムパターン層の開口部から露出した該透明接着剤層表面のJIS Z 8722に準拠して測定した全光線反射率(RSCI)に対する拡散光線反射率(RSCE)の比(RSCE/RSCI)と、該アルミニウムパターン層のライン部、即ち、該アルミニウムパターン層の該透明接着剤層と接する面(光散乱性の低い平滑面)のJIS Z 8722に準拠して測定した全光線反射率(RSCI)に対する拡散光線反射率(RSCE)の比(RSCE/RSCI)とは、同等の値になると考えられる。
従って、本発明において、該アルミニウムパターン層の開口部から露出した該透明接着剤層表面における光線反射率比(RSCE/RSCI)の数値は、電極フィルムの形態、即ち;
透明基材/透明接着剤層/アルミニウムパターン層
の積層体において、該透明基材側から測定用の光を入射し、介在する透明基材および透明接着剤層を経由し、該アルミニウムパターン層表面で反射した光によって、該(RSCE/RSCI)の数値を測定し、間接的に評価している。
The opening of the aluminum pattern layer provided on the transparent substrate, that is, the exposed surface of the transparent adhesive layer, has a fine surface (a smooth surface with low light scattering property) facing the transparent substrate side of the aluminum thin film. The uneven shape is transferred. Therefore, the ratio (R SCE ) of the diffused light reflectance (R SCE ) to the total light reflectance (R SCI ) measured according to JIS Z 8722 on the surface of the transparent adhesive layer exposed from the opening of the aluminum pattern layer. / R SCI ) and the total light ray measured in accordance with JIS Z 8722 of the line part of the aluminum pattern layer, that is, the surface of the aluminum pattern layer in contact with the transparent adhesive layer (smooth surface with low light scattering property) It is considered that the ratio (R SCE / R SCI ) of the diffused light reflectance (R SCE ) to the reflectance (R SCI ) is equivalent.
Therefore, in the present invention, the numerical value of the light reflectance ratio (R SCE / R SCI ) on the surface of the transparent adhesive layer exposed from the opening of the aluminum pattern layer is the shape of the electrode film;
In the laminate of transparent substrate / transparent adhesive layer / aluminum pattern layer, light for measurement is incident from the transparent substrate side, and the surface of the aluminum pattern layer passes through the interposed transparent substrate and transparent adhesive layer. The value of (R SCE / R SCI ) is measured by the light reflected at, and is indirectly evaluated.
本発明者らの実験の結果、透明基材の一方の面に、透明接着剤層を介して貼り合わせるアルミニウム薄膜の面が滑らかで、この表面が転写された開口部に露出する接着剤層表面は光の透過が平行光線透過光主体となる場合、得られる電極フィルムのヘイズを低減させることができることが確認された。
また、後述する実施例の表1に示すように、電解銅箔では、透明接着剤層側の面が粗面と鏡面で外観上区別できるが、JIS B0601算術平均粗さRaで表わす数値には差がない。ここで、JIS B0601の算術平均粗さRaとは、粗さ曲線から、その平均線の方向に基準長さLだけ抜き取り、この抜き取り部分の平均線から測定曲線までの偏差の絶対値を合計し、平均した値のことである。また、アルミニウム箔の粗面のRaは、電解銅箔の粗面のRaよりも大きいにもかかわらず、エッチング処理後のヘイズ値は小さくなっている。更に、アルミニウム箔において、鏡面のRaは粗面のRaより小さいが、微小範囲で測定した自乗平均粗さRqは、鏡面の方が粗面よりも大きくなっている。
上記の結果から、算術平均粗さRaと、金属箔表面の外観、及びエッチング処理後の開口部の接着剤層表面に転写されるヘイズ値の間に相関関係はみられない。従来、鏡面性の指標として用いられてきた十点平均粗さ(JIS B0601(1994年度版)で規定)と接着剤層表面に転写されるヘイズとの相関についても、同様であり、相関性は明確ではない。また、金属箔表面の凹凸形状を表す平均粗さは、測定する方法によって変化する。このことから、同じ算術平均粗さRaにおいて、凹凸の頻度が多く、凹凸の間隔が密である表面形状では、エッチング処理後のヘイズ値は大きくなり、一方、凹凸の頻度が少なく、凹凸の間隔が疎であって、平らな部分が多い表面形状では、エッチング処理後のヘイズ値は小さくなると考えられる。
即ち、従来、十点平均粗さRzと相関してエッチング処理後のヘイズが低下するとされてきたのは、金属箔表面の粗面微細凹凸形状、凸部の密度等の条件が、ある特定の範囲に限定された場合のことであり、金属箔の製法、表面の粗面微細凹凸形状や凸部の密度等が各種変化する場合の一般について、広汎に適用可能な設計基準ではないと結論される。
本発明者らは、上記検討の結果、透明接着剤層側に貼り合わせるアルミニウム箔の面を、光散乱性の低い鏡面にすることにより、相関性良くエッチング処理後のヘイズが低減されることを見出した。具体的には、透明基材の一方の面に、透明接着剤層を介して貼り合せるアルミニウム箔の面が、JIS Z8722に準拠して測定した全光線反射率(RSCI)に対する拡散光線反射率(RSCE)の比(RSCE/RSCI)が0.4以下の範囲である場合、その表面の算術平均粗さRaの値に関わらず、エッチング処理後のアルミニウムパターン層の開口部を透過する光のヘイズを低減させることができる。
尚、金属箔表面の凹凸形状を表す一般的な指標とされてきた算術平均粗さRaや十点平均粗さRzは、金属箔の鏡面性、更には、この表面が転写された開口部の接着剤層のヘイズと必ずしも関連するものではなかった。
As a result of the experiments by the present inventors, the surface of the adhesive layer that is exposed to the opening where the surface of the aluminum thin film to be bonded to one surface of the transparent base material via the transparent adhesive layer is smooth is transferred. It was confirmed that the haze of the obtained electrode film can be reduced when light transmission is mainly parallel light transmission light.
Moreover, as shown in Table 1 of the examples described later, in the electrolytic copper foil, the surface on the transparent adhesive layer side can be distinguished in appearance from a rough surface and a mirror surface, but the numerical value represented by JIS B0601 arithmetic average roughness Ra is There is no difference. Here, the arithmetic average roughness Ra of JIS B0601 is extracted from the roughness curve by the reference length L in the direction of the average line, and the absolute value of the deviation from the average line of the extracted portion to the measurement curve is totaled. The average value. Moreover, although the Ra of the rough surface of the aluminum foil is larger than the Ra of the rough surface of the electrolytic copper foil, the haze value after the etching treatment is small. Further, in the aluminum foil, the mirror surface Ra is smaller than the rough surface Ra, but the root mean square roughness Rq measured in a minute range is larger in the mirror surface than in the rough surface.
From the above results, there is no correlation between the arithmetic average roughness Ra, the appearance of the metal foil surface, and the haze value transferred to the adhesive layer surface of the opening after the etching treatment. The correlation between the ten-point average roughness (prescribed in JIS B0601 (1994 edition)) that has been used as an index of specularity in the past and the haze transferred to the surface of the adhesive layer is the same. Not clear. Moreover, the average roughness showing the uneven | corrugated shape on the surface of metal foil changes with the methods to measure. From this, in the same arithmetic mean roughness Ra, the surface shape having a high unevenness frequency and a close unevenness interval has a large haze value after the etching process, while the unevenness frequency is low and the uneven interval is low. It is considered that the haze value after the etching process is small in a surface shape with a sparse and many flat portions.
That is, conventionally, the haze after the etching process has been reduced in correlation with the ten-point average roughness Rz because the conditions such as the roughness of the rough surface of the metal foil surface, the density of the protrusions, etc. It is concluded that it is not a design standard that can be widely applied in general when the manufacturing method of metal foil, the rough surface fine uneven shape of the surface, the density of protrusions, etc. vary in various ways. The
As a result of the above studies, the present inventors have found that the surface of the aluminum foil to be bonded to the transparent adhesive layer side is a mirror surface with low light scattering property, thereby reducing haze after the etching process with good correlation. I found it. Specifically, on one surface of a transparent substrate, the surface of aluminum foil bonded via a transparent adhesive layer, diffuse light reflectance to the total light reflectance was measured in accordance with JIS Z8722 (R SCI) If the ratio of (R SCE) (R SCE / R SCI) is in the range of 0.4 or less, regardless of the value of the arithmetic average roughness Ra of the surface, transmitting an opening of the aluminum pattern layer after the etching treatment The haze of light to be reduced can be reduced.
The arithmetic average roughness Ra and the ten-point average roughness Rz, which have been used as general indices representing the uneven shape of the surface of the metal foil, are the specularity of the metal foil, and further, the opening of the opening to which the surface is transferred. It was not necessarily related to the haze of the adhesive layer.
全光線反射率(RSCI)に対する拡散光線反射率(RSCE)の比(RSCE/RSCI)は、金属箔(アルミニウム薄膜)の表面形状が光を散乱しやすいかどうかを表す指標であり、該金属箔(アルミニウム薄膜)表面の形状が、透明接着剤層に転写される場合、得られる電極フィルムの透過光のヘイズに直接影響する値である。
本発明においては、アルミニウムパターン層の透明基材側の面を、光散乱性の低い平滑面とすることにより(かかるアルミニウム薄膜のかかる面を選択したことにより)、該アルミニウムパターン層の開口部における透明接着剤層表面の全光線反射率(RSCI)に対する拡散光線反射率(RSCE)の比(RSCE/RSCI)を上記特定の範囲とすることができ、該透明接着剤層表面が透過光を散乱しにくい形状となるため、ヘイズを低減することができる。
The ratio of the total light reflectance diffuse light reflectance for (R SCI) (R SCE) (R SCE / R SCI) is an indicator that the surface shape of the metal foil (aluminum thin film) represents whether easily scatters light When the shape of the surface of the metal foil (aluminum thin film) is transferred to the transparent adhesive layer, it is a value that directly affects the haze of the transmitted light of the obtained electrode film.
In the present invention, the surface of the aluminum pattern layer on the transparent substrate side is a smooth surface with low light scattering properties (by selecting such a surface of the aluminum thin film). the total light reflectance of the transparent adhesive layer surface diffusion light reflectance for (R SCI) the ratio of (R SCE) (R SCE / R SCI) can be the above specific range, it is transparent adhesive layer surface Since the shape hardly scatters transmitted light, haze can be reduced.
本発明におけるアルミニウム薄膜表面のJIS Z8722−1982に準拠して測定した全光線反射率(RSCI)は、JIS Z8722−1982に準拠して、分光測色計(例えば、コニカミノルタセンシング株式会社製、CM−3600d)を反射モードに設定し、光源は標準の光D65、視野2°、測定径4mmφ以上として、検出器を、反射光のうち拡散反射光と鏡面反射光の両方を総合した全反射光の(積分)強度を測定するようなSCI(Specular Component Include)モードに設定して、Y値(3刺激値XYZのY)を測定したものである。また、アルミニウム薄膜表面のJIS Z8722−1982に準拠して測定した拡散光線反射率(RSCE)は、同様に分光測色計を用いて、光源、視野、及び測定径は上記と同じにして、検出器を、反射光のうち拡散反射光のみの(積分)強度を測定するようなSCE(Specular Component Exclude)モードに設定して、Y値(3刺激値XYZのY)を測定したものである。ここで、3刺激値XYZとは、JIS Z8722−1982で規定され、理想的な環境に置かれた試料を標準光源で照明し、該試料での反射光の分光分析結果を演算することにより決定される値のことである。 Total light reflectance was measured in accordance with JIS Z8722-1982 of aluminum thin film surface of the present invention (R SCI) is in compliance with JIS Z8722-1982, spectrophotometer (e.g., Konica Minolta Sensing Co., Ltd., CM-3600d) is set to the reflection mode, the light source is the standard light D65, the field of view is 2 °, the measurement diameter is 4 mmφ or more, and the detector is the total reflection that combines both diffuse reflection and specular reflection of the reflected light. The Y value (Y of tristimulus values XYZ) is measured by setting to an SCI (Special Component Include) mode in which the (integral) intensity of light is measured. The diffusion light reflectance was measured in accordance with JIS Z8722-1982 of aluminum thin film surface (R SCE) is similarly using spectrophotometer, a light source, field of view, and measuring the diameter is the same as above, The detector is set to an SCE (Special Component Exclude) mode that measures the (integral) intensity of only diffusely reflected light in the reflected light, and the Y value (Y of tristimulus values XYZ) is measured. . Here, the tristimulus value XYZ is defined by JIS Z8722-1982, and is determined by illuminating a sample placed in an ideal environment with a standard light source and calculating the spectral analysis result of the reflected light from the sample. It is a value to be set.
〔層構成〕
本発明によるタッチパネル用電極フィルムの層構成について図面を用いて説明する。
本発明に係る電極フィルムの一例の断面図を図1で概念的に示す。なお、図1及び図2に示す断面図において、説明の容易化のために、厚み方向(図の上下方向)の縮尺を面方向(図の左右方向)の縮尺よりも大幅に拡大誇張し、且つアルミニウムパターン層の線幅を配列周期よりも大幅に拡大誇張して図示してある。図1に示す電極フィルム10は、透明基材1の一方の面に、透明接着剤層2を介して、アルミニウムパターン層3からなる電極が積層されている。該アルミニウムパターン層3は、透明基材1側の面(透明接着剤層側の面でもある)が光散乱性の低い平滑面3a、該透明基材1側とは反対側の面が非平滑面3bとなっている。尚、本発明において必須であるのは、該アルミニウムパターン層3の透明接着剤層2側の面を平滑面3aとすることである。従って、該アルミニウムパターン層3の透明接着剤層2側とは反対側面も平滑面3aとしても良い。なお、図示しないが、該アルミニウムパターン層3は、該透明基材1側の面とは反対側の面(非平滑面3b)が黒化処理されて黒化層を有していてもよい。
また、図2に示すように、透明基材1のアルミニウムパターン層3側とは反対側の面上には、ハードコート層や反射防止層(AR層)、防眩層(AG層)等の光学機能層4が一層又は2層以上設けられていてもよい。
以下、本発明の電極フィルムについて、透明基材から順に説明する。
〔Layer structure〕
The layer structure of the electrode film for touch panels according to the present invention will be described with reference to the drawings.
A sectional view of an example of an electrode film according to the present invention is conceptually shown in FIG. In the cross-sectional views shown in FIG. 1 and FIG. 2, for ease of explanation, the scale in the thickness direction (vertical direction in the figure) is greatly enlarged and exaggerated than the scale in the plane direction (left and right direction in the figure). In addition, the line width of the aluminum pattern layer is exaggerated significantly larger than the arrangement period. In the
Moreover, as shown in FIG. 2, on the surface opposite to the
Hereinafter, the electrode film of the present invention will be described in order from a transparent substrate.
(1)透明基材
本発明で用いる透明基材1は、電極フィルムを構成する一部の層であり、透明接着剤層を介してアルミニウムパターン層を積層するための基材となる層である。該透明基材としては、可視領域での透明性(光透過性)、機械的強度、及び耐熱性等の性能を適宜勘案したものを用途に応じて選択すればよい。このような、透明基材の具体例としては、樹脂等の有機材料或は硝子等の無機材料からなるシート(乃至フィルム。以下同様。)又は板が挙げられる。透明基材の透明性は高いほどよいが、好ましくは可視光域380〜780nmにおける光線透過率が70%以上、より好ましくは80%以上となる光透過性が良い。なお、光透過率の測定は、分光光度計(例えば、(株)島津製作所製 UV−3100PC)を用い、室温、大気中で測定した値を用いることができる。
また、上記透明基材のJIS K7105−1981に準拠したヘイズ値は、10%以下であることが好ましく、更に2.0%以下であることが好ましく、特に1.0%以下であることが好ましい。該透明基材のヘイズ値を上記範囲とすることで、本発明による効果と合わせて、本発明の電極フィルムのヘイズを低く抑えることができる。
(1) Transparent base material The transparent base material 1 used by this invention is a part layer which comprises an electrode film, and is a layer used as a base material for laminating | stacking an aluminum pattern layer through a transparent adhesive layer. . The transparent substrate may be selected according to the intended use in consideration of performance such as transparency in the visible region (light transmittance), mechanical strength, and heat resistance. Specific examples of such a transparent substrate include a sheet (or film; the same applies hereinafter) or a plate made of an organic material such as resin or an inorganic material such as glass. The higher the transparency of the transparent substrate, the better. However, the light transmittance in the visible light region of 380 to 780 nm is preferably 70% or more, more preferably 80% or more. The light transmittance can be measured using a spectrophotometer (for example, UV-3100PC manufactured by Shimadzu Corporation) and a value measured in the air at room temperature.
Further, the haze value of the transparent substrate in accordance with JIS K7105-1981 is preferably 10% or less, more preferably 2.0% or less, and particularly preferably 1.0% or less. . By setting the haze value of the transparent substrate in the above range, the haze of the electrode film of the present invention can be kept low together with the effect of the present invention.
透明基材の材料として用いる樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、テレフタル酸−イソフタル酸−エチレングリコール共重合体、テレフタル酸−シクロヘキサンジメタノール−エチレングリコール共重合体などのポリエステル系樹脂、ナイロン6などのポリアミド系樹脂、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、シクロオレフィン重合体などのポリオレフィン系樹脂、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル樹脂、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体などのスチレン系樹脂、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂、イミド系樹脂、ポリカーボネート樹脂等が挙げられる。 Examples of the resin used as the material for the transparent substrate include polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, terephthalic acid-isophthalic acid-ethylene glycol copolymer, and terephthalic acid-cyclohexanedimethanol-ethylene glycol copolymer. Polyester resins such as polyester resins, polyamide resins such as nylon 6, polyolefin resins such as polypropylene, polymethylpentene and cycloolefin polymers, acrylic resins such as polymethyl methacrylate, styrene resins such as polystyrene and styrene-acrylonitrile copolymers, Examples thereof include cellulose resins such as triacetyl cellulose, imide resins, and polycarbonate resins.
なお、これらの樹脂は、単独、又は複数種類の混合樹脂(ポリマーアロイを含む)として用いられ、透明基材の層構成は、単層、又は2層以上の積層体として用いられる。また、樹脂フィルムの場合、1軸延伸や2軸延伸した延伸フィルムが機械的強度の点でより好ましい。また、これら樹脂中には、必要に応じて適宜、充填剤、可塑剤、帯電防止剤などの添加剤を加えても良い。又、硝子としては、ソーダ硝子、カリ硝子、硼珪酸硝子、石英硝子等が挙げられる。通常、硝子の場合は、厚みの有る板状で用いられる。 These resins are used alone or as a plurality of types of mixed resins (including polymer alloys), and the layer structure of the transparent substrate is used as a single layer or a laminate of two or more layers. In the case of a resin film, a uniaxially stretched or biaxially stretched film is more preferable in terms of mechanical strength. Moreover, you may add additives, such as a filler, a plasticizer, and an antistatic agent, in these resins suitably as needed. Examples of the glass include soda glass, potash glass, borosilicate glass, and quartz glass. Usually, glass is used in the form of a thick plate.
透明基材の厚さは、基本的には用途に応じ選定すればよく、特に制限はないが、通常は12〜5000μm、好ましくはフィルムの場合は50〜500μm、より好ましくは50〜200μm、板の場合は500〜3000μmである。このような厚み範囲ならば、機械的強度が十分で、反り、弛み、破断などを防ぎ、連続帯状で供給して加工する事も容易である。
なお、本発明では、透明基材としては、特に、可撓性の有る樹脂フィルム或は板から成るものが、製造加工適性が良好で、重量、価格も低減できる点で好ましい。特に、これら樹脂から成る基材を透明樹脂基材と称呼する。
The thickness of the transparent substrate may be basically selected according to the use and is not particularly limited, but is usually 12 to 5000 μm, preferably 50 to 500 μm in the case of a film, more preferably 50 to 200 μm, plate In this case, the thickness is 500 to 3000 μm. Within such a thickness range, the mechanical strength is sufficient, warping, loosening, breakage, etc. are prevented, and it is easy to supply and process in a continuous belt shape.
In the present invention, as the transparent substrate, a material made of a flexible resin film or plate is particularly preferable in terms of good manufacturing processability and reduced weight and cost. In particular, a substrate made of these resins is referred to as a transparent resin substrate.
透明樹脂基材の形態としては樹脂板よりは透明樹脂フィルムが好ましい。該樹脂フィルムのなかでも特に、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂フィルムが、透明性、耐熱性、コスト等の点で好ましく、より好ましくは2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが最適である。 As a form of the transparent resin substrate, a transparent resin film is preferable to a resin plate. Among these resin films, polyester resin films such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate are preferable in terms of transparency, heat resistance, cost, and the like, and more preferably a biaxially stretched polyethylene terephthalate film.
また、樹脂フィルム等の透明基材は、適宜その表面に、コロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン処理、フレーム処理、プライマー処理、予熱処理、除塵埃処理、蒸着処理、アルカリ処理、などの公知の易接着処理を行ってもよい。 In addition, a transparent substrate such as a resin film has a known surface such as a corona discharge treatment, a plasma treatment, an ozone treatment, a flame treatment, a primer treatment, a pre-heat treatment, a dust removal treatment, a vapor deposition treatment, and an alkali treatment. An adhesion treatment may be performed.
(2)アルミニウムパターン層
アルミニウムパターン層3はアルミニウム薄膜で形成したパターン層であり、タッチパネル用電極フィルムの電極を構成する。該層自体は不透明だが、開口部など該層の非形成部を設けたパターンとすることによって、タッチパネル電極として要求される導電性と光透過性とを両立させた層である。
本発明においては、アルミニウムパターン層の透明接着剤層側表面が、JIS Z8722に準拠して測定した全光線反射率(RSCI)に対する拡散光線反射率(RSCE)の比(RSCE/RSCI)が0.4以下、好ましくは0.3以下となる。全光線反射率(RSCI)に対する拡散光線反射率(RSCE)の比(RSCE/RSCI)を上記特定の反射特性を有するように最適化することで、該アルミニウムパターン層の表面性状が転写されたアルミニウムパターン層の開口部における透明接着剤層表面が光散乱し難い形状となるため、電極フィルムのヘイズを低減することができる。
なお、アルミニウムパターン層を形成するアルミニウム薄膜の圧延ロール表面の研磨度を上げることにより、上記特定の反射特性が得られる。
(2) Aluminum pattern layer The
In the present invention, a transparent adhesive layer side surface of the aluminum pattern layer, diffuse light reflectance to the total light reflectance was measured in accordance with JIS Z8722 (R SCI) (R SCE) ratio (R SCE / R SCI ) Is 0.4 or less, preferably 0.3 or less. Total light reflectance diffuse light reflectance for (R SCI) ratio (R SCE) (R SCE / R SCI) by optimizing to have the specific reflection characteristics, the surface properties of the aluminum pattern layer Since the surface of the transparent adhesive layer at the opening of the transferred aluminum pattern layer has a shape that hardly scatters light, the haze of the electrode film can be reduced.
In addition, the said specific reflective characteristic is acquired by raising the polish degree of the rolling roll surface of the aluminum thin film which forms an aluminum pattern layer.
アルミニウムパターン層のアルミニウムは純粋なアルミニウム単体でも良いが、アルミニウムを主成分とし、アルミニウム単体の他にアルミニウム合金でもよくこれらをまとめて本発明ではアルミニウムというが、アルミニウムの純度が低いと導電性が低下するので、純度は高導電性の点では高い方が好ましく、純度が99.0%以上のアルミニウムが好ましい。このような純度が99.0%以上のアルミニウムを利用したアルミニウムパターン層は、JIS H4160(アルミニウム及びアルミニウム合金はく)、JIS H4170(高純度アルミニウムはく)で規定されるアルミニウム箔に準じた箔を利用することで形成できる。 The aluminum of the aluminum pattern layer may be pure aluminum alone, but it is mainly composed of aluminum, and may be aluminum alloy in addition to aluminum alone. These are collectively referred to as aluminum in the present invention, but the conductivity decreases when the purity of aluminum is low. Therefore, the purity is preferably higher in terms of high conductivity, and aluminum having a purity of 99.0% or more is preferable. Such an aluminum pattern layer using aluminum having a purity of 99.0% or more is a foil conforming to the aluminum foil defined by JIS H4160 (aluminum and aluminum alloy foil) and JIS H4170 (high purity aluminum foil). It can be formed by using
本発明において、アルミニウムパターン層を形成するアルミニウム薄膜の平滑面が転写、賦形された透明接着剤層露出面のヘイズ低減の程度は、前記の如く、該アルミニウム薄膜接着面の持つ特定の光線反射率比(RSCE/RSCI)の数値に大きく依存(相関)する。そして、JIS B0601に定める算術平均粗さRaへの依存(相関)性は低い旨述べた。しかしながら、Raの値が大きくなりすぎると、一般に表面凹凸が増えることには相違ない為、やはり接着剤層露出面のヘイズは増加する傾向(弱い相関)はある。その点も考慮すると、特定の光線反射率比(RSCE/RSCI)の数値を設定することは前提の上で、Raも可能な範囲で小さいものを選定する方が好ましいと言える。通常は、Raは0.2μm以下、更に好ましくは0.15μm以下に設定される。 In the present invention, the degree of haze reduction on the exposed surface of the transparent adhesive layer formed by transferring and shaping the smooth surface of the aluminum thin film forming the aluminum pattern layer is, as described above, the specific light reflection of the aluminum thin film adhesive surface. It greatly depends on (correlates with) the numerical value of the rate ratio ( RSCE / RSCI ). He stated that the dependence (correlation) on the arithmetic average roughness Ra defined in JIS B0601 is low. However, if the value of Ra becomes too large, the surface unevenness generally increases, and therefore the haze on the exposed surface of the adhesive layer also tends to increase (weak correlation). In view of this point, it can be said that it is preferable to select a small Ra within a possible range on the assumption that a specific light reflectance ratio (R SCE / R SCI ) is set. Usually, Ra is set to 0.2 μm or less, more preferably 0.15 μm or less.
アルミニウムパターン層の厚みは、導電性、加工適性、機械的強度などの点から適宜選択すればよく、具体的には1〜100μm、好ましくは5〜20μm、より好ましくは8〜15μmである。厚みが薄いと導電性、機械的強度などが低下し、厚みが厚いと加工適性が低下する。 What is necessary is just to select the thickness of an aluminum pattern layer suitably from points, such as electroconductivity, workability, and mechanical strength, Specifically, it is 1-100 micrometers, Preferably it is 5-20 micrometers, More preferably, it is 8-15 micrometers. If the thickness is small, the conductivity, mechanical strength, and the like are lowered. If the thickness is thick, the workability is lowered.
アルミニウムパターン層の平面視でのパターンの形状は、例えばメッシュ(格子乃至網目)形状、ストライプ(縞乃至平行線群)形状、スパイラル(螺旋乃至渦巻)などの導電性と光透過性とを両立させた公知のパターンである。なかでもメッシュ形状、それも正方格子形状が代表的であり、この他、格子形状で言えば例えば長方形格子、菱形格子、六角格子、三角格子などがある。メッシュはこれら形状からなる複数の開口部を有し、開口部間は開口部を区画するライン部(線部又は線条部)となる。ライン部は通常幅均一でライン状のものであり、また通常は開口部及び開口部間は、全て各々同一形状で同一サイズとなる。 The pattern shape of the aluminum pattern layer in plan view is, for example, a mesh (lattice or mesh) shape, a stripe (stripe or parallel line group) shape, a spiral (spiral or spiral), etc., which has both conductivity and light transmittance. This is a known pattern. Among them, a mesh shape and a square lattice shape are typical, and in addition, examples of the lattice shape include a rectangular lattice, a rhombus lattice, a hexagonal lattice, and a triangular lattice. The mesh has a plurality of openings having these shapes, and the openings are line portions (line portions or line portions) that define the openings. The line portions are usually line-shaped with a uniform width, and usually the openings and the spaces between the openings are all the same shape and the same size.
パターンのライン部のライン幅は例えば5〜50μm、好ましくは5〜30μmであり、ラインの繰り返し周期であるライン間隔(ピッチ)は例えば100〜500μmである。 The line width of the line portion of the pattern is, for example, 5 to 50 μm, preferably 5 to 30 μm, and the line interval (pitch) that is a line repetition period is, for example, 100 to 500 μm.
(3)透明接着剤層
透明接着剤層2は、アルミニウムパターン層と透明基材とを接着することが可能で十分な透明性を有する層であれば、その種類等は特に限定されるものではないが、本発明においては、上記アルミニウムパターン層を構成するアルミニウム薄膜と透明基材とを透明接着剤層を介して貼り合わせた後、アルミニウム薄膜をエッチングによりパターン状とすることから、透明接着剤層も耐エッチング性を有することが好ましい。具体的には、ポリウレタンエステル樹脂、2液硬化型ウレタン樹脂等のポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。また、本発明に用いられる透明接着剤層は、紫外線硬化型であってもよく、また熱硬化型であってもよい。特に、透明基材との密着性などの観点からポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、特に2液硬化型ウレタン樹脂が好ましい。
(3) Transparent adhesive layer If the transparent
透明接着剤層の膜厚は、0.5μm〜50μmの範囲内、中でも1μm〜20μmの範囲内であることが好ましい。これにより、透明基材とアルミニウムパターン層とを強固に接着することができ、また、アルミニウムパターン層を形成するエッチングの際に透明基材が酸化鉄等のエッチング液の影響を受けること等を防ぐことができるからである。
また、上記透明接着剤層の屈折率は、透明基材との屈折率差による界面反射低減の観点から1.41〜1.59の範囲内であることが好ましく、更に1.48〜1.52の範囲内であることが好ましい。
The film thickness of the transparent adhesive layer is preferably in the range of 0.5 μm to 50 μm, and more preferably in the range of 1 μm to 20 μm. Thereby, a transparent base material and an aluminum pattern layer can be adhere | attached firmly, and it prevents that a transparent base material receives the influence of etching liquid, such as iron oxide, in the case of the etching which forms an aluminum pattern layer Because it can.
Further, the refractive index of the transparent adhesive layer is preferably in the range of 1.41 to 1.59 from the viewpoint of reducing interface reflection due to the difference in refractive index with the transparent base material. It is preferable to be within the range of 52.
[その他の層]
本発明の電極フィルムは、透明基材1のアルミニウムパターン層3側とは反対側の面上に防眩機能、反射防止機能等の光学機能、或いは耐擦傷機能、防汚染機能、撥水機能、帯電防止機能、抗菌機能等の其の他機能を有する機能層4が設けられていても良い。特に、光学機能を有する機能層を光学機能層とも呼称する。該機能層は、単層の他、多層として形成してもよい。
<耐擦傷機能層>
耐擦傷機能(ハードコート)層は、JISK5600−5−4(1999)で規定される鉛筆硬度試験で「H」以上の硬度を示すものであることが好ましく、このような硬度と上記透明基材と同様な透明性を実現できるものであれば、材料は特に限定されない。
耐擦傷機能(ハードコート)層は、例えば、ポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート等の多官能(メタ)アクリレートプレポリマー、或いは、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の3官能以上の多官能(メタ)アクリレートモノマーを単独で或いはこれらの中から2種以上選択して組み合わせて配合した電離放射線硬化性樹脂を用いた塗膜として形成することができる。また、電離放射線としては、紫外線、電子線等が代表的なものであるが、電離放射線硬化性樹脂を紫外線硬化性樹脂として使用する場合には、光重合開始剤または光重合促進剤として増感剤を添加することができる。なおここで、(メタ)アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを意味する複合的表記である。耐擦傷機能(ハードコート)は上記材料を必要に応じて溶剤で希釈して上記透明基材上に塗工等の湿式成膜法により形成することができる。
[Other layers]
The electrode film of the present invention has an optical function such as an antiglare function and an antireflection function on the surface opposite to the
<Abrasion-resistant functional layer>
The scratch-resistant (hard coat) layer preferably exhibits a hardness of “H” or higher in a pencil hardness test specified by JIS K5600-5-4 (1999). The material is not particularly limited as long as the same transparency can be realized.
The scratch-resistant layer (hard coat) layer is, for example, a polyfunctional (meth) acrylate prepolymer such as polyester (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, or trimethylolpropane tri (meth) acrylate. , Pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and other polyfunctional (meth) acrylate monomers such as tri- or more functional compounds, either alone or in combination of two or more of these It can be formed as a coating film using a curable resin. Typical examples of ionizing radiation include ultraviolet rays and electron beams. When ionizing radiation curable resins are used as ultraviolet curable resins, sensitization is performed as a photopolymerization initiator or a photopolymerization accelerator. An agent can be added. Here, (meth) acrylate is a composite notation meaning acrylate or methacrylate. The scratch resistance function (hard coat) can be formed by a wet film formation method such as coating on the transparent substrate by diluting the material with a solvent as necessary.
<防眩層>
防眩層(Anti Glare層、略称してAG層)は、樹脂バインダ中にシリカなどの無機フィラーを添加した塗膜形成や、或いは賦形版の押圧等を用いた賦形加工により、層表面に外光を乱反射する微細凹凸を設けた層として形成することができる。樹脂バインダの樹脂としては、表面層として表面強度が望まれる関係上、硬化性アクリル樹脂や、前記の耐擦傷機能(ハードコート)層同様に電離放射線硬化性樹脂等が好適に使用される。
<Anti-glare layer>
The antiglare layer (Anti Glare layer, abbreviated as AG layer) is formed on the surface of the layer by forming a coating using an inorganic filler such as silica in a resin binder, or by forming using a pressing of a forming plate, etc. It can be formed as a layer provided with fine irregularities for irregularly reflecting external light. As the resin of the resin binder, a curable acrylic resin, an ionizing radiation curable resin, or the like is preferably used in the same manner as the scratch-resistant (hard coat) layer because the surface layer is desired to have surface strength.
<反射防止層>
反射防止層(Anti Reflection層、略称してAR層)は、低屈折率層の単層、或いは、低屈折率層と高屈折率層とを、当該低屈折率層が最上層に位置する様に交互に積層した多層構成が一般的であり、蒸着やスパッタ等の乾式成膜法で、或いは塗工等の湿式成膜法も利用して形成することができる。なお、低屈折率層はケイ素酸化物、フッ化マグネシウム、フッ素含有樹脂等が用いられ、高屈折率層には、酸化チタン、硫化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ等が用いられる。尚、ここで高(低)屈折率層とは、当該層と隣接する層(例えば、低(高)屈折率層)と比較して当該層の屈折率が相対的に高(低)いという意味である。
反射防止層に更に耐擦傷機能を付与する場合には、前記の耐擦傷機能(ハードコート)層の項で記載した硬度の高い材料を適宜用いて形成する。
<Antireflection layer>
The antireflection layer (Anti Reflection layer, abbreviated as AR layer) is a single layer of a low refractive index layer, or a low refractive index layer and a high refractive index layer, and the low refractive index layer is positioned in the uppermost layer. A multilayer structure in which the layers are alternately laminated is generally used, and can be formed by a dry film formation method such as vapor deposition or sputtering, or by using a wet film formation method such as coating. Note that silicon oxide, magnesium fluoride, fluorine-containing resin, or the like is used for the low refractive index layer, and titanium oxide, zinc sulfide, zirconium oxide, niobium oxide, or the like is used for the high refractive index layer. Here, the high (low) refractive index layer means that the refractive index of the layer is relatively high (low) compared to a layer adjacent to the layer (for example, a low (high) refractive index layer). Meaning.
When the antireflection layer is further provided with a scratch resistance function, the antireflection layer is appropriately formed using a material having high hardness described in the section of the scratch resistance function (hard coat) layer.
本発明に係る電極フィルムのJIS K 7105−1981に準拠して測定したヘイズ値は、10%以下、更に5%以下とすることができ、電極フィルムとして十分な透明性を有する。 The haze value measured based on JIS K7105-1981 of the electrode film which concerns on this invention can be 10% or less, Furthermore, it can be 5% or less, and has transparency sufficient as an electrode film.
本発明に係る電極フィルムのアルミニウムパターン層の表面抵抗値は、100〜1000Ω/□、更に好ましくは300〜500Ω/□とする。該表面抵抗値が上記範囲よりも小さい場合には、適宜調整し上記範囲内とする。調整方法としては、例えば、アルミニウムパターン層の膜厚を薄膜化する、アルミニウムパターン層に用いるアルミニウム箔のアルミニウム純度を低下させる(アルミニウムの合金化)、アルミニウムパターン層の細線化、及び高開口率化等が挙げられる。
尚、上記表面抵抗値は、抵抗率計・ロレスタEPMCP−T360型(三菱化学アナリテック社製)を用いて4端子4探針法で測定することができる。
The surface resistance value of the aluminum pattern layer of the electrode film according to the present invention is 100 to 1000 Ω / □, more preferably 300 to 500 Ω / □. When the surface resistance value is smaller than the above range, it is appropriately adjusted to be within the above range. Adjustment methods include, for example, reducing the thickness of the aluminum pattern layer, reducing the aluminum purity of the aluminum foil used in the aluminum pattern layer (alloying aluminum), thinning the aluminum pattern layer, and increasing the aperture ratio. Etc.
The surface resistance value can be measured by a 4-terminal 4-probe method using a resistivity meter / Loresta EPMCP-T360 type (manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech).
II.タッチパネル用電極フィルムの製造方法
本発明に係るタッチパネル用電極フィルムの製造方法は、透明基材の一方の面に、複数の開口部とこれを囲繞し区画するライン部を有するアルミニウムパターン層からなる電極を備えたタッチパネル用電極フィルムの製造方法であって、
(i)JIS Z 8722に準拠して測定した全光線反射率(RSCI)に対する拡散光線反射率(RSCE)の比(RSCE/RSCI)が0.4以下の面を有するアルミニウム薄膜を用意する工程、
(ii)透明基材の一方の面に、透明接着剤層を介して、前記アルミニウム薄膜を、そのRSCE/RSCIが0.4以下の面を前記透明基材と向き合わせて積層する工程、及び
(iii)前記アルミニウム薄膜を所定のパターン形状にエッチングして電極とする工程を含むことを特徴とする。
II. Method for Producing Touch Panel Electrode Film A method for producing an electrode film for a touch panel according to the present invention comprises an aluminum pattern layer having a plurality of openings and a line portion surrounding and partitioning on one surface of a transparent substrate. A method for producing an electrode film for a touch panel comprising:
(I) An aluminum thin film having a surface having a diffused light reflectance ( RSCE ) ratio ( RSCE / RSCI ) of 0.4 or less to the total light reflectance ( RSCI ) measured according to JIS Z 8722 The process to prepare,
(Ii) A step of laminating the aluminum thin film on one surface of the transparent substrate with the surface of which R SCE / R SCI is 0.4 or less facing the transparent substrate via a transparent adhesive layer And (iii) a step of etching the aluminum thin film into a predetermined pattern shape to form an electrode.
本発明の電極フィルムの製造方法によれば、金属パターン層に用いられる金属箔の材料として銅よりも安価なアルミニウムを用いることにより、電極フィルムの低コスト化が図れる。
また、透明基材の一方の面に、透明接着剤層を介して、アルミニウム薄膜の全光線反射率(RSCI)に対する拡散光線反射率(RSCE)の比(RSCE/RSCI)が上記特定の範囲となる光散乱性の低い平滑面(鏡面)を、該透明基材と向き合わせて積層することにより、該アルミニウム薄膜のエッチング処理後の開口部における該透明接着剤層表面が光散乱し難い形状となるため、ヘイズが低減された電極フィルムを得ることができる。
According to the method for producing an electrode film of the present invention, the cost of the electrode film can be reduced by using aluminum which is cheaper than copper as the material of the metal foil used for the metal pattern layer.
Further, on one surface of a transparent substrate, through a transparent adhesive layer, a ratio of the diffuse light reflectance to the total light reflectance of the aluminum thin film (R SCI) (R SCE) (R SCE / R SCI) is the By laminating a smooth surface (mirror surface) with a low light scattering property in a specific range so as to face the transparent substrate, the surface of the transparent adhesive layer in the opening after etching of the aluminum thin film is subjected to light scattering. Since it is difficult to form, an electrode film with reduced haze can be obtained.
以下、各工程についてそれぞれ説明する。
(i)JIS Z 8722に準拠して測定した全光線反射率(RSCI)に対する拡散光線反射率(RSCE)の比(RSCE/RSCI)が0.4以下の面を有するアルミニウム薄膜を用意する工程
本工程においては、先ずアルミニウム薄膜を用意する。
本発明で用いるアルミニウム薄膜は、上記特定の反射特性を有する面(光散乱性の低い平滑面)を有する。後述するように、該アルミニウム薄膜の平滑面を透明接着剤層を介して、透明基材の一方の面に向き合わせて積層する工程を経ることで、該アルミニウム薄膜のエッチング処理後の開口部の該透明接着剤層表面が光散乱し難い形状となるため、得られる電極フィルムの低ヘイズ化が図れる。
尚、アルミニウム薄膜は、上記「(2)アルミニウムパターン層」の項で説明したものを用いることができる。
Hereinafter, each step will be described.
(I) An aluminum thin film having a surface having a diffused light reflectance ( RSCE ) ratio ( RSCE / RSCI ) of 0.4 or less to the total light reflectance ( RSCI ) measured according to JIS Z 8722 Step to be prepared In this step, an aluminum thin film is first prepared.
The aluminum thin film used in the present invention has a surface (smooth surface with low light scattering property) having the specific reflection characteristics. As will be described later, through the step of laminating the smooth surface of the aluminum thin film so as to face one surface of the transparent substrate through the transparent adhesive layer, the opening of the aluminum thin film after the etching treatment is processed. Since the surface of the transparent adhesive layer has a shape that hardly scatters light, the resulting electrode film can be reduced in haze.
As the aluminum thin film, the one described in the section “(2) Aluminum pattern layer” can be used.
(ii)透明基材の一方の面に、透明接着剤層を介して、前記アルミニウム薄膜を、そのRSCE/RSCIが0.4以下の面を前記透明基材と向き合わせて積層する工程
本工程においては、先ず透明基材を用意し、この透明基材の一方の面に、透明接着剤をコーティングして、透明接着剤層を形成する。
上記透明基材は、上記「(1)透明基材」の項で説明したものを用いることができる。
また、層形成法としては、公知の層形成法、例えば、ロールコート、コンマコート、グラビアコート、ダイコート等の塗工法、或いは、任意形状での部分形成が容易なスクリーン印刷、グラビア印刷等の印刷法を適宜採用することができる。
次に、上記透明基材の透明接着剤層の表面に、アルミニウム薄膜を光散乱性の低い平滑面側を向けて積層する。
(Ii) A step of laminating the aluminum thin film on one surface of the transparent substrate with the surface of which R SCE / R SCI is 0.4 or less facing the transparent substrate via a transparent adhesive layer In this step, first, a transparent substrate is prepared, and one surface of the transparent substrate is coated with a transparent adhesive to form a transparent adhesive layer.
As the transparent substrate, those described in the section “(1) Transparent substrate” can be used.
In addition, as a layer forming method, a known layer forming method, for example, a coating method such as roll coating, comma coating, gravure coating, or die coating, or printing such as screen printing or gravure printing that allows easy partial formation in an arbitrary shape. The law can be adopted as appropriate.
Next, an aluminum thin film is laminated on the surface of the transparent adhesive layer of the transparent substrate with the smooth surface side having a low light scattering property facing.
(iii)前記アルミニウム薄膜を所定のパターン形状にエッチングして電極とする工程
本工程においては、透明基材上に積層されたアルミニウム薄膜面へ、レジスト層を所定のパターン状に設け、レジスト層で覆われていない部分のアルミニウム薄膜をエッチング(腐蝕)により除去した後に、レジスト層を除去するエッチング加工法で、アルミニウムパターン層からなる電極とする。エッチング加工法の中でも、所謂フォトリソグラフィー法を採用する事が、微細加工精度の点から好ましい。
(Iii) Step of etching the aluminum thin film into a predetermined pattern shape to form an electrode In this step, a resist layer is provided in a predetermined pattern on the surface of the aluminum thin film laminated on the transparent substrate. After the uncovered portion of the aluminum thin film is removed by etching (corrosion), an electrode made of an aluminum pattern layer is formed by an etching process that removes the resist layer. Among the etching processing methods, it is preferable to adopt a so-called photolithography method from the viewpoint of fine processing accuracy.
以下、フォトリソグラフィー法について説明する。
まず、マスキングを行う。例えば、アルミニウム薄膜側の最表面へ感光性レジストを塗布し、乾燥した後に、所定のパターンを有するフォトマスクにて密着露光し、温水現像し、硬膜処理などを施し、ベーキングすることにより、所望のパターンのレジスト層を形成する。尚、感光性レジストのネガ型、ポジ型の何れも使用可能である。感光性レジストがネガ型の場合は、フォトマスクのパターンはライン部が透明なものを用いる。また、感光性レジストがポジ型の場合は、フォトマスクのパターンは開口部が透明なものを用いる。また、露光パターンとしては、電極フィルムとして所望のパターンであり、該パターンとしてメッシュ形状を採用する場合は、最低限メッシュ状領域のパターンから構成される。
Hereinafter, the photolithography method will be described.
First, masking is performed. For example, a photosensitive resist is applied to the outermost surface on the aluminum thin film side, dried, and then closely exposed with a photomask having a predetermined pattern, developed with warm water, subjected to a hardening process, and baked. A resist layer of the pattern is formed. Note that either a negative type or a positive type of photosensitive resist can be used. When the photosensitive resist is a negative type, a photomask pattern having a transparent line portion is used. When the photosensitive resist is a positive type, a photomask pattern having a transparent opening is used. Further, the exposure pattern is a desired pattern as an electrode film. When a mesh shape is adopted as the pattern, the exposure pattern is composed of a pattern of at least a mesh region.
上記感光性レジストの塗布は、巻取り加工では、帯状の積層体を連続又は間歇で搬送させながら、アルミニウム薄膜面へ、カゼイン、PVA、ゼラチンなどから成るレジストをディッピング(浸漬)、カーテンコート、掛け流しなどの方法で行う。また、レジストは塗布ではなく、ドライフィルムレジストを用いてもよく、作業性を向上できる。 In the winding process, the photosensitive resist is applied by dipping (dipping), curtain coating, or hanging a resist made of casein, PVA, gelatin or the like onto the aluminum thin film surface while the belt-like laminate is conveyed continuously or intermittently. Use a sink or other method. Also, the resist may be a dry film resist instead of coating, and workability can be improved.
マスキング後にエッチングを行う。該エッチングに用いるエッチング液としては、エッチングを連続して行う本発明には循環使用が容易にできる塩化第二鉄、又は塩化第二銅の水溶液が好ましい。また、該エッチングは、帯状で連続する鋼材、特に厚さ20〜80μmの薄板をエッチングするカラーTVのブラウン管用のシャドウマスクを製造する設備、工程と基本的に同様である。透明基材としてガラスを用いる場合の枚葉加工もより古くから行われている。エッチング後は、水洗、アルカリ液によるレジスト剥離、洗浄を行ってから乾燥すればよい。 Etching is performed after masking. As the etching solution used for the etching, an aqueous solution of ferric chloride or cupric chloride that can be easily circulated is preferable in the present invention in which etching is continuously performed. The etching is basically the same as the equipment and process for manufacturing a shadow mask for a color TV cathode ray tube that etches a strip-like continuous steel material, particularly a thin plate having a thickness of 20 to 80 μm. Single-wafer processing in the case of using glass as a transparent substrate has been performed for a long time. After etching, the substrate may be dried after washing with water, stripping the resist with an alkaline solution, and washing.
このようにして得られた電極フィルムのJIS K 7105:1981に準拠して測定したヘイズ値は、10%以下とすることができ、更に5%以下とすることができる。 Thus, the haze value measured based on JISK7105: 1981 of the obtained electrode film can be 10% or less, and can also be 5% or less.
II.タッチパネル
本発明に係るタッチパネルは、透明基材の一方の面に透明導電性の電極を有する2枚の電極フィルムが、スペーサを介して互いに電極を対向させて配置されたタッチパネルであって、
該2枚の電極フィルムのうち少なくとも一方の電極フィルムが前記本発明に係るタッチパネル用電極フィルムであることを特徴とする。
II. Touch panel The touch panel according to the present invention is a touch panel in which two electrode films having transparent conductive electrodes on one surface of a transparent substrate are arranged with electrodes facing each other via a spacer,
Of the two electrode films, at least one of the electrode films is the electrode film for a touch panel according to the present invention.
本発明によれば、タッチパネルの少なくとも一方の電極フィルムに上述した本発明に係る電極フィルムを用いることにより、ヘイズを低減することができるタッチパネルを低コストで提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the touch panel which can reduce a haze can be provided at low cost by using the electrode film which concerns on this invention mentioned above for the at least one electrode film of a touch panel.
本発明に係るタッチパネル50A及び50Bは、図3及び図4にその一例を示すように、2枚の電極フィルムが、スペーサ6を介して互いに電極を一定間隔Gで対向させて配置されている。該2枚の電極フィルムの少なくとも一方は、前記本発明の構成の電極フィルムからなる。特に、図3の形態においては、2枚の電極フィルムとも本発明の電極フィルムからなる。表示装置60側の電極フィルムは、透明基材1の一方の面に、透明接着剤層2を介して、電極としてアルミニウムパターン層3が積層されており、該アルミニウムパターン層3は、透明基材1側の面(透明接着剤層側の面でもある)が光散乱性の低い平滑面3a、該透明基材1側とは反対側の面が非平滑面3bである電極フィルム10となっている。また、入力ペン7が接触する入力側の電極フィルムについては、これに加えて更に、透明基材1のアルミニウムパターン層3側とは反対側の面上には、光学機能層4が積層された電極フィルム20となっている。
尚、図4に示す形態のタッチパネル50Bは、入力側の電極フィルムには光学機能層4を含む本発明の電極フィルム20を、又表示装置60側の電極フィルムには従来の電極フィルム、即ち、ITO等の透明導電膜40が透明基材1上の全面に成膜された電極フィルム30を用い、その他は図3と同様に構成したものである。
In the
The
また、日光等の外光存在下で該タッチパネルを透過して見る表示装置の表示(画像、数字等)のコントラストを向上させるために、入力側の電極フィルム10(観察者側の電極フィルム)のアルミニウムパターン層3の透明基材1側の面(平滑面3a)に黒化層を設けてもよい。
黒化層としては、公知のものを適宜採用すれば良い。例えば、黒化層としては、金属などの無機材料、黒色樹脂などの有機材料などを使用できる。無機材料としては、例えば金属乃至は合金、金属酸化物、金属硫化物などの金属化合物であり、めっき法など公知の黒化処理にて形成することができる。また、黒色樹脂としては例えばカーボンブラック等の黒色の着色剤を樹脂中に含有させた層として形成できる。
In addition, in order to improve the contrast of the display (image, number, etc.) of the display device viewed through the touch panel in the presence of external light such as sunlight, the input side electrode film 10 (observer side electrode film) A blackened layer may be provided on the surface (
As the blackening layer, a known layer may be appropriately employed. For example, as the blackening layer, an inorganic material such as a metal, an organic material such as a black resin, or the like can be used. The inorganic material is, for example, a metal compound such as a metal or an alloy, a metal oxide, or a metal sulfide, and can be formed by a known blackening process such as a plating method. Moreover, as black resin, it can form as a layer which contained black coloring agents, such as carbon black, in resin.
本発明に係るタッチパネル用電極フィルム10及び20、並びにタッチパネル50A及び50Bは、小型ゲーム機の表示面、コンピュータディスプレイの表示面、TVディスプレイの表示面、電子ペーパー等の表示面、現金自動支払機の表示面、各種電子案内板やデータベースの表示面、乗車券自動販売機の表示面等に装着されるタッチパネル、又はその構成部材として好ましく使用することができる。なお、このような表示装置は、液晶表示装置(LCD)、プラズマ表示装置(PDP)、電場発光(EL)表示装置、陰極線管(CRT)表示装置、電気泳動表示装置等のいずれであってもよい。
The
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。 The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has any configuration that has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention and that exhibits the same effects. Are included in the technical scope.
以下、実施例を挙げて、本発明を更に具体的に説明する。これらの記載により本発明を制限するものではない。 Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. These descriptions do not limit the present invention.
以下、本発明の実施例及び比較例として;
透明基材/透明接着剤層/アルミニウムパターン層
の積層体からなる電極フィルムを作成した。この形態において、該透明基材側から測定光を入射し、該アルミニウムパターン層の該透明接着剤層側の面について、特定の光線反射率比(RSCE/RSCI)の数値(「アルミニウムパターン層のRSCE/RSCI」とも呼称する)、及び該電極フィルム透過光のヘイズ値を測定し、両者の関係を評価した。
又、併せて、パターン未形成の該アルミニウム薄膜自体単品について、直接、間に何も介在させずに、接着面(該透明接着剤層側に当接する面)の該光線反射率比(RSCE/RSCI)の数値(「アルミニウム薄膜自体のRSCE/RSCI」とも呼称する。該アルミニウム薄膜表面固有の物理的特性値でもある。)も測定した。
そして、両(RSCE/RSCI)の数値間の相関関係を評価した。
尚、これに先立ち、別途、参考データとして、金属薄膜について、各種表面粗さ値(Ra、Rq、及びRz)、該光線反射率比(RSCE/RSCI)、及び得られた上記構成の電極フィルムのヘイズ値との相関関係を確認する為に、各種金属薄膜について、金属薄膜自体の(RSCE/RSCI)を測ると共に、JIS規格(下記)に基づいて、Ra、Rq、及びRzの各表面粗さ値を測った。
更に、金属薄膜の表面形状が転写、賦形された透明接着剤露出面のヘイズ値が、該光線反射率比(RSCE/RSCI)の値に如何に依存するかの確認の為に、各金属薄膜を用いた前記構成の電極フィルム自体のヘイズを測った。
これらを併せて、参考試験1〜参考試験4(得られた試料を参考例1〜参考例4)として、以下に提示する。
Hereinafter, as examples and comparative examples of the present invention;
An electrode film comprising a laminate of transparent substrate / transparent adhesive layer / aluminum pattern layer was prepared. In this embodiment, measurement light is incident from the transparent base material side, and the surface of the aluminum pattern layer on the transparent adhesive layer side has a specific light reflectance ratio (R SCE / R SCI ) (“aluminum pattern”). The layer was also referred to as “ RSCE / RSCI ”), and the haze value of the transmitted light from the electrode film was measured to evaluate the relationship between the two.
Also, In addition, for the aluminum thin film per se separately the unpatterned directly anything without intervening light ray reflectance ratio of the adhesive surface (surface contacting the transparent adhesive layer side) between (R SCE / R SCI ) (also referred to as “R SCE / R SCI of the aluminum thin film itself. It is also a physical characteristic value specific to the surface of the aluminum thin film)” was also measured.
And the correlation between the numerical value of both ( RSCE / RSCI ) was evaluated.
Prior to this, as reference data, various surface roughness values (Ra, Rq, and Rz), the light reflectance ratio ( RSCE / RSCI ), and the obtained configuration described above were separately provided as reference data. In order to confirm the correlation with the haze value of the electrode film, for various metal thin films, ( RSCE / RSCI ) of the metal thin film itself was measured, and Ra, Rq, and Rz based on JIS standards (below) Each surface roughness value of was measured.
Furthermore, in order to confirm how the haze value of the exposed surface of the transparent adhesive, to which the surface shape of the metal thin film is transferred and shaped, depends on the value of the light reflectance ratio ( RSCE / RSCI ), The haze of the electrode film itself having the above-described configuration using each metal thin film was measured.
Together, these are presented below as Reference Test 1 to Reference Test 4 (the obtained samples are Reference Example 1 to Reference Example 4).
〔参考試験(及び参考例)〕
(参考試験1)
先ず、金属薄膜とする金属箔として、厚さ12μmで連続帯状の電解銅箔(B2X−WS:商品名、古河サーキットフォイル社製)を用意した。該電解銅箔は鏡面と粗面を有し、該電解銅箔の粗面において、全光線反射率(RSCI)に対する拡散光線反射率(RSCE)の比(RSCE/RSCI)を測定したところ、該電解銅箔粗面自体の比(RSCE/RSCI)は、1.0であった。
又、併せて、該金属薄膜の粗面について、JIS規格規定のRa、Rq、及びRzの各表面粗さ値を測定した。
また、透明基材として、片面にポリエステル樹脂系プライマー層が形成された、厚さ100μmで連続帯状の無着色透明な2軸延伸ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(A4300:商品名、東洋紡社製)を用意した。
次に、上記PETフィルムのプライマー層が形成された面に、乾燥時の厚さが7μmとなるように透明接着剤(主剤が平均分子量3万のポリエステルポリウレタンポリオール12質量部、及び硬化剤がキシリレンジイソシアネート系プレポリマー1質量部から成る2液硬化型ウレタン樹脂系接着剤)をコーティングして、透明接着剤層を形成した。
[Reference test (and reference example)]
(Reference test 1)
First, as a metal foil to be a metal thin film, an electrolytic copper foil (B2X-WS: trade name, manufactured by Furukawa Circuit Foil) with a thickness of 12 μm was prepared. Electric Kaidohaku has a mirror and rough surface, measured in the rough surface of the electric Kaidohaku, the ratio (R SCE / R SCI) of total light reflectance diffuse light reflectance for (R SCI) (R SCE) As a result, the ratio (R SCE / R SCI ) of the rough surface of the electrolytic copper foil itself was 1.0.
In addition, the surface roughness values of Ra, Rq, and Rz specified in JIS standards were measured for the rough surface of the metal thin film.
In addition, as a transparent substrate, a non-colored transparent biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) film (A4300: trade name, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 100 μm and having a polyester resin primer layer formed on one side is formed. Prepared.
Next, on the surface of the PET film on which the primer layer is formed, a transparent adhesive (12 parts by mass of a polyester polyurethane polyol having an average molecular weight of 30,000 as a main component and a curable agent is used to make the
次に、上記PETフィルムの片面のプライマー層上に、上記透明接着剤層を介して、上記電解銅箔の粗面側がPETフィルム側(透明接着剤層側)を向くようにドライラミネートして積層し、連続帯状の積層体を得た。ドライラミネートした後、50℃、3日間養生して、該接着剤を硬化せしめた。 Next, on the primer layer on one side of the PET film, dry lamination is performed with the rough surface side of the electrolytic copper foil facing the PET film side (transparent adhesive layer side) through the transparent adhesive layer. As a result, a continuous strip-shaped laminate was obtained. After dry laminating, the adhesive was cured by curing at 50 ° C. for 3 days.
次に、上記連続帯状の積層体に対して、その電解銅箔をフォトリソグラフィー法を利用したエッチングにより、開口部及びライン部とから成る金属パターン層としての銅メッシュ層を形成した。
上記エッチングは、具体的には、上記積層体の電解銅箔の露出面(この場合は鏡面)全面に感光性のネガ型エッチングレジストを塗布後、所望のメッシュパターンのマスクを密着露光し、現像、硬膜処理、ベーキングして、メッシュのライン部に相当する領域上にはレジスト層が残留し、開口部に相当する領域上にはレジスト層がないようなパターンにレジスト層を加工した後、塩化第二鉄水溶液で、レジスト層非形成領域の電解銅箔を、エッチング除去してメッシュ状の開口部を形成し、次いで、水洗、レジスト剥離、洗浄、乾燥を順次行った。
Next, a copper mesh layer as a metal pattern layer including an opening portion and a line portion was formed on the above-described continuous strip-shaped laminate by etching the electrolytic copper foil using a photolithography method.
Specifically, the etching is performed by applying a photosensitive negative etching resist to the entire exposed surface (in this case, the mirror surface) of the electrolytic copper foil of the laminate, and then exposing and developing a mask having a desired mesh pattern. Then, after hardening and baking, after processing the resist layer into a pattern in which the resist layer remains on the area corresponding to the line portion of the mesh and there is no resist layer on the area corresponding to the opening, The electrolytic copper foil in the resist layer non-formation region was removed by etching with a ferric chloride aqueous solution to form a mesh-shaped opening, and then washing with water, stripping of the resist, washing and drying were sequentially performed.
メッシュ状領域のメッシュ形状は、その開口部が正方形で、非開口部となる線状部分のライン幅は20μm、そのライン間隔は300μm、ライン部の高さは12μmであった。このようにして、幅寸法605mmの電極フィルムシートを得た。 The mesh shape of the mesh-like region was such that the opening portion was square, the line width of the linear portion serving as the non-opening portion was 20 μm, the line interval was 300 μm, and the height of the line portion was 12 μm. In this way, an electrode film sheet having a width dimension of 605 mm was obtained.
(参考試験2)
参考試験1において、透明基材上に、透明接着剤層を介して、積層する電解銅箔の面を、鏡面にした以外は、前記参考試験1と同様にして電極フィルムシートを得た。
尚、上記電解銅箔の鏡面において、全光線反射率(RSCI)に対する拡散光線反射率(RSCE)の比(RSCE/RSCI)を測定したところ、該電解銅箔鏡面自体の比(RSCE/RSCI)は、0.9であった。
(Reference test 2)
In Reference Test 1, an electrode film sheet was obtained in the same manner as in Reference Test 1 except that the surface of the electrolytic copper foil to be laminated on the transparent substrate was a mirror surface.
Incidentally, in the mirror surface of the electrolytic copper foil, the ratio was measured (R SCE / R SCI), electric Kaidohaku mirror itself ratio of diffuse light reflectance to the total light reflectance (R SCI) (R SCE) ( R SCE / R SCI ) was 0.9.
(参考試験3)
参考試験1において、金属薄膜とする金属箔として、厚さ12μmで連続帯状の圧延アルミニウム箔(1N30−B1:商品名、住軽アルミ箔社製)を用い、該アルミニウム箔の圧延ローラと非接触の側の面(非平滑面)を透明基材側に向けて、該透明基材上に、透明接着剤層を介して積層した以外は、前記参考試験1と同様にして電極フィルムシートを得た。
尚、上記アルミニウム箔の非平滑面について、全光線反射率(RSCI)に対する拡散光線反射率(RSCE)の比(RSCE/RSCI)を測定したところ、該アルミニウム箔非平滑面自体の比(RSCE/RSCI)は、0.8であった。
(Reference test 3)
In Reference Test 1, a rolled aluminum foil (1N30-B1: trade name, manufactured by Sumi Light Aluminum Foil Co., Ltd.) having a thickness of 12 μm was used as a metal foil to form a metal thin film, and was not in contact with the rolling roller of the aluminum foil. The electrode film sheet was obtained in the same manner as in Reference Test 1 except that the surface (non-smooth surface) on the side was directed to the transparent substrate side and laminated on the transparent substrate via a transparent adhesive layer. It was.
Note that the non-smooth surface of the aluminum foil, the total light reflectance diffuse light reflectance for (R SCI) was measured the ratio of (R SCE) (R SCE / R SCI), of the aluminum foil non-smooth surface itself The ratio (R SCE / R SCI ) was 0.8.
(参考試験4)
参考試験3において、透明基材上に、透明接着剤層を介して、積層するアルミニウム箔の面を、平滑面にした以外は、前記参考試験3と同様にして電極フィルムシートを得た。
尚、上記アルミニウム箔の平滑面について、全光線反射率(RSCI)に対する拡散光線反射率(RSCE)の比(RSCE/RSCI)を測定したところ、該アルミニウム箔平滑面自体の比(RSCE/RSCI)は、0.3であった。
(Reference test 4)
In
Note that the smooth surface of the aluminum foil, was measured the ratio (R SCE / R SCI) of total light reflectance diffuse light reflectance for (R SCI) (R SCE) , the ratio of the aluminum foil smooth surface itself ( R SCE / R SCI ) was 0.3.
上記、各参考試験に対して、以下の点を評価した。その結果を表1に記載する。
(1)金属箔面自体の比(RSCE/RSCI)
透明基材上に積層前の状態の金属箔について、透明基材側に接着される予定の面を、間に何も層を介さずに、JIS Z8722−1982に準拠して測定した該金属箔(薄膜)自体の全光線反射率(%)は、分光測色計(コニカミノルタセンシング株式会社製、CM−3600d)を反射モードに設定し、光源は標準の光D65、視野2°、測定径8mmφとして、検出器を、反射光のうち拡散反射光と鏡面反射光の両方を総合した全反射光の(積分)強度を測定するようなSCI(Specular Component Included)モードに設定して、Y値(3刺激値XYZのY)を測定した。また、金属箔の透明基材側の面のJIS Z8722−1982による拡散光線反射率(%)は、同様に分光測色計を用いて、光源、視野、及び測定径は上記と同じにして、鏡面反射光を光トラップで吸収遮断することによって、検出器が反射光のうち拡散反射光のみの(積分)強度を測定するようなSCE(Specular Component Excluded)モードに設定して、Y値(3刺激値XYZのY)を測定した。
(2)金属箔面の算術平均粗さRa
金属箔面の微細凹凸の中心線平均粗さRaをJIS B0601(1982年度版)に準じて触針式の表面粗さ計にて測定した。
(3)金属箔面の自乗平均粗さRq
金属箔面の自乗平均粗さRqは、金属箔面の微細凹凸の測定曲線(山そのもの)を自乗した平均値として触針式の表面粗さ計にて測定した。
(4)金属箔面の十点平均粗さRzJIS
金属箔面の微小凹凸は、微小凹凸の輪郭曲線に粗さ曲線を採用したときの、該輪郭曲線の十点平均粗さRzJISをJIS B0601(1994年版)に準じて触針式の表面粗さ計にて測定した。
なお、上記参考試験におけるRzの測定は、Rzとエッチング後のヘイズとの相関の有無の再確認を目的とした為、参考例1及び参考例2のみの測定に留めた。
(5)ヘイズ値
JIS K 7105−1981「プラスチックの光学的特性試験方法」に準じて、エッチング処理後の電極フィルムのヘイズ値を測定した。
The following points were evaluated for each of the above reference tests. The results are listed in Table 1.
(1) Ratio of metal foil surface itself ( RSCE / RSCI )
About the metal foil of the state before lamination | stacking on a transparent base material, this metal foil which measured the surface planned to adhere | attach on the transparent base material side based on JISZ8722-1982 without interposing any layer in between. The total light reflectance (%) of the (thin film) itself is set to a reflection mode with a spectrocolorimeter (Konica Minolta Sensing Co., Ltd., CM-3600d), the light source is standard light D65, field of
(2) Arithmetic average roughness Ra of the metal foil surface
The center line average roughness Ra of the fine irregularities on the metal foil surface was measured with a stylus type surface roughness meter according to JIS B0601 (1982 version).
(3) root mean square roughness Rq of metal foil surface
The root mean square roughness Rq of the metal foil surface was measured with a stylus type surface roughness meter as an average value obtained by squaring the measurement curve (crest itself) of fine irregularities on the metal foil surface.
(4) Ten-point average roughness of metal foil surface RzJIS
As for the micro unevenness of the metal foil surface, when a roughness curve is adopted as the contour curve of the micro unevenness, the ten-point average roughness RzJIS of the contour curve is determined according to JIS B0601 (1994 edition). Measured with a meter.
In addition, since the measurement of Rz in the said reference test was aimed at reconfirmation of the presence or absence of correlation with Rz and the haze after an etching, it stopped only the measurement of the reference example 1 and the reference example 2. FIG.
(5) Haze value The haze value of the electrode film after the etching treatment was measured according to JIS K 7105-1981 “Testing method for optical properties of plastic”.
〔実施例及び比較例〕
(実施例1)
先ず、アルミニウム薄膜として、厚さ12μmで連続帯状の圧延アルミニウム箔(1N30−B1:商品名、住軽アルミ箔社製)を用意した。尚、該アルミニウム箔は、平滑面と非平滑面を有する。透明基材1上に積層前の状態の該アルミニウム箔(パターン未形成)は、接着される予定の平滑面において、間に何も層を介さずに、全光線反射率(RSCI)に対する拡散光線反射率(RSCE)の比(RSCE/RSCI)を測定したところ、該アルミニウム薄膜自体の比(RSCE/RSCI)は、0.3であった。
[Examples and Comparative Examples]
Example 1
First, as an aluminum thin film, a rolled aluminum foil having a thickness of 12 μm and a continuous belt shape (1N30-B1: trade name, manufactured by Sumi Light Aluminum Foil Co., Ltd.) was prepared. The aluminum foil has a smooth surface and a non-smooth surface. The aluminum foil in the state before lamination on the transparent substrate 1 (unpatterned) is diffused with respect to the total light reflectance ( RSCI ) without any layer between them on the smooth surface to be bonded. When the ratio of light reflectance ( RSCE ) ( RSCE / RSCI ) was measured, the ratio of the aluminum thin film itself ( RSCE / RSCI ) was 0.3.
また、透明基材1として、片面にポリエステル樹脂系プライマー層が形成された、厚さ100μmで連続帯状の無着色透明な2軸延伸ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(A4300:商品名、東洋紡社製)を用意した。
次に、上記PETフィルムのプライマー層が形成された面に、乾燥時の厚さが7μmとなるように透明接着剤(主剤が平均分子量3万のポリエステルポリウレタンポリオール12質量部、及び硬化剤がキシリレンジイソシアネート系プレポリマー1質量部から成る2液硬化型ウレタン樹脂系接着剤)をコーティングして、透明接着剤層2を形成した。
Moreover, as the transparent base material 1, a polyester resin-based primer layer is formed on one side, and a continuous belt-like uncolored transparent biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 100 μm (A4300: trade name, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) Prepared.
Next, on the surface of the PET film on which the primer layer is formed, a transparent adhesive (12 parts by mass of a polyester polyurethane polyol having an average molecular weight of 30,000 as a main component and a curable agent is used to make the
次に、上記PETフィルムの片面のプライマー層上に、上記透明接着剤層を介して、上記アルミニウム箔の平滑面側がPETフィルム側を向くようにドライラミネートして積層し、連続帯状の積層体を得た。ドライラミネートした後、50℃、3日間養生して、該接着剤を硬化せしめた。 Next, on the primer layer on one side of the PET film, the laminate layer is laminated by dry lamination so that the smooth surface side of the aluminum foil faces the PET film side via the transparent adhesive layer. Obtained. After dry laminating, the adhesive was cured by curing at 50 ° C. for 3 days.
次に、上記連続帯状の積層体に対して、そのアルミニウム箔をフォトリソグラフィー法を利用したエッチングにより開口部及びライン部とから成る電極としてのアルミニウムパターン層3を形成した。
上記エッチングは、具体的には、上記積層体のアルミニウム箔の露出面全面に感光性のネガ型エッチングレジストを塗布後、所望のメッシュパターンのマスクを密着露光し、現像、硬膜処理、ベーキングして、メッシュのライン部に相当する領域上にはレジスト層が残留し、開口部に相当する領域上にはレジスト層がないようなパターンにレジスト層を加工した後、塩化第二鉄水溶液で、レジスト層非形成領域のアルミニウム箔を、エッチング除去してメッシュ状の開口部を形成し、次いで、水洗、レジスト剥離、洗浄、乾燥を順次行った。
Next, an
Specifically, the above-mentioned etching is performed by applying a photosensitive negative etching resist to the entire exposed surface of the aluminum foil of the laminate, then exposing the mask with a desired mesh pattern, developing, hardening, and baking. Then, after processing the resist layer into a pattern in which the resist layer remains on the area corresponding to the line portion of the mesh and there is no resist layer on the area corresponding to the opening, The aluminum foil in the resist layer non-formation region was removed by etching to form a mesh-shaped opening, and then water washing, resist peeling, washing, and drying were sequentially performed.
メッシュ状領域のメッシュ形状は、その開口部が正方形で、非開口部となる線状部分のライン幅は20μm、そのライン間隔は300μm、ライン部の高さは12μmであった。このようにして、幅寸法605mmの電極フィルムシート10を得た。
The mesh shape of the mesh-like region was such that the opening portion was square, the line width of the linear portion serving as the non-opening portion was 20 μm, the line interval was 300 μm, and the height of the line portion was 12 μm. In this way, an
次に、上記で得られた電極フィルムシート10を長さ50mm、幅50mmの正方形形状に切断したものを試験片とした。該試験片において、透明基材側から測定光を入射し、該透明基材及び透明接着剤層を介して、アルミニウムパターン層の透明基材側の面(平滑面)の全光線反射率(RSCI)に対する拡散光線反射率(RSCE)の比(RSCE/RSCI)を測定した。該アルミニウムパターン層の比(RSCE/RSCI)は、0.34であった。
尚、該アルミニウムパターン層の平滑面のJIS Z8722−1982に準拠して測定した全光線反射率(%)は、分光測色計(コニカミノルタセンシング株式会社製、CM−3600d)を反射モードに設定し、光源は標準の光D65、視野2°、測定径8mmφとして、検出器を、反射光のうち、拡散反射光と鏡面反射光の両方を総合した全反射光の(積分)強度を測定するようなSCIモードに設定して、Y値を測定した。また、該平滑面のJIS Z8722−1982による拡散光線反射率(%)は、同様に分光測色計を用いて、光源、視野、及び測定径は上記と同じにして、鏡面反射光を光トラップで吸収遮断することによって、検出器が反射光のうち拡散反射光のみの(積分)強度を測定するようなSCEモードに設定して、Y値を測定した。
Next, the
In addition, the total light reflectance (%) measured based on JIS Z8722-1982 of the smooth surface of the aluminum pattern layer is set to a spectrocolorimeter (Konica Minolta Sensing Co., Ltd., CM-3600d) in the reflection mode. The light source is the standard light D65, the field of view is 2 °, and the measurement diameter is 8 mmφ, and the detector measures the (integrated) intensity of the total reflected light that combines both diffuse reflected light and specular reflected light. In such SCI mode, the Y value was measured. In addition, the diffused light reflectance (%) of the smooth surface according to JIS Z8722-1982 is similarly measured using a spectrocolorimeter, with the light source, field of view, and measurement diameter being the same as described above, and the specular reflected light is optically trapped. Then, the detector was set to the SCE mode in which the detector measures the (integrated) intensity of only the diffusely reflected light out of the reflected light, and the Y value was measured.
(比較例1)
前記実施例1において、透明基材上に、透明接着剤層を介して、積層するアルミニウム箔の面を、非平滑面側にした以外は、前記実施例1と同様にして電極フィルムシートを得た。尚、該アルミニウム箔の非平滑面において、透明基材上に積層前の状態(パターン未形成)の全光線反射率(RSCI)に対する拡散光線反射率(RSCE)の比(RSCE/RSCI)を、間に何も層を介さずに、測定したところ、該アルミニウム薄膜の比(RSCE/RSCI)は、0.8であった。
次に、上記で得られた電極フィルムシートを長さ50mm、幅50mmの正方形形状に切断したものを試験片とした。該試験片において、透明基材側から測定光を入射し、該透明基材及び透明接着剤層を介して、アルミニウムパターン層の透明基材側の面(非平滑面)の全光線反射率(RSCI)に対する拡散光線反射率(RSCE)の比(RSCE/RSCI)を測定した。該アルミニウムパターン層の比(RSCE/RSCI)は、0.72であった。
(Comparative Example 1)
In Example 1, an electrode film sheet was obtained in the same manner as in Example 1 except that the surface of the aluminum foil to be laminated was set to the non-smooth surface side through the transparent adhesive layer on the transparent substrate. It was. Incidentally, in the non-smooth surface of the aluminum foil, the ratio of the pre-laminated on a transparent substrate state total light reflectance (unpatterned) (R SCI) diffuse light reflectance for (R SCE) (R SCE / R SCI ) was measured without any layer in between, and the ratio of the aluminum thin film (R SCE / R SCI ) was 0.8.
Next, the electrode film sheet obtained above was cut into a square shape having a length of 50 mm and a width of 50 mm to obtain a test piece. In the test piece, measurement light is incident from the transparent substrate side, and the total light reflectance of the surface (non-smooth surface) of the aluminum pattern layer on the transparent substrate side through the transparent substrate and the transparent adhesive layer ( diffuse light reflectance for R SCI) (ratio of R SCE) (R SCE / R SCI) was determined. The ratio of the aluminum pattern layer (R SCE / R SCI ) was 0.72.
(評価結果)
上記の実施例及び比較例において得られた電極フィルムのヘイズ値をJIS K 7105−1981「プラスチックの光学的特性試験方法」に準じて測定した。その結果を表2に記載する。
(Evaluation results)
The haze values of the electrode films obtained in the above examples and comparative examples were measured according to JIS K 7105-1981 “Testing methods for optical properties of plastics”. The results are listed in Table 2.
(結果のまとめ)
表2より、得られた電極フィルムにおいて、透明基材側から該透明基材及び透明接着剤層を介して、アルミニウムパターン層の透明基材側の面の全光線反射率(RSCI)に対する拡散光線反射率(RSCE)の比(RSCE/RSCI)を測定した結果、該アルミニウムパターン層の比(RSCE/RSCI)が0.4以下である実施例1では、ヘイズ値が6.0%以下の低ヘイズ(低い曇り度)が得られた。一方、該アルミニウムパターン層の比(RSCE/RSCI)が0.4超過である比較例1では、ヘイズ値が36.5%と高ヘイズ(高い曇り度)であった。
また、表2より、透明基材上に積層する前のアルミニウム薄膜自体の透明基材側面(積層する側の面)における比(RSCE/RSCI)と、該アルミニウム薄膜に対応するアルミニウムパターン層の透明基材側の面の比(RSCE/RSCI)は、同程度の値であり、また、比(RSCE/RSCI)とヘイズ値との間には相関性が見られる。
また、参考例1及び参考例2においては、参考例3よりも中心線平均粗さRaは小さいにもかかわらず、逆にヘイズ値は増加している。また、参考例1においては、参考例2よりも十点平均粗さRzJISは小さいにもかかわらず、逆にヘイズ値は増加している。また、参考例3においては、参考例4よりも自乗平均粗さRqは小さいにもかかわらず、逆にヘイズ値は大幅に増加している。また、参考例1乃至参考例4において、一貫して、(RSCE/RSCI)とヘイズ値との間には相関性が見られる。
故に、金属箔の積層する側の面の十点平均粗さRzJIS、自乗平均粗さRq、及び中心線平均粗さRaを特定しても、確実に電極フィルムのヘイズを低減することは困難である。これに対して、透明基材側から該透明基材及び透明接着剤層を介して、アルミニウムパターン層の透明基材側の面の全光線反射率(RSCI)に対する拡散光線反射率(RSCE)の比(RSCE/RSCI)を0.4以下に設定することにより、確実に電極フィルムのヘイズを低減することが可能である。
(Summary of results)
From Table 2, in the obtained electrode film, the diffusion with respect to the total light reflectance ( RSCI ) of the surface of the aluminum pattern layer on the transparent substrate side through the transparent substrate and the transparent adhesive layer from the transparent substrate side As a result of measuring the ratio of light reflectance ( RSCE ) ( RSCE / RSCI ), in Example 1 in which the ratio of aluminum pattern layer ( RSCE / RSCI ) is 0.4 or less, the haze value is 6 A low haze (low haze) of 0.0% or less was obtained. On the other hand, in Comparative Example 1 in which the ratio ( RSCE / RSCI ) of the aluminum pattern layer was more than 0.4, the haze value was 36.5%, which was high haze (high haze).
Further, from Table 2, the ratio ( RSCE / RSCI ) of the aluminum thin film itself before laminating on the transparent substrate on the side of the transparent substrate (the surface on the laminating side) and the aluminum pattern layer corresponding to the aluminum thin film The ratio of the surface on the transparent substrate side ( RSCE / RSCI ) is comparable, and a correlation is found between the ratio ( RSCE / RSCI ) and the haze value.
Further, in Reference Example 1 and Reference Example 2, the haze value is increased in spite of the fact that the centerline average roughness Ra is smaller than that in Reference Example 3. Further, in Reference Example 1, although the ten-point average roughness RzJIS is smaller than that in Reference Example 2, the haze value is increased. Further, in Reference Example 3, the haze value is significantly increased in spite of the smaller root mean square roughness Rq than in Reference Example 4. In Reference Examples 1 to 4, there is consistently a correlation between ( RSCE / RSCI ) and the haze value.
Therefore, it is difficult to reliably reduce the haze of the electrode film even if the ten-point average roughness RzJIS, the root mean square roughness Rq, and the centerline average roughness Ra of the surface on which the metal foil is laminated are specified. is there. In contrast, through the transparent substrate and the transparent adhesive layer from the transparent substrate side, diffuse light reflectance to the total light reflectance of the surface of the transparent substrate side of the aluminum pattern layer (R SCI) (R SCE ) Ratio (R SCE / R SCI ) is set to 0.4 or less, it is possible to reliably reduce the haze of the electrode film.
1 透明基材
2 透明接着剤
3 アルミニウムパターン層(電極)
3a 平滑面
3b 非平滑面
4 光学機能層
6 スペーサ
7 入力ペン
10,20,30 電極フィルム
40 透明導電膜
50A,50B タッチパネル
60 表示装置
G 2枚の電極フィルムの間隔
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1
3a
Claims (3)
(i)JIS Z 8722に準拠して測定した全光線反射率(RSCI)に対する拡散光線反射率(RSCE)の比(RSCE/RSCI)が0.4以下の面を有するアルミニウム薄膜を用意する工程、
(ii)透明基材の一方の面に、透明接着剤層を介して、前記アルミニウム薄膜を、そのRSCE/RSCIが0.4以下の面を前記透明基材と向き合わせて積層する工程、及び
(iii)前記アルミニウム薄膜を所定のパターン形状にエッチングして電極とする工程を含むことを特徴とする、タッチパネル用電極フィルムの製造方法。 A method for producing an electrode film for a touch panel comprising an electrode comprising an aluminum pattern layer having a plurality of openings and line portions surrounding and partitioning the openings on one surface of the transparent substrate,
(I) An aluminum thin film having a surface having a diffused light reflectance ( RSCE ) ratio ( RSCE / RSCI ) of 0.4 or less to the total light reflectance ( RSCI ) measured according to JIS Z 8722 The process to prepare,
(Ii) A step of laminating the aluminum thin film on one surface of the transparent substrate with the surface of which R SCE / R SCI is 0.4 or less facing the transparent substrate via a transparent adhesive layer And (iii) A method for producing an electrode film for a touch panel, comprising a step of etching the aluminum thin film into a predetermined pattern shape to form an electrode.
該2枚の電極フィルムのうち少なくとも一方の電極フィルムが前記請求項1に記載のタッチパネル用電極フィルムであることを特徴とする、タッチパネル。 Two electrode films having transparent conductive electrodes on one surface of a transparent substrate are touch panels arranged with electrodes facing each other via a spacer,
The touch panel according to claim 1, wherein at least one of the two electrode films is the electrode film for a touch panel according to claim 1.
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