JP5282266B2 - 光学補償フィルムの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は光学補償フィルムの製造方法に関し、更に詳しくは、棒状の重合性液晶化合物（以下、単に重合性液晶化合物とも云う）が垂直配向し、固定化された位相差層を有する光学補償フィルムの製造方法に関する。

横電界スイッチングモード型液晶表示装置は、他の液晶表示装置の液晶モード、例えばＴＮモードに対してはコントラスト、視野角等に優れ、又垂直配向モード（ＶＡ、ＭＶＡ、ＰＶＡ等）に対しては視野角等の表示性能に優れ、更に視角による輝度変化の少なさ、中間調での応答速度の落ち込みの少なさといった優れた効果から、いわゆるＩＰＳ（Ｉｎ Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード型液晶表示装置として市場に活発に提供されるようになった。ＩＰＳモード型液晶表示装置としては、いわゆるＩＰＳモード以外に、ＦＦＳ（フリンジフィールドスイッチング）モード、ＦＬＣ（強誘電性液晶）モードが挙げられる。従来、ＩＰＳ方式は、例えば特開２０００−１３１７００号公報に記載されている様に、液晶セル自体は補償する必要がなく、補償フィルムなしでも広い視野角が得られると言うことが知られている。

ところが、液晶表示装置に用いる偏光板自体が、クロスニコル状態で吸収軸と４５°方向に視角を変化させた場合に光モレが発生し、それによって液晶表示装置の周辺コントラストが低下してしまう現象が起こっている。光モレが発生する原因の１つに液晶化合物の不均一な配向が挙げられる。そこで、例えば、特開２００６−１２６７７０号公報、特開２００５−３１６２６号公報には、光学フィルムを偏光板に積層させて、偏光板の光モレを抑える形が開示されている。しかし、これらの方法は、ロールトゥーロールでの偏光板化が難しく、又粘着層や接着層を介して複数のフィルムを貼合するため、手間とコストが掛かり、更に透過率の低下や偏光板の厚膜化と言う問題が起こってしまう。

又、液晶ディスプレイが大型化するに従い、広視野角化への要求が大きくなっており、その対応として液晶セルの形式に種々の手法が提案されている。例えば広視野角化として特開２００５−３０９３７９号公報に、垂直配向した棒状液晶化合物を有する位相差層を設けた光学補償フィルムを使用した偏光板、及び特開２００５−２６５８８９号公報に、リターデーション上昇剤を入れた支持体に棒状液晶化合物を垂直配向させて固めた位相差層を設けた光学補償フィルムを使用した偏光板を使用することで偏光板の光モレ、広視野角化に対して有効な技術が開示されている。

又、棒状液晶化合物の配向の安定性により光モレ、広視野角化に対する効果が影響するため、更に棒状液晶化合物を垂直に配向させる技術が検討されてきた。

例えば、重合性液晶化合物が液晶規則性を発現する温度以上に加熱した後、重合性液晶化合物の液晶転移点以下の温度になるまで水冷方式等で冷却した冷却板、冷却ローラの接触による冷却、冷風の吹き付けによる方法が知られている（例えば、特許文献１参照。）。

支持体上に重合性液晶化合物を含む塗布液を塗布し、液晶化合物層を形成した後、液晶化合物層を乾燥した後に、液晶転移温度以上の温度で前記液晶化合物を加熱し配向させ、紫外線を照射して配向を固定した後、更に前記光学異方性層を加熱する方法が知られている（例えば、特許文献２参照。）。

しかしながら、特許文献１、特許文献２に記載の技術は、重合性液晶化合物の配向させるには有効な方法であるが、未だ配向が不均質な箇所が出来、局所的に配向が不十分な液晶群いわゆる配向欠陥のあるものとなり、広視野角化、コントラストに対して十分な機能発現が出来ない光学補償フィルムとなる場合があることが判った。この様なことから棒状の重合性液晶化合物を有する位相差層を有し広視野角化、高いコントラストの変化が少ない光学補償フィルムの製造方法の開発が望まれている。
特開２００５−５５４８６号公報 特開２００７−５７６０７号公報

本発明は、上記状況に鑑みなされたものであり、その目的は棒状の重合性液晶化合物を有する位相差層を有し、広視野角化、コントラストの変化が少ない光学補償フィルムの製造方法を提供することである。

本発明の上記目的は、下記の構成により達成された。

１．樹脂フィルム上に棒状の重合性液晶化合物を有機溶媒に溶解させた塗布液を塗布する塗布工程と、前記塗布液が塗布され前記樹脂フィルムの上に形成された塗膜を乾燥する乾燥工程と、前記乾燥工程の後に配向工程と、前記塗膜に対し活性放射線を照射する硬化工程とを有する光学補償フィルムの製造方法において、前記乾燥工程は付与熱量増加部を有し、前記乾燥工程で前記塗膜の残留溶媒量が、０．２０ｇ／ｍ^２〜０．０００１０ｇ／ｍ^２の間で、付与熱量を増加させることを特徴とする光学補償フィルムの製造方法。

２．前記熱量は、式１）で示される熱量であり、該熱量が１００℃・ｓｅｃ〜１０００℃・ｓｅｃであることを特徴とする前記１に記載の光学補償フィルムの製造方法。

式１）
熱量＝△Ｔ（熱量付与後の塗膜の温度−付与熱量を増加させる前の塗膜の温度）×ｔ（熱量付与時間）
３．前記乾燥工程の付与熱量を増加させる前の過程での塗膜の溶媒の蒸発速度が１５．０ｇ／ｍ^２・ｍｉｎ〜１００．０ｇ／ｍ^２・ｍｉｎであることを特徴とする前記１又は２に記載の光学補償フィルムの製造方法。

４．前記塗布液工程で基材の上に塗布液が塗布されてから、該基材が乾燥工程に入るまでの時間が１５．０ｓｅｃ以内であることを特徴とする前記１〜３の何れか１項に記載の光学補償フィルムの製造方法。

棒状の重合性液晶化合物を有する位相差層を有し、広視野角化の変化が少ない光学補償フィルムを提供することが出来る製造方法を提供することが出来た。

本発明の実施の形態を以下、図１〜図４を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。

図１は液晶表示装置の構成を示す概略図である。図１（ａ）は視認側偏光板に位相差層を有する液晶表示装置の構成を示す概略図である。図１（ｂ）はバックライト側偏光板に位相差層を有する液晶表示装置の構成を示す概略図である。

図１（ａ）に示される液晶表示装置に付き説明する。図中、１ａは液晶表示装置を示す。液晶表示装置１ａは、視認側偏光板１０２と、バックライト側偏光板１０３との間に挟持された液晶セル１０１とを有する構成となっている。液晶セル１０１は、ガラス基板１０１ａとガラス基板１０１ｂとの間に挟持された液晶層１０１ｃとを有する構成となっている。

視認側偏光板１０２は視認側（本図の上部を示す）より第１の保護フィルム１０２ａと液晶セル１０１側に棒状の重合性液晶化合物の配向を固定化した位相差層１０２ｃを有する第２の保護フィルム１０２ｂとに挟持された第１の偏光膜１０２ｄとを有する構成となっている。尚、位相差層１０２ｃを有する第２の保護フィルム１０２ｂを光学補償フィルムと言う。

バックライト側偏光板１０３は第３の保護フィルム１０３ａと第４の保護フィルム１０３ｂとに挟持された第２の偏光膜１０３ｃとを有する構成となっている。尚、位相差層１０２ｃは第１の偏光膜１０２ｄと第２の保護フィルム１０２ｂとの間に配置されてもよい。第２の保護フィルム１０２ｂの面内遅相軸ｂ（図中の矢印方向）と液晶層１０１ｃの配向方向ｃ（図中の矢印方向）は平行である。偏光膜の偏光透過軸ａ（図中の矢印方向）、ガラス基板のラビング軸ｄ（図中の矢印方向）は図で示す方向にある。

図１（ｂ）に示される液晶表示装置に付き説明する。図中、１ｂは液晶表示装置を示す。液晶表示装置１ｂは、視認側偏光板１０２′と、バックライト側偏光板１０３′との間に挟持された液晶セル１０１′とを有する構成となっている。液晶セル１０１′は、ガラス基板１０１′ａとガラス基板１０１′ｂとの間に挟持された液晶層１０１′ｃとを有する構成となっている。

視認側偏光板１０２′は視認側（本図の上部側を示す）より第４の保護フィルム１０２′ａと第３の保護フィルム１０２′ｂとに挟持された第２の偏光膜１０２′ｃとを有する構成となっている。バックライト側偏光板１０３′は液晶セル１０１′側に棒状液晶化合物の配向を固定化した位相差層１０３′ｃを有する第２の保護フィルム１０３′ａと第１の保護フィルム１０３′ｂとに挟持された第１の偏光膜１０３′ｄとを有する構成となっている。位相差層１０３′ｃを有する第２の保護フィルム１０３′ａを光学補償フィルムと云う。尚、位相差層１０３′ｃは第１の偏光膜１０３′ｄと第２の保護フィルム１０３′ａの間に配置されてもよい。

第２の保護フィルム１０３′ａの面内遅相軸ｂ（図中の矢印方向）と液晶層１０１′ｃの配向方向ｃ（図中の矢印方向）は直交である。偏光膜の偏光透過軸ａ（図中の矢印方向）、ガラス基板のラビング軸ｄ（図中の矢印方向）は図で示す方向にある。本発明は本図に示される光学補償フィルムの製造方法に関するものである。

本発明に係わる光学補償フィルムは、重合性液晶化合物の溶液を樹脂フィルム基材上に塗布し、乾燥と熱量付与処理と配向工程を経て、重合性液晶化合物の配向を活性放射線硬化もしくは熱重合などで固定化を行い、垂直配向した重合性液晶化合物による位相差層を有することが特徴である。尚、垂直配向とは、得られた位相差層の光学位相差を評価するために、偏光顕微鏡を用いて評価する時、位相差層をクロスニコル偏光膜の間に挟んだ場合に黒色に見え、クロスニコル偏光膜の間で位相差層を傾けた場合に白色に見えるものを垂直配向しているものと定義する。位相差層を形成する際には、いわゆる垂直配向膜を用いてもよく、垂直配向膜として特に制限はないが、液晶材料自身が空気界面で垂直配向する場合で、その配向規制力が空気界面と反対の界面まで及ぶ場合には該配向膜は特に必要ではなく、構成が簡素化出来る観点からもその方が好ましい。垂直配向膜を使用する場合は、特開２００５−１４８４７３号公報などに記載されている（メタ）アクリル系ブロックポリマーを含有するブロックポリマー組成物の架橋体からなる配向膜等を用いることも好ましい。

本発明に係る光学補償フィルムの位相差層は、Ｒｏが０〜１０ｎｍ、Ｒｔが−１００〜−４００ｎｍの範囲にある垂直配向した重合性液晶化合物による位相差層である。更に、Ｒｏは０〜５ｎｍの範囲がより好ましい。該位相差層を上記範囲とするためには、位相差層の膜厚制御、活性放射線照射、硬化時の温度、チルト角制御、及び支持体と空気界面でのプレチルト角の制御を行うことが好ましい。

尚、Ｒｏとは面内リターデーションを示し、Ｒｔとは厚み方向リターデーションを示す。リターデーションＲｏ、Ｒｔは下記式により求められる。

式（ｉ） Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（ii） Ｒｔ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ
（式中、ｎｘは位相差層面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙは位相差層面内の進相軸方向の屈折率、ｎｚは位相差層の厚み方向の屈折率（屈折率は２３℃、５５％ＲＨの環境下、波長５９０ｎｍで測定）、ｄは位相差層の厚さ（ｎｍ）を表す。）
測定には自動複屈折計ＫＯＢＵＲＡ・２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて、２３℃、５５％ＲＨの環境下で、波長が５９０ｎｍにおいて測定した。

次に、本発明の光学補償フィルムの製造方法に付き説明する。

図２は光学補償フィルムの製造装置の模式図である。

図中、２は製造装置を示す。製造装置２は基材供給工程２０１と、塗布工程２０２と、乾燥工程２０３と、配向工程２０４と、硬化工程２０５と、回収工程２０６とを順番に有している。

基材供給工程２０１はロール状に巻かれた基材３の繰り出し装置（不図示）を有し、塗布工程２０２に基材３を供給する様になっている。

塗布工程２０２は基材３を保持するバックロール２０２ａと、塗布装置２０２ｂとを有している。塗布装置２０２ｂにより、重合性液晶化合物を有機溶媒に溶解した重合性液晶化合物層形成用塗布液を基材３の上に塗布し、重合性液晶化合物塗膜（以下、単に塗膜とも云う）が形成される。

塗布装置２０２ｂとしては特に限定はなく、例えば、ロールコート法、プリント法、浸漬引き上げ法、ダイコート法、キャスティング法、バーコート法、ブレードコート法、スプレーコート法、グラビアコート法、リバースコート法、スライド法、カーテン法等が挙げられるが、公知の塗布方法であれば使用可能である。

重合性液晶化合物は低温から高温に温度を変化することにより、重合性液晶化合物の分子は結晶相、液晶相（ネマチック相）、等方相（イソトロピック相）に相変化することが知られている。乾燥工程２０３の付与熱量増加部２０３ｂで熱量が付与されることで、重合性液晶化合物の分子は等方相（イソトロピック相）状態となる。

乾燥工程２０３は乾燥部２０３ａと、付与熱量増加部２０３ｂとを有している。乾燥部２０３ａでは塗布工程２０２から送られて来る基材３の上に形成された塗膜の溶媒を蒸発させ重合性液晶化合物層を形成する工程である。

溶媒を除去する方法としては、例えば、風乾、加熱除去、もしくは減圧除去、更にはこれらを組み合わせる方法等により行われる。

乾燥工程２０３における、塗布工程２０２から送られて来る基材３に対して、付与熱量を増加させる時期に付き図３で説明する。

乾燥部２０３ａでは、塗膜の残留溶媒量が０．２０ｇ／ｍ^２〜０．０００１０ｇ／ｍ^２となる間に付与熱量増加部２０３ｂで付与熱量を増加させる様になっている。残留溶媒量が０．２ｇ／ｍ^２を超える場合は、溶媒量の蒸発速度分布が発生し、重合性液晶化合物の配向状態が乱れる懸念が有り好ましくない。残留溶媒量が０．０００１ｇ／ｍ^２未満の場合は、過剰な熱量が加わるため塗膜面で温度分布が生じ重合性液晶化合物の配向状態が乱れる懸念が有り好ましくない。

塗膜の残留溶媒量の測定は次の方法で行った。

残留溶媒量は、重合性液晶化合物を含む塗膜を形成した基材を１０ｃｍ角に切り出し質量を測定し、その後オーブンにて１１０℃３０分加熱し再度質量を測定した。この質量差より算出した１ｍ^２当たりの溶媒量を残留溶媒量とした。

付与熱量増加部２０３ｂで付与熱量を増加した後、重合性液晶化合物の液晶分子の動きの自由度、塗膜の残留溶剤量、垂直配向するのに要する時間等を考慮し、塗膜面温度は４５℃以上、１００℃以下とすることが好ましい。

尚、乾燥終了時とは、付与熱量増加部２０３ｂでの処理の終了を言う。膜面温度の測定は放射温度計により非接触で測定することが好ましく、例えば、ＥＸＥＲＧＥＮ社製赤外線熱電対ＩＲｔ／ｃを用いることが出来る。

付与熱量増加部２０３ｂは、乾燥部２０３ａでの処理された塗膜中に存在する重合性液晶化合物が不均質な箇所を均一化させるために配設されている。

付与熱量増加部２０３ｂを配設する位置は、乾燥部２０３ａの後で、塗膜の残留溶媒量が０．２０ｇ／ｍ^２〜０．０００１０ｇ／ｍ^２となる間が好ましい。付与熱量増加部２０３ｂで塗膜に熱量を付与する方法は特に限定はなく、例えばノズルから温風を当てる風乾式、ロールや無端ベルトを使用し接触部をヒーター、液体等を使用し温調して接触させる方式が挙げられる。温風を当てる方式では塗膜面に当てることも可能であるが風速が速い場合は熱ムラが生じ重合性液晶化合物の等方性にムラの発生が懸念されるため裏面からの方が好ましい。

重合性液晶化合物は、１）基材３の上に棒状の重合性液晶化合物を含む重合性液晶化合物層形成用塗布液を塗布して形成された膜の溶媒を除去する乾燥過程が終了し、付与熱量増加過程に移行する時の塗膜面温度が重合性液晶化合物層形成用組成物のネマチック−等方性液体転移温度（転移温度）以上の場合は、加熱量が多過ぎると後工程の配向工程を経ても液晶化合物は垂直配向しきれない場合（配向が不均質）がある。また、２）乾燥過程が終了し、付与熱量増加過程に移行する時の塗膜面温度が重合性液晶化合物層形成用組成物のネマチック−等方性液体転移温度（転移温度）以下の場合も、溶媒が無くなってから転移温度まで上昇する温度履歴になり、この際の加熱量が多過ぎる、もしくは少な過ぎる場合に後工程の配向工程を経ても重合性液晶化合物は垂直配向しきれない場合（配向が不均質）がある。

付与熱量増加部２０３ｂによる塗膜に付与する熱量は、等方相（イソトロピック相）になるまでの時間、若しくは等方相（イソトロピック相）になっている時間等を考慮し、１００℃・ｓｅｃ〜１０００℃・ｓｅｃが好ましい。熱量は以下に示す式から計算で求めた値を示す。

熱量（ｈ１）＝△Ｔ（熱量付与後の塗膜の温度−熱量付与前の塗膜の温度）×ｔ（熱量付与時間）
塗膜面温度の測定は放射温度計により非接触で測定することが好ましく、例えば、ＥＸＥＲＧＥＮ社製赤外線熱電対ＩＲｔ／ｃを用いることが出来る。

乾燥工程２０３が終了し、形成された重合性液晶化合物層の厚さは、光学異方性、ヘイズ、コントラスト等を考慮し、０．１μｍ〜２０μｍが好ましい。より好ましくは０．２μｍ〜１０μｍの範囲内である。

塗布工程２０２で基材３の上に重合性液晶化合物層形成用塗布液を塗布されてから基材３が乾燥工程２０３に入るまでの塗膜の溶媒の乾燥速度は、溶媒蒸気ムラ、乾燥速度ムラ等を考慮し、１０ｇ／ｍ^２・ｍｉｎ以下にすることが好ましい。

乾燥工程２０３の付与熱量を増加させる前の過程での塗膜の溶媒の乾燥速度は、乾燥速度ムラ等を考慮し、１５．０ｇ／ｍ^２・ｍｉｎ〜１００．０ｇ／ｍ^２・ｍｉｎであることが好ましい。乾燥速度は、（株）チノー製のＩＲ膜厚計（ＩＲＭ−Ｖ）により、搬送される支持体上の塗布液の膜厚を測定し、その膜厚の変化から塗布液中の溶剤の蒸発速度を算出し（具体的には式：｛膜厚変化［μｍ］×比重［−］｝／膜厚変化所要時間（ｍｉｎ）、１μｍ厚みは密度１０００ｋｇ／ｍ^３の場合に１ｇ／ｍ^２に相当）、単位時間における単位面積あたりの溶剤の蒸発速度［ｇ／ｍ^２・ｍｉｎ］を乾燥速度とした。なお、測定に際しては、溶剤の揮発とともに乾燥速度が変化し、また乾燥温度の変化によっても乾燥速度が変化するため、１０秒毎に塗布液の膜厚を測定し、乾燥速度を算出した。その結果を元にし、各工程内での中心値を示す。

塗布工程２０２で基材３の上に重合性液晶化合物層形成用塗布液を塗布されてから基材３の乾燥工程２０３に入るまでの時間は、溶媒蒸気ムラ、外力の影響等を考慮し、０．５ｓｅｃ〜１５．０ｓｅｃであることが好ましい。

乾燥工程２０３の終了後は速やかに配向工程２０４に移行することが好ましく、具体的には乾燥工程２０３の付与熱量増加部２０３ｂでの熱量付与後１０秒以内に配向工程２０４の冷却ロール２０４ａによる降温過程に移行することが好ましい。熱量付与後、温度が高い状態を長く維持していると等方相から液晶相になる温度に移動しても重合性液晶化合物層中液晶分子の動きが遅くなり垂直配向するのに要する時間が長くなってしまうことがある。

重合性液晶化合物は、光学異方性の面から液晶相（ネマチック相）状態で固定化することが好ましいことが知られており、配向工程２０４は等方相（イソトロピック相）から液晶相（ネマチック相）状態にする工程であり、冷却されている区間を有している。冷却手段の一例として冷却ロールが挙げられる。本図は配向工程２０４に冷却ロール２０４ａを用いた場合を示している。乾燥工程２０３から搬送されてくる重合性液晶化合物層を形成した基材の温度を下げることで重合性液晶化合物を垂直配向させる工程である。尚、冷却ロール２０４ａは複数本を配設することも可能である。

冷却ロール２０４ａを冷却する方法は特に限定されないが、例えば冷水を流す方法、重合性液晶化合物層を形成した基材を支持していない部分への冷風の吹き付ける方法、ペルチェ素子を使用した冷却手段を使用する方法等が挙げられる。

冷却ロール２０４ａにより降温し、重合性液晶化合物を垂直配向した状態で硬化工程２０５で固定化するに当たり、冷却ロール２０４ａから硬化工程２０５までの温度履歴により重合性液晶化合物の配向状態が異なる。付与熱量増加部２０３ｂ以降から硬化工程までの環境は、重合性液晶化合物の配向状態を考慮し、１５℃以上、４０℃以下に１０秒以上置くことが好ましい。１０秒以上とは上限３００秒を示す。

尚、本図では基材の温度を下げる手段として冷却ロールを使用した場合を示したが、基材の温度を下げる手段は特に限定は無く、例えば冷風の吹き付けによる冷却ゾーンであってもよい。

硬化工程２０５は垂直配向した重合性液晶化合物層を硬化し重合性液晶化合物の垂直配向を固定化することで、位相差層としての機能を付与する工程である。２０５ａは紫外線照射装置を示す。

硬化工程２０５では、重合性液晶化合物を硬化させるためのエネルギーが与えられ、熱エネルギーでもよいが、通常は、重合を起こさせる能力がある電離放射線の照射によって行う。必要であれば重合性液晶化合物内に重合開始剤が含まれていてもよい。電離放射線としては、重合性液晶化合物を重合させることが可能な放射線であれば特に限定されるものではないが、通常は装置の容易性等の観点から紫外光又は可視光線が使用され、波長が１５０ｎｍ〜５００ｎｍの光が好ましく、より好ましくは２５０ｎｍ〜４５０ｎｍであり、もっと好ましくは３００ｎｍ〜４００ｎｍの波長の紫外線である。

本発明においては、紫外線（ＵＶ）を活性放射線として照射し、紫外線で重合開始剤からラジカルを発生させ、ラジカル重合を行わせる方法が好ましい。活性放射線としてＵＶを用いる方法は、既に確立された技術であることから、用いる重合開始剤を含めて、本発明への応用が容易であるからである。

この紫外線を照射するための光源としては、低圧水銀ランプ（殺菌ランプ、蛍光ケミカルランプ、ブラックライト）、高圧放電ランプ（高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ）、もしくはショートアーク放電ランプ（超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀キセノンランプ）等を挙げることが出来る。中でもメタルハライドランプ、キセノンランプ、高圧水銀ランプ灯等の使用が推奨される。照射強度は、液晶層を形成している重合性液晶化合物の組成や光重合開始剤の多寡によって適宜に調整すればよい。

活性放射線の照射による硬化工程は、上述した重合性液晶化合物層を形成する工程における処理温度、即ち重合性液晶化合物が液晶相（ネマチック相）となる温度条件で行ってもよく、又液晶相（ネマチック相）となる温度より低い温度で行ってもよい。一旦、液晶相（ネマチック相）となった重合性液晶化合物は、その後温度を低下させても、配向状態が急に乱れることはない。但し、液晶が結晶化するする温度まで下げてはならない。

図３は塗布工程以降の温度変化と残留溶媒量変化を示すグラフである。

（ａ）に示すグラフに付き説明する。（ａ）に示すグラフは、縦軸が温度、横軸が時間を示す。図中、Ａは乾燥工程に入る点を示す。Ｂは付与熱量を増加を開始する点を示す。Ｃは付与熱量の増加を終了する点を示す。即ち、Ａ〜Ｂの領域が図２に示す乾燥部２０３ａで基材３の上に形成された塗膜の溶媒が蒸発する過程である。Ｂ〜Ｃの領域が図２に示す付与熱量増加部２０３ｂで付与熱量を増加することで基材３の上に形成された塗膜の温度が上昇する過程である。付与熱量を増加を開始する点Ｂは、基材３の上に形成された塗膜の残留溶媒量が０．２０ｇ／ｍ^２〜０．０００１０ｇ／ｍ^２となる間である。

（ｂ）に示すグラフに付き説明する。（ｂ）に示すグラフは、縦軸が残留溶媒量、横軸が時間を示す。図中、Ｄ〜Ｅの領域が付与熱量を増加を開始する基材３の上に形成された塗膜の残留溶媒量の範囲を示す。Ｄ点での塗膜の残留溶媒量は０．２０ｇ／ｍ^２であり、Ｅ点での塗膜の残留溶媒量は０．０００１０ｇ／ｍ^２である。Ｄ〜Ｅの領域で付与熱量を増加することで乾燥工程より塗膜の溶媒量の減少が加速される。Ｄ点から始まる点線は付与熱量を増加することで塗膜の溶媒量の減少が加速された状態を示し、Ｅ点から始まる点線は付与熱量を増加することで塗膜の溶媒量の減少が加速された状態を示す。

図１〜図３に示す様に棒状の重合性液晶化合物を有機溶媒に溶解した塗布液を基材の上に塗布し、乾燥部で形成した塗膜の残留溶媒を０．２０ｇ／ｍ^２〜０．０００１０ｇ／ｍ^２の間に付与熱量増加部で熱量を付与し重合性液晶化合物層を形成した後、冷却ロールで重合性液晶化合物層を冷却する配向工程を経て、硬化工程で紫外線照射することで、重合性液晶化合物の垂直配向を固定化する方法で位相差層としての機能を有する光学補償フィルムを製造することで次の効果が得られる。
１．塗膜の残留溶媒量が少ない領域で、塗膜に熱量を付与することで重合性液晶化合物の垂直配向が不均質な箇所がなくなり、垂直配向のムラの発生を抑制し、安定した位相差層としての機能を有する光学補償フィルムを安定生産することが可能となった。
２．重合性液晶化合物の垂直配向を安定化することで広視野角化、高いコントラストの変化を少くし、光学補償フィルムの性能を向上することが可能となった。
３．重合性液晶化合物の垂直配向を安定化することで安定した位相差層としての機能を有する光学補償フィルムを使用することで液晶表示装置の性能を向上することが可能となった。

次に本発明に係わる光学補償フィルムに用いる材料に付き説明する。

（棒状の重合性液晶化合物）
棒状の重合性液晶化合物は、所定の活性放射線を照射することにより重合させて用いることが出来、重合させた状態では配向状態は固定化されるようになっている。棒状の重合性液晶化合物としては、重合性液晶モノマー、重合性液晶オリゴマー、もしくは重合性液晶ポリマーの何れかを用いることが出来、相互に混合して用いることも出来る。棒状の重合性液晶化合物は、配向状態を固定化することが可能であるので、重合性液晶化合物の配向を低温で容易に行うことが可能であり、且つ使用に際しては配向状態が固定化されているので、温度等の使用条件に係わらず使用することが出来る。

棒状の重合性液晶化合物としては、特願２００６−３０４９５７号、特開２００５−５５４８６号公報、特開２００５−３０９３７９号公報、特開２００５−２６５８８９号公報、特開２００６−２２７６３０号公報等に記載されている重合性液晶化合物が挙げられる。

（光重合開始剤）
棒状の重合性液晶化合物に加え、必要に応じて光重合開始剤を用いてもよい。電子線照射により重合性液晶化合物を重合させる際には、光重合開始剤が不要な場合があるが、一般的に用いられている。例えば紫外線（ＵＶ）照射による硬化の場合においては、通常光重合開始剤が重合促進のために用いられるからである。

光重合開始剤としては、ベンジル（ビベンゾイルとも云う）、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−ベンゾイル−４′−メチルジフェニルサルファイド、ベンジルメチルケタール、ジメチルアミノメチルベンゾエート、２−ｎ−ブトキシエチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、３，３′−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、メチロベンゾイルフォーメート、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、もしくは１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン等を挙げることが出来る。光重合開始剤の添加量としては、一般的には０．０１％〜２０％が好ましく、より好ましくは０．１％〜１０％であり、更に好ましくは０．５％〜５％の範囲で、重合性液晶化合物に添加することが出来る。尚、光重合開始剤の他に、本発明の目的が損なわれない範囲で増感剤を添加することも可能である。

（棒状の重合性液晶化合物を有機溶媒に溶解した塗布液に使用する溶媒）
溶媒としては、上述した棒状の重合性液晶化合物等を溶解することが可能な溶媒であり、且つ透明基材の性状を低下させない溶媒であれば特に限定されるものではなく、具体的には、ベンゼン、トルエン、キシレン、ｎ−ブチルベンゼン、ジエチルベンゼン、テトラリン等の炭化水素類；メトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼン、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、もしくは２，４−ペンタンジオン等のケトン類；酢酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、もしくはγ−ブチロラクトン等のエステル類；２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルホルムアミド、もしくはジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒；クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリトリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、もしくはオルソジクロロベンゼン等のハロゲン系溶媒；ｔ−ブチルアルコール、ジアセトンアルコール、グリセリン、モノアセチン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、ヘキシレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチルセルソルブ、もしくはブチルセルソルブ等のアルコール類；フェノール、パラクロロフェノール等のフェノール類等の１種又は２種以上が使用可能である。

単一種の溶媒を使用しただけでは、棒状の重合性液晶化合物等の溶解性が不十分であったり、上述したように基材が侵食される場合がある。しかし２種以上の溶媒を混合使用することにより、この不都合を回避することが出来る。上記した溶媒の中にあって、単独溶媒として好ましいものは、炭化水素系溶媒とグリコールモノエーテルアセテート系溶媒であり、混合溶媒として好ましいのは、エーテル類又はケトン類と、グリコール類との混合系である。溶液の濃度は、棒状の重合性液晶化合物等の溶解性や製造しようとする重合性液晶化合物層の膜厚に依存するため一概には規定出来ないが、通常は１％〜６０％が好ましく、より好ましくは３％〜４０％の範囲で調整される。

（その他添加物）
本発明に係わる光学補償フィルムの重合性液晶化合物層には、本発明の目的を損なわない範囲内で、上記以外の化合物を添加することが出来る。添加出来る化合物としては、例えば、多価アルコールと１塩基酸又は多塩基酸を縮合して得られるポリエステルプレポリマーに、（メタ）アクリル酸を反応させて得られるポリエステル（メタ）アクリレート；ポリオール基と２個のイソシアネート基を持つ化合物を互いに反応させた後、その反応生成物に（メタ）アクリル酸を反応させて得られるポリウレタン（メタ）アクリレート；ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ポリカルボン酸ポリグリシジルエステル、ポリオールポリグリシジルエーテル、脂肪族もしくは脂環式エポキシ樹脂、アミンエポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジヒドロキシベンゼン型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と、（メタ）アクリル酸を反応させて得られるエポキシ（メタ）アクリレート等の光重合性化合物、又はアクリル基もしくはメタクリル基を有する光重合性の液晶性化合物等が挙げられる。本発明の液晶層形成用組成物に対するこれら化合物の添加量は、本発明の目的が損なわれない範囲で選択され、一般的には、本発明の液晶層形成用組成物の４０％以下であることが好ましく、より好ましくは２０％以下である。これらの化合物の添加により、本発明における液晶材料の硬化性が向上し、得られる液晶層の機械強度が増大し、又その安定性が改善される。

（重合性液晶化合物を有機溶媒に溶解した塗布液に使用する界面活性剤）
重合性液晶化合物を有機溶媒に溶解した塗布液には、塗布を容易にするために界面活性剤等を加えることが出来る。添加可能な界面活性剤を例示すると、イミダゾリン、第四級アンモニウム塩、アルキルアミンオキサイド、ポリアミン誘導体等の陽イオン系界面活性剤；ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン縮合物、第一級或いは第二級アルコールエトキシレート、アルキルフェノールエトキシレート、ポリエチレングリコール及びそのエステル、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸アンモニウム、ラウリル硫酸アミン類、アルキル置換芳香族スルホン酸塩、アルキルリン酸塩、脂肪族或いは芳香族スルホン酸ホルマリン縮合物等の陰イオン系界面活性剤；ラウリルアミドプロピルベタイン、ラウリルアミノ酢酸ベタイン等の両性系界面活性剤；ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンアルキルアミン等の非イオン系界面活性剤；パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキル基・親水性基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル・親油基含有オリゴマーパーフルオロアルキル基含有ウレタン等のフッ素系界面活性剤などが挙げられる。界面活性剤の添加量は、界面活性剤の種類、液晶材料の種類、溶媒の種類、更には溶液を塗布する配向膜の種類にもよるが、通常は溶液に含まれる重合性液晶化合物の１０ｐｐｍ〜１０％が好ましく、より好ましくは１００ｐｐｍ〜５％であり、更に好ましくは０．１〜１％の範囲である。

（基材）
本発明に係わる光学補償フィルムに用いられる基材としては、製造が容易であること、光学的に透明であること等が好ましく、特に透明樹脂フィルムであることが好ましい。本発明で言う透明とは、可視光の透過率６０％以上であることを指し、好ましくは８０％以上であり、特に好ましくは９０％以上である。

上記の性質を有していれば特に限定はないが、例えば、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム等のセルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム，ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム又はガラス板等を挙げることが出来る。中でもノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルムが好ましい。

ノルボルネン系樹脂フィルムとは、ノルボルネン構造を有する非晶性ポリオレフィンフィルムで、例えば三井石油化学（株）製のＡＰＯや日本ゼオン（株）製のゼオネックス、ＪＳＲ（株）製のＡＲＴＯＮ等がある。

本発明に係わる光学補償フィルムにおいては、これらの中でもセルロースエステル系フィルムを用いることが好ましく、特に第２の保護膜の基材は、後述する特定のセルロースエステルを主成分とするセルロースエステル系フィルムである。セルロースエステルとしては、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートフタレートが好ましく、中でもセルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられる。市販のセルロースエステル系フィルムとしては、例えば、コニカミノルタタック ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ８ＵＣＲ４、ＫＣ８ＵＣＲ５、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ４ＦＲ、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ８ＵＸ−ＲＨＡ（コニカミノルタオプト（株）製）等が、製造上、コスト面、透明性、密着性等の観点から好ましく用いられる。これらのフィルムは、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。

〈セルロースエステル〉
本発明に係わる光学補償フィルムに用いられるセルロースエステル系フィルムに使用するセルロースエステルに付き説明する。セルロースエステルは、炭素数２〜２２程度の脂肪族カルボン酸エステル又は芳香族カルボン酸エステル或いは脂肪族カルボン酸エステルと芳香族カルボン酸エステルの混合エステルが好ましく用いられ、特にセルロースの低級脂肪酸エステルであることが好ましい。セルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味する。具体的には、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートフタレート等や、特開平１０−４５８０４号公報、同８−２３１７６１号公報、米国特許第２，３１９，０５２号等に記載されているようなセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等の混合脂肪酸エステルである。上記記載の中でも、特に好ましく用いられるセルロースの低級脂肪酸エステルは、セルロースアセテートプロピオネートである。

セルロースエステルは、炭素原子数２〜２２のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をＸとし、プロピオニル基の置換度をＹとした時、下記式１及び２を同時に満たすセルロースエステルである。

式１ ２．００≦Ｘ＋Ｙ≦２．６０
式２ ０．１０≦Ｙ≦１．００
中でも２．３０≦Ｘ＋Ｙ≦２．５５が好ましく、２．４０≦Ｘ＋Ｙ≦２．５５がより好ましい。又、０．５０≦Ｙ≦０．９０が好ましく、０．７０≦Ｙ≦０．９０がより好ましい。

アシル基で置換されていない部分は通常水酸基として存在している。これらは公知の方法で合成することが出来る。又、これらアシル基置換度は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に規定の方法に準じて測定することが出来る。

セルロースエステルは綿花リンター、木材パルプ、ケナフ等を原料として合成されたセルロースエステルを単独或いは混合して用いることが出来る。特に綿花リンター（以下、単にリンターとすることがある）、木材パルプから合成されたセルロースエステルを単独或いは混合して用いることが好ましい。

又、これらから得られたセルロースエステルはそれぞれ任意の割合で混合使用することが出来る。これらのセルロースエステルは、セルロース原料をアシル化剤が酸無水物（無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸）である場合には、酢酸のような有機酸やメチレンクロライド等の有機溶媒を用い、硫酸のようなプロトン性触媒を用いて常法により反応させて得ることが出来る。

アセチルセルロースの場合、酢化率を上げようとすれば、酢化反応の時間を延長する必要がある。但し、反応時間を余り長く取ると分解が同時に進行し、ポリマー鎖の切断やアセチル基の分解などが起こり、好ましくない結果をもたらす。従って、酢化度を上げ、分解をある程度抑えるためには反応時間はある範囲に設定することが必要である。反応時間で規定することは反応条件が様々であり、反応装置や設備その他の条件で大きく変わるので適切でない。ポリマーの分解は進むにつれ、分子量分布が広くなってゆくので、セルロースエステルの場合にも、分解の度合いは通常用いられる重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）の値で規定出来る。即ちセルローストリアセテートの酢化の過程で、余り長過ぎて分解が進み過ぎることがなく、且つ酢化には十分な時間酢化反応を行わせしめるための反応度合いの１つの指標として用いられる重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）の値を用いることが出来る。

本発明に係わる光学補償フィルムに用いられるセルロースエステルの重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）の比Ｍｗ／Ｍｎの値は、１．４〜３．０であることが好ましい。尚、本発明においては、セルロースエステルフィルムが、材料として、Ｍｗ／Ｍｎの値が１．４〜３．０であるセルロースエステルを含有すればよいが、フィルムに含まれるセルロースエステル（好ましくはセルローストリアセテート又はセルロースアセテートプロピオネート）全体のＭｗ／Ｍｎの値は１．４〜３．０の範囲であることがより好ましい。セルロースエステルの合成過程で１．４未満とすることは困難であり、ゲル濾過などによって分画することで分子量の揃ったセルロースエステルを得ることは出来る。しかしながらこの方法はコストが著しく掛かる。又、３．０以下であると平面性が維持されやすく好ましい。尚、より好ましくは１．７〜２．２である。

本発明に係わる光学補償フィルムに用いられるセルロースエステルの分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）で８００００〜２０００００のものを用いることが好ましい。１０００００〜２０００００のものが更に好ましく、１５００００〜２０００００が特に好ましい。

セルロースエステルの平均分子量及び分子量分布は、高速液体クロマトグラフィーを用いて公知の方法で測定することが出来る。これを用いて数平均分子量、重量平均分子量を算出し、その比（Ｍｗ／Ｍｎ）を計算することが出来る。

測定条件は以下の通りである。

溶媒：メチレンクロライド
カラム：Ｓｈｏｄｅｘ Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度：０．１質量％
検出器：ＲＩ Ｍｏｄｅｌ ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：標準ポリスチレンＳＴＫ ｓｔａｎｄａｒｄ ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝１００００００〜５００迄の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に得ることが好ましい。

セルロースエステルの製造法は、特開平１０−４５８０４号公報に記載の方法で得ることが出来る。

又、セルロースエステルは、セルロースエステル中の微量金属成分によっても影響を受ける。これらは製造工程で使われる水に関係していると考えられるが、不溶性の核となり得るような成分は少ない方が好ましく、鉄、カルシウム、マグネシウム等の金属イオンは、有機の酸性基を含んでいる可能性のあるポリマー分解物等と塩形成することにより不溶物を形成する場合があり、少ないことが好ましい。鉄（Ｆｅ）成分については、１ｐｐｍ以下であることが好ましい。カルシウム（Ｃａ）成分については、地下水や河川の水等に多く含まれ、これが多いと硬水となり、飲料水としても不適当であるが、カルボン酸や、スルホン酸等の酸性成分と、又多くの配位子と配位化合物即ち、錯体を形成し易く、多くの不溶なカルシウムに由来するスカム（不溶性の澱、濁り）を形成する。

カルシウム（Ｃａ）成分は６０ｐｐｍ以下、好ましくは０〜３０ｐｐｍである。マグネシウム（Ｍｇ）成分については、やはり多過ぎると不溶分を生ずるため、０〜７０ｐｐｍであることが好ましく、特に０〜２０ｐｐｍであることが好ましい。鉄（Ｆｅ）分の含量、カルシウム（Ｃａ）分含量、マグネシウム（Ｍｇ）分含量等の金属成分は、絶乾したセルロースエステルをマイクロダイジェスト湿式分解装置（硫硝酸分解）、アルカリ溶融で前処理を行った後、ＩＣＰ−ＡＥＳ（誘導結合プラズマ発光分光分析装置）を用いて分析を行うことによって求めることが出来る。

本発明に係わる光学補償フィルムに用いられるセルロースエステル系フィルムの屈折率は５５０ｎｍで１．４５〜１．６０であるものが好ましく用いられる。フィルムの屈折率の測定方法は、アッベ屈折率計を使用し、日本工業規格ＪＩＳ Ｋ ７１０５に基づき測定する。

〈添加剤〉
セルロースエステル系フィルムには可塑剤や紫外線吸収剤、酸化防止剤、マット剤等の添加剤を含有させることが出来る。

前述のように本発明に係わる光学補償フィルムに用いられるセルロースエステル系フィルムは、リターデーションがＲｏは０〜５ｎｍ、Ｒｔは−１０〜１０ｎｍの範囲にあることが好ましい。上記数値範囲とするためには、第３の保護膜がセルロースエステルであれば、溶融製膜にて製造するか、或いは溶液製膜にて、途中でガラス転移点以上の温度で１５秒以上保持するか、或いはセルロースエステルと反対の複屈折発現性を持つ添加剤を加えることが好ましい。中でも、リターデーションを上記範囲内に調整するためには、下記アクリルポリマーを含有することが好ましい。

〈アクリルポリマー〉
本発明に係わる光学補償フィルムに用いられるセルロースエステル系フィルムは、延伸方向に対して負の配向複屈折性を示す重量平均分子量が５００以上３００００以下であるアクリルポリマーを含有することが好ましく、該アクリルポリマーは芳香環を側鎖に有するアクリルポリマー又はシクロヘキシル基を側鎖に有するアクリルポリマーであることが好ましい。

アクリルポリマーの重量平均分子量が５００以上３００００以下のものでアクリルポリマーの組成を制御することで、セルロースエステルとアクリルポリマーとの相溶性を良好にすることが出来る。

特に、アクリルポリマー、芳香環を側鎖に有するアクリルポリマー又はシクロヘキシル基を側鎖に有するアクリルポリマーについて、好ましくは重量平均分子量が５００以上１００００以下のものであれば、上記に加え、製膜後のセルロースエステルフィルムの透明性が優れ、透湿度も極めて低く、偏光板用保護フィルムとして優れた性能を示す。

アクリルポリマーは重量平均分子量が５００以上３００００以下であるから、オリゴマーから低分子量ポリマーの間にあると考えられるものである。この様なポリマーを合成するには、通常の重合では分子量のコントロールが難しく、分子量を余り大きくしない方法で出来るだけ分子量を揃えることの出来る方法を用いることが望ましい。

重合方法としては、クメンペルオキシドやｔ−ブチルヒドロペルオキシドのような過酸化物重合開始剤を使用する方法、重合開始剤を通常の重合より多量に使用する方法、重合開始剤の他にメルカプト化合物や四塩化炭素等の連鎖移動剤を使用する方法、重合開始剤の他にベンゾキノンやジニトロベンゼンのような重合停止剤を使用する方法、更に特開２０００−１２８９１１号又は同２０００−３４４８２３号公報にあるような１つのチオール基と２級の水酸基とを有する化合物、或いは、該化合物と有機金属化合物を併用した重合触媒を用いて塊状重合する方法等を挙げることが出来、何れも本発明において好ましく用いられるが、特に、該公報に記載の方法が好ましい。ポリマーを構成するモノマー単位としてのモノマーを下記に挙げるがこれに限定されない。

エチレン性不飽和モノマーを重合して得られるポリマーを構成するエチレン性不飽和モノマー単位としては：ビニルエステルとして、例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、吉草酸ビニル、ピバリン酸ビニル、カプロン酸ビニル、カプリン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ミリスチン酸ビニル、パルミチン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、シクロヘキサンカルボン酸ビニル、オクチル酸ビニル、メタクリル酸ビニル、クロトン酸ビニル、ソルビン酸ビニル、安息香酸ビニル、桂皮酸ビニル等；アクリル酸エステルとして、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル（ｉ−、ｎ−）、アクリル酸ブチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−、ｔ−）、アクリル酸ペンチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−）、アクリル酸ヘキシル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ヘプチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸オクチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ノニル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ミリスチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸（２−エチルヘキシル）、アクリル酸ベンジル、アクリル酸フェネチル、アクリル酸（ε−カプロラクトン）、アクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（３−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（４−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシブチル）、アクリル酸−ｐ−ヒドロキシメチルフェニル、アクリル酸−ｐ−（２−ヒドロキシエチル）フェニル等；メタクリル酸エステルとして、上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたもの；不飽和酸として、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、クロトン酸、イタコン酸等を挙げることが出来る。上記モノマーで構成されるポリマーはコポリマーでもホモポリマーでもよく、ビニルエステルのホモポリマー、ビニルエステルのコポリマー、ビニルエステルとアクリル酸又はメタクリル酸エステルとのコポリマーが好ましい。

アクリルポリマーとは、芳香環或いはシクロヘキシル基を有するモノマー単位を有しないアクリル酸又はメタクリル酸アルキルエステルのホモポリマー又はコポリマーを指す。芳香環を側鎖に有するアクリルポリマーと言うのは、必ず芳香環を有するアクリル酸又はメタクリル酸エステルモノマー単位を含有するアクリルポリマーである。

又、シクロヘキシル基を側鎖に有するアクリルポリマーは、シクロヘキシル基を有するアクリル酸又はメタクリル酸エステルモノマー単位を含有するアクリルポリマーである。

芳香環及びシクロヘキシル基を有さないアクリル酸エステルモノマーとしては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル（ｉ−、ｎ−）、アクリル酸ブチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−、ｔ−）、アクリル酸ペンチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−）、アクリル酸ヘキシル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ヘプチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸オクチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ノニル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ミリスチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸（２−エチルヘキシル）、アクリル酸（ε−カプロラクトン）、アクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（３−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（４−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−メトキシエチル）、アクリル酸（２−エトキシエチル）等、又は上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたものを挙げることが出来る。

アクリルポリマーは上記モノマーのホモポリマー又はコポリマーであるが、アクリル酸メチルエステルモノマー単位が３０質量％以上を有していることが好ましく、又、メタクリル酸メチルエステルモノマー単位が４０質量％以上有することが好ましい。特にアクリル酸メチル又はメタクリル酸メチルのホモポリマーが好ましい。

芳香環を有するアクリル酸又はメタクリル酸エステルモノマーとしては、例えば、アクリル酸フェニル、メタクリル酸フェニル、アクリル酸（２又は４−クロロフェニル）、メタクリル酸（２又は４−クロロフェニル）、アクリル酸（２又は３又は４−エトキシカルボニルフェニル）、メタクリル酸（２又は３又は４−エトキシカルボニルフェニル）、アクリル酸（ｏ又はｍ又はｐ−トリル）、メタクリル酸（ｏ又はｍ又はｐ−トリル）、アクリル酸ベンジル、メタクリル酸ベンジル、アクリル酸フェネチル、メタクリル酸フェネチル、アクリル酸（２−ナフチル）等を挙げることが出来るが、アクリル酸ベンジル、メタクリル酸ベンジル、アクリル酸フェニチル、メタクリル酸フェネチルを好ましく用いることが出来る。

芳香環を側鎖に有するアクリルポリマーの中で、芳香環を有するアクリル酸又はメタクリル酸エステルモノマー単位が２０〜４０質量％を有し、且つアクリル酸又はメタクリル酸メチルエステルモノマー単位を５０〜８０質量％有することが好ましい。該ポリマー中、水酸基を有するアクリル酸又はメタクリル酸エステルモノマー単位を２〜２０質量％有することが好ましい。

シクロヘキシル基を有するアクリル酸エステルモノマーとしては、例えば、アクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸（４−メチルシクロヘキシル）、メタクリル酸（４−メチルシクロヘキシル）、アクリル酸（４−エチルシクロヘキシル）、メタクリル酸（４−エチルシクロヘキシル）等を挙げることが出来るが、アクリル酸シクロヘキシル及びメタクリル酸シクロヘキシルを好ましく用いることが出来る。

シクロヘキシル基を側鎖に有するアクリルポリマー中、シクロヘキシル基を有するアクリル酸又はメタクリル酸エステルモノマー単位を２０〜４０質量％を有し且つ５０〜８０質量％有することが好ましい。又、該ポリマー中、水酸基を有するアクリル酸又はメタクリル酸エステルモノマー単位を２〜２０質量％有することが好ましい。

上述のエチレン性不飽和モノマーを重合して得られるポリマー、アクリルポリマー、芳香環を側鎖に有するアクリルポリマー及びシクロヘキシル基を側鎖に有するアクリルポリマーは何れもセルロース樹脂との相溶性に優れる。

これらの水酸基を有するアクリル酸又はメタクリル酸エステルモノマーの場合はホモポリマーではなく、コポリマーの構成単位である。この場合、好ましくは、水酸基を有するアクリル酸又はメタクリル酸エステルモノマー単位がアクリルポリマー中２〜２０質量％含有することが好ましい。又、側鎖に水酸基を有するポリマーも好ましく用いることが出来る。水酸基を有するモノマー単位としては、前記したモノマーと同様であるが、アクリル酸又はメタクリル酸エステルが好ましく、例えば、アクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（３−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（４−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシブチル）、アクリル酸−ｐ−ヒドロキシメチルフェニル、アクリル酸−ｐ−（２−ヒドロキシエチル）フェニル、又はこれらアクリル酸をメタクリル酸に置き換えたものを挙げることが出来、好ましくは、アクリル酸−２−ヒドロキシエチル及びメタクリル酸−２−ヒドロキシエチルである。ポリマー中に水酸基を有するアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルモノマー単位はポリマー中２〜２０質量％含有することが好ましく、より好ましくは２〜１０質量％である。

前記のようなポリマーが上記の水酸基を有するモノマー単位を２〜２０質量％含有したものは、勿論セルロースエステルとの相溶性、保留性、寸法安定性が優れ、透湿度が小さいばかりでなく、偏光板保護フィルムとしての偏光子との接着性に特に優れ、偏光板の耐久性が向上する効果を有している。

アクリルポリマーの主鎖の少なくとも一方の末端に水酸基を有するようにする方法は、特に主鎖の末端に水酸基を有するようにする方法であれば限定ないが、アゾビス（２−ヒドロキシエチルブチレート）のような水酸基を有するラジカル重合開始剤を使用する方法、２−メルカプトエタノールのような水酸基を有する連鎖移動剤を使用する方法、水酸基を有する重合停止剤を使用する方法、リビングイオン重合により水酸基を末端に有するようにする方法、特開２０００−１２８９１１号又は２０００−３４４８２３号公報にあるような１つのチオール基と２級の水酸基とを有する化合物、或いは、該化合物と有機金属化合物を併用した重合触媒を用いて塊状重合する方法等により得ることが出来、特に該公報に記載の方法が好ましい。

特開２０００−１２８９１１号又は２０００−３４４８２３号公報の記載に関連する方法で作られたポリマーは、綜研化学社製のアクトフロー・シリーズとして市販されており、好ましく用いることが出来る。上記の末端に水酸基を有するポリマー及び／又は側鎖に水酸基を有するポリマーは、本発明において、ポリマーの相溶性、透明性を著しく向上する効果を有する。

更に、延伸方向に対して負の配向複屈折性を示すエチレン性不飽和モノマーとして、スチレン類を用いたポリマーであることが負の屈折性を発現させるために好ましい。スチレン類としては、例えば、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、クロロメチルスチレン、メトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、ビニル安息香酸メチルエステルなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。

前記不飽和エチレン性モノマーとして挙げた例示モノマーと共重合してもよく、又複屈折性を制御する目的で、２種以上の上記ポリマーを用いてセルロースエステルに相溶させて用いてもよい。

更に、本発明に係わる光学補償フィルムに用いられるセルロースエステル系フィルムは、分子内に芳香環と親水性基を有しないエチレン性不飽和モノマーＸａと分子内に芳香環を有せず、親水性基を有するエチレン性不飽和モノマーＸｂとを共重合して得られた重量平均分子量５０００以上３００００以下のポリマーＸと、より好ましくは芳香環を有さないエチレン性不飽和モノマーＹａを重合して得られた重量平均分子量５００以上３０００以下のポリマーＹとを含有することが好ましい。

（ポリマーＸ、ポリマーＹ）
ポリマーＸは分子内に芳香環と親水性基を有しないエチレン性不飽和モノマーＸａと分子内に芳香環を有せず、親水性基を有するエチレン性不飽和モノマーＸｂとを共重合して得られた重量平均分子量５０００以上３００００以下のポリマーである。好ましくは、Ｘａは分子内に芳香環と親水性基を有しないアクリル又はメタクリルモノマー、Ｘｂは分子内に芳香環を有せず親水性基を有するアクリル又はメタクリルモノマーである。

ポリマーＸは、下記一般式（Ａ）で表される。

一般式（Ａ）
−（Ｘａ）ｍ−（Ｘｂ）ｎ−（Ｘｃ）ｐ−
更に好ましくは、下記一般式（Ｘ−１）で表されるポリマーである。

一般式（Ａ−１）
−［ＣＨ_２−Ｃ（−Ｒ１）（−ＣＯ_２Ｒ２）］ｍ−［ＣＨ_２−Ｃ（−Ｒ３）（−ＣＯ_２Ｒ４−ＯＨ）−］ｎ−［Ｘｃ］ｐ−
（式中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ５は、Ｈ又はＣＨ_３を表す。Ｒ２は炭素数１〜１２のアルキル基、シクロアルキル基を表す。Ｒ４、Ｒ６は−ＣＨ_２−、−Ｃ_２Ｈ_４−又は−Ｃ_３Ｈ_６−を表す。Ｘｃは、Ｘａ、Ｘｂに重合可能なモノマー単位を表す。ｍ、ｎ及びｐは、モル組成比を表す。但し、ｍ≠０、ｎ≠０、ｋ≠０、ｍ＋ｎ＋ｐ＝１００である。）
ポリマーＸを構成するモノマー単位としてのモノマーを下記に挙げるがこれに限定されない。

Ｘにおいて、親水性基とは、水酸基、エチレンオキシド連鎖を有する基を言う。

分子内に芳香環と親水性基を有しないエチレン性不飽和モノマーＸａは、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル（ｉ−、ｎ−）、アクリル酸ブチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−、ｔ−）、アクリル酸ペンチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−）、アクリル酸ヘキシル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ヘプチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸オクチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ノニル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ミリスチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸（２−エチルヘキシル）、アクリル酸（ε−カプロラクトン）、アクリル酸（２−エトキシエチル）等、又は上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたものを挙げることが出来る。中でも、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル（ｉ−、ｎ−）であることが好ましい。

分子内に芳香環を有せず、親水性基を有するエチレン性不飽和モノマーＸｂは、水酸基を有するモノマー単位として、アクリル酸又はメタクリル酸エステルが好ましく、例えば、アクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（３−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（４−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシブチル）、又はこれらアクリル酸をメタクリル酸に置き換えたものを挙げることが出来、好ましくは、アクリル酸（２−ヒドロキシエチル）及びメタクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（３−ヒドロキシプロピル）である。

Ｘｃとしては、Ｘａ、Ｘｂ以外のもので且つ共重合可能なエチレン性不飽和モノマーであれば、特に制限はないが、芳香環を有していないものが好ましい。

Ｘａ、Ｘｂ及びＸｃのモル組成比ｍ：ｎは９９：１〜６５：３５の範囲が好ましく、更に好ましくは９５：５〜７５：２５の範囲である。Ｘｃのｐは０〜１０である。Ｘｃは複数のモノマー単位であってもよい。

Ｘａのモル組成比が多いとセルロースエステルとの相溶性が良化するがフィルム厚み方向のリターデーション値Ｒｔが大きくなる。Ｘｂのモル組成比が多いと上記相溶性が悪くなるが、Ｒｔを低減させる効果が高い。又、Ｘｂのモル組成比が上記範囲を超えると製膜時にヘイズが出る傾向があり、これらの最適化を図りＸａ、Ｘｂのモル組成比を決めることが好ましい。

ポリマーＸの分子量は重量平均分子量が５０００以上３００００以下であり、更に好ましくは８０００以上２５０００以下である。重量平均分子量を５０００以上とすることにより、セルロースエステルフィルムの、高温高湿下における寸法変化が少ない、偏光板保護フィルムとしてカールが少ない等の利点が得られ好ましい。重量平均分子量が３００００を以内とした場合は、セルロースエステルとの相溶性がより向上し、高温高湿下においてのブリードアウト、更には製膜直後でのヘイズの発生が抑制される。

ポリマーＸの重量平均分子量は、公知の分子量調節方法で調整することが出来る。そのような分子量調節方法としては、例えば四塩化炭素、ラウリルメルカプタン、チオグリコール酸オクチル等の連鎖移動剤を添加する方法等が挙げられる。又、重合温度は通常室温から１３０℃、好ましくは５０℃から１００℃で行われるが、この温度又は重合反応時間を調整することで可能である。

重量平均分子量の測定方法は下記方法によることが出来る。

（重量平均分子量測定方法）
重量平均分子量Ｍｗは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーを用いて測定した。測定条件は以下の通りである。

溶媒： メチレンクロライド
カラム： Ｓｈｏｄｅｘ Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度： ０．１質量％
検出器： ＲＩ Ｍｏｄｅｌ ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ： Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量： １．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線： 標準ポリスチレンＳＴＫ ｓｔａｎｄａｒｄ ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝１００００００〜５００迄の１３のサンプルによる校正曲線を使用した。１３のサンプルは、ほぼ等間隔に用いる。

ポリマーＹは芳香環を有さないエチレン性不飽和モノマーＹａを重合して得られた重量平均分子量５００以上３０００以下のポリマーである。重量平均分子量５００以上ではポリマーの残存モノマーが減少し好ましい。又、３０００以下とすることは、リターデーション値Ｒｔ低下性能を維持するために好ましい。

Ｙａは、好ましくは芳香環を有さないアクリル又はメタクリルモノマーである。

ポリマーＹは、下記一般式（Ｂ）で表される。

一般式（Ｂ）
−（Ｙａ）ｋ−（Ｙｂ）ｑ−
更に好ましくは、下記一般式（Ｂ−１）で表されるポリマーである。

一般式（Ｂ−１）
−［ＣＨ_２−Ｃ（−Ｒ５）（−ＣＯ_２Ｒ６）］ｋ−［Ｙｂ］ｑ−
（式中、Ｒ５は、Ｈ又はＣＨ_３を表す。Ｒ６は炭素数１〜１２のアルキル基又はシクロアルキル基を表す。Ｙｂは、Ｙａと共重合可能なモノマー単位を表す。ｋ及びｑは、モル組成比を表す。但し、ｋ≠０、ｋ＋ｑ＝１００である。）
Ｙｂは、Ｙａと共重合可能なエチレン性不飽和モノマーであれば特に制限はない。Ｙｂは複数であってもよい。ｋ＋ｑ＝１００、ｑは好ましくは０〜３０である。

芳香環を有さないエチレン性不飽和モノマーを重合して得られるポリマーＹを構成するエチレン性不飽和モノマーＹａはアクリル酸エステルとして、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル（ｉ−、ｎ−）、アクリル酸ブチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−、ｔ−）、アクリル酸ペンチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−）、アクリル酸ヘキシル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ヘプチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸オクチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ノニル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ミリスチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸（２−エチルヘキシル）、アクリル酸（ε−カプロラクトン）、アクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（３−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（４−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシブチル）、メタクリル酸エステルとして、上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたもの；不飽和酸として、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、クロトン酸、イタコン酸等を挙げることが出来る。

Ｙｂは、Ｙａと共重合可能なエチレン性不飽和モノマーであれば特に制限はないが、ビニルエステルとして、例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、吉草酸ビニル、ピバリン酸ビニル、カプロン酸ビニル、カプリン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ミリスチン酸ビニル、パルミチン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、シクロヘキサンカルボン酸ビニル、オクチル酸ビニル、メタクリル酸ビニル、クロトン酸ビニル、ソルビン酸ビニル、桂皮酸ビニル等が好ましい。Ｙｂは複数であってもよい。

ポリマーＸ、Ｙを合成するには、通常の重合では分子量のコントロールが難しく、分子量を余り大きくしない方法で出来るだけ分子量を揃えることの出来る方法を用いることが望ましい。係る重合方法としては、クメンペルオキシドやｔ−ブチルヒドロペルオキシドのような過酸化物重合開始剤を使用する方法、重合開始剤を通常の重合より多量に使用する方法、重合開始剤の他にメルカプト化合物や四塩化炭素等の連鎖移動剤を使用する方法、重合開始剤の他にベンゾキノンやジニトロベンゼンのような重合停止剤を使用する方法、更に特開２０００−１２８９１１号又は同２０００−３４４８２３号公報にあるような１つのチオール基と２級の水酸基とを有する化合物、或いは、該化合物と有機金属化合物を併用した重合触媒を用いて塊状重合する方法等を挙げることが出来、何れも本発明において好ましく用いられるが、特に、分子中にチオール基と２級の水酸基とを有する化合物を連鎖移動剤として使用する重合方法が好ましい。

この場合、ポリマーＸ及びポリマーＹの末端には、重合触媒及び連鎖移動剤に起因する水酸基、チオエーテルを有することとなる。この末端残基により、ポリマーＸと、ポリマーＹとセルロースエステルとの相溶性を調整することが出来る。ポリマーＸ及びポリマーＹの水酸基価は３０〜１５０［ｍｇＫＯＨ／ｇ］であることが好ましい。

（水酸基価の測定方法）
この測定は、ＪＩＳ Ｋ ００７０（１９９２）に準ずる。この水酸基価は、試料１ｇをアセチル化させた時、水酸基と結合した酢酸を中和するのに必要とする水酸化カリウムのｍｇ数と定義される。具体的には試料Ｘｇ（約１ｇ）をフラスコに精秤し、これにアセチル化試薬（無水酢酸２０ｍｌにピリジンを加えて４００ｍｌにしたもの）２０ｍｌを正確に加える。フラスコの口に空気冷却管を装着し、９５〜１００℃のグリセリン浴にて加熱する。

１時間３０分後、冷却し、空気冷却管から精製水１ｍｌを加え、無水酢酸を酢酸に分解する。次に電位差滴定装置を用いて０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウムエタノール溶液で滴定を行い、得られた滴定曲線の変曲点を終点とする。更に空試験として、試料を入れないで滴定し、滴定曲線の変曲点を求める。

水酸基価は、次の式によって算出する。

水酸基価＝｛（Ｂ−Ｃ）×ｆ×２８．０５／Ｘ｝＋Ｄ
（式中、Ｂは空試験に用いた０．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化カリウムエタノール溶液の量（ｍｌ）、Ｃは滴定に用いた０．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化カリウムエタノール溶液の量（ｍｌ）、ｆは０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウムエタノール溶液のファクター、Ｄは酸価、又、２８．０５は水酸化カリウムの１ｍｏｌ量５６．１１の１／２を表す）
上述のＸポリマーポリマーＹは何れもセルロースエステルとの相溶性に優れ、蒸発や揮発もなく生産性に優れ、偏光板用保護フィルムとしての保留性がよく、透湿度が小さく、寸法安定性に優れている。

ポリマーＸとポリマーＹのセルロースエステルフィルム中での含有量は、下記式（ｉ）、式（ii）を満足する範囲であることが好ましい。ポリマーＸの含有量をＸｇ（質量％＝ポリマーＸの質量／セルロースエステルの質量×１００）、ポリマーＹの含有量をＹｇ（質量％）とすると、
式（ｉ） ５≦Ｘｇ＋Ｙｇ≦３５（質量％）
式（ii） ０．０５≦Ｙｇ／（Ｘｇ＋Ｙｇ）≦０．４
式（ｉ）の好ましい範囲は、１０〜２５質量％である。

ポリマーＸとポリマーＹは総量として５質量％以上であれば、リターデーション値Ｒｔの低減に十分な作用をする。又、総量として３５質量％以下であれば、偏光子ＰＶＡとの接着性が良好である。

ポリマーＸとポリマーＹは後述するドープ液を構成する素材として直接添加、溶解するか、もしくはセルロースエステルを溶解する有機溶媒に予め溶解した後ドープ液に添加することが出来る。

〈その他の添加剤〉
本発明に係わる光学補償フィルムに用いるセルロースエステル系フィルムには、通常のセルロースエステル系フィルムに添加することの出来る添加剤を含有させることが出来る。これらの添加剤としては、可塑剤、紫外線吸収剤、微粒子等を挙げることが出来る。

本発明には下記のような可塑剤を含有するのが好ましい。可塑剤としては、例えば、リン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、トリメリット酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸系可塑剤、グリコレート系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤等を好ましく用いることが出来る。

リン酸エステル系可塑剤では、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等、フタル酸エステル系可塑剤では、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジフェニルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート等、トリメリット酸系可塑剤では、トリブチルトリメリテート、トリフェニルトリメリテート、トリエチルトリメリテート等、ピロメリット酸エステル系可塑剤では、テトラブチルピロメリテート、テトラフェニルピロメリテート、テトラエチルピロメリテート等、グリコレート系可塑剤では、トリアセチン、トリブチリン、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等、クエン酸エステル系可塑剤では、トリエチルシトレート、トリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート、アセチルトリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリ−ｎ−（２−エチルヘキシル）シトレート等を好ましく用いることが出来る。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。

ポリエステル系可塑剤として脂肪族二塩基酸、脂環式二塩基酸、芳香族二塩基酸等の二塩基酸とグリコールの共重合ポリマーを用いることが出来る。脂肪族二塩基酸としては特に限定されないが、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、テレフタル酸、１，４−シクロヘキシルジカルボン酸等を用いることが出来る。グリコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，４−ブチレングリコール、１，３−ブチレングリコール、１，２−ブチレングリコール等を用いることが出来る。これらの二塩基酸及びグリコールはそれぞれ単独で用いてもよいし、２種以上混合して用いてもよい。

多価アルコールエステル系可塑剤は２価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなる。好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることが出来るが、本発明はこれらに限定されるものではない。アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール、ガラクチトール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール、等を上げることが出来る。特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトール、であることが好ましい。多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては特に制限はなく公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸などを用いることが出来る。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを上げることが出来るが、本発明はこれに限定されるものではない。脂肪族モノカルボン酸としては炭素数１〜３２の直鎖又は側鎖を持った脂肪酸を好ましく用いることが出来る。炭素数１〜２０であることが更に好ましく、炭素数１〜１０であることが特に好ましい。酢酸を含有させるとセルロースエステルとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。好ましい脂肪族モノカルボン酸としては酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸などの飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸などの不飽和脂肪酸などを上げることが出来る。好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、又はそれらの誘導体を上げることが出来る。好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸などの安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸などのベンゼン環を２個以上持つ芳香族モノカルボン酸、又はそれらの誘導体を上げることが出来る。特に安息香酸であることが好ましい。多価アルコールエステルの分子量は特に制限はないが、分子量３００〜１５００の範囲であることが好ましく、３５０〜７５０の範囲であることが更に好ましい。保留性向上の点では大きい方が好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。

多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は一種類でもよいし、２種以上の混合であってもよい。又、多価アルコール中のＯＨ基はカルボン酸で全てエステル化してもよいし、一部をＯＨ基のままで残してもよい。これらの可塑剤は単独又は併用するのが好ましい。これらの可塑剤の使用量は、フィルム性能、加工性等の点で、セルロースエステルに対して１〜２０質量％が好ましく、特に好ましくは、３〜１３質量％である。

（紫外線吸収剤）
紫外線吸収剤は、４００ｎｍ以下の紫外線を吸収することで、耐久性を向上させることを目的としており、特に波長３７０ｎｍでの透過率が１０％以下であることが好ましく、より好ましくは５％以下、更に好ましくは２％以下である。

紫外線吸収剤は特に限定されないが、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉体等が挙げられる。高分子型の紫外線吸収剤としてもよい。

（微粒子）
セルロースエステル系フィルムには微粒子を用いることが好ましい。微粒子は、無機化合物でも有機化合物でもどちらも用いることが出来る。無機化合物の例としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることが出来る。微粒子は珪素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。

微粒子の一次粒子の平均粒径は５ｎｍ〜５０ｎｍが好ましく、更に好ましいのは７ｎｍ〜２０ｎｍである。これらは主に粒径０．０５μｍ〜０．３μｍの２次凝集体として含有されることが好ましい。セルロースエステルフィルム中のこれらの微粒子の含有量は０．０５質量％〜１質量％であることが好ましく、特に０．１質量％〜０．５質量％が好ましい。共流延法による多層構成のセルロースエステルフィルムの場合は、表面にこの添加量の微粒子を含有することが好ましい。

二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することが出来る。

酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することが出来る。

ポリマーの例として、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることが出来る。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０及び同２４０（以上東芝シリコーン（株）製）の商品名で市販されており、使用することが出来る。

これらの中でもでアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖがセルロースエステルフィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数を下げる効果が大きいため特に好ましく用いられる。

（偏光板）
偏光板は一般的な方法で作製することが出来る。本発明に係わる光学補償フィルムを用いた偏光板の保護フィルムに用いられるセルロースエステル系フィルムの裏面側をアルカリ鹸化処理し、ヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。もう一方の面には該フィルムを用いても、別の偏光板保護フィルムを用いてもよい。市販のセルロースエステル系フィルム（例えば、コニカミノルタタック ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ８ＵＣＲ４、ＫＣ８ＵＣＲ５、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ４ＦＲ、以上コニカミノルタオプト（株）製）も好ましく用いられる。

偏光板の主たる構成要素である偏光膜とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。偏光膜は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。

（表示装置）
本発明に係わる光学補償フィルムを用いた偏光板を液晶表示装置に組み込むことによって、視認性に優れた本発明の液晶表示装置を作製することが出来る。本発明に係わる光学補償フィルムを用いた偏光板は、ＩＰＳモード型のＬＣＤで好ましく用いられるが、特に請求項２又は請求項３の構成を採用したＩＰＳモード型液晶表示装置に好適に用いられる。特に画面が３０型以上、特に３０型〜５４型の大画面の液晶表示装置でも、コントラストが高く、長時間の鑑賞でも目が疲れないと言う効果があった。

以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

実施例１
《光学補償フィルムの作製》
（二酸化珪素分散液の調製）
アエロジル９７２Ｖ（日本アエロジル（株）製） １２質量部
（一次粒子の平均径１６ｎｍ、見掛け比重９０ｇ／リットル）
エタノール ８８質量部
以上をディゾルバーで３０分間攪拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。分散後の液濁度は２００ｐｐｍであった。二酸化珪素分散液に８８質量部のメチレンクロライドを攪拌しながら投入し、ディゾルバーで３０分間攪拌混合し、二酸化珪素分散希釈液を調製した。

（ドープ液の調製）
セルロースエステル（アセチル基置換度２．５０、プロピオニル基置換度０．１０、総アシル基置換度２．６０） １００質量部
トリメチロールプロパントリベンゾエート ５質量部
エチルフタリルエチルグリコレート ５質量部
二酸化珪素分散希釈液 １０質量部
チヌビン１０９（チバ・ジャパン（株）製） １．２質量部
チヌビン１７１（チバ・ジャパン（株）製） ０．８質量部
メチレンクロライド ４３０質量部
エタノール ４０質量部
上記ドープ組成物を密封容器に投入し、７０℃まで加熱し、撹拌しながら、セルロースエステルを完全に溶解しドープ液を調製した。

（セルロースエステルフィルムの作製）
準備したドープ液を濾過した後、３３℃に温度調整しダイに送液して、ダイスリットからステンレスベルト上に幅２．５ｍで均一に流延した。ステンレスベルトの流延部は裏面から３７℃の温水で加熱した。流延後、金属支持体上のドープ膜（ステンレスベルトに流延以降はウェブと云う）に４４℃の温風を当てて乾燥させ、剥離の残留溶媒量が１２０質量％で剥離し、剥離の際の張力を掛けて１．１倍の縦延伸倍率となるように延伸し、次いで、残留溶媒量２４％、温度１３５℃にてテンターでウェブ端部を把持し、幅手方向に１．２倍の延伸倍率となるように延伸した。延伸後、その幅を維持したまま数秒間保持した後、幅方向の張力を緩和させ、幅保持を解放した後に１２０℃で乾燥させた。以上のようにして作製した膜厚３０μｍ、幅２．６５ｍ、長さ７５００ｍのセルロースエステルフィルムをコアに巻き取った。

（光学補償フィルムの製造）
図２に示す製造装置を使用し、準備したセルロースエステルフィルムの上に以下に示す重合性液晶化合物層形成用塗布液を搬送速度１０ｍ／ｍｉｎで塗布し、表１、表２に示す付与熱量増加条件で重合性液晶化合物層を形成した後、配向工程、硬化工程を経て位相差層を有する光学補償フィルムを作製しＮｏ．１−１〜１−１８８とした。

（重合性液晶化合物の組成物の調製）
化合物Ａ ４５質量％
化合物Ｂ ４５質量％
化合物Ｃ １０質量％

この重合性液晶組成物のネマチック−等方性液体相転移温度は７３℃であった。

（重合性液晶化合物層形成用塗布液の調製）
重合性液晶化合物の組成物９９．７％に光重合開始剤ルシリンＴＰＯ（バスフ社製）０．２％、ヒンダードアミンＬＳ−７６５（三共ライフテック株式会社製）を０．１％添加した重合性液晶組成物を調製した。次に重合性液晶組成物を３３％含有するキシレン溶液を調製し重合性液晶化合物層形成用塗布液とした。

（塗布）
準備した重合性液晶化合物層形成用塗布液をエクストルージョン型ダイコータにより、幅１３２５ｍｍに断裁したセルロースエステルフィルム上に５μｍの厚みで塗布し塗膜を形成した。セルロースエステルフィルムの搬送速度は１０ｍ／ｍｉｎとした。

（乾燥処理）
この塗膜を乾燥工程へ搬送し、乾燥工程で温度を調整することで付与熱量を増加させる前の過程での塗膜の残留溶媒量を表１に示す様にした後、付与熱量増加部で熱量を付与し重合性液晶化合物層をセルロースエステルフィルム上に形成し、配向工程へ搬送した。乾燥後の重合性液晶化合物層の膜厚は、１．６５μｍであった。

尚、塗布液を塗布する工程から乾燥工程に入るまでの塗膜の溶媒の蒸発速度を１０．０ｇ／ｍ^２・ｍｉｎ、乾燥工程の加熱付与する前の過程での付与熱量を増加させる前の過程での塗膜の溶媒の蒸発速度を３０．０ｇ／ｍ^２・ｍｉｎ、塗布液を塗布する工程で塗布液が塗布された樹脂フィルムが、乾燥工程に入るまでの時間を６．５ｓｅｃとした。

熱量は下記に示す式より計算で求めた。

熱量（ｈ１）＝△Ｔ（熱量付与後の塗膜の温度−熱量付与前の塗膜の温度）×ｔ（熱量付与時間）
塗膜の温度はＥＸＥＲＧＥＮ社製赤外線熱電対ＩＲｔ／ｃで測定した塗膜面の値を示す。

塗膜の残留溶媒量の測定は次の方法で行った。

（残留溶媒量の測定方法）
乾燥した液晶層を有するセルロースエステルフィルムを１０ｃｍ角に切り出し質量を測定し、その後オーブンにて１１０℃３０分加熱し再度質量を測定した。この質量差より算出した１ｍ^２当たりの溶媒量を残留溶媒量とした。

重合性液晶化合物層の膜厚は、光干渉膜厚計ＦＥ−３０００（大塚電子（株）製）を用いて測定した値を示す。

（配向工程）
温度３０℃に制御された配向工程を１分間通過させた。

（硬化工程）
酸素濃度０．２％、温度３８℃にて高圧水銀灯により１６０Ｗ／ｃｍの出力で積算光量が２５０ｍＪ／ｃｍ^２となるように紫外線を照射して、硬化前の重合性液晶化合物層中の棒状の重合性液晶化合物を硬化させ配向状態を固定した重合性液晶化合物層（位相差層）を得た。重合性液晶化合物層（位相差層）の膜厚は１．４μｍであった。膜厚測定は、光干渉膜厚計ＦＥ−３０００（大塚電子（株）製）を用いた。

《液晶表示装置の作製》
作製した光学補償フィルムＮｏ．１−１〜１−８８の性能評価を行うため、図１（ａ）に示す液晶表示装置を以下に示す方法で作製した。

（第１の保護フィルムの準備）
コニカミノルタオプト（株）製コニカミノルタタック、ＫＣ４ＵＹを使用した。

（第１の偏光フィルムの作製）
厚さ１２０μｍのポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸（温度１１０℃、延伸倍率５倍）した。これをヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム５ｇ、水１００ｇからなる水溶液に６０秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム６ｇ、ホウ酸７．５ｇ、水１００ｇからなる６８℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥し偏光膜を得た。

（視認側偏光板の作製）
上記作製した光学補償フィルムＮｏ．１−１〜１−８８を、４０℃の２．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液で６０秒間アルカリ処理し、３分間水洗して鹸化処理し、アルカリ処理フィルムを得た。次に上記作製した偏光膜、及び準備した第１の保護膜（フィルム）ＫＣ４ＵＹを上記の方法で鹸化処理し、完全鹸化型ポリビニルアルコール５％水溶液を粘着剤として、光学補償フィルムＮｏ．１−１〜１−８８、偏光膜、ＫＣ４ＵＹ（第１の保護フィルム）の順で積層して視認側の偏光板を作製した。

（第３の保護フィルムの作製）
〈ポリマーの合成〉
（ポリマーＸの合成）
特開２００３−１２８５９号公報に記載されている方法を参考にして、ポリマーＸを合成した。即ち、攪拌機、２個の滴下ロート、ガス導入管及び温度計の付いたガラスフラスコに、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）：２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）を８０：２０の割合で混合したモノマー混合液４０ｇ、連鎖移動剤のメルカプトプロピオン酸３．０ｇ及びトルエン３０ｇを仕込み、９０℃に昇温した。その後、一方の滴下ロートから、上記モノマー混合液６０ｇを３時間掛けて滴下すると共に、同時にもう一方のロートからトルエン１４ｇに溶解したアゾビスイソブチロニトリル０．６ｇを３時間掛けて滴下した。その後更に、トルエン５６ｇに溶解したアゾビスイソブチロニトリル０．６ｇを２時間掛けて滴下した後、更に２時間反応を継続させ、ポリマーＸを得た。重量平均分子量は８０００であった。

（ポリマーＹの合成）
特開２０００−３４４８２３号公報に記載の重合方法により塊状重合を行った。即ち、攪拌機、窒素ガス導入管、温度計、投入口及び環流冷却管を備えたフラスコに下記メチルメタクリレートとルテノセンを導入しながら内容物を７０℃に加熱した。次いで、十分に窒素ガス置換した下記β−メルカプトプロピオン酸の半分を攪拌下フラスコ内に添加した。β−メルカプトプロピオン酸添加後、攪拌中のフラスコ内の内容物を７０℃に維持し２時間重合を行った。更に、窒素ガス置換したβ−メルカプトプロピオン酸の残りの半分を追加添加後、更に攪拌中の内容物の温度が７０℃に維持し重合を４時間行った。反応物の温度を室温に戻し、反応物に５質量％ベンゾキノンのテトラヒドロフラン溶液を２０質量部添加して重合を停止させた。重合物をエバポレーターで減圧下８０℃まで徐々に加熱しながらテトラヒドロフラン、残存モノマー及び残存チオール化合物を除去してポリマーＹを得た。重量平均分子量は１０００であった。

メチルメタクリレート １００質量部
ルテノセン（金属触媒） ０．０５質量部
β−メルカプトプロピオン酸 １２質量部
重量平均分子量の測定方法を下記に示す。

（重量平均分子量測定方法）
重量平均分子量Ｍｗは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーを用いて測定した。

測定条件は以下の通りである。

溶媒： メチレンクロライド
カラム： Ｓｈｏｄｅｘ Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度： ０．１質量％
検出器： ＲＩ Ｍｏｄｅｌ ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ： Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量： １．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線： 標準ポリスチレンＳＴＫ ｓｔａｎｄａｒｄ ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝１００００００〜５００迄の１３のサンプルによる校正曲線を使用した。１３のサンプルは、ほぼ等間隔に用いる。

上記ポリマーＸ、Ｙを用いて下記に示すように第３の保護フィルムを作製した。

（ドープ液）
セルローストリアセテート（酢化度：６１．５％，Ｍｎ：１１００００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．０） １００質量部
ポリマーＸ １０質量部
ポリマーＹ ５質量部
メチレンクロライド ４３０質量部
エタノール ４０質量部
上記ドープ組成物を密封容器に投入し、７０℃まで加熱し、撹拌しながら、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）を完全に溶解しドープを得た。溶解に要した時間は４時間であった。次に、ドープ組成物を濾過した後、３３℃に温度調整したドープ液を、ダイに送液して、ダイスリットからステンレスベルト上に幅２．５ｍに均一に流延した。ステンレスベルトの流延部は裏面から３７℃の温水で加熱した。流延後、金属支持体上のドープ膜（ステンレスベルトに流延以降はウェブと云う）に４４℃の温風を当てて乾燥させ、剥離の残留溶媒量が１２０質量％で剥離し、剥離の際の張力を掛けて１．１倍の縦延伸倍率となるように延伸し、次いで、残留溶媒量４質量％、温度１２３℃となるように調整し、テンターでウェブ端部を把持し、幅手方向に１．１倍の延伸倍率となるように延伸した。延伸後、その幅を維持したまま数秒間保持した後、幅方向の張力を緩和させた後、幅保持を解放し１２０℃で乾燥させた。以上のようにして作製した膜厚４１μｍ、幅２．６５ｍ、長さ７５００ｍの第３の保護フィルムであるセルロースエステルフィルムをコアに巻き取った。

（第２の偏光膜の作製）
第１の偏光膜と同じ偏光膜を作製し第２の偏光膜とした。

（第４の保護フィルム）
第１の保護フィルムと同じＫＣ４ＵＹを使用した。

（バックライト側の偏光板の作製）
作製した第３の保護フィルム、第２の偏光膜、第４の保護フィルムを視認側偏光板を作製した時と同じ方法で鹸化処理し、同じ方法で第３の保護フィルム、偏光膜、ＫＣ４ＵＹ（第４の保護フィルム）の順に積層してバックライト側の偏光板を作製した。

《液晶表示装置の作製》
ＩＰＳモード型液晶表示装置である日立製液晶テレビＷｏｏｏ Ｗ１７−ＬＣ５０の予め貼合されていた偏光板を剥がして、上記作製した視認側偏光板及びバックライト側偏光板を図１（ａ）の構成で液晶セルのガラス面に貼合し、ＩＰＳモード型液晶表示装置を作製しＮｏ．１０１〜１８８とした。偏光板の第２の保護フィルムの面内遅相軸と、液晶セルの配向方向は実質的に平行であった。

《評価》
作製した各ＩＰＳモード型液晶表示装置Ｎｏ．１０１〜１８８を用いて光学補償フィルムＮｏ．１−１〜１−８８の視野角、コントラストを以下の方法で測定し、以下に示す評価ランクに従って評価した結果を表３、表４に示す。

（視野角）
上記作製した液晶表示装置を、ＥＬＤＩＭ社製ＥＺ−ｃｏｎｔｒａｓｔにより視野角を測定した。視野角は、液晶セルの白表示と黒表示時のコントラストを算出し、斜め方向にてコントラストが１００となる角度を視野角とした。

視野角の評価ランク
○：７０°以上
△：５０°以上〜７０°未満
×：５０°未満
（コントラスト）
液晶表示装置を、ＥＬＤＩＭ社製ＥＺ−ｃｏｎｔｒａｓｔによりコントラストを測定した。コントラストは、液晶セルの白表示と黒表示時のコントラストを算出した。

コントラストの評価ランク
○：８００以上
△：７００以上、８００未満
×：７００未満

今回の測定において、塗膜の残留溶媒量を本発明の規定より多くして付与熱量を増加して作製した、光学補償フィルムＮｏ．１−２〜１−８を使用した液晶表示装置Ｎｏ．１０２〜１０８は、残量溶媒が多いことで液晶の配向にムラが生じたことにより、視野角、コントラスト共に本発明の光学補償フィルムＮｏ．１−１０〜１−１６、１−１８〜１−２４、１−２６〜１−３２、１−３４〜１−４０、１−４２〜１−４８、１−５０〜１−５６、１−５８〜１−６４、１−６６〜１−７２、１−７４〜１−８０、１−８２〜１−８８を使用した液晶表示装置Ｎｏ．１１０〜１１６、１１８〜１２４、１２６〜１３２、１３４〜１４０、１４２〜１４８、１５０〜１５６、１５８〜１６４、１６６〜１７２、１７４〜１８０、１８２〜１８８よりも劣る結果となった。

今回の測定において、塗膜の残留溶媒量を本発明の規定より多くして付与熱量を増加しないで作製した、光学補償フィルムＮｏ．１−１を使用した液晶表示装置Ｎｏ．１０１は、残量溶媒が多いこと及び付与熱量を増加しないことで液晶の配向にムラが生じたことにより、視野角、コントラスト共に本発明の光学補償フィルムＮｏ．１−１０〜１−１６、１−１８〜１−２４、１−２６〜１−３２、１−３４〜１−４０、１−４２〜１−４８、１−５０〜１−５６、１−５８〜１−６４、１−６６〜１−７２、１−７４〜１−８０、１−８２〜１−８８を使用した液晶表示装置Ｎｏ．１１０〜１１６、１１８〜１２４、１２６〜１３２、１３４〜１４０、１４２〜１４８、１５０〜１５６、１５８〜１６４、１６６〜１７２、１７４〜１８０、１８２〜１８８よりも劣る結果となった。

今回の測定において、塗膜の残留溶媒量を本発明の規定より少なくして付与熱量を増加して作製した、光学補償フィルムＮｏ．１−８２〜１−８８を使用した液晶表示装置Ｎｏ．１８１〜１８７は、残量溶媒が減少する過程で温度ムラ等により液晶の配向にムラが生じたことにより、視野角、コントラスト共に本発明の光学補償フィルムＮｏ．１−１０〜１−１６、１−１８〜１−２４、１−２６〜１−３２、１−３４〜１−４０、１−４２〜１−４８、１−５０〜１−５６、１−５８〜１−６４、１−６６〜１−７２、１−７４〜１−８０、１−８２〜１−８８を使用した液晶表示装置Ｎｏ．１１０〜１１６、１１８〜１２４、１２６〜１３２、１３４〜１４０、１４２〜１４８、１５０〜１５６、１５８〜１６４、１６６〜１７２、１７４〜１８０、１８２〜１８８よりも劣る結果となった。

今回の測定において、塗膜の溶媒量を本発明の規定より少なくして付与熱量を増加しないで作製した、光学補償フィルムＮｏ．１−８１を使用した液晶表示装置Ｎｏ．１８１は溶媒残量が減少する過程で温度ムラ等により液晶の配向にムラが生じたことにより、視野角、コントラスト共に本発明の光学補償フィルムＮｏ．１−１０〜１−１６、１−１８〜１−２４、１−２６〜１−３２、１−３４〜１−４０、１−４２〜１−４８、１−５０〜１−５６、１−５８〜１−６４、１−６６〜１−７２、１−７４〜１−８０、１−８２〜１−８８を使用した液晶表示装置Ｎｏ．１１０〜１１６、１１８〜１２４、１２６〜１３２、１３４〜１４０、１４２〜１４８、１５０〜１５６、１５８〜１６４、１６６〜１７２、１７４〜１８０、１８２〜１８８よりも劣る結果となった。

今回の測定において、塗膜の残留溶媒量を本発明の規定内として付与熱量を増加して作製した、光学補償フィルムＮｏ．Ｎｏ．１−１０〜１−１６、１−１８〜１−２４、１−２６〜１−３２、１−３４〜１−４０、１−４２〜１−４８、１−５０〜１−５６、１−５８〜１−６４、１−６６〜１−７２、１−７４〜１−８０、１−８２〜１−８８を使用した液晶表示装置Ｎｏ．１１０〜１１６、１１８〜１２４、１２６〜１３２、１３４〜１４０、１４２〜１４８、１５０〜１５６、１５８〜１６４、１６６〜１７２、１７４〜１８０、１８２〜１８８は、視野角、コントラスト共に優れた性能を示すことが確認された。

今回の測定において、塗膜の残留溶媒量を本発明の規定内として、付与熱量を増加しないで作製した、光学補償フィルムＮｏ．１−１７、１−２５、１−３３、１−４１、１−４９、１−５７、１−６５、１−７３、１−８１を使用した液晶表示装置Ｎｏ．１１７、１２４、１３３、１４１、１４９、１５７、１６４、１７３、１８１は本発明の光学補償フィルムＮｏ．１−１０〜１−１６、１−１８〜１−２４、１−２６〜１−３２、１−３４〜１−４０、１−４２〜１−４８、１−５０〜１−５６、１−５８〜１−６４、１−６６〜１−７２、１−７４〜１−８０、１−８２〜１−８８を使用した液晶表示装置Ｎｏ．１１０〜１１６、１１８〜１２４、１２６〜１３２、１３４〜１４０、１４２〜１４８、１５０〜１５６、１５８〜１６４、１６６〜１７２、１７４〜１８０、１８２〜１８８
よりも劣る結果となった。本発明の有効性が確認された。

実施例２
実施例１で作製した光学補償フィルムＮｏ．１−１〜１−８８を使用し、図１（ｂ）に示す構成でＩＰＳモード型液晶表示装置を作製した。この場合偏光板の第２の保護フィルムの面内遅相軸と、液晶セルの配向方向は実質的に直交している。

作製したＩＰＳモード型液晶表示装置を用いて、実施例１と同様にして視野角及びコントラストの評価を行ったところ、実施例１を再現し本発明の液晶表示装置は優れた視野角及びコントラストを有していることを確認し、本発明の有効性が確認された。

実施例３
（セルロースエステルフィルムの作製）
実施例１と同じセルロースエステルフィルムを作製した。

（光学補償フィルムの製造）
図２に示す製造装置を使用し、準備したセルロースエステルフィルムの上に実施例１と同じ重合性液晶化合物層形成用塗布液を以下に示す条件で塗布し、表５に示す様に乾燥工程の付与熱量を増加させる前の過程での塗膜の溶媒の蒸発速度を変え重合性液晶化合物層を形成した後、以下に示す条件で付与熱量増加部、配向工程、硬化工程を経て位相差層を有する光学補償フィルムを作製しＮｏ．３−１〜３−８とした。

乾燥速度の変化は、乾燥温度を変化させることで行った。乾燥速度は（株）チノー製のＩＲ膜厚計（ＩＲＭ−Ｖ）により、搬送される支持体上の塗布液の膜厚を測定し、その膜厚の変化から塗布液中の溶剤の蒸発速度を算出し（具体的には式：｛膜厚変化［μｍ］×比重［−］｝／膜厚変化所要時間（ｍｉｎ）、１μｍ厚みは密度１０００ｋｇ／ｍ^３の場合に１ｇ／ｍ^２に相当）、単位時間における単位面積あたりの溶剤の蒸発速度［ｇ／ｍ^２・ｍｉｎ］を乾燥速度とした。尚、測定に際しては、溶剤の揮発とともに乾燥速度が変化し、また乾燥温度の変化によっても乾燥速度が変化するため、１０秒毎に塗布液の膜厚を測定し、乾燥速度を算出した。その結果を元にし、各工程内での中心値を示す。

（塗布）
実施例１と同じ重合性液晶化合物層形成用塗布液をエクストルージョン型ダイコータにより、幅１３２５ｍｍに断裁したセルロースエステルフィルム上に５μｍの厚みで塗布した。セルロースエステルフィルムの搬送速度は１０ｍ／ｍｉｎとした。

（乾燥・付与熱量増加処理）
この塗膜を乾燥工程へ搬送し、乾燥工程で温度を調整することで付与熱量を増加させる前の重合性液晶化合物層形成用塗膜の残留溶媒量を０．００２ｇ／ｍ^２とした後、付与熱量増加部で４００℃・ｓｅｃの熱量を付与し重合性液晶化合物層をセルロースエステルフィルム上に形成し、配向工程へ搬送した。乾燥後の重合性液晶化合物層の膜厚は、１．６５μｍであった。

尚、塗布液を塗布する工程で塗布液が塗布された樹脂フィルムが、乾燥工程に入るまでの塗膜の溶媒の蒸発速度を１０ｇ／ｍ^２・ｍｉｎ、塗布液を塗布する工程で塗布液が塗布された樹脂フィルムが、乾燥工程に入るまでの時間を６ｓｅｃとした。熱量、塗膜の残留溶媒量の測定及び重合性液晶化合物層の膜厚は実施例１と同じ方法で求めた。

（配向工程）
実施例１と同じ条件で処理することで重合性液晶化合物層中の重合性液晶化合物を配向させた。

（硬化工程）
実施例１と同じ条件で処理することで硬化前の重合性液晶化合物層中の棒状の重合性液晶化合物を硬化させ配向状態を固定した重合性液晶化合物層（位相差層）を得た。

《液晶表示装置の作製》
作製した光学補償フィルムＮｏ．３−１〜３−８の性能評価を行うため、図１（ａ）に示す液晶表示装置を実施例１と同じ方法で作製しＮｏ．３０１〜３０８とした。

《評価》
作製した各ＩＰＳモード型液晶表示装置Ｎｏ．３０１〜３０８を用いて光学補償フィルムＮｏ．４−１〜４−８の視野角、コントラストを実施例１と同じ方法で測定し評価した結果を表６に示す。

乾燥工程の付与熱量を増加させる前の過程での塗膜の溶媒の蒸発速度が１５ｇ／ｍ^２・ｍｉｎ〜１００ｇ／ｍ^２・ｍｉｎにして作製した配向状態を固定した重合性液晶化合物層（位相差層）を有する光学補償フィルムを使用した液晶表示装置Ｎｏ．３０２〜３０７は何れも視野角、コントラスト共に良好な結果を示し、本発明の有効性が確認された。

実施例４
（セルロースエステルフィルムの作製）
実施例１と同じセルロースエステルフィルムを作製した。

（光学補償フィルムの製造）
図２に示す製造装置を使用し、準備したセルロースエステルフィルムの上に実施例１と同じ重合性液晶化合物層形成用塗布液を以下に示す条件で塗布し、表７に示す様に塗布液を塗布する工程で塗布液が塗布された樹脂フィルムが、乾燥工程に入るまでの時間を変え以下に示す条件で乾燥工程（付与熱量増加部を含む）、配向工程、硬化工程を経て位相差層を有する光学補償フィルムを作製しＮｏ．４−１〜４−８とした。塗布液を塗布する工程で塗布液が塗布された樹脂フィルムが、乾燥工程に入るまでの時間変化は、搬送速度を変化させることで行った。

（塗布）
実施例１と同じ重合性液晶化合物層形成用塗布液をエクストルージョン型ダイコータにより、幅１３２５ｍｍに断裁したセルロースエステルフィルム上に５μｍの厚みで塗布した。セルロースエステルフィルムの搬送速度は１０ｍ／ｍｉｎとした。

（乾燥・熱量付与処理）
この塗膜を乾燥工程へ搬送し、乾燥工程で温度を調整することで重合性液晶化合物層形成用塗膜の残留溶媒量を０．０５ｇ／ｍ^２とした後、付与熱量増加部で３００℃・ｓｅｃの熱量を付与し重合性液晶化合物層をセルロースエステルフィルム上に形成し、配向工程へ搬送した。乾燥後の重合性液晶化合物層の膜厚は、１．６５μｍであった。

尚、塗布液を塗布する工程で塗布液が塗布された樹脂フィルムが、乾燥工程に入るまでの塗膜の溶媒の蒸発速度を２０ｇ／ｍ^２・ｍｉｎ、乾燥工程の付与熱量を増加させる前の過程での塗膜の溶媒の蒸発速度を３０ｇ／ｍ^２・ｍｉｎとした。熱量、塗膜の残留溶媒量及び重合性液晶化合物層の膜厚は実施例１と同じ方法で求めた。

（配向工程）
実施例１と同じ条件で処理することで重合性液晶化合物層中の重合性液晶化合物を配向させた。

（硬化工程）
実施例１と同じ条件で処理することで硬化前の重合性液晶化合物層中の棒状の重合性液晶化合物を硬化させ配向状態を固定した重合性液晶化合物層（位相差層）を得た。

《液晶表示装置の作製》
作製した光学補償フィルムＮｏ．４−１〜４−８の性能評価を行うため、図１（ａ）に示す液晶表示装置を実施例１と同じ方法で作製しＮｏ．４０１〜４０８とした。

《評価》
作製した各ＩＰＳモード型液晶表示装置Ｎｏ．４０１〜４０８を用いて光学補償フィルムＮｏ．４−１〜４−８の視野角、コントラストを実施例１と同じ方法で測定し評価した結果を表８に示す。

塗布液を塗布する工程で塗布液が塗布された樹脂フィルムが、乾燥工程に入るまでの時間が１５．０ｓｅｃ以内にして作製した位相差層を有する光学補償フィルムを使用した液晶表示装置Ｎｏ．４０２〜４０７は何れも視野角、コントラスト共に良好な結果を示した。塗布液を塗布する工程で塗布液が塗布された樹脂フィルムが、乾燥工程に入るまでの時間が１７．０ｓｅｃにして作製した位相差層を有する光学補償フィルムを使用した液晶表示装置Ｎｏ．４０８は乾燥工程に入るまでの間に塗膜に外力等による僅かな温度ムラが生じ、実用上問題とならない程度の影響を、視野角、コントラスト共に受けた結果を示した。本発明の有効性が確認された。

液晶表示装置の構成を示す概略図である。 光学補償フィルムの製造装置の模式図である。 図２に示す乾燥工程における、塗布工程から送られて来る基材の温度変化及び、付与熱量の増加を開始する時の残留溶媒量の関係を示すグラフである。

符号の説明

１ａ、１ｂ 液晶表示装置
１０１、１０１′ 液晶セル
１０１ａ、１０１′ａ、１０１ｂ、１０１′ｂ ガラス基板
１０１ｃ、１０１′ｃ 液晶層
１０２、１０２′ 視認側偏光板
１０２ａ、１０３′ｂ 第１の保護フィルム
１０２ｂ、１０３′ａ 第２の保護フィルム
１０２ｃ、１０３′ｃ 位相差層
１０２ｄ、１０３′ｄ 第１の偏光膜
１０３、１０３′ バックライト側偏光板
１０３ａ、１０２′ｂ 第３の保護フィルム
１０３ｂ、１０２′ａ 第４の保護フィルム
１０３ｃ、１０２′ｃ 第２の偏光膜
２ 製造装置
２０１ フィルム供給工程
２０２ 塗布する工程
２０２ａ バックロール
２０２ｂ 塗布装置
２０３ 昇温乾燥する工程
２０４ 冷却する工程
２０４ａ 冷却ロール
２０４ｂ、２０４ｃ 表面温度検出器
２０５ 活性放射線を照射する工程
２０６ 回収工程
３ フィルム

Claims (7)

1. 樹脂フィルム上に棒状の重合性液晶化合物を有機溶媒に溶解させた塗布液を塗布する塗布工程と、前記塗布液が塗布され前記樹脂フィルムの上に形成された塗膜を乾燥する乾燥工程と、前記乾燥工程の後に、前記棒状の重合性液晶化合物を垂直配向させる配向工程と、前記塗膜に対し活性放射線を照射する硬化工程とを有する光学補償フィルムの製造方法において、
   前記乾燥工程は、乾燥部と、前記乾燥部での加熱温度よりも高温で加熱する付与熱量増加部とを有し、
   前記乾燥工程で前記塗膜の残留溶媒量が、０．２０ｇ／ｍ^２〜０．０００１０ｇ／ｍ^２の間で、付与熱量を増加させることを特徴とする、ＩＰＳモード型液晶表示装置用光学補償フィルムの製造方法。
2. 前記配向工程は、前記塗膜を冷却する工程である、請求項１に記載の光学補償フィルムの製造方法。
3. 前記付与熱量増加部は、前記棒状の重合性液晶化合物が等方相を呈するように前記塗膜を加熱する工程である、請求項１または２に記載の光学補償フィルムの製造方法。
4. 前記配向工程は、前記棒状の重合性液晶化合物を等方相から液晶相に変化させる工程である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の光学補償フィルムの製造方法。
5. 前記熱量は、式１）で示される熱量であり、該熱量が１００℃・ｓｅｃ〜１０００℃・ｓｅｃであることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の光学補償フィルムの製造方法。
   式１）熱量＝△Ｔ（熱量付与後の塗膜の温度−付与熱量を増加させる前の塗膜の温度）×ｔ（熱量付与時間）
6. 前記乾燥工程の付与熱量を増加させる前の過程での塗膜の溶媒の蒸発速度が１５．０ｇ／ｍ^２・ｍｉｎ〜１００．０ｇ／ｍ^２・ｍｉｎであることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の光学補償フィルムの製造方法。
7. 前記塗布工程で基材の上に塗布液が塗布されてから、該基材が前記乾燥工程に入るまでの時間が１５．０ｓｅｃ以内であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学補償フィルムの製造方法。

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