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JP5286393B2 - 発光素子、発光装置および発光素子の製造方法 - Google Patents
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発光素子、発光装置および発光素子の製造方法 Download PDF

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Description

本発明は、レーザ光の照射により蛍光を発生する蛍光体(発光部)を備えた発光素子、該発光素子を備えた発光装置、および、上記発光素子の製造方法に関する。
近年、励起光源として発光ダイオード(LED;Light Emitting Diode)や半導体レーザ(LD;Laser Diode)等の固体発光素子を用い、これらの励起光源から生じた励起光を、蛍光体を含む発光部に照射することによって発生する蛍光を照明光として用いる発光装置の研究が盛んになってきている。
このように固体発光素子を用いて蛍光体を励起する光源は、国際安全規格IEC60825−1や、国内においてはJIS C6802等で定められるアイセーフティが満足されなければならない。特に照明器具のような民生機器への応用においては、光源から放射される照明光が何らかの光学系を介して直接目に入射する場合にも失明する恐れのないクラス1レベルのアイセーフティが望まれる。
特に、アイセーフティを向上させるためには、照明器具の外部に放射されるレーザ光のアパレント光源サイズ(発光スポットサイズ)を大きくする必要がある。また、上記レーザ光のコヒーレンスを低減させる必要もある。
特許文献1には、円形基板におけるレーザ光照射側に薄い拡散層を形成し、該レーザ光照射側と対向する側に蛍光体が接合された発光ホイールが開示されている。
また、特許文献2には、レーザ光を拡散レンズで拡散し、拡散された拡散レーザ光を蛍光体に照射する技術が開示されている。
さらに、特許文献3には、半導体レーザから放射されるレーザ光束を反射板で散乱させる技術が開示されている。
また、特許文献4には、レーザ光を導光する導光部材の中心軸と一致する領域以外の領域に該導光部材を保護するキャップの開口部を設け、上記中心軸と一致する領域であるキャップの内壁にてレーザ光を拡散させ、コヒーレンス性の低いランダム光へと変化させている。
特開2010−256457号公報(2010年11月11日公開) 特開平7−282609号公報(1995年10月27日公開) 特開2005−208333号公報(2005年08月04日公開) 特開2008−28245号公報(2008年02月07日公開)
しかしながら、上記の特許文献1の発光ホイールでは、拡散機能を有していない円形基板に対して拡散層の層厚が非常に薄いため、これらを通過し、蛍光体に達するまでのレーザ光の発光スポットサイズの拡大効率が低いという問題点がある。
一方、上記の特許文献2の技術では、レーザ光を拡散レンズで拡散しているため、発光スポットサイズを大きくするためには、拡散レンズと蛍光体との間の距離をある程度大きくする必要があり、素子全体の設計の自由度が低いという問題点がある。
なお、上記の特許文献3の技術は、そもそもレーザ光の照射により発光部を励起する技術ではない。また、上記の特許文献4の技術は、キャップからコヒーレンス性の高い光を漏らさないための技術であり、発光スポットサイズを拡大する観点については、一切記載されていない。
本発明は、上記の問題点に鑑みなされたものであって、その目的は、発光部に達するまでのレーザ光の発光スポットサイズの拡大効率を高くし、かつ素子全体の設計の自由度を高くすることができる発光素子、該発光素子を備えた発光装置および上記発光素子の製造方法を提供することにある。
本発明の発光素子は、上記の課題を解決するために、レーザ光が照射されることにより蛍光を発生する発光部と、上記発光部のレーザ光が照射される側に配置され、当該レーザ光に対して透光性を有する透光性部材とを備え、上記透光性部材は、内部を通過するレーザ光を等方的に散乱し、その発光スポットサイズを拡大する拡散構造を有していることを特徴とする。
上記の構成によれば、透光性部材の内部に拡散構造を設けているので、透光性部材である円形基板と、拡散機能を有する拡散層とを別々に設けた特許文献1の発光ホイールと比較して、発光部に達するまでの発光スポットサイズの拡大効率が高くなる。
また、上記の構成にて、発光スポットサイズを大きくするためには、拡散構造を有する透光性部材の層厚を厚くするだけで良いので、拡散レンズと蛍光体との間の距離をある程度大きくする必要がある上記の特許文献2の技術と比較して制約が少なく、素子全体の設計の自由度を高くすることができる。
以上より、発光部に達するまでのレーザ光の発光スポットサイズの拡大効率を高くし、かつ素子全体の設計の自由度を高くすることができる。
また、上記の構成によれば、透光性部材は、発光部のレーザ光が照射される側に配置されているので、透光性部材の内部を通過する間に、レーザ光は拡散(または散乱)され、発光スポットサイズが拡大された光として発光部に照射される。このため、透光性部材を介さず、直接レーザ光を発光部に照射する場合と比較して、発光部のごく一部が、極端に強く励起されたり、強く発光したりすることを抑制することができる。
さらに、発光部に照射され、蛍光に変換されなかったレーザ光は、再び拡散構造により散乱(または拡散)されるため、レーザ光の発光スポットサイズがより拡大されるため、目に対して安全な照明光を得ることができる。
また、本発明の発光素子は、上記の課題を解決するために、上記透光性部材の上記拡散構造は、上記発光部から発生した蛍光を等方的に散乱し、その発光スポットサイズを拡大する構造であることが好ましい。
上記構成によれば、拡散構造が発光部から発生した蛍光を等方的に散乱し、その発光スポットサイズを拡大する構造である。
よって、発光部のごく一部の極めて小さな個所(発光スポット)が、極端に強く励起されて強く発光した場合であっても、その個所から発せられた蛍光は、透光性部材の内部を通過する間に拡散(または散乱)され、発光スポットサイズが拡大された光として発光部から外部に放射されるため、目に対して安全な照明光を得ることができる。
また、本発明の発光素子は、上記の構成に加えて、上記レーザ光の照射方向に沿う上記透光性部材の厚みは、上記透光性部材の内部を通過して外部に放射されるレーザ光が、最大許容露光量以下の光となる厚みの1/2以上であることが好ましい。
上記構成によれば、発光部で反射し、透光性部材の内部を通過して外部に放射されるレーザ光が最大許容露光量以下の光となるので、より目に対して安全な照明光を得ることができる。
また、本発明の発光素子は、上記の構成に加えて、上記発光部の上記レーザ光が照射される側の面の最小径が、上記透光性部材の厚み以下であることが好ましい。
上記構成のように、発光部のレーザ光が照射される側の面の最小径が、透光性部材の厚み以下であれば、裏を返せば、透光性部材の厚みが、発光部のレーザ光が照射される側の面の最小径以上であれば、発光部から放射される蛍光がどのような状態の光であっても、アイセーフを実現することが可能となる。
また、本発明の発光素子は、上記の構成に加えて、上記透光性部材は、その母材とは異なる屈折率を有する散乱微粒子、および、気泡のいずれか一方を含んでいても良い。
上記の構成によれば、透光性部材における散乱微粒子または気泡の濃度や分布を調整することにより、透光性部材のレーザ光の散乱特性を調整することができる。
また、本発明の発光素子は、上記の構成に加えて、上記散乱微粒子または上記気泡の濃度が、上記透光性部材の上記レーザ光が照射される側で低くなっていても良い。
上記の構成によれば、透光性部材に入射したレーザ光が、散乱微粒子または気泡の存在により反射されて発光部に到達する量が必要以上に減少することを抑制することができる。
また、本発明の発光素子は、上記の構成に加えて、上記散乱微粒子または上記気泡の濃度が、上記透光性部材の上記発光部に近い側で低くなっていても良い。
上記の構成によれば、発光部から発生した蛍光が、透光性部材の発光部に近い側で散乱微粒子または気泡の存在により反射されるのを抑制することができる。
また、本発明の発光素子は、上記の構成に加えて、上記透光性部材の上記レーザ光が照射される光照射面の側に、上記レーザ光の反射率を低減させる反射防止構造が設けられていても良い。
上記構成によれば、光照射面の側に、レーザ光の反射率を低減させる反射防止構造を設けることで、空気と反射防止構造との界面におけるレーザ光の反射率を低下させることができる。
これにより、空気と透光性部材との界面でレーザ光の反射率が低下するので、レーザ光の発光部に対する照射効率が向上する。
なお、反射防止構造の例としては、光学薄膜(反射防止膜)を積層させたものや、後述する凹凸構造などを挙示することができる。
また、本発明の発光素子は、上記の構成に加えて、上記反射防止構造は、複数の凸部および複数の凹部の少なくとも一方が、上記レーザ光の上記光照射面における反射を低減させることが可能な間隔で配列する凹凸構造であっても良い。
上記構成によれば、光照射面の側に、複数の凸部および複数の凹部の少なくとも一方を、所定波長の励起光の光照射面における反射を低減させることが可能な間隔で配列する凹凸構造を形成することで、空気と凹凸構造との屈折率差が緩やかに変化し、空気と透光性基板との界面における励起光の反射率が顕著に低下する。
これにより、通常、大きな屈折率差を有する空気と透光性部材との界面でレーザ光がほとんど反射されないので、レーザ光の発光部に対する照射効率が向上する。
また、空気と透光性部材との界面における蛍光の反射率も顕著に低下する。
これにより、空気と透光性部材との界面で蛍光が反射され、透光性部材または発光部の内部に蛍光が滞留することがないので、蛍光の取り出し効率が向上する。
さらに、透光性部材の厚さの分だけ、光照射面と該光照射面に対向する面との間が離れている。言い換えれば、レーザ光が入射する側の凹凸構造が形成された屈折率界面(空気と透光性部材との界面のことを屈折率界面ということにする)と、発光素子の構成要素の中で一番の発熱源である発光部からの熱が透光性部材に伝導する熱的界面とが互いに分離されている。これにより、発光部から発生する熱により、凹凸構造が損傷することを防止することができる。よって、本発明の発光素子の上述した機能を長期間にわたって維持することができる。
よって、発光部の発光効率を高くし、その高い発光効率を長期間にわたって維持することができる。
ここで、「凸部」は、レーザ光の照射方向に伸びる突起、または、凹部と凹部との間でレーザ光の照射方向に対して局所的に盛り上がった部分のことである。「凹部」は、レーザ光の照射方向に対して深さを有する孔、または、凸部と凸部との間でレーザ光の照射方向に対して局所的に窪んだ部分のことである。
また、本発明の発光素子は、上記構成に加えて、上記凸部の付け根側から先端側の間に、上記光照射面に平行な断面の径が一定である個所が存在しても良いし、上記凸部の付け根側から先端側に向かう方向に対して、上記光照射面に平行な断面の径が拡大する個所が存在しても良いし、上記凸部の付け根側から先端側に向かう方向に対して、上記光照射面に平行な断面の径が縮小する個所が存在しても良い。
また、本発明の発光素子は、上記構成に加えて、上記複数の凹部の、それぞれの上記光照射面に垂直な方向に対する凹部深さ、および、それぞれの上記光照射面に平行な方向に対する凹部幅、が異なっていても良い。
また、本発明の発光装置は、上記構成に加えて、上記のいずれかの発光素子を備えた発光装置であって、上記レーザ光を、上記透光性部材に照射するレーザ光源を備えていても良い。
これにより、発光部の発光効率を高くし、その高い発光効率を長期間にわたって維持することができる発光装置を構成することができる。
また、本発明の発光装置は、上記構成に加えて、上記発光部に生じた熱を拡散させる熱伝導性基板を備え、上記発光部の上記レーザ光が照射される照射面と対向する側が、上記熱伝導性基板によって保持されていても良い。
これにより、発光部を熱伝導基板で保持することで、発光部の冷却効果が向上する。
また、本発明の発光装置は、上記構成に加えて、上記レーザ光を反射する反射部材を備え、上記発光部の上記レーザ光が照射される照射面と対向する側が、上記反射部材によって保持されていても良い。
これにより、発光部の内部を透過するレーザ光が反射部材で反射されるので、発光部の内部を透過するレーザ光の光路長が2倍となる。これにより、蛍光体の濃度を固定して、レーザ光の照射方向に対する発光部の厚さを1/2にしても、十分な発光効率を得ることができる。
また、本発明の発光装置は、上記構成に加えて、上記発光部から発生した蛍光を反射する光反射凹面を有する反射鏡を備え、上記発光部が、上記反射鏡の焦点の近傍に配置されていても良い。
これにより、本発明の発光素子を備える透過型発光装置を実現できる。
また、本発明の発光装置の製造方法は、上記の課題を解決するために、レーザ光が照射されることにより蛍光を発生する発光部と、上記発光部のレーザ光が照射される側に配置され、当該レーザ光に対して透光性を有する透光性部材とを備え、上記透光性部材は、内部を通過するレーザ光を等方的に散乱し、その発光スポットサイズを拡大する拡散構造を有している発光素子の製造方法であって、上記レーザ光を散乱する散乱微粒子または気泡を複数含む上記透光性部材を形成する透光性部材形成工程と、上記透光性部材の一方の表面の側に、上記発光部を配置する発光部配置工程とを、含んでいることを特徴とする。
上記方法によれば、透光性部材形成工程で、レーザ光を散乱する散乱微粒子または気泡を複数含む透光性部材を形成する。
また、発光部配置工程で、透光性部材の一方の表面の側に、上記発光部を配置する。
以上の方法により、発光部に達するまでのレーザ光の発光スポットサイズの拡大効率を高くし、かつ素子全体の設計の自由度を高くすることができる発光素子を製造することができる。
本発明の発光素子は、以上のように、レーザ光が照射されることにより蛍光を発生する発光部と、上記発光部のレーザ光が照射される側に配置され、当該レーザ光に対して透光性を有する透光性部材とを備え、上記透光性部材は、内部を通過するレーザ光を等方的に散乱し、その発光スポットサイズを拡大する拡散構造を有している構成である。
それゆえ、発光部に達するまでのレーザ光の発光スポットサイズの拡大効率を高くし、かつ素子全体の設計の自由度を高くすることができるという効果を奏する。
また、本発明の発光装置の製造方法は、以上のように、上記レーザ光を散乱する散乱微粒子または気泡を複数含む上記透光性部材を形成する透光性部材形成工程と、上記透光性部材の一方の表面の側に、上記発光部を配置する発光部配置工程とを、含んでいる方法である。
それゆえ、発光部に達するまでのレーザ光の発光スポットサイズの拡大効率を高くし、かつ素子全体の設計の自由度を高くすることができる発光素子を製造することができるという効果を奏する。
本発明の一実施形態である発光素子の構成を模式的に示す断面図である。 上記発光素子に関し、上記拡散構造の層厚と、上記透光性部材によるレーザ光の拡散機能との関係を説明するための説明図であり、(a)は、上記拡散構造の層厚が薄いときの様子を示し、(b)は、上記拡散構造の層厚が厚いときの様子を示す。 上記発光素子に関し、透光性部材の内部に形成する拡散構造の構成例を模式的に示す断面図であり、(a)は、上記拡散構造の一構成例を示し、(b)は、上記拡散構造の他の構成例を示し、(c)は、上記拡散構造のさらに他の構成例を示す。 上記発光素子に関し、透光性部材の光照射面の側に形成する反射防止構造の構成例を模式的に示す断面図であり、(a)は、上記反射防止構造の一構成例を示し、(b)は、上記反射防止構造の他の構成例を示し、(c)は、上記反射防止構造のさらに他の構成例を示し、(d)は、上記反射防止構造のさらに他の構成例を示し、(e)は、上記反射防止構造のさらに他の構成例を示し、(f)は、上記反射防止構造のさらに他の構成例を示す。 上記発光素子に関し、透光性部材の光照射面の側に形成する反射防止構造の他の構成例を模式的に示す断面図であり、(a)は、上記反射防止構造の一構成例を示し、(b)は、上記反射防止構造の他の構成例を示し、(c)は、上記反射防止構造のさらに他の構成例を示し、(d)は、上記反射防止構造のさらに他の構成例を示し、(e)は、上記反射防止構造のさらに他の構成例を示す。 本発明の他の実施形態である発光装置(反射型)の構成を模式的に示す断面図である。 本発明のさらに他の実施形態である発光装置(透過型)の構成を模式的に示す断面図である。 上記透光性部材に凹凸構造を形成するための工程を説明するための工程図であり、(a)は、出発材料の上記透光性部材を模式的に示し、(b)は、上記透光性部材の一方の表面上にレジスト層を形成したときの様子(レジスト層形成工程)を示し、(c)は、上記レジスト層を露光したときの様子(露光工程)を示し、(d)は、レジスト層の一部を除去し、露光部のみを残したときの様子(除去工程)を示す。 上記透光性部材に凹凸構造を形成するための工程を説明するための工程図であり、(a)は、上記露光部のみを残した上記透光性部材にエッチングを施すときの様子(エッチング工程)を示し、(b)は、上記エッチング工程が終了したときの上記透光性部材の様子を示す。 (a)は、半導体レーザの回路図を模式的に示したものであり、(b)は、半導体レーザの基本構造を示す斜視図である。 本発明の一実施形態であるレーザダウンライトが備える発光ユニットおよび従来のLEDダウンライトの外観を示す概略図である。 上記レーザダウンライトが設置された天井の断面図である。 上記レーザダウンライトの断面図である。 上記LEDダウンライトが設置された天井の断面図である。 上記レーザダウンライトおよび上記LEDダウンライトのスペックを比較するための図である。
本発明の一実施形態について図1〜図15に基づいて説明すれば、次の通りである。以下の特定の項目で説明する構成以外の構成については、必要に応じて説明を省略する場合があるが、他の項目で説明されている場合は、その構成と同じである。また、説明の便宜上、各項目に示した部材と同一の機能を有する部材については、同一の符号を付し、適宜その説明を省略する。
〔1.発光素子10aの構成〕
まず、図1に基づき、本発明の一実施形態である発光素子10aの構成について説明する。なお、図1は、発光素子10aの構成を模式的に示す断面図であり、各構成要素の実際の寸法を反映したものではない。
図1に示すように、発光素子10aは、透光性部材1および発光部2を備える。
<透光性部材1>
本実施形態の透光性部材1は、折れ曲がりのない平板状の部材であり、少なくとも所定波長のレーザ光L(励起光)に対して透光性を有している。
(アイセーフを実現するためのポイント)
ところで、アイセーフを実現するためのポイントは次に述べる2つである。
(1)1つ目は、観測者から見たときにレーザ光そのものの発光スポットが直接的および間接的に見えないことである。しかしながら、通常、発光部の屈折率は1.5以上であり、空気と発光部との界面で4%以上の表面反射を生じてしまう。結果として、間接的にレーザ光源が見えてしまうことになる。したがって、発光部に入射する励起光の表面反射を防止することがポイントになる。
(2)2つ目は、発光部の表面の反射が無くなったとしても、発光部の一部が局所的に強く光るような状態を防止することがアイセーフを実現する上でのもう一つのポイントである。
後述するように、上記(1)を実現するため、発光素子10aでは、透光性部材1の光照射面SUF1の側に反射防止構造gを設けている。これにより、発光部を介して間接的にレーザ光源が見えてしまうという事態を回避することができる。
一方、上記(2)を実現するために、発光部の表面の一部だけを強く励起しない構成とする、および/または、発光部からの蛍光を拡散させながら外部に放出する構造(拡散構造)を反射防止構造と発光部との間に設けている。これにより、発光部に向けて照射されたレーザ光は、拡散構造を通過する間に拡散(または散乱)されて、発光点サイズ(発光スポットサイズ)が拡大された光(励起光)として発光部を励起する。このため、発光部のごく一部が極端に強く励起されたり、発光したりすることがない。また、発光部から放射される蛍光に関しても、発光部の励起のされ方が一様でなかったとしても、蛍光が拡散構造を通過する間に拡散(または散乱)されて一様な照明光として外部に放射することができるようになる。なお、発光部から放射される光が蛍光だけでなく、蛍光に変換されなかった励起光(レーザ光)に関しても、同様に散乱(または拡散)されるため、光源サイズ(発光点サイズ)が拡大され、目に対して安全な照明光を得ることができる。
(微小散乱領域MP)
透光性部材1は、母材101と、母材101の内部に分布する複数の微小散乱領域MP(拡散構造;散乱微粒子または気泡)とを少なくとも含む。なお、本実施形態の発光素子10aでは、母材101の底面に嵌合孔を設け発光部2を嵌合(接合)させているが、透光性部材1は、このような構成に限定されない。例えば、母材101と発光部2との間は、接合されていなくても良く、母材101と発光部2との間に隙間があっても良い。
なお、発光素子10aが、励起光(例えば、レーザ光L)の一部を照明光として利用する擬似白色システムである場合、図1に示すように発光部2の周囲が全て覆われている方が好ましい。一方、励起光の一部を照明光として利用しないシステムでは、発光部2の一部だけを覆っていても良い。
透光性部材1は、複数の微小散乱領域MPにより、内部を通過するレーザ光Lを等方的に拡散(散乱)させることにより、コヒーレント性(空間的コヒーレンシ)が高く発光スポットサイズ(発光点サイズ)の極めて小さなレーザ光を、コヒーレント性が低く、人体への影響がほとんどない発光スポットサイズの大きな光に変換する。すなわち、複数の微小散乱領域MPは、発光素子10aの発光スポットサイズ(アパレント光源サイズ)を拡大させる拡散構造である。
図1の吹き出しの内部には、複数の微小散乱領域MPにより、発光スポットLS1が、発光スポットLS2に拡大される様子を模式的に示す。
ここで、透光性部材1に微小散乱領域MPを含ませる意義について説明する。
小さなスポットの光源から放射された高いエネルギーの光が人間の眼に入射した場合、網膜上では、その小さなスポットのサイズにまで光源像が絞られるため、結像個所におけるエネルギー濃度が極めて高くなってしまうことがある。例えば、半導体レーザから放射されるレーザ光は、発光点サイズが10μm角よりも小さい場合があり、そのような光源から放射される光が、直接に、あるいはレンズやミラーといった光学部材を介したとしても小さな発光点が直接に見える形で目に入射すると、網膜上の結像個所が損傷してしまうことがある。
これを回避するためには、発光スポットサイズをある有限のサイズ以上(具体的には例えば1mm×1mm以上)に拡大する必要がある。
典型的な高出力の半導体レーザにおける発光スポットサイズは、例えば1μm×10μmである。面積としては10μm=1.0×10−5mmとなる。すなわち、発光点が1mmの光源と比較すると、同じエネルギーの光であったとしても、網膜上に結像される領域のエネルギー濃度は、10倍も高くなってしまう。
発光スポットサイズを拡大させることにより、網膜上の結像サイズを拡大させることができるようになるため、同じエネルギーの光が眼に入射した場合であっても、網膜上のエネルギー濃度を低減させることが可能となる。
発光スポットサイズを拡大させる際には、光源そのものの発光点を視認できないようにする必要がある。これを行うために、本実施形態の発光素子10aでは、透光性部材1に複数の微小散乱領域MPを設け、この複数の微小散乱領域MPによってレーザ光Lを等方的に拡散させている。
なお、発光スポットサイズの拡大については、レーザ光源に限らず、LED光源においても考慮することができる。ただし、レーザ光は、LED光源から出射される光よりも単色性、すなわち波長が揃っているため、波長の違いによる網膜上での結像のボケ(いわゆる色収差)がなく、LED光源から出射される光よりも危険である。このため、レーザ光源から出射された光を照明光として利用する発光装置においては、発光スポットサイズの拡大について特に考慮することが好ましい。
以上のように、発光素子10aでは、透光性部材1の内部に複数の微小散乱領域MPを設けているので、円形基板(透光性部材)と、拡散機能を有する拡散層とを別々に設けた上記の特許文献1の発光ホイールと比較して、発光部2に達するまでの発光スポットサイズの拡大効率が高くなる。
また、発光素子10aでは、発光スポットサイズを大きくするためには、拡散構造を有する透光性部材1の厚みHを厚くする(より厳密には、拡散距離Ddを大きくする)だけで良いので、拡散レンズと蛍光体との間の距離をある程度大きくする必要がある上記の特許文献2の技術と比較して制約が少なく、発光素子10a全体の設計の自由度を高くすることができる。
以上より、発光部2に達するまでのレーザ光Lの発光スポットサイズの拡大効率を高くし、かつ発光素子10a全体の設計の自由度を高くすることができる。
また、透光性部材1は、発光部2のレーザ光Lが照射される側に配置されているので、透光性部材1の内部を通過する間に、レーザ光Lは拡散(または散乱)され、発光スポットサイズが拡大された光として発光部2に照射される。このため、透光性部材1を介さず、直接レーザ光Lを発光部2に照射する場合と比較して、発光部2のごく一部が、極端に強く励起されたり、強く発光したりすることを抑制することができる。
さらに、発光部2に照射され、蛍光に変換されなかった〔発光部2の表面SUF2(レーザ光が照射される側の面)や発光部2に含まれる蛍光体粒子の表面で反射した〕レーザ光Lは、再び拡散構造により散乱(または拡散)されるため、レーザ光Lの発光スポットサイズがより拡大されるため、目に対して安全な照明光を得ることができる。
なお、透光性部材1の拡散構造は、発光部2から発生した蛍光を等方的に散乱し、その発光スポットサイズを拡大する構造であっても良い。
これにより、発光部2のごく一部の極めて小さな個所(発光スポット)が、極端に強く励起されて強く発光した場合であっても、その個所から発せられた蛍光は、透光性部材1の内部を通過する間に拡散(または散乱)され、発光スポットサイズが拡大された光として発光部2から外部に放射されるため、目に対して安全な照明光を得ることができる。
(母材101)
透光性部材1の母材101は、石英(SiO:屈折率n=1.45)、BK−7(ボロシリケート・クラウン−7;光学ガラス:屈折率n=1.51)、低融点ガラス(例えば、屈折率n=1.76)などの無機ガラスやシリコーン樹脂(屈折率n=1.43)などの透明樹脂にて構成する。また、後述するように、母材101の熱伝導率を20W/mK以上とするために、サファイア(Al)、マグネシア(MgO)、窒化ガリウム(GaN)、スピネル(MgAl)を用いても良い。
その他、透光性部材1に使用される透明樹脂としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などを用いることができ、例えば、ポリカーボネート樹脂、アクリル系樹脂、フッ素系アクリル樹脂、シリコーン系アクリル樹脂、エポキシアクリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、シクロオレフィンポリマー、メチルスチレン樹脂、フルオレン樹脂、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリプロピレン、アクリルニトリルスチレン共重合体、アクリロニトリルポリスチレン共重合体などを用いることができる。
(微小散乱領域MP)
微小散乱領域MPは、母材101とは異なる屈折率を有する散乱微粒子、および、気泡(空気の屈折率n=1.0)のいずれか一方を含む。これにより、透光性部材1における散乱微粒子または気泡の濃度や分布を調整することにより、透光性部材1のレーザ光Lの散乱特性を調整することができる。
(散乱微粒子)
また、散乱微粒子としては、光を拡散(または散乱)させる効果を有する粒子であり、透光性部材1を製造するときの熱に耐えられるものであれば、どのようなものを用いてもよく、例えば、無機物または樹脂からなる透明微粒子を使用することができる。無機物からなる透明微粒子としては、例えば、ダイヤモンド(屈折率n=2.42)の他、フュームドシリカ、石英(SiO:屈折率n=1.45)、アルミナ(Al:屈折率n=1.76)、酸化マグネシウム(MgO:屈折率n=1.72)、チタニア(TiO;二酸化チタン:屈折率n=2.52)もしくは酸化ジルコニウム(屈折率n=2.4)などの酸化物からなる微粒子、または、炭酸カルシウムおよび硫酸バリウムなどの他の微粒子を使用することができる。
樹脂からなる散乱微粒子としては、アクリル樹脂、スチレン樹脂、アクリルスチレン樹脂もしくはそれらの架橋体;メラミンホルムアルデヒド樹脂;ポリテトラフルオロエチレン、ペルフルオロアルコキシ樹脂、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、ポリフルオロビニリデンおよびエチレンテトラフルオロエチレン共重合体などのフッ素樹脂またはシリコーン樹脂からなる粒子を使用することができる。
ここで、後述するように、レーザ光Lの波長は、350nm(ナノメートル)以上、700nm以下程度であることから、平均粒子径(粒径)がレーザ光Lの波長と同程度のオーダ(すなわち100nmオーダ)である散乱微粒子は、光の散乱に寄与し得る。裏を返せば、光散乱性を発現するためには、散乱微粒子の粒径が100nm以上である必要がある。また、拡散機能を好適に発現させるためには、個々の散乱微粒子の粒径は、レーザ光Lの波長よりも大きなオーダであることが好ましく、700nm以上であることが好ましい。従って、散乱微粒子の平均粒径は700nm以上であることが好ましく、1μm程度であることがより好ましい。
(気泡)
微小散乱領域MPとして気泡を用いても良い。母材101の内部に形成された気泡の内部表面が光の乱反射を生じさせ、散乱微粒子を分散させた場合と同等以上の拡散機能を発現させることができる。
(熱可塑性樹脂)
なお、母材101として熱可塑性樹脂を用いても良い。このような母材101として、白色PET(ポリエチレンテレフタレート)や白色PP(ポリプロピレン)などを挙げることができる。白色PETは、PETと相溶性のない樹脂やチタニア(TiO)、硫酸化バリウム(BaSO)、炭酸カルシウム(CaCO)のようなフィラーをPETに分散させた後、該PETを2軸延伸法で延伸することにより、該フィラーの周りに気泡を発生させて形成する。
なお、熱可塑性樹脂からなる母材101は、少なくとも1軸方向に延伸されていればよい。少なくとも1軸方向に延伸させれば、フィラーの周りに気泡を発生させることができるためである。
熱可塑性樹脂としては、例えば、アクリロニトリルポリスチレン共重合体、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレン−2、6−ナフレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、シクロヘキサンジメタノール共重合ポリエステル樹脂、イソフタル酸共重合ポリエステル樹脂、スポログリコール共重合ポリエステル樹脂、フルオレン共重合ポリエステル樹脂等のポリエステル系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、脂環式オレフィン共重合樹脂等のポリオレフィン系樹脂、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリアミド、ポリエーテル、ポリエステルアミド、ポリエーテルエステル、ポリ塩化ビニル、シクロオレフィンポリマー、およびこれらを成分とする共重合体、またこれら樹脂の混合物などを用いることができ、特に限定されることはない。
(母材と微小散乱領域MPとの屈折率差)
次に、母材101と微小散乱領域MPとの屈折率差について説明する。一般に、隣接する2つの物質間の屈折率差が大きいほどこれらの物質間を透過する光はこれらの物質の界面で反射されやすい。このため、微小散乱領域MPの屈折率nと母材101の屈折率nとの差が大きい方がレーザ光Lを効果的に散乱させることができる。このような観点から、母材101と微小散乱領域MPとの屈折率nの差は、少なくとも0.25以上であることが好ましい。
なお、母材101として無機ガラスを用いた場合、無機ガラスの屈折率nは、1.5〜1.8程度であるため、微小散乱領域MPの屈折率は、1.7〜2.0程度以上であることが好ましく、より確実に拡散効果を得るためには、2.0以上であることが好ましい。
例えば、酸化ジルコニウムの屈折率nは、2.4であり、ダイヤモンドの屈折率nは、2.42である。このように屈折率nの高い物質を微小散乱領域MPとして用いることによりレーザ光Lの拡散効果を高めることができる。
また、酸化ジルコニウムの融点は2715℃であり、ダイヤモンドの融点は3550℃であるので、一般的な透光性部材1の溶融温度程度では融けたり変質したりすることはない。この点からも、酸化ジルコニウムおよびダイヤモンドは、微小散乱領域MPとして母材101中に分散させる材料として好適である。
また、微小散乱領域MPは、透光性の高いものが好ましい。透光性が低い場合には、微小散乱領域MPが、後述する半導体レーザ(レーザ光減)3からのレーザ光Lおよび発光部2(に含まれる蛍光体)が発する蛍光を遮るか、または、吸収する可能性がある。このため、レーザ光Lの利用効率の観点から微小散乱領域MPの透光性は高いことが好ましい。
酸化ジルコニウムおよびダイヤモンドは、透光性が高いため、透光性の観点からも微小散乱領域MPとして好適である。
ちなみに、従来、拡散微粒子として多用されているシリカは、屈折率n=1.46であり、無機ガラス中(屈折率:1.5〜1.8)での散乱効果は低い。また、同じ目的で使用されるY(イットリア;屈折率n=1.91)は、屈折率nが2未満であり、低融点ガラスの屈折率とあまり変わらないため、低融点ガラス中では拡散効果が低い。
一方、屈折率差が小さいほど、拡散構造中の微小散乱領域MP(散乱微粒子または気泡)による反射率は小さくなる。例えば、典型的なガラス材料(屈折率n=1.5)中にアルミナ(Al:屈折率n=1.76)の粉末を分散させてなる拡散構造の場合、屈折率差は0.26となる。このとき反射率は0.6%である。このように屈折率差が0.25以上、0.5未満の近傍の場合、反射率はさほど高くないので、微小散乱領域MPの濃度は、20〜35体積%(Vol%)が好ましい。
しかしながら、屈折率差が0.5以上の場合は、微小散乱領域MPの濃度は5〜20体積%が好ましい。これは、屈折率差が小さい(=反射率が小さい)場合、散乱(または拡散)の確率を高くするために濃度を濃くする必要があり、屈折率差が大きければ、反射率も大きくなるので、微小散乱領域MPの濃度をさほど高くする必要がなくなるためである。
なお、微小散乱領域MPの濃度は、(拡散構造を有しているにも拘らず)光がダイレクトに発光部2から放射されるような極めて低濃度の場合を除くと、発光スポットサイズの拡大とは、ほとんど無関係となる。よって、詳細は後述するが、発光スポットサイズを拡大するためには、拡散構造の厚み(=図1に示す拡散距離Dd)を大きくする必要がある。
なお、拡散機能の程度は、例えば、ヘイズ値や平行線透過率などで規定される。透光性部材1のヘイズ値は、その厚みにも依存するが25%以上であり、かつ、全光線透過率は、75%以上であることが好ましい。
ここで、ヘイズ値=〔(全光線透過率―平行線透過率)/全光線透過率〕*100である。
(拡散距離について)
拡散距離Ddは、アイセーフを実現するため必要な発光部サイズSと同じ長さ以上であることが好ましい。
上述したように、透光性部材1中には、微小散乱領域MPが分散されており、光は等方的に散乱される。ここで、等方的に散乱されるとは、拡散構造の厚み方向(z方向)に光が進む確率と、拡散構造の厚み方向と垂直な方向(x方向)に光が進む確率が等しい状態をいう。
例えば、図2に示すように、光の進む向きをx方向およびz方向のように表すものとする。なお、図2以降の図においては、煩雑さを避けるため、必要に応じて反射防止構造gを太い破線で示す。
このとき、発光部2から発せられた光は、x方向に進む距離と同じ距離だけz方向にも進む。例えば、図2(a)に示す発光部2の中心Aから発せられた光は、x方向に発光部2のサイズ(発光部サイズS)の半分の長さS/2だけ進む間に、z方向にも長さS/2だけ進む(すなわち拡散される)ことになる。
一方、図2(b)に示す発光部2の端Bから発せられる光は、上記と同様に考えれば、拡散距離Dd=発光部サイズSのときに、拡散構造の内部を進みながら発光スポットサイズがLだけ拡大されるといえる。
発光部サイズSは、任意であるが、アイセーフの観点から必要とされる最小限のサイズを発光部2が有しているものとすると、拡散距離Ddは発光部サイズSと同じか、それ以上である必要がある。
裏を返せば、発光部サイズSがいくらであったとしても、その明るさ・その波長・そのサイズから要求されるアイセーフ上必要な発光スポットサイズと同じ厚みの拡散構造を有していれば、アイセーフを実現することができる。
なお、発光部サイズSがx方向の面内で同じ(すなわち正方形の)場合とは限らない。この場合、発光部サイズSがアイセーフ上問題ないサイズとなるよう形成されている場合は、短辺方向(短手方向)のサイズと同じ厚みを拡散構造が有していれば良い。なぜなら、その発光部2は、短い側であってもアイセーフを実現するサイズとなっているからである。なお、発光部2がアイセーフ上必要な大きさを満たしていない場合は、拡散距離Ddは、アイセーフ上必要な大きさの下限値以上であれば良い。
(最大許容露光量について)
次に、別の観点では、透光性部材1の厚みH(より厳密には、拡散距離Dd)は、透光性部材1の内部を通過して外部に放射されるレーザ光Lが、最大許容露光量以下の光となる厚みの1/2以上であることが好ましい。
これにより、発光部2で反射し、透光性部材1の内部を通過して外部に放射されるレーザ光Lが最大許容露光量以下の光となるので、より目に対して安全な蛍光(照明光)を得ることができる。
(発光部のサイズとの関係)
また、さらに別の観点では、少なくとも発光部2の表面SUF2の最小径が、透光性部材1の厚みH以下であることが好ましく、表面SUF2の最大径が、透光性部材1の厚みH以下であることがより好ましい。裏を返せば、透光性部材1の厚みHが、少なくとも発光部2の表面SUF2の最小径以上(より好ましくは最大径以上)であれば、発光部2から放射される蛍光がどのような状態の光であっても、アイセーフを実現することが可能となる。
(微小散乱領域MPの分布形態について)
次に、図3に基づき、透光性部材1中における微小散乱領域MPの分布形態について説明する。なお、透光性部材1における微小散乱領域MPの分布形態は一様であっても良いが、ここで、説明する分布形態を採用しても良い。
図3は、透光性部材1の内部に形成する拡散構造の構成例を模式的に示す断面図であり、図3(a)は、上記拡散構造の一構成例を示し、図3(b)は、上記拡散構造の他の構成例を示し、図3(c)は、上記拡散構造のさらに他の構成例を示す。
図3(a)に示すように、微小散乱領域MPの濃度は、透光性部材1のレーザ光Lが照射される光照射面SUF1の側で低くなっていても良い(濃度d1<濃度d2)。これにより、透光性部材1に入射したレーザ光が、散乱微粒子または気泡の存在により反射されて発光部2に到達する量が必要以上に減少することを抑制することができる。
次に、図3(b)に示すように、微小散乱領域MPの濃度は、透光性部材1の発光部2に近い側(発光部2の表面SUF2の側)で低くなっていても良い(濃度d1<濃度d2)。これにより、発光部2から発生した蛍光が、透光性部材1の発光部2に近い側で散乱微粒子または気泡の存在により反射されるのを抑制することができる。
また、図3(c)に示すように、発光部2の表面SUF2’からの蛍光の側方放射(例えば、紙面に対して左右方向、ならびに、手前向きおよび奥向きの放射)を考慮する場合、微小散乱領域MPの濃度は、側方放射部が薄く、その周辺部が濃い方が好ましい。
(反射防止構造)
次に、反射防止構造gについて説明する。図1に示すように、透光性部材1の一方(レーザ光Lが照射される側)の表面である光照射面SUF1上(または光照射面SUF1の側)には、複数の微細な突起(凸部)PJで構成されるいわゆる、反射防止構造g(凹凸構造)が形成されている。なお、本実施形態では、反射防止構造gが複数の微細な突起PJからなる構成について説明するが、反射防止構造gは、これに限られず、例えば、後述するように、複数の微細孔(凹部)PHからなる構成であっても良い。また、反射防止構造gの例としては、このような微細構造の他、樹脂で構成される反射防止膜(光学薄膜)を挙示することができる。なお、反射防止膜の構成材料としては、照射されるレーザ光の波長において反射防止可能な材料であればどのような材料であっても良いが、低屈折率樹脂[フッ素系樹脂等]、例えば、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)を例示することができる。また、反射防止膜の層厚は、100nm〜100μm程度とし、ウエット工程(スクリーン印刷等)により透光性部材1の光照射面SUF1の側に形成する。
ここで、「凸部」は、図1に示す反射防止構造gのようなレーザ光Lの照射方向に伸びる突起PJ、または、凹部と凹部との間で励起光の照射方向に対して局所的に盛り上がった部分のことである(図4(d)に示す最近接の微細孔PH間の盛り上がった部分のような形態も含む)。また、「凹部」は、レーザ光Lの照射方向に対して深さを有する微細孔PH、または、凸部と凸部との間で励起光の照射方向に対して局所的に窪んだ部分のことである(最近接の突起PJ間の窪んだ部分のような形態も含む)。
各突起PJ(または各微細孔PH)同士の間隔d(反射を低減させることが可能な間隔)は、5nm以上3000nm以下であることが好ましく、さらに好ましくは5nm以上1500nm以下であることがこのましい。
間隔dが5nm未満であると、反射防止構造gの形成が困難になる。ここで、突起PJ(凸部)の光照射面SUF1に平行な方向に対する幅を凸部幅と呼ぶことにする。このとき、反射を低減させることが可能な間隔≒凸部幅である。
後述するように突起PJの高さhの好ましい上限は、3000nmであるから、間隔dが3000nmを超えると、突起PJのアスペクト比(凸部高さ/凸部幅)が1より小さくなるので、十分な反射率の低下効果が得られにくくなる。また、レーザ光Lの波長は、350nm(ナノメートル)以上、1000nm以下であることが好ましい。
なぜなら、発光部2に利用できる蛍光体は350nm以上で一般的に効率よく励起できるためである。
但し、励起光源として半導体レーザを用いる場合、波長が350nm未満のレーザ光Lを発生する半導体レーザを作製することは現状では難しい。一方、波長が1000nmを超えるレーザ光Lにて効率よく蛍光体を励起し、可視光領域の蛍光を得ることができない。
また、半導体レーザの発振波長は450nm近傍が好ましい。また、発振波長としては350nm以上470nm程度であってもよい。なぜなら、この波長範囲は蛍光体を効率よく励起でき、発光装置の効率向上が実現できるからである。
各突起PJの高さh(光照射面SUF1の垂直方向に対する凸部高さ)は、3000nm以下であることが好ましい。各突起PJの高さが、3000nmを超えると、十分な反射率の低減効果が得られにくくなるとともに、突起PJの形成が困難になる。なお、反射防止構造gのその他の特徴については、後述する。
次に、透光性部材1の光照射面SUF1に対向する側には、発光部2が配置され、発光部2と熱的に(すなわち、熱エネルギーの授受が可能なように)接続されている。なお、本実施形態では、透光性部材1と発光部2とは、接着剤を用いて接合(接着)されているものとして説明するが、透光性部材1と発光部2との接合方法は、接着に限られず、例えば、融着などであっても良い。
また、接着剤としては、いわゆる有機系の接着剤や、ガラスペースト接着剤が好適であるが、これに限られない。
透光性部材1は、以上のような形状および、発光部2との接続形態を有することで、発光部2の発光効率が向上し、発光部2から透光性部材1を透過する蛍光の取り出し効率が向上する。また、透光性部材1によれば、発光部2を保持しつつ、発光部2から発生する熱を発光素子10aの外部に放熱することができるので、発光部2の冷却効率が向上する。
透光性部材1の熱伝導率は、発光部2の熱を効率良く逃がすために、20W/mK(ワット/メートル・ケルビン)以上であることが好ましい。この場合、透光性部材1は、発光部2(1W/mK)よりも20倍も高い熱伝導率を有しており、発光部2において生じた熱を効率良く吸収することにより発光部2を冷却できる。
また、光照射面SUF1に入射したレーザ光Lは、透光性部材1を透過させて発光部2に照射させる。そのため、透光性部材1は、透光性の優れた材質からなるものであることが好ましい。
以上の点を考慮すると、母材101の材質は、上述した石英、BK−7、低融点ガラスなどの無機ガラスや、シリコーン樹脂などの透明樹脂の他、サファイア(Al)、マグネシア(MgO)、窒化ガリウム(GaN)、スピネル(MgAl)を用いても良い。これらの材料を用いることにより、熱伝導率20W/mK以上を実現できる。
但し、マグネシアは、潮解性をもつため、その潮解性により反射防止構造gが損傷する可能性がある。よって、透光性部材1の構成材料としてマグネシアを選択する場合は、透光性部材1の周囲を乾燥空気で満たす。例えば、図示しない筐体に発光素子10aを格納して乾燥空気で満たして密封するか、後述するハーフパラボラ型反射鏡(反射鏡)4hとレーザカットフィルタ8a、または、パラボラ型反射鏡(反射鏡)4と光学部材8bの内部に格納して乾燥空気を満たして密封する。これにより、潮解性により反射防止構造gが損傷することを防止することができる。あるいは、水分の透過性が低い材料で反射防止構造gを形成し、透光性部材1の周囲を全て反射防止構造gで覆うという方法もある。
また、図1に示す透光性部材1の厚みH(より厳密には、拡散距離Dd)は、30μm以上、1.0mm以下が好ましく、より好ましくは、0.2mm以上、1.0mm以下であることがより好ましい。
後述する反射型発光装置(発光装置)20の場合、後述する透過型発光装置(発光装置)30と比較すると、透光性部材1に対する放熱効果は高いが、透光性部材1の厚みHが、30μmよりも小さいと発光部2の放熱を十分にできず、発光部2が劣化してしまう可能性がある。また、反射防止構造gが、発光部2から発生した熱による影響を受けて損傷する可能性もある。
但し、透過型発光装置30でも、0.2mm以上であれば、発光部2の放熱を十分にでき、発光部2の劣化を防止できる。また、反射防止構造gが、発光部2から発生した熱による影響を受けて損傷することを防止できる。
一方、透光性部材1の厚みHが、1.0mmを超えると、発光部2に向けて照射されたレーザ光Lが、透光性部材1において吸収される率が大きくなり、レーザ光Lの利用効率が顕著に下がる。
また、透光性部材1を適切な厚みHで発光部2に接合させることにより、特に発光部2での発熱が1W(ワット)を超えるような極めて強いレーザ光Lを照射しても、その発熱が迅速、かつ、効率的に放熱され、発光部2が損傷(劣化)してしまうことを防止できる。
なお、上述したように、透光性部材1は、折れ曲がりのない平板状のものであって良いが、折れ曲がった部分や湾曲した部分を有していてもよい。ただし、透光性部材1と発光部2とを接着する場合、発光部2が接着される部分は、接着の安定性の観点から平面(板状)であることが好ましい。
(微細構造について)
次に、上述した微細構造について説明する。微細構造について端的に表現すれば、光照射面SUF1に対するレーザ光Lの反射を低減させることが可能な間隔dで、複数の微細な突起PJまたは複数の微細孔PHを密に配列した凹凸構造のことである。このような微細構造の一例としては、モスアイ構造が良く知られている。しかしながら、ここで言う微細構造は、モスアイ構造に限られない。
図1に示すように、本実施形態の透光性部材1では、反射防止構造gを構成する複数の突起PJは、レーザ光Lの波長よりも小さい間隔dで光照射面SUF1に沿って密に配列されているものとして説明するが、ナノメートルオーダの間隔であれば、レーザ光Lの波長よりも大きい間隔で光照射面SUF1に沿って密に配列されていても良い。例えば、波長が400nm程度の光に対しては、500nm程度の間隔でも反射率は低下する。以上の構成によれば、光照射面SUF1に対するレーザ光Lの反射率が低下する。
なお、図1では、紙面に沿う方向の間隔dのみを示しているが、紙面に対して垂直な方向の間隔を定義することもできる。
本実施形態では、煩雑さを避けるため、紙面に沿う方向の間隔dは、紙面に対して垂直な方向の間隔と同一であり、複数の突起PJ(または複数の微細孔PH)が、光照射面SUF1上で一定の周期性をもってドットマトリクス状に配列しているものとして説明する。しかしながら、各突起PJの配列はこれに限られず、例えば、紙面に沿う方向の間隔dが、紙面に対して垂直な方向の間隔と異なっていても良い。
また、反射防止構造gの配列は、上述の例のように周期性をもった配列に限られず、各突起PJの、光照射面SUF1に沿った配列が、少なくとも一方向に対して周期性を持たないものであっても良い。これにより、各突起PJの配列が周期性を持たない方向に対しては、レーザ光Lの回折光の発生が抑制されるので、透光性部材1に対するレーザ光Lの反射率Rがより低下する。
また、反射防止構造gの配列は、周期性をほとんど持たないランダムな配列であっても良い。ここで、ランダムとは、少なくとも異なる2つの方向に対して周期性を持たないことを言い、周期性を持たない方向の数が多いほどランダム性は高い。
ランダム性が高い程、レーザ光Lの回折光の発生が抑制されるので、透光性部材1に対するレーザ光Lの反射率Rがより低下する。
次に、各突起PJの形状について説明する。図1に示す例では、突起PJは、円錐、もしくは、角錐状の錐形状となっている。しかしながら、各突起PJの形状はこれに限られず、様々な形状が考えられる。例えば、このような形状として、釣鐘状(またはトロイデ(鐘状火山)状)、コニーデ(成層火山)状などを例示することができる。
(微細構造の好ましい形状)
次に、図5および6に基づき、微細構造(反射防止構造g)の具体例について説明する。
まず、図5の(a)に示す例では、反射防止構造gは、突起PJの付け根側から先端側まで、常に突起PJの光照射面SUF1に垂直な方向に対する径が一定となっている。
次に、図5の(b)に示す例では、突起PJの付け根側から先端付近まで常に突起PJの光照射面SUF1に垂直な方向に対する径が一定となっているが、それから先は、連続的に断面の径が縮小している。ここで、「連続的」とは、突起PJが伸びる方向に対する、光照射面SUF1に平行な突起PJの断面の径の変化が「滑らか」であり、該断面の径の変化に顕著な「とび」がないことを意味する。
次に、図5の(c)に示す例では、凸部高さh1〜h4(突起PJの付け根から先端までの長さ)がそれぞれ異なる突起PJが林立している。
次に、図5の(d)に示す例では、反射防止構造gは、複数の凸部の集まりではなく、複数の微細孔PHの集まりとなっている。この例のように、反射防止構造gは、複数の微細孔PHの集まりであっても良い。
なお、図5の(d)に示す例では、光照射面SUF1に垂直な方向に対する凹部深さdep1〜dep4のそれぞれが異なっており、光照射面SUF1に平行な方向に対する凹部幅w1〜w4のそれぞれも異なっている。
次に、図5の(e)に示す例では、突起PJの付け根側から先端側に向けて突起PJの径(凸部幅)が連続的に拡大している。
次に、図5の(f)に示す例では、突起PJの付け根側から先端近傍に向けて突起PJの径(凸部幅)が連続的に拡大し、途中から突起PJの径が連続的に縮小している。
以上説明したように、反射防止構造gは、様々な形態が考えられるが、図5の(a)〜(f)に示した形態に限られない。
例えば、図6に示すように突起PJの径が連続的に縮小する形態も考えられる。そこで、図6の(a)〜(e)に、その代表的な反射防止構造gの例を示す。図6は、透光性部材1の光照射面SUF1の側に形成する反射防止構造gの構成例を模式的に示す断面図である。
図6の(a)は、反射防止構造gの一構成例(錐形状、平面部分あり)を示し、図6の(b)は、反射防止構造gの他の構成例(錐形状、平面部分なし)を示す。
また、図6の(c)は、反射防止構造gのさらに他の構成例(コニーデ形状、平面部分あり)を示し、図6の(d)は、反射防止構造gのさらに他の構成例(氷柱状、平面部分なし)を示し、図6の(e)は、反射防止構造gのさらに他の構成例(釣鐘状、平面部分なし)を示す。
図6に示すように、反射防止構造gの形成条件により突起同士の間に平面部分があるものと、無いものが形成される。また、突起の形状が円錐形状か角錐形状か、または、釣鐘状かというような、突起自体の形状にも多数の種類がある。
なお、突起PJの形状としては、図6の(b)、(d)および(e)に示すような平面部分がないように突起PJが形成されているもの方がより好ましい。平面部分があると、この部分については空気からある物質(ガラスやサファイアなど)への屈折率の変化は、「滑らか」にならず、「とび」ができるため、反射防止・反射低減効果が小さくなることがある。
以上のような形状の複数の突起PJを、光照射面SUF1上に、間隔dで密に配列することにより、図1の右側に示すグラフのように、空気と反射防止構造gの組合せによる屈折率nが、空気の屈折率n1(座標x3の位置)から透光性部材1の屈折率n2(座標x2の位置)まで滑らか(緩やか)に変化し、透光性部材1に対するレーザ光Lの反射率Rが顕著に低下する。なお、x2≦x≦x1の範囲では、屈折率nは、当然ながら、透光性部材1の屈折率n2に等しく一定値となる。一方、x≧x3の範囲では、屈折率nは、当然ながら、空気の屈折率n1に等しく一定値となる。
なお、空気の屈折率n1は、ほぼ真空の屈折率とみなすことができ、1である。一方、透光性部材1の構成材料としてサファイアを採用した場合の屈折率n2は、1.785である。
一般に、異なる屈折率nを持つ物体間の界面での光の反射率R(%)は、界面を構成する2つの物質の屈折率nを(n1、n2)と定義すると、
R=〔(n1−n2)^2/(n1+n2)^2〕×100・・・(1)
となる。
上式(1)は、屈折率差Δn(=n1−n2)の小さい物質同士の界面では反射率Rは小さくなり、逆に、屈折率差Δnの大きい物質同士の界面では反射率Rは大きくなるということを示している。言い換えれば、光は物質同士の界面での屈折率差Δnを感じ取って、その差の大小によって反射率を変えているとも言える。
ここで、例えば、上述した反射防止構造gを有する透光性部材1に入射させるときを考えると、レーザ光Lの感じる屈折率nは、滑らかに(徐々に)変わっていくことになり、レーザ光Lはそこには屈折率差Δnがないと感じて進んでいく。言い換えれば、屈折率差Δnがない、すなわち反射が生じないということになる。このため、透光性部材1の光照射面SUF1によってレーザ光Lがほとんど反射されないので、レーザ光Lの発光部2に対する照射効率が向上する。
また、透光性部材1内を透過または通過する蛍光が光照射面SUF1から空気へ出るときについても同様に、透光性部材1から空気への屈折率差Δnがその界面にあたかも存在しないようになるので透光性部材1から空気への光の取り出し効率は良くなる。すなわち、透光性部材1から空気への蛍光の取り出し効率が向上する。
例えば、サファイアと空気との、通常の平面的な界面では、7.9%の表面反射が発生する。この表面反射を、サファイアで構成された透光性部材1の光照射面SUF1上に反射防止構造gを形成することによりほぼ0%にすることができる。
さらに、透光性部材1の厚みHの分だけ光照射面SUF1とその反対側の発光部2の表面SUF2との間が離れている。言い換えれば、空気と透光性部材1との界面、すなわち、レーザ光Lが入射する側の反射防止構造gが形成された通常であれば大きな屈折率差を有するはずである屈折率界面と、発光素子の構成要素の中で一番の発熱源である発光部2からの熱が透光性部材1に伝導する熱的界面とが互いに分離されている。これにより、発光部2から発生する熱により、反射防止構造gが損傷することを防止することができる。よって、本実施形態の発光素子10aの上述した機能を長期間にわたって維持することができる。
なお、本実施形態の透光性部材1を構成するサファイア(融点:2050℃)、マグネシア(融点:2850℃)、窒化ガリウム(融点:少なくとも1000℃以上)、スピネル(融点:2130℃)などは、いずれも融点が高いため、レーザ光Lが照射されることにより発光部2が高温になったとしても、初期の形状を保ち続けることができる。
また、反射防止構造gに設けられた凹凸により透光性部材1の表面積が実質的に大きくなるので、本実施形態の透光性部材1を用いれば、発光部2において発生した熱の放熱性が高まる効果もある。
<発光部2>
(発光部2の組成)
次に、発光部2は、レーザ光Lが照射されることにより蛍光を発生するものであり、レーザ光Lを受けて蛍光を発生する蛍光体を含んでいる。より、具体的には、発光部2は、封止材としての低融点の無機ガラス(n=1.760)の内部に蛍光体が分散されている。
無機ガラスと蛍光体との割合は、例えば、10:1程度であるがこのような割合に限られるものではない。また、発光部2は、蛍光体を押し固めたものであってもよい。
封止材は、本実施形態の無機ガラスに限定されず、いわゆる有機無機ハイブリッドガラス(HBG)や、シリコーン樹脂等の樹脂材料であってもよい。
次に、透光性部材1と発光部2との屈折率差Δnは、0.35以下であることが好ましい。
封止材としてシリコーン樹脂等の樹脂材料を選択した場合、発光部2の屈折率nは1.5程度(下限)であり、100%酸窒化物蛍光体を用いて発光部2を作製した場合、発光部2の屈折率nは2.0程度である。
一方、透光性部材1として、サファイアやマグネシア、窒化ガリウム、スピネルを採用した場合の屈折率nは、凡そ1.5〜2.0程度の範囲内にある。そこで、想定される、発光部2および透光性部材1の屈折率nが、共に1.5〜2.0程度であるとすると、一方の屈折率nが1.5であるとき、屈折率差Δnが0.35(すなわち、他方の屈折率nが1.85)であればその界面での反射率Rは1%となる。
また、一方の屈折率nが2.0の時、屈折率差Δnが0.35(すなわち、他方の屈折率nは1.65)であれば、その反射率Rは0.92%となる。
よって、透光性部材1と発光部2との屈折率差Δnが、0.35以下であれば、透光性部材1と発光部2との間の界面の反射率Rを1%以下にすることができる。
次に、透光性部材1の屈折率nは、1.65以上であることが好ましい。上述したように、発光部2の屈折率nの上限が2.0であるとすると、透光性部材1の屈折率nが1.65以上であれば、屈折率n=1.5〜2.0の発光部2に対して屈折率差Δn≦0.35を満たすことができる。
なお、本実施形態で、発光部2の封止材として無機ガラスを用いたのは、その屈折率n(=1.760)が、サファイアからなる透光性部材1の屈折率n2(=1.785)に非常に近いため、両者の界面では反射がほとんど発生しないからである。なお、サファイアと無機ガラスとの界面の反射率は0.005%とほぼゼロである。
このため、発光素子10aでは、上述した反射防止構造gを有する透光性部材1(母材101をサファイアで構成した場合)と発光部2(無機ガラス:蛍光体=10:1)とを組合せることにより、空気から透光性部材1を経由して発光部2に至るまでの間、ほぼ反射率0%のまま、レーザ光Lが発光部2に到達する。よって、発光部2に対するレーザ光Lの照射効率がさらに向上する。また、発光部2の表面SUF2から反射防止構造gの頂部(各突起PJの先端を含む平面)に至るまでの間、ほぼ反射率0%のまま、蛍光が反射防止構造gの頂部に到達する。よって、発光部2から透光性部材1を透過する蛍光の取り出し効率もさらに向上する。
なお、本実施形態の透光性部材1に用いられるサファイアと発光部2に用いられる無機ガラスとの、それぞれの物理的特性について纏めると、以下の表のようになる。
Figure 0005286393
(蛍光体)
次に、発光部2に含まれる蛍光体は、例えば、窒化物系または酸窒化物系の蛍光体であり、青色、緑色および赤色に発光する蛍光体のいずれか1つ以上が無機ガラスに分散されている。
また、上記蛍光体は、黄色の蛍光体、または、緑色の蛍光体と赤色の蛍光体との混合物である。黄色の蛍光体とは、560nm以上590nm以下の波長範囲にピーク波長を有する蛍光を発生する蛍光体であって、YAG(Y‐Al‐Garnet)系や酸窒化物系の蛍光体である。緑色の蛍光体とは、510nm以上560nm以下の波長範囲にピーク波長を有する蛍光を発生する蛍光体である。赤色の蛍光体とは、600nm以上680nm以下の波長範囲にピーク波長を有する蛍光を発生する蛍光体である。
例えば、後述する半導体レーザ3として、発振波長が、405nm(青紫色)の半導体レーザを用いると、発光部2から発生する蛍光は、複数の色が混合され白色光となる。
(蛍光体の種類)
次に、発光部2は、窒化物系、酸窒化物系、もしくはガーネット系の蛍光体、または、III−V族化合物半導体ナノ粒子蛍光体を含んでいることが好ましい。これらの材料は、極めて強いレーザ光(高出力および高光濃度)に対しての耐性が高い。
代表的な窒化物系もしくは酸窒化物系の蛍光体として、サイアロン蛍光体と通称されるものがある。サイアロン蛍光体とは、窒化ケイ素のシリコン原子の一部がアルミニウム原子に、窒素原子の一部が酸素原子に置換された物質である。窒化ケイ素(Si)にアルミナ(Al)、石英(SiO)および希土類元素などを固溶させて作ることができる。
一方、半導体ナノ粒子蛍光体の特徴の一つは、同一の化合物半導体(例えばインジュウムリン:InP)を用いても、その粒子径をナノメートルサイズに変更することにより、量子サイズ効果によって発光色を変化させることができる点である。例えば、InPでは、粒子サイズが3〜4nm程度のときに赤色に発光する(ここで、粒子サイズは透過型電子顕微鏡(TEM)にて評価した)。
また、この半導体ナノ粒子蛍光体は、半導体ベースであるので蛍光寿命が短く、励起光のパワーを素早く蛍光として放射できるので高いパワー、高いパワー濃度の励起光に対して耐性が強いという特徴もある。これは、この半導体ナノ粒子蛍光体の発光寿命が10ns(ナノ秒)程度と、希土類を発光中心とする通常の蛍光体材料に比べて5桁も小さいためである。
さらに、上述したように、発光寿命が短いため、レーザ光Lの吸収と蛍光体の発光とを素早く繰り返すことができる。その結果、強いレーザ光Lに対して高効率を保つことができ、蛍光体からの発熱を低減させることができる。
よって、発光部2が熱により劣化(変色や変形、変質等)するのを、より抑制することができる。これにより、励起光の出力が高い発光素子を励起光源として用いる場合に、発光素子10aの寿命が短くなるのをより抑制することができる。
(発光部2の形状・サイズ)
次に、発光部2の形状および大きさは、例えば、直径2.0mmおよび厚さ1mmの円柱形状である。また、発光部2は、円柱形状でなく、直方体であってもよい。例えば、3mm×1mm×1mmの直方体である。
ここで必要とされる発光部2の厚さは、発光部2における蛍光体と封止材との割合に従って変化する。発光部2における蛍光体の含有量が多くなれば、ある含有量まではレーザ光Lが白色光に変換される効率が高まるため発光部2の厚さを薄くできる。発光部2を薄くすれば透光性部材1への放熱効果も高まる効果があるが、あまり薄くするとレーザ光Lが蛍光に変換されず外部に放射される恐れがあり、蛍光体でのレーザ光Lの吸収の観点からすると発光部2の厚さは蛍光体の粒径の少なくとも10倍以上あることが好ましい。この観点からするとナノ粒子蛍光体を用いた場合の発光部2の厚さは0.01μm以上であればよいことになるが、封止材中への分散等、製造プロセスの容易性を考慮すると10μm以上、すなわち0.01mm以上が好ましい。
このため、窒化物系もしくは酸窒化物系の蛍光体を用いた発光部2の厚みとしては、0.2mm以上、2mm以下が好ましい。ただし、蛍光体の含有量を極端に多くした場合(典型的には蛍光体が100%)、厚さの下限はこの限りではない。
また、上述した発光部2のサイズおよび形状の他に、例えば、一辺が10mmの正方形の底面を有し、厚さが0.3mmの発光部2を用い、励起光として例えば直径1mmや2mmのビーム径をもつレーザ光Lを発光部2に照射することでも高輝度かつ高光束の発光部2を実現することができる。
<半導体レーザ3>
半導体レーザ3は、励起光を発生する励起光源として機能するものである。半導体レーザ3から励起光としてのレーザ光が発振される。なお、励起光源として半導体レーザ3を1つのみ用いてもよいが、複数の半導体レーザ3を用いても良い。高出力のレーザ光Lを得るためには、複数の半導体レーザ3を用いる方が容易である。
また、半導体レーザ3は小型であるので、励起光源として半導体レーザ3を用いることによって、半導体レーザ3と発光部2からなる発光装置自体もより小型にすることができ、発光装置の応用製品の範囲の自由度が高くなり、また、この発光装置を用いた製品のデザインの設計の自由度が高くなる。
半導体レーザ3は、1チップに1つの発光点を有するものであり、例えば、405nm(青紫色)のレーザ光を発振し、出力1.0W、動作電圧5V、電流0.6Aのものであり、直径5.6mmのパッケージに封入されているものである。半導体レーザ3が発振するレーザ光は、405nmに限定されず、350nm以上470nm以下の波長範囲にピーク波長を有するレーザ光であればよい。
なお、350nmより小さい波長のレーザ光を発振する良質な短波長用の半導体レーザ3を作製することが可能であれば、本実施の形態の半導体レーザ3として、350nmより小さい波長のレーザ光を発振するように設計された半導体レーザを用いることも可能である。
また、本実施形態では、励起光源として半導体レーザ3を用いているが、励起光源は、半導体レーザ以外のレーザ光源から構成されていても良い。例えば、気体の原子、イオン、分子などのエネルギー準位を利用するガスレーザ、有機色素分子である染料などの分子をアルコールなどの液体に溶かして用いる液体レーザ、誘導放出を起すイオンを固体結晶に含む固体レーザなどであっても良い。
また、このように、半導体レーザ3やそれ以外のレーザ光源を用いるようにすることで、非常に高いパワー、かつ、非常に高いパワー濃度のレーザ光Lを得ることができるため、発光部2から高輝度かつ高光束の照明光を取り出すことができるようになる。また、レーザ光Lが入射する側の反射防止構造gが形成された屈折率界面と、発光素子10aの構成要素の中で一番の発熱源である発光部2からの熱が透光性部材1に伝導する熱的界面とが互いに分離されているため反射防止構造gも損傷することもない。
また、本実施形態では、励起光源として半導体レーザ3を用いたが、半導体レーザ3の代わりに、LEDチップ(発光ダイオード)を用いることも可能である。LEDチップは小型であるので、LEDチップを励起光源として用いることによって、LEDチップと発光部2からなる発光装置自体を小型にすることができ、発光装置の応用製品の範囲の自由度が高くなり、加えて、この発光装置を用いた製品のデザインの設計の自由度が高くなる。また、励起光が入射する側の反射防止構造gが形成された屈折率界面と、発光素子10a〜10dの構成要素の中で一番の発熱源である発光部2からの熱が透光性部材1に伝導する熱的界面とが互いに分離されており、励起された蛍光体から発生した熱は透光性部材1に逃げるために蛍光体の環境温度を下げることができるので、蛍光体の環境温度の上昇による発光部2の効率の低下を抑制することができるため、発光装置の小型化と低消費電力化を実現できる。
次に、半導体レーザ3の基本構造について説明する。図10(a)は、半導体レーザ3の回路図を模式的に示したものであり、図10(b)は、半導体レーザ3の基本構造を示す斜視図である。同図に示すように、半導体レーザ3は、カソード電極23、基板22、クラッド層113、活性層111、クラッド層112、アノード電極21がこの順に積層された構成である。
基板22は、半導体基板であり、本願のように蛍光体を励起する為の青色〜紫外の励起光を得る為にはGaN、サファイア、SiCを用いることが好ましい。一般的には、半導体レーザ用の基板の他の例として、Si、GeおよびSiC等のIV属半導体、GaAs、GaP、InP、AlAs、GaN、InN、InSb、GaSbおよびAlNに代表されるIII−V属化合物半導体、ZnTe、ZeSe、ZnSおよびZnO等のII−VI属化合物半導体、ZnO、Al、SiO、TiO、CrOおよびCeO等の酸化物絶縁体、ならびに、SiNなどの窒化物絶縁体のいずれかの材料が用いられる。
アノード電極21は、クラッド層112を介して活性層111に電流を注入するためのものである。
カソード電極23は、基板22の下部から、クラッド層113を介して活性層111に電流を注入するためのものである。なお、電流の注入は、アノード電極21・カソード電極23に順方向バイアスをかけて行う。
活性層111は、クラッド層113およびクラッド層112で挟まれた構造になっている。
また、活性層111およびクラッド層の材料としては、青色〜紫外の励起光を得る為にはAlInGaNから成る混晶半導体が用いられる。一般に半導体レーザの活性層・クラッド層としては、Al、Ga、In、As、P、N、Sbを主たる組成とする混晶半導体が用いられ、そのような構成としても良い。また、Zn、Mg、S、Se、TeおよびZnO等のII−VI属化合物半導体によって構成されていてもよい。
また、活性層111は、注入された電流により発光が生じる領域であり、クラッド層112およびクラッド層113との屈折率差により、発光した光が活性層111内に閉じ込められる。
さらに、活性層111には、誘導放出によって増幅される光を閉じ込めるために互いに対向して設けられる表側へき開面114・裏側へき開面115が形成されており、この表側へき開面114・裏側へき開面115が鏡の役割を果す。
ただし、完全に光を反射する鏡とは異なり、誘導放出によって増幅される光の一部は、活性層111の表側へき開面114・裏側へき開面115(本実施の形態では、便宜上表側へき開面114とする)から出射され、励起光L0となる。なお、活性層111は、多層量子井戸構造を形成していてもよい。
なお、表側へき開面114と対向する裏側へき開面115には、レーザ発振のための反射膜(図示せず)が形成されており、表側へき開面114と裏側へき開面115との反射率に差を設けることで、低反射率端面である、例えば、表側へき開面114より励起光L0の大部分を発光点116から照射されるようにすることができる。
クラッド層113・クラッド層112は、n型およびp型それぞれのGaAs、GaP、InP、AlAs、GaN、InN、InSb、GaSb、およびAlNに代表されるIII−V属化合物半導体、ならびに、ZnTe、ZeSe、ZnSおよびZnO等のII−VI属化合物半導体のいずれの半導体によって構成されていてもよく、順方向バイアスをアノード電極21およびカソード電極23に印加することで活性層111に電流を注入できるようになっている。
クラッド層113・クラッド層112および活性層111などの各半導体層との膜形成については、MOCVD(有機金属化学気相成長)法やMBE(分子線エピタキシー)法、CVD(化学気相成長)法、レーザアブレーション法、スパッタ法などの一般的な成膜手法を用いて構成できる。各金属層の膜形成については、真空蒸着法やメッキ法、レーザアブレーション法、スパッタ法などの一般的な成膜手法を用いて構成できる。
〔2.反射型発光装置20の構成〕
次に、図6に基づき、本発明の他の実施形態である反射型発光装置20について説明する。図6は、反射型発光装置20の構成を模式的に示す断面図である。
図6に示すように、反射型発光装置20は、上述した透光性部材1、上述した発光部2、上述した半導体レーザ3、ハーフパラボラ型反射鏡4h、熱伝導性部材4p、およびレーザカットフィルタ8aを備える。
なお、本実施形態で説明する構成以外の構成については、上述したとおりであるので、ここでは、ハーフパラボラ型反射鏡4h、熱伝導性部材(反射部材)4pおよびレーザカットフィルタ8aについてのみ説明する。
<ハーフパラボラ型反射鏡4h>
ハーフパラボラ型反射鏡4hは、パラボラ型の反射鏡(例えば、以下で説明するパラボラ型反射鏡4参照)を、光軸(回転軸)を含む平面によって半分に切断した形状を有している。なお、発光部2は、ハーフパラボラ型反射鏡4hの焦点の近傍に配置することが好ましい。
<窓部6>
次に、半導体レーザ3は、ハーフパラボラ型反射鏡4hの外部に配置されており、ハーフパラボラ型反射鏡4hには、レーザ光Lを透過または通過させる窓部6が形成されている。この窓部6は、開口部であってもよいし、レーザ光Lを透過可能な透明部材を含むものであってもよい。例えば、レーザ光Lを透過し、白色光(発光部2の蛍光)を反射するフィルターを設けた透明板を窓部6として設けてもよい。この構成では、発光部2の蛍光が窓部6から漏れることを防止できる。
以上の構成によれば、ハーフパラボラ型反射鏡4hの外部から、窓部6を通して発光部2にレーザ光を照射できる。それゆえ、半導体レーザ3の配置の自由度を高めることができ、例えば、発光部2の光照射面に対するレーザ光Lの照射角度を好ましい角度に設定することが容易になる。
なお、本実施形態のハーフパラボラ型反射鏡4hでは、反射鏡の形状の一例として、パラボラを、回転軸を含む平面で切断することによって得られる部分曲面であるハーフパラボラ形状としたが、反射鏡の形状はこれに限定されない。
例えば、反射鏡の形状は、パラボラであっても良いし、回転楕円面の一部の部分曲面や半球面であってもよい。すなわち、上記反射鏡は、回転軸を中心として図形(楕円、円、放物線)を回転させることによって形成される曲面の少なくとも一部をその反射面に含んでいるものであればよい。
<熱伝導性部材4p>
図6に示すように、熱伝導性部材4pの上部には、発光部2が接合されている。これにより、透光性部材1と熱伝導性部材4pとで発光部2の周囲を取り囲むことで、発光部2の冷却効果が向上する。
なお、発光部2は、熱伝導性部材4pとは、熱的に接合している。接合するための材料・方法としては、例えば、熱伝導性のグリスを用いて接合してもよいし、分散媒の無機ガラスに蛍光体を分散させた発光部2を作製する際に、無機ガラスが金属に融着することを利用して接合してもすれば良い。
次に、熱伝導性部材4pの構成材料は、発光部2から発生する熱を拡散させる熱伝導性を有するものであれば、どのような材料であっても良いが、金属またはセラミックスが好ましい。金属は、熱伝導率が高いのでより熱伝導性部材4pの放熱効果が期待できる。
次に、発光部2の内部を透過するレーザ光Lは、熱伝導性部材4pと発光部2の界面で反射する。これにより、発光部2の内部を透過するレーザ光Lが、上記界面で反射するので、発光部2の内部を透過するレーザ光Lの光路長が2倍となる。これにより、発光部2に含まれる蛍光体の濃度を固定して、レーザ光Lの照射方向に対する発光部2の厚さを1/2にしても、十分な発光効率を得ることができる。
<レーザカットフィルタ8a>
次に、レーザカットフィルタ8aは、ハーフパラボラ型反射鏡4hの光反射凹面SUF3の開口部に設けられており、反射型発光装置20を密封している。発光部2から発生した蛍光、もしくは、ハーフパラボラ型反射鏡4hによって反射された蛍光は、レーザカットフィルタ8aを通って反射型発光装置20の前方へ出射される。
レーザカットフィルタ8aは、発光部2から発生した蛍光、もしくは、光反射凹面SUF3で反射した蛍光を透過する透光性を少なくとも有していれば良い。
また、レーザカットフィルタ8aは、半導体レーザ3からのレーザ光Lの波長の光を遮断するとともに、発光部2から発生した蛍光、もしくは、光反射凹面SUF3で反射した蛍光を透過する材質で形成する。
発光部2を透過するコヒーレントなレーザ光Lは、そのほとんどがインコヒーレントな蛍光に変換される。しかし、何らかの原因でレーザ光Lの一部が変換されない場合も考えられる。このような場合でも、レーザカットフィルタ8aによってレーザ光Lの波長の光を遮断することにより、レーザ光Lが外部に漏れることを防止できる。
なお、レーザカットフィルタ8aは必須ではなく、励起光源からの励起光と、発光部2から発生する蛍光とを混合させて擬似白色光を発生させるシステムでは、不要である。
〔3.透過型発光装置30の構成〕
次に、図7に基づき、本発明のさらに他の実施形態である透過型発光装置(発光装置)30について説明する。図7は、透過型発光装置30の構成を模式的に示す断面図である。
図7に示すように、透過型発光装置30は、上述した透光性部材1、発光部2および半導体レーザ3の他、パラボラ型反射鏡(反射鏡)4、基板5、ネジ7L,7R、光学部材8bを備える。なお、透光性部材1、発光部2および半導体レーザ3については、上述したとおりなので、ここでは説明を省略する。なお、図7は、発光素子10a〜10dが宙に浮いているような図となっているが、本実施形態では、パラボラ型反射鏡4に対して、図示しない金属製(または透明樹脂製)の支持部材などで固定されているものとする。
<パラボラ型反射鏡4>
パラボラ型反射鏡4は、発光部2から発生した蛍光を反射する光反射凹面SUF3を有し、発光部2から発生した蛍光を、光反射凹面SUF3で反射することにより、所定の立体角内を進む光線束を形成するものである。
本実施形態の光反射凹面SUF3の形状は、いわゆる回転放物面を採用しているため、図3に示すように、光軸(回転軸)を含む平面によって切断された断面形状は、放物線(パラボラ)となる。
また、光反射凹面SUF3における回転放物面の底には、後述する窓部6が形成されており、発光部2は、パラボラ型反射鏡4の焦点の近傍に配置されている。
パラボラ型反射鏡4の材質については特に問われないが、反射率を考えると銅やSUS(ステンレス鋼)を用いて反射鏡を作製した後、銀メッキおよびクロメートコートなどを施すことが好ましい。その他、パラボラ型反射鏡4を、アルミニウムを用いて作製し、酸化防止膜を表面に付与してもよいし、樹脂性のパラボラ型反射鏡4本体の表面に金属薄膜を形成してもよい。
<基板5>
次に、基板5は、半導体レーザ3から出射されたレーザ光Lを通す開口部を有する板状の部材であり、この基板5に対してパラボラ型反射鏡4がネジ7L,7Rによって固定されている。発光部2は、パラボラ型反射鏡4の焦点の近傍に配置されており、開口部の中心と焦点とはほぼ一致している。そのため、半導体レーザ3から発生したレーザ光Lは、基板5の開口部を通って、透光性部材1の反射防止構造gが形成された光照射面SUF1に入射し、透光性部材1の内部を透過して、発光部2に到達する。
これにより、レーザ光Lが、発光部2の内部を透過し、その透過光が発光部2に含まれる蛍光体粒子によって散乱されるので、透過光がパラボラ型反射鏡4内で拡散される。
基板5の材質は特に問われないが、熱伝導率の高い、鉄または銅などの金属を用いることができる。なお、基板5とパラボラ型反射鏡4とは、ネジ7L,7Rによって固定されている。
<窓部6>
次に、半導体レーザ3は、ハーフパラボラ型反射鏡4hの外部に配置されており、ハーフパラボラ型反射鏡4hの底には、レーザ光を透過または通過させる窓部6が形成されている。この窓部6については、上述したとおりである。
<光学部材8b>
次に、光学部材8bは、パラボラ型反射鏡4の光反射凹面SUF3の開口部に設けられており、透過型発光装置30を密封している。発光部2から発生した蛍光、もしくは、パラボラ型反射鏡4によって反射された蛍光は、光学部材8bを通って透過型発光装置30の前方へ出射される。
光学部材8bは、本実施形態では、凸レンズ形状を有し、レンズ機能を有する構造としているが、凸レンズ形状のみならず、凹レンズ形状を有しても良い。また、光学部材8bは、必ずしもレンズ機能を有する構造とする必要はなく、発光部2から発生した蛍光、もしくは、光反射凹面SUF3で反射した蛍光を透過する透光性を少なくとも有していれば良い。
なお、光学部材8bは、少なくとも透光性を有するものであればどのような材質のものでもよいが、透光性部材1と同様に熱伝導率が高いもの(20W/mK以上)が好ましい。例えば、光学部材8bは、サファイア、窒化ガリウム、マグネシアまたはダイヤモンドを含んでいることが好ましい。この場合、光学部材8bは、発光部2よりも高い熱伝導率を有しており、発光部2において生じた熱を効率良く吸収することにより発光部2を冷却できる。
光学部材8bの厚さは、3.0mm以下程度が好ましい。上記厚さが3.0mm以上になるとレーザ光Lの吸収を無視できなくなるとともに、部材コストが上昇してしまう。
また、光学部材8bを、半導体レーザ3からのレーザ光Lを遮断するとともに、発光部2から発生した蛍光、もしくは、光反射凹面SUF3で反射した蛍光を透過する材質で形成することが好ましい。
発光部2を透過するコヒーレントなレーザ光Lは、そのほとんどがインコヒーレントな蛍光に変換される。しかし、何らかの原因でレーザ光Lの一部が変換されない場合も考えられる。このような場合でも、光学部材8bによってレーザ光Lを遮断することにより、レーザ光Lが外部に漏れることを防止できる。
〔4.発光素子10a〜10dの製造方法〕
次に、図8および図9に基づき、発光素子10a〜10dの製造方法について説明する。透光性部材1の光照射面SUF1上に反射防止構造gを形成する方法としては、一般的な微細加工技術を用いることができる。なお、ここでは、母材101には、上述した手法により、予め複数の微小散乱領域MPが形成されているものとする(透光性部材形成工程)。
ここで、反射防止構造gを形成する方法として、例えば、発光部2の封止剤がガラスである場合に、このガラス上に直接エンボス加工で形成する方法が考えられるが、このような方法には、下記のような問題がある。
例えば、蛍光体が混ざったガラスにエンボス加工で反射防止構造gを形成する場合、まずガラスの軟化点まで加熱した後、ナノメートルオーダの凹凸構造が設けられたモールドを押しつける方法が用いられる。
しかしながら、蛍光体を分散させたガラス材料にこの方法を用いた場合、反射防止構造gをガラスに施すためのモールドの隙間に蛍光体がつまってしまい、均一な構造が形成できない(なお、モールドの凹凸の周期は数百nm、高さも数百nm。一方、酸窒化物蛍光体の粒子径は小さいものでも5から10μm程度のものを使用する。)。
一方、透光性部材1中の散乱微粒子の粒径は、通常、蛍光体の粒子径よりもかなり小さいため、エンボス加工により透光性部材1の表面に反射防止構造gを形成しても、上記のようにモールドの隙間に散乱微粒子がつまってしまい、均一な構造が形成できないという問題は生じにくい。
また、発光部2の表面に直接エンボス加工で反射防止構造gを形成する場合、蛍光体の硬度が高いため、モールドの寿命を縮めてしまう、もしくは蛍光体より硬い材質のモールドを使用しなければならないためモールドのコストがかかるという問題がある。
しかしながら、透光性部材1中の散乱微粒子は、上記のように上記蛍光体の粒子径よりもかなり小さいため、モールドの寿命を縮めてしまったり、モールドのコストがかかったりするというような問題も生じにくい。
次に、反射防止構造gを形成する方法として、発光部2の表面の反射を防止したい部分に有機薄膜を製膜し、そこに反射防止構造gを形成する方法も考えられるが、このような方法には、下記のような問題がある。
例えば、発光部2は表面には、通常、マイクロメートルオーダの凹凸があるため、ナノメートルオーダの膜厚を均一に製膜するのは不可能である。そのため、狙い通りのナノメートルオーダの反射防止構造gを形成することができず、所望の反射防止機能を得ることができないという問題がある。
一方、透光性部材1の母材101の表面は、可能であれば幾らでも表面粗さを小さくできるため、ナノメートルオーダの膜厚を均一に製膜することも可能であり、狙い通りのナノメートルオーダの反射防止構造gを形成することもでき、所望の反射防止機能を得ることが可能である。
次に、反射防止構造gを形成する方法として、反射防止構造gを作り込んだ樹脂フィルムを発光部2に直接貼り付ける方法も考えられるが、このような方法には、下記のような問題がある。
例えば、発光部2の発熱により樹脂フィルムが融ける可能性が高く、少なくとも長期的に反射防止構造gの形状を維持できない可能性が高い。
しかしながら、透光性部材1に反射防止構造gを設ける場合、例えば、反射防止構造gを作り込んだ樹脂フィルムは、透光性部材1の発光部2から離れた位置に設けても良いので、上記のように長期的に反射防止構造gの形状を維持できないという問題も生じにくい。
なお、一般に、透光性部材1と外気(空気)との界面における屈折率差は、発光部2と透光性部材1との界面における屈折率差よりも大きい。このため、透光性部材1と外気(空気)との界面における光の反射を防止する必要性は非常に高いと考えられる。
以上の点を考慮して、上記発光素子10a〜10dでは、透光性部材1の表面に反射防止構造gを形成している。
なお、透光性部材1の光照射面SUF1の側に反射防止構造gを形成する方法としては、光、X線、電子線を用いたリソグラフィーと、ドライエッチング、ウェットエッチングなどのエッチングとを組合せる方法を用いることが好ましい。
また、以下、エッチングの一例として、ドライエッチングを用いる方法について説明する。なお、ドライエッチングは、以下で説明する方法に限定されない、例えば、プラズマエッチング、RIE(Reactive Ion Etching)、ECRプラズマ(Electron Cyclotron Resonance plasma)、ヘリコン波励起プラズマ(helicon-wave excited plasma)などを例示することができる。
次に、図8および図9に基づき、ドライエッチングを用いて透光性部材1の光照射面SUF1上に反射防止構造gを形成する方法(凹凸構造形成工程)について説明する。
発光素子10a〜10dの製造方法は、下記(1)〜(6)の工程を含む。
(1)厚み0.5mmの母材101(図8(a))を用意し、その表面上にレジスト層102を形成する(図8(b))。
(2)レジスト層102には有機系材料を使用し、またレジスト層102は、スピンコート法により形成する。
(3)所望の形状のパターンが施されたマスク103を用いてレジスト層を紫外線により感光させ、レジスト層102に所望のパターンを形成する(図8(b)〜図8(c))。なお、マスク開口OPの部分は、紫外線の透過率が他の部分よりも高い部分である。
(4)このレジスト層102を所定の現像液を用いて現像する。これにより、紫外線に露光されていないレジスト層102は、母材101上に、残留部104として残留する(図8(d))。
(5)次に、ドライエッチングを施す。ドライエッチングに用いるガスはSiCl等の塩素系ガスを用いる(図8(d)〜図9(a))。
(6)最後にレジスト層102を剥離液により除去し、複数の突起PJを備えた反射防止構造を得る(図9(b))。
なお、複雑な形状の反射防止構造を形成するため、レジスト層102に加えて無機材料からなる層および金属材料からなる層を組合せても良い。これにより、母材101の断面形状を制御することができる。
次に、発光素子10a〜10dの製造方法は、さらに、母材101の光照射面SUF1(一方の表面)に対向する側に、発光部2を嵌合させるための嵌合孔を設け、発光部2を該嵌合孔に嵌合させる発光部配置工程を含む。このとき、嵌合孔の側壁と発光部2とを上述した接着剤にて接合する。
以上の方法により、発光部2の発光効率を高くし、その高い発光効率を長期間にわたって維持することができる発光素子10a〜10dを製造することができる。
〔5.レーザダウンライト200の構成〕
次に、本発明のさらに他の実施形態について図11〜図15に基づいて説明すれば、以下のとおりである。なお、実施の形態1と同様の部材に関しては、同じ符号を付し、その説明を省略する。
ここでは、本発明の照明装置の一例としてのレーザダウンライト200について説明する。レーザダウンライト200は、家屋、乗物などの構造物の天井に設置される照明装置であり、半導体レーザ3から出射したレーザ光を発光部2に照射することによって発生する蛍光を照明光として用いるものである。
なお、レーザダウンライト200と同様の構成を有する照明装置を、構造物の側壁または床に設置してもよく、上記照明装置の設置場所は特に限定されない。
図11は、発光ユニット210および従来のLEDダウンライト300の外観を示す概略図である。図12は、レーザダウンライト200が設置された天井の断面図である。図13は、レーザダウンライト200の断面図である。図12および図13に示すように、レーザダウンライト200は、天板400に埋設され、照明光を出射する発光ユニット210と、光ファイバー50を介して発光ユニット210へレーザ光を供給するLD光源ユニット220とを含んでいる。LD光源ユニット220は、天井には設置されておらず、ユーザが容易に触れることができる位置(例えば、家屋の側壁)に設置されている。このようにLD光源ユニット220の位置を自由に決定できるのは、LD光源ユニット220と発光ユニット210とが光ファイバー50によって接続されているからである。この光ファイバー50は、天板400と断熱材401との間の隙間に配置されている。
(発光ユニット210の構成)
発光ユニット210は、図13に示すように、筐体211、光ファイバー50、上述した発光素子10a〜10d、透光板213を備えている。
筐体211には、凹部212が形成されており、この凹部212の底面に発光素子10a〜10dが配置されている。凹部212の表面には、金属薄膜が形成されており、凹部212は、光反射凹面SUF3を有する反射鏡として機能する。
また、筐体211には、光ファイバー50を通すための通路が発光素子10a〜10dの上部に形成されており、この通路を通って光ファイバー50が発光素子10a〜10dまで延びている。光ファイバー50の出射端部から出射されたレーザ光は、発光素子10a〜10dの透光性部材1を透過して発光部2に到達する。
透光板213は、凹部212の開口部をふさぐように配置された透明または半透明の板である。この透光板213は、上述したレーザカットフィルタ8aと同様の機能を有するものであり、発光部2の蛍光は、透光板213を透して照明光として出射される。透光板213は、筐体211に対して取外し可能であってもよく、省略されてもよい。
図11では、発光ユニット210は、円形の外縁を有しているが、発光ユニット210の形状(より厳密には、筐体211の形状)は特に限定されない。
なお、ダウンライトでは、ヘッドランプの場合とは異なり、理想的な点光源は要求されず、発光点が1つというレベルで十分である。それゆえ、発光部2の形状、大きさおよび配置に関する制約は、ヘッドランプの場合よりも少ない。
(LD光源ユニット220の構成)
LD光源ユニット220は、半導体レーザ3、非球面レンズ8cおよび光ファイバー50を備えている。
光ファイバー50の一方の端部である入射端部は、LD光源ユニット220に接続されており、半導体レーザ3から発振されたレーザ光は、非球面レンズ8cを介して光ファイバー50の入射端部に入射される。
図13に示すLD光源ユニット220の内部には、半導体レーザ3および非球面レンズ8cが一対のみ示されているが、発光ユニット210が複数存在する場合には、発光ユニット210からそれぞれ延びる光ファイバー50の束を1つのLD光源ユニット220に導いてもよい。この場合、1つのLD光源ユニット220に複数の半導体レーザ3と非球面レンズ8cとの対が収納されることになり、LD光源ユニット220は集中電源ボックスとして機能する。
(レーザダウンライト200と従来のLEDダウンライト300との比較)
従来のLEDダウンライト300は、図11に示すように、複数の透光板301を備えており、各透光板301からそれぞれ照明光が出射される。すなわち、LEDダウンライト300において発光点は複数存在している。LEDダウンライト300において発光点が複数存在しているのは、個々の発光点から出射される光の光束が比較的小さいため、複数の発光点を設けなければ照明光として十分な光束の光が得られないためである。
これに対して、レーザダウンライト200は、高光束の照明装置であるため、発光点は1つでもよい。それゆえ、照明光による陰影がきれいに出るという効果が得られる。また、発光部2の蛍光体を高演色蛍光体(例えば、数種類の酸窒化物蛍光体の組合せ)にすることにより、照明光の演色性を高めることができる。
これにより、白熱電球ダウンライトに迫る高演色を実現することができる。例えば、平均演色評価数Raが90以上のみならず、特殊演色評価数R9も95以上というLEDダウンライトや蛍光灯ダウンライトでは実現が難しい高演色光も高演色蛍光体と半導体レーザ3の組合せにより実現可能である。
図14は、LEDダウンライト300が設置された天井の断面図である。同図に示すように、LEDダウンライト300では、LEDチップ、電源および冷却ユニットを収納した筐体302が天板400に埋設されている。筐体302は比較的大きなものであり、筐体302が配置されている部分の断熱材401には、筐体302の形状に沿った凹部が形成される。筐体302から電源ライン303が延びており、この電源ライン303はコンセント(不図示)につながっている。
このような構成では、次のような問題が生じる。まず、天板400と断熱材401との間に発熱源である光源(LEDチップ)および電源が存在しているため、LEDダウンライト300を使用することにより天井の温度が上がり、部屋の冷房効率が低下するという問題が生じる。
また、LEDダウンライト300では、光源ごとに電源および冷却ユニットが必要であり、トータルのコストが増大するという問題が生じる。
また、筐体302は比較的大きなものであるため、天板400と断熱材401との間の隙間にLEDダウンライト300を配置することが困難な場合が多いという問題が生じる。
これに対して、レーザダウンライト200では、発光ユニット210には、大きな発熱源は含まれていないため、部屋の冷房効率を低下させることはない。その結果、部屋の冷房コストの増大を避けることができる。
また、発光ユニット210ごとに電源および冷却ユニットを設ける必要がないため、レーザダウンライト200を小型および薄型にすることができる。その結果、レーザダウンライト200を設置するためのスペースの制約が小さくなり、既存の住宅への設置が容易になる。
また、レーザダウンライト200は、小型および薄型であるため、上述したように、発光ユニット210を天板400の表面に設置することができ、LEDダウンライト300よりも設置に係る制約を小さくすることができるとともに工事費用を大幅に削減できる。
図15は、レーザダウンライト200およびLEDダウンライト300のスペックを比較するための図である。同図に示すように、レーザダウンライト200は、その一例では、LEDダウンライト300に比べて体積は94%減少し、質量は86%減少する。
また、LD光源ユニット220をユーザの手が容易に届く所に設置できるため、半導体レーザ3が故障した場合でも、手軽に半導体レーザ3を交換できる。また、複数の発光ユニット210から延びる光ファイバー50を1つのLD光源ユニット220に導くことにより、複数の半導体レーザ3を一括管理できる。そのため、複数の半導体レーザ3を交換する場合でも、その交換が容易にできる。
なお、LEDダウンライト300において、高演色蛍光体を用いたタイプの場合、消費電力10Wで約500lmの光束が出射できるが、同じ明るさの光をレーザダウンライト200で実現するためには、3.3Wの光出力が必要である。この光出力は、LD効率が35%であれば、消費電力10Wに相当し、LEDダウンライト300の消費電力も10Wであるため、消費電力では、両者の間に顕著な差は見られない。それゆえ、レーザダウンライト200では、LEDダウンライト300と同じ消費電力で、上述の種々のメリットが得られることになる。
以上のように、レーザダウンライト200は、レーザ光を出射する半導体レーザ3を少なくとも1つ備えるLD光源ユニット220と、発光部2および反射鏡としての凹部212を備える少なくとも1つの発光ユニット210と、発光ユニット210のそれぞれへ上記レーザ光を導く光ファイバー50とを含んでいる。
本発明は、以下のように表現することもできる。
すなわち、本発明のレーザ照明光源(発光装置)は、透光性部材の表面に反射防止構造が設けられるとともに、その内部にレーザ光が照射されて蛍光を発する発光点のサイズを拡大させる構造(拡散構造)を備えていても良い。
また、本発明の発光装置は、発光部に対して、レーザ光である励起光を入射させる方向に照明光が出射する反射型の発光装置であっても良い。
<拡散構造のポイント>
拡散構造に関しては、下記のように複数のポイントがある。
(1)励起光源であるレーザ光源の発光点サイズを十分に拡大させる効果をもつこと。
(2)励起光の強度分布に局所的な偏りがあったとしても、発光部を励起する際には、その偏りが解消される、すなわち発光部をできるだけマイルドに励起させる効果を持つこと。
(3)発光部から放射される照明光(蛍光、または蛍光と励起光とが混色した光)に関して、発光部の励起が一様でない場合や、発光部における蛍光体の分散が不均一であり、励起が一様であってもその光り方が一様でない場合に、蛍光が拡散構造を通過する間に拡散(または散乱)されて一様な照明光として外部に放射できること。
(4)発光部から放射される励起光(レーザ光)に関しては、散乱(または拡散)される間に、その光源サイズ(発光点サイズ)が拡大され、目に対して安全な照明光を得ることができること。
(5)発光部に励起光が届く前にすべて散乱(または拡散)されてしまって励起されないという事態を生じさせないよう、適切に散乱(または拡散)をコントロールできること。
以上より、発光点サイズを拡大するためには、拡散構造の厚みが十分に厚いこと(拡散または散乱は等方的に起こると考えられるため)が必要であり、アイセーフの観点から要求される発光点サイズと同じ厚みかそれ以上の厚みを拡散構造が有することが必要となる。
また、透光性部材における散乱(または拡散)を引き起こす微小散乱領域(例えば、散乱材または拡散材)の濃度分布を一様とせず、発光部に近くなるほど濃くしても良い。
なお、発光部を覆う形式の拡散構造を有する透光性部材では、その熱伝導率を高いものとすれば、発光部で発生した熱をすみやかに放出できるという副次的効果が生じる。有機材料系(樹脂系)の材料で拡散構造を作製した場合には、このような効果はあまり期待できないが、無機系の材料であれば、熱伝導率はそこそこ高いため、上述の効果が期待できる。
また、発光部から放射される照明光に明暗(フリッカ)が発生するような場合においても、拡散構造を用いることによって、フリッカの発生を低減もしくは防止できる。拡散構造を有しない場合、励起光が平行光以外の形で照射されるとすると、半導体レーザと発光部との距離が振動その他の原因により変動してしまうと、それに対応して発光部の励起面積が変化し、結果として照明光の明暗が生じてしまう。しかしながら、本発明の発光装置のように、半導体レーザと発光部との間に拡散構造が存在していれば、発光部が励起される領域が、半導体レーザと発光部との間の距離の変化に敏感でなくなる。
また、発光部(蛍光体+封止材)のみでレーザ光を散乱させてしまうよりも、拡散構造を構成する透光性部材の吸収率その他の光学的特性を、封止体よりも良いものとすることによって、光の取り出し効率をより向上させることができる。
〔付記事項〕
なお、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組合せて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。
本発明は、発光素子、該発光素子を備えた発光装置および照明装置などに適用することができる。例えば、自動車用のヘッドランプ、自動車以外の車両・移動物体(例えば、人間・船舶・航空機・潜水艇・ロケットなど)のヘッドランプや、その他の照明装置に適用することができる。また、その他の照明装置として、例えば、サーチライト、プロジェクタ、家庭用照明器具、ダウンライトなどにも適用することができる。
1 透光性部材
2 発光部
3 半導体レーザ(レーザ光源)
4 パラボラ型反射鏡(反射鏡)
4h ハーフパラボラ型反射鏡(反射鏡)
4p 熱伝導性部材(反射部材)
10a〜10d 発光素子
20 反射型発光装置(発光装置)
30 透過型発光装置(発光装置)
101 母材
200 レーザダウンライト(発光装置)
212 凹部(反射鏡)
d 間隔(反射を低減させることが可能な間隔)
d1,d2 濃度
dep1〜dep4 凹部深さ
w1〜w4 凹部幅
g 反射防止構造(凹凸構造)
h,h1〜h4 高さ(凸部高さ)
H 厚み
L レーザ光
LS1,LS2 発光スポット
MP 微小散乱領域(散乱微粒子,気泡)
n1,n2 屈折率
PJ 突起(凸部)
PH 微細孔(凹部)
S 発光部サイズ
SUF1,SUF1’ 光照射面
SUF2,SUF2’ 表面(レーザ光が照射される側の面)
SUF3 光反射凹面

Claims (18)

  1. レーザ光が照射されることにより蛍光を発生する発光部と、
    上記発光部のレーザ光が照射される側に配置され、当該レーザ光に対して透光性を有する透光性部材とを備え、
    上記透光性部材は、
    内部を通過するレーザ光を等方的に散乱し、さらに上記発光部に照射され蛍光に変換されなかったレーザ光を再び散乱することで、その発光スポットサイズを拡大する拡散構造を有していることを特徴とする発光素子。
  2. レーザ光が照射されることにより蛍光を発生する発光部と、
    上記発光部のレーザ光が照射される側に配置され、当該レーザ光に対して透光性を有する透光性部材とを備え、
    上記透光性部材は、
    内部を通過するレーザ光を等方的に散乱し、その発光スポットサイズを拡大する拡散構造を有しており、
    上記透光性部材の上記拡散構造は、
    上記発光部から発生した蛍光を等方的に散乱し、その発光スポットサイズを拡大する構造であることを特徴とする発光素子。
  3. 上記レーザ光の照射方向に沿う上記透光性部材の厚みは、
    上記透光性部材の内部を通過して外部に放射されるレーザ光が、最大許容露光量以下の光となる厚みの1/2以上であることを特徴とする請求項1または2に記載の発光素子。
  4. 上記発光部の上記レーザ光が照射される側の面の最小径が、上記透光性部材の厚み以下であることを特徴とする請求項3に記載の発光素子。
  5. 上記透光性部材は、その母材とは異なる屈折率を有する散乱微粒子、および、気泡のいずれか一方を含んでいることを特徴とする請求項1から4までのいずれか1項に記載の発光素子。
  6. 上記散乱微粒子または上記気泡の濃度が、上記透光性部材の上記レーザ光が照射される側で低くなっていることを特徴とする請求項5に記載の発光素子。
  7. 上記散乱微粒子または上記気泡の濃度が、上記透光性部材の上記発光部に近い側で低くなっていることを特徴とする請求項5または6に記載の発光素子。
  8. 上記透光性部材の上記レーザ光が照射される光照射面の側に、上記レーザ光の反射率を低減させる反射防止構造が設けられていることを特徴とする請求項1から7までのいずれか1項に記載の発光素子。
  9. 上記反射防止構造は、
    複数の凸部および複数の凹部の少なくとも一方が、上記レーザ光の上記光照射面における反射を低減させることが可能な間隔で配列する凹凸構造であることを特徴とする請求項8に記載の発光素子。
  10. 上記凸部の付け根側から先端側の間に、上記光照射面に平行な断面の径が一定である個所が存在することを特徴とする請求項9に記載の発光素子。
  11. 上記凸部の付け根側から先端側に向かう方向に対して、上記光照射面に平行な断面の径が拡大する個所が存在することを特徴とする請求項9または10に記載の発光素子。
  12. 上記複数の凹部の、それぞれの上記光照射面に垂直な方向に対する凹部深さ、および、それぞれの上記光照射面に平行な方向に対する凹部幅、が異なることを特徴とする請求項9から11までのいずれか1項に記載の発光素子。
  13. 上記凸部の付け根側から先端側に向かう方向に対して、上記光照射面に平行な断面の径
    が縮小する個所が存在することを特徴とする請求項9から12までのいずれか1項に記載の発光素子。
  14. 請求項1から13までのいずれか1項に記載の発光素子を備えた発光装置であって、
    上記レーザ光を、上記透光性部材に照射するレーザ光源を備えていることを特徴とする発光装置。
  15. 上記発光部に生じた熱を拡散させる熱伝導性基板を備え、
    上記発光部の上記レーザ光が照射される照射面と対向する側が、上記熱伝導性基板によって保持されていることを特徴とする請求項14に記載の発光装置。
  16. 上記レーザ光を反射する反射部材を備え、
    上記発光部の上記レーザ光が照射される照射面と対向する側が、上記反射部材によって保持されていることを特徴とする請求項14または15に記載の発光装置。
  17. 上記発光部から発生した蛍光を反射する光反射凹面を有する反射鏡を備え、
    上記発光部が、上記反射鏡の焦点の近傍に配置されていることを特徴とする請求項14から16までのいずれか1項に記載の発光装置。
  18. レーザ光が照射されることにより蛍光を発生する発光部と、上記発光部のレーザ光が照射される側に配置され、当該レーザ光に対して透光性を有する透光性部材とを備え、上記透光性部材は、内部を通過するレーザ光を等方的に散乱し、その発光スポットサイズを拡大する拡散構造を有している発光素子の製造方法であって、
    上記レーザ光を散乱する散乱微粒子または気泡を複数含む上記透光性部材を形成する透光性部材形成工程と、
    上記透光性部材の一方の表面の側に、上記発光部を配置する発光部配置工程とを、含んでいることを特徴とする発光素子の製造方法。
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