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JP5288949B2 - Pre-preg sheet, wiring board and mounting structure - Google Patents
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JP5288949B2 - Pre-preg sheet, wiring board and mounting structure - Google Patents

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Description

本発明は、プリプレグシートと、かかるプリプレグシートを用いて作製した配線基板と、かかる配線基板に電子部品を実装した実装構造体と、に関するものである。かかる実装構造体は電子機器に使用される。かかる電子機器は、各種オーディオビジュアル機器、家電機器、通信機器、コンピュータ機器又はその周辺機器等である。   The present invention relates to a prepreg sheet, a wiring board manufactured using the prepreg sheet, and a mounting structure in which an electronic component is mounted on the wiring board. Such a mounting structure is used for an electronic device. Such electronic devices are various audio-visual devices, home appliances, communication devices, computer devices or peripheral devices thereof.

従来より、電子部品が実装される配線基板が知られている。かかる電子部品は、半導体素子又はコンデンサ等である。かかる半導体素子は、IC(Integrated Circuit)又はLSI(Large Scale Integration)等である。   Conventionally, wiring boards on which electronic components are mounted are known. Such electronic components are semiconductor elements or capacitors. Such a semiconductor element is an IC (Integrated Circuit) or an LSI (Large Scale Integration).

かかる配線基板は、プリプレグシートを積層することにより形成される基体と、前記基体の上面又は下面に形成された導電層と、を備えた構成が知られている。   Such a wiring board is known to include a base formed by laminating prepreg sheets, and a conductive layer formed on the upper surface or the lower surface of the base.

かかるプレプリグシートは、特許文献1に、細長形状の単繊維と、前記単繊維を被覆する樹脂部前駆体と、を備えた構成が記載されている。かかる樹脂部前駆体は、配線基板にて樹脂部を構成する。   Patent Document 1 describes such a prepreg sheet having a configuration including an elongated single fiber and a resin portion precursor that covers the single fiber. Such a resin part precursor constitutes a resin part on the wiring board.

しかしながら、単繊維の線膨張係数と樹脂部の線膨張係数とは異なる。従って、例えば、特許文献1のプリプレグシートを配線基板に適用すると、電子部品を配線基板に実装する際に行われるはんだリフロー時の加熱又は電子部品の発熱等により、配線基板に熱が印加された場合、単繊維と樹脂部との間に熱膨張の差が生じる。その結果、単繊維と樹脂部との境界に強い熱応力が印加され、単繊維と樹脂部とが剥離し、配線基板の信頼性が低下しやすくなる。
特開2005−29912号公報
However, the linear expansion coefficient of the single fiber and the linear expansion coefficient of the resin portion are different. Therefore, for example, when the prepreg sheet of Patent Document 1 is applied to a wiring board, heat is applied to the wiring board due to heating at the time of solder reflow performed when the electronic component is mounted on the wiring board or heat generation of the electronic component. In this case, a difference in thermal expansion occurs between the single fiber and the resin portion. As a result, a strong thermal stress is applied to the boundary between the single fiber and the resin portion, the single fiber and the resin portion are peeled off, and the reliability of the wiring board is likely to be lowered.
JP-A-2005-29912

本発明は、単繊維と樹脂部との接着強度を高める要求に応えるプリプレグシート、配線基板及び実装構造体を提供するものである。   The present invention provides a prepreg sheet, a wiring board, and a mounting structure that meet the demand for increasing the adhesive strength between a single fiber and a resin portion.

本発明の一形態にかかるプリプレグシートは、細長形状の単繊維と、前記単繊維を被覆する樹脂部前駆体と、を備え、前記単繊維は、その長手方向に沿った溝状の複数の凹部を表面に有し、前記複数の凹部は、内面に前記樹脂部前駆体が接触しているとともに底部に前記長手方向に沿って配列された沈降部と隆起部を有することを特徴とする。
A prepreg sheet according to an embodiment of the present invention includes an elongated single fiber and a resin portion precursor that covers the single fiber, and the single fiber has a plurality of groove-shaped recesses along a longitudinal direction thereof. The plurality of recesses are characterized in that the resin part precursor is in contact with the inner surface, and the bottom part has a settling part and a raised part arranged along the longitudinal direction .

本発明の一形態にかかる配線基板は、細長形状の単繊維と、前記単繊維を被覆する樹脂部と、を有する基体と、前記基体の上面又は下面に形成された導電層と、を備え、前記単繊維は、その長手方向に沿った溝状の複数の凹部を表面に有し、前記複数の凹部は、内面に前記樹脂部が接触しているとともに底部に前記長手方向に沿って配列された沈降部と隆起部を有することを特徴とする。 A wiring board according to an embodiment of the present invention includes a base having an elongated single fiber, a resin portion that covers the single fiber, and a conductive layer formed on an upper surface or a lower surface of the base, The single fiber has a plurality of groove-shaped concave portions along the longitudinal direction on the surface, and the plurality of concave portions are arranged along the longitudinal direction at the bottom while the resin portion is in contact with the inner surface. It has a settling portion and a raised portion .

本発明の一形態にかかるプリプレグシート、配線基板及び実装構造体によれば、単繊維と樹脂部との接着強度を高めることができる。その結果、信頼性に優れた配線基板及び実装構造体を得ることができる。   According to the prepreg sheet, the wiring board, and the mounting structure according to one embodiment of the present invention, the adhesive strength between the single fiber and the resin portion can be increased. As a result, a highly reliable wiring board and mounting structure can be obtained.

以下に、本発明の第1実施形態にかかるプリプレグシートを図1から図3に基づいて詳細に説明する。   Below, the prepreg sheet concerning 1st Embodiment of this invention is demonstrated in detail based on FIGS. 1-3.

図1及び図2に示すプリプレグシート1は、複数の細長形状の単繊維2と、単繊維2を被覆する樹脂部前駆体3aと、を備えている。   A prepreg sheet 1 shown in FIGS. 1 and 2 includes a plurality of elongated single fibers 2 and a resin portion precursor 3 a that covers the single fibers 2.

複数の単繊維2は、プリプレグシート1内にて一方向にシート状に配列され、各々が糸状の構造を有している。その結果、プリプレグシート1の上面及び下面の平坦性を高めることができる。単繊維2は、例えば低熱膨張樹脂又は低熱膨張ガラス繊維等を含み、特に低熱膨張樹脂を含むことが望ましい。低熱膨張樹脂は、例えばポリパラフェニレンベンズビスオキサゾール樹脂、全芳香族ポリアミド樹脂又は全芳香族ポリエステル樹脂等を用いても構わない。低熱膨張ガラス繊維は、Sガラス又はTガラス等を用いても構わない。   The plurality of single fibers 2 are arranged in a sheet shape in one direction in the prepreg sheet 1, and each has a thread-like structure. As a result, the flatness of the upper and lower surfaces of the prepreg sheet 1 can be improved. The single fiber 2 includes, for example, a low thermal expansion resin, a low thermal expansion glass fiber, or the like, and preferably includes a low thermal expansion resin. As the low thermal expansion resin, for example, polyparaphenylene benzbisoxazole resin, wholly aromatic polyamide resin or wholly aromatic polyester resin may be used. As the low thermal expansion glass fiber, S glass or T glass may be used.

単繊維2は、線膨張係数が低い材料から構成されていることが望ましい。単繊維2の長手方向(X方向)の線膨張係数は、−12ppm/℃以上5ppm/℃以下に設定されていることが望ましい。単繊維2の長手方向に直交する断面方向(XZ平面方向)の線膨張係数は、50ppm/℃以上110ppm/℃以下に設定されていることが望ましい。なお、線膨張率は、ISO11359‐2:1999に準ずる試験方法により測定される。   The single fiber 2 is preferably made of a material having a low linear expansion coefficient. The linear expansion coefficient in the longitudinal direction (X direction) of the single fiber 2 is desirably set to −12 ppm / ° C. or more and 5 ppm / ° C. or less. The linear expansion coefficient in the cross-sectional direction (XZ plane direction) orthogonal to the longitudinal direction of the single fiber 2 is preferably set to 50 ppm / ° C. or more and 110 ppm / ° C. or less. The linear expansion coefficient is measured by a test method according to ISO11359-2: 1999.

樹脂部前駆体3aは、単繊維2同士の間に充填されるとともに、一方向に配列した単繊維2の上面及び下面を被覆するように形成されている。樹脂部前駆体3aは、未硬化の熱硬化性樹脂等を含む。熱硬化性樹脂は、エポキシ樹脂、ビスマレイミドトリアジン樹脂、シアネート樹脂、ポリイミド樹脂又はポリフェニレエーテル樹脂等を含む。なお、熱硬化性樹脂の線膨張係数は、例えば10ppm/℃以上50ppm/℃以下に設定されていることが望ましい。また、未硬化とは、ISO472:1999に準ずるA‐ステージ又はB‐ステージのことをいう。   The resin portion precursor 3a is filled between the single fibers 2 and is formed so as to cover the upper and lower surfaces of the single fibers 2 arranged in one direction. The resin part precursor 3a includes an uncured thermosetting resin or the like. Thermosetting resins include epoxy resins, bismaleimide triazine resins, cyanate resins, polyimide resins or polyphenyl ether resins. The linear expansion coefficient of the thermosetting resin is desirably set to, for example, 10 ppm / ° C. or more and 50 ppm / ° C. or less. Uncured means an A-stage or B-stage according to ISO 472: 1999.

次に、単繊維2について、より詳細に説明する。   Next, the single fiber 2 will be described in more detail.

図3Aから図3Eに示すように、単繊維2は、その長手方向に沿った溝状の凹部C1を表面に複数有し、凹部C1の内面に樹脂部前駆体3aが接触している。複数の凹部C1は、前記長手方向に直交する断面の周回方向に沿って配列されている。これにより、単繊維2の表面積が増加するとともに、凹部C1内に樹脂部前駆体3aの一部を容易に充填できる。その結果、単繊維2と樹脂部前駆体3aとの接触面積が増加するため、単繊維2と樹脂部前駆体3aとの接着強度を高めることができる。なお、凹部C1は、単数であっても構わない。   As shown in FIGS. 3A to 3E, the single fiber 2 has a plurality of groove-like recesses C1 along the longitudinal direction on the surface, and the resin portion precursor 3a is in contact with the inner surface of the recess C1. The plurality of recesses C1 are arranged along the circumferential direction of the cross section orthogonal to the longitudinal direction. Thereby, while the surface area of the single fiber 2 increases, a part of resin part precursor 3a can be easily filled in the recessed part C1. As a result, since the contact area between the single fiber 2 and the resin part precursor 3a increases, the adhesive strength between the single fiber 2 and the resin part precursor 3a can be increased. In addition, the recessed part C1 may be single.

凹部C1の内面は、曲面からなることが望ましい。その結果、単繊維2の長手方向に応力が印加された場合、凹部C1の内面の一部に応力が集中することを抑制でき、単繊維2の機械的強度を高めることができる。   The inner surface of the recess C1 is preferably a curved surface. As a result, when stress is applied in the longitudinal direction of the single fiber 2, it is possible to suppress stress concentration on a part of the inner surface of the recess C <b> 1 and to increase the mechanical strength of the single fiber 2.

単繊維2の長手方向に直交する断面積は、例えば27μm2以上192μm2以下に設定されていることが望ましい。また、凹部C1の深さは、例えば1μm以上5μm以下に設定されていることが望ましい。凹部C1の深さが、1μm以上であることにより、凹部C1内に樹脂部前駆体3aの一部が容易に充填される。また、凹部C1の深さが、5μm以下であることにより、単繊維2の機械的強度維持しつつ、単繊維2と樹脂部前駆体3aとの接触面積を増加させることができる。なお、凹部C1の深さは、凹部C1の開口から凹部C1の底部までの距離のことをいう。また、凹部C1の幅は、例えば1μm以上3μm以下に設定されていることが望ましい。凹部C1の幅が、1μm以上であることにより、凹部C1内に樹脂部前駆体3aの一部が容易に充填される。また、凹部C1の幅が、3μm以下であることにより、単繊維2の機械的強度維持しつつ、単繊維2と樹脂部前駆体3aとの接触面積を増加させることができる。なお、凹部C1の幅は、凹部C1の開口における前記周回方向への幅のことをいう。また、単繊維2は、溝状の凹部C1を3個以上12個以下有することが望ましい。また、隣接する凹部C1の底部同士の距離は、1μm以上8μm以下に設定されていることが望ましい。   The cross-sectional area perpendicular to the longitudinal direction of the single fiber 2 is preferably set to 27 μm 2 or more and 192 μm 2 or less, for example. Further, it is desirable that the depth of the recess C1 is set to, for example, 1 μm or more and 5 μm or less. When the depth of the concave portion C1 is 1 μm or more, a part of the resin portion precursor 3a is easily filled in the concave portion C1. Moreover, the contact area of the single fiber 2 and the resin part precursor 3a can be increased, maintaining the mechanical strength of the single fiber 2 because the depth of the recessed part C1 is 5 micrometers or less. In addition, the depth of the recessed part C1 means the distance from the opening of the recessed part C1 to the bottom part of the recessed part C1. In addition, the width of the recess C1 is desirably set to, for example, 1 μm or more and 3 μm or less. When the width of the recess C1 is 1 μm or more, a part of the resin portion precursor 3a is easily filled in the recess C1. Moreover, the contact area of the single fiber 2 and the resin part precursor 3a can be increased, maintaining the mechanical strength of the single fiber 2 because the width | variety of the recessed part C1 is 3 micrometers or less. In addition, the width | variety of the recessed part C1 means the width to the said circumference direction in opening of the recessed part C1. Moreover, it is desirable that the single fiber 2 has 3 to 12 groove-shaped recesses C1. Further, it is desirable that the distance between the bottoms of the adjacent recesses C1 is set to 1 μm or more and 8 μm or less.

図2Cに示すように、隣接する単繊維2同士は、一方の単繊維2の溝状の凹部C1と、他方の単繊維2の隣接する溝状の凹部C1同士の間の領域と、が対応するように、配列されることが望ましい。その結果、隣接する単繊維2同士をより近づけて配列することができ、プリプレグシート1にて単繊維2の密度を高めることができる。これにより、プリプレグシート1を硬化させて形成される配線基板5の剛性の向上や熱膨張係数の低減が容易となる。また、隣接する単繊維2同士は、一方の単繊維2の溝状の凹部C1と、他方の単繊維2の隣接する溝状の凹部C1同士の間の領域と、によりアンカー効果を奏するため、単繊維2と、隣接する単繊維2同士の間に位置する樹脂部前駆体3aと、の接着強度を高めることができる。また、隣接する単繊維2同士はアンカー効果を奏するため、単繊維2と樹脂部前駆体3aとの剥離により生じる単繊維2の位置ずれを低減できる。   As shown in FIG. 2C, the adjacent single fibers 2 correspond to the groove-shaped recess C <b> 1 of one single fiber 2 and the region between the adjacent groove-shaped recesses C <b> 1 of the other single fiber 2. It is desirable that they are arranged. As a result, the adjacent single fibers 2 can be arranged closer to each other, and the density of the single fibers 2 can be increased in the prepreg sheet 1. Thereby, the improvement of the rigidity of the wiring board 5 formed by hardening the prepreg sheet 1 and the reduction of a thermal expansion coefficient become easy. Further, the adjacent single fibers 2 have an anchor effect due to the groove-shaped recess C1 of one single fiber 2 and the region between adjacent groove-shaped recesses C1 of the other single fiber 2, The adhesive strength between the single fiber 2 and the resin part precursor 3a positioned between the adjacent single fibers 2 can be increased. Moreover, since the adjacent single fibers 2 have an anchor effect, the positional deviation of the single fibers 2 caused by the separation between the single fibers 2 and the resin portion precursor 3a can be reduced.

次に、本発明の第1実施形態にかかる配線基板を含む実装構造体を、図4に基づいて説明する。なお、本実施形態の配線基板は、上述したプリプレグシートを用いて作製される。   Next, a mounting structure including the wiring board according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In addition, the wiring board of this embodiment is produced using the prepreg sheet mentioned above.

図4に示す実装構造体4は、配線基板5と、配線基板5の上面にバンプ6を介してフリップチップ実装された電子部品7と、を含んで構成されている。   The mounting structure 4 shown in FIG. 4 includes a wiring board 5 and an electronic component 7 that is flip-chip mounted on the upper surface of the wiring board 5 via bumps 6.

配線基板5は、基体8と、基体8の上面及び下面に積層された複数の絶縁層9と、絶縁層9の上面及び下面に配置された複数の導電層10と、を含んで構成されている。   The wiring board 5 includes a base 8, a plurality of insulating layers 9 stacked on the top and bottom surfaces of the base 8, and a plurality of conductive layers 10 disposed on the top and bottom surfaces of the insulating layer 9. Yes.

基体8は、複数の繊維層11を積層した構造を有する。繊維層11は、上述したプリプレグシート1により形成される。繊維層11は、複数の細長形状の単繊維2と、単繊維2を被覆する樹脂部3bと、を備えている。   The base 8 has a structure in which a plurality of fiber layers 11 are laminated. The fiber layer 11 is formed by the prepreg sheet 1 described above. The fiber layer 11 includes a plurality of elongated single fibers 2 and a resin portion 3 b that covers the single fibers 2.

単繊維2は、上述したプリプレグシート1が備えている単繊維2に対応しており、一方向にシート状に配列されている。単繊維2は、線膨張係数が低い材料から構成されていることが望ましい。このような単繊維2を用いることにより、配線基板5と電子部品7との線膨張係数の差が低減され、実装構造体4に熱が印加された時に、配線基板5と電子部品7との間に印加される熱応力を低減できる。   The single fibers 2 correspond to the single fibers 2 included in the prepreg sheet 1 described above, and are arranged in a sheet shape in one direction. The single fiber 2 is preferably made of a material having a low linear expansion coefficient. By using such a single fiber 2, the difference in coefficient of linear expansion between the wiring substrate 5 and the electronic component 7 is reduced, and when heat is applied to the mounting structure 4, the wiring substrate 5 and the electronic component 7 are not affected. Thermal stress applied between them can be reduced.

隣接する繊維層11同士は、それぞれの単繊維2の長手方向が直交することが望ましい。その結果、配線基板5の平面(XY平面)にて、直交する2方向(X方向及びY方向)における線膨張係数の差が低減されるため、配線基板5と電子部品7との線膨張係数の差が低減される。   It is desirable that adjacent fiber layers 11 are orthogonal to each other in the longitudinal direction of each single fiber 2. As a result, the difference between the linear expansion coefficients in two orthogonal directions (X direction and Y direction) is reduced on the plane (XY plane) of the wiring board 5, so that the linear expansion coefficient between the wiring board 5 and the electronic component 7 is reduced. The difference is reduced.

樹脂部3bは、上述したプリプレグシート1が備えている樹脂部前駆体3aに対応しており、上述した樹脂部前駆体3aに含まれる未硬化の熱硬化性樹脂を硬化することにより、形成される。   The resin part 3b corresponds to the resin part precursor 3a included in the prepreg sheet 1 described above, and is formed by curing an uncured thermosetting resin contained in the resin part precursor 3a described above. The

樹脂部3bは、凹部C1の内面に接触している。その結果、単繊維2と樹脂部3bとの接触面積が増加するため、単繊維2と樹脂部3bとの接着強度を高めることができる。これにより、基体8にクラックが生じる可能性を低減し、配線基板5の信頼性を高めることができる。   The resin portion 3b is in contact with the inner surface of the recess C1. As a result, since the contact area between the single fiber 2 and the resin portion 3b increases, the adhesive strength between the single fiber 2 and the resin portion 3b can be increased. Thereby, possibility that a crack will arise in base 8 can be reduced, and reliability of wiring board 5 can be improved.

また、基体8は、上下方向(Z方向)に貫通するスルーホールSが複数形成されている。スルーホールSの内壁には、スルーホール導体12が形成されている。複数のスルーホール導体12は、基体8の上面及び下面に形成された導電層10同士を電気的に接続している。スルーホール導体12は導電材料からなる。導電材料は、例えば銅、銀、ニッケル又はクロム等を含む。本実施形態においては、スルーホール導体12は、円筒状に形成されており、基体8の平坦性を担保するため、該円筒状の内部に絶縁体13が充填されている。なお、絶縁体13は、樹脂材料、フィラー、エラストマー、難燃剤及び硬化剤等を含む。樹脂材料としては、例えばエポキシ樹脂又はシアネート樹脂等を用いても構わない。また、フィラーとしては、例えば酸化ケイ素又は酸化アルミニウム等を用いても構わない。また、エラストマーとしては、スチレン系エラストマー又はポリエステル系エラストマー等を用いても構わない。   The base 8 is formed with a plurality of through holes S penetrating in the vertical direction (Z direction). A through-hole conductor 12 is formed on the inner wall of the through-hole S. The plurality of through-hole conductors 12 electrically connect the conductive layers 10 formed on the upper surface and the lower surface of the base 8. The through-hole conductor 12 is made of a conductive material. The conductive material includes, for example, copper, silver, nickel, chromium, or the like. In the present embodiment, the through-hole conductor 12 is formed in a cylindrical shape, and in order to ensure the flatness of the base body 8, the insulator 13 is filled in the cylindrical shape. The insulator 13 includes a resin material, a filler, an elastomer, a flame retardant, a curing agent, and the like. For example, an epoxy resin or a cyanate resin may be used as the resin material. Further, as the filler, for example, silicon oxide or aluminum oxide may be used. Further, as the elastomer, a styrene elastomer or a polyester elastomer may be used.

また、スルーホールSの内壁には、単繊維2と樹脂部3bとの間に生じる空隙が露出している場合があるが、本実施形態においては、単繊維2と樹脂部3bとが強固に接着されている。それ故、単繊維2と樹脂部3bとの剥離が抑制されるため、単繊維2と樹脂部3bとの剥離により基体8内に空隙が生じる可能性を低減できる。このため、スルーホール導体12を構成する導電材料が、大気中の水分等に溶解してかかる空隙に侵入し、隣接スルーホール導体12まで到達し、スルーホール導体12同士を短絡させる可能性を低減できる。これにより、配線基板5の電気的信頼性を高めることができる。   Moreover, although the space | gap produced between the single fiber 2 and the resin part 3b may be exposed in the inner wall of the through hole S, in this embodiment, the single fiber 2 and the resin part 3b are firmly established. It is glued. Therefore, since the separation between the single fiber 2 and the resin portion 3b is suppressed, the possibility that voids are generated in the base body 8 due to the separation between the single fiber 2 and the resin portion 3b can be reduced. For this reason, the possibility that the conductive material constituting the through-hole conductor 12 dissolves in moisture in the atmosphere and enters the gap, reaches the adjacent through-hole conductor 12, and short-circuits the through-hole conductors 12 to each other is reduced. it can. Thereby, the electrical reliability of the wiring board 5 can be improved.

絶縁層9は、接着層9aと樹脂層9bとを有する。   The insulating layer 9 has an adhesive layer 9a and a resin layer 9b.

接着層9aは、樹脂層9b同士又は樹脂層9bと基体8とを、強固に接着するためのものであり、熱硬化性樹脂又は熱可塑性樹脂等を含む。熱硬化性樹脂としては、例えばポリイミド樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シアネート樹脂、シリコン樹脂又はビスマレイミドトリアジン樹脂等を用いても構わない。熱可塑性樹脂としては、はんだリフロー時の加熱に耐える耐熱性を有する必要があることから、構成する材料の軟化温度が200℃以上であることが望ましく、例えば液晶ポリマー等を使用することが望ましい。なお、接着層9aの線膨張係数は、例えば15ppm/℃以上80ppm/℃以下に設定されていることが望ましい。また、接着層9aは、厚みが例えば2μm以上20μm以下となるように設定されていることが望ましい。   The adhesive layer 9a is for firmly bonding the resin layers 9b or the resin layer 9b and the substrate 8 and includes a thermosetting resin or a thermoplastic resin. As the thermosetting resin, for example, a polyimide resin, an acrylic resin, an epoxy resin, a urethane resin, a cyanate resin, a silicon resin, or a bismaleimide triazine resin may be used. As the thermoplastic resin, since it is necessary to have heat resistance that can withstand heating during solder reflow, the softening temperature of the constituent material is preferably 200 ° C. or higher, and for example, a liquid crystal polymer is preferably used. The linear expansion coefficient of the adhesive layer 9a is preferably set to, for example, 15 ppm / ° C. or more and 80 ppm / ° C. or less. Moreover, it is desirable that the adhesive layer 9a is set to have a thickness of, for example, 2 μm or more and 20 μm or less.

樹脂層9bは、配線基板5の機械的強度を向上させるためのものであり、基材を備えておらず、熱硬化性樹脂又は熱可塑性樹脂を含むことが望ましい。熱硬化性樹脂又は熱可塑性樹脂としては、弾性変形可能であって、耐熱性と硬さに優れた特性の材料を用いることが望ましい。この様な特性を有する熱硬化性樹脂としては、例えば、ポリイミドベンゾオキサゾール樹脂、ポリパラフェニレンベンズビスオキサゾール樹脂、全芳香族ポリアミド樹脂、又は全芳香族ポリエステル樹脂等を用いても構わない。また、熱可塑性樹脂としては、例えば、熱可塑性ポリイミド樹脂又は液晶ポリマー樹脂等を用いても構わない。そして、上記材料のなかでも、ポリイミドベンゾオキサゾール樹脂又はポリパラフェニレンベンズビスオキサゾール樹脂を用いることが望ましい。ポリパラフェニレンベンズビスオキサゾール樹脂は、線膨張係数が−5ppm/℃以上5ppm/℃以下と小さい。このような低熱膨張樹脂を使用することによって、配線基板5と電子部品7との間の熱膨張の差を低減し、配線基板5と電子部品7との間の熱応力を低減できる。なお、樹脂層9bの厚みは、例えば2μm以上20μm以下となるように設定されていることが望ましい。   The resin layer 9b is for improving the mechanical strength of the wiring board 5, and does not include a base material, and preferably contains a thermosetting resin or a thermoplastic resin. As the thermosetting resin or thermoplastic resin, it is desirable to use a material that is elastically deformable and has excellent heat resistance and hardness. As the thermosetting resin having such characteristics, for example, polyimide benzoxazole resin, polyparaphenylene benzbisoxazole resin, wholly aromatic polyamide resin, or wholly aromatic polyester resin may be used. Moreover, as a thermoplastic resin, you may use a thermoplastic polyimide resin or a liquid crystal polymer resin, for example. Among the above materials, it is desirable to use polyimide benzoxazole resin or polyparaphenylene benzbisoxazole resin. The polyparaphenylene benzbisoxazole resin has a low linear expansion coefficient of −5 ppm / ° C. to 5 ppm / ° C. By using such a low thermal expansion resin, the difference in thermal expansion between the wiring board 5 and the electronic component 7 can be reduced, and the thermal stress between the wiring board 5 and the electronic component 7 can be reduced. The thickness of the resin layer 9b is desirably set to be 2 μm or more and 20 μm or less, for example.

絶縁層9には、ビア孔Vが形成されており、ビア孔V内にはビア導体14が形成されている。ビア導体14は、絶縁層9の上面及び下面に配置された導電層10同士を電気的に接続する。また、ビア導体14は、例えば基体8の上面から配線基板5の上面に向かって、又は基体8の下面から配線基板5の下面に向かって、配線基板5の平面方向への断面積が大きくなるように形成されている。なお、ビア導体14は、導電材料により形成される。導電材料は、例えば銅、銀、金、アルミニウム、ニッケル又はクロム等を含む。また、ビア導体14の線膨張係数は、例えば12ppm/℃以上20ppm/℃以下に設定されていることが望ましい。   A via hole V is formed in the insulating layer 9, and a via conductor 14 is formed in the via hole V. The via conductors 14 electrically connect the conductive layers 10 disposed on the upper and lower surfaces of the insulating layer 9. Further, the via conductor 14 has a cross-sectional area in the plane direction of the wiring board 5 that increases, for example, from the upper surface of the substrate 8 toward the upper surface of the wiring substrate 5 or from the lower surface of the substrate 8 toward the lower surface of the wiring substrate 5. It is formed as follows. The via conductor 14 is made of a conductive material. The conductive material includes, for example, copper, silver, gold, aluminum, nickel, or chromium. The linear expansion coefficient of the via conductor 14 is desirably set to, for example, 12 ppm / ° C. or more and 20 ppm / ° C. or less.

導電層10は、電気信号を伝達する信号層と、電子部品7に接続されるグランド層と、を含んで構成されている。導電層10は、基体8の上面及び下面に形成されており、スルーホール導体12と電気的に接続されている。また、導電層10は、絶縁層9の上面及び下面に形成されており、ビア導体14と電気的に接続されている。なお、導電層10は、導電材料により形成される。導電材料は、例えば銅、銀、金、ニッケル、クロム、チタン、モリブデン、タングステン又はジルコニウムあるいはこれらの合金等を含む。また、導電層10の線膨張係数は、例えば12ppm/℃以上20ppm/℃以下に設定されていることが望ましい。   The conductive layer 10 includes a signal layer that transmits an electrical signal and a ground layer that is connected to the electronic component 7. The conductive layer 10 is formed on the upper and lower surfaces of the base 8 and is electrically connected to the through-hole conductor 12. The conductive layer 10 is formed on the upper and lower surfaces of the insulating layer 9 and is electrically connected to the via conductor 14. Note that the conductive layer 10 is formed of a conductive material. The conductive material includes, for example, copper, silver, gold, nickel, chromium, titanium, molybdenum, tungsten, zirconium, or an alloy thereof. Moreover, it is desirable that the linear expansion coefficient of the conductive layer 10 is set to, for example, 12 ppm / ° C. or more and 20 ppm / ° C. or less.

電子部品7は、バンプ6を介して導電層10に電気的に接続されている。バンプ6の材料には、導電材料が用いられる。導電材料は、例えば銅、銀、亜鉛、錫、インジウム、ビスマス又はアンチモン等を含む。電子部品7としては、半導体素子又はコンデンサ等を用いても構わない。半導体素子としては、例えばIC若しくはLSI等を用いても構わない。半導体素子の材料としては、シリコン、ゲルマニウム、ガリウム砒素、ガリウム砒素リン、窒化ガリウム又は炭化珪素等を用いても構わない。また、電子部品7の厚み寸法は、例えば0.1mmから1mmのものを使用することが望ましい。   The electronic component 7 is electrically connected to the conductive layer 10 via the bump 6. A conductive material is used for the material of the bump 6. The conductive material includes, for example, copper, silver, zinc, tin, indium, bismuth or antimony. As the electronic component 7, a semiconductor element or a capacitor may be used. For example, an IC or LSI may be used as the semiconductor element. As a material of the semiconductor element, silicon, germanium, gallium arsenide, gallium arsenide phosphorus, gallium nitride, silicon carbide, or the like may be used. The thickness of the electronic component 7 is preferably 0.1 mm to 1 mm, for example.

次に、上述したプリプレグシート1を用いた、上述した配線基板5を含む実装構造体4の製造方法を、図5から図15に基づいて説明する。   Next, a method for manufacturing the mounting structure 4 including the above-described wiring board 5 using the above-described prepreg sheet 1 will be described with reference to FIGS.

まず、上述したプレプリグシート1を準備する。   First, the prepreg sheet 1 described above is prepared.

(1)図5A及び図5Bに示すように、細長形状の単繊維2を準備する。   (1) As shown in FIGS. 5A and 5B, an elongated single fiber 2 is prepared.

(2)図5C及び図5Dに示すように、単繊維2の側面の一部を押圧することにより、単繊維2に溝状の凹部C1を形成する。具体的には、例えば、以下のようにして、単繊維2の側面の一部を押圧する。まず、図6Aから図6Cに示すように、外周15axに窪み部Dを有し、窪み部Dがその周回方向に沿って形成されたローラ15aを2つ準備する。外周15axの窪み部Dを構成する表面は、その幅方向に沿って配列する凹凸を有し、該凹凸は、外周15axの周回方向に沿って延伸するように、形成されている。次に、図7Aから図8に示すように、それぞれの窪み部Dが組み合わさるように2つのローラ15a同士を当接させて、2つの窪み部Dにより、単繊維2の断面形状に対応する穴部Hを形成する。そして、穴部H内にて単繊維2を各ローラ15aに当接させて、各ローラ15aを回転させることにより、単繊維2を長手方向に移動させる。その結果、窪み部Dを構成する外周15axの一部が単繊維2の側面の一部を押圧し、単繊維2に溝状の凹部C1を形成することができる。このように、単繊維2の側面の一部を押圧して凹部C1を形成するため、単繊維2を構成する分子に損傷が生じる可能性を低減しつつ、凹部C1を形成できる。その結果、単繊維2の機械的強度を維持しつつ、凹部C1を形成できる。なお、ローラ15aを3つ以上用いて、穴部Hを形成しても構わない。   (2) As shown in FIGS. 5C and 5D, a groove-shaped recess C <b> 1 is formed in the single fiber 2 by pressing a part of the side surface of the single fiber 2. Specifically, for example, a part of the side surface of the single fiber 2 is pressed as follows. First, as shown in FIGS. 6A to 6C, two rollers 15 a each having a hollow portion D on the outer periphery 15 ax and having the hollow portion D formed along the circumferential direction are prepared. The surface which forms the hollow part D of outer periphery 15ax has the unevenness | corrugation arranged along the width direction, and this unevenness | corrugation is formed so that it may extend | stretch along the circumference direction of outer periphery 15ax. Next, as shown in FIGS. 7A to 8, the two rollers 15 a are brought into contact with each other so that the respective recessed portions D are combined, and the two recessed portions D correspond to the cross-sectional shape of the single fiber 2. A hole H is formed. And the single fiber 2 is moved to a longitudinal direction by making the single fiber 2 contact | abut to each roller 15a in the hole H, and rotating each roller 15a. As a result, a part of the outer periphery 15ax constituting the hollow part D presses a part of the side surface of the single fiber 2, and a groove-like recess C1 can be formed in the single fiber 2. Thus, since the recessed part C1 is formed by pressing a part of the side surface of the single fiber 2, the recessed part C1 can be formed while reducing the possibility that the molecules constituting the single fiber 2 are damaged. As a result, the concave portion C1 can be formed while maintaining the mechanical strength of the single fiber 2. The hole H may be formed by using three or more rollers 15a.

また、単繊維2の側面の一部を押圧して凹部C1を形成するため、凹部C1を構成する単繊維2の一部の密度が、単繊維2の他の部位と比較して高くなる。その結果、凹部C1を構成する単繊維2の一部の硬度が、単繊維2の他の部位と比較して高くなるため、単繊維2の機械的強度を維持しつつ、凹部C1を形成することができる。なお、単繊維2の一部の硬度は、例えばマイクロインデンテーション法又はナノインデンテーション法等により、測定することができる。マイクロインデンテーション及びナノインデンテーション法は、微細な圧子を単繊維2に押し付けた際に生じる圧痕の面積を測定し、圧子を押し付ける加重と圧痕の面積とから、単位面積あたりの押し付け加重を求めることにより、硬度を測定する方法である。   Moreover, since the recessed part C1 is formed by pressing a part of side surface of the single fiber 2, the density of a part of the single fiber 2 constituting the recessed part C1 is higher than that of other parts of the single fiber 2. As a result, the hardness of a part of the single fiber 2 constituting the recess C1 is higher than that of other parts of the single fiber 2, so that the recess C1 is formed while maintaining the mechanical strength of the single fiber 2. be able to. The hardness of a part of the single fiber 2 can be measured by, for example, a microindentation method or a nanoindentation method. In the microindentation and nanoindentation methods, the area of the indentation that occurs when a fine indenter is pressed against the single fiber 2 is measured, and the pressing weight per unit area is obtained from the weight of pressing the indenter and the area of the indentation. This is a method for measuring hardness.

また、単繊維2の長手方向は単繊維2の分子鎖の伸長方向と平行であるため、単繊維2は分子鎖の伸長方向に沿って押圧される。このため、単繊維2の分子鎖が波状に乱れるとともに切断される可能性を低減する。その結果、単繊維2のほつれを低減し、単繊維2の機械的強度を維持しつつ、凹部C1を形成することができる。   Moreover, since the longitudinal direction of the single fiber 2 is parallel to the extending direction of the molecular chain of the single fiber 2, the single fiber 2 is pressed along the extending direction of the molecular chain. For this reason, the molecular chain of the single fiber 2 is disturbed in a wave shape and the possibility of being cut is reduced. As a result, fraying of the single fiber 2 can be reduced, and the concave portion C1 can be formed while maintaining the mechanical strength of the single fiber 2.

単繊維2を部分的に押圧する際、単繊維2を加熱しつつ押圧することが望ましい。加熱により単繊維2の硬度が低下するため、押圧による単繊維2の損傷を低減するとともに、単繊維2に容易に凹部C1を形成することができる。また、単繊維2が低熱膨張樹脂を含む場合、加熱により単繊維2の硬度が低下し易いため、単繊維2に容易に凹部C1を形成することができる。   When partially pressing the single fiber 2, it is desirable to press the single fiber 2 while heating it. Since the hardness of the single fiber 2 is reduced by heating, damage to the single fiber 2 due to pressing can be reduced, and the concave portion C1 can be easily formed in the single fiber 2. Moreover, when the single fiber 2 contains a low thermal expansion resin, since the hardness of the single fiber 2 is easily lowered by heating, the concave portion C1 can be easily formed in the single fiber 2.

(3)図9A及び図9Bに示すように、単繊維2を一方向に配列させて、敷き詰めることにより、単繊維シート16を形成する。ここで、単繊維2を一方向に配列させる際、単繊維2に振動を与えつつ配列させることが望ましい。これにより、隣接する単繊維2同士を、一方の単繊維2の溝状の凹部C1と、他方の単繊維2の隣接する溝状の凹部C1同士の間の領域と、が対応するように、配列させることができる。その結果、隣接する単繊維2同士の間にアンカー効果を奏するため、単繊維シート16における単繊維2の位置ずれを低減できる。なお、単繊維2を一方向に配列させた後、単繊維2に振動を与えることにより、隣接する単繊維2同士を、一方の単繊維2の溝状の凹部C1と、他方の単繊維2の隣接する溝状の凹部C1同士の間の領域と、が対応するように、配列させても構わない。   (3) As shown in FIGS. 9A and 9B, the single fibers 2 are arranged in one direction and spread, thereby forming the single fiber sheet 16. Here, when arranging the single fibers 2 in one direction, it is desirable to arrange them while applying vibration to the single fibers 2. Thereby, adjacent single fibers 2 are such that the region between the groove-shaped recess C1 of one single fiber 2 and the adjacent groove-shaped recess C1 of the other single fiber 2 correspond to each other. Can be arranged. As a result, since the anchor effect is exerted between the adjacent single fibers 2, the positional deviation of the single fibers 2 in the single fiber sheet 16 can be reduced. In addition, after arranging the single fiber 2 in one direction, by giving vibration to the single fiber 2, the adjacent single fibers 2 are separated from each other into a groove-like recess C <b> 1 of one single fiber 2 and the other single fiber 2. You may arrange so that the area | region between adjacent groove-shaped recessed parts C1 may correspond.

(4)図9Cから図9Dに示すように、単繊維シート16に樹脂部前駆体3aを含浸し、樹脂部前駆体3aを単繊維2の凹部C1の内面に接触させる。このようにして、プリプレグシート1を作製することができる。   (4) As shown in FIG. 9C to FIG. 9D, the single fiber sheet 16 is impregnated with the resin portion precursor 3 a, and the resin portion precursor 3 a is brought into contact with the inner surface of the concave portion C 1 of the single fiber 2. In this way, the prepreg sheet 1 can be produced.

次に、上述したプリプレグシート1を用いて、上述した配線基板5を含む実装構造体4を作製する。   Next, using the prepreg sheet 1 described above, the mounting structure 4 including the wiring substrate 5 described above is manufactured.

(5)図10A及び図10Bに示すように、複数のプリプレグシート1を積層し、加熱加圧する。複数のプリプレグシート1は、隣接するプレプリグシート1同士の単繊維2の長手方向が直交するように、積層されることが望ましい。加熱加圧は、例えば加熱プレス機等を用いて行われる。プリプレグシート1の積層体を加熱する温度は、樹脂部前駆体3aに含まれる熱硬化性樹脂の硬化開始温度以上、かかる熱硬化性樹脂の熱分解温度未満に設定されていることが望ましい。その結果、樹脂部前駆体3aに含まれる未硬化の熱硬化性樹脂が硬化するため、積層されたプリプレグシート1同士を接着できる。以上のようにして、基体8を作製できる。   (5) As shown in FIGS. 10A and 10B, a plurality of prepreg sheets 1 are stacked and heated and pressurized. The plurality of prepreg sheets 1 are desirably laminated so that the longitudinal directions of the single fibers 2 between the adjacent prepreg sheets 1 are orthogonal to each other. The heating and pressurization is performed using, for example, a heating press machine. The temperature for heating the laminate of the prepreg sheet 1 is preferably set to be equal to or higher than the curing start temperature of the thermosetting resin contained in the resin portion precursor 3a and lower than the thermal decomposition temperature of the thermosetting resin. As a result, since the uncured thermosetting resin contained in the resin portion precursor 3a is cured, the stacked prepreg sheets 1 can be bonded to each other. As described above, the substrate 8 can be manufactured.

ここで、かかる熱硬化性樹脂が硬化することにより、樹脂部前駆体3aが樹脂部3bとなり、プリプレグシート1が繊維層11となる。なお、基体8の厚みは、例えば0.3mm以上1.5mm以下に設定されていることが望ましい。また、熱分解温度とは、ISO11358:1997に準ずる熱重量測定において、樹脂の質量が5%減少する温度のことをいう。   Here, when the thermosetting resin is cured, the resin portion precursor 3 a becomes the resin portion 3 b and the prepreg sheet 1 becomes the fiber layer 11. The thickness of the base 8 is preferably set to, for example, 0.3 mm or more and 1.5 mm or less. The thermal decomposition temperature means a temperature at which the mass of the resin is reduced by 5% in thermogravimetry according to ISO11358: 1997.

(6)図11Aに示すように、基体8に、上下方向に貫通したスルーホールSを形成する。スルーホールSは、例えばドリル加工又はレーザー加工等により、形成される。また、スルーホールSは、数個形成されることが望ましい。また、スルーホールSの幅は、例えば0.1mm以上1mm以下に設定されていることが望ましい。   (6) As shown in FIG. 11A, a through hole S penetrating in the vertical direction is formed in the base 8. The through hole S is formed by, for example, drilling or laser processing. Further, it is desirable that several through holes S are formed. Further, it is desirable that the width of the through hole S is set to, for example, 0.1 mm or more and 1 mm or less.

(7)図11Bに示すように、基体8の表面に導電材料を被着させて、導電材料層17を形成する。導電材料層17は、スルーホールSの内壁面にて、円筒状のスルーホール導体12を構成する。かかる導電材料層17は、例えば無電解めっき法により形成される。   (7) As shown in FIG. 11B, a conductive material is deposited on the surface of the base 8 to form a conductive material layer 17. The conductive material layer 17 forms a cylindrical through-hole conductor 12 on the inner wall surface of the through-hole S. The conductive material layer 17 is formed by, for example, an electroless plating method.

ここで、単繊維2と樹脂部3aとが剥離する可能性が低減されていると、スルーホール導体12を形成する際、単繊維2と樹脂部3aとが剥離して生じる空隙に、導電材料が侵入することを抑制できる。その結果、かかる導電材料が、スルーホール導体12同士を短絡させる可能性を低減できる。   Here, when the possibility that the single fiber 2 and the resin portion 3a are peeled is reduced, when the through-hole conductor 12 is formed, the conductive material is formed in the gap generated by the separation of the single fiber 2 and the resin portion 3a. Can be prevented from entering. As a result, the possibility that such a conductive material short-circuits the through-hole conductors 12 can be reduced.

(8)図12Aに示すように、円筒状のスルーホール導体12の内部に、樹脂材料等を充填し、絶縁体13を形成する。   (8) As shown in FIG. 12A, the inside of the cylindrical through-hole conductor 12 is filled with a resin material or the like to form the insulator 13.

(9)図12Bに示すように、導電材料を絶縁体13の露出部に被着させて、導電材料層17を絶縁体13の露出部に形成する。かかる導電材料は、例えば無電解めっき、蒸着法、CVD法又はスパッタリング法等により被着される。   (9) As shown in FIG. 12B, a conductive material is deposited on the exposed portion of the insulator 13 to form a conductive material layer 17 on the exposed portion of the insulator 13. Such a conductive material is deposited by, for example, electroless plating, vapor deposition, CVD, or sputtering.

(10)図13Aに示すように、導電材料層17をパターニングし、導電層10を形成する。導電材料層17のパターニングは、従来周知のフォトリソグラフィー技術等を用いて行われる。   (10) As shown in FIG. 13A, the conductive material layer 17 is patterned to form the conductive layer 10. The patterning of the conductive material layer 17 is performed using a conventionally well-known photolithography technique or the like.

(11)図13B及び図14Aに示すように、導電層10上に、接着層9aを介して樹脂層9bを貼り合わせる。貼り合わせは、加熱加圧により行われる。加熱加圧は、例えば加熱プレス機を用いて、行われる。以上のようにして、接着層9aと樹脂層9bとから成る絶縁層9を形成することができる。   (11) As shown in FIGS. 13B and 14A, a resin layer 9b is bonded onto the conductive layer 10 via an adhesive layer 9a. Bonding is performed by heating and pressing. Heating and pressing are performed using, for example, a heating press. As described above, the insulating layer 9 composed of the adhesive layer 9a and the resin layer 9b can be formed.

(12)図14Bに示すように、絶縁層9にビア孔Vを形成し、ビア孔V内に導電層10の少なくとも一部を露出させる。ビア孔Vの形成は、例えばYAGレーザー装置又は炭酸ガスレーザー装置を用いる。ビア孔Vは、樹脂層9bの上面に対して、垂直方向からレーザー光が照射されることによって形成される。なお、ビア孔Vは、レーザー光の出力を調整することによって、樹脂層9bの上面から基体8の上面に向かって開口幅が狭くなるように形成することができる。   (12) As shown in FIG. 14B, a via hole V is formed in the insulating layer 9, and at least a part of the conductive layer 10 is exposed in the via hole V. For example, a YAG laser device or a carbon dioxide gas laser device is used to form the via hole V. The via hole V is formed by irradiating the upper surface of the resin layer 9b with laser light from the vertical direction. The via hole V can be formed such that the opening width becomes narrower from the upper surface of the resin layer 9 b toward the upper surface of the base 8 by adjusting the output of the laser beam.

(13)図15Aに示すように、ビア孔Vにビア導体14を形成し、絶縁層9の上面に導電層10を形成する。ビア導体14及び導電層10は、従来周知のセミアディティブ法、サブトラクティブ法又はフルアディティブ法等により形成され、なかでもセミアディティブ法により形成されることが望ましい。以上のようにして、配線基板5を作製することができる。   (13) As shown in FIG. 15A, the via conductor 14 is formed in the via hole V, and the conductive layer 10 is formed on the upper surface of the insulating layer 9. The via conductor 14 and the conductive layer 10 are formed by a well-known semi-additive method, subtractive method, full-additive method, or the like, and it is desirable that the via conductor 14 and the conductive layer 10 be formed by a semi-additive method. The wiring board 5 can be manufactured as described above.

なお、(11)から(13)の工程を繰り返すことにより、多層配線の配線基板5も作製できる。   In addition, by repeating the steps (11) to (13), the multilayer wiring substrate 5 can also be manufactured.

(14)図15Bに示すように、配線基板5に電子部品7をバンプ6を介してフリップチップ実装することにより、実装構造体4を作製できる。   (14) As shown in FIG. 15B, the mounting structure 4 can be produced by flip-chip mounting the electronic component 7 on the wiring board 5 via the bumps 6.

次に、本発明の第2実施形態にかかる単繊維を含むプリプレグシートを図16に基づいて詳細に説明する。なお、上述した第1実施形態と同様の構成に関しては、記載を省略する。   Next, a prepreg sheet including single fibers according to the second embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIG. In addition, description is abbreviate | omitted regarding the structure similar to 1st Embodiment mentioned above.

図16Aから図16Dに示すように、単繊維2は、その長手方向に沿った溝状の凹部C2を側面に複数有し、凹部C2は、その底部に前記長手方向に沿って配列された沈降部2vと隆起部2wを有する。樹脂部前駆体3aは、凹部C2の内面に接触している。このため、単繊維2の表面積が増加するとともに、前記長手方向及び前記周回方向にアンカー効果を奏する。その結果、単繊維2と樹脂部前駆体3aとの接着強度を高めることができる。なお、凹部C1は、単数であっても構わない。   As shown in FIGS. 16A to 16D, the single fiber 2 has a plurality of groove-like recesses C2 along the longitudinal direction on the side surface, and the recesses C2 are settled along the longitudinal direction at the bottom. It has a part 2v and a raised part 2w. The resin part precursor 3a is in contact with the inner surface of the recess C2. For this reason, while the surface area of the single fiber 2 increases, there exists an anchor effect in the said longitudinal direction and the said circumference direction. As a result, the adhesive strength between the single fiber 2 and the resin portion precursor 3a can be increased. In addition, the recessed part C1 may be single.

単繊維2の長手方向に直交する断面積は、例えば27μm以上192μm以下に設定されていることが望ましい。また、凹部C2の沈降部vの深さは、例えば1μm以上5μm以下に設定されていることが望ましい。また、凹部C2の隆起部wの深さは、例えば1μm以上5μm以下に設定されていることが望ましい。また、凹部C2の沈降部vと凹部C2の隆起部wとの深さの差は、例えば1μm以上3μm以下に設定されていることが望ましい。   The cross-sectional area perpendicular to the longitudinal direction of the single fiber 2 is preferably set to 27 μm or more and 192 μm or less, for example. Moreover, it is desirable that the depth of the settled portion v of the recess C2 is set to, for example, 1 μm or more and 5 μm or less. In addition, the depth of the raised portion w of the recess C2 is desirably set to, for example, 1 μm or more and 5 μm or less. The difference in depth between the sinking portion v of the recess C2 and the raised portion w of the recess C2 is preferably set to, for example, 1 μm or more and 3 μm or less.

また、複数の凹部C2は、第1凹部C2aと第2凹部C2bとを有し、第1凹部C2aの沈降部2vと第2凹部C2bの隆起部2wとが、前記周回方向にて対応していることが望ましい。その結果、単繊維2の前記長手方向に直交する断面はその外周に沈降部v及び隆起部wを有するため、単繊維2の前記長手方向に直交する断面積の最小値が増加し、単繊維2の機械的強度を高めることができる。また、第1凹部C2aと第2凹部C2bは、前記周回方向に沿って交互に配列されていることが望ましい。   The plurality of recesses C2 include a first recess C2a and a second recess C2b, and the sinking portion 2v of the first recess C2a and the raised portion 2w of the second recess C2b correspond in the circumferential direction. It is desirable. As a result, since the cross section perpendicular to the longitudinal direction of the single fiber 2 has the settled portion v and the raised portion w on its outer periphery, the minimum value of the cross sectional area perpendicular to the longitudinal direction of the single fiber 2 increases, and the single fiber The mechanical strength of 2 can be increased. Moreover, it is desirable that the first recesses C2a and the second recesses C2b are alternately arranged along the circumferential direction.

本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更、改良等が可能である。例えば、上述した本発明の実施形態は、電子部品7を配線基板5の上面にフリップチップ実装した構成に関して説明したが、電子部品7を配線基板5の上面にワイヤボンディング実装しても構わない。   The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various changes and improvements can be made without departing from the scope of the present invention. For example, in the above-described embodiment of the present invention, the configuration in which the electronic component 7 is flip-chip mounted on the upper surface of the wiring substrate 5 has been described, but the electronic component 7 may be mounted on the upper surface of the wiring substrate 5 by wire bonding.

本発明の第1実施形態にかかるプリプレグシートの斜視図である。1 is a perspective view of a prepreg sheet according to a first embodiment of the present invention. 図2Aは、図1に示すプリプレグシートの厚み方向への断面図であり、図2Bは、図1に示すプリプレグシートの厚み方向への、図2Aに示す断面と直交する断面図であり、図2Cは、図2Bに示す単繊維のY1部分の拡大図である。2A is a cross-sectional view in the thickness direction of the prepreg sheet shown in FIG. 1, and FIG. 2B is a cross-sectional view in the thickness direction of the prepreg sheet shown in FIG. 1 orthogonal to the cross section shown in FIG. 2C is an enlarged view of a Y1 portion of the single fiber shown in FIG. 2B. 図3Aは、本発明の第1実施形態にかかる単繊維の斜視図であり、図3Bは、図3Aに示す単繊維のY2部分の拡大図であり、図3Cは、図3Bに示す単繊維の長手方向に直交する断面図であり、図3Dは、図3Cに示す単繊維のX1‐X1線における断面図であり、図3Eは、図3Cに示す単繊維のX2‐X2線における断面図である。3A is a perspective view of a single fiber according to the first embodiment of the present invention, FIG. 3B is an enlarged view of a Y2 portion of the single fiber shown in FIG. 3A, and FIG. 3C is a single fiber shown in FIG. 3B. 3D is a cross-sectional view taken along line X1-X1 of the single fiber shown in FIG. 3C, and FIG. 3E is a cross-sectional view taken along line X2-X2 of the single fiber shown in FIG. 3C. It is. 本発明の第1実施形態にかかる実装構造体の厚み方向への断面図である。It is sectional drawing to the thickness direction of the mounting structure concerning 1st Embodiment of this invention. 図5Aは、図4に示す実装構造体の製造工程を説明する斜視図であり、図5Bは、図5Aに示す実装構造体の製造工程を説明するY3部分の拡大図であり、図5Cは、図5に示す実装構造体の製造工程を説明する斜視図であり、図5Dは、図5Cに示す実装構造体の製造工程を説明するY4部分の拡大図である。5A is a perspective view for explaining a manufacturing process of the mounting structure shown in FIG. 4, FIG. 5B is an enlarged view of a Y3 portion explaining a manufacturing process of the mounting structure shown in FIG. 5A, and FIG. FIG. 5D is a perspective view illustrating a manufacturing process of the mounting structure shown in FIG. 5, and FIG. 5D is an enlarged view of a Y4 portion illustrating the manufacturing process of the mounting structure shown in FIG. 5C. 図6Aは、図4に示す実装構造体の製造工程を説明する斜視図であり、図6Bは、図6Aに示す実装構造体の製造工程を説明するY5部分の拡大平面図である。図6Cは、図6Bに示す実装構造体の製造工程を説明するX3‐X3線における断面図である。6A is a perspective view illustrating a manufacturing process of the mounting structure shown in FIG. 4, and FIG. 6B is an enlarged plan view of a Y5 portion illustrating a manufacturing process of the mounting structure shown in FIG. 6A. 6C is a cross-sectional view taken along line X3-X3 for describing a manufacturing process of the mounting structure shown in FIG. 6B. 図7Aは、図4に示す実装構造体の製造工程を説明する斜視図であり、図7Bは、図7Aに示す実装構造体の製造工程を説明する、ローラの回転軸に垂直な平面図である。7A is a perspective view for explaining a manufacturing process of the mounting structure shown in FIG. 4, and FIG. 7B is a plan view perpendicular to the rotation axis of the roller for explaining the manufacturing process of the mounting structure shown in FIG. 7A. is there. 図8は、図7Bに示す実装構造体の製造工程を説明するY6部分の拡大図の、X4‐X4線における断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view taken along line X4-X4 of an enlarged view of a Y6 portion for explaining a manufacturing process of the mounting structure shown in FIG. 7B. 図9Aは、図4に示す実装構造体の製造工程を説明する厚み方向への断面図であり、図9Bは、図9Aに示す実装構造体の製造工程を説明する厚み方向への、図9Bに示す断面と直交する断面図である。図9Cは、図4に示す実装構造体の製造工程を説明する厚み方向への断面図であり、図9Dは、図9Cに示す実装構造体の製造工程を説明する厚み方向への、図9Cに示す断面と直交する断面図である。9A is a cross-sectional view in the thickness direction illustrating the manufacturing process of the mounting structure shown in FIG. 4, and FIG. 9B is a cross-sectional view in the thickness direction illustrating the manufacturing process of the mounting structure shown in FIG. 9A. It is sectional drawing orthogonal to the cross section shown in FIG. 9C is a cross-sectional view in the thickness direction illustrating a manufacturing process of the mounting structure shown in FIG. 4, and FIG. 9D is a cross-sectional view in the thickness direction illustrating the manufacturing process of the mounting structure shown in FIG. 9C. It is sectional drawing orthogonal to the cross section shown in FIG. 図10A及び図10Bは、図4に示す実装構造体の製造工程を説明する断面図である。10A and 10B are cross-sectional views illustrating a manufacturing process of the mounting structure shown in FIG. 図11A及び図11Bは、図4に示す実装構造体の製造工程を説明する断面図である。11A and 11B are cross-sectional views illustrating a manufacturing process of the mounting structure shown in FIG. 図12A及び図12Bは、図4に示す実装構造体の製造工程を説明する断面図である。12A and 12B are cross-sectional views illustrating a manufacturing process of the mounting structure shown in FIG. 図13A及び図13Bは、図4に示す実装構造体の製造工程を説明する断面図である。13A and 13B are cross-sectional views illustrating a manufacturing process of the mounting structure shown in FIG. 図14A及び図14Bは、図4に示す実装構造体の製造工程を説明する断面図である。14A and 14B are cross-sectional views illustrating a manufacturing process of the mounting structure shown in FIG. 図15A及び図15Bは、図4に示す実装構造体の製造工程を説明する断面図である。15A and 15B are cross-sectional views illustrating a manufacturing process of the mounting structure shown in FIG. 図16Aは、本発明の第2実施形態にかかる単繊維の拡大斜視図であり、図16Bは、図16Aに示す単繊維の長手方向に直交する断面図であり、図16Cは、図16Bに示す単繊維のX5‐X5線における断面図であり、図16Dは、図16Bに示す単繊維のX6‐X6線における断面図である。16A is an enlarged perspective view of a single fiber according to a second embodiment of the present invention, FIG. 16B is a cross-sectional view orthogonal to the longitudinal direction of the single fiber shown in FIG. 16A, and FIG. It is sectional drawing in the X5-X5 line of the single fiber shown, FIG. 16D is sectional drawing in the X6-X6 line of the single fiber shown to FIG. 16B.

符号の説明Explanation of symbols

1 プリプレグシート
2 単繊維
3a 樹脂部前駆体
3b 樹脂部
4 実装構造体
5 配線基板
6 バンプ
7 電子部品
8 基体
9 絶縁層
9a 接着層
9b 樹脂層
10 導電層
11 繊維層
12 スルーホール導体
13 絶縁体
14 ビア導体
15a ローラ
15ax 外周
16 単繊維シート
17 導電材料層
C1 凹部
S スルーホール
V ビア孔
D 窪み部
H 穴部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Prepreg sheet 2 Single fiber 3a Resin part precursor 3b Resin part 4 Mounting structure 5 Wiring board 6 Bump 7 Electronic component 8 Base
DESCRIPTION OF SYMBOLS 9 Insulating layer 9a Adhesive layer 9b Resin layer 10 Conductive layer 11 Fiber layer 12 Through-hole conductor 13 Insulator 14 Via conductor 15a Roller 15ax Outer periphery 16 Monofilament sheet 17 Conductive material layer C1 Recess S Through hole V Via hole D Recessed part H Hole Part

Claims (3)

細長形状の単繊維と、
前記単繊維を被覆する樹脂部前駆体と、
を備え、
前記単繊維は、その長手方向に沿った溝状の複数の凹部を表面に有し、
前記複数の凹部は、内面に前記樹脂部前駆体が接触しているとともに底部に前記長手方向に沿って配列された沈降部と隆起部を有することを特徴とするプリプレグシート。
An elongated monofilament,
A resin part precursor for coating the single fiber;
With
The monofilament has a plurality of groove-shaped recesses along its longitudinal direction on the surface,
The plurality of concave portions have a settling portion and a raised portion arranged in the longitudinal direction at the bottom while the resin portion precursor is in contact with the inner surface.
細長形状の単繊維と、前記単繊維を被覆する樹脂部と、を有する基体と、
前記基体の上面又は下面に形成された導電層と、
を備え、
前記単繊維は、その長手方向に沿った溝状の複数の凹部を表面に有し、
前記複数の凹部は、内面に前記樹脂部が接触しているとともに底部に前記長手方向に沿って配列された沈降部と隆起部を有することを特徴とする配線基板。
A substrate having an elongated single fiber, and a resin portion covering the single fiber;
A conductive layer formed on the upper or lower surface of the substrate;
With
The monofilament has a plurality of groove-shaped recesses along its longitudinal direction on the surface,
The plurality of recesses have a settling portion and a raised portion arranged in the longitudinal direction at the bottom while the resin portion is in contact with the inner surface.
請求項に記載の配線基板と、
前記配線基板の上面に搭載され、前記導電層と電気的に接続している電子部品と、
を具備することを特徴とする実装構造体。
The wiring board according to claim 2 ;
An electronic component mounted on the upper surface of the wiring board and electrically connected to the conductive layer;
The mounting structure characterized by comprising.
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