Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP5306153B2 - 高周波減衰器および高周波減衰器を用いた高周波装置 - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP5306153B2 - 高周波減衰器および高周波減衰器を用いた高周波装置 - Google Patents

高周波減衰器および高周波減衰器を用いた高周波装置 Download PDF

Info

Publication number
JP5306153B2
JP5306153B2 JP2009260934A JP2009260934A JP5306153B2 JP 5306153 B2 JP5306153 B2 JP 5306153B2 JP 2009260934 A JP2009260934 A JP 2009260934A JP 2009260934 A JP2009260934 A JP 2009260934A JP 5306153 B2 JP5306153 B2 JP 5306153B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
frequency
attenuator
resistor
high frequency
conductor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2009260934A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2011109312A (ja
Inventor
良行 生熊
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP2009260934A priority Critical patent/JP5306153B2/ja
Priority to US12/869,191 priority patent/US8604892B2/en
Publication of JP2011109312A publication Critical patent/JP2011109312A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5306153B2 publication Critical patent/JP5306153B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01PWAVEGUIDES; RESONATORS, LINES, OR OTHER DEVICES OF THE WAVEGUIDE TYPE
    • H01P1/00Auxiliary devices
    • H01P1/22Attenuating devices
    • H01P1/227Strip line attenuators

Landscapes

  • Non-Reversible Transmitting Devices (AREA)

Description

本発明は高周波減衰器およびそれを用いた高周波装置に関する。
従来の高周波減衰器の構造を、図7、図8の例を用いて説明する。これらの図7、図8に示す例はπ型高周波減衰器と呼ばれるものである。
図7(a)は高周波減衰器の上面図であり、図7(b)は同図の高周波減衰器の斜視図である。高周波減衰器100は、誘電体材質からなる誘電体基材51と、それぞれこの誘電体基材51の表面にパターニングされる導体パターン52a、52bと、それぞれ誘電体基材51の表面にパターニングされた直列抵抗体54ならびに並列抵抗体55a、55bと、誘電体基材51の裏面側に設けられた接地導体56とを備えている。この例では、誘電体基材51と、導体パターン52a、52bと、接地導体56とが、マイクロストリップ線路を形成している。直列抵抗体54は、導体パターン52a、52bの間のパターンギャップ57に形成されている。並列抵抗体55aおよび55bは、スルーホール58などを用いて、接地導体56に接続されている。
このπ型高周波減衰器の例で、高周波伝送線路の特性インピーダンスを50Ωとしたときに、例えば1dBの高周波エネルギの減衰量を実現する場合を考える。この場合、所与の周波数の電磁波の強度を1dB減衰させるためには、この周波数に対する直列抵抗体54の抵抗値としては約5.8Ωが回路計算により求められる。並列抵抗体55a、55bの各抵抗値としては約870Ωが求められる。
これを実現する高周波減衰器の物理寸法を次の条件で計算した。すなわち誘電体の基材はアルミナでありその比誘電率は10、この誘電体の基材の厚さは0.381mm、誘電体の基材の表面及び裏面の導体パターンは金、抵抗体のシート抵抗値は50Ω/squareと仮定した。算出の結果、高周波伝送線路の線路幅は約0.36mmとなる。図7では上下方向にあたる直列抵抗体54の幅をこの線路幅と同じ約0.36mmとすると、パターンギャップ57すなわち直列抵抗体54の長さは算出により約0.042mmとなる。並列抵抗体55a、55bの幅を0.05mmとすると、これらの並列抵抗体55a、55bの長さはいずれも算出により約0.87mmとなる。
また、図8は他の高周波減衰器の上面図である。同図では、ある特定の場合、図7の並列抵抗体55a、55bを省略して高周波減衰器101を構成できる例が示されている。特定の場合とは、減衰量が特に小さくなり、前記の例のように並列抵抗体55a、55bは約870Ωと極めて大きな抵抗値となり、並列抵抗体55a、55bの存在の意味が比較的小さくなるという場合である。この場合、並列抵抗体55a、55bを省略しても、高周波減衰器101全体の特性インピーダンスの値と、導体パターン52a、52bの特性インピーダンス50Ωとのずれは小さく、V.S.W.R.(電圧定在波比)に代表される反射特性の劣化は少ない。劣化が少ないことから、並列抵抗体55a、55bを省略しても、導体パターン52a、52bと、接地導体56との間がほぼ開放になるため、高周波減衰器101を構成可能になっている。
図7(a)、図7(b)に示すπ型構成の他に、T型構成のT型高周波減衰器と呼ばれる減衰器も知られている。抵抗体がT型に構成されて成る減衰器でも、互いに直列に接続された2つの直列抵抗体の入出力端から見た特性インピーダンス値がともに50Ωになるように、これらの直列抵抗体と並列抵抗体との各抵抗値を回路計算により求め、3箇所の抵抗体の幅及び長さが決められる。
これらの回路計算によって決定された各抵抗体の幅や長さの値を元に、例えばフォトリソグラフィ法(写真現像技術を応用した微細パターン作成技術)を用いて基材上のパターンを作成して減衰器が製造される。また、高周波減衰器は、増幅器や周波数変換器等とともに高周波装置などに用いられる。これら高周波装置では、減衰器が、印加された高周波エネルギの強度を減衰させて出力する働きをする。
前記のように、高周波エネルギの減衰量が数dB以上の高周波減衰器は、広く使用されている。特性インピーダンス値が50Ωであり、減衰量が数dB以上の高周波減衰器を製造することには技術的課題はない。
従来より、高周波減衰器は知られている(例えば特許文献1、2参照)。また、ストリップ導体に開口を形成して誘電体基板を露出させ、この露出した誘電体基板面に回路素子を設けて成るマイクロ波伝送線路も知られている(特許文献3参照)。特許文献3は、この回路素子が、誘電体基板裏面の接地導体に接続された接地パターンと、この接地パターンとストリップ導体間に接続された薄膜抵抗とで構成された点を開示している。
特開2000−183609号公報 実開平3−44305号公報 特開平9−270609号公報
しかし、例えば出力電力や利得といった高周波性能を微調整するためには、減衰量1dBよりも微小な量のエネルギを減衰させる減衰器が必要となる場合がある。例えば減衰量0.5dBの減衰器を製造する場合、所望の幅の直列抵抗体54又は並列抵抗体55a、55bを生成することができないという課題がある。例えばフォトリソグラフィ法を用いて作成した導体パターンまたは導体パターン間ギャップの寸法にばらつきが生じる。
その理由を以下に説明する。上記のπ型高周波減衰器の例で、0.5dBの減衰器を実現する場合を考える。この場合、直列抵抗体54の抵抗値としては約2.9Ωが、並列抵抗体55a、55bの抵抗値としては約1738Ωがそれぞれ回路計算により求められる。これを、上記条件と同条件で実現する場合の物理寸法を算出する。直列抵抗体54の幅を約0.36mmとすると、パターンギャップ57すなわち直列抵抗体54の長さは約0.021mmである。並列抵抗体55a、55bの幅を0.05mmとすると、これらの並列抵抗体55a、55bの長さはいずれも約1.74mmとなる。このパターンギャップ57すなわち直列抵抗体54の長さは、例えばフォトリソグラフィ法などで安定にパターンを刻む製作工程での限界値に近く、工程不良が発生する確率が高い領域の値である。また、パターンまたはパターン間ギャップの精度に依存して抵抗値の精度も劣化するため、直並列接続される3箇所の抵抗体を持つ高周波減衰器の減衰量の精度も劣化する。
さらに、基材厚が薄い誘電体基材を使用した高周波減衰器の高周波伝送線路の幅は、同一の特性インピーダンスを有することを条件とした場合、基材厚が厚い誘電体基材を使用した高周波減衰器の高周波伝送線路の幅よりも狭い。即ち基材厚さがより薄いものを使用すれば、同じ特性インピーダンスの高周波伝送線路の幅は狭くなるため、この課題はさらに深刻となり、実現はほぼ不可能となる。このように、微小な減衰量だけ高周波エネルギを減衰させる高周波減衰器を製作しようとしても、所望する幅のパターンを安定して生成することが限界に近づくため工程不良が発生する確率が高くなるうえ、抵抗値の精度が劣化するため減衰量の精度も劣化するため、所望する減衰量を持つ高周波減衰器を製造することが困難かあるいは事実上できなくなる等、製作工程の限界と減衰量の精度とが課題となる。
そこで、本発明は、上記の課題に鑑み、高周波伝送線路に接続された抵抗体すなわち導体パターンギャップ製作工程の製造限界に対して余裕を持つ設計手法を用いて製作でき且つ減衰量の精度を劣化させずに製作可能であり、更に高周波エネルギを微小量だけ減衰させ得る高周波減衰器および高周波装置を提供することを目的とする。
このような課題を解決するため、本発明の一態様によれば、誘電体の基材と、この基材の裏面に設けられた接地導体と、この接地導体および前記基材とともに信号を伝送する高周波伝送線路を構成し、前記基材の表面に設けられ、前記信号が伝送する方向に対して斜め方向のスリットが形成されたストリップ導体と、前記スリットにおいて前記基材の表面に設けられ、前記信号が伝送する方向の両側で前記ストリップ導体と接続された抵抗体と、を備えることを特徴とする高周波減衰器が提供される。
また、本発明の別の一態様によれば、高周波信号を増幅する高周波増幅器と、この高周波増幅器に接続又は内蔵される高周波減衰器とを備え、この高周波減衰器は誘電体の基材と、この基材の裏面に設けられた接地導体と、この接地導体および前記基材とともに信号を伝送する高周波伝送線路を構成し、前記基材の表面に設けられ、前記信号が伝送する方向に対して斜め方向のスリットが形成されたストリップ導体と、前記スリットにおいて前記基材の表面に設けられ、前記信号が伝送する方向の両側で前記ストリップ導体と接続された抵抗体と、を備えることを特徴とする高周波装置が提供される。
また、本発明の別の一態様によれば、高周波信号の周波数を変換する周波数変換器と、この周波数変換器に接続又は内蔵される高周波減衰器とを備え、この高周波減衰器は誘電体の基材と、この基材の裏面に設けられた接地導体と、この接地導体および前記基材とともに信号を伝送する高周波伝送線路を構成し、前記基材の表面に設けられ、前記信号が伝送する方向に対して斜め方向のスリットが形成されたストリップ導体と、前記スリットにおいて前記基材の表面に設けられ、前記信号が伝送する方向の両側で前記ストリップ導体と接続された抵抗体と、を備えることを特徴とする高周波装置が提供される。
本発明によれば、抵抗体すなわち導体パターンギャップ製作工程の製造限界に対して余裕を持つ設計手法を用いて高周波減衰器を製作でき且つ減衰量の精度を劣化させずにこれを製作できるようになる。更に、高周波エネルギを微小量だけ減衰させることができるようになる。例えば1dB未満、0.5dB程度の減衰量を持つ高周波減衰器およびそれを用いた高周波装置が提供されるようになる。
本発明の第1の実施形態に係る高周波減衰器の上面図である。 本発明の第1の実施形態に係る高周波減衰器の斜視図である。 本発明の第1の実施形態に係る高周波減衰器についての原理説明図である。 本発明の第2の実施形態に係る高周波減衰器の上面図である。 (a)、(b)はそれぞれ本発明の第3の実施形態に係る第1及び第2の高周波減衰器の上面要部拡大図である。 (a)、(b)はそれぞれ本発明の第3の実施形態に係る第3及び第4の高周波減衰器の上面要部拡大図である。 従来の高周波減衰器を示す図である。 従来の他の高周波減衰器の上面図である。
以下、本発明の実施の形態に係る高周波減衰器および高周波減衰器を用いた高周波装置について、図1乃至図6を参照しながら説明する。尚、各図において同一箇所については同一の符号を付すとともに、重複した説明は省略する。
(第1の実施形態)
本発明の第1の実施形態に係る高周波減衰器は高周波エネルギを減衰させて出力する高周波信号減衰器である。本発明の第1の実施形態に係る高周波装置は、周波数変換器あるいは増幅器等の高周波機器と、高周波信号を減衰させて出力する本実施形態に係る高周波減衰器とを備えた高周波装置である。
図1は高周波減衰器の上面図である。図2は図1の高周波減衰器の斜視図である。これらの図中、同じ符号どうしは同じ要素を表す。高周波減衰器1はπ型構成の高周波減衰器であり、左方より高周波信号が図示しない入力パッドから入力され、減衰した高周波信号を右方より出力パッドから出力するようにしている。
この高周波減衰器1は、誘電体からなる誘電体基材2と、それぞれこの誘電体基材2の表面にパターニングされた導体パターン3a、3b(ストリップ導体)と、それぞれ誘電体基材2の表面にパターニングされた直列抵抗体4ならびに並列抵抗体5、6と、誘電体基材2の裏面側に基材全面に亘って密接して設けられた接地導体7とを備えている。直列とは入出力端子の間に直列接続されていることを指し、並列とは高周波伝送線路導体と接地導体間に並列接続されていることを指す。また、並列抵抗体5、6は、それぞれ内部に導体が充填又は内壁に導体が塗布されて成るスルーホール8、9によって接地導体7に接続されている。高周波減衰器1は、直列抵抗体4のパターニング方向が導体パターン3a、3bのパターニング方向に対して斜めにされている点で、図7の直列抵抗体54のパターニング方向が導体パターン52a、52bのパターニング方向と平行である従来例と異なる。
この実施例では、誘電体基材2と、導体パターン3a、3bと、接地導体7とが、マイクロストリップ線路(高周波伝送線路)を形成している。このマイクロストリップ線路を左方の入力パッドから見た特性インピーダンスと、右方の出力パッドから見た特性インピーダンスとはいずれも50Ωになるようにされている。
誘電体基材2には例えばアルミナ(Al23)などのセラミックス基板が用いられる。導体パターン3a、3bはいずれも導体膜でありストリップ導体として機能している。直列抵抗体4及び並列抵抗体5、6はいずれも誘電体基材2上に形成された抵抗体パターンである。アルミナ等のセラミックス基板の場合、直列抵抗体4の形成は、誘電体基材2上に、抵抗膜として例えばニクロム等の薄膜を蒸着し、その上に金などの導体薄膜を蒸着した後、金などの導体のめっきを所望の厚みだけ付ける。その後、エッチングによって金などの導体薄膜を除去することでパターンギャップ10が形成され、抵抗膜が露出することにより所望する抵抗体パターンが形成される。
導体パターン3a、3bのパターン幅方向と直交する方向、即ちこれらの導体パターン3a、3bの端辺方向に高周波信号が伝送するようになっている。導体パターン3a、3bの各両端辺に対して斜めにパターニングされた直列抵抗体4は、高周波信号から見ると、端辺方向に沿って分布する抵抗器として機能するようになっている。
導体中を流れる高周波電流は導体パターン3a、3bの導体中に表皮深さだけ侵入した状態で、左方から右方へ向かって伝搬する。高周波電流が導体パターン3aの右側に位置する斜め縁部から出射し、誘電体基材2上に残存する抵抗膜に入射する。抵抗膜媒質中を高周波電流が伝搬することにより、この高周波電流に対し直列抵抗体4は抵抗成分として作用する。更に直列抵抗体4から、高周波電流は導体パターン3bの左側に位置する斜め縁部より入射し、右方へと進行する。
導体パターン3a、3bの全パターン領域のうち、進行方向に沿って高周波信号に対して直列抵抗体4が抵抗として寄与するパターン領域の範囲の範囲長さを11で表すこととすると、直列抵抗体4のパターニング方向と、導体パターン3a、3bの端辺とが成す角度は、範囲長さ11が高周波信号の波長よりも短くなるようにして決められる。言い換えれば、高周波減衰器1は、抵抗膜を集中定数回路素子と見なさないことを特徴としているため、必要な減衰量を得る抵抗体のパターンを設計するためには、電磁界解析などの手法を必要とする。
直列抵抗体4の角度の大きさ、パターン厚、パターン幅などは電磁界シミュレーションによって求める。この例では、シミュレータのシミュレーションソフトウェアにはSonnet Software社のemを用いた。高周波減衰器1が入力される高周波エネルギを0.5dB減衰させるという条件で電磁界解析を行った。条件は、誘電体の基材はアルミナでありその比誘電率は10、この誘電体の基材の厚さは0.381mm、誘電体の基材の表面及び裏面の導体パターンは金、抵抗体のシート抵抗値は50Ω/squareと仮定した。解析の結果、直列抵抗体4の幅10をおよそ0.04mm、導体パターン3a、3bの端辺との成す角度をおよそ30度とした場合に、0.5dBの減衰量を実現できることがわかった。この例の直列抵抗体4の幅10は、従来の1dBの減衰量の減衰器の直列抵抗体をなすギャップ57の長さとほぼ同じであり、製作工程の製造限界に対して余裕があることがわかる。
このような構成の高周波減衰器1を製造するにあたり、製造限界を示すラインアンドスペースのルールは、例えばフォトリソグラフィ法を用いれば、エッチング照射光の波長によって支配されるため、製造上の制限が存在するが、これに対し余裕があることがわかる。
図3を参照して、この実施例の原理を説明する。図3(a)は高周波減衰器1の上面要部拡大図であり、図3(b)は比較例としての高周波減衰器101の上面要部拡大図である。同図中、既出の符号はそれらと同じ要素を表す。図3(b)では高周波信号が伝搬したときに、直列抵抗体54が伝搬方向に沿って幅dの微小領域においてのみパターン幅方向で均一な大きさの抵抗値の抵抗が存在することとなる。抵抗体は伝送方向で1箇所にのみ分布している。
一方、図3(a)では、直列抵抗体4は斜めに設けられているため、各微小領域において高周波信号に対しては少しずつ抵抗が見える。つまり、微小領域に分けて考えた場合、伝搬方向に沿って各微小領域において高周波信号に対して1つの抵抗膜の片の抵抗値が存在することとなる。抵抗器は伝搬方向で複数の箇所に分布していると見なすことができるため、高周波信号に対する抵抗値が小さい。このように、各微小領域ごとに微小減衰が連続的に繰り返されることで、所望の減衰量を得ている。
誘電体媒質の影響によって高周波伝送線路を伝搬する電磁波の波長は真空中での電磁波の波長よりも短くなる。電磁波の周波数が例えば3GHz、10GHzであるとき、誘電体基材2中での波長はそれぞれ100mm、30mmである。シミュレーションでは、直列抵抗体4の端辺方向についての範囲長さ11が、誘電体基材2中での電磁波波長よりも短くなるように直列抵抗体4のパターンの傾きを決める。
パターンの傾斜角が大きくなるに連れて範囲長さ11は大きくなる。この範囲長さ11が誘電体基材2中での電磁波波長よりも相対的に長くなると、十分な減衰量を得られない。範囲長さ11が波長よりも相対的に長過ぎる場合、伝搬する電磁波にとってはほとんど抵抗成分がない線路と同等といえる。一方、範囲長さが誘電体基材2中での波長に比べて小さく、微小距離内に縮込まっているような場合、伝搬する電磁波にとっては抵抗成分から強い作用を受けているように見える。
以上のように、高周波減衰器1では、直列抵抗体4が、高周波伝送線路導体に対して斜めにパターニングされたことを特徴とし、高周波伝送線路導体に対して斜めにパターニングされた直列抵抗体4は、その斜めにわたる長さ(範囲長さ11)が、電磁波波長よりも短い場合、パターンギャップ10を狭めなくても高周波抵抗値を下げることができるという効果を奏する。従って、減衰量1dBよりも微小な量、例えば減衰量0.5dBの減衰器を製造することができるようになる。
また、パターンギャップ10を、フォトリソグラフィ法などを用いて安定にパターンを刻むことによって製造することができ、製作工程での限界値に抵触することなく、高周波減衰器1を製造することができ、工程不良を起こさずにパターンギャップ10を作成することができる。パターン幅やパターンギャップの寸法ばらつきや、これらエッチング精度に依存する抵抗値の精度の劣化などを考慮せずに、0.5dBなど1dB以下の減衰量を持つ減衰器を実現できる。
このようにして、本実施形態に係る高周波減衰器1及び高周波装置によれば、高周波伝送線路導体に対して斜めに直列抵抗体4を配置し、その斜めにわたる範囲長さが伝搬する電磁波の波長よりも短い場合、直列抵抗体4に相当する部分のパターンギャップ10を狭めなくても高周波抵抗値を下げるという効果を奏することができる。このため、マイクロストリップ線路等の高周波伝送線路を形成するパターンギャップ製作工程の製造限界に対して余裕を持つ設計手法を用いて高周波減衰器1を製作でき、且つ減衰量の精度を劣化させずに高周波減衰器1を製作できるようになる。これは、高周波エネルギを微小量だけ減衰させることができる特徴がある。
(第2の実施形態)
本発明の第2の実施形態に係る高周波減衰器は並列抵抗体5、6を設けずに構成されている。本実施形態に係る高周波装置も、高周波用の周波数変換器、増幅器、及び本実施形態に係る高周波減衰器を備えた高周波装置である。図4に、図1の並列抵抗体5、6が形成されずに構成した高周波減衰器の例を示す。
図4は本実施形態に係る高周波減衰器の上面図である。既出の符号は同じ要素を表す。高周波減衰器1Aはπ型構成のマイクロ波減衰器である。高周波エネルギの減衰量が特に小さい減衰器を製作する場合、それぞれ高周波伝送線路導体としての導体パターン3a、3bに並列に形成されるべき2つの抵抗膜の抵抗値はいずれも極めて大きな値となる。これは、伝搬する電磁波の周波数帯域でのインピーダンス上、各抵抗膜の存在の意味が比較的小さくなることを意味する。この場合、並列抵抗体5、6の形成を省略したとしても、高周波減衰器1Aの特性インピーダンスと、高周波伝送線路の特性インピーダンス50Ωとのずれは小さく、V.S.W.R.に代表される反射特性の劣化は小さい。伝送線路の途中で特性インピーダンスが変化せず、反射波が発生しないため、線路の整合を維持することができるようになっている。
本発明のこの実施形態に係る高周波減衰器は並列抵抗体5、6を設けずに構成されるため、これらの並列抵抗膜等を製造する工程が不要となる。また、減衰量0.5dB等、1dB以下の減衰量を持つ高周波減衰器1Aの直列抵抗のパターニングを行える。
(第3の実施形態)
上記第1及び第2の各実施形態に係る高周波減衰器の変形例について図5、図6を参照して説明する。これらの図中、既出の符号はそれらと同じ要素を表す。本発明の第3の実施形態に係る高周波減衰器は、これらの図では図示しない誘電体基材2と、それぞれこの誘電体基材2の表面にパターニングされた以下に述べる形状を有する導体パターンと、それぞれ誘電体基材2の表面にパターニングされた以下に述べる直列抵抗体と、並列抵抗体と、接地導体7とを備えている。
図5(a)は本発明の第3の実施形態に係る第1の高周波減衰器の上面要部拡大図である。図5(a)に示すように、高周波減衰器1Bは直列抵抗体4のパターンの傾きを図1の例と逆にした構成である。これにより、上記効果と同様の効果が得られる。微小減衰量の直列抵抗のパターニングを行える。
図5(b)は本発明の第3の実施形態に係る第2の高周波減衰器の上面要部拡大図である。図5(b)に示す高周波減衰器1Cは、複数の抵抗膜の片12を露出形成させて成り、各片12が誘電体基材2の導体パターン3c上で相互に分断した状態で現れるよう導体膜をエッチングで除去するようにして作成している。
この高周波減衰器1Cによっても、減衰量0.5dB等、1dB以下の減衰量を実現できる。シミュレーションに必要な値やパラメータは、適宜、変更、調節した上でシミュレーションが行われ、パターンギャップや傾きなどの詳細値が決められる。
図6(a)は本発明の第3の実施形態に係る第3の高周波減衰器の上面要部拡大図である。図6(a)に示す高周波減衰器1Dは、互いに平行にパターニングされた2箇所の直列抵抗体13、14を有する。これらの直列抵抗体13、14のパターンギャップは等しくても良いし、等しくなくてもよい。
また、3箇所以上に互いに平行な直列抵抗体をパターニングしてもよい。
また、上記各高周波減衰器はいずれもπ型構成であるが、本発明の実施の形態に係る高周波減衰器はT型構成としてもよい。
図6(b)は本発明の第3の実施形態に係る第4の高周波減衰器の上面要部拡大図である。図6(b)に示す高周波減衰器15はT型構成の減衰器である。2つの直列抵抗体16を誘電体基材2上に作成する。導体パターン3cの全パターン領域のうち、これらの直列抵抗体16の各一端部の間に位置するパターン領域の中央部に並列抵抗体17が形成されている。この並列抵抗体17は誘電体基材2の表面にパターニングされ、スルーホール18を介して図示しない接地導体7に接続される。T型構成の高周波減衰器によっても、π型構成の各高周波減衰器で得られた効果と同様の効果を得られる。
尚、本発明は上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。
上記実施形態の直列抵抗体のパターンは電磁界解析により演算可能な形状にすることにより、種々変形可能である。上記実施形態では直列抵抗体4のパターンギャップ10は一定であった。直列抵抗体4を入力側から見たときの特性インピーダンスと、これを出力側から見たときの特性インピーダンスとが同じ50Ωになるように、パターニングの傾きやパターンギャップあるいは並列抵抗体5、6の値等を適宜調節することによって、左右で不平衡な導体パターンを用いることができる。
上記の実施形態では、アルミナ(Al23)に代表されるセラミック基板上に薄膜を形成する方法を説明したが、本発明の実施の形態に係る高周波減衰器は、ガラスエポキシ樹脂基板やフッ素樹脂基板に代表される樹脂基板上に銅箔を形成する方法で製造されてもよい。ただし、銅箔を形成して製造する場合、一般的にはパターン幅及びパターンギャップ幅の精度限界は低下する。従って、導体パターン3a、3bあるいは3cや、直並列抵抗体のパターニングを正確に作成することはやや難しくなるので注意を要する。
あるいは、本発明の実施の形態に係る高周波減衰器は多層基板を用いてもよい。
また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。
1,1A,1B,1C,1D…高周波減衰器、2…誘電体基材(基材)、3a,3b,3c…導体パターン(ストリップ導体)、4,13,14,16…直列抵抗体(抵抗体)、5,6,17…並列抵抗体(抵抗体)、7…接地導体、8、9…スルーホール、10…パターンギャップ、11…範囲長さ(抵抗体の斜めに亘る長さ)、12…片、18…スルーホール。

Claims (8)

  1. 誘電体の基材と、
    この基材の裏面に設けられた接地導体と、
    この接地導体および前記基材とともに信号を伝送する高周波伝送線路を構成し、前記基材の表面に設けられ、前記信号が伝送する方向に対して斜め方向のスリットが形成されたストリップ導体と、
    前記スリットにおいて前記基材の表面に設けられ、前記信号が伝送する方向の両側で前記ストリップ導体と接続された抵抗体と、を備えることを特徴とする高周波減衰器。
  2. 前記抵抗体は前記基材上に形成された抵抗膜であり、前記信号が伝送する方向に沿ってこの抵抗膜が形成された範囲の長さが、前記高周波伝送線路を伝送する電磁波の波長よりも短いことを特徴とする請求項1記載の高周波減衰器。
  3. 前記抵抗体は、前記高周波伝送線路を伝搬する高周波エネルギを減衰させることを特徴とする請求項1記載の高周波減衰器。
  4. 前記抵抗体は前記基材上に形成された抵抗膜であり、前記抵抗体は、この抵抗膜上に導体膜を成膜した後、この導体膜を除去し、除去された部分から前記抵抗膜を露出させることによって形成されたパターンギャップを前記スリットに有することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の高周波減衰器。
  5. 高周波信号を増幅する高周波増幅器と、
    この高周波増幅器に接続又は内蔵される高周波減衰器とを備え、
    この高周波減衰器は、
    誘電体の基材と、
    この基材の裏面に設けられた接地導体と、
    この接地導体および前記基材とともに前記高周波信号を伝送する高周波伝送線路を構成し、前記基材の表面に設けられ、前記高周波信号が伝送する方向に対して斜め方向のスリットが形成されたストリップ導体と、
    前記スリットにおいて前記基材の表面に設けられ、前記高周波信号が伝送する方向の両側で前記ストリップ導体と接続された抵抗体と、を有することを特徴とする高周波装置。
  6. 高周波信号の周波数を変換する周波数変換器と、
    この周波数変換器に接続又は内蔵される高周波減衰器とを備え、
    この高周波減衰器は、
    誘電体の基材と、
    この基材の裏面に設けられた接地導体と、
    この接地導体および前記基材とともに前記高周波信号を伝送する高周波伝送線路を構成し、前記基材の表面に設けられ、前記高周波信号が伝送する方向に対して斜め方向のスリットが形成されたストリップ導体と、
    前記スリットにおいて前記基材の表面に設けられ、前記高周波信号が伝送する方向の両側で前記ストリップ導体と接続された抵抗体と、を有することを特徴とする高周波装置。
  7. 前記抵抗体は、前記高周波伝送線路を伝搬する高周波エネルギを減衰させることを特徴とする請求項5記載の高周波装置。
  8. 前記抵抗体は、前記高周波伝送線路を伝搬する高周波エネルギを減衰させることを特徴とする請求項6記載の高周波装置。
JP2009260934A 2009-11-16 2009-11-16 高周波減衰器および高周波減衰器を用いた高周波装置 Expired - Fee Related JP5306153B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009260934A JP5306153B2 (ja) 2009-11-16 2009-11-16 高周波減衰器および高周波減衰器を用いた高周波装置
US12/869,191 US8604892B2 (en) 2009-11-16 2010-08-26 High frequency attenuator and high frequency device using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009260934A JP5306153B2 (ja) 2009-11-16 2009-11-16 高周波減衰器および高周波減衰器を用いた高周波装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2011109312A JP2011109312A (ja) 2011-06-02
JP5306153B2 true JP5306153B2 (ja) 2013-10-02

Family

ID=44010894

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009260934A Expired - Fee Related JP5306153B2 (ja) 2009-11-16 2009-11-16 高周波減衰器および高周波減衰器を用いた高周波装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US8604892B2 (ja)
JP (1) JP5306153B2 (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8736344B1 (en) * 2012-04-30 2014-05-27 Maxim Integrated Products, Inc. Voltage controlled variable attenuator
US10650940B2 (en) 2015-05-15 2020-05-12 At&T Intellectual Property I, L.P. Transmission medium having a conductive material and methods for use therewith
CN105789798A (zh) * 2016-03-31 2016-07-20 西安空间无线电技术研究所 一种衰减器
WO2019139562A1 (en) * 2018-01-09 2019-07-18 Thin Film Technology Corporation High frequency attenuator
US10153208B1 (en) 2018-01-09 2018-12-11 Thin Film Technology Corporation High frequency attenuator
US10476122B2 (en) * 2018-03-15 2019-11-12 International Business Machines Corporation Cryogenic-stripline microwave attenuator

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2525383A1 (fr) * 1982-04-16 1983-10-21 Cables De Lyon Geoffroy Delore Resistances en constantes reparties pour charges a forte dissipation en hyperfrequence
JP2000183609A (ja) 1998-12-21 2000-06-30 Mitsubishi Electric Corp マイクロ波減衰器
JP2000261209A (ja) * 1999-03-08 2000-09-22 Mitsubishi Electric Corp 可変減衰器
JP2001144395A (ja) * 1999-11-17 2001-05-25 Mitsubishi Electric Corp 高周波回路
JP3567144B2 (ja) * 2001-06-04 2004-09-22 釜屋電機株式会社 チップ形抵抗器およびその製造方法
JP2007227695A (ja) * 2006-02-24 2007-09-06 Cmk Corp プリント配線板

Also Published As

Publication number Publication date
JP2011109312A (ja) 2011-06-02
US20110115583A1 (en) 2011-05-19
US8604892B2 (en) 2013-12-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5306153B2 (ja) 高周波減衰器および高周波減衰器を用いた高周波装置
US6958662B1 (en) Waveguide to stripline transition with via forming an impedance matching fence
JP4371065B2 (ja) 伝送線路、通信装置及び配線形成方法
JP5172481B2 (ja) ポスト壁導波路によるショートスロット方向性結合器とこれを用いたバトラーマトリクス及び車載レーダアンテナ
CN102593565B (zh) 电介质波导管的输入输出连接构造
CN108777343B (zh) 基片集成波导传输结构、天线结构及连接方法
JP5153866B2 (ja) 電力分配器
JP2011223203A (ja) 導波管・平面線路変換器及び高周波回路
Tayde et al. An optically transparent and flexible microwave absorber for X and Ku bands application
AU2013279083B2 (en) Balun
CN110521055A (zh) 电介质波导管的连接结构
WO2011152054A1 (ja) 配線基板及び電子装置
JPWO2008146535A1 (ja) 終端器
JP2006352347A (ja) 高周波伝送線路
JP4794616B2 (ja) 導波管・ストリップ線路変換器
CN119651097A (zh) 一种基于混合谐振器结构的多吸收带超宽带共模滤波器
JP7598490B2 (ja) 伝送線路
JP5550489B2 (ja) 無反射終端抵抗回路
CN113346213B (zh) 一种从带状线到共面波导的渐变转接结构
Coulombe et al. Reflection-type artificial dielectric substrate microstrip dispersive delay line (DDL) for analog signal processing
KR100764604B1 (ko) 그라운드판을 가진 비방사마이크로스트립선로
JP2024064356A (ja) マイクロ波回路
KR100907270B1 (ko) 마이크로스트립 선로를 이용한 밀리미터파 광대역 대역통과필터
Rave et al. A multilayer substrate integrated 3 dB power divider with embedded thick film resistor
JP6279189B2 (ja) 終端器及び高周波回路

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20111222

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20121114

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121120

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130116

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130604

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130625

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 5306153

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees