JP5317445B2 - 液晶表示装置及びその製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、液晶表示装置及びその製造方法に関する。

薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）素子が形成されたＴＦＴ基板と、カラーフィルタ（ＣＦ）が形成されたＣＦ基板と、これらの２枚の基板で挟まれた液晶と、で構成される液晶表示装置のパネルがある。また、このようなパネルの液晶充填方法として、２枚の基板間に液晶を挟持するべく表示領域周辺に熱硬化樹脂などのシール材による液晶を封入するための封入口をもつパターンを形成し、シール材を硬化した後、液晶を封入口より充填、封口する方法が取られている。しかし、液晶を封入するための時間がかかるなどの理由により、これを解決する方法として液晶滴下法（ＯＤＦ：Ｏｎｅ Ｄｒｏｐ Ｆｉｌｌｉｎｇ）が知られている（特許文献１参照）。

液晶滴下法では、一方の基板に、ディスペンサまたはスクリーン印刷により、シールパターンを形成する。そして、シールパターンを形成した基板に、所定量の液晶を滴下し、もう一方の基板を真空中でアライメントして重ね合わせ、圧着する。

ところで、液晶を封入する方式では、シール材が硬化した後に液晶を封入するため、液晶がシール材に入り込んだり、シール材を越えるような不良が発生することは無かった。一方、液晶滴下法では、シール材が未硬化の軟らかい状態で液晶を滴下し、シール材が硬化するまでの間に、基板を貼り合わせて、大気圧にて圧着する。したがって、パネル内の液晶が２枚の基板により押されるために、滴下量が過剰であると、液晶がシール材に入り込む現象や、シール材を越えて漏れ出すといった現象が生じる。この点、特許文献１には、インラインで液晶滴下量を制御およびその余剰分を回収することにより、過剰の液晶の漏れを防止することが記載されている。

特開２００２−１０７７４０号公報

しかし、インラインでの液晶滴下量の制御および余剰な滴下液晶の回収を行うと、それに要する設備投資の増大、工程の増大を生じ、不利である。

本発明は、上記課題を解決すべくなされたものであり、表示領域を制限することなく、過剰な液晶のシール部への入り込みや漏れを抑制することを目的とする。

上記課題を解決すべく、本発明者らは、シール材の層の厚さを薄くした方が、過剰な液晶のシール部への入り込みを抑制できることを見出した。そこで、本発明では、２つの基板を張り合わせたときのシール材の層の厚さを、表示領域に相当する部分の液晶層の厚さと同じかそれより狭くなるようにする。そのために、例えば、少なくとも一方の基板に、シール材を塗布するための台座層を設ける。

例えば、本願発明の第１の態様は、第１の基板と第２の基板とで液晶を挟んでなる液晶表示装置であって、前記第１の基板と前記第２の基板とは、前記液晶の充填領域を囲うように設けられたシール材により接着されており、前記第１の基板は、その基板上にカラーフィルタ層を有するカラーフィルタ基板であり、前記第１の基板は、その上に前記シール材を備える台座層を有し、前記シール材には、ギャップ材が含まれており、前記台座層はその上に、溝と、当該溝よりも表示領域側に設けられた内側土手と、を有するとともに、前記シール材は、前記溝の内部及び前記内側土手の上に設けられており、前記ギャップ材は、前記溝の内部に設けられており、前記台座層の厚さは、表示領域に対応する前記カラーフィルタ層の厚さよりも厚く、かつ前記液晶の層の厚さよりも厚く、前記シール材の層の厚さは、表示領域に相当する部分の液晶の層の厚さ以下であり、前記カラーフィルタ層より厚い台座層と前記液晶の層よりも薄いシール材とが、前記表示領域の全周にわたって形成されている。

また、本願発明の第２の態様は、第１の基板と、第２の基板とを備え、前記第１の基板と前記第２の基板とで液晶を挟んでなり、前記第１の基板は、その基板上にカラーフィルタ層を有するカラーフィルタ基板である液晶表示装置の製造方法であって、前記第１の基板上に形成され、溝と、それより内側の内側土手とを有する台座層上に前記液晶の充填領域を囲むように、ギャップ材を含むシール材を塗布するステップと、前記台座層と前記シール材の内側に液晶を充填するステップと、前記液晶の充填後に、前記第１の基板と前記第２の基板とを貼り合わせるステップとを有し、前記シール材は、前記第１の基板と前記第２の基板とを貼り合わせたときには、前記溝内と前記内側土手上に設けられるとともに、その層の厚さが、前記カラーフィルタ層が設けられた表示領域に相当する部分の液晶の層の厚さ以下になるように形成され、前記ギャップ材は、前記溝の内部に設けられ、前記台座層の厚さは、表示領域に対応する前記カラーフィルタ層の厚さよりも厚く、かつ前記液晶の層の厚さよりも厚く、前記カラーフィルタ層より厚い台座層と前記液晶の層よりも薄いシール材とが、前記表示領域の全周にわたって形成されている。

図１は、本発明の一実施形態が適用された液晶表示装置の断面図である。図示するように、液晶表示装置は、第１の基板１０と、第２の基板２０と、液晶層３０と、シール部６０とからなる。

第１の基板１０は、いわゆるカラーフィルタ基板である。第１の基板１０は、第２の基板２０に対向する面に、ブラックマトリックス層１１と、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の着色レジスト層１２と、着色レジスト層１２を平坦化するためのオーバコート層１３と、配向膜１４とを有している。

なお、図１の液晶表示装置は、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ−Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式であるため、第１の基板１０に透明電極層が存在しない。しかし、本発明は、ＩＰＳ方式以外の液晶表示装置にも適用可能であり、その場合は、第１の基板１０のオーバコート層１３と、配向膜１４との間に、透明電極層が存在することになる。

第２の基板２０は、いわゆるＴＦＴ基板であり、第１の基板に対向する面に、配向膜２１を有している。

液晶層３０は、第１の基板１０と第２の基板２０とに挟持され、配向膜１４及び配向膜２１により配向している。

シール部６０は、第１の基板１０と第２の基板２０との間に挟まれた液晶３０を密封するために設けられている。シール部６０は、液晶表装置を上面からみたとき、液晶３０の充填領域を囲うような、矩形状の閉曲線で表される（図２（Ｃ）、（Ｄ）の斜視図を参照
）。シール部６０は、シール材台座層４０と、シール材５０とからなる。

シール材台座層４０は、第１の基板１０と第２の基板２０とを貼り合わせるときに塗布されるシール材５０の台座である。シール材台座層４０は、シール材５０の層の厚さ（シールギャップ）ｎを、液晶３０の表示領域に相当する部分の厚さ（セルギャップ）ｍと同じか又はｍより狭くするために設けられている。シール材台座層４０の厚さＬ１は、第１の
基板１０上に形成されたカラーフィルタ層の表示領域に相当する部分の厚さＬ２と同じか又はＬ２より厚くする。

シール材台座層４０の厚さＬ１は、例えば、１〜４μｍの範囲であり、カラーフィルタ層の厚さＬ２比べて、０〜３μｍ程度、厚いのが好ましい。

シール材台座層４０の材質には特に制限はないが、カラーフィルタを形成する工程で同時に形成した場合、ブラックマトリックス１１と同じ材料の層４１、着色レジスト層１２と同じ材料の層４２、オーバコート層１３と同じ材料の層４３とが積層して形成される。

シール材５０は、シール台座層４０と第２の基板２０とを接着する。シール材台座層４０の存在により、シール材５０の層の厚さ（シールギャップ）ｎは、液晶３０の表示領域に
相当する部分の厚さ（セルギャップ）ｍと同じか又はｍより狭い。

セルギャップｍは、通常、３〜５μｍの範囲であるので、シールギャップｎは、１〜５μｍの範囲であるのが好ましい。シールギャップｎが大きすぎると、シール材５０への液晶３０の入り込み現象が生じやすくなり、小さすぎると、接着信頼性が低下する。

シール材５０の材料は、液晶表示装置の基板の貼り合わせに一般的に用いられるものが使用できる。シール材５０には、所望のシールギャップｎを確保するために、スペーサ部材（ギャップ材）５２が含まれている。スペーサ部材５２は、絶縁体の微粒子で変形しないものが好ましい。例えば、径１μｍのシリカビーズやシリカファイバである。

次に、上記のように構成される液晶表示装置のパネルの製造方法について説明する。なお、本実施形態の製造方法は、２枚の基板の貼り合わせ工程に特徴がある。それ以外のパネル製造工程については、公知の方法を採用できるので、説明を省略する。

本実施形態では、液晶の充填方法として、液晶滴下法を用いる。そして、その際のシール材の塗布に工夫をしている。

図２は、第１の基板１０と第２の基板２０とを貼り合わせるまでの工程を説明するための図である。

本実施形態の製造方法は、液晶滴下量のばらつきの影響を受け易い小型パネルの製造に好適である。例えば、パネルサイズ（対角寸法）は、０．８〜１２インチのパネルである。基板サイズには制限が無く、その主面への小型パネルの多面付けが可能である。

なお、第１の基板には、対向する第２の基板との間隔を適切に保持するための高さ約４μｍのギャップ材（スペーサ）が配置されているとする。

第１の基板１０に、シール台座層４０を形成する（図２（Ａ），（Ｂ）参照）。シール台座層４０は、液晶３０の充填領域を囲うように形成する。また、液晶が漏れないようにする必要があるので、閉曲線となるように形成する。線幅は約０．８ｍｍである。なお、シール台座層４０の上に塗布されるシール材５０の線幅は、約０．６５ｍｍである。シール材５０のパターニング精度が±０．１ｍｍであるとすると、シール台座層４０の線幅は、シール材５０の線幅よりも０．１ｍｍ以上広くなるようにすると良い。

シール台座層４０は、カラーフィルタ層の形成工程を利用して形成することができる。すなわち、フォトリソグラフィにより、ブラックマトリックス層１１、ＲＧＢの着色レジスト層１２、オーバコート層１４を順に形成する際に、シール部６０に相当する位置にも、これらに対応する層４１、４２、４３を積層させる。これにより、表示領域のカラーフィルタ層より、３μｍ程度高いシール台座層４０が形成できる。

例えば、セルギャップ３．０μｍの液晶表示装置を作製する場合、カラーフィルタ層およびシール台座層４０を構成する層の膜厚を次のようにすることができる。
着色レジスト層１２（対応する層４２）の膜厚＝０．７μｍ
ブラックマトリクス層１１（対応する層４１）の膜厚＝１．０μｍ
オーバーコート層１３（対応する層４３）の膜厚＝１．１μｍ
かかる場合、シール台座層４０の膜厚Ｌ１＝４．１μｍとなる。このとき、ｍ＋Ｌ２＝３．０μｍ＋２．１μｍ＝５．１μｍである。そこで、ｎ＝５．１μｍ−４．１μｍ＋０．１μｍ＝１．１μｍとなるスペーサ部材（ギャップ材）５２をシール材５０へ添加してシールパターンを形成すればよい。

また、上記のような各層の厚さのままセルギャップ４．０μｍの液晶表示装置を形成するには、ｎ＝２．１μｍとなるスペーサ部材（ギャップ材）５２をシール材へ添加してシールパターンを形成すればよい。

一方、２．０μｍの液晶表示装置を作製する場合、シール台座層４０に形成する着色レジスト層１２の内の一色分の層４２を除き、Ｌ１＝３．４μｍとする。ｍ＋Ｌ２＝２．０μｍ＋２．１μｍ＝４．１μｍであるので、ｎ＝０．８μｍとなるスペーサ部材（ギャップ材）５２をシール材５０へ添加してシールパターンを形成すればよい。

なお、シール台座層４０は、カラーフィルタ層の形成後に、単独で樹脂前駆体を硬化させて形成することもできる。例えば、シール部６０に相当する位置に、ホトリソグラフィ、ディスペンサやスクリーン印刷法により、シール台座層４０の材料でパターンを形成する。かかる場合のシール台座層４０の材料としては、アクリレート樹脂などを用いることができる。樹脂前駆体で形成されたシール台座層４０は、シール材５０のパターニング以前に硬化するものが好ましく、常温では流動しないものがよい。

こうして、シール台座層４０を形成すると、次に、配向膜１４を形成する。その後、ディスペンサやスクリーン印刷法により、シール台座層４０上に、シール材５０のパターンを形成する（図２（Ｃ）参照）。

なお、配向膜１４は、０．１μｍ程度である。そこで、配向膜１４を形成する工程を利用して、シール台座層４０に、配向膜１４に対応する層をさらに積層させてもよい。そして、配向膜１４の層を積層したシール台座層４０上に、シール材５０のパターンを形成するようにしてもよい。

このとき、第１の基板１０に、外縁に沿った外周シール枠８０も設けてもよい。外周シール枠８０を設けるのは、２枚の基板を貼り合わせたときに、外周シール枠８０と内側のシール材５０のパターンとの間の領域を真空に封止するためである。この領域を真空にすれば、大気圧に戻したときに、大気圧を利用して、確実に圧着を行うことができる。外周シール枠８０は、面取り工程において、切り捨てられる部分であり、液晶を封止するシール材８０のパターンとその役目が実質的に異なる。なお、このような機能を持った外周シール枠８０は、複数設けてもよい。

シール材５０の材料は、液晶表示装置の基板の貼り合わせに通常用いられるものでよい。例えば、アクリレート樹脂、変性エポキシ樹脂などの紫外線硬化性樹脂である。シール材５０には、２枚の基板を貼り合わせたときのシール材５０の層を所望の厚さに確保するために、スペーサ部材（ギャップ材）が配合してある。スペーサ部材は、絶縁体の微粒子が好ましい。例えば、径１μｍ程度のビーズやシリコンファイバが０．５〜５％配合されている。

なお、シール材５０のパターンは、第２の基板２０のシール部６０に対応する位置に形成してもよい。

次に、真空中で、表示領域に、液晶３０を１，２滴、滴下し、２枚の基板を貼り合わせて封着する（図２（Ｄ）参照）。そして、大気圧に戻した後、紫外線照射を行い、さらに加熱炉で１２０℃程度で、約１時間加熱してシール材５０を硬化させる。

以上、２枚の基板を貼り合わせ、液晶を充填する工程について説明した。その後は、公知の製造プロセス（洗浄、面取り工程、偏光板張付け工程など）により、液晶表示装置が完成する。

以上、本発明の一実施形態が適用された液晶表示装置及びその製造方法について説明した。

上記実施形態によれば、過剰量の液晶３０が滴下された場合における、液晶３０のシール部６０への入り込みや漏れを抑制できる。すなわち、図３で示されるような、液晶３０がシール材５０に入り込んでしまう現象を抑制できる。図中、符号５１は、シール材５０に入り込んでしまった液晶３０を示す。上記実施形態によれば、このような入り込み５１の度合いｋを抑制できる。すなわち、従来の方法にくらべ、滴下量がより”おおざっぱ”であっても、仕様として許容されるセルギャップを備えたパネルを製造することができる。

本発明は、上記実施形態に制限されることない。上記実施形態は、様々な変形が可能である。

例えば、シール材台座層４０は、第１の基板１０と第２の基板２０の少なくとも一方に設けられていればよい。すなわち、第２の基板２０に設けるようにしてもよい。

また、図４（液晶表示装置の端部の断面図）に示すように、二つの基板の両方にシール材台座層４０を設けるようにしてもよい。このようにしてもシールギャップｎを狭くすることができる。

また、図５（液晶表示装置の端部の断面図）に示すように、シール台座層４０に、ギャップ材５２が嵌まり込むことが可能な溝４０ｈを設けてもよい。このような溝は、両側に土手となる樹脂層をフォトリソグラフィなどで形成すれば、形成できる。こうすれば、ギャップ材５２を確実にシール台座層４０の所定の位置に留め置くことができ、所望のシールギャップｎを容易に達成することができる。ギャップ材５２は、溝４０ｈに完全に埋もれることがないよういな大きさである。具体的には、ギャップ材５２の高さ（ビーズの場合、直径）／溝４０ｈの深さは１．１以上であるのが好ましい。１．１よりも小さい場合、ギャップ材５２とシール台座層４０の高さが近接してしまい、シール台座層４０と対向基板（第２の基板２０）とが接触することがある。その場合、シール台座層４０の上面は平面であるため、シール材５０がシール台座層４０と対向基板間に残存する。このとき、シール材５０の残存量が部分的に異なるとセルギャップのばらつきの原因となる。

また、図６（液晶表示装置の端部の断面図）に示すように、シール台座層４０の形状を、断面が円弧（いいかえれば、かまぼこ型）で、盛り上がるように形成してもよい。このように、天頂４０ｔが曲面になるようにすれば、対向する基板と、面ではなく、線により、接触するようになるので、密着性が向上する。すなわち、天頂が平面の場合、シール台座層４０と対向基板（第２の基板２０）との間に存在するシール材５０の残存量のばらつきを低減でき、ギャップのばらつきを抑えることができる。

＜実施例＞
以下に、本発明の実施例を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。

本実施例では、図１に示した液晶表示装置を、図２に示した製造工程により作製した。具体的には、４２×３１．５の２インチサイズの小型液晶ディスプレイパネルを作製した。なお、ギャップ材として、直径４μｍのポリスチレンビーズを使用した。

第１の基板（カラーフィルタ基板）１０を作製する際、シール部６０に相当する位置に、ブラックマトリックス層、Ｒ，Ｇ、Ｂの着色レジスト層を重ね、更にその上にオーバコート層を成膜した。そして、表示領域の層の厚さＬ２よりも厚さＬ１が３μｍ厚いシール材台座層４０を作製した。このときのブラックマトリックス１１は、約１μｍの樹脂である。

次に、第１の基板１０の表示領域に配向膜１４を成膜した後、ディスペンサによりシール材台座層４０上にシール材５０を塗布した。シール材５０は、紫外線硬化性樹脂であり、径１μｍのシリカファイバ５２を０．５％配合してある。

次に、液晶３０を２滴、表示領域に滴下し、第２の基板（ＴＦＴ基板）１０を位置あわせして、真空チャンバの中で貼り合わせた。

チャンバ内を大気圧に戻した後、貼り合わせた基板を取り出し、紫外線照射を行い、さらに加熱炉で１２０℃で、１時間加熱してシール材５０を硬化させた。その後、基板を切断して、液晶表示装置のパネルが完成した。

完成したパネルにおいては、液晶漏れは発生せず、また図３に示したような内部の液晶３０がシール材５０に入り込む現象も見られなかった。

以上、本願発明の実施形態及び実施例について説明した。

最後に、本願発明に含まれるシール台座層４０の形状及び配置についてまとめる。

図７〜図１４は、シール部の断面図である。それぞれ、２つの基板１０、２０の貼り合わせ前後の様子（「左の図」は、貼り合わせ前である。「右の図」は、貼り合わせ後である。）を示している。それぞれの図において、シール部の左側は、液晶３０が充填され表示領域となるパネルの内部（ｉｎｓｉｄｅ）である。

図７（Ａ）に示すように、第１の基板（カラーフィルタ基板）１０に、シール台座層４０を形成することができる。これは、上記実施形態で説明した態様である。かかる場合、シール台座層４０は、カラーフィルタ（着色レジスト層、ブラックマトリックス層）の形成に使用する材料により、カラーフィルタを形成する層の形成とともに、形成することができる。

また、図７（Ｂ）に示すように、第２の基板（ＴＦＴ基板）２０に、シール台座層４０を形成することもできる。かかる場合、シール台座層４０は、ＴＦＴ（配線膜、絶縁膜、保護膜等）の形成に使用する材料により、ＴＦＴを形成する層の形成とともに、形成することができる。

また、図７（Ｃ）に示すように、第１の基板１０及び第２の基板２０の両方に、シール台座層４０ａ、４０ｂをそれぞれ形成してもよい。かかる場合、シール台座層４０ａ、４０ｂのそれぞれを厚膜にする必要がなく、製造工程が簡略化できる。

また、図８（Ａ）に示すように、シール台座層４０は、内側と外側に２つの土手４０ｍと４０ｎを備え、その間に、溝４０ｈを形成していてもよい。土手４０ｍ及び４０ｎは、表示領域を囲うような閉ループを描いている。溝４０ｈに、ギャップ材５２を含むシール材５０が塗布される。これは、上述の図５に対応する。かかる場合、シールギャップｎを極めて狭めることができ、液晶３０に接触するシール材５０の面積を少なくでき、シール材５０の汚染を抑制できる。

また、図８（Ｂ）に示すように、シール台座層４０は、内側の土手４０ｍのみを備えていてもよい。かかる場合でも、シールギャップｎを極めて狭めることができ、液晶３０に接触するシール材５０の面積を少なくでき、シール材５０の汚染を抑制できる。

また、必要に応じて、図８（Ｃ）に示すように、シール台座層４０は、外側の土手４０ｎのみを備えていてもよい。

また、図９（Ａ）に示すように、第１の基板１０に、土手４０ｍ及び土手４０ｎを形成し、その間に溝４０ｈを形成してもよい。そして、第２の基板２０には、土手４０ｍ、溝４０ｈ、及び土手４０ｎを覆うように、一連のシール台座層４０ａを形成する。土手４０ｍ及び４０ｎは、表示領域を囲うような閉ループを描いている。溝４０ｈに、ギャップ材５２を含むシール材５０が塗布される。こうすれば、それぞれの層を厚膜とする必要がない。また、シールギャップｎを極めて狭めることができ、液晶３０に接触するシール材５０の面積を少なくでき、シール材５０の汚染を抑制できる。

また、図９（Ｂ）に示すように、上記図９（Ａ）における土手４０ｎを設けない態様も、実施可能である。かかる場合でも、シールギャップｎを極めて狭めることができ、液晶３０に接触するシール材５０の面積を少なくでき、シール材５０の汚染を抑制できる。

また、必要に応じて、図９（Ｃ）に示すように、上記図９（Ａ）における土手４０ｍを設けない態様も、実施可能である。

また、図１０（Ａ）及び図１０（Ｂ）に示すように、上記図８Ａにおける土手４０ｍ及び土手４０ｎの幅を非対称にしてもよい。また、図１０（Ｃ）及び図１０（Ｄ）に示すように、図９（Ａ）における土手４０ｍ及び４０ｎの幅を非対称にしてもよい。例えば、内側の土手４０ｍの幅を外側の土手４０ｎの幅より太くする。または、内側の土手４０ｍの幅を外側の土手４０ｎの幅より狭くする。いずれにするかは、設計思想に基づいて適宜選択すればよい。

また、土手４０ｍ、４０ｎの幅は一定でなくてもよい。土手４０ｍ、４０ｎが形成されている基板（第１の基板１０又は第２の基板２０）からの距離に応じてその幅が変化するように形成してもよい。図１１〜図１４は、かかる場合の例を示す。

図１１（Ａ）、図１１（Ｂ）、図１１（Ｃ）、及び図１１（Ｄ）は、それぞれ上記の図８（Ａ）、図８（Ｂ）、図８（Ｃ）、及び図９（Ａ）に対応する。土手４０ｍ、４０ｎの、シール材５０を塗布する位置から遠い面（土手４０ｍの場合、表示領域側の面。土手４０ｎの場合、表示領域側の逆側の面。）は、基板におよそ垂直である。一方、シール材５０を塗布する位置に近い面（土手４０ｍの場合、表示領域側の逆側の面。土手４０ｎの場合、表示領域側の面。）は、階段状または斜面となっている。すなわち、土手４０ｍ、４０ｎは、その幅が第１の基板１０から遠くなるほど狭くなるように形成されている。図１１（Ａ）では、溝４０ｈは、深い部分ほど、その幅が狭くなる。

図１２（Ａ）、図１２（Ｂ）、図１２（Ｃ）、及び図１２（Ｄ）は、それぞれ上記の図８（Ａ）、図８（Ｂ）、図８（Ｃ）、及び図９（Ａ）に対応する。土手４０ｍ、４０ｎの、シール材５０を塗布する位置から近い面（土手４０ｍの場合、表示領域側の逆側の面。土手４０ｎの場合、表示領域側の面。）は、基板におよそ垂直である。一方、シール材５０を塗布する位置に遠い面（土手４０ｍの場合、表示領域側の面。土手４０ｎの場合、表示領域側の逆側の面。）は、階段状または斜面となっている。

図１３（Ａ）、図１３（Ｂ）、及び図１３（Ｃ）は、それぞれ上記の図８（Ａ）、図８（Ｂ）、及び図８（Ｃ）に対応する。土手４０ｍ、４０ｎは、シール材５０を塗布する位置から近い面（土手４０ｍの場合、表示領域側の逆側の面。土手４０ｎの場合、表示領域側の面。）、及びシール材５０を塗布する位置に遠い面（土手４０ｍの場合、表示領域側の面。土手４０ｎの場合、表示領域側の逆側の面。）の両方の面において、階段状または斜面となっている。

図１４（Ａ）、図１４（Ｂ）、及び図１４（Ｃ）は、それぞれ上記の図９（Ａ）、図９（Ｂ）、及び図９（Ｃ）に対応する。土手４０ｍ、４０ｎは、シール材５０を塗布する位置から近い面（土手４０ｍの場合、表示領域側の逆側の面。土手４０ｎの場合、表示領域側の面。）、及びシール材５０を塗布する位置に遠い面（土手４０ｍの場合、表示領域側の面。土手４０ｎの場合、表示領域側の逆側の面。）の両方の面において、階段状または斜面となっている。

本発明の一実施形態が適用された液晶表示装置の断面図。 液晶表示装置の製造工程を説明する図。 液晶のシール材への入り込み現象を説明するための図。 本発明の一実施形態が適用された液晶表示装置の断面図。 本発明の一実施形態が適用された液晶表示装置の断面図。 本発明の一実施形態が適用された液晶表示装置の断面図。 図７（Ａ）〜（Ｃ）は、本発明の一実施形態が適用された液晶表示装置の断面図。 図８（Ａ）〜（Ｃ）は、本発明の一実施形態が適用された液晶表示装置の断面図。 図９（Ａ）〜（Ｃ）は、本発明の一実施形態が適用された液晶表示装置の断面図。 図１０（Ａ）〜（Ｄ）は、本発明の一実施形態が適用された液晶表示装置の断面図。 図１１（Ａ）〜（Ｄ）は、本発明の一実施形態が適用された液晶表示装置の断面図。 図１２（Ａ）〜（Ｄ）は、本発明の一実施形態が適用された液晶表示装置の断面図。 図１３（Ａ）〜（Ｃ）は、本発明の一実施形態が適用された液晶表示装置の断面図。 図１４（Ａ）〜（Ｃ）は、本発明の一実施形態が適用された液晶表示装置の断面図。

符号の説明

１０・・・第１の基板（カラーフィルタ基板）
１１・・・ブラックマトリックス、１２・・・着色レジスト、１３・・・オーバコート層
、
１４・・・配向膜
２０・・・第２の基板（ＴＦＴ基板）、２１・・・配向膜、
３０・・・液晶
４０・・・シール材台座層
５０・・・シール材
５２・・・ギャップ材

Claims (8)

1. 第１の基板と第２の基板とで液晶を挟んでなる液晶表示装置であって、
   前記第１の基板と前記第２の基板とは、前記液晶の充填領域を囲うように設けられたシール材により接着されており、
   前記第１の基板は、その基板上にカラーフィルタ層を有するカラーフィルタ基板であり、
   前記第１の基板は、その上に前記シール材を備える台座層を有し、
   前記シール材には、ギャップ材が含まれており、
   前記台座層はその上に、溝と、当該溝よりも表示領域側に設けられた内側土手と、を有するとともに、前記シール材は、前記溝の内部及び前記内側土手の上に設けられており、前記ギャップ材は、前記溝の内部に設けられており、
   前記台座層の厚さは、表示領域に対応する前記カラーフィルタ層の厚さよりも厚く、かつ前記液晶の層の厚さよりも厚く、
   前記シール材の層の厚さは、表示領域に相当する部分の液晶の層の厚さ以下であり、
   前記カラーフィルタ層より厚い台座層と前記液晶の層よりも薄いシール材とが、前記表示領域の全周にわたって形成されている
   ことを特徴とする液晶表示装置。
2. 請求項１に記載の液晶表示装置であって、
   前記台座層は、
   前記第１の基板のカラーフィルタ層を形成する層と同様の層で形成されている
   ことを特徴とする液晶表示装置。
3. 請求項１に記載の液晶表示装置であって、
   前記台座層は、
   前記第１の基板のカラーフィルタ層を形成する層とは別の層で形成されている
   ことを特徴とする液晶表示装置。
4. 請求項１に記載の液晶表示装置であって、
   前記溝の外側の前記台座層上に、外側土手を有し、
   前記シール材は、前記外側土手上にも設けられている
   ことを特徴とする液晶表示装置。
5. 第１の基板と、第２の基板とを備え、前記第１の基板と前記第２の基板とで液晶を挟んでなり、前記第１の基板は、その基板上にカラーフィルタ層を有するカラーフィルタ基板である液晶表示装置の製造方法であって、
   前記第１の基板上に形成され、溝と、それより内側の内側土手とを有する台座層上に前記液晶の充填領域を囲むように、ギャップ材を含むシール材を塗布するステップと、
   前記台座層と前記シール材の内側に液晶を充填するステップと、
   前記液晶の充填後に、前記第１の基板と前記第２の基板とを貼り合わせるステップとを有し、
   前記シール材は、
   前記第１の基板と前記第２の基板とを貼り合わせたときには、前記溝内と前記内側土手上に設けられるとともに、その層の厚さが、前記カラーフィルタ層が設けられた表示領域に相当する部分の液晶の層の厚さ以下になるように形成され、
   前記ギャップ材は、前記溝の内部に設けられ、
   前記台座層の厚さは、表示領域に対応する前記カラーフィルタ層の厚さよりも厚く、かつ前記液晶の層の厚さよりも厚く、
   前記カラーフィルタ層より厚い台座層と前記液晶の層よりも薄いシール材とが、前記表示領域の全周にわたって形成されている
   ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
6. 請求項５に記載の液晶表示装置の製造方法であって、
   前記台座層は、
   前記第１の基板のカラーフィルタ層を形成する層と同様の層で形成される
   ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
7. 請求項５に記載の液晶表示装置の製造方法であって、
   前記台座層は、
   前記第１の基板のカラーフィルタ層を形成する層とは別の層で形成される
   ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
8. 請求項５に記載の液晶表示装置の製造方法であって、
   前記溝の外側の前記台座層上に、外側土手を有し、
   前記シール材は、前記外側土手上にも設けられている
   ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。

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