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JP5322893B2 - Support polyester film for interlayer insulation material - Google Patents
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JP5322893B2 - Support polyester film for interlayer insulation material - Google Patents

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JP5322893B2 JP2009255592A JP2009255592A JP5322893B2 JP 5322893 B2 JP5322893 B2 JP 5322893B2 JP 2009255592 A JP2009255592 A JP 2009255592A JP 2009255592 A JP2009255592 A JP 2009255592A JP 5322893 B2 JP5322893 B2 JP 5322893B2
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polyester film which is adaptable to low roughness and defect prevention of the surface of an interlayer insulating layer and which is suitable as a support for the interlayer insulating material. <P>SOLUTION: The polyester film for supporting the interlayer insulating material is a co-extruded biaxially oriented laminate polyester film comprising at least 3 layers. One of the outermost layer has 0.4-5 &mu;m thickness, the outermost layer contains the aggregate of aluminum oxide having 5-40 nm average particle diameter of a primary particle in an amount of 0.1-0.8 weight, the average particle diameter of the aggregate being 50-400 nm. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、層間絶縁材料の支持フィルムに関し、特に回路基板に用いられる層間絶縁材料の支持フィルムに関するものであり、例えば、プリント配線板、多層配線板、半導体装置や液晶表示装置等の回路基板構成部材である層間絶縁層の形成に用いられる層間絶縁材料の支持フィルムとして好適な層間絶縁材料用支持ポリエステルフィルムを提供するものである。ここで層間絶縁材料用支持ポリエステルフィルムとは、あらかじめ、層間絶縁材料溶液をフィルム状に塗布・乾燥するのに用いられる支持フィルムであり、得られたフィルム状の層間絶縁材料を真空プレスあるいは真空ロールラミネータを用いて、回路基板上に貼り合わせた後に剥がされる。   The present invention relates to a support film of an interlayer insulating material, and more particularly to a support film of an interlayer insulating material used for a circuit board. For example, a circuit board configuration such as a printed wiring board, a multilayer wiring board, a semiconductor device, and a liquid crystal display device The present invention provides a support polyester film for an interlayer insulating material suitable as a support film for an interlayer insulating material used for forming an interlayer insulating layer as a member. Here, the support polyester film for an interlayer insulating material is a support film used to apply and dry an interlayer insulating material solution in a film shape in advance, and the obtained film-shaped interlayer insulating material is vacuum-pressed or vacuum-rolled. Using a laminator, it is peeled off after being bonded onto the circuit board.

プリント配線基板は、ICなどの電子部品を搭載、接続するために銅回路が形成されている基板であり、テレビなどの家電に用いられている民生用プリント配線基板と、コンピューターや計測機器などの産業用に用いられている産業用プリント配線板などが挙げられる。特に明確な区別がなされているわけではないが、プリント配線板の基材は、主に紙を基材とするフェノール樹脂積層板から製造されているものなどが民生用に使用され、エポキシ樹脂を用いたガラス布基材積層板などが産業用プリント配線板用の基材として使用されている。   A printed wiring board is a board on which a copper circuit is formed in order to mount and connect electronic components such as ICs, such as consumer printed wiring boards used in household appliances such as televisions, computers, measuring instruments, etc. Examples include industrial printed wiring boards used for industrial purposes. Although there is no clear distinction, the printed wiring board base material is mainly used for consumer use, such as those made from paper-based phenolic resin laminates. The used glass cloth base laminate is used as a base for an industrial printed wiring board.

プリント配線基板に設置されるICなど端子数が増加するにしたがい、限られた面積で必要な配線を収容するための手段として多層化が図られ、多層プリント配線板も量産されている。   As the number of terminals such as ICs installed on a printed wiring board increases, multilayering is achieved as a means for accommodating necessary wiring in a limited area, and multilayer printed wiring boards are also mass-produced.

多層プリント配線板の中でも、リジッド基板上に配線パターンを形成し、その上に絶縁層を形成し、さらにその上に配線パターンを形成し、さらに絶縁層を形成するという工程を繰り返すことで、プリント配線板を形成するビルドアップ法は、携帯電話などの小型化が必要な製品や、コンピューターなどの高速動作が必要な用途に適した方法として用いられており、近年、更なる電子機器の小型化、高性能化が進み、ビルドアップ層もさらに複層化され、配線の微細化および高密度化も一層進んでいる。   Print out by repeating the process of forming a wiring pattern on a rigid board, forming an insulating layer on it, forming a wiring pattern on it, and then forming an insulating layer. The build-up method for forming wiring boards is used as a method suitable for products that require miniaturization, such as mobile phones, and for applications that require high-speed operation, such as computers. As the performance increases, the build-up layer is further multi-layered, and the miniaturization and density of wiring are further advanced.

多層プリント配線板に用いられる絶縁層は、ガラスクロスに、エポキシ系、ポリイミド系等の樹脂を含浸させたもの、あるいはセラミック系等の材料が用いられ、配線層の信号の伝播速度やプリント配線板の特性インピーダンス等の電気特性を左右する重要なパラメーターであるため、そのような電気特性を満足するような材料を選定することが必要であり、具体的には、できるだけ誘電率の低い材料が選定されており、各種提案もなされている。また、絶縁層の形成は、フィルム支持体の上に塗布する方法が、均一な厚さのものが得られるため、小型化や高性能化の要求に対して好ましく、塗布できる材料が用いられている。   The insulating layer used in the multilayer printed wiring board is made of glass cloth impregnated with epoxy or polyimide resin, or ceramic material. The signal propagation speed of the wiring layer or the printed wiring board Therefore, it is necessary to select a material that satisfies such electrical characteristics. Specifically, a material having a dielectric constant as low as possible is selected. Various proposals have been made. In addition, since the insulating layer is formed on the film support with a uniform thickness, it is preferable to meet the demands for miniaturization and high performance, and a material that can be applied is used. Yes.

絶縁層の形態は、小型化や高性能化に対応するための層間絶縁材料として、フィルム状の支持体に絶縁層となる熱硬化性樹脂などを塗布し、支持体のフィルムと硬化させた絶縁層とをロール状とする方法が提案されている。フィルム状態の絶縁層に関しては、樹脂とフィラーの最適な選択などにより、レーザー加工に適合し、粗化処理後の樹脂表面がめっき密着性を向上するように設計したビルドアップ用絶縁層を有するフィルムが提案され、近年の要求に対応するなど、絶縁層に関しては、種々の提案がなされている。   The insulation layer is formed by applying a thermosetting resin as an insulation layer to a film-like support as an interlayer insulation material to cope with downsizing and high performance, and curing the support film with the film. A method has been proposed in which the layers are rolled. With regard to the insulating layer in the film state, it is a film having an insulating layer for buildup that is designed to be suitable for laser processing and to improve the plating adhesion of the resin surface after the roughening treatment, by optimal selection of resin and filler, etc. Various proposals have been made regarding the insulating layer, such as to meet recent demands.

しかしながら、フィルム状の絶縁層を形成するための支持体である、フィルムに関しては、絶縁層の表面性や、絶縁層の形成時における生産性などに大きな影響を与えるにも関わらず、具体的な提案はなされていない状況である。   However, the film, which is a support for forming a film-like insulating layer, has a specific effect in spite of having a great influence on the surface properties of the insulating layer and the productivity when forming the insulating layer. No proposal has been made.

特に、配線の微細化および高密度化を達成するためには層間絶縁層表面の低粗度化と欠陥防止は、重要な特性であり、支持体に使用するフィルムの特性が大きく関連しているにも係わらず、支持フィルムに関しての提案がなされていない状況である。   In particular, in order to achieve finer and higher density wiring, lowering the surface roughness of the interlayer insulating layer and preventing defects are important characteristics, and the characteristics of the film used for the support are greatly related. Nevertheless, no proposal has been made regarding the support film.

配線の微細化は数百ミクロンから数ミクロンと非常に狭い配線幅とスペースが求められているが、層間絶縁層表面の粗度が大きいと、下記の問題発生の危険性が高くなる。
1.凹部にめっき液が入りにくいため、反応種の供給が低下し無電解胴めっきが付きまわらず、いわゆる無めっきを生じる。
2.電気銅めっき工程では凹部でボイドを形成し処理液が残留するため腐食を生じる。
3.回路形成のエッチングでは回路下の凹部よりエッチングが進み、パターンが細り断線や、逆に銅めっきがエッチングされずに残り回路の短絡が発生する。
4.凹部に潜り込んだめっき残渣( スミア) を取り除くために長時間のフラッシュエッチが必要となり、フラッシュエッチを長時間行うと、その影響で微細配線が損傷または断線する。
Miniaturization of wiring requires a very narrow wiring width and space of several hundred microns to several microns, but if the roughness of the surface of the interlayer insulating layer is large, the risk of the following problems increases.
1. Since it is difficult for the plating solution to enter the recess, the supply of reactive species is reduced, and electroless cylinder plating does not occur, so-called non-plating occurs.
2. In the electrolytic copper plating process, voids are formed in the recesses, and the treatment liquid remains, causing corrosion.
3. In the etching for forming the circuit, the etching proceeds from the concave portion under the circuit, the pattern is thinned, and the copper plating is not etched and the remaining circuit is short-circuited.
4). Long-term flash etching is required to remove plating residue (smear) that has entered the recess, and if the flash etching is performed for a long time, the fine wiring is damaged or disconnected.

支持体となるフィルム表面はロール状に巻き上げるために添加粒子による突起が形成し、この突起が層間絶縁層表面に転写して凹みとなる。その為層間絶縁層表面の低粗度化には、支持フィルムの低粗度化が必要となる。しかしながら、支持フィルムの低粗度化を極度に進めると、支持フィルムの成形工程から層間絶縁材料の塗布までの加工工程で支持フィルム表面に傷を発生させる場合があり、支持フィルム表面の特に層間絶縁層側の支持フィルム表面の傷は層間絶縁層、および配線回路の欠陥となる。   Since the film surface serving as the support is rolled up in the form of a roll, protrusions due to the added particles are formed, and these protrusions are transferred to the surface of the interlayer insulating layer to form dents. Therefore, to reduce the roughness of the surface of the interlayer insulating layer, it is necessary to reduce the roughness of the support film. However, if the roughness of the support film is extremely advanced, scratches may occur on the support film surface during the processing steps from the support film molding process to the application of the interlayer insulation material. The scratch on the surface of the support film on the layer side becomes a defect of the interlayer insulating layer and the wiring circuit.

特開2005−154727号公報JP 2005-154727 A 特開2005−39247号公報JP 2005-39247 A 特開2008−251971号公報JP 2008-251971 A

本発明は、上記のような事情に鑑みなされたものであり、本発明の解決課題は、層間絶縁層表面の低粗度化と欠陥防止に対応できる、層間絶縁材料用支持として好適なポリエステルフィルムを提供することにある。   The present invention has been made in view of the circumstances as described above, and the problem to be solved by the present invention is a polyester film suitable as a support for an interlayer insulating material that can cope with low roughness of the interlayer insulating layer surface and prevention of defects. Is to provide.

本発明者らは、上記実状に鑑み、鋭意検討した結果、特定の構成からなるポリエステルフィルムによれば、上記課題を容易に解決できることを知見し、本発明を完成させるに至った。   As a result of intensive studies in view of the above circumstances, the present inventors have found that a polyester film having a specific configuration can easily solve the above problems, and have completed the present invention.

すなわち、本発明の要旨は、少なくとも3層から成る、フィルムの厚みが15〜50μmの共押出二軸配向積層ポリエステルフィルムであり、一方の最外層の厚みが0.4〜5μmであり、当該最外層中に、一次粒子の平均粒径5〜40nmである酸化アルミニウムの凝集体を0.1〜0.8重量含有し、当該凝集体の平均粒径が50〜400nmであることを特徴とする層間絶縁材料用支持ポリエステルフィルムに存する。 That is, the gist of the present invention is a coextruded biaxially oriented laminated polyester film comprising at least three layers and having a film thickness of 15 to 50 μm, and the thickness of one outermost layer is 0.4 to 5 μm. The outer layer contains 0.1 to 0.8 % by weight of aluminum oxide aggregates having an average primary particle size of 5 to 40 nm, and the average particle size of the aggregates is 50 to 400 nm. It exists in the support polyester film for interlayer insulation materials.

本発明によれば、層間絶縁材料支持体として好適なフィルムを提供することができ、本発明の工業的価値は高い。   According to the present invention, a film suitable as an interlayer insulating material support can be provided, and the industrial value of the present invention is high.

以下、本発明をさらに詳細に説明する。
本発明のフィルムは、二軸配向ポリエステルフィルムよりなり、溶融押出機を3台以上用いて、いわゆる共押出法により得られる3層または4層以上の積層フィルムである。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
The film of the present invention is a biaxially oriented polyester film, and is a laminated film of three layers or four layers or more obtained by a so-called coextrusion method using three or more melt extruders.

本発明においてポリエステルフィルムに使用するポリエステルは、ホモポリエステルであっても共重合ポリエステルであってもよい。ホモポリエステルからなる場合、芳香族ジカルボン酸と脂肪族グリコールとを重縮合させて得られるものが好ましい。芳香族ジカルボン酸としては、テレフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸などが挙げられ、脂肪族グリコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノール等が挙げられる。代表的なポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート(PET)等が例示される。一方、共重合ポリエステルのジカルボン酸成分としては、イソフタル酸、フタル酸、テレフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、オキシカルボン酸(例えば、P−オキシ安息香酸など)等の一種または二種以上が挙げられ、グリコール成分として、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、ネオペンチルグリコール等の一種または二種以上が挙げられる。何れにしても本発明でいうポリエステルとは、通常60モル%以上、好ましくは80モル%以上、さらに好ましくは90モル%以上がエチレンテレフタレート単位であるポリエチレンテレフタレート等であるポリエステルを指す。   The polyester used for the polyester film in the present invention may be a homopolyester or a copolyester. In the case of a homopolyester, those obtained by polycondensation of an aromatic dicarboxylic acid and an aliphatic glycol are preferred. Examples of the aromatic dicarboxylic acid include terephthalic acid and 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, and examples of the aliphatic glycol include ethylene glycol, diethylene glycol, and 1,4-cyclohexanedimethanol. Representative polyester includes polyethylene terephthalate (PET) and the like. On the other hand, examples of the dicarboxylic acid component of the copolyester include isophthalic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, adipic acid, sebacic acid, and oxycarboxylic acid (eg, P-oxybenzoic acid). 1 type or 2 types or more are mentioned, As a glycol component, 1 type or 2 types or more, such as ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, butanediol, 1, 4- cyclohexane dimethanol, neopentyl glycol, is mentioned. In any case, the polyester referred to in the present invention refers to a polyester that is polyethylene terephthalate or the like that is usually 60 mol% or more, preferably 80 mol% or more, more preferably 90 mol% or more, which is an ethylene terephthalate unit.

本発明の特徴の一つはポリエステルフィルムの一方の最外層に配合する酸化アルミニウム粒子の粒径と形態にある。すなわち、本発明においては、微細な一次粒子を適度に凝集させた凝集体粒子を用いる。高強度フィルムを得るに際しては、製膜時に強く配向させる必要があるが、この場合、しばしば粒子のフィルム表面からの脱落や摩耗粉の生成が顕著となる。しかしながら、凝集粒子の場合は製膜時の延伸応力が適度に分散されるためか、粒子の脱落が起こり難く、また、比較的なだらかな突起をフィルム表面に与えるため、単一の粒子の場合とは異なる、好ましい摩擦摩耗特性を与える。   One of the characteristics of the present invention is the particle size and form of aluminum oxide particles to be blended in one outermost layer of the polyester film. That is, in the present invention, aggregate particles obtained by appropriately agglomerating fine primary particles are used. In order to obtain a high-strength film, it is necessary to orient strongly at the time of film formation, but in this case, dropout of particles from the film surface and generation of wear powder are often significant. However, in the case of agglomerated particles, the stretching stress at the time of film formation is moderately dispersed, or the particles are unlikely to fall off, and the comparatively rough protrusions are given to the film surface. Give different and favorable friction and wear properties.

凝集体の平均粒径は50〜400nmの範囲であり、好ましくは70〜300nmの範囲である。この値が50nm未満であると、フィルムが加工機のロールと接触したとき、フィルムの耐摩耗性が劣るようになる。また、この値が400nmを超えると、フィルムを裁断する時に裁断刃が欠けやすくなり、スリット性が劣るようになる。   The average particle diameter of the aggregate is in the range of 50 to 400 nm, preferably in the range of 70 to 300 nm. When this value is less than 50 nm, when the film comes into contact with the roll of a processing machine, the wear resistance of the film becomes inferior. On the other hand, when this value exceeds 400 nm, the cutting blade tends to be chipped when the film is cut, and the slit property becomes poor.

本発明においては、かかる凝集体を構成する一次粒子の平均粒径は5〜40nmである。この値が5nm未満であると、凝集体がしばしば極めて強固な結合を有し、延伸応力によってもほとんど該結合が崩れず、本発明特有の効果を得難くなる。また、この値が40nmを越える場合には、凝集体粒子が分離、脱落し傷発生要因となる。   In this invention, the average particle diameter of the primary particle which comprises this aggregate is 5-40 nm. When this value is less than 5 nm, the agglomerates often have extremely strong bonds, and the bonds are hardly broken even by stretching stress, making it difficult to obtain the effects specific to the present invention. On the other hand, when this value exceeds 40 nm, the aggregate particles are separated and dropped off, which causes a scratch.

本発明で用いる酸化アルミニウムは、例えばベーマイト、バイアライトあるいはギブサイトを空気中または真空中で880〜1150℃程度に加熱、焼成することにより得ることができる。製造時の条件、例えば出発物質の種類や結晶性、粒度、純度あるいは加熱時の雰囲気や温度、速度を選択することにより、本発明で必要とする一次粒径5〜40nmのものを得ることができるが、これらはしばしば1μmを越える凝集体を形成する。本発明で用いる適度な粒径の凝集体は、例えばかかる粗大な凝集体を粉砕することにより簡便に得ることができる。   The aluminum oxide used in the present invention can be obtained, for example, by heating and baking boehmite, vialite, or gibbsite to about 880 to 1150 ° C. in air or in vacuum. By selecting the conditions at the time of production, for example, the type, crystallinity, particle size, purity of the starting material, or the atmosphere, temperature and speed during heating, a material having a primary particle size of 5 to 40 nm required in the present invention can be obtained. Although they can, they often form aggregates in excess of 1 μm. Aggregates having an appropriate particle size used in the present invention can be easily obtained, for example, by pulverizing such coarse aggregates.

粉砕処理には、例えば、ロッドミル、ボールミル、振動ロッドミル、振動ボールミル、パンミル、ローラーミル、インパクトミル、攪拌摩砕ミル、流体エネルギーミル等を使用することができる。また、必要に応じ、超音波分散処理を施してもよいが、その程度が強力であると、一次粒子あるいはそれに近い状態まで分散されるので注意を要する。なお、本発明においては分級や濾過等の処理を併用してもよい。   For the pulverization treatment, for example, a rod mill, a ball mill, a vibrating rod mill, a vibrating ball mill, a pan mill, a roller mill, an impact mill, a stirring mill, a fluid energy mill, or the like can be used. In addition, if necessary, ultrasonic dispersion treatment may be performed, but if the degree is strong, care is required because the particles are dispersed to the primary particles or a state close thereto. In the present invention, treatments such as classification and filtration may be used in combination.

本発明において、上記の特定粒子を含有する最外層表面は、特定の表面粗さを有することが好ましい。そのために、例えば、上記の特定粒子に加え、平均粒子径が0.1〜0.6μm、さらには0.2〜0.5μmの粒子を含有させることが好ましい。平均粒子径が0.1μm未満では、フィルムの表面粗度が低くなり、フィルムの滑り性が悪くなる傾向があり、その結果、フィルム表面に傷が発生することがある。また、支持フィルムを製膜した後にロール状態で製品を得ることができないことがある。平均粒子径が0.6μmを超える場合は、層間絶縁層表面の凹みが大きくなり、配線の微細化、および回路の高密度化に弊害が生じることがある。   In the present invention, it is preferable that the outermost layer surface containing the specific particles has a specific surface roughness. Therefore, for example, in addition to the specific particles, it is preferable to contain particles having an average particle diameter of 0.1 to 0.6 μm, and more preferably 0.2 to 0.5 μm. If the average particle size is less than 0.1 μm, the surface roughness of the film tends to be low, and the slipperiness of the film tends to be poor. As a result, scratches may occur on the film surface. Moreover, after forming a support film, a product may not be obtained in a roll state. When the average particle diameter exceeds 0.6 μm, the dent on the surface of the interlayer insulating layer becomes large, which may adversely affect wiring miniaturization and circuit density.

上記の併用粒子のポリエステルフィルム層中の含有量は、100〜2000ppm、さらには200〜1500ppm、特に500〜1000ppmの範囲が好ましい。粒子の含有量が100ppm未満では、フィルムの滑り性が悪くなることがある。また、含有量が2000ppmを超えると、フィルムの表面粗度が大きくなり過ぎて平面性が損なわれることがある。   The content of the combined particles in the polyester film layer is preferably 100 to 2000 ppm, more preferably 200 to 1500 ppm, and particularly preferably 500 to 1000 ppm. If the particle content is less than 100 ppm, the slipperiness of the film may be deteriorated. Moreover, when content exceeds 2000 ppm, the surface roughness of a film becomes large too much and planarity may be impaired.

併用する粒子の例として、酸化珪素、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸カルシウム、リン酸カルシウム、リン酸リチウム、リン酸マグネシウム、フッ化リチウム、酸化アルミニウム、酸化チタン、カオリン、タルク、カーボンブラック、窒化ケイ素、窒化ホウ素、および特公昭59−5216号公報に記載されているような架橋高分子微粉体を挙げることができ、本発明の要旨を損なわれない限り、これらに限定されるものではない。   Examples of particles used in combination include silicon oxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, barium carbonate, calcium sulfate, calcium phosphate, lithium phosphate, magnesium phosphate, lithium fluoride, aluminum oxide, titanium oxide, kaolin, talc, carbon black, nitriding Examples thereof include silicon, boron nitride, and crosslinked polymer fine powders as described in JP-B-59-5216, and are not limited to these as long as the gist of the present invention is not impaired.

一方、使用する粒子の形状に関しても特に限定されるわけではなく、球状、塊状、棒状、扁平状等のいずれを用いてもよい。また、その硬度、比重、色等についても特に制限はない。これら一連の粒子は、必要に応じて2種類以上を併用してもよい。   On the other hand, the shape of the particles to be used is not particularly limited, and any of a spherical shape, a block shape, a rod shape, a flat shape, and the like may be used. Moreover, there is no restriction | limiting in particular also about the hardness, specific gravity, a color, etc. These series of particles may be used in combination of two or more as required.

ポリエステル層中に粒子を添加する方法としては、特に限定されるものではなく、従来公知の方法を採用しうる。例えば、各層を構成するポリエステルを製造する任意の段階において添加することができるが、好ましくはエステル化の段階、もしくはエステル交換反応終了後、重縮合反応を進めてもよい。   The method for adding particles to the polyester layer is not particularly limited, and a conventionally known method can be adopted. For example, it can be added at any stage for producing the polyester constituting each layer, but the polycondensation reaction may proceed preferably after the esterification stage or after the transesterification reaction.

また、ベント付き混練押出機を用い、エチレングリコールまたは水などに分散させた粒子のスラリーとポリエステル原料とをブレンドする方法、または、混練押出機を用い、乾燥させた粒子とポリエステル原料とをブレンドする方法などによって行われる。   Also, a method of blending a slurry of particles dispersed in ethylene glycol or water with a vented kneading extruder and a polyester raw material, or a blending of dried particles and a polyester raw material using a kneading extruder. It is done by methods.

なお、本発明におけるポリエステルフィルム中には上述の粒子以外に必要に応じて従来公知の酸化防止剤、帯電防止剤、熱安定剤、潤滑剤、染料、顔料等を添加することができる。   In addition to the above-mentioned particles, conventionally known antioxidants, antistatic agents, thermal stabilizers, lubricants, dyes, pigments, and the like can be added to the polyester film in the present invention as necessary.

本発明において、ポリエステルフィルムの中間層中には、平均粒径0.4μm以上の粒子量を100ppm以下、さらに50ppm以下、特に0ppmであることが好ましい。100ppmを越えるとポリエステルフィルムの表面にうねりが発生し、配線の微細化、および回路の高密度化に弊害が生じることがある。   In the present invention, in the intermediate layer of the polyester film, the amount of particles having an average particle size of 0.4 μm or more is preferably 100 ppm or less, more preferably 50 ppm or less, particularly preferably 0 ppm. If it exceeds 100 ppm, undulation may occur on the surface of the polyester film, which may adversely affect wiring miniaturization and circuit density.

上記の特定粒子を含有するフィルム層表面の中心線平均粗さSRaAは、0.5〜15nm、さらには0.5〜10nmの範囲が好ましい。中心線平均粗さSRaAが0.5nm未満では、フィルムの滑り性やフィルム間でのエアーヌケが悪く、フィルム表面に傷が発生しやすくなる傾向があり、フィルム成形後のロール状態で製品を得ることができないことがある。また、中心線平均粗さSRaAが15nmを超える場合は、配線の微細化、および回路の高密度化に弊害が生じることがある。   The center line average roughness SRaA on the surface of the film layer containing the specific particles is preferably in the range of 0.5 to 15 nm, more preferably 0.5 to 10 nm. When the center line average roughness SRaA is less than 0.5 nm, the slipperiness of the film and the air leakage between the films are poor, and the film surface tends to be damaged, and the product is obtained in a roll state after film formation. May not be possible. Further, when the center line average roughness SRaA exceeds 15 nm, there may be a negative effect on the miniaturization of the wiring and the high density of the circuit.

本発明のポリエステルフィルム自体は、接着シートとしてコア基材に層間絶縁層が接着された後は、剥離されその役割を終えるが、ポリエステルフィルムが剥がされた後のコア基材に接着された層間絶縁層の表面に影響を与える。   The polyester film itself of the present invention is peeled off after the interlayer insulating layer is bonded to the core substrate as an adhesive sheet, and the role is finished, but the interlayer insulation bonded to the core substrate after the polyester film is peeled off Affects the surface of the layer.

熱硬化性樹脂を塗布し、層間絶縁層が形成されるポリエステルフィルムの表面は、中心線平均粗さRaが30nm以下、さらには20nm以下が好ましく、十点平均粗さRzが200nm以下、さらには100nm以下が好ましい。中心性平均粗さRaが30nmを超えたり、十点平均粗さRzが200nmを超えたりする場合は、層間絶縁層の表面粗度が大きくなり、回路の高密度化に弊害が生じることがある。   The surface of the polyester film on which the thermosetting resin is applied and the interlayer insulating layer is formed has a center line average roughness Ra of 30 nm or less, more preferably 20 nm or less, and a ten-point average roughness Rz of 200 nm or less. 100 nm or less is preferable. When the central average roughness Ra exceeds 30 nm or the ten-point average roughness Rz exceeds 200 nm, the surface roughness of the interlayer insulating layer increases, which may adversely affect circuit density. .

本発明のポリエステルフィルムの厚みは、フィルムとして製膜可能な範囲であれば特に限定されるものではないが、通常15〜50μm、好ましくは20〜40μmの範囲である。フィルム厚みが15μm未満では、絶縁材を塗布した際にシワが入ることがある。フィルム厚みが、50μmを越える場合は、層間絶縁層の単位面積当たりの使用ポリエステル量が増加するため、コストの点で高いものとなる。   The thickness of the polyester film of the present invention is not particularly limited as long as it can be formed as a film, but is usually 15 to 50 μm, preferably 20 to 40 μm. If the film thickness is less than 15 μm, wrinkles may occur when an insulating material is applied. When the film thickness exceeds 50 μm, the amount of polyester used per unit area of the interlayer insulating layer is increased, so that the cost is high.

本発明で用いる層間絶縁層に用いる硬化性樹脂は、支持体上で層を形成することができ、十分な絶縁性を有するものであれば、特に限定なく使用でき、例えば、エポキシ樹脂系、アクリル系、ポリイミド樹脂系、ポリイミドアミド樹脂系、ポリシアネート樹脂系、ポリエステル樹脂系、熱硬化型ポリフェニレンエーテル樹脂系などが挙げられる。また、これらを2種以上組み合わせて使用したり、多層構造としたりすることも可能である。   The curable resin used for the interlayer insulating layer used in the present invention can be used without particular limitation as long as it can form a layer on a support and has sufficient insulating properties. System, polyimide resin system, polyimide amide resin system, polycyanate resin system, polyester resin system, thermosetting polyphenylene ether resin system, and the like. Further, two or more of these may be used in combination, or a multilayer structure may be used.

層間絶縁層を支持体に形成する方法は、上記した熱硬化性樹脂などを溶媒に溶解した該樹脂組成物ワニスを塗布した後、加熱することにより溶剤を乾燥させると同時に樹脂を硬化させる公知の方法で作成することができる。   A method for forming an interlayer insulating layer on a support is a known method in which the resin composition varnish in which the above-described thermosetting resin or the like is dissolved in a solvent is applied, and then the solvent is dried by heating to simultaneously cure the resin. Can be created by the method.

本発明は、層間絶縁層となる硬化樹脂層をポリエステルフィルムからなる支持体上に積層フィルムとして設け、該積層フィルムをロール状とする。ロール状とする際は、そのままの状態でも、硬化樹脂の表面を保護するための保護フィルムを貼り合わせた状態でも、ロール状態で保管できれば、どちらでも構わない。ただし、保護フィルムで保護することにより、樹脂組成物層表面へのゴミ等の付着やキズを防止することができるので、保護フィルムの無い状態でロールとした場合も、最終的には保護フィルムを貼りあわせる工程を追加した方が好ましい。   In the present invention, a cured resin layer serving as an interlayer insulating layer is provided as a laminated film on a support made of a polyester film, and the laminated film is formed into a roll shape. When making it into a roll shape, it does not matter whether it can be stored as it is, in a state where a protective film for protecting the surface of the cured resin is bonded, or in a roll state. However, by protecting with a protective film, it is possible to prevent the adhesion and scratches of dust etc. to the surface of the resin composition layer. It is preferable to add a step of bonding.

保護フィルムは、層間絶縁層の表面を保護する機能を有していれば特にこだわらず、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステルなどのプラスチックフィルムが用いられる。   The protective film is not particularly limited as long as it has a function of protecting the surface of the interlayer insulating layer, and a plastic film such as polyethylene, polypropylene, or polyester is used.

ポリエステルフィルムで形成する層間絶縁層の厚さは、導体層の厚さ以上とすることが好ましい。回路基板の導体層の厚さが、通常5〜70μmの範囲であるので、樹脂組成物層の厚さは10〜100μmの厚みが好ましい。   The thickness of the interlayer insulating layer formed of a polyester film is preferably equal to or greater than the thickness of the conductor layer. Since the thickness of the conductor layer of the circuit board is usually in the range of 5 to 70 μm, the thickness of the resin composition layer is preferably 10 to 100 μm.

本発明で得られた層間絶縁層を有するフィルムは、導電層をパターン加工して回路を形成する時に接着フィルムとして、層間絶縁層の保護フィルムが剥がされ、コア基板に積層される。コア基材/層間絶縁層/ポリエステルフィルム支持体の構成、またはコア基材の両面を層間絶縁層で挟む、ポリエステルフィルム支持体/層間絶縁/コア基材/層間絶縁層/ポリエステルフィルム支持体の構成で加熱処理などを行い、コア基材と層間絶縁層を接着させ、ポリエステルフィルムからなる支持体が剥がされる。   The film having an interlayer insulating layer obtained in the present invention is laminated on the core substrate by peeling off the protective film of the interlayer insulating layer as an adhesive film when patterning the conductive layer to form a circuit. Structure of core base material / interlayer insulating layer / polyester film support, or structure of polyester film support / interlayer insulation / core base material / interlayer insulating layer / polyester film support in which both sides of the core base material are sandwiched between interlayer insulating layers The core substrate and the interlayer insulating layer are adhered to each other by heating, and the support made of the polyester film is peeled off.

層間絶縁層をコア基材に接着する方法としては、真空ラミネート法により減圧下で回路基板にラミネートする方法が好適に用いられる。ラミネートの方法はバッチ式であってもロールでの連続式であってもよい。またラミネートを行う前に接着フィルムおよび回路基板を必要により加熱(プレヒート)しておいてもよい。   As a method of adhering the interlayer insulating layer to the core substrate, a method of laminating on the circuit board under reduced pressure by a vacuum laminating method is suitably used. The laminating method may be a batch method or a continuous method using a roll. Further, the adhesive film and the circuit board may be heated (preheated) as necessary before lamination.

ラミネートの条件は、圧着温度(ラミネート温度)を好ましくは70〜140℃、圧着圧力を好ましくは1〜11kgf/cm2(9.8×10〜107.9×10N/m)とし、空気圧が20mmHg(26.7hPa)以下の減圧下でラミネートするのが好ましい。真空ラミネートは市販の真空ラミネーターを使用して行うことができる。 The lamination conditions are preferably a pressure bonding temperature (laminating temperature) of 70 to 140 ° C. and a pressure bonding pressure of preferably 1 to 11 kgf / cm 2 (9.8 × 10 4 to 107.9 × 10 4 N / m 2 ), Lamination is preferably performed under a reduced pressure of 20 mmHg (26.7 hPa) or less. The vacuum lamination can be performed using a commercially available vacuum laminator.

本発明における回路基板とは、主として、ガラスエポキシ、金属基板、ポリエステル基板、ポリイミド基板、BTレジン基板、熱硬化型ポリフェニレンエーテル基板等の基板の片面または両面にパターン加工された導体層(回路)が形成されたものをいう。また導体層と絶縁層が交互に層形成され、片面または両面がパターン加工された導体層(回路)となっている多層プリント配線板も本発明にいう回路基板に含まれる。なお導体回路層表面は黒化処理等によりあらかじめ粗化処理が施されていた方が絶縁層の回路基板への密着性の観点から好ましい。   The circuit board in the present invention mainly includes a conductor layer (circuit) patterned on one or both sides of a substrate such as a glass epoxy, metal substrate, polyester substrate, polyimide substrate, BT resin substrate, thermosetting polyphenylene ether substrate, or the like. The one formed. Also included in the circuit board of the present invention is a multilayer printed wiring board in which conductor layers and insulating layers are alternately formed and a conductor layer (circuit) is patterned on one or both sides. In addition, it is preferable from the viewpoint of the adhesiveness of the insulating layer to the circuit board that the surface of the conductor circuit layer has been previously roughened by blackening or the like.

このように接着フィルムを回路基板にラミネートした後、支持フィルムを剥離する場合は剥離し、熱硬化することにより回路基板に絶縁層を形成することができる。加熱硬化の条件は150℃〜220℃で20分〜180分の範囲で選択され、より好ましくは160℃〜200℃で30〜120分である。絶縁層を形成した後、硬化前に支持フィルムを剥離しなかった場合は、ここで剥離する。   Thus, after laminating the adhesive film on the circuit board, when the support film is peeled off, the insulating film can be formed on the circuit board by peeling and thermosetting. The conditions of heat curing are selected in the range of 20 to 180 minutes at 150 to 220 ° C, more preferably 30 to 120 minutes at 160 to 200 ° C. If the support film is not peeled off after the insulating layer is formed, it is peeled off here.

次に回路基板上に形成された絶縁層に穴開けを行いビアホール、スルーホールを形成する。穴あけは例えば、ドリル、レーザー、プラズマ等の公知の方法により、また必要によりこれらの方法を組み合わせて行うことができるが、炭酸ガスレーザー、YAGレーザー等のレーザーによる穴あけがもっとも一般的な方法である。   Next, holes are formed in the insulating layer formed on the circuit board to form via holes and through holes. Drilling can be performed by a known method such as drilling, laser, or plasma, or a combination of these methods if necessary. However, drilling by a laser such as a carbon dioxide laser or YAG laser is the most common method. .

次に本発明におけるポリエステルフィルムの製造例について具体的に説明するが、以下の製造例に何ら限定されるものではない。   Next, although the manufacture example of the polyester film in this invention is demonstrated concretely, it is not limited to the following manufacture examples at all.

まず、先に述べたポリエステル原料を使用し、ダイから押し出された溶融シートを冷却ロールで冷却固化して未延伸シートを得る方法が好ましい。この場合、シートの平面性を向上させるためシートと回転冷却ドラムとの密着性を高める必要があり、静電印加密着法および/または液体塗布密着法が好ましく採用される。次に得られた未延伸シートは二軸方向に延伸される。その場合、まず、前記の未延伸シートを一方向にロールまたはテンター方式の延伸機により延伸する。延伸温度は、通常70〜120℃、好ましくは80〜110℃であり、延伸倍率は通常2.5〜7倍、好ましくは3.0〜6倍である。次いで、一段目の延伸方向と直交する延伸温度は通常70〜170℃であり、延伸倍率は通常3.0〜7倍、好ましくは3.5〜6倍である。そして、引き続き180〜270℃の温度で緊張下または30%以内の弛緩下で熱処理を行い、二軸配向フィルムを得る。上記の延伸においては、一方向の延伸を2段階以上で行う方法を採用することもできる。その場合、最終的に二方向の延伸倍率がそれぞれ上記範囲となるように行うのが好ましい。   First, a method of using the polyester raw material described above and cooling and solidifying a molten sheet extruded from a die with a cooling roll to obtain an unstretched sheet is preferable. In this case, in order to improve the flatness of the sheet, it is necessary to improve the adhesion between the sheet and the rotary cooling drum, and an electrostatic application adhesion method and / or a liquid application adhesion method is preferably employed. Next, the obtained unstretched sheet is stretched in the biaxial direction. In that case, first, the unstretched sheet is stretched in one direction by a roll or a tenter type stretching machine. The stretching temperature is usually 70 to 120 ° C., preferably 80 to 110 ° C., and the stretching ratio is usually 2.5 to 7 times, preferably 3.0 to 6 times. Subsequently, the extending | stretching temperature orthogonal to the 1st step | paragraph extending | stretching direction is 70-170 degreeC normally, and a draw ratio is 3.0-7 times normally, Preferably it is 3.5-6 times. Subsequently, heat treatment is performed at a temperature of 180 to 270 ° C. under tension or under relaxation within 30% to obtain a biaxially oriented film. In the above-described stretching, a method in which stretching in one direction is performed in two or more stages can be employed. In that case, it is preferable to carry out so that the draw ratios in the two directions finally fall within the above ranges.

また、本発明におけるポリエステルフィルム製造に関しては同時二軸延伸法を採用することもできる。同時二軸延伸法は前記の未延伸シートを通常70〜120℃、好ましくは80〜110℃で温度コントロールされた状態で機械方向および幅方向に同時に延伸し配向させる方法で、延伸倍率としては、面積倍率で4〜50倍、好ましくは7〜35倍、さらに好ましくは10〜25倍である。そして、引き続き、170〜250℃の温度で緊張下または30%以内の弛緩下で熱処理を行い、延伸配向フィルムを得る。上述の延伸方式を採用する同時二軸延伸装置に関しては、スクリュー方式、パンタグラフ方式、リニアー駆動方式等、従来から公知の延伸方式を採用することができる。   The simultaneous biaxial stretching method can also be adopted for the production of the polyester film in the present invention. The simultaneous biaxial stretching method is a method in which the unstretched sheet is usually stretched and oriented in the machine direction and the width direction at 70 to 120 ° C., preferably 80 to 110 ° C., and the stretching ratio is as follows: The area magnification is 4 to 50 times, preferably 7 to 35 times, and more preferably 10 to 25 times. Subsequently, heat treatment is performed at a temperature of 170 to 250 ° C. under tension or under relaxation within 30% to obtain a stretched oriented film. With respect to the simultaneous biaxial stretching apparatus that employs the above-described stretching method, conventionally known stretching methods such as a screw method, a pantograph method, and a linear drive method can be employed.

さらに上述のポリエステルフィルムの延伸工程中にフィルム表面を処理する、いわゆる塗布延伸法(インラインコーティング)を施すことができる。塗布延伸法によりポリエステルフィルム上に塗布層が設けられる場合には、延伸と同時に塗布が可能になると共に塗布層の厚みを延伸倍率に応じて薄くすることができ、ポリエステルフィルムとして好適なフィルムを製造できる。   Furthermore, a so-called coating stretching method (in-line coating) in which the film surface is treated during the above-described polyester film stretching step can be applied. When a coating layer is provided on a polyester film by a coating stretching method, coating can be performed simultaneously with stretching and the thickness of the coating layer can be reduced according to the stretching ratio, producing a film suitable as a polyester film. it can.

本発明において、塗布層を設ける方法はリバースグラビアコート、ダイレクトグラビアコート、ロールコート、ダイコート、バーコート、カーテンコート等、従来公知の塗工方式を用いることができる。塗工方式に関しては「コーティング方式」槇書店 原崎勇次著 1979年発行に記載例がある。   In the present invention, as a method for providing the coating layer, a conventionally known coating method such as reverse gravure coating, direct gravure coating, roll coating, die coating, bar coating, curtain coating or the like can be used. Regarding the coating method, there is a description example in “Coating method” published by Yasuharu Harasaki in 1979.

本発明において、ポリエステルフィルム上に塗布層を形成する際の硬化条件に関しては特に限定されるわけではなく、例えば、塗布延伸法(インラインコーティング)により塗布層を設ける場合、通常、170〜280℃で3〜40秒間、好ましくは200〜280℃で3〜40秒間を目安として熱処理を行うのが良い。   In this invention, it does not necessarily limit about the curing conditions at the time of forming a coating layer on a polyester film, For example, when providing a coating layer by the coating extending | stretching method (in-line coating), it is 170-280 degreeC normally. The heat treatment may be performed for 3 to 40 seconds, preferably 200 to 280 ° C. for 3 to 40 seconds.

また、塗布延伸法(インラインコーティング)あるいはオフラインコーティングに係わらず、必要に応じて熱処理と紫外線照射等の活性エネルギー線照射とを併用してもよい。   Moreover, you may use together heat processing and active energy ray irradiation, such as ultraviolet irradiation, as needed irrespective of the coating extending | stretching method (in-line coating) or offline coating.

また、ポリエステルフィルムにはあらかじめ、コロナ処理、プラズマ処理等の表面処理を施してもよい。   The polyester film may be subjected to surface treatment such as corona treatment or plasma treatment in advance.

以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。また、本発明で用いた測定法は次のとおりである。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to a following example, unless the summary is exceeded. The measuring method used in the present invention is as follows.

(1)ポリエステルの固有粘度の測定
ポリエステルに非相溶な他のポリマー成分および顔料を除去したポリエステル1gを精秤し、フェノール/テトラクロロエタン=50/50(重量比)の混合溶媒100mlを加えて溶解させ、30℃で測定した。
(1) Measurement of intrinsic viscosity of polyester 1 g of polyester from which other polymer components and pigments incompatible with polyester have been removed are precisely weighed, and 100 ml of a mixed solvent of phenol / tetrachloroethane = 50/50 (weight ratio) is added. It was dissolved and measured at 30 ° C.

(2)平均粒径(d50:μm)の測定
遠心沈降式粒度分布測定装置(株式会社島津製作所社製SA−CP3型)を使用して測定した等価球形分布における積算(重量基準)50%の値を平均粒径とした。
(2) Measurement of average particle diameter (d 50 : μm) Integration (weight basis) 50% in equivalent spherical distribution measured using centrifugal sedimentation type particle size distribution measuring device (SA-CP3 type manufactured by Shimadzu Corporation) Was the average particle size.

(3)表面粗さ(SRa)
中心線平均粗さRa(μm)をもって表面粗さとする。(株)小坂研究所社製表面粗さ測定機(SE−3F)を用いて次のようにして求めた。即ち、フィルム断面曲線からその中心線の方向に基準長さL(2.5mm)の部分を抜き取り、この抜き取り部分の中心線をx軸、縦倍率の方向をy軸として粗さ曲線 y=f(x)で表わしたとき、次の式で与えられた値を〔μm〕で表わす。中心線平均粗さは、試料フィルム表面から10本の断面曲線を求め、これらの断面曲線から求めた抜き取り部分の中心線平均粗さの平均値で表わした。なお、触針の先端半径は2μm、荷重は30mgとし、カットオフ値は0.08mmとした。
(3) Surface roughness (SRa)
The center line average roughness Ra (μm) is defined as the surface roughness. It calculated | required as follows using the Kosaka Laboratory Co., Ltd. surface roughness measuring machine (SE-3F). That is, a portion having a reference length L (2.5 mm) is extracted from the film cross-section curve in the direction of the center line, the center line of the extracted portion is the x axis, and the direction of the vertical magnification is the y axis. When represented by (x), the value given by the following equation is represented by [μm]. The center line average roughness was represented by the average value of the center line average roughness of the extracted portion obtained from 10 cross section curves obtained from the sample film surface. The tip radius of the stylus was 2 μm, the load was 30 mg, and the cutoff value was 0.08 mm.

Ra=(1/L)∫ |f(x)|dx Ra = (1 / L) ∫ 0 L | f (x) | dx

実施例および比較例において使用したポリエステルは、以下のようにして準備したものである。   The polyester used in the examples and comparative examples was prepared as follows.

〈ポリエステルの製造〉
製造例1(ポリエチレンテレフタレートA)
ジメチルテレフタレート100部、エチレングリコール60部および酢酸マグネシウム・4水塩0.09部を反応器にとり、加熱昇温すると共にメタノールを留去し、エステル交換反応を行い、反応開始から4時間を要して230℃に昇温し、実質的にエステル交換反応を終了した。次いで、エチレングリコールスラリーエチルアシッドフォスフェート0.04部、三酸化アンチモン0.03部を添加した後、100分で温度を280℃、圧力を15mmHgに達せしめ、以後も徐々に圧力を減じ、最終的に0.3mmHgとした。4時間後、系内を常圧に戻し、固有粘度0.61のポリエチレンテレフタレートAを得た。
<Manufacture of polyester>
Production Example 1 (Polyethylene terephthalate A)
100 parts of dimethyl terephthalate, 60 parts of ethylene glycol and 0.09 part of magnesium acetate tetrahydrate are placed in a reactor, the temperature is raised by heating, methanol is distilled off, transesterification is performed, and 4 hours are required from the start of the reaction. The temperature was raised to 230 ° C. to substantially complete the transesterification reaction. Next, after adding 0.04 part of ethylene glycol slurry ethyl acid phosphate and 0.03 part of antimony trioxide, the temperature reached 280 ° C. and the pressure reached 15 mmHg in 100 minutes. It was 0.3 mmHg. After 4 hours, the system was returned to normal pressure to obtain polyethylene terephthalate A having an intrinsic viscosity of 0.61.

製造例2(ポリエチレンテレフタレートB)
ベーマイトを加熱、焼成することによって得られた、一次粒径30nmのθ型酸化アルミニウムの凝集体をエチレングリコールに分散させ、サンドグラインダーで徐々に分散させることにより平均粒径150nmの凝集体を得た。次いで、ジメチルテレフタレート100部、エチレングリコール65部および酢酸マグネシウム0.09部を反応器にとり、加熱昇温すると共にメタノールを留去しつつエステル交換反応を行った。反応開始後約4時間を要して230℃まで昇温し、実質的にエステル交換反応を終了した。次に、平均粒径70nmの酸化アルミニウム凝集体3.0重量%を添加し、さらにエチレングリコールスラリーエチルホスフェート0.4部、三酸化アンチモン0.03部を加えた後、常法に従って重合を行い、固有粘度0.63のポリエチレンテレフタレートを得た。
Production Example 2 (Polyethylene terephthalate B)
Agglomerates having an average particle diameter of 150 nm were obtained by dispersing the aggregates of θ-type aluminum oxide having a primary particle diameter of 30 nm obtained by heating and baking boehmite in ethylene glycol and gradually dispersing them with a sand grinder. . Next, 100 parts of dimethyl terephthalate, 65 parts of ethylene glycol and 0.09 part of magnesium acetate were placed in a reactor, and the ester exchange reaction was performed while heating and raising the temperature and distilling off methanol. Approximately 4 hours after the start of the reaction, the temperature was raised to 230 ° C. to substantially complete the transesterification reaction. Next, 3.0% by weight of an aluminum oxide aggregate having an average particle size of 70 nm was added, and 0.4 parts of ethylene glycol slurry ethyl phosphate and 0.03 part of antimony trioxide were added, followed by polymerization according to a conventional method. Polyethylene terephthalate B having an intrinsic viscosity of 0.63 was obtained.

製造例3(ポリエチレンテレフタレートC)
製造例2において一次粒径30nmのθ型酸化アルミニウムの凝集体をエチレングリコールに分散させ、サンドグラインダーで徐々に分散させることにより平均粒径150nmの凝集体を添加する代わりに一次粒径20nmのθ型酸化アルミニウムの凝集体をエチレングリコールに分散させ、サンドグラインダーで徐々に分散させることにより平均粒径70nmの凝集体を2.5部添加する以外は製造例2と同様にしてポリエチレンテレフタレートCを得た。
Production Example 3 (Polyethylene terephthalate C)
Instead of adding aggregates having an average particle diameter of 150 nm by dispersing aggregates of θ-type aluminum oxide having a primary particle diameter of 30 nm in ethylene glycol and gradually dispersing with a sand grinder in Production Example 2, θ having an average particle diameter of 20 nm is added. A polyethylene terephthalate C is obtained in the same manner as in Production Example 2 except that 2.5 parts of an aggregate having an average particle size of 70 nm is added by dispersing the aggregate of type aluminum oxide in ethylene glycol and gradually dispersing with a sand grinder. It was.

製造例4(ポリエチレンテレフタレートD)
製造例2において一次粒径30nmのθ型酸化アルミニウムの凝集体をエチレングリコールに分散させ、サンドグラインダーで徐々に分散させることにより平均粒径150nmの凝集体を添加する代わりに一次粒径30nmのθ型酸化アルミニウムの凝集体をエチレングリコールに分散させ、サンドグラインダーで徐々に分散させることにより平均粒径300nmの凝集体を3.0部添加する以外は製造例2と同様にしてポリエチレンテレフタレートDを得た。
Production Example 4 (Polyethylene terephthalate D)
Instead of adding aggregates having an average particle size of 150 nm by dispersing aggregates of θ-type aluminum oxide having a primary particle size of 30 nm in ethylene glycol and gradually dispersing with a sand grinder in Production Example 2, θ having a primary particle size of 30 nm is added. A polyethylene terephthalate D was obtained in the same manner as in Production Example 2 except that 3.0 g of an aggregate having an average particle size of 300 nm was added by dispersing the aggregate of type aluminum oxide in ethylene glycol and gradually dispersing with a sand grinder. It was.

製造例5(ポリエチレンテレフタレートE)
製造例2において一次粒径30nmのθ型酸化アルミニウムの凝集体をエチレングリコールに分散させ、サンドグラインダーで徐々に分散させることにより平均粒径150nmの凝集体を添加する代わりに凝集傾向の無い平均粒径320nmのα型酸化アルミニウムを1.0部添加する以外は製造例2と同様にしてポリエチレンテレフタレートEを得た。
Production Example 5 (Polyethylene terephthalate E)
In Production Example 2, agglomerates of θ-type aluminum oxide having a primary particle size of 30 nm are dispersed in ethylene glycol and gradually dispersed by a sand grinder, so that an average particle having no tendency to aggregate is added instead of adding an aggregate having an average particle size of 150 nm Polyethylene terephthalate E was obtained in the same manner as in Production Example 2, except that 1.0 part of α-type aluminum oxide having a diameter of 320 nm was added.

製造例6(ポリエチレンテレフタレートF)
製造例2において一次粒径30nmのθ型酸化アルミニウムの凝集体をエチレングリコールに分散させ、サンドグラインダーで徐々に分散させることにより平均粒径150nmの凝集体を添加する代わりに一次粒径30nmのθ型酸化アルミニウムの凝集体をエチレングリコールに分散させ、サンドグラインダーで徐々に分散させることにより平均粒径1.0μmの凝集体を1.0部添加する以外は製造例2と同様にしてポリエチレンテレフタレートFを得た。
Production Example 6 (polyethylene terephthalate F)
Instead of adding aggregates having an average particle size of 150 nm by dispersing aggregates of θ-type aluminum oxide having a primary particle size of 30 nm in ethylene glycol and gradually dispersing with a sand grinder in Production Example 2, θ having a primary particle size of 30 nm is added. Polyethylene terephthalate F in the same manner as in Production Example 2 except that 1.0 g of aggregate having an average particle size of 1.0 μm is added by dispersing aggregates of type aluminum oxide in ethylene glycol and gradually dispersing with a sand grinder. Got.

製造例7(ポリエチレンテレフタレートG)
製造例2において一次粒径30nmのθ型酸化アルミニウムの凝集体をエチレングリコールに分散させ、サンドグラインダーで徐々に分散させることにより平均粒径150nmの凝集体を添加する代わりに平均粒径0.4μmの架橋高分子粒子を0.2部添加する以外は製造例2と同様にしてポリエチレンテレフタレートGを得た。
Production Example 7 (polyethylene terephthalate G)
Instead of adding aggregates having an average particle diameter of 150 nm by dispersing aggregates of θ-type aluminum oxide having a primary particle diameter of 30 nm in ethylene glycol and gradually dispersing with a sand grinder in Production Example 2, the average particle diameter is 0.4 μm. Polyethylene terephthalate G was obtained in the same manner as in Production Example 2 except that 0.2 parts of the above crosslinked polymer particles were added.

製造例8(ポリエチレンテレフタレートH)
製造例7において平均粒径0.4μmの架橋高分子粒子を0.2部添加する代わりに平均粒径0.6μmの合成炭酸カルシウム粒子を0.5部添加する以外は製造例7と同様にしてポリエチレンテレフタレートHを得た。
Production Example 8 (polyethylene terephthalate H)
In the same manner as in Production Example 7, except that 0.5 parts of synthetic calcium carbonate particles having an average particle diameter of 0.6 μm are added instead of adding 0.2 parts of crosslinked polymer particles having an average particle diameter of 0.4 μm in Production Example 7. Thus, polyethylene terephthalate H was obtained.

製造例9(ポリエチレンテレフタレートI)
製造例7において平均粒径0.4μmの架橋高分子粒子を0.2部添加する代わりに平均粒径3.2μmの凝集シリカ粒子を0.5部添加する以外は製造例7と同様にしてポリエチレンテレフタレートIを得た。
Production Example 9 (polyethylene terephthalate I)
In the same manner as in Production Example 7, except that 0.5 part of aggregated silica particles having an average particle diameter of 3.2 μm is added instead of adding 0.2 part of crosslinked polymer particles having an average particle diameter of 0.4 μm in Production Example 7. Polyethylene terephthalate I was obtained.

製造例8(ポリエチレンテレフタレートJ)
製造例7において平均粒径0.4μmの架橋高分子粒子を0.2部添加する代わりに平均粒径0.4μmの球状シリカ粒子を0.3部添加する以外は製造例7と同様にしてポリエチレンテレフタレートJを得た。
Production Example 8 (polyethylene terephthalate J)
In the same manner as in Production Example 7 except that 0.3 part of spherical silica particles having an average particle diameter of 0.4 μm is added instead of adding 0.2 part of crosslinked polymer particles having an average particle diameter of 0.4 μm in Production Example 7. Polyethylene terephthalate J was obtained.

製造例9(ポリエチレンテレフタレートK)
製造例7において平均粒径0.4μmの架橋高分子粒子を0.2部添加する代わりに平均粒径0.6μmの球状シリカ粒子を0.5部添加する以外は製造例7と同様にしてポリエチレンテレフタレートKを得た。
Production Example 9 (polyethylene terephthalate K)
In the same manner as in Production Example 7, except that 0.5 parts of spherical silica particles having an average particle diameter of 0.6 μm were added instead of adding 0.2 parts of crosslinked polymer particles having an average particle diameter of 0.4 μm in Production Example 7. Polyethylene terephthalate K was obtained.

製造例10(ポリエチレンテレフタレート
製造例7において平均粒径0.4μmの架橋高分子粒子を0.2部添加する代わりに平均粒径0.8μmの合成炭酸カルシウム粒子を0.5部添加する以外は製造例7と同様にしてポリエチレンテレフタレートを得た。
Production Example 10 (Polyethylene terephthalate L )
In the same manner as in Production Example 7, except that 0.5 parts of synthetic calcium carbonate particles having an average particle diameter of 0.8 μm are added instead of adding 0.2 parts of crosslinked polymer particles having an average particle diameter of 0.4 μm in Production Example 7. Thus, polyethylene terephthalate L was obtained.

(ポリエステルフィルムの製造)
上記ポリエステルA〜を表1に示す配合比でA層、B層、およびC層の混合原料とし、2台の二軸押出機に各々を供給し、各々285℃で溶融した後、全厚みに対して、A層、B層、およびC層の厚さとなるように各層の押出し量の比率を合わせ、3種3層の構成で20℃に冷却したキャスティングドラム上に共押出し、冷却固化させて無配向シートを得た。次いで、100℃にて縦方向に2.8倍延伸した後、テンター内で予熱工程を経て120℃で4.6倍の横延伸を施した後、225℃で10秒間の熱処理を行い、その後180℃で幅方向に10%の弛緩を加え、下記表1〜3に示す厚さのポリエステルフィルムを得た。上記の方法で得られたポリエステルフィルムの特性を下記表1に示す。
(Manufacture of polyester film)
The above polyesters A to L were mixed at the compounding ratios shown in Table 1 and mixed into A layer, B layer, and C layer as raw materials, each fed to two twin-screw extruders and melted at 285 ° C. In contrast, the ratio of the extrusion amount of each layer was adjusted so as to be the thickness of the A layer, the B layer, and the C layer, and the three types and three layers were co-extruded on a casting drum cooled to 20 ° C. and cooled and solidified. Thus, a non-oriented sheet was obtained. Next, the film was stretched 2.8 times in the longitudinal direction at 100 ° C., then subjected to a preheating step in the tenter and subjected to transverse stretching of 4.6 times at 120 ° C., followed by heat treatment at 225 ° C. for 10 seconds, 10% relaxation was added in the width direction at 180 ° C. to obtain polyester films having thicknesses shown in Tables 1 to 3 below. The characteristics of the polyester film obtained by the above method are shown in Table 1 below.

Figure 0005322893
Figure 0005322893

《エポキシ樹脂組成物》
液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)製「エピコート828EL」)20部、臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂(東都化成(株)製YDB−500)20部、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量215、軟化点78℃、大日本インキ化学(株)製エピクロンN−673)20部、末端エポキシ化ポリブタジエンゴム(ナガセ化成工業(株)製デナレックスR−45EPT)15部とをMEKに攪拌しながら加熱溶解させ、そこへ臭素化フェノキシ樹脂ワニス(不揮発分40重量%、臭素含有量25重量%、溶剤組成、キシレン:メトキシプロパノール:メチルエチルケトン=5:2:8、東都化成(株)製YPB−40−PXM40)50部、エポキシ硬化剤として2、4−ジアミノ−6−(2−メチル−1−イミダゾリエチル)−1、3、5−トリアジン・イソシアヌル酸付加物4部、さらに微粉砕シリカ2部、三酸化アンチモン4部、炭酸カルシウム5部を添加し樹脂組成ワニスを作製した。
<< Epoxy resin composition >>
20 parts of liquid bisphenol A type epoxy resin (“Epicoat 828EL” manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), 20 parts of brominated bisphenol A type epoxy resin (YDB-500 manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.), cresol novolac type epoxy resin (epoxy) Equivalent 215, softening point 78 ° C., Dainippon Ink Chemical Co., Ltd. Epicron N-673) 20 parts, terminal epoxidized polybutadiene rubber (Nagase Kasei Kogyo Co., Ltd. Denarex R-45EPT) 15 parts are stirred in MEK. The solution was dissolved while heating, and brominated phenoxy resin varnish (non-volatile content 40% by weight, bromine content 25% by weight, solvent composition, xylene: methoxypropanol: methyl ethyl ketone = 5: 2: 8, YPB- manufactured by Toto Kasei Co., Ltd. 40-PXM40) 50 parts, 2,4-diamino as epoxy curing agent 6- (2-Methyl-1-imidazoliethyl) -1,3,5-triazine / isocyanuric acid adduct 4 parts, 2 parts of finely pulverized silica, 4 parts of antimony trioxide and 5 parts of calcium carbonate A composition varnish was prepared.

《ポリエステルフィルムへの樹脂組成ワニス塗布:層間絶縁層の形成》
上記の方法で作製した樹脂組成ワニスを、実施例1〜4、比較例1〜4で得られたポリエステルフィルムのA層表面上に、乾燥後の樹脂厚さが70μmとなる用にダイコーターで塗布し、80〜120℃(平均100℃)で乾燥し、ポリエステルフィルムを支持体とした層間絶縁層を作製した。
<< Resin composition varnish application to polyester film: Formation of interlayer insulation layer >>
The resin composition varnish produced by the above method is applied to the surface of the A layer of the polyester film obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4 with a die coater so that the resin thickness after drying becomes 70 μm. It apply | coated and dried at 80-120 degreeC (average 100 degreeC), and the interlayer insulation layer which made the polyester film the support body was produced.

比較例4は、樹脂組成ワニスを塗布した後の乾燥時に、ポリエステルフィルムにシワが入り、製品を得られなかった。   In Comparative Example 4, the polyester film was wrinkled during drying after the resin composition varnish was applied, and a product was not obtained.

《層間絶縁層の表面性A》
得られた層間絶縁層のポリエステルフィルムに相当する表面をSEMで観察し、配線に影響を与えるキズの転写有無を下記の通り評価し、その結果を表4に示す。
<< Surface property A of interlayer insulating layer >>
The surface corresponding to the polyester film of the obtained interlayer insulating layer was observed by SEM, and the presence or absence of transfer of scratches affecting the wiring was evaluated as follows. The results are shown in Table 4.

○:配線に悪影響を与えるキズの転写は見られない
△:実用上問題なく使用できるレベルのキズの転写跡が見られる
×:明瞭なキズの転写跡が有り、回路配線に悪影響を与えるキズの転写跡が見られる
上記判定基準中、△以上のものが実使用上問題なく使用できるレベルである。
○: Transfer of scratches that adversely affect the wiring is not seen. △: Transfer marks of scratches that can be used without problems in practical use are observed. ×: There are clear scratches of traces that can adversely affect circuit wiring. Transfer marks can be seen Among the above criteria, those above Δ are levels that can be used without any problem in actual use.

《層間絶縁層の表面性B》
得られた層間絶縁層のポリエステルフィルムに相当する表面をSEMで観察し、配線に影響を与える凹みの有無を下記の通り評価し、その結果を表5に示す。
<< Surface property B of interlayer insulating layer >>
The surface corresponding to the polyester film of the obtained interlayer insulating layer was observed with an SEM, and the presence or absence of a dent affecting the wiring was evaluated as follows. The results are shown in Table 5.

◎:配線に悪影響を与える大きな凹みは見られない
○:凹みが僅かに劣り、大きな凹みも若干見られる
△:実用上問題なく使用できるレベルの凹みの大きさが見られる
×:大きな凹みが有り、回路配線に悪影響を与える凹みが見られる
上記判定基準中、△以上のものが実使用上問題なく使用できるレベルである。
◎: No large dent that adversely affects the wiring is observed ○: The dent is slightly inferior, and some large dents are seen △: The size of the dent that can be used without any practical problem is seen ×: There is a large dent There are dents that adversely affect circuit wiring. Among the above criteria, those above Δ are levels that can be used without problems in actual use.

《コストの優位性》
得られる特性と、歩留まり等の製造に関わるコスト評価を下記の通り評価し、その結果を下記表2に示す。
《Cost advantage》
The obtained characteristics and the cost evaluation related to the production such as yield are evaluated as follows, and the results are shown in Table 2 below.

○:コスト的に優位性が見られる
△:コスト的に若干劣る
×:コスト的に劣る
上記判定基準中、△以上のものが実使用上問題なく使用できるレベルである。
◯: Advantage in terms of cost Δ: Slightly inferior in cost ×: Inferior in cost Among the above criteria, those above Δ are at a level that can be used without problems in actual use.

比較例4は、樹脂組成ワニスを塗布した後の乾燥時に、ポリエステルフィルムにシワが入り、製品を得られなかった。   In Comparative Example 4, the polyester film was wrinkled during drying after the resin composition varnish was applied, and a product was not obtained.

Figure 0005322893
Figure 0005322893

本発明のポリエステルフィルムは、例えば、ビルドアップビルドアップ法で製造する多層プリント配線板に用いられる、フィルム状の層間絶縁材料を形成するための支持体として、好適に利用することができる。   The polyester film of the present invention can be suitably used as a support for forming a film-like interlayer insulating material used for, for example, a multilayer printed wiring board produced by a build-up build-up method.

Claims (1)

少なくとも3層から成る、フィルムの厚みが15〜50μmの共押出二軸配向積層ポリエステルフィルムであり、一方の最外層の厚みが0.4〜5μmであり、当該最外層中に、一次粒子の平均粒径5〜40nmである酸化アルミニウムの凝集体を0.1〜0.8重量含有し、当該凝集体の平均粒径が50〜400nmであることを特徴とする層間絶縁材料用支持ポリエステルフィルム。 It is a coextruded biaxially oriented laminated polyester film consisting of at least three layers and having a film thickness of 15 to 50 μm , one outermost layer having a thickness of 0.4 to 5 μm, and the average of primary particles in the outermost layer A support polyester film for an interlayer insulating material, comprising 0.1 to 0.8 % by weight of an aluminum oxide aggregate having a particle size of 5 to 40 nm, and having an average particle size of 50 to 400 nm .
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