JP5343437B2 - Hydrogen chloride gas ejection member, reactor for producing trichlorosilane, and method for producing trichlorosilane - Google Patents
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Description
本発明は、金属シリコン粉末と塩化水素ガスとを反応させてトリクロロシランを生成する際に用いられるトリクロロシラン製造用反応装置において使用され、装置本体内に充填された金属シリコン粉末中に塩化水素ガスを噴出させる塩化水素ガス噴出用部材及びこの塩化水素ガス噴出用部材を備えたトリクロロシラン製造用反応装置、並びにその塩化水素ガス噴出用部材を用いたトリクロロシラン製造方法に関する。 The present invention is used in a reaction apparatus for producing trichlorosilane used for producing trichlorosilane by reacting metal silicon powder with hydrogen chloride gas, and hydrogen chloride gas is contained in the metal silicon powder filled in the apparatus body. The present invention relates to a hydrogen chloride gas ejection member for ejecting hydrogen, a reaction apparatus for producing trichlorosilane provided with the hydrogen chloride gas ejection member, and a method for producing trichlorosilane using the hydrogen chloride gas ejection member.
イレブンナイン以上の極めて高純度のシリコンを製造するための原料として使用されるトリクロロシラン(SiHCl3)は、純度98%程度の金属シリコン粉末(Si)と塩化水素ガス(HCl)とを反応させることで製造される。
このように金属シリコン粉末と塩化水素ガスとを反応させてトリクロロシランを生成するためのトリクロロシラン製造用反応装置として、例えば特許文献1に示すように、金属シリコン粉末が充填される装置本体と、この装置本体の底部から塩化水素ガスを装置本体内へと導入するガス導入手段を備えたものが提案されている。ここで、ガス導入手段には、金属シリコン粉末中に塩化水素ガスを噴出させるために、噴出孔を備えた塩化水素ガス噴出用部材が装着されている。
Trichlorosilane (SiHCl 3 ), which is used as a raw material for producing extremely high purity silicon of eleven or more, is made by reacting metal silicon powder (Si) with a purity of about 98% and hydrogen chloride gas (HCl). Manufactured by.
Thus, as a reaction apparatus for producing trichlorosilane for reacting metal silicon powder and hydrogen chloride gas to produce trichlorosilane, for example, as shown in
粒径が1000μm以下と比較的小さな金属シリコン粉末を装置本体に充填し、装置本体の底部から塩化水素ガス噴出用部材を介して塩化水素ガスを高速で噴出させ、金属シリコン粉末を流動させる。これにより、金属シリコン粉末と塩化水素ガスとを十分に接触させ、これらの反応によりトリクロロシランを得る。
ところで、従来の塩化水素ガス噴出用部材は、その噴出孔が装置本体の上方に向けて開口するようにして装置本体の底部に固定されている。ここで、金属シリコン粉末は前述のように粒径が小さく、噴出孔の中に入り込んで目詰まりしてしまうおそれがあった。このため、塩化水素ガス噴出用部材を交換したりクリーニングしたりする必要があるが、塩化水素ガス噴出用部材が装置本体の底部に固定されているので、塩化水素ガス噴出用部材を容易に取り外すことができなかった。 By the way, the conventional hydrogen chloride gas ejection member is fixed to the bottom of the apparatus body such that the ejection hole opens upward of the apparatus body. Here, the metal silicon powder has a small particle size as described above, and there is a possibility that the metal silicon powder enters the ejection hole and becomes clogged. Therefore, it is necessary to replace or clean the hydrogen chloride gas ejection member. However, since the hydrogen chloride gas ejection member is fixed to the bottom of the apparatus main body, the hydrogen chloride gas ejection member can be easily removed. I couldn't.
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、金属シリコン粉末による目詰まりを抑制できるとともに、塩化水素ガスを広く分散させてトリクロロシランの生産効率を向上させることが可能な塩化水素ガス噴出用部材及びこの塩化水素ガス噴出用部材を備えたトリクロロシラン製造用反応装置、並びにその塩化水素ガス噴出用部材を用いたトリクロロシラン製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and is capable of suppressing clogging caused by metal silicon powder and capable of improving the production efficiency of trichlorosilane by widely dispersing hydrogen chloride gas. It is an object of the present invention to provide a hydrogen gas ejection member, a reactor for producing trichlorosilane provided with the hydrogen chloride gas ejection member, and a method for producing trichlorosilane using the hydrogen chloride gas ejection member.
この課題を解決するために、本発明に係る塩化水素ガス噴出用部材は、金属シリコン粉末に塩化水素ガスを反応させてトリクロロシランを生成するトリクロロシラン製造用反応装置に用いられる塩化水素ガス噴出用部材であって、長手方向に向けて延びる軸部と、この軸部の前記長手方向に対して交差する方向に延在する頭部とを有し、前記軸部には、前記長手方向に向けて延びる供給孔が設けられ、前記頭部には、前記供給孔に連通するとともに前記供給孔の延在方向に対して交差する方向に延びて前記頭部の外表面に開口した噴出孔が複数形成されており、前記軸部にネジ部が形成され、前記供給孔に連通する均圧管が接続されていることを特徴としている。 In order to solve this problem, a hydrogen chloride gas jetting member according to the present invention is used for hydrogen chloride gas jetting used in a reactor for producing trichlorosilane that reacts metal chloride with hydrogen chloride gas to produce trichlorosilane. A shaft portion extending in the longitudinal direction and a head portion extending in a direction intersecting the longitudinal direction of the shaft portion, the shaft portion being directed in the longitudinal direction The head is provided with a plurality of ejection holes that communicate with the supply hole and extend in a direction intersecting the extending direction of the supply hole and open on the outer surface of the head. The screw portion is formed in the shaft portion, and a pressure equalizing pipe communicating with the supply hole is connected .
この構成の塩化水素ガス噴出用部材においては、長手方向に延びる軸部とこの軸部の長手方向に対して交差する方向に延在する頭部とを有しており、軸部に設けられた供給孔が軸部の長手方向に延びるとともに、頭部に供給孔に対して交差する方向に延びる噴出孔が設けられているので、前述のトリクロロシラン製造用反応装置にこの塩化水素ガス噴出用部材を装着した場合に、噴出孔に金属シリコン粉末が入り込みにくくなり、噴出孔の目詰まりを防止することができる。
また、噴出孔が複数形成されているので、複数の方向に向けて塩化水素ガスを噴出することができ、塩化水素ガスを金属シリコン粉末中に広く分散させて反応を促進することが可能となる。
The hydrogen chloride gas ejection member having this configuration has a shaft portion extending in the longitudinal direction and a head portion extending in a direction intersecting the longitudinal direction of the shaft portion, and is provided on the shaft portion. Since the supply hole extends in the longitudinal direction of the shaft portion and the ejection hole extending in the direction intersecting the supply hole is provided in the head, the hydrogen chloride gas ejection member is provided in the above-described reactor for producing trichlorosilane. Is attached, it becomes difficult for the metal silicon powder to enter the ejection holes, and clogging of the ejection holes can be prevented.
Further, since a plurality of ejection holes are formed, hydrogen chloride gas can be ejected in a plurality of directions, and the reaction can be promoted by widely dispersing the hydrogen chloride gas in the metal silicon powder. .
また、前記軸部にネジ部が形成されているので、前述のトリクロロシラン製造用反応装置のガス導入手段に着脱可能に装着されることになり、長時間使用して劣化した場合でも、容易に交換することができる。また、万が一、噴出孔が目詰まりした場合であっても取り外してクリーニングすることができるので、メンテナンスが非常に容易である。また、塩化水素ガス噴出用部材を回動させることで簡単に着脱することができ、メンテナンス性のさらなる向上を図ることができる。なお、塩化水素ガス噴出用部材の頭部をスパナ等の作業用工具を係止できるような形状としておくことが好ましい。
また、供給孔に連通する均圧管が接続されているので、噴出孔から噴出する塩化水素ガスの圧力を均一にすることができる。
Moreover, since the threaded portion before Kijiku portion is formed, it will be mounted detachably on the gas introduction means of the aforementioned producing trichlorosilane for reaction, even when it is degraded by using for a long time, easily Can be replaced. Further, even if the ejection hole is clogged, it can be removed and cleaned, so that maintenance is very easy. Moreover, it can be easily attached and detached by rotating the hydrogen chloride gas ejection member, and the maintenance can be further improved. In addition, it is preferable to make the head of the hydrogen chloride gas ejection member a shape that can lock a working tool such as a spanner.
Moreover, since the pressure equalizing pipe connected to the supply hole is connected, the pressure of the hydrogen chloride gas ejected from the ejection hole can be made uniform.
また、本発明の塩化水素ガス噴出用部材は、複数の前記噴出孔が前記供給孔から放射状に延びるように形成されていることを特徴としている。
この構成の塩化水素ガス噴出用部材においては、供給孔を通じて供給された塩化水素ガスが複数の噴出孔から放射状に噴出されることになり、塩化水素ガスを金属シリコン粉末中にさらに広く分散させることができる。
The hydrogen chloride gas ejection member of the present invention is characterized in that a plurality of the ejection holes are formed to extend radially from the supply holes.
In the hydrogen chloride gas ejection member having this configuration, the hydrogen chloride gas supplied through the supply holes is ejected radially from the plurality of ejection holes, and the hydrogen chloride gas is dispersed more widely in the metal silicon powder. Can do.
本発明に係るトリクロロシラン製造用反応装置は、金属シリコン粉末と、塩化水素ガスとを反応させてトリクロロシランを生成するトリクロロシラン製造用反応装置であって、
前記金属シリコン粉末が供給される装置本体と、この装置本体の底部側から前記塩化水素ガスを前記装置本体内へと導入するガス導入手段とを有し、このガス導入手段は、前記塩化水素ガス噴出用部材が前記装置本体の底板部を貫通して着脱可能に装着され、前記頭部が前記底板部の上に配置されていることを特徴としている。
この構成のトリクロロシラン製造用反応装置においては、塩化水素ガス噴出用部材の目詰まりを防止できるので、安定した操業を行うことができる。また、塩化水素ガスを金属シリコン粉末中に広く分散させることによって、トリクロロシランの生産効率を大幅に向上させることができる。
A reactor for producing trichlorosilane according to the present invention is a reactor for producing trichlorosilane, which produces trichlorosilane by reacting metal silicon powder with hydrogen chloride gas,
An apparatus main body to which the metal silicon powder is supplied; and a gas introducing means for introducing the hydrogen chloride gas into the apparatus main body from the bottom side of the apparatus main body, the gas introducing means comprising the hydrogen chloride gas The ejection member is detachably mounted through the bottom plate portion of the apparatus main body, and the head is disposed on the bottom plate portion.
In the reactor for producing trichlorosilane having this configuration, the hydrogen chloride gas ejection member can be prevented from being clogged, so that stable operation can be performed. Moreover, the production efficiency of trichlorosilane can be significantly improved by widely dispersing hydrogen chloride gas in the metal silicon powder.
そして、本発明に係るトリクロロシラン製造方法は、金属シリコン粉末と、塩化水素ガスとを反応させてトリクロロシランを生成するトリクロロシラン製造方法であって、前記シリコン粉末が供給される装置本体の底板部に、前記塩化水素ガス噴出用部材を装着して、前記頭部を前記底板部の上に配置しておき、前記装置本体の下部に金属シリコン粉末を供給しながら、前記塩化水素ガス噴出用部材の前記噴出孔から塩化水素ガスを噴出することを特徴とする。 The method for producing trichlorosilane according to the present invention is a method for producing trichlorosilane by reacting metal silicon powder and hydrogen chloride gas to produce trichlorosilane, the bottom plate portion of the apparatus body to which the silicon powder is supplied. in the wearing the hydrogen chloride gas jetting member, the head should be placed in the top of the bottom plate portion, while supplying the metal silicon powder in the lower portion of the apparatus main body, the hydrogen chrolide gas ejecting nozzle The hydrogen chloride gas is ejected from the ejection holes.
本発明によれば、金属シリコン粉末による目詰まりを抑制できるとともに、塩化水素ガスを広く分散させてトリクロロシランの生産効率を向上させることが可能な塩化水素ガス噴出用部材及びこの塩化水素ガス噴出用部材を備えたトリクロロシラン製造用反応装置を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, while being able to suppress clogging by metal silicon powder, the hydrogen chloride gas ejection member which can improve the production efficiency of trichlorosilane by widely dispersing hydrogen chloride gas, and this hydrogen chloride gas ejection A reactor for producing trichlorosilane provided with a member can be provided.
以下に、本発明の実施形態について添付した図面を参照して説明する。
本実施形態である塩化水素ガス噴出用部材1は、図1及び図2に示すように、概略円柱状をなす軸部2と、この軸部2の上端において軸部2の長手方向(図1において上下方向)に交差する方向に延在する頭部3とを備えている。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.
As shown in FIGS. 1 and 2, the hydrogen chloride
本実施形態においては、頭部3は、軸部2の長手方向に対して直交する方向に延在しており、図2に示すように上面視で正六角形状をなしている。なお、頭部3の上面3Aは軸部2の長手方向に直交する平面とされ、頭部3の側面3Bは上面3Aに直交するように構成されていて、概略正六角柱状をなしている。
また、軸部2には、その外周面に雄ネジが形成されている。このように、塩化水素ガス噴出用部材1は、いわゆる六角ボルトと同じ形状とされており、頭部3にスパナ等の作業用工具を係止させることが可能な構成とされている。
In the present embodiment, the
Further, the
軸部2には、その下端面2Bに開口するとともに軸部2の長手方向に沿って延びる供給孔4が設けられている。なお、この供給孔4は、頭部3の上面3Aに開口されておらず、いわゆる止まり孔とされている。
そして、頭部3には、供給孔4に連通するとともに、供給孔4の延在方向に対して交差する方向に延びる複数の噴出孔5が形成されている。本実施形態では、図1及び図2に示すように、6つの噴出孔5が供給孔4の延在方向に対してそれぞれ直交するように形成されている。これら6つの噴出孔5は、図2に示すように、頭部3の中心に位置する供給孔4から放射状に延びるように形成されており、正六角柱状をなす頭部3の側面にそれぞれ開口している。つまり、噴出孔5の開口部は、軸部2の長手方向に対して直交する方向に向けられているのである。
The
The
次に、本実施形態である塩化水素ガス噴出用部材1が使用されるトリクロロシラン製造用反応装置10について説明する。
トリクロロシラン製造用反応装置10は、図3に示すように、概略円筒状をなす胴部12と底板部13と天板部14とを有する装置本体11を備えている。ここで、図3及び図4に示すように、底板部13の上面13A及び下面13Bは、胴部12がなす円筒の軸線に対して直交するように配置されている。
Next, a
As shown in FIG. 3, the
装置本体11の胴部12の下部には、金属シリコン粉末を装置本体11内に供給するシリコン粉末供給口15が形成されている。このシリコン粉末供給口には、キャリアガスの導入配管30が接続され、このキャリアガスの導入配管30にフィードホッパー31から金属シリコン粉末が供給され、シリコン粉末供給口15を経由して装置本体11内に供給されるようになっている。また、フィードホッパー31には、後述のサイクロン33が接続されているとともに、外部から金属シリコン粉末を供給するシリコン粉末供給系40が接続されている。
また、装置本体11の天板部14には、反応によって生成したトリクロロシランのガスを外部へと取り出すガス取出口17が設けられている。
A silicon
Further, the
この装置本体11の下側には、塩化水素ガスを装置本体11内部に導入するためのガス導入手段20が設けられている。
ガス導入手段20は、塩化水素ガスが貯留されるガス室21と、このガス室21内に塩化水素ガスを供給するガス供給口22とを備えている。ここで、ガス室21は、装置本体11の底板部13によって装置本体11内部と仕切られている。
A gas introduction means 20 for introducing hydrogen chloride gas into the apparatus
The gas introduction means 20 includes a
そして、装置本体11の底板部13に、図4に示すように、本実施形態である塩化水素ガス噴出用部材1が配設されている。詳述すると、装置本体11の底板部13に取付孔13Cが設けられ、この取付孔13Cに塩化水素ガス噴出用部材1の軸部2が挿入され、この塩化水素ガス噴出用部材1の頭部3が底板部13の上面13Aに配置されている。底板部13の下面13B側からナット25が軸部2に形成された雄ネジ部2Aに螺着され、底板部13をナット25と頭部3とで挟み込むことで固定されている。なお、頭部3と底板部13の上面13Aとの間及びナット25と底板部13の下面13Bとの間にはそれぞれワッシャ26が介装されている。
これにより、塩化水素ガス噴出用部材1の軸部2が底板部13を貫通してガス室21内部へと挿入され、この底板部13に着脱可能に装着される。また、塩化水素ガス噴出用部材1の軸部2に、供給孔4に連通する均圧管27が接続されている。
And as shown in FIG. 4, the
As a result, the
前述のようにして本実施形態である塩化水素ガス噴出用部材1は、装置本体11の底板部13に固定され、軸部2が底板部13から下方に向けて(装置本体11の胴部12がなす円筒の軸線に沿って)延びるように、かつ、頭部3の上面3Aが装置本体11の底板部13の上面13A及び下面13Bと平行となるように配置される。また、軸部2の供給孔4は、その下端がガス室21内に開口され、一方、頭部3の噴出孔5は、装置本体11の胴部12がなす円筒の軸線に対して直交する方向に開口するように配置されることになる。そして、ガス供給口22からガス室21内に供給された塩化水素ガスが塩化水素ガス噴出用部材1の供給孔4を経由して噴出孔5から装置本体11内に噴出されるようになっており、これらガス供給口22、ガス室21、塩化水素ガス噴出用部材1によって、ガス導入手段20が構成される。
As described above, the hydrogen chloride
なお、本実施形態においては、図5に示すように、複数の塩化水素噴出ノズル1が、底板部13の上面13Aの全面に亘って千鳥格子状に配列されている。
In the present embodiment, as shown in FIG. 5, the plurality of hydrogen
次に、前述のように構成されたトリクロロシラン製造用反応装置10によるトリクロロシランの製造方法について説明する。
金属シリコン粉末は、シリコン粉末供給系40からフィードホッパー31に供給され、このフィードホッパー31からバルブ32を介してキャリアガスの導入配管30内に導入され、気流移送によりシリコン粉末供給口15を通じて装置本体11の内部に供給される。このとき、塩化水素ガスを気流移送のキャリアガスとして用いている。また、キャリアガスは一定の圧力で導入されている。
Next, the manufacturing method of trichlorosilane by the
The metal silicon powder is supplied from the silicon
また、ガス導入手段20により装置本体11の内部に塩化水素ガスを導入する。塩化水素ガスは、装置本体11の底板部13に複数配置された塩化水素ガス噴出用部材1を介して装置本体11内に向けて噴出される。塩化水素ガス噴出用部材1より噴出された塩化水素ガスは金属シリコン粉末中に導入される。
Further, hydrogen chloride gas is introduced into the apparatus
このようにして装置本体11内の金属シリコン粉末に塩化水素ガスが噴出されることによって、金属シリコン粉末が装置本体11内を流動することになる。金属シリコン粉末が流動しながら塩化水素ガスと接触することで、金属シリコン粉末と塩化水素ガスとが所定温度で反応し、トリクロロシランのガスが生成される。
Thus, hydrogen chloride gas is ejected to the metal silicon powder in the apparatus
生成したトリクロロシランのガスは、装置本体11の天板部14に設けられたガス取出口17から取り出され、後工程へと供給される。また、装置本体11内部において未反応の金属シリコン粉末は、トリクロロシランのガスとともにガス取出口17から排出され、後工程のサイクロン33で回収されてフィードホッパー31へと供給されてキャリアガスの導入配管30内に導入され、再度装置本体11内に供給される。サイクロン33で回収されなかった金属シリコン粉末は、後工程のフィルター34で除去される。
The generated trichlorosilane gas is taken out from a gas outlet 17 provided in the
本実施形態である塩化水素ガス噴出用部材1は、概略円柱状をなす軸部2と、軸部2の長手方向(図1において上下方向)に交差する方向に延在する頭部3とを備えており、軸部2が装置本体11の上下方向に向けて延びるように配置されることになり、軸部2に設けられた供給孔4も装置本体11の上下方向(装置本体11の胴部12がなす円筒の軸線方向)を向くように配置される。そして、この供給孔4に直交する噴出孔5の開口部が頭部3の側面に開口されているので、噴出孔5の開口部は装置本体11の上方を向くことがなくなる。したがって、噴出孔5に金属シリコン粉末が入り込みにくくなり、噴出孔5の目詰まりを防止することができる。
The hydrogen chloride
供給孔4から複数の噴出孔5が放射状に延びるように形成されているので、ひとつの塩化水素ガス噴出用部材1から複数の方向に向けて塩化水素ガスを噴出することができ、塩化水素ガスを金属シリコン粉末中に広く分散させて反応を促進することが可能となる。これにより、金属シリコン粉末と塩化水素ガスとの反応をさらに促進させてトリクロロシランの生産効率の向上を図ることができる。
Since the plurality of ejection holes 5 are formed so as to extend radially from the
また、この塩化水素ガス噴出用部材1は、装置本体11の底板部13に着脱可能に装着されているので、長時間使用して劣化した場合でも、簡単に交換することができる。また、万が一、噴出孔5が目詰まりした場合であっても、装置本体11の底板部13から取り外した状態でクリーニングすることができるので、メンテナンスが非常に容易である。さらに、塩化水素ガス噴出用部材1の頭部3が正六角柱状をなしているので、スパナ等の作業用工具を係止させて回動し、簡単に着脱することができる。
Further, since the hydrogen chloride
また、本実施形態である塩化水素ガス噴出用部材1は、いわゆる六角ボルトと同じ形状とされているので、汎用の六角ボルトに穴明け加工を施すことでこの塩化水素ガス噴出用部材1を製作することができ、この塩化水素ガス噴出用部材1の製作コストの低減を図ることができる。
さらに、本実施形態では、また、塩化水素ガス噴出用部材1の軸部2に、供給孔4に連通する均圧管27が接続されているので、噴出孔5から噴出する塩化水素ガスの圧力を均一にすることができる。
Moreover, since the hydrogen chloride
Furthermore, in this embodiment, since the
以上、本発明の実施形態である塩化水素ガス噴出用部材について説明したが、本発明はこれに限定されることはなく、その発明の技術的思想を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。
例えば、本実施形態では、噴出孔が供給孔の延在方向に対して直交するように形成されたもので説明したが、これに限定されることはなく、装置本体の底板部に取り付けた状態で装置本体の上方に開口部が向かないように、供給孔に対して交差していればよい。
The hydrogen chloride gas ejection member according to the embodiment of the present invention has been described above. However, the present invention is not limited to this, and can be appropriately changed without departing from the technical idea of the present invention.
For example, in the present embodiment, the description has been given of the case where the ejection hole is formed so as to be orthogonal to the extending direction of the supply hole. Therefore, it is only necessary to cross the supply hole so that the opening does not face above the apparatus main body.
また、六角ボルト形状をなして6つの噴出孔が形成されたものとして説明したが、噴出孔の数に限定はない。塩化水素ガス噴出用部材の配置や装置本体の形状を考慮して適宜設計することが好ましい。 Moreover, although demonstrated as what formed the hexagon bolt shape and the six ejection holes, there is no limitation in the number of ejection holes. It is preferable to design appropriately considering the arrangement of the hydrogen chloride gas ejection member and the shape of the apparatus main body.
図6〜図11は塩化水素ガス噴出用部材の変形例を示している。いずれの変形例も頭部の形状が一実施形態のものと異なっているものであり、軸部は一実施形態のものと同一であるので、同一符号を付して説明を省略する。その他、一実施形態のものと共通する供給孔、噴出孔にも同一符号を付している。図6及び図7に示す塩化水素ガス噴出部材51は、その頭部52が平面視で正方形に形成され、上面52Aが長さ方向に直交する平面に形成されているとともに、供給孔4に直交する四つの噴出孔5が頭部52の各側面52Bにそれぞれ開口している。図8及び図9に示す塩化水素ガス噴出部材53は、その頭部54が平面視で円形の両側部を相互に平行に切除してなる形状とされていることにより、上面54Aは長さ方向に直交する平面に形成されているが、側面は、円弧状側面54Bと平面状側面54Cとが一対ずつ形成されている。また、供給孔4に直交する四つの噴出孔5は、頭部54の円弧状側面54Bにそれぞれ開口している。また、図10及び図11に示す塩化水素ガス噴出部材55は、その頭部56が半球状に形成され、その両側部の一部が相互に平行に切除された形状とされている。したがって、頭部56の上面56Aは半球面に形成され、一対の平面状側面56Bが長さ方向に平行に形成されている。そして、供給孔4に対して斜めに交差する四つの噴出孔5が半球状の上面56Aに斜め上向きに開口している。
いずれの塩化水素ガス噴出用部材とも、その頭部の平面部分(図6及び図7では各側面52B、図8及び図9では平面状側面54C、図10及び図11では平面状側面56B)にスパナ等の工具を係止して塩化水素ガス噴出部材を回転させることにより、底板部に対して着脱することができる。
また、塩化水素ガス噴出用部材の頭部の形状としては、これらの形状以外にも、平面視で三角形等としてもよく、側面に工具を係止できる平面が形成されていればよい。
6 to 11 show modifications of the hydrogen chloride gas ejection member. In any of the modifications, the shape of the head is different from that of the embodiment, and the shaft portion is the same as that of the embodiment. In addition, the same code | symbol is attached | subjected also to the supply hole and ejection hole which are common in the thing of one Embodiment. The hydrogen chloride
Each of the hydrogen chloride gas ejection members has a planar portion at its head (each
In addition to these shapes, the shape of the head of the hydrogen chloride gas ejection member may be a triangle or the like in plan view, as long as a plane on which the tool can be locked is formed on the side surface.
1 塩化水素ガス噴出用部材
2 軸部
2A 雄ネジ部(係合部)
3 頭部
4 供給孔
5 噴出孔
10 トリクロロシラン製造用反応装置
11 装置本体
13 底部
20 ガス導入手段
51,53,55 塩化水素ガス噴出用部材
52,54,56 頭部
DESCRIPTION OF
3
Claims (4)
長手方向に向けて延びる軸部と、この軸部の前記長手方向に対して交差する方向に延在する頭部とを有し、
前記軸部には、前記長手方向に向けて延びる供給孔が設けられ、前記頭部には、前記供給孔に連通するとともに前記供給孔の延在方向に対して交差する方向に延びて前記頭部の外表面に開口した噴出孔が複数形成されており、前記軸部にネジ部が形成され、前記供給孔に連通する均圧管が接続されていることを特徴とする塩化水素ガス噴出用部材。 A hydrogen chloride gas jetting member used in a reactor for producing trichlorosilane that reacts metal chloride powder with hydrogen chloride gas to produce trichlorosilane,
A shaft portion extending in the longitudinal direction and a head portion extending in a direction intersecting the longitudinal direction of the shaft portion;
The shaft portion is provided with a supply hole extending in the longitudinal direction, and the head portion communicates with the supply hole and extends in a direction intersecting the extending direction of the supply hole. A hydrogen chloride gas jetting member , wherein a plurality of jetting holes are formed on the outer surface of the part, a screw part is formed in the shaft part, and a pressure equalizing pipe communicating with the supply hole is connected .
複数の前記噴出孔が前記供給孔から放射状に延びるように形成されていることを特徴とする塩化水素ガス噴出用部材。 In the hydrogen chloride gas ejection member according to claim 1 ,
A member for ejecting hydrogen chloride gas, wherein the plurality of ejection holes are formed to extend radially from the supply holes.
前記金属シリコン粉末が供給される装置本体と、この装置本体の底部側から前記塩化水素ガスを前記装置本体内へと導入するガス導入手段とを有し、
このガス導入手段は、請求項1又は請求項2に記載の塩化水素ガス噴出用部材が前記装置本体の底板部を貫通して着脱可能に装着され、前記頭部が前記底板部の上に配置されていることを特徴とするトリクロロシラン製造用反応装置。 A reactor for producing trichlorosilane that reacts metal silicon powder with hydrogen chloride gas to produce trichlorosilane,
An apparatus main body to which the metal silicon powder is supplied, and gas introduction means for introducing the hydrogen chloride gas into the apparatus main body from the bottom side of the apparatus main body,
In this gas introducing means, the hydrogen chloride gas ejection member according to claim 1 or 2 is detachably mounted through the bottom plate portion of the apparatus main body, and the head is disposed on the bottom plate portion. A reactor for producing trichlorosilane, which is characterized in that
前記シリコン粉末が供給される装置本体の底板部に、請求項1又は請求項2に記載の塩化水素ガス噴出用部材を装着して、前記頭部を前記底板部の上に配置しておき、前記装置本体の下部に金属シリコン粉末を供給しながら、前記塩化水素ガス噴出用部材の前記噴出孔から塩化水素ガスを噴出することを特徴とするトリクロロシラン製造方法。 A method for producing trichlorosilane by reacting metal silicon powder with hydrogen chloride gas to produce trichlorosilane,
The hydrogen chloride gas ejection member according to claim 1 or 2 is attached to a bottom plate portion of an apparatus main body to which the silicon powder is supplied, and the head is disposed on the bottom plate portion. A method for producing trichlorosilane, characterized in that hydrogen chloride gas is ejected from the ejection holes of the hydrogen chloride gas ejection member while supplying metallic silicon powder to the lower part of the apparatus body.
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