JP5347127B2 - 異方性レーザー結晶を利用したダイオードポンピングされたレーザー装置 - Google Patents
異方性レーザー結晶を利用したダイオードポンピングされたレーザー装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5347127B2 JP5347127B2 JP2008123587A JP2008123587A JP5347127B2 JP 5347127 B2 JP5347127 B2 JP 5347127B2 JP 2008123587 A JP2008123587 A JP 2008123587A JP 2008123587 A JP2008123587 A JP 2008123587A JP 5347127 B2 JP5347127 B2 JP 5347127B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- anisotropic
- pump
- crystal
- lens
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000013078 crystal Substances 0.000 title claims description 83
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims description 31
- 238000005086 pumping Methods 0.000 claims description 25
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 16
- 230000009102 absorption Effects 0.000 claims description 15
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 14
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 11
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 8
- PBYZMCDFOULPGH-UHFFFAOYSA-N tungstate Chemical compound [O-][W]([O-])(=O)=O PBYZMCDFOULPGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 11
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000003491 array Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 2
- NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N ytterbium Chemical compound [Yb] NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000011149 active material Substances 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/091—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
- H01S3/094—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light
- H01S3/0941—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light of a laser diode
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/091—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
- H01S3/094—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light
- H01S3/0941—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light of a laser diode
- H01S3/09415—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light of a laser diode the pumping beam being parallel to the lasing mode of the pumped medium, e.g. end-pumping
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/005—Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/16—Solid materials
- H01S3/1601—Solid materials characterised by an active (lasing) ion
- H01S3/1603—Solid materials characterised by an active (lasing) ion rare earth
- H01S3/1618—Solid materials characterised by an active (lasing) ion rare earth ytterbium
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/16—Solid materials
- H01S3/163—Solid materials characterised by a crystal matrix
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Description
更に詳しくは、本発明は、異方性レーザー結晶が狭い縞模様の出力ビームを有する放射によりポンピングされる時、異方性レーザー結晶内で収束されるスポットの対称性を向上させることができ、特に縞模様を有するレーザーダイオード、レーザーダイオードバー及びレーザーダイオードアレーなどを使用して縦のポンピング形態で固体レーザーをポンピングする時、レーザーシステムの効率を向上させることができる異方性レーザー結晶を利用したダイオードポンピングされたレーザー装置に関する。
この問題はレーザーダイオード(そして、特別に高い出力のレーザーダイオード)が長い長方形態のビーム出力領域を有しており、出力ビームの幅が高さよりはるかに大きい非対称的な形態を有するという事実と関連がある。
式1は、固定された波長から与えられた焦点の長さfを有するレンズを通過した後のビーム半径はM2/wlensに比例することを示す。
更に、異方性を有するイッテルビウムがドーピングされた結晶の数種の特性は、ダイオードポンピングにとって魅力的である。
A.Shirakawa, K.Takaichi, H.Jagi et al.,Optics express, 11,2911(2003)
光軸に沿って、
第1方向(早い方向)でより小さく、前記第1方向に対して直交する第2方向(遅い方向)でより大きい非対称断面と輝度を有するポンプビームを発生させるポンプ放射源と、 前記ポンプ放射源から出力された前記ポンプビームを前記第1方向で平行にする非球面レンズと、
偏光方向をTEモードからTMモードに変更するため、前記非球面レンズを通過した前記ポンプビームの偏光の向きを90°回転させる偏光回転装置と、
前記偏光回転装置を通過したポンプビームのサイズを前記第2方向で拡大させる第1シリンダーレンズと、
前記第1シリンダーレンズを通過した前記ポンプビームを前記第2方向で平行にする第2シリンダーレンズと、
収束レンズと、
当該異方性レーザー結晶内部で横軸方向の強度分布を再構成して究極的に収束されたビームが吸収長さでほぼ円形のスポットを持つことで、TEM00モードで作動し、分光学的特性とレーザーの特性を有する、Yb3+イオンが添加されたタングステン酸塩媒質により形成され、結晶学的に互いに直交する第1軸及び第2軸を有し、これらの軸がポンプビームの偏光によって互いに異なる吸収度を有する、異方性レーザー結晶と
が配設されており、
前記非球面レンズと、前記第1のシリンダーレンズと、前記第2のシリンダレンズとで前記ポンプ放射源から出力された非対称ポンプビームを平行光に作り、
前記収束レンズは、前記非球面レンズと前記第1のシリンダーレンズと前記第2のシリンダーレンズとによって平行光にされたポンプビームを前記異方性レーザー結晶のビーム入口の表面に収束させ、
前記収束レンズと前記異方性レーザー結晶のビーム入口との間に第1の二色性共振器ミラーが配設されており、
前記異方性レーザー結晶のビーム出口に第2の二色性共振器ミラーが配設されており、 前記第1の二色性共振器ミラーにレーザー光を出力し、その反射光を前記収束レンズからのポンプビームとともに前記異方性レーザー結晶のビーム入口に入射させる、第1のレーザー共振器ミラーが配設されており、
前記第2の二色性共振器ミラーにレーザー光を出力し、その反射光を前記異方性レーザー結晶のビーム出口に入射させる、第2のレーザー共振器ミラーが配設されており、
前記ポンプ放射源から出力されたポンプビームを利用して前記異方性レーザー結晶をポンピングする、
レーザー装置が提供される。
11…異方性レーザー結晶
12…偏光方向
13…a軸
14…レーザーダイオード
15,25…非球面レンズ
16…第1シリンダーレンズ
17,25…第2シリンダーレンズ
18…収束レンズ
19a…第1のレーザー共振器ミラー、19b…第2のレーザー共振器ミラー、
20a…第1の二色性共振器ミラー、20b…第2の二色性共振器ミラー
21…偏光回転装置
H…高さ、W…幅、θ…ブルースター角
Claims (7)
- 光軸に沿って、
第1方向(早い方向)でより小さく、前記第1方向に対して直交する第2方向(遅い方向)でより大きい非対称断面と輝度を有するポンプビームを発生させるポンプ放射源と、 前記ポンプ放射源から出力された前記ポンプビームを前記第1方向で平行にする非球面レンズと、
偏光方向をTEモードからTMモードに変更するため、前記非球面レンズを通過した前記ポンプビームの偏光の向きを90°回転させる偏光回転装置と、
前記偏光回転装置を通過したポンプビームのサイズを前記第2方向で拡大させる第1シリンダーレンズと、
前記第1シリンダーレンズを通過した前記ポンプビームを前記第2方向で平行にする第2シリンダーレンズと、
収束レンズと、
当該異方性レーザー結晶内部で横軸方向の強度分布を再構成して究極的に収束されたビームが吸収長さでほぼ円形のスポットを持つことで、TEM00モードで作動し、分光学的特性とレーザーの特性を有する、Yb3+イオンが添加されたタングステン酸塩媒質により形成され、結晶学的に互いに直交する第1軸及び第2軸を有し、これらの軸がポンプビームの偏光によって互いに異なる吸収度を有する、異方性レーザー結晶と
が配設されており、
前記非球面レンズと、前記第1のシリンダーレンズと、前記第2のシリンダレンズとで前記ポンプ放射源から出力された非対称ポンプビームを平行光に作り、
前記収束レンズは、前記非球面レンズと前記第1のシリンダーレンズと前記第2のシリンダーレンズとによって平行光にされたポンプビームを前記異方性レーザー結晶のビーム入口の表面に収束させ、
前記収束レンズと前記異方性レーザー結晶のビーム入口との間に第1の二色性共振器ミラーが配設されており、
前記異方性レーザー結晶のビーム出口に第2の二色性共振器ミラーが配設されており、 前記第1の二色性共振器ミラーにレーザー光を出力し、その反射光を前記収束レンズからのポンプビームとともに前記異方性レーザー結晶のビーム入口に入射させる、第1のレーザー共振器ミラーが配設されており、
前記第2の二色性共振器ミラーにレーザー光を出力し、その反射光を前記異方性レーザー結晶のビーム出口に入射させる、第2のレーザー共振器ミラーが配設されており、
前記ポンプ放射源から出力されたポンプビームを利用して前記異方性レーザー結晶をポンピングする、
レーザー装置。 - 前記異方性レーザー結晶が前記ポンプビームを最大に吸収することができるように、前記ポンプ放射源から出力されるポンプビームの偏光の向きが前記異方性レーザー結晶のa軸に沿って置かれる、
請求項1に記載のレーザー装置。 - 前記異方性レーザー結晶はビーム入口とビーム出口でブルースター角で切断され、空気屈折率に対するレーザー結晶の屈折率の比によって前記ブルースター角が増加する、
請求項1または2に記載のレーザー装置。 - 前記異方性レーザー結晶は、前記Yb3+イオンが添加されたタングステン酸塩媒質である、Yb:KYWまたはYb:KGW結晶である、
請求項3に記載のレーザー装置。 - 前記偏光回転装置は半波長板である、
請求項1に記載のレーザー装置。 - 前記ポンプ放射源は、ポンプビームを発する各々のエミッターが線形態を有するレーザーダイオード、レーザーダイオードバー及びレーザーダイオードアレーの中から選択されるいずれか一つである、
請求項1に記載のレーザー装置。 - 前記異方性レーザー結晶は、ブルースター角度で切断されている、
請求項1に記載のレーザー装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR10-2007-0044839 | 2007-05-09 | ||
| KR1020070044839A KR100815483B1 (ko) | 2007-05-09 | 2007-05-09 | 비등방성 레이저 결정을 이용한 다이오드 펌핑된 레이저장치 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2008283189A JP2008283189A (ja) | 2008-11-20 |
| JP5347127B2 true JP5347127B2 (ja) | 2013-11-20 |
Family
ID=39411236
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2008123587A Expired - Fee Related JP5347127B2 (ja) | 2007-05-09 | 2008-05-09 | 異方性レーザー結晶を利用したダイオードポンピングされたレーザー装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5347127B2 (ja) |
| KR (1) | KR100815483B1 (ja) |
| DE (1) | DE102008021691A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102449862A (zh) * | 2009-05-28 | 2012-05-09 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 具有提高的泵浦光吸收的二极管泵浦固态激光器 |
| CN111952825B (zh) * | 2020-08-19 | 2023-01-13 | 科谱(宁波)科技有限公司 | 一种激光器的增益介质冷却装置 |
| CN119472061B (zh) * | 2025-01-16 | 2025-04-15 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 一种光束反转器 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA1251846A (en) * | 1983-09-26 | 1989-03-28 | Masataka Shirasaki | Laser light source device |
| JPH0714666U (ja) * | 1993-08-02 | 1995-03-10 | 新日本製鐵株式会社 | 固体レーザ装置 |
| JPH10135571A (ja) * | 1996-10-25 | 1998-05-22 | Hitachi Metals Ltd | 半導体レーザの集光光学系 |
| JPH10242551A (ja) * | 1997-02-28 | 1998-09-11 | Nikon Corp | 光学素子及びこれを用いたレーザ装置 |
| KR100265384B1 (ko) * | 1997-03-01 | 2000-09-15 | 윤덕용 | 캔틸레버와광원의집적소자및그제조방법 |
| DE10043269C2 (de) * | 2000-08-29 | 2002-10-24 | Jenoptik Jena Gmbh | Diodengepumpter Laserverstärker |
| JP2004128421A (ja) * | 2002-10-07 | 2004-04-22 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | レーザ照射方法およびレーザ照射装置、並びに半導体装置の作製方法 |
| AT413946B (de) | 2004-07-13 | 2006-07-15 | Mattner Frank Dr | Impfstoff gegen die alzheimer-krankheit |
-
2007
- 2007-05-09 KR KR1020070044839A patent/KR100815483B1/ko not_active Expired - Fee Related
-
2008
- 2008-04-30 DE DE102008021691A patent/DE102008021691A1/de not_active Ceased
- 2008-05-09 JP JP2008123587A patent/JP5347127B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2008283189A (ja) | 2008-11-20 |
| KR100815483B1 (ko) | 2008-03-20 |
| DE102008021691A1 (de) | 2008-11-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US10418774B2 (en) | Spectrally multiplexing diode pump modules to improve brightness | |
| JP5603880B2 (ja) | 円錐屈折に基づく新規な光デバイス | |
| Stewen et al. | A 1-kW CW thin disc laser | |
| US20110110389A1 (en) | Laser Oscillator | |
| US8477825B2 (en) | Polarization maintaining multi-pass imaging system for thin-disk amplifiers and oscillators | |
| JPH04255280A (ja) | 半導体レーザ励起固体レーザ装置 | |
| JP2005506687A (ja) | 高パワー高出力固体レーザー増幅システムおよび方法 | |
| JP2010500743A (ja) | 固体レーザをポンピングする光学装置 | |
| US20170117681A1 (en) | Solid-state laser | |
| CN115473118A (zh) | 一种宽温域稳定的全固态激光器及倍频激光器 | |
| KR101857751B1 (ko) | 슬랩 고체 레이저 증폭장치 | |
| JP5347127B2 (ja) | 異方性レーザー結晶を利用したダイオードポンピングされたレーザー装置 | |
| CN105024265A (zh) | 一种中红外激光的效率提高方法及中红外激光装置 | |
| Kwiatkowski | Highly efficient high power CW and Q-switched Ho: YLF laser. | |
| CN104466660A (zh) | 一种全固态自拉曼可调谐激光器 | |
| US20080013586A1 (en) | Narrow band diode pumping of laser gain materials | |
| JP3074692B2 (ja) | 端面励起型固体レーザー発振器 | |
| CN117498134A (zh) | 一种飞秒涡旋激光的产生装置及产生方法 | |
| CN115459038B (zh) | 蓝光泵浦产生639、721nm双波长激光的方法和装置 | |
| CN113161854B (zh) | 一种高斯模式和拉盖尔-高斯模式可切换的激光器 | |
| CN105024264A (zh) | 一种矢量光场输出激光器 | |
| US6188713B1 (en) | Solid-state laser apparatus | |
| Calmano et al. | Ultrafast Laser Inscribed Pr: KY3F10 Waveguides for Dual Wavelength and Switchable Waveguide Lasers in the Visible | |
| JP6090954B2 (ja) | コロイド結晶ゲルからなるレーザ発振素子およびその製造方法 | |
| JP7513886B2 (ja) | レーザ装置、及びレーザ装置の動作方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110125 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110201 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110428 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111122 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120222 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121016 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130115 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130521 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130605 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130625 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130725 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |