JP5353282B2 - Solar cell - Google Patents
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Description
本発明は、安価で高効率を有する太陽電池に関する。 The present invention relates to an inexpensive and highly efficient solar cell.
単結晶や多結晶シリコン基板を用いた量産用太陽電池の概観を図1に示す。受光面の集電電極として、フィンガー電極(101)とよばれる数百〜数十μm幅の電極を多数有し、また、太陽電池セルを連結するための集電電極としてバスバー電極(102)を数本有するのが一般的である。この電極の形成方法としては、蒸着法、スパッタ法などを利用してもよいが、コストの面から、銀などの金属微粒子を有機バインダーに混ぜた金属ペーストを、スクリーン版などを用いて印刷し、数百度で熱処理を行って基板と接着する方法が広く利用されている。 An overview of a solar cell for mass production using a single crystal or polycrystalline silicon substrate is shown in FIG. As the current collecting electrode on the light receiving surface, there are a large number of electrodes of several hundreds to several tens of μm called finger electrodes (101), and the bus bar electrode (102) is used as a current collecting electrode for connecting solar cells. It is common to have several. As a method for forming this electrode, an evaporation method, a sputtering method, or the like may be used. From a cost standpoint, a metal paste in which metal fine particles such as silver are mixed with an organic binder is printed using a screen plate or the like. A method of performing heat treatment at several hundred degrees and bonding to a substrate is widely used.
太陽電池の光電変換効率の高効率化のためには、電池の内部直列抵抗を極力低下させる必要があり、電極には高い電気伝導性が求められる。このためには、電気伝導率が高い銅もしくは銀を用いるのが有効である。銅は銀に比べ非常に安価であることから、コスト低下に極めて有効であるが、下記理由から銅は殆ど用いられていない。 In order to increase the photoelectric conversion efficiency of the solar cell, it is necessary to reduce the internal series resistance of the battery as much as possible, and the electrode is required to have high electrical conductivity. For this purpose, it is effective to use copper or silver having high electrical conductivity. Since copper is very cheap compared to silver, it is extremely effective in reducing the cost. However, copper is hardly used for the following reasons.
太陽電池はセル1枚の発電量が小さいため、普通数枚連結して使用される。連結には、製造コストや作業の容易性等の観点から、連結用の配線をバスバー電極にはんだ付けするのが一般的である。銅は銀に比べはんだ濡れ性が悪いため、セル連結の際の信頼性が低下してしまうおそれがあった。 Since solar cells have a small amount of power generation per cell, they are usually used by connecting several. For connection, it is common to solder a connection wiring to a bus bar electrode from the viewpoint of manufacturing cost, workability, and the like. Since copper has poor solder wettability compared to silver, there is a risk that reliability during cell connection may be reduced.
特開平7−90204号公報(特許文献1)では銀銅合金を、特開2001−15782号公報(特許文献2)では銀ペーストに銅微粒子を加えるなどの提案がなされているが、いずれも銀を使用しており、コスト高につながってしまう。 Japanese Laid-Open Patent Publication No. 7-90204 (Patent Document 1) proposes adding a silver-copper alloy, and Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2001-15782 (Patent Document 2) proposes adding copper fine particles to a silver paste. This leads to high costs.
一方、特開2008−42095号公報(特許文献3)に示される方法は、同一装置・同一製版でペースト印刷を積層していく手法であり、半導体基板に直接接合する第一電極層及び配線と接合される最表層の電極層を銀にし形成するものであるが、更にコストの低下が望まれる。 On the other hand, the method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-42095 (Patent Document 3) is a technique in which paste printing is laminated with the same apparatus and the same plate making, and the first electrode layer and the wiring directly bonded to the semiconductor substrate The outermost electrode layer to be joined is formed of silver, but further cost reduction is desired.
本発明は、上記要望に応えたもので、製造コストを大幅に低減することを可能にした太陽電池を提供することを目的とする。 The present invention has been made in response to the above-described demand, and an object of the present invention is to provide a solar cell that can greatly reduce the manufacturing cost.
本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を行った結果、PN接合が形成された半導体基板と、該半導体基板の少なくとも片面上に櫛歯状に形成されたフィンガー電極と、該フィンガー電極に接続するバスバー電極とを具備する太陽電池において、上記フィンガー電極を銅の微粒子を含有する導電性ペーストにて形成すること、この場合、特に基板に直接接着する第一電極層を銅ペーストで形成し、連結用配線と接着する最表層電極を銀ペーストで形成すれば、性能を損なうことなくはんだ付け可能な太陽電池が製造でき、更にコスト低下を達成することができることを知見し、本発明をなすに至ったものである。 As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have found that a semiconductor substrate in which a PN junction is formed, a finger electrode formed in a comb shape on at least one surface of the semiconductor substrate, In a solar cell comprising a bus bar electrode connected to a finger electrode, the finger electrode is formed of a conductive paste containing copper fine particles, and in this case, in particular, the first electrode layer directly bonded to the substrate is a copper paste. It is found that if the outermost layer electrode that is formed in the above and is bonded to the connecting wiring is formed of silver paste, a solar cell that can be soldered without degrading the performance can be manufactured, and further cost reduction can be achieved. This has led to the invention.
従って、本発明は、PN接合が形成された半導体基板と、該半導体基板の少なくとも片面上に櫛歯状に形成されたフィンガー電極と、該フィンガー電極に接続するバスバー電極とを具備する太陽電池であって、前記バスバー電極が、導電性材料として銅の微粒子のみを30〜90質量%含有する導電性ペーストが印刷され焼成され、前記半導体基板に直接接合する第一電極層と、銀、ニッケル、パラジウム、白金又は金を含有する導電性ペーストが印刷され焼成されることにより形成され、配線と接合される最表層の電極層とからなる2層構造を有するものであり、前記フィンガー電極がバスバー電極の第一電極層と同一の銅の微粒子を含有する導電性ペーストが印刷され焼成されたもので構成されることを特徴とする太陽電池を提供する。電極ペーストとして銅を含有するペーストを用いることで、銀ペーストの場合に比べ、内部抵抗を維持したままコスト低下が可能となる。 Accordingly, the present invention is a solar cell comprising a semiconductor substrate on which a PN junction is formed, a finger electrode formed in a comb shape on at least one surface of the semiconductor substrate, and a bus bar electrode connected to the finger electrode. The bus bar electrode is printed and fired with a conductive paste containing only 30 to 90% by mass of copper fine particles as a conductive material, and is directly bonded to the semiconductor substrate, silver, nickel palladium, is formed by a conductive paste containing platinum or gold is fired is printed, have 2 So構 granulation comprising the outermost layer of the electrode layer to be bonded to the wiring, the finger electrode Provided is a solar cell comprising a conductive paste containing the same copper fine particles as the first electrode layer of a bus bar electrode and printed and fired. By using a copper-containing paste as the electrode paste, the cost can be reduced while maintaining the internal resistance as compared with the silver paste.
また、ペースト中の銅の微粒子の含有量は多いほどコスト低下につながり好ましいが、印刷性の観点からは、30〜90質量%である。 Further, the higher the content of the copper fine particles in the paste, the lower the cost and the better. However, from the viewpoint of printability, the content is 30 to 90% by mass.
また、電極の多層化によりフィンガー電極を形成する場合は、いずれかの印刷でフィンガー及びバスバーを同時に形成すると、生産性が向上し、コスト低下につながる。 In the case of forming the finger electrodes by multi-layered electrodes, when forming the fingers and the bus bar in either printed at the same time, it improves productivity, leading to cost reduction.
更に、バスバー電極において、基板と接触する第一電極層を銅ペーストで形成し、配線と接合される最表層の電極層を銀等の銅以外の物質を含有するペーストを用いて形成するので、太陽電池の性能を損なうことなく配線との接着強度が維持される。 Further, the bus bar electrode, the first electrode layer in contact with the substrate formed with copper paste, to form a top surface of the electrode layer to be bonded to the wiring by using a paste containing copper other than substances such as silver Runode The adhesive strength with the wiring is maintained without impairing the performance of the solar cell.
本発明により、太陽電池の性能を損なうことなく、また、配線とのはんだ付けの信頼性も維持したまま、太陽電池の製造コストを大幅に低減することが可能となる。また、本発明はペーストの変更を行うのみであり、設備の変更が不要であるため、実施が極めて容易である。 According to the present invention, it is possible to significantly reduce the manufacturing cost of a solar cell without impairing the performance of the solar cell and while maintaining the reliability of soldering with the wiring. In addition, since the present invention only changes the paste and does not require a change in equipment, it is extremely easy to implement.
本発明の太陽電池は、PN接合が形成された半導体基板と、該半導体基板の少なくとも片面上に櫛歯状に形成されたフィンガー電極と、該フィンガー電極に接続するバスバー電極とを具備する太陽電池であって、少なくともフィンガー電極が銅の微粒子を含有する導電性ペーストが印刷され焼成されたもので構成されたものである。 A solar cell according to the present invention includes a semiconductor substrate on which a PN junction is formed, a finger electrode formed in a comb shape on at least one surface of the semiconductor substrate, and a bus bar electrode connected to the finger electrode. In this case, at least the finger electrode is formed by printing and baking a conductive paste containing copper fine particles.
この場合、バスバー電極も銅もしくは銅化合物の微粒子を含有する導電性ペーストにて形成することができ、また、少なくともバスバー電極、場合によってはフィンガー電極も2層以上の多層構造を有するように形成し、この際、少なくとも前記半導体基板に直接接合するバスバー電極の第一電極層及びフィンガー電極の第一電極層が導電性材料として銅の微粒子のみを含有する導電性ペーストにより構成され、この場合、配線と接合される最表層の電極層は、銀等の物質を含有するペーストを用いて形成される。また、フィンガー電極がバスバー電極の第一電極層と同一のペーストを用いて形成されるもので構成される。
In this case, the bus bar electrode can also be formed of a conductive paste containing fine particles of copper or a copper compound, and at least the bus bar electrode and, in some cases, the finger electrode are formed to have a multilayer structure of two or more layers. At this time, is made of a conductive paste containing at least only the first electrode layer of the first electrode layer及beauty off Inga electrode bus bar electrode to be joined directly to the semiconductor substrate is copper as the conductive material particles, in this case The outermost electrode layer bonded to the wiring is formed using a paste containing a substance such as silver. Further, the finger electrode is formed by using the same paste as the first electrode layer of the bus bar electrode.
ここで、上記銅もしくは銅化合物の微粒子を含有する導電性ペーストとしては、銅もしくは銅化合物の微粒子の含有量が銅換算で30〜90質量%であり、特に60〜80質量%のものが好ましい。銅化合物としては、金、銀、亜鉛、錫、ニッケル等の遷移金属のうちの1以上からなる合金等が挙げられ、上記微粒子の平均粒径としては、走査型電子顕微鏡による測定法で、0.15〜15μm、特に1〜5μmであることが好ましい。 Here, as the conductive paste containing copper or copper compound fine particles, the copper or copper compound fine particle content is 30 to 90% by mass in terms of copper , and particularly preferably 60 to 80% by mass. . Examples of the copper compound include alloys composed of one or more of transition metals such as gold, silver, zinc, tin, and nickel. The average particle diameter of the fine particles is 0 by a measuring method using a scanning electron microscope. 15 to 15 μm, particularly 1 to 5 μm is preferable.
上記導電性ペーストのその他の成分としては、公知の成分が用いられ、例えば、エチルセルロース、ターピオネール等のバインダーを1〜20質量%、特に2〜15質量%の割合で用いられる他、基板との密着性を確保するためガラス粉末等を1〜20質量%の割合で使用することができる。 As other components of the conductive paste, known components are used. For example, binders such as ethyl cellulose and terpionol are used in a ratio of 1 to 20% by mass, particularly 2 to 15% by mass, In order to ensure adhesion, glass powder or the like can be used at a ratio of 1 to 20% by mass.
また、上記銀等の物質を含有するペーストとしては、導電性材料として銀、チタン、ニッケル、パラジウム、白金、金等の銅又は銅化合物以外のものが使用でき、その他の成分は上記銅含有導電性ペーストと同様である。 In addition, as the paste containing a substance such as silver, a conductive material other than copper or a copper compound such as silver, titanium, nickel, palladium, platinum, or gold can be used. It is the same as the sex paste.
以下、本発明の太陽電池の作製方法の一例を述べる。但し、本発明はこの方法で作製された太陽電池に限られるものではない。 Hereinafter, an example of a method for manufacturing the solar cell of the present invention will be described. However, the present invention is not limited to the solar cell manufactured by this method.
高純度シリコンにホウ素あるいはガリウムのようなIII族元素をドープし、比抵抗0.1〜5Ω・cmとしたアズカット単結晶{100}p型シリコン基板表面のスライスダメージを、濃度5〜60質量%の水酸化ナトリウムや水酸化カリウムのような高濃度のアルカリ、もしくは、ふっ酸と硝酸の混酸等を用いてエッチングする。単結晶シリコン基板は、CZ法、FZ法いずれの方法によって作製されてもよい。 Slice damage on the surface of an as-cut single crystal {100} p-type silicon substrate doped with a high purity silicon group III element such as boron or gallium and having a specific resistance of 0.1 to 5 Ω · cm, concentration of 5 to 60% by mass Etching is performed using a high concentration alkali such as sodium hydroxide or potassium hydroxide, or a mixed acid of hydrofluoric acid and nitric acid. The single crystal silicon substrate may be manufactured by either the CZ method or the FZ method.
引き続き、基板表面にテクスチャとよばれる微小な凹凸形成を行う。テクスチャは太陽電池の反射率を低下させるための有効な方法である。テクスチャは、加熱した水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等のアルカリ溶液(濃度1〜10質量%、温度60〜100℃)中に10〜30分程度浸漬することで容易に作製される。上記溶液中に、所定量の2−プロパノールを溶解させ、反応を促進させることが多い。 Subsequently, minute unevenness called texture is formed on the substrate surface. Texture is an effective way to reduce solar cell reflectivity. The texture should be immersed for about 10 to 30 minutes in an alkali solution (concentration 1 to 10% by mass, temperature 60 to 100 ° C.) such as heated sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, and sodium bicarbonate. Easy to make. In many cases, a predetermined amount of 2-propanol is dissolved in the solution to promote the reaction.
テクスチャ形成後、塩酸、硫酸、硝酸、ふっ酸等、もしくはこれらの混合液の酸性水溶液中で洗浄する。経済的及び効率的見地から、塩酸中での洗浄が好ましい。清浄度を向上させるため、塩酸溶液中に、0.5〜5%の過酸化水素を混合させ、60〜90℃に加温して洗浄してもよい。 After texture formation, washing is performed in an acidic aqueous solution of hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, hydrofluoric acid, or the like, or a mixture thereof. From an economic and efficient standpoint, washing in hydrochloric acid is preferred. In order to improve the cleanliness, 0.5 to 5% hydrogen peroxide may be mixed in a hydrochloric acid solution and heated to 60 to 90 ° C. for washing.
この基板上に、オキシ塩化リンを用いた気相拡散法によりエミッタ層を形成する。一般的なシリコン太陽電池は、PN接合を受光面にのみ形成する必要があり、これを達成するために基板同士を2枚重ね合わせた状態で拡散したり、拡散前に裏面にSiO2膜やSiNx膜等を拡散マスクとして形成して、裏面にPN接合ができないような工夫を施す必要がある。拡散後、表面にできたガラスをふっ酸等で除去する。なお、窒化珪素膜(SiNx膜)は化学量論比ではSi3N4の組成をとるが、マスク性を高めたり、後述のように反射防止膜として有効となるよう、通常化学量論比よりSiを多めにして使用することが多く、本発明においては便宜上SiNxと記述してある。 On this substrate, an emitter layer is formed by vapor phase diffusion using phosphorus oxychloride. Common silicon solar cell, it is necessary to form only on the light receiving surface of the PN junction, or diffused in a state superimposed two substrates to each other in order to achieve this, SiO 2 film Ya on the back surface before spreading An SiN x film or the like is formed as a diffusion mask, and it is necessary to devise such that a PN junction cannot be formed on the back surface. After diffusion, the glass formed on the surface is removed with hydrofluoric acid or the like. The silicon nitride film (SiN x film) has a composition of Si 3 N 4 in terms of the stoichiometric ratio, but usually has a stoichiometric ratio so as to improve the masking property and become effective as an antireflection film as will be described later. More Si is used in many cases, and in the present invention, it is described as SiN x for convenience.
次に、受光面の反射防止膜形成を行う。製膜にはプラズマCVD装置等を用いSiNx膜を約100nm製膜する。反応ガスとして、モノシラン(SiH4)及びアンモニア(NH3)を混合して用いることが多いが、NH3の代わりに窒素を用いることも可能であり、また、プロセス圧力の調整、反応ガスの希釈、更には、基板に多結晶シリコンを用いた場合には基板のバルクパッシベーション効果を促進するため、反応ガスに水素を混合することもある。CVDの反応ガスの励起方法としては、前述のプラズマによるもののほか、熱CVDや光CVD等を用いてもよい。 Next, an antireflection film is formed on the light receiving surface. A SiN x film is formed to a thickness of about 100 nm using a plasma CVD apparatus or the like. As the reaction gas, monosilane (SiH 4 ) and ammonia (NH 3 ) are often mixed and used, but nitrogen can be used instead of NH 3 , and the process pressure can be adjusted and the reaction gas diluted. Furthermore, when polycrystalline silicon is used for the substrate, hydrogen may be mixed into the reaction gas in order to promote the bulk passivation effect of the substrate. As a method of exciting the reactive gas in CVD, thermal CVD, photo CVD, or the like may be used in addition to the above-described plasma.
次いで、裏面電極及び受光面の電極をスクリーン印刷法で形成する。上記基板の裏面に、Al粉末を有機物バインダで混合したペーストをスクリーン印刷する。印刷後、3〜30分間600〜800℃の温度で焼成して、裏面電極が形成される。裏面電極形成は製造コストの観点から印刷法によるほうが好ましいが、蒸着法、スパッタ法等で作製することも可能である。 Next, the back electrode and the light receiving electrode are formed by screen printing. A paste obtained by mixing Al powder with an organic binder is screen-printed on the back surface of the substrate. After printing, the back electrode is formed by firing at a temperature of 600 to 800 ° C. for 3 to 30 minutes. The back electrode is preferably formed by a printing method from the viewpoint of manufacturing cost, but can also be formed by a vapor deposition method, a sputtering method, or the like.
受光面電極もスクリーン印刷法を用いる。印刷製版として、バスバー・フィンガーが同時に印刷できる製版を用いるのが生産性が向上し、好ましい。第一電極層には銅を含有するペーストを用い、コスト低下を図る。第二電極層には、第一電極層と同一の製版を用いて銀を含有するペーストを印刷する。結果として、フィンガー電極の断面は図2に示す構造となり、1層のみの場合に比べ電気抵抗は大幅に低下する。なお、図2中、200は基板、203は銅又は銅化合物の微粒子を含有する導電性ペースト(以下、銅ペーストという)にて形成されたフィンガー第一電極層、204は銀を含有する導電性ペースト(以下、銀ペーストという)にて形成されたフィンガー第二電極層である。また、バスバー電極の断面は図3に示す構造となり、最表層に銅が露出しないため、はんだ付けによる配線との接着強度信頼性が高まる。なお、図3中、300は基板、303は銅ペーストにて形成されたバスバー第一電極層、304は銀ペーストにて形成されたバスバー第二電極層である。第一電極層・第二電極層の印刷用製版のパターンをそれぞれ異なるものにすれば、フィンガー電極は図4や図5に示す構造をとることも可能である。バスバー電極上には配線が接続されるから、バスバーの配線抵抗は下げる必要はないため、バスバーは図6に示す構造としてもよい。 The light receiving surface electrode also uses screen printing. As the printing plate making, it is preferable to use a plate making that can be printed simultaneously by the busbar fingers because the productivity is improved. For the first electrode layer, a paste containing copper is used to reduce the cost. A paste containing silver is printed on the second electrode layer using the same plate making as the first electrode layer. As a result, the cross-section of the finger electrode has the structure shown in FIG. 2, and the electrical resistance is greatly reduced as compared with the case of only one layer. In FIG. 2, 200 is a substrate, 203 is a finger first electrode layer formed of a conductive paste containing copper or copper compound fine particles (hereinafter referred to as copper paste), and 204 is a conductive material containing silver. It is the finger 2nd electrode layer formed with the paste (henceforth silver paste). Further, the cross section of the bus bar electrode has the structure shown in FIG. 3, and since copper is not exposed on the outermost layer, the reliability of the adhesive strength with the wiring by soldering is increased. 3, 300 is a substrate, 303 is a bus bar first electrode layer formed of copper paste, and 304 is a bus bar second electrode layer formed of silver paste. If the patterns of the plate making for printing of the first electrode layer and the second electrode layer are made different from each other, the finger electrode can have the structure shown in FIG. 4 or FIG. Since the wiring is connected on the bus bar electrode, it is not necessary to reduce the wiring resistance of the bus bar. Therefore, the bus bar may have a structure shown in FIG.
ここで、図4中、400は基板、403は銅ペーストにて形成されたフィンガー第一電極層、図5中、500は基板、504は銀ペーストにて形成されたフィンガー第一電極層、503は銅ペーストにて形成されたフィンガー第二電極層、図6中、600は基板、604は銀ペーストにて形成されたバスバー第一電極層である。 4, 400 is a substrate, 403 is a finger first electrode layer formed of copper paste, 500 in FIG. 5 is a substrate, 504 is a finger first electrode layer formed of silver paste, 503 Is a finger second electrode layer formed of a copper paste, in FIG. 6, 600 is a substrate, and 604 is a bus bar first electrode layer formed of a silver paste.
これらの印刷の後、熱処理によりSiNx膜に銀粉末を貫通させ(ファイアースルー)、電極とシリコンを導通させる。なお、裏面電極及び受光面電極の焼成は一度に行うことも可能である。 After these printings, silver powder is passed through the SiN x film by heat treatment (fire through), and the electrode and silicon are made conductive. The back electrode and the light receiving surface electrode can be baked at a time.
金属ペーストの単価はほぼ材料金属の単価で決定されている。銀に比べ銅は50分の1程度の単価であるから、ペーストの単価もおよそ50分の1となる。従来の製法による太陽電池セル製造の際の全材料費に占める銀ペーストの割合は12%程度であるが、本発明により、受光面の電極ペーストの占める割合は6%程度まで半減することができる。本発明によれば、製版や印刷機等は現状設備から変更する必要はないため、製造コストには設備投資は積み増しされず単純に材料費の低減分太陽電池の製造コストが低減され、非常に有効である。 The unit price of the metal paste is almost determined by the unit price of the material metal. Since the unit price of copper is about 1/50 that of silver, the unit price of paste is also about 1/50. The ratio of the silver paste to the total material cost in manufacturing the solar battery cell by the conventional manufacturing method is about 12%, but according to the present invention, the ratio of the electrode paste on the light receiving surface can be halved to about 6%. . According to the present invention, it is not necessary to change the plate making, printing machine, etc. from the existing equipment, so the capital investment is not added to the production cost, and the production cost of the solar cell is reduced by the reduction of the material cost. It is valid.
以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are shown and this invention is demonstrated concretely, this invention is not restrict | limited to the following Example.
[実施例、比較例]
本発明の有効性を確認するため、第一電極層に銅ペーストを使用した場合の条件A(実施例)と銀ペーストを使用した場合の条件B(比較例)で特性の比較を行った。第二電極層は両条件とも銀ペーストとした。
100×100mm2、厚さ250μm、比抵抗1Ω・cmの、ホウ素ドープ{100}p型アズカットシリコン基板60枚に対し、熱濃水酸化カリウム水溶液によりダメージ層を除去後、水酸化カリウム/2−プロパノール水溶液中に浸漬し、テクスチャ形成を行い、引き続き塩酸/過酸化水素混合溶液中で洗浄を行った。次に、オキシ塩化リン雰囲気下、870℃で裏面同士を重ねた状態で熱処理し、エミッタ層を形成した。拡散後、ふっ酸にてガラスを除去し、洗浄、乾燥させた。
以上の処理の後、プラズマCVD装置を用いてSiNx膜を受光面反射防止膜として全試料に対し形成した。
[Examples and Comparative Examples]
In order to confirm the effectiveness of the present invention, the characteristics were compared under the condition A (Example) when a copper paste was used for the first electrode layer and the condition B (Comparative Example) when a silver paste was used. The second electrode layer was a silver paste for both conditions.
After removing the damaged layer with a hot concentrated potassium hydroxide aqueous solution on 60 boron-doped {100} p-type ascut silicon substrates of 100 × 100 mm 2 , thickness 250 μm, specific resistance 1 Ω · cm, potassium hydroxide / 2 -Dipping in an aqueous propanol solution to form a texture, followed by washing in a hydrochloric acid / hydrogen peroxide mixed solution. Next, it heat-processed in the phosphorus oxychloride atmosphere in the state which accumulated the back surfaces at 870 degreeC, and formed the emitter layer. After diffusion, the glass was removed with hydrofluoric acid, washed and dried.
After the above treatment, a SiN x film was formed as a light-receiving surface antireflection film on all samples using a plasma CVD apparatus.
次に、裏面電極としてAlペーストを裏面全面にスクリーン印刷し、180℃のホットプレート上で乾燥した。
次いで、上記のうち30枚に対し、受光面の第一電極層として銅ペーストを印刷し、乾燥した(条件A)。銅ペーストの粘度は有機溶剤で180Pa・s程度に調整し、断線やにじみは殆ど発生しなかった。残りの30枚には、比較例として銀ペーストを印刷し乾燥した(条件B)。
Next, an Al paste as a back electrode was screen-printed on the entire back surface and dried on a hot plate at 180 ° C.
Next, a copper paste was printed as the first electrode layer on the light receiving surface on 30 sheets of the above, and dried (Condition A). The viscosity of the copper paste was adjusted to about 180 Pa · s with an organic solvent, and almost no disconnection or bleeding occurred. On the remaining 30 sheets, a silver paste was printed and dried as a comparative example (Condition B).
引き続き第一電極層と同じ製版を使用して、全試料に対して第二電極層として銀ペーストを印刷した。この際、第二電極層が第一電極層の真上にのるよう適宜ステージの微調整を行った。印刷後乾燥し、最後に780℃の空気雰囲気下で焼成した。 Subsequently, using the same plate making as the first electrode layer, a silver paste was printed as the second electrode layer for all samples. At this time, the stage was appropriately finely adjusted so that the second electrode layer was directly above the first electrode layer. After printing, it was dried and finally baked in an air atmosphere at 780 ° C.
なお、銅ペーストの組成は以下の通りであった。銅約76質量%、エチルセルロース約8質量%、ターピオネール約4質量%、ガラス粉末約5質量%、有機溶媒約7質量%を追加して粘度調整して使用した。
また、銀ペーストの組成は以下の通りであった。銀約86質量%、エチルセルロース約5質量%、ターピオネール約2質量%、ガラス粉末約3質量%、有機溶媒約4質量%を追加して粘度調整して使用した。
The composition of the copper paste was as follows. About 76% by mass of copper, about 8% by mass of ethyl cellulose, about 4% by mass of terpionol, about 5% by mass of glass powder, and about 7% by mass of organic solvent were added to adjust the viscosity.
The composition of the silver paste was as follows. About 86% by mass of silver, about 5% by mass of ethyl cellulose, about 2% by mass of terpionol, about 3% by mass of glass powder and about 4% by mass of organic solvent were added to adjust the viscosity.
山下電装社製ソーラーシミュレータを用いてAM1.5スペクトル、照射強度100mW/cm2、25℃の条件下で、作製されたセルの太陽電池特性を測定した。得られた結果の平均値を表1に示す。
The solar cell characteristics of the fabricated cell were measured under the conditions of AM 1.5 spectrum,
条件Aは形状因子がわずかに低下したが、短絡電流が向上して変換効率は比較例と同等となった。
各条件からそれぞれ任意の10枚を抜取り、連結用の配線をはんだ付けして引っ張り強度試験を実施した。どのセルも配線の剥離は認められなかった。
In condition A, the form factor slightly decreased, but the short circuit current was improved and the conversion efficiency was equivalent to that of the comparative example.
Ten arbitrary sheets were extracted from each condition, and the connection wiring was soldered and a tensile strength test was performed. None of the cells showed any separation of wiring.
100、200、300、400、500、600 基板
101 フィンガー電極
102 バスバー電極
203、303、403、503 銅ペースト
204、304、504、604 銀ペースト
100, 200, 300, 400, 500, 600
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