JP5373766B2 - 植物病害防除剤 - Google Patents
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Description
本願は、2008年3月24日に、日本に出願された特願2008−075748号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
かくして、本発明によれば、式(1)
また、本発明は、式(1)
本発明の植物病害防除剤は、前記式(1)で表されるテトラゾイルオキシム誘導体及びその塩の少なくとも一種、並びに、他の農園芸用殺菌活性成分の少なくとも一種を含有することを特徴とする。
前記式(1)中、Xは、水素原子、無置換若しくは置換基を有するC1〜6アルキル基、無置換若しくは置換基を有するC1〜6アルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、無置換若しくは置換基を有するアリール基、又は無置換若しくは置換基を有するC1〜6アルキルスルホニル基を表す。
Xの、無置換若しくは置換基を有するアリール基のアリール基としては、特に限定されないが、C6〜10アリール基が好ましい。より具体的には、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基等が挙げられる。
ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、1−ブテニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、1−ペンテニル基、2−ペンテニル基、3−ペンテニル基、4−ペンテニル基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、3−ヘキセニル基、4−ヘキセニル基、5−ヘキセニル基等のC2〜6アルケニル基;
エチニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、1−ブチニル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基、1−ペンチニル基、2−ペンチニル基、3−ペンチニル基、4−ペンチニル基等のC2〜6アルキニル基;
メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ基、n−ブトキシ基、s−ブトキシ基、i−ブトキシ基、t−ブトキシ基等のC1〜6アルコキシ基;
ニトロ基;シアノ基;等が挙げられる。
qが2以上のとき、X同士は、同一であっても相異なっていてもよい。
式(2)又は式(3)中、Yは、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、s−ブチル基、i−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基等のアルキル基を示す。
Zは水素原子、アミノ基、又は式:−NHC(=O)−Qで示される基を表す。
Qは水素原子、C1〜8アルキル基、C1〜6ハロアルキル基、C3〜6シクロアルキル基、C1〜8アルコキシ基、C3〜6シクロアルキルオキシ基、C7〜20アラルキルオキシ基、C1〜4アルキルチオC1〜8アルキル基、C1〜4アルコキシC1〜2アルキル基、C1〜4アシルアミノC1〜6アルキル基、C1〜4アシルアミノC1〜6アルコキシ基、C1〜8アルキルアミノ基、C2〜6アルケニル基、アラルキル基又はアリール基を示す。
QのC7〜20アラルキルオキシ基としては、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基等が挙げられる。
QのC1〜4アルコキシC1〜2アルキル基としては、メトキシメチル基、エトキシメチル基、2−メトキシエチル基、2−エトキシエチル基、n−ブトキシメチル基等が挙げられる。
QのC7〜20アラルキル基としては、べンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、1−ナフチルメチル基、2−ナフチルメチル基等が挙げられる。
QのC6〜10アリール基としては、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基等が挙げられる。
Rは、水素原子;又は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子:を表す。
本発明の植物病害防除剤は、上述のテトラゾイルオキシム誘導体及びその塩(以下、「テトラゾイルオキシム誘導体等」ということがある。)に加えて、ホセチル、プロパモカルブ、塩基性塩化銅、クロロタロニル、マンゼブ、シモキサニル、フォルペット、イミノクタジン、シアゾファミド、メタラキシル、フルジオキソニル、テブコナゾール、プロチオコナゾール、チアメトキサム、アゾキシストロビン、及びその塩からなる群から選ばれる少なくとも一種を含有する。
なお、前記有効成分化合物には、その光学活性化合物も含むものとする。具体的には、メタラキシルに対するメタラキシルMのごとくである。
本発明の植物防除剤には、上記農薬活性成分以外にも適宜他の農薬活性成分を混用することができ、具体的には下記に示す活性成分を例示することができる。
なお、活性成分は、有効成分化合物名の一般名(一部申請中を含む)で記す。
殺菌剤の有効成分化合物(一般名;一部申請中を含む)
メパニピリム(mepanipyrim)、ピリメタニル(pyrimethanil)、シプロジニル(cyprodinil)などのアニリノピリミジン系化合物;
フルアジナム(fluazinam)などのピリジナミン系化合物;
ベノミル(benomyl)、チオファネートメチル(thiophanate‐methyl)、カルベンダジム(carbendazim)、チアベンダゾール(thiabendazole)、フベリアゾール(fuberiazole)、などのイミダゾール系化合物;
メフェノキサム(mefenoxam)、オキサジキシル(oxadixyl)、オフレース(ofurace)、ベナラキシル(benalaxyl)、ベナラキシル−M(benalaxyl−M)、フララキシル(furalaxyl)、シプロフラム(cyprofuram)などのフェニルアミド系化合物;
ジクロフルアニド(dichlofluanid)のようなスルフェン酸系化合物;
ジノキャップ(dinocap)などのニトロフェニル系化合物;
水酸化第二銅(cupric hydroxide)、有機銅(oxine copper)などの銅系化合物;
ヒメキサゾール(hymexazol)などのイソキサゾール系化合物;
トルコホスメチル(tolcofos‐methyl)、S−ベンジル O,O−ジイソプロピルホスホロチオエート、O−エチル S,S−ジフェニルホスホロジチオエート、アルミニウムエチルハイドロゲンホスホネートなどの有機リン系化合物;
プロシミドン(procymidone)、イプロジオン(iprodione)、ビンクロゾリン(vinclozolin)などのジカルボキシイミド系化合物;
フルトラニル(flutolanil)、メプロニル(mepronil)、ゾキサミド(zoxamid)、チアジニル(tiadinil)などのベンズアニリド系化合物;カルボキシン(carboxin)、オキシカルボキシン(oxycarboxin)、チフルザミド(thifluzamide)、ペンチオピラド(penthiopyrad)、ボスカリド(boscalid)、フルオピコリド(fluopicolide)、フルオピラム(fluopyram)、ビキサフェン(bixafen)などのアニリド系化合物;
ピリフェノックス(pyrifenox)などのピリジン系化合物;
フェナリモル(fenarimol)、フルトリアフォル(flutriafol)などのカルビノール系化合物;
フェンプロピディン(fenpropidine)などのピペリジン系化合物;
フェンプロピモルフ(fenpropimorph)、トリデモルフ(tridemorph)などのモルフォリン系化合物;
フェンチンヒドロキシド(fentin hydroxide)、フェンチンアセテート(fentin acetate)などの有機スズ系化合物;
ペンシキュロン(pencycuron)などの尿素系化合物;
ジメトモルフ(dimethomorph)、フルモルフ(flumorph)フルメトーバー(flumetover)などのシンナミック酸系化合物;
ジエトフェンカルブ(diethofencarb)などのフェニルカーバメート系化合物;
ファモキサドン(famoxadone)などのオキサゾリジノン系化合物;
エタボキサム(ethaboxam)などのチアゾールカルボキサミド系化合物;
シルチオファム(silthiopham)などのシリルアミド系化合物;
イプロバリカルブ(iprovalicarb)、ベンチアバリカルブ−イソプロピル(benthiavalicarb−isopropyl)などのアミノアシッドアミドカーバメート系化合物;
フェンヘキサミド(fenhexamid)などのハイドロキシアニリド系化合物;
フルスルファミド(flusulfamide)などのベンゼンスルホンアミド系化合物;
シフルフェナミド(cyflufenamid)などのオキシムエーテル系化合物;
フェノキサニル(fenoxanil)などのフェノキシアミド系化合物;
バリダマイシン(validamycin)、カスガマイシン(kasugamycin)、ポリオキシン(polyoxins)などの抗生物質;
プロフェノホス(profenofos)、ジクロルボス(dichlorvos)、フェナミホス(fenamiphos)、フェニトロチオン(fenitrothion)、EPN、ダイアジノン(diazinon)、クロルピリホスメチル(chlorpyrifos−methyl)、アセフェート(acephate)、プロチオホス(prothiofos)、ホスチアゼート(fosthiazate)、ホスホカルブ(phosphocarb)、カズサホス(cadusafos)、ジスルホトン(dislufoton)、クロルピリホス(chlorpyrifos)、デメトン−S−メチル(demeton−S−methyl)、ジメトエート(dimethoate)、メタミドホス(methamidophos)、イソキサチオン(isoxathion)、イソフェンホス(isofenphos)、エチオン(ethion)、エトリムホス(etrimfos)、キナルホス(quinalphos)、ジメチルビンホス(dimethylvinphos)、スルプロホス(sulprofos)、チオメトン(thiometon)、バミドチオン(vamidothion)、ピラクロホス(pyraclofos)、ピリダフェンチオン (pyridaphenthion)、ピリミホスメチル(pirimiphos−methyl)、プロパホス(propaphos)、ホサロン(phosalone)、ホルモチオン(formothion)、マラチオン(malathion)、テトラクロルビンホス(tetrachlovinphos)、クロルフェンビンホス(chlorfenvinphos)、シアノホス(cyanophos)、トリクロルホン(trichlorfon)、メチダチオン(methidathion)、フェントエート(phenthoate)、ESP、アジンホスメチル(azinphos−methyl)、フェンチオン(fenthion)、ヘプテノホス(heptenophos)、メトキシクロル(methoxychlor)、パラチオン(paration)、モノクロトホス(monocrotophos)、イミシアホス(imicyafos)、パラチオン−メチル(parathion−methyl)、テルブホス(terbufos)、ホスファミドン(phospamidon)、ホスメット(phosmet)、ホレート(phorate)などの有機リン酸エステル系化合物;
ジコホル(dicofol)、テトラジホン(tetradifon)、エンドスルファン(endosulufan)、ジエノクロル(dienochlor)、ディルドリン(dieldrin)のような有機塩素系化合物;
酸化フェンブタスズ(fenbutatin oxide)、シヘキサチン(cyhexatin)などの有機金属系化合物;
メトプレン(methoprene)、ピリプロキシフェン(pyriproxyfen)、フェノキシカルブ(fenoxycarb)、ジオフェノラン(diofenolan)などの幼若ホルモン様化合物;
フェンピロキシメート(fenpyroximate)、フィプロニル(fipronil)、テブフェンピラド(tebufenpyrad)、エチプロール(ethiprole)、トルフェンピラド(tolfenpyrad)、アセトプロール(acetoprole)、ピラフルプロール(pyrafluprole)、ピリプロール(pyriprole)のようなピラゾール系化合物;
イミダクロプリド(imidacloprid)、ニテンピラム(nitenpyram)、アセタミプリド(acetamiprid)、チアクロプリド(thiacloprid)、クロチアニジン(clothianidin)、ジノテフラン(dinotefuran)、ニチアジン(nithiazine)などのネオニコチノイド;
テブフェノジド(tebufenozide)、メトキシフェノジド(methoxyfenozide)、クロマフェノジド(chromafenozide)、ハロフェノジド(halofenozide)などのヒドラジン系化合物;
アザディラクチン(azadirachtin)、ロテノン(rotenone)などのような天然物;
ピペロニルブトキシド(piperonyl butoxide)のような協力剤;
ディート(deet)のような忌避剤等。
本発明の植物病害防除剤は、前記テトラゾイルオキシム誘導体等の少なくとも一種と、前記他の農園芸用殺菌活性成分の少なくとも一種とを含有し、両成分を併用することにより、各単剤のみの使用で得られる植物病害防除効果からでは予想できない顕著な植物病害防除効果(相乗効果)を得ることができる。
(1)薬剤I
薬剤Iとして、以下の手順にて、前記式(1)で表される化合物を含有する懸濁剤(SC剤)を調製した。式(1)で表される化合物としては、WO03/016303号パンフレットの表3に記載の化合物(化合物番号(3)−(8))を用いた。
ポリオキシエチレンアリールフェニルエーテルエーテル 2部
ジアルキルスルホサクシネートナトリウム塩 0.5部
グリセリン 5部
キサンタンガム 0.3部
水 82.2部
以上を混合し、粒度が3ミクロン以下になるまで湿式粉砕して、有効成分10%のSC剤を得た。
薬剤IIとして、以下の(A)〜(O)を、他の農園芸用殺菌活性成分として含有する製剤を用いた。
(A)日曹アリエッティ水和剤(有効成分:ホセチル、有効成分量:80%、日本曹達社製)
(B)ドイツボルドーA(塩基性塩化銅、有効成分量:銅として50%、北興化学社製)
(C)フォルペット簡易乳剤〔市販のフォルペット(フォルペット標準品、和光純薬社製)を用いて、簡易乳剤としたもの〕
(D)日曹プレビクールN液剤(プロパモカルブ塩酸塩、有効成分量:64%、日本曹達社製)
(E)武田ダコニール1000(主成分:TPN(クロロタロニル)、有効成分量:40%、住化武田農薬社製)
(F)ジマンダイセンWP(主成分:マンゼブ、有効成分量:75%、ダウケミカル日本(株)製)
(G)カーゼートWP(有効成分:シモキサニル、有効成分量:50%、デュポン社製)
(H)ベルクートWP(有効成分:イミノクタジンアルベシル酸塩、有効成分:40%、日本曹達(株)製)
(I)ランマンフロアブル(有効成分:シアゾファミド、有効成分量:9.4%、石原産業製)
(J)サブデューマックス液剤(有効成分:メタラキシルM、有効成分量:22.0%、シンジェンタ社製)
(K)セイビアーフロアブル20(有効成分:フルジオキソニル、有効成分量:20%、シンジェンタ社製)
(L)シルバキュアフロアブル(有効成分:テブコナゾール、有効成分量:40%、バイエル社製)
(M)JOAO EC(有効成分:プロチオコナゾール、有効成分量:25%、バイエル社製)
(N)アクタラ顆粒水和剤(有効成分:チアメトキサム、有効成分量:10%、シンジェンタ社製)
(O)アミスター20FL(有効成分:アゾキシストロビン、有効成分量:20%、シンジェンタ製)
薬剤Iと薬剤IIとを、第1表〜第2表に示す割合でタンクミックスして実施例1〜13の植物病害防除剤を調整した。
また、薬剤Iと薬剤IIとを、第3表〜第5表に示す割合になるように滅菌水で溶かして実施例14〜29の薬液を作成した。
(比較例1〜45)
薬剤Iのみ、又は薬剤IIのみを第1表〜第5表に示す濃度になるように調整し、比較例の植物病害防除剤とした。なお、比較例8、19、29、35及び45においては、薬剤Iまたは薬剤IIを含む植物病害防除剤を使用していない。
なお、第1表〜第5表における濃度は、薬剤I及び薬剤IIの有効成分の濃度である。
この調製した植物病害防除剤を用いて、下記に示す試験を行った。
素焼きポットで栽培したトマト幼苗(品種「レジナ」、4〜5葉期)に、第1表に示す実施例で得られた植物病害防除剤を、有効成分50ppmの濃度で散布した。散布後、室温で自然乾燥し、トマト疫病菌(Phytophthora infestans)の遊走子嚢懸濁液を噴霧接種し、明暗を12時間毎に繰り返す高湿度の恒温室(20℃)に4日間保持した。葉上の病斑出現状態を無処理と比較調査し、防除価を求めた。その結果を、下記のようにして算出した期待値と共に、第1表に示す。
ここで、Eは防除価期待値(%)、Mは薬剤I単独使用時の防除価(%)、Nは薬剤II単独使用時の防除価(%)を表す。
素焼きポットで栽培したキュウリ(品種「相模半白」)幼苗に、第2表に示す実施例で得られた植物病害防除剤を表に記載の濃度で散布した。散布後、室温で自然乾燥し、キュウリべと病菌(Pseudoperonospora cubensis)の胞子懸濁液を噴霧接種し、明暗及び乾湿を12時間毎に繰り返す恒温室(25℃)に4日間保持した。葉上の病斑出現状態を無処理と比較調査し防除価を求めた。その結果を、上記コルビーの式を用いて計算した期待値と共に、第2表に示す。
(試験例3)Pythium aphanidermatum又はPythium ultimum菌防除試験
第3表〜第5表に示す実施例で得られた薬液を、表3〜5に示す濃度となるようにPDA培地に、培地量の1%分添加して寒天平板を作成した。この寒天平板にPythium aphanidermatumもしくはPythium ultimumの菌叢ディスク(直径5mm)を置床した。20℃で3〜4日間静置後、菌叢直径を測定し、無処理区に対する菌糸伸長阻害率を求め、防除価とした。その結果を、上記コルビーの式を用いて計算した期待値と共に、第3表〜第5表に示す。
ここで、菌糸伸長阻害率(%)は、下記式から求められる。
菌糸伸長阻害率(%)(防除価)=(1−(薬剤処理区の菌叢直径)/(無処理区の菌叢直径))×100%
また、第3表及び第4表は、Pythium aphanidermatumの菌叢ディスクを使用した試験例の結果を示し、第5表は、Pythium ultimumの菌叢ディスクを使用した試験例の結果を示す。
なお、前記実施例で得られた薬液の代わりに、薬剤Iのみを用いた場合(比較例20〜21、比較例30〜31、比較例36〜37)、薬剤IIのみを用いた場合(比較例22〜28、比較例32〜34、比較例38〜44)、無処理の場合(比較例29、比較例35、比較例45)についても同様に試験した。その結果を第3表〜第5表に示す。
Claims (1)
- 式(1)
{式中、Xは、水素原子、C1〜6アルキル基、C1〜6アルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、C6〜10アリール基、又はC1〜6アルキルスルホニル基を表す。Aは、式(2)
(式中、YはC1〜6アルキル基を表す。)で表されるテトラゾイル基を表し、Dは、式(4)
〔式中、Zは水素原子、アミノ基、又は式:−NHC(=O)−Q(式中、Qは水素原子、C1〜8アルキル基、C1〜6ハロアルキル基、C3〜6シクロアルキル基、C1〜8アルコキシ基、C3〜6シクロアルキルオキシ基、C7〜20アラルキルオキシ基、C1〜4アルキルチオC1〜8アルキル基、C1〜4アルコキシC1〜2アルキル基、C1〜4アシルアミノC1〜6アルキル基、C1〜4アシルアミノC1〜6アルコキシ基、C1〜8アルキルアミノ基、C2〜6アルケニル基、アラルキル基若しくはフェニル基を示す。)で表される基を示す。Rは水素原子又はハロゲン原子を表す。〕で表される基を表す。}で示されるテトラゾイルオキシム誘導体及びその塩の少なくとも一種、並びに、ホセチル、プロパモカルブ、塩基性塩化銅、クロロタロニル、フォルペット、イミノクタジン、シアゾファミド、メタラキシル、チアメトキサム、及びその塩からなる群から選ばれる少なくとも一種を含有することを特徴とする植物病害防除剤。
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