JP5378954B2 - Prepreg and multilayer printed wiring boards - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、プリプレグとそれを用いた多層プリント配線板に関するものであり、さらに詳しくは、ビルドアップ用のプリプレグとそれを用いた多層プリント配線板に関するものである。 The present invention relates to a prepreg and a multilayer printed wiring board using the prepreg, and more particularly to a prepreg for buildup and a multilayer printed wiring board using the prepreg.
電子機器、電気機器、コンピュータ、通信機器等において用いられるプリント配線板は、薄型化、小型化、および回路の高集積化、高密度化が進んでおり、これに伴い多層プリント配線板が用いられるようになっている。 Printed wiring boards used in electronic devices, electrical devices, computers, communication devices, etc. are becoming thinner, smaller, and more highly integrated and dense in circuits. Accordingly, multilayer printed wiring boards are used. It is like that.
そして、薄型化等の要求に対応するものとして、内層回路板をコア材とし、この表面に絶縁樹脂層と導体回路を交互に積み上げて形成して多層のプリント配線板を作製するビルドアップ法が実用化されている(特許文献1、2参照)。 And in response to demands for thinning, etc., there is a build-up method in which an inner layer circuit board is used as a core material, and insulating resin layers and conductor circuits are alternately stacked on this surface to form a multilayer printed wiring board. It has been put into practical use (see Patent Documents 1 and 2).
ビルドアップ法では、例えば、次のようにして絶縁樹脂層と導体回路の積み上げを行う。表面に導体回路を設けた内層回路板を用い、まず内層回路板の表面に絶縁樹脂層と銅箔等の導体層を設ける。 In the build-up method, for example, the insulating resin layer and the conductor circuit are stacked as follows. An inner layer circuit board provided with a conductor circuit on the surface is used. First, an insulating resin layer and a conductor layer such as copper foil are provided on the surface of the inner layer circuit board.
次に、絶縁樹脂層にレーザ等によりビアホールを穴あけし、このビアホール内周面にめっき層を形成し、さらに導体層に回路を形成し、ビアホールにより絶縁樹脂層の両面の内層と外層の導体回路を層間接続する。必要に応じてこのビルドアップ工程を繰り返して所用の層数の導体回路を形成し、多層プリント配線板が作製される。 Next, a via hole is formed in the insulating resin layer with a laser or the like, a plating layer is formed on the inner peripheral surface of the via hole, a circuit is further formed on the conductor layer, and the inner and outer conductor circuits on both sides of the insulating resin layer are formed by the via hole. Are connected with each other. This build-up process is repeated as necessary to form a desired number of layers of conductor circuits, and a multilayer printed wiring board is produced.
絶縁樹脂層を形成するための材料としては、ガラスクロスのような補強用の基材を含まない樹脂付き金属箔を用いることもあるが、熱履歴による絶縁樹脂層の寸法変化を抑制し、プリント配線板に剛性を付与することができる等の点から、ガラスクロス等の基材に熱硬化性樹脂を含浸して乾燥することにより作製したプリプレグが用いられている。 As a material for forming the insulating resin layer, a metal foil with resin that does not contain a reinforcing base material such as glass cloth may be used. A prepreg produced by impregnating a base material such as a glass cloth with a thermosetting resin and drying it from the viewpoint that rigidity can be imparted to the wiring board is used.
このようなビルドアップ法において、ビアホールを穴あけした後、金属めっきの前処理工程として、レーザ等による穴あけ時にビアホール内に残存する樹脂残さ(スミア)を除去して内層と外層の導体回路をめっきにより円滑に接続するためにデスミア処理が行われる。 In such a build-up method, after drilling a via hole, as a pre-processing step for metal plating, the resin residue (smear) remaining in the via hole when removing holes by laser or the like is removed, and the inner and outer conductor circuits are plated Desmear processing is performed for smooth connection.
デスミア処理には、酸化剤水溶液等の薬品が主に用いられ、このような薬品で処理することによりビアホール内の樹脂のスミアを溶解して除去するようにしている。 In the desmear treatment, a chemical such as an aqueous oxidant solution is mainly used. By treating with such a chemical, the smear of the resin in the via hole is dissolved and removed.
このデスミア処理時には、スミアだけではなくビアホール内周面に露出する絶縁樹脂層まで薬品により過剰に溶解されてしまうと、ガラスクロス等の基材がビアホール内周面に露出してしまい、均一なめっき層を形成できなくなる場合がある。そのため、従来、プリプレグとして、デスミア処理時の薬品に比較的溶解しにくい絶縁樹脂層を形成できるものを用いることにより、デスミア処理によるビアホール内周面の溶解を抑制することが行われている。 During this desmear treatment, if the insulating resin layer exposed on the inner peripheral surface of the via hole is excessively dissolved by the chemicals, not only smear, but the substrate such as glass cloth is exposed on the inner peripheral surface of the via hole, and uniform plating is performed. It may become impossible to form a layer. Therefore, conventionally, a prepreg that can form an insulating resin layer that is relatively difficult to dissolve in a chemical during desmear treatment is used to suppress dissolution of the inner peripheral surface of the via hole due to desmear treatment.
しかしながら、上記のようにプリプレグとしてデスミア処理時の薬品に溶解しにくい絶縁樹脂層を形成できるものを用いた場合、ビアホール底面の内層回路板の導体回路に付着して残存し樹脂のスミアも溶解しにくいものとなる。そのため、内層回路板の導体回路とめっきとの間に樹脂が残存し易くなる。そして、内層回路板の導体回路とめっきとの間に樹脂が残存すると、導通信頼性が低下する場合がある。 However, when using a prepreg that can form an insulating resin layer that is difficult to dissolve in chemicals during desmear treatment, it remains attached to the conductor circuit of the inner circuit board at the bottom of the via hole, and the resin smear also dissolves. It will be difficult. Therefore, the resin tends to remain between the conductor circuit of the inner layer circuit board and the plating. If the resin remains between the conductor circuit of the inner layer circuit board and the plating, the conduction reliability may be lowered.
本発明は、以上の通りの事情に鑑みてなされたものであり、デスミア処理時においてビアホール内周面に露出する絶縁樹脂層の溶解を抑制して基材の露出を抑制し、かつ、ビアホール底面の内層回路板の導体回路とビアホール内のめっきとの間に樹脂が残存することを抑制して導通信頼性を確保することができるビルドアップ用のプリプレグとそれを用いたプリント配線板を提供することを課題としている。 The present invention has been made in view of the circumstances as described above, suppresses dissolution of the insulating resin layer exposed on the inner peripheral surface of the via hole during the desmear process, suppresses the exposure of the base material, and the bottom surface of the via hole. Provided are a prepreg for build-up that can prevent the resin from remaining between the conductor circuit of the inner layer circuit board and the plating in the via hole, and can ensure conduction reliability, and a printed wiring board using the prepreg It is an issue.
本発明は、上記の課題を解決するために、以下のことを特徴としている。 The present invention is characterized by the following in order to solve the above problems.
第1に、本発明のプリプレグは、ビルドアップ用のプリプレグであって、デスミア処理時の薬品への溶解性が低いB−ステージの低溶解性樹脂に基材を含有する低溶解性樹脂層と、低溶解性樹脂層の片面に設けられ、低溶解性樹脂よりもデスミア処理時の薬品への溶解性が相対的に高いB−ステージの高溶解性樹脂からなる高溶解性樹脂層とを有し、内層回路板の片側または両側の表面に前記のプリプレグを高溶解性樹脂層を内層回路板に向けて配置する。 1stly, the prepreg of this invention is a prepreg for buildup, Comprising: The low solubility resin layer which contains a base material in the low solubility resin of B-stage with low solubility to the chemical | medical agent at the time of a desmear process, Provided on one side of the low-solubility resin layer, and has a high-solubility resin layer made of B-stage high-solubility resin, which has relatively higher solubility in chemicals during desmear treatment than the low-solubility resin. The prepreg is placed on one or both surfaces of the inner layer circuit board with the highly soluble resin layer facing the inner layer circuit board .
第2に、上記第1のプリプレグにおいて、低溶解性樹脂層の基材が、低溶解性樹脂層の厚み方向の中心から高溶解性樹脂層とは反対側に偏在し、基材の厚み方向の中心と、基材が偏在する側の低溶解性樹脂層の表面との距離が、低溶解性樹脂層全体の厚みに対する比で0.1〜0.3であり、低溶解性樹脂層の厚みが20〜100μmである。 Second, in the first prepreg, the base material of the low-solubility resin layer is unevenly distributed from the center in the thickness direction of the low-solubility resin layer to the side opposite to the high-solubility resin layer, and the thickness direction of the base material The distance between the center of the substrate and the surface of the low-solubility resin layer on the side where the base material is unevenly distributed is 0.1 to 0.3 as a ratio to the total thickness of the low-solubility resin layer. The thickness is 20 to 100 μm .
第3に、本発明の多層プリント配線板は、上記第1または第2のプリプレグを材料としてビルドアップ層における絶縁樹脂層の少なくとも一部が形成されている。 Third, in the multilayer printed wiring board of the present invention, at least a part of the insulating resin layer in the buildup layer is formed using the first or second prepreg as a material.
上記第1の発明によれば、このプリプレグの高溶解性樹脂層を内層回路板の表面に向けて積層成形することにより絶縁樹脂層を形成し、レーザによりビアホールを穴あけした後、薬品によりデスミア処理を行った際に、ビアホール内周面に露出する低溶解性樹脂層では、絶縁樹脂層の溶解を抑制して基材の露出を抑制することができ、ビアホール内周面に均一なめっき層を形成することができる。さらに、ビアホールの底面近傍には低溶解性樹脂層が位置しているため、この低溶解性樹脂がスミアとしてビアホール底面の導体回路に残存しても、デスミア処理により除去し易くなり、ビアホール底面の内層回路板の導体回路とビアホール内のめっきとの間に樹脂が残存することを抑制して導通信頼性を確保することができる。 According to the first aspect of the invention, the insulating resin layer is formed by laminating the highly soluble resin layer of the prepreg toward the surface of the inner circuit board, the via hole is drilled by the laser, and then the desmear treatment is performed by the chemical. The low-solubility resin layer exposed to the inner peripheral surface of the via hole can suppress the dissolution of the insulating resin layer and suppress the exposure of the base material, and a uniform plating layer can be formed on the inner peripheral surface of the via hole. Can be formed. Furthermore, since a low-solubility resin layer is located near the bottom surface of the via hole, even if this low-solubility resin remains as a smear in the conductor circuit on the bottom surface of the via hole, it can be easily removed by desmear treatment, It is possible to ensure conduction reliability by suppressing the resin from remaining between the conductor circuit of the inner circuit board and the plating in the via hole.
上記第2の発明によれば、低溶解性樹脂層の基材が、低溶解性樹脂層の厚み方向の中心から高溶解性樹脂層とは反対側に偏在していることで、上記第1の発明の効果に加え、絶縁樹脂層の表面近傍に基材が位置することになり、表面の剛性がより向上する。そのため、プリント配線板の作製時における作業性を向上することができ、さらに、リフロー工程における反りを低減できる。 According to the second invention, the base material of the low-solubility resin layer is unevenly distributed from the center in the thickness direction of the low-solubility resin layer to the side opposite to the high-solubility resin layer. In addition to the effect of the invention, the base material is positioned in the vicinity of the surface of the insulating resin layer, and the rigidity of the surface is further improved. Therefore, workability at the time of producing the printed wiring board can be improved, and further, warpage in the reflow process can be reduced.
上記第3の発明によれば、上記第1または第2のプリプレグを材料としてビルドアップ層における絶縁樹脂層の少なくとも一部が形成されているので、ビアホール内周面に均一なめっき層を形成することができ、導通信頼性も確保することができる。 According to the third aspect, since at least a part of the insulating resin layer in the buildup layer is formed using the first or second prepreg as a material, a uniform plating layer is formed on the inner peripheral surface of the via hole. And conduction reliability can be ensured.
以下、本発明を詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.
なお、本発明において「低溶解性樹脂」と「高溶解性樹脂」の用語は、同一のデスミア処理時の薬品に同一時間浸漬した場合に、相対的に溶解速度の遅いものを「低溶解性樹脂」、早いものを「高溶解性樹脂」と表現している。 In the present invention, the terms “low-solubility resin” and “high-solubility resin” refer to those having a relatively low dissolution rate when immersed in the same chemical during desmear treatment for the same time. "Resin", the fast one is expressed as "highly soluble resin".
本発明において、プリプレグの低溶解性樹脂層を形成するための樹脂組成物(以下、「低溶解性樹脂層用の樹脂組成物」という。)に用いられる樹脂は、電子絶縁材料として用いることができる高分子樹脂であれば特に限定されないが、例えば、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、フェノール樹脂、ビスマレイミド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等の熱硬化性樹脂を用いることができる。これらは1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。また、これらの熱硬化性樹脂とともに、ポリカーボネート樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、液晶ポリマー等の熱可塑性樹脂を併用することができる。 In the present invention, a resin used for a resin composition for forming a low-solubility resin layer of a prepreg (hereinafter referred to as “resin composition for a low-solubility resin layer”) is used as an electronic insulating material. Although it will not specifically limit if it is a high molecular resin which can be used, For example, thermosetting resins, such as an epoxy resin, a polyimide resin, a phenol resin, a bismaleimide resin, an unsaturated polyester resin, can be used. These may be used alone or in combination of two or more. In addition to these thermosetting resins, thermoplastic resins such as polycarbonate resins, polyphenylene sulfide resins, polyethylene terephthalate resins, and liquid crystal polymers can be used in combination.
低溶解性樹脂層用の樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない範囲内において、上記の樹脂に加えて他の成分を配合することができる。このような他の成分としては、例えば、プリント配線板用の樹脂組成物に従来より配合されている硬化剤、硬化促進剤、無機充填材、改質材、有機溶剤等が挙げられる。 The resin composition for a low-solubility resin layer can be blended with other components in addition to the above-mentioned resin within the range not impairing the effects of the present invention. Examples of such other components include a curing agent, a curing accelerator, an inorganic filler, a modifier, an organic solvent, and the like conventionally blended in a resin composition for a printed wiring board.
本発明では、低溶解性樹脂層用の樹脂組成物として、耐熱性や接着特性に優れている点等から、エポキシ樹脂組成物が好ましく用いられる。 In the present invention, an epoxy resin composition is preferably used as the resin composition for the low-solubility resin layer from the viewpoint of excellent heat resistance and adhesive properties.
このエポキシ樹脂組成物に配合されるエポキシ樹脂としては、特に限定されないが、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂等の2官能エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂等のノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、テトラメチルビフェニル型エポキシ樹脂等のビフェニル型エポキシ樹脂、3官能型エポキシ樹脂、4官能型エポキシ樹脂等の多官能型エポキシ樹脂、ハイドロキノン型エポキシ樹脂、およびこれらの臭素化タイプ等を用いることができる。これらは1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 The epoxy resin blended in the epoxy resin composition is not particularly limited. For example, bifunctional epoxy resins such as bisphenol A type epoxy resin and bisphenol F type epoxy resin, and novolac type epoxy resins such as cresol novolac type epoxy resin. , Dicyclopentadiene type epoxy resin, bimethyl type epoxy resin such as tetramethylbiphenyl type epoxy resin, trifunctional type epoxy resin, polyfunctional type epoxy resin such as tetrafunctional type epoxy resin, hydroquinone type epoxy resin, and bromination of these A type or the like can be used. These may be used alone or in combination of two or more.
エポキシ樹脂組成物には、硬化剤および、必要に応じて硬化促進剤が配合される。硬化剤としては、特に限定されないが、例えば、ノボラック型フェノール樹脂等のフェノール樹脂、ジシアンジアミド、酸無水物、アミン類等が挙げられる。これらは1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。硬化剤は、はんだ耐熱性等を考慮すると、例えば、エポキシ樹脂のエポキシ基1当量に対して、硬化剤の官能基が0.8〜1.2当量の範囲となるように配合することができる。 A curing agent and, if necessary, a curing accelerator are blended in the epoxy resin composition. Although it does not specifically limit as a hardening | curing agent, For example, phenol resins, such as a novolak-type phenol resin, dicyandiamide, an acid anhydride, amines, etc. are mentioned. These may be used alone or in combination of two or more. Considering solder heat resistance and the like, for example, the curing agent can be blended so that the functional group of the curing agent is in the range of 0.8 to 1.2 equivalents with respect to 1 equivalent of the epoxy group of the epoxy resin. .
硬化促進剤としては、特に限定されないが、例えば、イミダゾール系化合物、有機リン系化合物、第3級アミン、第4級アンモニウム塩等が挙げられる。これらは1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Although it does not specifically limit as a hardening accelerator, For example, an imidazole type compound, an organophosphorus compound, a tertiary amine, a quaternary ammonium salt etc. are mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.
また、エポキシ樹脂組成物には、耐熱性改善等の点から無機充填材を配合することができる。無機充填材としては、特に限定されないが、例えば、合成シリカ、天然シリカ、ガラスパウダー、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、タルク、焼成タルク、カオリン、焼成カオリン、クレー、焼成クレー等が挙げられる。これらは1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Moreover, an inorganic filler can be mix | blended with an epoxy resin composition from points, such as heat resistance improvement. The inorganic filler is not particularly limited, and examples thereof include synthetic silica, natural silica, glass powder, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, talc, calcined talc, kaolin, calcined kaolin, clay, and calcined clay. These may be used alone or in combination of two or more.
これらの無機充填材は、シランカップリング剤等により表面処理が施されているものであってもよく、このような表面処理を施すことにより樹脂との界面強度を向上させることができる。 These inorganic fillers may be subjected to a surface treatment with a silane coupling agent or the like, and the interface strength with the resin can be improved by performing such a surface treatment.
無機充填材は、平均粒径が0.3〜30μmであることが好ましい。平均粒径が小さ過ぎると流動特性等が低下する場合があり、平均粒径が大き過ぎるとエポキシ樹脂組成物のワニス中の異物除去のためのフィルター工程において目詰まりを起こす可能性がある。なお、平均粒径はミー(Mie)散乱理論に基づくレーザ回折・散乱法により測定することができ、具体的にはレーザ回折式粒度分布測定装置により、無機充填材の粒度分布を体積基準で作成してメディアン径(d50)を測定し、このメディアン径を平均粒径とすることができる。 The inorganic filler preferably has an average particle size of 0.3 to 30 μm. If the average particle size is too small, flow characteristics and the like may be deteriorated. If the average particle size is too large, clogging may occur in a filter process for removing foreign substances in the varnish of the epoxy resin composition. The average particle size can be measured by the laser diffraction / scattering method based on the Mie scattering theory. Specifically, the particle size distribution of the inorganic filler is created on a volume basis using a laser diffraction particle size distribution measuring device. Then, the median diameter (d 50 ) is measured, and this median diameter can be used as the average particle diameter.
このようなエポキシ樹脂組成物等の低溶解性樹脂層用の樹脂組成物は、上記に例示したような樹脂を配合し、通常は有機溶剤を配合し、さらに必要に応じて他の成分も配合し、これらを例えばミキサー、ナノミル等を用いて均一に混合することにより調製することができる。 Such a resin composition for a low-solubility resin layer such as an epoxy resin composition is blended with a resin as exemplified above, usually with an organic solvent, and further with other components as necessary. These can be prepared by, for example, mixing uniformly using a mixer, nanomill or the like.
そして得られた低溶解性樹脂層用の樹脂組成物を基材に含浸し、乾燥機中で例えば100〜180℃で乾燥させることで、半硬化状態(B−ステージ)の低溶解性樹脂層を作製することができる。 Then, the obtained resin composition for the low-solubility resin layer is impregnated into a base material, and dried in a dryer at, for example, 100 to 180 ° C., so that the semi-cured state (B-stage) low-solubility resin layer Can be produced.
基材としては、シート状の繊維基材を用いることができる。このようなシート状の繊維基材としては、特に限定されないが、例えば、ガラスクロス、アラミドクロス、ポリエステルクロス等のクロス基材、ガラス不織布、アラミド不織布、ポリエステル不織布等の不織布基材、パルプ紙、リンター紙等を用いることができる。 As the substrate, a sheet-like fiber substrate can be used. Such a sheet-like fiber substrate is not particularly limited, for example, a cloth substrate such as a glass cloth, an aramid cloth, a polyester cloth, a nonwoven fabric substrate such as a glass nonwoven fabric, an aramid nonwoven fabric, a polyester nonwoven fabric, pulp paper, Linter paper or the like can be used.
このとき、基材を境界として、基材の一方の面に形成される樹脂層の厚みが他方の面に形成される樹脂層の厚みよりも厚くなるようにして乾燥させ、半硬化状態とすることで、基材の厚み方向の位置を、低溶解性樹脂層の厚み方向の中心より一方の表面側に偏在させることができる。このように基材の厚み方向の位置を偏在させ、そして後述の高溶解性樹脂層とは反対側に位置させることで、絶縁樹脂層の表面近傍に基材が位置することになり、表面の剛性がより向上する。そのため、プリント配線板の作製時における作業性を向上することができ、さらに、リフロー工程における反りを低減できる。 At this time, with the substrate as a boundary, the resin layer formed on one surface of the substrate is dried so that the thickness of the resin layer is thicker than the resin layer formed on the other surface to be in a semi-cured state. Thereby, the position of the thickness direction of a base material can be unevenly distributed to one surface side from the center of the thickness direction of a low solubility resin layer. Thus, the base material is located near the surface of the insulating resin layer by unevenly distributing the position in the thickness direction of the base material and positioning it on the side opposite to the highly soluble resin layer described later. The rigidity is further improved. Therefore, workability at the time of producing the printed wiring board can be improved, and further, warpage in the reflow process can be reduced.
なお、従来のプリプレグでガラスクロス等の基材が上記のように偏在した場合、デスミア処理後にビアホール形状が歪んで望ましくない場合があるが、低溶解性樹脂層の片面に後述の高溶解性樹脂層を設けた本発明の構成では、厚み方向における薬品への溶解性のバランスが良く、デスミア処理後に適切なビアホール形状とすることができる。 In addition, when the base material such as glass cloth is unevenly distributed in the conventional prepreg as described above, the via hole shape may be distorted after the desmear treatment, which may not be desirable, but the high solubility resin described later on one side of the low solubility resin layer. In the structure of the present invention provided with a layer, the balance of solubility in chemicals in the thickness direction is good, and an appropriate via hole shape can be obtained after desmear treatment.
なお、基材の厚み方向の中心と、基材が偏在する側の低溶解性樹脂層の表面との距離は、表面の剛性を向上させる点等から、低溶解性樹脂層全体の厚みに対する比で0.1〜0.3であることが好ましい。 The distance between the center in the thickness direction of the base material and the surface of the low-solubility resin layer on the side where the base material is unevenly distributed is a ratio with respect to the thickness of the entire low-solubility resin layer from the viewpoint of improving the rigidity of the surface. It is preferable that it is 0.1-0.3.
また、低溶解性樹脂層の厚みは20〜100μmであることが好ましい。厚みが小さ過ぎると、厚み方向の絶縁信頼性が確保できなくなる場合があり、厚みが大き過ぎると、プリント配線板の薄型化の要求等を満足できなくなる場合がある。 Moreover, it is preferable that the thickness of a low solubility resin layer is 20-100 micrometers. If the thickness is too small, insulation reliability in the thickness direction may not be ensured, and if the thickness is too large, there may be cases where the demand for thinning the printed wiring board cannot be satisfied.
高溶解性樹脂層は、例えば、上記の低溶解性樹脂層と同様の組成で構成することができる。樹脂の溶解性はエポキシ樹脂、硬化剤、硬化促進剤、無機充填材、改質剤等の組み合わせにより適宜に変更することができるが、高溶解性樹脂の溶解性を低溶解性樹脂の溶解性に対して4〜10倍にすることが望ましい。高溶解性樹脂の溶解性が小さ過ぎると、ビアホール底面の内層回路板の導体回路とビアホール内のめっきとの間に樹脂が残存することを抑制することが困難になる場合がある。高溶解性樹脂の溶解性が大き過ぎると、ビアホール底面の界面までデスミアされ、液残り等が起こり易くなり、耐熱性に影響を及ぼす可能性がある。 A highly soluble resin layer can be comprised by the composition similar to said low solubility resin layer, for example. The solubility of the resin can be appropriately changed by a combination of an epoxy resin, a curing agent, a curing accelerator, an inorganic filler, a modifier, etc., but the solubility of the high solubility resin is changed to the solubility of the low solubility resin. It is desirable to make it 4 to 10 times as large. If the solubility of the highly soluble resin is too small, it may be difficult to suppress the resin from remaining between the conductor circuit of the inner circuit board on the bottom surface of the via hole and the plating in the via hole. If the solubility of the high-solubility resin is too high, desmearing may occur up to the interface at the bottom of the via hole, resulting in liquid residue and the like, which may affect the heat resistance.
高溶解性樹脂層は、例えば、次のようにして作製することができる。第1に、低溶解性樹脂層の片面に、高溶解性樹脂層用の樹脂組成物をロールコーター等にて薄く塗布、乾燥してBステージとする。あるいは、第2に、予めBステージの低溶解性樹脂層とB−ステージの高溶解性樹脂層とを別々に作製しておき、低溶解性樹脂層の片面に高溶解性樹脂層を配置し、加熱、加圧下にロール等でラミネートして一体化する。 The highly soluble resin layer can be produced, for example, as follows. 1stly, the resin composition for high solubility resin layers is thinly apply | coated to one side of a low solubility resin layer with a roll coater etc., and it is set as B stage. Alternatively, second, a B-stage low-solubility resin layer and a B-stage high-solubility resin layer are separately prepared in advance, and a high-solubility resin layer is disposed on one side of the low-solubility resin layer. Laminate with a roll or the like under heat and pressure to integrate.
高溶解性樹脂層の厚みは、スミアの除去性、絶縁樹脂層としての特性、デスミア処理後のビアホールの形状保持、製造上の点等も考慮すると、2〜5μmであることが好ましい。 The thickness of the highly soluble resin layer is preferably 2 to 5 μm in consideration of smear removability, characteristics as an insulating resin layer, shape retention of the via hole after desmear treatment, manufacturing points, and the like.
このようにして、ビルドアップ用のプリプレグであって、デスミア処理時の薬品への溶解性が低いB−ステージの低溶解性樹脂に基材を含有する低溶解性樹脂層と、低溶解性樹脂層の片面に設けられ、低溶解性樹脂よりもデスミア処理時の薬品への溶解性が相対的に高いB−ステージの高溶解性樹脂からなる高溶解性樹脂層とを有する本発明のプリプレグが得られる。 Thus, a prepreg for build-up, a low-solubility resin layer containing a base material in a B-stage low-solubility resin having low solubility in chemicals during desmear treatment, and a low-solubility resin A prepreg of the present invention having a high-solubility resin layer comprising a B-stage high-solubility resin provided on one side of the layer and having relatively higher solubility in chemicals during desmear treatment than a low-solubility resin can get.
この本発明のプリプレグを用いて、次のようにして多層プリント配線板を作製することができる。 Using the prepreg of the present invention, a multilayer printed wiring board can be produced as follows.
まず、積層板の片面または両面に導体回路が形成された内層回路板、あるいは導体回路と絶縁樹脂層とが交互に積層され、最外層の片面または両面に導体回路が形成された多層の内層回路板を用意する。ここで、内層回路板の導体回路の表面は黒化処理等により予め粗化処理が施されていることが絶縁樹脂層との密着性を向上させる点から好ましい。 First, an inner-layer circuit board in which a conductor circuit is formed on one or both sides of a laminated board, or a multilayer inner-layer circuit in which conductor circuits and insulating resin layers are alternately laminated and a conductor circuit is formed on one or both sides of the outermost layer Prepare a board. Here, the surface of the conductor circuit of the inner layer circuit board is preferably subjected to a roughening treatment in advance by a blackening treatment or the like from the viewpoint of improving the adhesion with the insulating resin layer.
内層回路板としては、特に限定されないが、例えば、ガラスエポキシ樹脂基板、ポリエステル基板、ポリイミド基板、BTレジン基板、熱硬化型ポリフェニレンエーテル基板等の基板の片面または両面に導体回路が形成されたものを用いることができる。 The inner layer circuit board is not particularly limited. For example, a circuit board having a conductor circuit formed on one or both surfaces of a substrate such as a glass epoxy resin substrate, a polyester substrate, a polyimide substrate, a BT resin substrate, or a thermosetting polyphenylene ether substrate. Can be used.
次に、この内層回路板の片面または両面に、本発明のプリプレグを高溶解性樹脂層が内層回路板に接するように配置し、さらに必要に応じてその外側に金属箔を配置して、例えば真空下において加熱加圧して、積層成形する。積層成形は、例えば、温度100〜200℃、圧力0.5〜5MPa、時間20〜100分の条件で行うことができる。 Next, on one side or both sides of this inner layer circuit board, the prepreg of the present invention is placed so that the highly soluble resin layer is in contact with the inner layer circuit board, and further, if necessary, a metal foil is placed on the outside thereof, for example, Lamination molding is performed by heating and pressing under vacuum. Lamination molding can be performed, for example, under conditions of a temperature of 100 to 200 ° C., a pressure of 0.5 to 5 MPa, and a time of 20 to 100 minutes.
次に、内層回路板の表面に形成された絶縁樹脂層に、炭酸ガスレーザ、YAGレーザ等を用いたレーザ加工により穴あけを行いビアホール(ブラインドビア)を形成する。 Next, a hole is formed in the insulating resin layer formed on the surface of the inner layer circuit board by laser processing using a carbon dioxide gas laser, a YAG laser, or the like to form a via hole (blind via).
ビアホールの穴あけには、例えば、コンフォーマル工法を用いることができる。まず、ドライフィルム等を用い、ビアホール形成部の表面に存在する金属箔のみをエッチングにより除去する。そして金属箔が除去された箇所にレーザを照射すると、残存している周囲の金属箔がコンフォーマルマスクとなり、金属箔が除去された箇所にのみビアホールを形成することができる。 For example, a conformal method can be used for drilling the via hole. First, using a dry film or the like, only the metal foil present on the surface of the via hole forming portion is removed by etching. When the portion where the metal foil is removed is irradiated with laser, the remaining surrounding metal foil becomes a conformal mask, and a via hole can be formed only in the portion where the metal foil is removed.
あるいは、金属箔を用いなかった場合等には、コンフォーマルマスクを用いることなく、ビアホール形成部の表面にのみ直接にレーザを照射することで、ビアホールを形成することもできる。 Alternatively, when a metal foil is not used, a via hole can be formed by directly irradiating a laser only on the surface of the via hole forming portion without using a conformal mask.
次に、ビアホール内のデスミア処理を行う。デスミア処理の薬品としては、例えば、酸化剤水溶液等を用いることができ、具体的には、例えば、過マンガン酸カリウムや過マンガン酸ナトリウムのアルカリ水溶液、クロム酸や重クロム酸ナトリウムの硫酸水溶液等を用いることができる。 Next, desmear processing in the via hole is performed. As the chemical for desmear treatment, for example, an oxidizing agent aqueous solution or the like can be used, and specifically, for example, an alkaline aqueous solution of potassium permanganate or sodium permanganate, an aqueous sulfuric acid solution of chromic acid or sodium dichromate, or the like. Can be used.
なお、これらの薬品で処理する前に、従来より知られているアルカリ膨潤液を用いてビアホール内の前処理を行っても良い。 In addition, before processing with these chemical | medical agents, you may pre-process in a via hole using the alkali swelling liquid known conventionally.
デスミア処理後、所定の中和液で中和した後、デスミアしたビアホールに導通処理を施す。導通処理としては、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の乾式のめっきによる処理を施してもよいが、無電解めっき(例えば、化学銅めっき)、電解めっき(例えば、電気銅めっき)等の湿式のめっきによる処理が、量産性等も考慮すると好ましい。 After the desmear treatment, after neutralizing with a predetermined neutralization solution, the desmeared via hole is subjected to conduction treatment. As the conduction treatment, treatment by dry plating such as vapor deposition, sputtering, ion plating, etc. may be performed, but wet processing such as electroless plating (for example, chemical copper plating), electrolytic plating (for example, electrolytic copper plating), etc. The treatment by plating is preferable in consideration of mass productivity.
導通処理として、湿式のめっきによる処理を施す場合においては、ビアホールの内周面に無電解めっきを施した後に電解めっきを施してめっき層を形成し、さらにサブトラクティブ法のうちドライフィルムを用いたテンティング法等により導体層に回路を形成する。これにより、ビアホールによって絶縁樹脂層の両面の内層と外層の導体回路を接続することができる。 In the case of conducting a wet plating process as the conduction process, an electroless plating is performed on the inner peripheral surface of the via hole, and then a plating layer is formed by electroplating, and a dry film is used in the subtractive method. A circuit is formed on the conductor layer by a tenting method or the like. As a result, the inner and outer conductor circuits on both sides of the insulating resin layer can be connected by the via holes.
また、無電解めっきを施して回路形成するアディティブ法、無電解めっきと電解めっきを組み合わせて回路形成するセミアディティブ法等を利用することにより、絶縁樹脂層の表面に導体回路を設けることもできる。 Further, a conductive circuit can be provided on the surface of the insulating resin layer by using an additive method for forming a circuit by performing electroless plating, a semi-additive method for forming a circuit by combining electroless plating and electrolytic plating, or the like.
以上のようにして、導体回路と絶縁樹脂層とが交互に積層され、本発明のプリプレグを材料としてビルドアップ層における絶縁樹脂層の少なくとも一部が形成されている多層プリント配線板が得られる。なお、以上の工程をさらに繰り返して、さらに層数の多い多層プリント配線板とすることもできる。 As described above, a multilayer printed wiring board is obtained in which conductor circuits and insulating resin layers are alternately laminated, and at least part of the insulating resin layer in the buildup layer is formed using the prepreg of the present invention as a material. The above process can be further repeated to obtain a multilayer printed wiring board having a larger number of layers.
以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
<実施例1>
[低溶解性樹脂層用および高溶解性樹脂層用の樹脂組成物の調製]
低溶解性樹脂層用の樹脂組成物として、次のエポキシ樹脂組成物を調製した。エポキシ樹脂組成物の配合成分として以下のものを用いた。エポキシ樹脂としてDIC(株)製「エピクロン HP−7200」を40質量部、DIC(株)製「エピクロン N−690」を40質量部、東都化成(株)製「YDB−400」を20質量部配合し、硬化剤としてDIC(株)製「フェノライト KH−6021」を40質量部、硬化促進剤として四国化成工業(株)製「キュアゾール 2E4MZ」を0.1質量部配合し、有機溶剤のMEKで希釈したものを攪拌、均一化し、エポキシ樹脂組成物のワニスを得た。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to these Examples at all.
<Example 1>
[Preparation of resin composition for low-solubility resin layer and high-solubility resin layer]
The following epoxy resin composition was prepared as a resin composition for a low solubility resin layer. The following were used as a compounding component of the epoxy resin composition. As epoxy resin, 40 parts by mass of “Epiclon HP-7200” manufactured by DIC Corporation, 40 parts by mass of “Epiclon N-690” manufactured by DIC Corporation, and 20 parts by mass of “YDB-400” manufactured by Toto Kasei Co., Ltd. 40 parts by mass of “Phenolite KH-6021” manufactured by DIC Corporation as a curing agent and 0.1 part by mass of “Curesol 2E4MZ” manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd. as a curing accelerator What was diluted with MEK was stirred and homogenized to obtain a varnish of an epoxy resin composition.
高溶解性樹脂層用の樹脂組成物として、次のエポキシ樹脂組成物を調製した。エポキシ樹脂組成物の配合成分として以下のものを用いた。エポキシ樹脂としてダウケミカル社製「DER530」を40質量部、東都化成(株)製「YD−128」を45質量部、東都化成(株)製「YDB−400」を15質量部配合し、硬化剤として荒川化学工業(株)製「タマノル 752」を40質量部、硬化促進剤として四国化成工業(株)製「キュアゾール 2E4MZ」を0.1質量部配合し、有機溶剤のMEKで希釈したものを攪拌、均一化し、エポキシ樹脂組成物のワニスを得た。
[プリプレグの作製]
基材として、ガラスクロス(日東紡(株)製「WEA1078」)を用い、このガラスクロスに上記の低溶解性樹脂層用のエポキシ樹脂組成物のワニスを室温にて含浸させ、その後、約130〜170℃で加熱することにより、ワニス中の有機溶剤を乾燥除去し、エポキシ樹脂組成物を半硬化させることによりプリプレグを作製した。プリプレグにおける樹脂量は、ガラスクロス100質量部に対して樹脂200質量部となるように調整した。また、ガラスクロスがプリプレグ厚み方向の中心に位置するように調整した。
The following epoxy resin composition was prepared as a resin composition for a highly soluble resin layer. The following were used as a compounding component of the epoxy resin composition. 40 parts by mass of “DER530” manufactured by Dow Chemical Co., Ltd. as epoxy resin, 45 parts by mass of “YD-128” manufactured by Toto Kasei Co., Ltd., and 15 parts by mass of “YDB-400” manufactured by Toto Kasei Co., Ltd. are cured. 40 parts by mass of “Tamanol 752” manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd. as an agent, and 0.1 part by mass of “Curesol 2E4MZ” manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd. as a curing accelerator were diluted with MEK, an organic solvent. Were stirred and homogenized to obtain a varnish of an epoxy resin composition.
[Preparation of prepreg]
A glass cloth (“WEA1078” manufactured by Nittobo Co., Ltd.) was used as a base material, and this glass cloth was impregnated with the above-described epoxy resin composition varnish for the low-solubility resin layer at room temperature, and then about 130 By heating at ˜170 ° C., the organic solvent in the varnish was removed by drying, and the epoxy resin composition was semi-cured to prepare a prepreg. The amount of resin in the prepreg was adjusted to be 200 parts by mass of the resin with respect to 100 parts by mass of the glass cloth. Moreover, it adjusted so that a glass cloth might be located in the center of a prepreg thickness direction.
次に、このプリプレグの片面に、ロールコーターを用いて高溶解性樹脂層用のエポキシ樹脂組成物のワニスを塗布した後、約130〜170℃で加熱することにより、ワニス中の有機溶剤を乾燥除去し、エポキシ樹脂組成物を半硬化させることにより、B−ステージの低溶解性樹脂に基材を含有する厚み80μmの低溶解性樹脂層と、B−ステージの高溶解性樹脂からなる厚み3μmの高溶解性樹脂層とを有するプリプレグを作製した。
[多層プリント配線板の作製]
両面銅張積層板(三井金属鉱業(株)製「3EC−III」、厚み0.2mm、銅箔厚み35μm)の両面の銅箔に回路形成して内層の銅回路を設けることにより、内層回路板を作製した。
Next, after applying a varnish of an epoxy resin composition for a highly soluble resin layer on one side of the prepreg using a roll coater, the organic solvent in the varnish is dried by heating at about 130 to 170 ° C. By removing and semi-curing the epoxy resin composition, the low-solubility resin layer of 80 μm thickness containing the base material in the low-solubility resin of B-stage and the thickness of 3 μm consisting of the high-solubility resin of B-stage A prepreg having a highly soluble resin layer was prepared.
[Production of multilayer printed wiring boards]
An inner layer circuit is formed by forming a circuit on a copper foil on both sides of a double-sided copper-clad laminate ("3EC-III" manufactured by Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd., thickness 0.2 mm, copper foil thickness 35 μm) and providing an inner layer copper circuit. A plate was made.
次に、この内層回路板の銅回路に黒化処理液を作用させて粗面化処理を行った後、この内層回路板の両側の表面に上記のプリプレグを高溶解性樹脂層を内層回路板に向けて配置し、銅箔(厚み12μm)をその外側に重ねて、170℃、2.9MPaの条件で加熱加圧成形した。 Next, after the blackening treatment liquid is applied to the copper circuit of the inner layer circuit board to perform the roughening treatment, the above-described prepreg is applied to the surfaces on both sides of the inner layer circuit board, and the highly soluble resin layer is applied to the inner layer circuit board. The copper foil (thickness: 12 μm) was placed on the outside, and was heated and pressed under conditions of 170 ° C. and 2.9 MPa.
次に、最外面の銅箔のビアホールを形成する箇所に、ドライフィルム露光とエッチングにより直径300μmの開口部を形成した。 Next, an opening having a diameter of 300 μm was formed by dry film exposure and etching at a location where a copper foil via hole on the outermost surface was to be formed.
この開口部に露出した絶縁樹脂層に、三菱電機(株)製炭酸ガスレーザ加工機「ML505GT」を用いて、直径100μmのビアホールを形成した。 A via hole having a diameter of 100 μm was formed in the insulating resin layer exposed at the opening using a carbon dioxide laser processing machine “ML505GT” manufactured by Mitsubishi Electric Corporation.
次に、デスミア処理工程を行った。デスミア処理はマクダーミッド社のデスミアプロセスにより行った。このデスミアプロセスは、「マキュタイザー9204」による膨潤処理(35℃、7分)、「マキュタイザー9275」による処理(75℃、15分)、「マキュタイザー9279」による中和処理(43℃、5分)からなる。 Next, a desmear treatment process was performed. The desmear treatment was performed by the MacDermid's desmear process. This desmear process is carried out by swelling treatment with “Macuizer 9204” (35 ° C., 7 minutes), treatment with “Macuizer 9275” (75 ° C., 15 minutes), and neutralization treatment with “Macuizer 9279” (43 ° C., 5 minutes) Minutes).
次に、無電解銅めっき(化学銅めっき)を施して無電解めっき層をビアホール内に形成し、さらに電解銅めっき(電気銅めっき)を施して電解めっき層(厚み15μm)を形成した。その後、テンティング法により外層の導体回路を形成し、多層プリント配線板を作製した。
<実施例2>
実施例1において、低溶解性樹脂層用の樹脂組成物が含浸された基材を上記のように乾燥させる際に、乾燥機として横型乾燥機を用いて乾燥し、未硬化のワニス状の樹脂組成物を重力により全体として下方へ移動させ、このような状態で乾燥させて半硬化状態とすることで、基材を境界として、基材の下面に形成される樹脂層の厚みが上面に形成される樹脂層の厚みよりも厚いプリプレグを作製した。基材の厚み方向の中心と、基材が偏在する側の低溶解性樹脂層の表面との距離は、低溶解性樹脂層全体の厚みに対する比で0.2とした。
Next, electroless copper plating (chemical copper plating) was applied to form an electroless plating layer in the via hole, and further electrolytic copper plating (electro copper plating) was applied to form an electrolytic plating layer (thickness 15 μm). Thereafter, an outer layer conductor circuit was formed by a tenting method to produce a multilayer printed wiring board.
<Example 2>
In Example 1, when the base material impregnated with the resin composition for the low-solubility resin layer is dried as described above, it is dried using a horizontal dryer as a dryer, and an uncured varnish-like resin By moving the composition downward as a whole by gravity and drying in such a state to make it semi-cured, the thickness of the resin layer formed on the lower surface of the substrate is formed on the upper surface with the substrate as the boundary A prepreg thicker than the thickness of the resin layer to be formed was produced. The distance between the center in the thickness direction of the base material and the surface of the low-solubility resin layer on the side where the base material is unevenly distributed was 0.2 as a ratio to the thickness of the entire low-solubility resin layer.
それ以外は実施例1と同様にして、B−ステージの低溶解性樹脂に基材を含有する厚み80μmの低溶解性樹脂層と、B−ステージの高溶解性樹脂からなる厚み3μmの高溶解性樹脂層とを有するプリプレグ、およびそれを用いた多層プリント配線板を作製した。
<比較例1>
実施例1において、高溶解性樹脂層を用いずに、低溶解性樹脂層のみからなるプリプレグを作製し、B−ステージの低溶解性樹脂に基材を含有する厚み80μmの低溶解性樹脂層からなるプリプレグ、およびそれを用いた多層プリント配線板を作製した。
Otherwise, in the same manner as in Example 1, the 80-μm-thick low-solubility resin layer containing the base material in the B-stage low-solubility resin and the high-solubility 3 μm-thickness composed of the B-stage high-solubility resin A prepreg having a conductive resin layer and a multilayer printed wiring board using the prepreg were prepared.
<Comparative Example 1>
In Example 1, a prepreg composed only of a low-solubility resin layer without using a high-solubility resin layer was prepared, and a low-solubility resin layer having a thickness of 80 μm containing a base material in a B-stage low-solubility resin And a multilayer printed wiring board using the prepreg.
上記の実施例および比較例について次の評価を行った。
[デスミア処理時の薬品への溶解性]
高溶解性樹脂と低溶解性樹脂について、上記のデスミア処理時の薬品の酸化剤水溶液に同一時間浸漬し、相対的な溶解速度より次の基準により評価した。
○:高溶解性樹脂の方が低溶解性樹脂よりも溶解速度が早い。
×:上記以外。
[レーザ加工性]
基板厚さ0.2mmのFR−4グレードの両面銅張積層板(銅箔厚さ35μm)の銅箔に表面処理(黒化処理)を施したものを内層用基板として使用した。この内層用基板の両面に上記のようにして作製したプリプレグを重ね、170℃、2.9MPa、90分間の条件で加熱加圧成形して多層板を作製した。その後、表面の銅箔をエッチングにより除去し、レーザ加工用サンプルを得た。
The following evaluation was performed about said Example and the comparative example.
[Solubility in chemicals during desmear treatment]
The high-solubility resin and the low-solubility resin were immersed in an aqueous oxidizer solution of the chemical during the desmear treatment for the same time, and evaluated according to the following criteria from the relative dissolution rate.
○: A high-solubility resin has a faster dissolution rate than a low-solubility resin.
X: Other than the above.
[Laser processability]
A surface treatment (blackening treatment) of a copper foil of a FR-4 grade double-sided copper clad laminate (copper foil thickness 35 μm) having a substrate thickness of 0.2 mm was used as the inner layer substrate. The prepreg produced as described above was laminated on both surfaces of the inner layer substrate, and heat-pressed under conditions of 170 ° C., 2.9 MPa, and 90 minutes to produce a multilayer board. Thereafter, the copper foil on the surface was removed by etching to obtain a sample for laser processing.
次に、三菱電機(株)製レーザ加工機「ML505GT」を用い、パルス周波数:1500Hz、パルス幅:20μs、出力:5.4mj/パルス、照射パルス数:3ショットの条件で、上記のようにして得られたレーザ加工用サンプルに穴あけ加工を行った後、上記のデスミア処理を実施し、走査型電子顕微鏡SEMを用いて穴の内部を観察し、樹脂残渣の有無を確認した。
[導通信頼性:オイルディップ試験]
実施例1、2および比較例1の評価用多層プリント配線板を、260℃のオイルに30秒浸漬後に、25℃の水に15秒浸漬するサイクルを100サイクル行い、100サイクル終了後のn=20の試験片における断線発生数を求めた。
[リフロー工程による反り量]
基板厚さ0.2mmのFR−4グレードの両面銅張積層板(銅箔厚さ35μm)の銅箔に表面処理(黒化処理)を施したものを内層用基板として用いた。この内層用基板の両面に上記のようにして作製したプリプレグを重ね、170℃、2.9MPa、90分間の条件で加熱加圧成形してサイズが150mm×150mmの反り評価用の多層板を作製した。この反り評価用の多層板について、リフロー処理として230℃の雰囲気中に10秒間曝す処理を行い、反り量を評価した。反り量として、サイズ150mm×150mmの反り評価用の多層板を水平な板の上に置いたときの最大持ち上がり量を測定した。
Next, using a laser processing machine “ML505GT” manufactured by Mitsubishi Electric Corporation, the pulse frequency is 1500 Hz, the pulse width is 20 μs, the output is 5.4 mj / pulse, and the number of irradiation pulses is 3 shots as described above. After drilling the obtained laser processing sample, the above desmear treatment was performed, and the inside of the hole was observed using a scanning electron microscope SEM to confirm the presence or absence of a resin residue.
[Conduction reliability: Oil dip test]
The multilayer printed wiring boards for evaluation of Examples 1 and 2 and Comparative Example 1 were immersed in 260 ° C. oil for 30 seconds and then immersed in water at 25 ° C. for 15 seconds for 100 cycles. The number of occurrences of disconnection in 20 test pieces was determined.
[Warpage amount due to reflow process]
A surface treatment (blackening treatment) applied to a copper foil of a FR-4 grade double-sided copper clad laminate (copper foil thickness 35 μm) having a substrate thickness of 0.2 mm was used as the inner layer substrate. The prepreg produced as described above is laminated on both surfaces of the inner layer substrate, and heat-pressed under conditions of 170 ° C., 2.9 MPa, and 90 minutes to produce a multilayer plate for warpage evaluation having a size of 150 mm × 150 mm. did. About this multilayer board for warpage evaluation, the processing which exposes for 10 seconds in the atmosphere of 230 ° C as reflow processing was performed, and the amount of warpage was evaluated. As the amount of warpage, the maximum amount of lifting when a multilayer board for warpage evaluation having a size of 150 mm × 150 mm was placed on a horizontal board was measured.
評価結果を表1に示す。 The evaluation results are shown in Table 1.
表1より、基材を含有する低溶解性樹脂層と、高溶解性樹脂層とを有するプリプレグを用いた実施例1、2では、デスミア処理後に樹脂残渣がなくレーザ加工性が良好であり、導通信頼性も有していた。また、低溶解性樹脂層のガラスクロスを、低溶解性樹脂層の厚み方向の中心から高溶解性樹脂層とは反対側に偏在させた実施例2では、リフロー工程による反り量が実施例1よりも大幅に低減した。 From Table 1, in Examples 1 and 2 using a prepreg having a low-solubility resin layer containing a substrate and a high-solubility resin layer, there is no resin residue after desmear treatment, and laser workability is good. It also had conduction reliability. In Example 2 in which the glass cloth of the low-solubility resin layer was unevenly distributed from the center in the thickness direction of the low-solubility resin layer to the side opposite to the high-solubility resin layer, the amount of warping due to the reflow process was Example 1. Was significantly reduced.
これに対して、高溶解性樹脂層を設けないプリプレグを用いた比較例1では、デスミア処理後に樹脂残渣が見られ、導通信頼性も低下した。 On the other hand, in Comparative Example 1 using a prepreg not provided with a highly soluble resin layer, resin residues were observed after desmear treatment, and conduction reliability was also lowered.
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