Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP5407130B2 - Pattern correction method and pattern correction apparatus - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP5407130B2 - Pattern correction method and pattern correction apparatus - Google Patents

Pattern correction method and pattern correction apparatus Download PDF

Info

Publication number
JP5407130B2
JP5407130B2 JP2007245264A JP2007245264A JP5407130B2 JP 5407130 B2 JP5407130 B2 JP 5407130B2 JP 2007245264 A JP2007245264 A JP 2007245264A JP 2007245264 A JP2007245264 A JP 2007245264A JP 5407130 B2 JP5407130 B2 JP 5407130B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ink
film
pattern
correction
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2007245264A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2009075416A (en
Inventor
英幸 山田
優一郎 ▲高▼島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toppan Inc filed Critical Toppan Inc
Priority to JP2007245264A priority Critical patent/JP5407130B2/en
Publication of JP2009075416A publication Critical patent/JP2009075416A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5407130B2 publication Critical patent/JP5407130B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Description

本発明は、微細パターンの修正方法及び修正装置に関し、とくにカラーテレビ、パーソナルコンピュータに使用されるカラー液晶ディスプレイ(LCD)の構造部材であるカラーフィルター(CF)の製造工程において、ピンホール欠陥及び、異物など不具合部分の修正に好適なパターン修正方法及び修正装置に関する。   The present invention relates to a fine pattern correction method and correction device, and in particular, in a manufacturing process of a color filter (CF) which is a structural member of a color liquid crystal display (LCD) used in a color television and a personal computer, The present invention relates to a pattern correction method and correction apparatus suitable for correcting a defective part such as a foreign object.

従来、パーソナルコンピュータや、薄型カラーテレビの発達に伴い、カラーLCDの需要が増加しており、低価格化や大型化が進展している。そこで、部材の中でもコスト比重が高いカラーフィルターは一層のコストダウンが要求されている。一方、基板の大型化に対して、LCDやカラーフィルター工程で高い歩留りを維持する事は困難である。   Conventionally, with the development of personal computers and thin color televisions, the demand for color LCDs has increased, and the price and size have increased. Therefore, among the members, a color filter having a high cost specific gravity is required to further reduce the cost. On the other hand, it is difficult to maintain a high yield in the LCD and color filter processes as the substrate size increases.

カラーフィルターは、透明基板上に、カラー表示に不可欠な、例えば、R(赤)、G(緑)、B(青)各色の着色層と、カラーLCD の表示コントラスト向上の目的で設けられる金属皮膜やBk(黒)の遮光層を、所定のパターンに配列したものであり、多くの製造方法が知られている。以下に幾つかの方法を説明する。   For example, R (red), G (green), and B (blue) colored layers on a transparent substrate and a metal film provided for the purpose of improving the display contrast of a color LCD. And Bk (black) light shielding layers are arranged in a predetermined pattern, and many manufacturing methods are known. Several methods are described below.

カラーフィルターの製造方法として染色法、顔料分散法、電着法、印刷法などが知られている。   As a method for producing a color filter, a dyeing method, a pigment dispersion method, an electrodeposition method, a printing method, and the like are known.

染色法は、透明基板上に染色性高分子材料を塗布し、所定形状にフォトリソ法でパターニングした後、染色液に浸漬して着色する工程をR 、G 、B各色で繰り返し、着色層を形成する方法である。   In the dyeing method, a process of applying a dyeable polymer material on a transparent substrate, patterning it into a predetermined shape by a photolithographic method, and then immersing and coloring in a dyeing solution is repeated for each color of R 1, G 2, and B to form a colored layer It is a method to do.

顔料分散法は、透明基板上に顔料を分散した感光性樹脂材料を、スピンコータなどで塗布後、フォトリソ法でパターニングする工程を、R 、G 、B各色で繰り返し、着色層を形成する方法である。   The pigment dispersion method is a method in which a photosensitive resin material in which a pigment is dispersed on a transparent substrate is applied with a spin coater or the like and then patterned with a photolithographic method, and a colored layer is formed by repeating each of the colors R 1, G 2, and B. .

電着法は、透明基板上に透明電極パターンを形成した後、顔料、樹脂、電解液等の入った電着塗装液に浸漬して電着する工程を各色で繰り返し、着色層を得る方法である。   The electrodeposition method is a method of obtaining a colored layer by forming a transparent electrode pattern on a transparent substrate, then immersing it in an electrodeposition coating solution containing a pigment, a resin, an electrolytic solution, etc. and performing electrodeposition for each color. is there.

印刷法は、顔料が分散された熱硬化型インキを、パターニングされた印刷板に転移させた後、透明基板上に、直接印刷若しくは、オフセット印刷によってパターン形成する工程を各色で繰り返して、着色層を形成する方法である。   In the printing method, after a thermosetting ink in which a pigment is dispersed is transferred to a patterned printing plate, a process of forming a pattern by direct printing or offset printing on a transparent substrate is repeated for each color, and a colored layer It is a method of forming.

必要に応じて、これらの方法による着色層形成前に、透明基板上にCr等の金属膜や黒色(Bk)顔料からなる遮光層パターンが形成される。   If necessary, a light shielding layer pattern made of a metal film such as Cr or a black (Bk) pigment is formed on the transparent substrate before forming the colored layer by these methods.

前記の方法によって、カラーフィルターの製造は可能であるが、現状は、良好な色特性や、位置精度、コストなどから、顔料分散法が良く用いられている。但し、どの製造方法であっても、基板の大型化に伴うカラーフィルター面内のゴミや異物の増加によって、全くの無欠陥でカラーフィルターを製造することが困難になるため、大型基板使用などの材料コスト上昇と合わせて考慮すると、将来に渡るコスト低減が難しい状況になりつつある。   Although the color filter can be manufactured by the above method, at present, the pigment dispersion method is often used because of good color characteristics, positional accuracy, cost, and the like. However, in any manufacturing method, it is difficult to manufacture a color filter with no defects due to the increase in dust and foreign matter in the color filter surface as the substrate becomes larger. Considering this together with the increase in material costs, it is becoming difficult to reduce costs in the future.

そこで、カラーファイルターに発生したパターン欠陥部を修正して良品化し、全体的な製造コストを低減させることが、製造歩留まりの向上と共に重要となってくる。   Thus, it is important to improve the manufacturing yield by correcting the pattern defect portion generated in the color filter to make it non-defective and reducing the overall manufacturing cost.

本発明において、パターン欠陥部または欠陥とは、パターンの一部が欠落したピンホール欠陥や、インキや異物が付着し、パターンの連続性が損なわれた付着欠陥、色の均一性が損なわれた色欠陥、それら異常部分を取り除いた箇所のことを指す。   In the present invention, the pattern defect portion or defect is a pinhole defect in which a part of the pattern is missing, an adhesion defect in which ink or foreign matter is adhered, and the continuity of the pattern is impaired, and color uniformity is impaired. It refers to the color defect and the part from which those abnormal parts have been removed.

現在行われているほとんどの微小パターンの修正においては、欠陥部を紫外〜 赤外レーザー光照射を用いて適当な大きさに取り除く作業が行なわれる。(以下レーザーリペアと称する)
たとえばカラーフィルターの遮光層や着色層にピンホール等の色ヌケが発生した場合には、修正を行う前に欠陥部を含めた周辺を、ある一定の領域レーザーリペアした後、パターンに応じた修正を行う。
In most of the fine pattern corrections currently being performed, an operation of removing the defect portion to an appropriate size using ultraviolet to infrared laser light irradiation is performed. (Hereafter referred to as laser repair)
For example, if color spots such as pinholes occur in the light-shielding layer or colored layer of the color filter, the area including the defective part is repaired to a certain area before repairing, and then the correction according to the pattern is performed. I do.

レーザー照射の大きさは30μm から100μmで、形状は正方形、長方形、平行四辺形などがある。欠陥部の形状や大きさを画一的にすることで、塗布する修正インキ量の定量化や修正手順の作業標準化ができる利点がある。   The size of the laser irradiation is 30 μm to 100 μm, and the shapes include a square, a rectangle, and a parallelogram. By making the shape and size of the defective part uniform, there is an advantage that the amount of correction ink to be applied can be quantified and the operation standard of the correction procedure can be standardized.

このように色抜けによる欠陥だけではなく、パターン表面に付着した異物やパターン膜中に埋め込まれた異物の除去を行う方法として、レーザー光照射で異物を除去し再度着色する方法が提案されている。(特許文献1参照)
例えばカラーフィルターの遮光層や着色層にピンホール等の色ヌケが発生した場合や、レーザーリペア後のパターン欠陥部の修正には、適切な色濃度を有する修正用インキを修正用針先につけた後、修正部に塗布して乾燥させて修正する方法(特許文献2参照)や、修正用インキの供給にディスペンサ方式を用いて修正する方法が知られている。
As described above, as a method for removing not only defects due to color loss but also foreign matters adhering to the pattern surface and foreign matters embedded in the pattern film, a method of removing foreign matters by laser light irradiation and coloring again has been proposed. . (See Patent Document 1)
For example, when color spots such as pinholes occur in the shading layer or colored layer of the color filter, or for correction of pattern defects after laser repair, a correction ink having an appropriate color density is applied to the correction needle tip. Thereafter, there are known a method of correcting by applying to a correction portion and drying (see Patent Document 2), and a method of correcting using a dispenser system for supplying correction ink.

また、インクジェットヘッドから、修正用インキをピンホール等色ヌケ部に吐出し、修正する方法が提案されている。(特許文献3、4参照)
しかし、このような修正箇所に直接インキを導入する方法は、微小な修正箇所にインキを正確に導入する事が難しいばかりでなく、基板上でのインキの広がりや膜厚のバラツキを制御することは難しい。この為、インキを導入した後のレーザー光照射によるトリミング(整形)作業や膜厚を整えるための部分的な研磨作業を行う必要があった。
Further, a method has been proposed in which correction ink is discharged from an ink jet head to pinholes such as pinholes and corrected. (See Patent Documents 3 and 4)
However, the method of directly introducing ink to such correction locations not only makes it difficult to accurately introduce ink to minute correction locations, but also controls the spread of ink on the substrate and variations in film thickness. Is difficult. For this reason, it is necessary to perform a trimming (shaping) operation by laser light irradiation after introducing the ink and a partial polishing operation for adjusting the film thickness.

そこで、修正インキをあらかじめフィルム上に加工した感光性着色フィルムを必要部位に熱転写した後、露光/ 現像/ 乾燥させて修正する方法(特許文献5参照)や、修正用着色フィルムの熱転写時にレーザーを用いて部分的に熱圧着する方法(特許文献6参照)など、いわゆるフィルム転写方式による修正方法が用いられている。   Therefore, after the photosensitive colored film in which the correction ink is processed in advance on the film is thermally transferred to the necessary site, exposure / development / drying is performed for correction (see Patent Document 5), or laser is applied during thermal transfer of the correction colored film. A correction method using a so-called film transfer method, such as a method of partially thermocompression using the method (see Patent Document 6), is used.

フィルム転写方式による修正では、あらかじめ修正インキが一定の膜厚に形成されている着色フィルムを用いる事から、修正パターンの膜厚が均一であり、インキを直接修正部に塗布する場合に比べ修正時間の短縮ができる利点がある。   The correction by the film transfer method uses a colored film in which the correction ink is formed in a certain film thickness in advance, so the correction pattern has a uniform film thickness and the correction time is shorter than when ink is applied directly to the correction area. There is an advantage that can be shortened.

しかし、修正フィルムに用いる着色層は、熱溶融または軟化させる必要があり、すでに基板上にパターニングする際に用いた材料と異なる材料を用いる必要があった。   However, the colored layer used for the correction film needs to be melted or softened, and a material different from the material already used for patterning on the substrate has to be used.

さらに、事前に修正フィルムを作る必要があるが、一般に基板のパターニングに用いるインキに対して修正フィルムの使用量はごくわずかな為、高価になりやすく、一度修正フィルムを作ると着色インキの変更を思うようにできない欠点があった。   In addition, it is necessary to make a correction film in advance. Generally, the amount of correction film used is very small compared to the ink used for patterning the substrate, so it tends to be expensive. Once the correction film is made, the color ink can be changed. There was a flaw that I couldn't expect.

また、広範囲の白抜けなどの修正は短時間で行なう事ができるが、パターニングを必要とする修正では、転写時または転写後のパターニング加工(トリミング)が必要であり修正に時間がかかってしまっていた。特に、転写時にレーザー照射を用いてトリミングする
場合、支持基材であるフィルム材料を同時に転写してしまう欠点や、修正フィルムを介して基材を観察し、修正箇所を決める必要があり、修正位置の精度やパターンの連続性を低下させる場合があった。
In addition, a wide range of white spots can be corrected in a short time. However, corrections that require patterning require patterning (trimming) at the time of transfer or after transfer, which takes time. It was. In particular, when trimming using laser irradiation at the time of transfer, it is necessary to determine the correction location by observing the base material through the correction film, the disadvantage of simultaneously transferring the film material as the support base material, and the correction position Accuracy and pattern continuity may be reduced.

以下に公知の文献を記す。
特開平05−72528号公報 特開平08−182949号公報 特開平11−271752号公報 特開2003−66218号公報 特開平05−210009号公報 特開平11−230861号公報
Known documents are described below.
JP 05-72528 A JP 08-182949 A Japanese Patent Laid-Open No. 11-271752 JP 2003-66218 A Japanese Patent Laid-Open No. 05-210009 Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-232081

本発明の課題は、従来のフィルム転写方式を用いたパターン修正方法の不具合を解決し、パターン修正部の正確な位置決めや修正フィルムの転写後のパターニングを必要としない高精度なパターン修正方法およびパターン修正装置を提供するものである。   An object of the present invention is to solve the problems of a pattern correction method using a conventional film transfer method, and to perform a high-accuracy pattern correction method and pattern that do not require accurate positioning of the pattern correction portion or patterning after transfer of the correction film A correction device is provided.

本発明において上記課題を達成する為に、まず請求項1の発明では、すでにパターンが施された基板のパターン欠陥部にインキを転写して修正するパターン修正方法において、インキ剥離性フィルム上にパターニングした予備乾燥インキ膜を基板上パターン欠陥部に加圧転写して修正することを特徴とするパターン修正方法としたものである。   In order to achieve the above object in the present invention, first, in the invention of claim 1, patterning is performed on an ink-releasable film in a pattern correction method in which ink is transferred to a pattern defect portion of a substrate that has already been patterned. The preliminarily dried ink film is subjected to pressure transfer to a pattern defect portion on the substrate to correct the pattern.

また請求項2の発明では、前記インキ剥離性フィルム上にパターニングした予備乾燥インキ膜を得る方法として、インキ剥離性フィルム上に修正用インキを塗布し、予備乾燥状態にしてから、必要とするパターンを凹部とする版を接触させ、余分なパターン部を版凸部へ転移させることで、インキ剥離性フィルム上にパターニングされた予備乾燥インキ膜を得ることを特徴とする請求項1記載のパターン修正方法としたものである。   In the invention of claim 2, as a method for obtaining a pre-dried ink film patterned on the ink peelable film, a correction ink is applied on the ink peelable film to obtain a pre-dried pattern, and then a required pattern is obtained. 2. The pattern correction according to claim 1, wherein a pre-dried ink film patterned on the ink-releasable film is obtained by bringing a plate having a concave portion into contact and transferring an excess pattern portion to the plate convex portion. It is a method.

つぎに、請求項3の発明では、前記インキ剥離性フィルムとして、透明フィルム基材表面に離形層を設けた離形フィルムを用いることを特徴とする請求項1または2記載のパターン修正方法としたものである。   Next, in the invention of claim 3, the pattern correcting method according to claim 1 or 2, wherein a release film having a release layer provided on the surface of a transparent film substrate is used as the ink peelable film. It is a thing.

また、請求項4の発明では、前記パターニングが施された基板のパターン欠陥部に、予備乾燥インキ膜をパターニングしたインキ剥離性フィルムを平行に合わせ、光学手段を用いて前記インキ剥離性フィルム側から観測しながら、予備乾燥インキ膜のパターンと基板のパターン欠陥部の位置合わせを行うことを特徴とする請求項1乃至3何れかに記載のパターン修正方法としたものである。   Moreover, in invention of Claim 4, the ink-peelable film which patterned the preliminary | backup dry ink film was matched in parallel with the pattern defect part of the board | substrate with which the said patterning was performed, and the said ink-peelable film side is used using an optical means. 4. The pattern correction method according to claim 1, wherein the pattern of the preliminary dried ink film and the pattern defect portion of the substrate are aligned while observing.

また、請求項5の発明では、パターニングが施された基板のパターン欠陥部に、インキ剥離性フィルム上にパターニングしたインキ膜を転写して修正を行うパターン修正装置であって、表面の観察やレーザー照射による不要パターンの除去、または転写時の加圧等を行う転写・観察プローブ、該転写・観察プローブ下部へ前記インキ剥離性フィルムを連続的に供給するフィルム搬送系、インキ剥離性フィルムへインキを塗布する塗工ヘッド、インキ剥離性フィルム上の予備乾燥膜を版によってパターニングするパターン除去部を搭載したことを特徴とするパターン修正装置としたものである。   According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a pattern correcting apparatus for correcting an image by transferring an ink film patterned on an ink peelable film to a pattern defect portion of a substrate subjected to patterning. Transfer / observation probe that removes unnecessary patterns by irradiation or pressurization during transfer, a film transport system that continuously supplies the ink peelable film to the lower part of the transfer / observation probe, and ink to the ink peelable film A pattern correcting apparatus is provided, which is equipped with a coating head to be applied and a pattern removing unit for patterning a pre-dried film on the ink peelable film with a plate.

さらに、請求項6の発明では、前記パターニングが施された基板はフラットパネルディスプレイ向けのカラーフィルターであることを特徴とする請求項1乃至4何れかに記載の
パターン修正方法としたものである。
Further, according to a sixth aspect of the invention, there is provided the pattern correcting method according to any one of the first to fourth aspects, wherein the patterned substrate is a color filter for a flat panel display.

さらに、請求項7の発明では、前記パターニングが施された基板はフラットパネルディスプレイ向けのカラーフィルターであることを特徴とする請求項5記載のパターン修正装置としたものである。   Further, according to a seventh aspect of the invention, there is provided the pattern correcting apparatus according to the fifth aspect, wherein the substrate on which the patterning has been performed is a color filter for a flat panel display.

本発明によれば、すでにパターンが施された基板のパターン欠陥部にインキを転写して修正するパターン修正方法において、インキ剥離性フィルム上にパターニングした予備乾燥インキ膜を基板上パターン欠陥部に加圧転写して修正する。したがって、直接修正インキを用いる方法に比べて、修正後のパターン膜厚を均一にできる為、局所的な研磨加工を必要とせず、すでにパターン化されたインキ膜を転写する為、レーザーによるトリミング加工が不要となり、修正に要する時間やコストを低減することができる高精度なパターン修正方法である。   According to the present invention, in a pattern correction method in which ink is transferred to a pattern defect portion of a substrate on which a pattern has already been applied, a pre-dried ink film patterned on the ink peelable film is added to the pattern defect portion on the substrate. Correct by pressure transfer. Therefore, compared with the method using direct correction ink, the pattern film thickness after correction can be made uniform, so there is no need for local polishing, and the already patterned ink film is transferred. Is a highly accurate pattern correction method that can reduce the time and cost required for correction.

また本発明では、前記インキ剥離性フィルム上にパターニングした予備乾燥インキ膜を得る方法として、インキ剥離性フィルム上に修正用インキを塗布し、予備乾燥状態にしてから、必要とするパターンを凹部とする版を接触させ、余分なパターン部を版凸部へ転移させる。したがって、10μm幅程度の精密なパターニングを可能とするばかりでなく、修正用テープをあらかじめ作製しておく方式と比較すると、必要な量だけ修正用インクを使用することができ、修正するパターンに応じて塗工するインクまたは塗工ヘッドを切り替えることができるため、修正用テープの取替えや、修正テープ毎の搬送系を搭載する必要がなく、修正に要する時間やコストを低減することができる高精度なパターン修正方法である。   In the present invention, as a method for obtaining a pre-dried ink film patterned on the ink-peelable film, a correction ink is applied on the ink-peelable film and brought into a pre-dried state. The plate to be touched is brought into contact, and the excess pattern portion is transferred to the plate convex portion. Therefore, in addition to enabling precise patterning of about 10 μm width, it is possible to use only the required amount of correction ink compared to the method in which the correction tape is prepared in advance, and according to the pattern to be corrected. The ink or coating head to be applied can be switched, so there is no need to replace the correction tape or to install a transport system for each correction tape, and the accuracy and time required for correction can be reduced. Pattern correction method.

つぎに、本発明では前記インキ剥離性フィルムとして、透明フィルム基材表面に離形層を設けた離形フィルムを用いることで、安価なパターン修正方法とすることができる。   Next, in this invention, it can be set as an inexpensive pattern correction method by using the release film which provided the release layer on the transparent film base-material surface as said ink peelable film.

また、本発明では、前記パターニングが施された基板のパターン欠陥部に、予備乾燥インキ膜をパターニングしたインキ剥離性フィルムを平行に合わせ、光学手段を用いて前記インキ剥離性フィルム側から観測しながら、予備乾燥インキ膜のパターンと基板のパターン欠陥部の位置合わせを行うことで、微細なパターンや広範囲なパターンの修正を精度良く行うことが可能となる高精度なパターン修正方法である。   In the present invention, an ink peelable film obtained by patterning a pre-dried ink film is aligned in parallel with the pattern defect portion of the substrate subjected to the patterning, while observing from the ink peelable film side using optical means. This is a high-accuracy pattern correction method capable of accurately correcting a fine pattern or a wide range of patterns by aligning the pattern of the pre-dried ink film and the pattern defect portion of the substrate.

また本発明では、パターニングが施された基板のパターン欠陥部に、インキ剥離性フィルム上にパターニングしたインキ膜を転写して修正を行うパターン修正装置として、表面の観察やレーザー照射による不要パターンの除去、または転写時の加圧等を行う転写・観察プローブ、該転写・観察プローブ下部へ前記インキ剥離性フィルムを連続的に供給するフィルム搬送系、インキ剥離性フィルムへインキを塗布する塗工ヘッド、インキ剥離性フィルム上の予備乾燥膜を版によってパターニングするパターン除去部を搭載した事で、従来のパターン修正装置と比較し、安価で修正にかかる時間が少なく、精度の良いパターン修正装置を提供する事が可能となった。   Also, in the present invention, as a pattern correction apparatus for correcting the pattern by transferring the patterned ink film on the ink peelable film to the pattern defect portion of the patterned substrate, the unnecessary pattern removal by surface observation or laser irradiation is performed. Or a transfer / observation probe for applying pressure during transfer, a film transport system for continuously supplying the ink peelable film to the lower part of the transfer / observation probe, a coating head for applying ink to the ink peelable film, Equipped with a pattern removal unit that patterns the pre-dried film on the ink-peelable film with a plate, providing a highly accurate pattern correction device that is less expensive and less time consuming to correct than conventional pattern correction devices. Things became possible.

さらに本発明では、前記パターニングが施された基板はフラットパネルディスプレイ向けのカラーフィルターであることで、カラーフィルター製造の歩留まり向上やコスト削減を実現する事ができる。   Furthermore, in the present invention, the patterned substrate is a color filter for a flat panel display, so that it is possible to improve the yield of manufacturing color filters and reduce costs.

以下に、本発明によるパターン修正方法およびパターン修正装置を、実施形態に基づいて図1〜2を参照して説明する。   Below, the pattern correction method and pattern correction apparatus by this invention are demonstrated with reference to FIGS. 1-2 based on embodiment.

図1は、本発明の一実施形態であるパターン修正装置の概略図である。   FIG. 1 is a schematic diagram of a pattern correction apparatus according to an embodiment of the present invention.

本発明に用いるインキ剥離性フィルム107は、プラスチック等の可撓性基材に加工し、用いることが可能である。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルサルフォン、シクロオレフィンポリマー、ポリイミド、ナイロン、アラミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリ塩化ビニル、トリアセチルセルロースなどのフィルム、シートを用いることができる。さらに光透過性の基材を用いることにより、パターンの重ね合わせ時にアライメントを容易とすることができる。これら可撓性基材は長尺の巻き取りロールで供給され、インキ剥離性フィルム107へ加工された後、修正パターンの大きさに応じて0.5mm〜2mmの幅にスリットして使用する。   The ink peelable film 107 used in the present invention can be processed into a flexible base material such as plastic and used. For example, films and sheets of polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyether sulfone, cycloolefin polymer, polyimide, nylon, aramid, polycarbonate, polymethyl methacrylate, polyvinyl chloride, triacetyl cellulose, and the like can be used. Further, by using a light-transmitting substrate, alignment can be facilitated during pattern superposition. These flexible base materials are supplied by a long winding roll, processed into an ink peelable film 107, and then slit to a width of 0.5 mm to 2 mm depending on the size of the correction pattern.

また、スリットされたインキ剥離性フィルムの一部へインキを塗工する際に、端面から裏側へインキが移行してしまう不具合がどうしても起き易い為、あらかじめ25μm〜50μm厚のPPまたはPET等の保護フィルムを粘着層を介して裏面にラミネート加工しておき、インキ塗工後に保護フィルムを剥がして使用することが好ましい。   In addition, when applying ink to a part of the slit ink peelable film, the problem that the ink migrates from the end face to the back side is apt to occur, so protection of PP or PET having a thickness of 25 to 50 μm in advance is possible. It is preferable that the film is laminated on the back surface through an adhesive layer, and the protective film is peeled off after ink coating.

本発明に用いるインキ剥離性のフィルム基材107は、上記基材へシリコーンオイル、シリコーンワニスで代表される離型剤を塗っても良いし、あるいはシリコーンゴムの薄膜層を形成してもよい。また同じ目的でフッ素系樹脂、フッ素系ゴムも利用されうるし、フッ素樹脂微粉末をシリコーンゴムあるいは、普通のゴムに混ぜて剥離性を出すなどの使い方をしてもよい。これらシリコーン系の塗膜は通常フィルム基材との密着が低いが、熱硬化または紫外線硬化性のアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、最表面に設けるシリコーン層に対して、より基材との接着性の高い樹脂層を、アンカー層としてあらかじめフィルム基材上に設け、その上層に設けることもできる。   The ink-peelable film substrate 107 used in the present invention may be coated with a release agent represented by silicone oil or silicone varnish, or may form a thin film layer of silicone rubber. Also, for the same purpose, a fluororesin and a fluororubber can be used, or the fluororesin fine powder may be mixed with silicone rubber or ordinary rubber to give a peelability. These silicone-based coatings usually have low adhesion to the film substrate, but are more adhesive to the substrate with respect to thermosetting or UV-curable acrylic resins, epoxy resins, and silicone layers on the outermost surface. It is also possible to provide a high resin layer as an anchor layer on the film substrate in advance and to provide it as an upper layer.

いずれも適度のインキ受容性を有すると同時に、一度受容したインキの完全なインキ剥離性を有することが望ましい。   It is desirable that both of them have an appropriate ink receptivity and at the same time have a complete ink peelability of the ink once received.

具体的なシリコーンとしては、ジメチルポリシロキサンの各種分子量のもの、その他メチルハイドロジエンポリシロキサン、メチルフェニルシリコーンオイル、メチル塩素化フェニルシリコーンオイル、あるいはこれらポリシロキサンと有機化合物との共重合体など、変成したものを用いることができる。   Specific silicones include dimethylpolysiloxanes with various molecular weights, other methylhydropolysiloxanes, methylphenylsilicone oils, methylchlorinated phenylsilicone oils, or copolymers of these polysiloxanes with organic compounds. Can be used.

シリコーンゴムとしては、二液型のジオルガノポリシロキサンと架橋剤としての三官能性以上のシラン、またはシロキサン及び硬化触媒を組み合わせたもの、あるいは一液型ではジオルガノポリシロキサンとアセトンオキシム、各種メトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等の組み合わせなどが用いられ、その他ゴム硬度を調節するためのポリシロキサンが適宜用いられる。   Silicone rubber is a combination of two-component diorganopolysiloxane and a tri- or higher functional silane as a crosslinking agent, or a combination of siloxane and a curing catalyst, or one-component diorganopolysiloxane, acetone oxime, and various methoxys. Combinations of silane, methyltriacetoxysilane, and the like are used, and other polysiloxanes for adjusting rubber hardness are appropriately used.

また、本発明に用いるインキ剥離性フィルム107として、上記基材に無機膜を設けた後、シランカップリング剤による表面処理を施したものを用いることもできる。   In addition, as the ink peelable film 107 used in the present invention, a film obtained by providing an inorganic film on the substrate and then performing a surface treatment with a silane coupling agent can be used.

シランカップリング剤としては、トリメトキシシラン類、トリエトキシシラン類などを用いることができる。このシランカップリング剤の一部位は、ビニル基、エポキシ基、アミノ基、メタクリル基、メルカプト基などの有機化合物との反応性基を持つものから選ぶことができ、あるいはアルキル基やその一部にフッ素原子が置換されたものやシロキサンが結合して、表面自由エネルギーの小さな表面を形成できる置換基が結合したものを用いることができる。前者の反応性基を有するシランカップリング剤を用いる場合には、シラ
ンカップリング剤で基材表面を処理した後、所定の表面自由エネルギーになるような他のモノマー成分を塗工して、結合させることができる。反応性基を有するシランカップリング剤としては、ビニルメトキシシラン、ビニルエトキシシラン、p−スチリルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、2−(3、4エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランなどを用いることができ、モノマーとして、スチレン、エチレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチルプロパントリグリシジルエーテル、ラウリルアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートなどを用いることができる。また、反応性基を有さないシランカップリング剤としてはメチルトリメトキシシラン、n−ヘキシルトリメトキシシラン、n−オクチルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシランなどを用いることができる。但し、アルキル基に限定されるものではない。
As the silane coupling agent, trimethoxysilanes, triethoxysilanes, and the like can be used. One part of this silane coupling agent can be selected from those having a reactive group with an organic compound such as a vinyl group, an epoxy group, an amino group, a methacryl group, a mercapto group, or an alkyl group or a part thereof. Those in which fluorine atoms are substituted and those in which siloxane is bonded and bonded to a substituent capable of forming a surface having a small surface free energy can be used. When the former silane coupling agent having a reactive group is used, the surface of the substrate is treated with the silane coupling agent, and then another monomer component is applied so as to obtain a predetermined surface free energy. Can be made. Examples of the silane coupling agent having a reactive group include vinyl methoxy silane, vinyl ethoxy silane, p-styryl trimethoxy silane, 3-glycidoxy propyl trimethoxy silane, 2- (3,4 epoxy cyclohexyl) ethyl trimethoxy silane. , 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, and the like. As monomers, styrene, ethylene glycol diglycidyl ether, trimethylpropane triglycidyl ether, lauryl acrylate, dipentaerythritol hexa Acrylate or the like can be used. As the silane coupling agent having no reactive group, methyltrimethoxysilane, n-hexyltrimethoxysilane, n-octyltrimethoxysilane, dodecyltrimethoxysilane and the like can be used. However, it is not limited to an alkyl group.

上記シランカップリング剤を上記基材に固定化する方法としては、シランカップリング剤を使用した公知の表面処理方法を用いることができる。例えば、シランカップリング剤を水、酢酸水溶液、水−アルコール混合液、あるいはアルコール溶液に希釈させた溶液を調製する。前記溶液を公知の塗工方法であるグラビアコーター、ロールコーター、ダイコーター等を用いて基材表面に塗工し、次いで乾燥させることでシランカップリング剤を固定化できる。また、反応性基を有するシランカップリング剤を用いた場合には、次いで他のモノマー成分を同様に塗工して結合させることができる。   As a method for fixing the silane coupling agent to the substrate, a known surface treatment method using a silane coupling agent can be used. For example, a solution obtained by diluting a silane coupling agent in water, an acetic acid aqueous solution, a water-alcohol mixed solution, or an alcohol solution is prepared. The silane coupling agent can be fixed by coating the solution on the surface of the substrate using a known coating method such as a gravure coater, a roll coater, a die coater, and the like, followed by drying. When a silane coupling agent having a reactive group is used, other monomer components can then be applied and bonded in the same manner.

上記シランカップリング剤を基材上に固定化するためには、あらかじめ基材上にSiO2や、TiO2、ZrO2もしくはこれらの複合膜が設けられていることが好ましい。これら無機酸化膜は既知の蒸着法やスパッタ法を用いて設けたものを用いることができる。 In order to immobilize the silane coupling agent on the substrate, it is preferable that SiO 2 , TiO 2 , ZrO 2 or a composite film thereof is provided on the substrate in advance. As these inorganic oxide films, those provided by using a known vapor deposition method or sputtering method can be used.

また、上記無機酸化膜を設ける方法として、一般式M(OR)nで表される金属アルコキシド(MはSi,Ti,Al,Zrなどの金属、RはCH3,C25などのアルキル基)を水、アルコールの共存下で加水分解反応および縮重合反応させて得られたゲル溶液を表面にコーティング後、加熱することで無機酸化物膜を設ける、いわゆるゾル−ゲル法を用いることができる。 As a method for providing the inorganic oxide film, a metal alkoxide represented by the general formula M (OR) n (M is a metal such as Si, Ti, Al, Zr, R is an alkyl such as CH 3 , C 2 H 5, etc.) It is possible to use a so-called sol-gel method in which an inorganic oxide film is formed by coating a gel solution obtained by hydrolyzing and condensation polymerization in the presence of water and alcohol on the surface and then heating. it can.

さらに、上記ゾル−ゲル法で用いる金属アルコキシド溶液中にあらかじめ上記シランカップリング剤を添加しておくこともできる。この場合、表面性改質に特に効果が得られる。   Furthermore, the silane coupling agent can be added in advance to the metal alkoxide solution used in the sol-gel method. In this case, an effect is particularly obtained for surface property modification.

このようにして得られるインキ剥離性フィルム107に対するインキは、処理面へインキを滴下した際の接触角が、10°以上90°以下となるのが好ましく、より好ましくは20°以上70°以下である。この接触角が小さいと後工程でのインキ剥離性が低下してパターンの欠陥(再現性不良等)が発生しやすくなり、接触角が大きいとインキ液膜を形成する際にハジキが生じて、均一なインキ液膜を形成することが困難になる。   The ink with respect to the ink peelable film 107 thus obtained preferably has a contact angle of 10 ° or more and 90 ° or less, more preferably 20 ° or more and 70 ° or less when the ink is dropped onto the treated surface. is there. If this contact angle is small, ink releasability in the subsequent process is reduced and pattern defects (such as poor reproducibility) are likely to occur. If the contact angle is large, repelling occurs when forming the ink liquid film, It becomes difficult to form a uniform ink liquid film.

パターニングの為の版109としては、無アルカリガラス等の低膨張ガラス表面に感光性樹脂を用いてマスクパターンを形成した後、既存のドライエッチング処理やウエットエッチング処理、もしくはサンドブラスト処理を用いて、2μmから30μmの版深を設けた凸版を用いることができる。   As a plate 109 for patterning, a mask pattern is formed on a surface of a low expansion glass such as an alkali-free glass using a photosensitive resin, and then the existing dry etching process, wet etching process, or sand blasting process is used. A relief plate having a plate depth of 30 μm to 30 μm can be used.

また、版109にはナイロン、アクリル、シリコーン樹脂、スチレン−ジエン共重合体などからなるものを用いることもできる。またエチレン−プロピレン系、ブチル系、ウレタン系ゴムなどのゴム製の版を用いることもできる。このような樹脂製の凸版は、すでに凸版印刷やフレキソ印刷用に用いられており、予め作製した型に所定の樹脂を流し込んで
版とする、あるいは彫刻によっても作製することができるが、感光性樹脂を用いる方法がより高精度のものを作製できる。
The plate 109 may be made of nylon, acrylic, silicone resin, styrene-diene copolymer, or the like. Also, rubber plates such as ethylene-propylene, butyl, and urethane rubbers can be used. Such resin-made relief plates have already been used for relief printing and flexographic printing, and can be produced by pouring a predetermined resin into a previously produced mold or engraving. A method using a resin can be manufactured with higher accuracy.

インキ液膜の材料としては、画像パターン形成材料に溶媒を溶解又は分散させたものを用いることができる。例えば、カラーフィルターにおいて赤色、緑色、青色からなるカラーパターン(着色層)やブラックマトリックス等を本発明の製造方法により形成する場合、顔料成分と樹脂成分を溶媒中に溶解、分散させることによりインキとなる。   As a material for the ink liquid film, a material obtained by dissolving or dispersing a solvent in an image pattern forming material can be used. For example, when a color pattern (colored layer) consisting of red, green, and blue or a black matrix is formed by the production method of the present invention in a color filter, the pigment component and the resin component are dissolved and dispersed in a solvent to form an ink. Become.

顔料には、例えば、赤、緑、青の各色で使用できる顔料として次のものが挙げられる。顔料の種類は、カラーインデックス(C.I.)No.で示す。まず、赤色顔料として、97、122、123、149、168、177、180、192、208、209、215などが、緑色顔料として7、36などが、青色顔料として、15、15:1、15:3、15:6、22、60、64などが挙げられる。墨顔料として、カーボンブラック、チタンブラックなどが挙げられる。また、これら赤、緑及び青顔料の色調整及びインキの流動性を改善するために、次に挙げる顔料を必要量添加することができる。   Examples of the pigment include the following pigments that can be used in red, green, and blue colors. The type of pigment is a color index (CI) No. It shows with. First, 97, 122, 123, 149, 168, 177, 180, 192, 208, 209, 215, etc. as red pigments, 7, 36, etc. as green pigments, 15, 15: 1, 15 as blue pigments. : 3, 15: 6, 22, 60, 64 and the like. Examples of black pigments include carbon black and titanium black. Further, in order to improve the color adjustment of these red, green and blue pigments and the fluidity of the ink, the following pigments can be added in necessary amounts.

赤色、緑色、青色以外にも、例えば、黄顔料として、17、83、109、110、128などが、紫顔料として、19、23などが、白顔料として、18、21、27、28などが、橙顔料として、38、43などが挙げられる。顔料は、単体以外に、顔料を予め分散剤、有機溶剤に分散させた顔料分散体であっても良い。   Besides red, green, and blue, for example, yellow pigments such as 17, 83, 109, 110, and 128, purple pigments such as 19, 23, and white pigments such as 18, 21, 27, and 28, etc. Examples of the orange pigment include 38 and 43. In addition to the simple substance, the pigment may be a pigment dispersion in which the pigment is previously dispersed in a dispersant or an organic solvent.

また、ブラックマトリックスに用いられる黒色顔料としては、カーボンブラックやチタンブラックが単独又は混合して用いられる。   Moreover, as a black pigment used for a black matrix, carbon black or titanium black is used alone or in combination.

樹脂成分には、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂、ベンゾグアナミン系樹脂からなる群から選ばれる1つ以上のものが使用される。溶剤には、エステル系溶剤、アルコール系溶剤、エーテル系溶剤及び炭化水素系溶剤などが使用される。エステル系溶剤として、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エトキシエチルプロピオネート、アルコール系溶剤として、1−ブタノール、3メトキシ−3メチル−1ブタノール、1−ヘキサノール、1,3ブタンジオール、1−ペンタノール、2−メチル1−ブタノール、4−メチル−2−ペンタノール、エーテル系溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールターシャリーブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコールブチルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、炭化水素系溶剤として、ソルベッソ100、ソルベッソ150(製品名エクソン化学社製)などが挙げられる。   As the resin component, one or more selected from the group consisting of polyester resins, acrylic resins, epoxy resins, melamine resins, and benzoguanamine resins are used. As the solvent, an ester solvent, an alcohol solvent, an ether solvent, a hydrocarbon solvent, or the like is used. As ester solvents, propylene glycol monomethyl ether acetate, ethoxyethyl propionate, as alcohol solvents, 1-butanol, 3methoxy-3methyl-1butanol, 1-hexanol, 1,3 butanediol, 1-pentanol, 2-methyl 1-butanol, 4-methyl-2-pentanol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol tertiary butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol butyl ether, ethylene glycol ethyl as ether solvents Ether, ethylene glycol methyl ether, diethylene glycol butyl ether, diethylene glycol ethyl ether, hydrocarbon As agent, Solvesso 100, Solvesso 150 (trade name, manufactured by Exxon Chemical Co., Ltd.) and the like.

さらに分散剤として、非イオン性界面活性剤例えばポリオキシエチレンアルキルエーテル等、イオン性界面活性剤例えばアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ポリ脂肪酸塩、脂肪酸塩アルキルリン酸塩、及びテトラアルキルアンモニウム塩等、その他、有機顔料誘導体、及びポリエステルなどを単独、あるいは二種類以上を混合して使用することができる。   Further, as a dispersant, nonionic surfactant such as polyoxyethylene alkyl ether, ionic surfactant such as sodium alkylbenzene sulfonate, poly fatty acid salt, fatty acid salt alkyl phosphate, tetraalkyl ammonium salt, etc. Organic pigment derivatives and polyesters can be used alone or in admixture of two or more.

また、インキ剥離性フィルム107上への塗工を均一に行う為に、レベリング剤を用いることも可能である。例えばケイ素および/またはフッ素の原子を含む材料例えばフッ素樹脂、及びシリコーン樹脂が使用される。フッ素樹脂系としては、含フッ素モノマーもしくはオリゴマー(低分子化合物)、シリコーン樹脂系としては、含ケイ素モノマーまたはオリゴマー(低分子化合物)を使用することができる。   Further, a leveling agent can be used in order to uniformly coat the ink peelable film 107. For example, materials containing silicon and / or fluorine atoms such as fluororesin and silicone resin are used. A fluorine-containing monomer or oligomer (low molecular compound) can be used as the fluororesin system, and a silicon-containing monomer or oligomer (low molecular compound) can be used as the silicone resin system.

レベリング剤を添加しない場合あるいは少ない場合は、濡れ性の低いインキ剥離性フィルム上でインキが撥いてしまい、多い場合はインキの基材への密着や耐性を確保することが困難になる為、添加量はインキ組成物全重量に対し好ましくは0.01重量%〜5重量%、より好ましくは0.05重量%〜2重量%である。   If the leveling agent is not added or is low, the ink will repel on the ink-peeling film with low wettability, and if it is high, it will be difficult to ensure adhesion and resistance of the ink to the substrate. The amount is preferably 0.01% to 5% by weight, more preferably 0.05% to 2% by weight, based on the total weight of the ink composition.

インキ剥離性フィルム107上へインキ液膜を形成するために、既存のコーティング方法から選択して使用することができるが、インキ液膜を予備乾燥した膜厚が0.5μm〜3μmとなるのが好ましい。インキ液膜がこの範囲より薄いと、乾燥が進行してしまい易く、インキ剥離性フィルムから剥がれ易くなりすぎてしまう。一方インキ液膜の膜厚が高いと乾燥しにくくなり、表面に膜が張るなどの不具合が生じ、乾燥ムラが起き易くなるなど均一なパターニングが困難になってしまう。   In order to form an ink liquid film on the ink peelable film 107, it can be used by selecting from existing coating methods, but the film thickness obtained by pre-drying the ink liquid film is 0.5 μm to 3 μm. preferable. If the ink liquid film is thinner than this range, drying tends to proceed and the ink peelable film is easily peeled off. On the other hand, when the film thickness of the ink liquid film is high, drying becomes difficult and problems such as the film being stretched on the surface occur, and uniform patterning becomes difficult, for example, drying unevenness easily occurs.

インキ剥離性フィルム107上へインキ液膜を形成した後に、前記インキ液膜を予備乾燥するが、この予備乾燥は自然乾燥させるのが簡単な方法である。しかし、冷風もしくは温風乾燥、マイクロ波、減圧乾燥などを用いることも可能である。また、紫外線、電子線などの放射線を用いることもできる。   After the ink liquid film is formed on the ink peelable film 107, the ink liquid film is preliminarily dried. This predrying is a simple method of natural drying. However, it is also possible to use cold air or hot air drying, microwave, reduced pressure drying, or the like. In addition, radiation such as ultraviolet rays and electron beams can be used.

この予備乾燥では、インキ液膜の粘度またはチキソトロピー性、脆性を上げることを目的とする。予備乾燥による乾燥が不十分な場合は、後工程の凸版を押し当て剥離する際に、インキ液膜が断裂して不良が発生してしまう。逆に乾燥が行き過ぎた場合は、インキ膜表面のタック性が無くなり、前記凸版にインキが転写されない。そのため、使用するインキの組成によって乾燥状態を乾燥時間や雰囲気温度により調節するが、乾燥したインキ膜に対して0.5%から5%の溶剤の残留が認められる状態が好ましい。   The purpose of this preliminary drying is to increase the viscosity, thixotropy and brittleness of the ink liquid film. When the drying by preliminary drying is insufficient, the ink liquid film is torn and a defect occurs when the relief printing plate in the subsequent process is pressed and peeled off. On the other hand, when the drying is excessive, the tackiness of the ink film surface is lost, and the ink is not transferred to the letterpress. Therefore, although the drying state is adjusted by the drying time and the atmospheric temperature depending on the composition of the ink to be used, a state in which 0.5 to 5% of solvent remains in the dried ink film is preferable.

いわゆるドライフィルムといわれるppmオーダーの溶剤残留量では乾燥が行き過ぎであり、インキが転写されない不具合や、版の押し付けによりインキ膜が部分的に剥離してゴミの原因になったりする不具合があるため、予備乾燥インキ膜の条件として適さない。   Since the residual amount of solvent on the order of ppm called so-called dry film is too dry, there is a problem that the ink is not transferred and there is a problem that the ink film partially peels due to pressing of the plate and causes dust. Not suitable for pre-drying ink film conditions.

以下に、これら材料を用いて精密パターンの転写を実施するためのパターン修正装置について説明する。   Below, the pattern correction apparatus for implementing the transfer of a precise pattern using these materials is demonstrated.

転写・観察プローブ100は、レンズ、ミラー等の光学系に、修正箇所観察やレーザーリペアの為のCCD観察部104、光源・レーザー光源導入部105から構成され、さらにパターン転写の為の転写ヘッド101を組み込んだ修正用のプローブである。   The transfer / observation probe 100 includes an optical system such as a lens and a mirror, a CCD observation unit 104 for observation of correction points and laser repair, a light source / laser light source introduction unit 105, and a transfer head 101 for pattern transfer. This is a correction probe that incorporates.

CCD(Charge Coupled Device)観察部104は、転写・観察プローブへ導入され、基材115表面で反射された光や、基材115からの透過光を、対物レンズやハーフミラーを介して転写・観察プローブ100に組み込まれたCCD素子を用いて観察するものであり、入射光に基づいて画像を検出するものであればよく、CCD素子搭載回路をパーソナルコンピュータやモニターに接続してパターン欠陥部の位置の確認、表面観察に用いる。   A CCD (Charge Coupled Device) observation unit 104 is introduced into a transfer / observation probe and transfers / observes light reflected from the surface of the base material 115 or transmitted light from the base material 115 via an objective lens or a half mirror. Observation is performed using a CCD element incorporated in the probe 100, and any apparatus can be used as long as it can detect an image based on incident light. The CCD element mounting circuit is connected to a personal computer or a monitor to detect the position of the pattern defect portion. Used for confirmation and surface observation.

また、光源・レーザー光源導入部より転写・観察プローブ100に導入し、基材115表面へ照射するレーザー光は、異物やパターン欠陥部を除去するために、波長の短い近可視域から紫外域のレーザー光を用いる。レーザー照射の大きさは、スリット板を用いて変更でき、30μm〜100μm径で形状は正方形、長方形、平行四辺形などを用いることができる。   In addition, the laser light introduced into the transfer / observation probe 100 from the light source / laser light source introduction portion and irradiated onto the surface of the base material 115 is used to remove foreign matter and pattern defect portions from a near-visible region having a short wavelength to an ultraviolet region. Use laser light. The size of the laser irradiation can be changed using a slit plate, and the shape can be a square, a rectangle, a parallelogram, etc. with a diameter of 30 μm to 100 μm.

この転写・観察プローブ100は、XYΘステージ116上に保持されるが、転写・観察プローブ100自身へX軸方向もしくはX軸Y軸方向への移動手段を持たせ、基板上で
動かしても良く、光学系による観察の為の焦点合わせのため高さ方向への動作を可能とする。
The transfer / observation probe 100 is held on the XYΘ stage 116. However, the transfer / observation probe 100 itself may have a moving means in the X-axis direction or the X-axis / Y-axis direction and may be moved on the substrate. Operation in the height direction is possible for focusing for observation by an optical system.

さらに、例えばレーザーリペア時や大まかに修正箇所を探す場合には、インキ剥離性フィルム107が観察視界から外れるような位置に観察プローブ100やインキ剥離性フィルム107の搬送系を移動させるのが好ましい。   Further, for example, when a laser repair is performed or when a roughly corrected portion is searched, it is preferable to move the observation probe 100 or the transport system of the ink peelable film 107 to a position where the ink peelable film 107 is out of the observation view.

転写ヘッド101は、ヘッド駆動部103及び加圧板102から構成され、ヘッド駆動部103により加圧板102をインキ剥離性フィルム107に押し付ける事で、インキ剥離性フィルム基材上に形成された修正パターン113を基板115上に転写する。   The transfer head 101 is composed of a head drive unit 103 and a pressure plate 102, and the correction pattern 113 formed on the ink peelable film substrate by pressing the pressure plate 102 against the ink peelable film 107 by the head drive unit 103. Is transferred onto the substrate 115.

加圧板102は、透明プラスチック樹脂、ガラス等の透明な材料であり加圧時の割れなどが無く、転写ヘッドに保持でき、修正箇所の観察に支障がなければ一般に入手できる素材を用いる事ができるが、好ましくは透明なシリコーン樹脂による成型体を用いる。   The pressure plate 102 is a transparent material such as transparent plastic resin or glass, and is free from cracks during pressure, can be held on the transfer head, and can be made of a publicly available material if there is no problem in observing the corrected portion. However, a molded body made of a transparent silicone resin is preferably used.

巻き出し部106、及び巻き取り部117は、スリット加工されたインキ剥離性フィルム107の巻き取りロールから順にフィルムを送り出し、使用後巻き取るために設置される。それぞれ巻き取りロールで供給される原反を設置または、巻き取るため直径3cmから20cm巻き取りを装着できるマウンターと、軸となるシリンダー、回転やテンションを制御してフィルム基材を搬送するためのモーターやテンションを制御する為のブレーキを備える。   The unwinding unit 106 and the winding unit 117 are installed in order to sequentially feed the film from the winding roll of the ink-peelable film 107 that has been slit, and to wind it up after use. A mounter that can be equipped with a take-up roll of 3 to 20 cm in diameter to install or take up the raw material that is supplied by a take-up roll, a cylinder that serves as a shaft, and a motor that controls the rotation and tension to transport the film substrate And a brake for controlling the tension.

本発明においては、インキの粘度や溶媒の乾燥性によって公知の塗工方法に応じた塗工方法を用いることができる。例えばディッピング法、ロールコート、グラビアコート、リバースコート、エアナイフコート、コンマコート、ダイコート、スクリーン、スプレーコート、グラビアオフセット、インクジェット等が挙げられる。中でも、ダイコート、キャップコート、ロールコート、アプリケータ、インクジェットは均一なインキ液膜を形成することができ、さらにその中でも細くスリット加工された搬送フィルム基材上へ形成する場合は、装置が簡素であり高い粘度のインクも塗布することができ、膜厚の均一性が高いダイコートが最も効率的で好適な形成方法である。   In this invention, the coating method according to the well-known coating method can be used with the viscosity of an ink, or the drying property of a solvent. For example, dipping method, roll coating, gravure coating, reverse coating, air knife coating, comma coating, die coating, screen, spray coating, gravure offset, ink jet and the like can be mentioned. Above all, die coating, cap coating, roll coating, applicator, and inkjet can form a uniform ink liquid film, and among them, the device is simple when forming on a thin slit transport film substrate. A high-viscosity ink can be applied, and a die coat having a high film thickness uniformity is the most efficient and preferred forming method.

塗工ヘッド108は、あらかじめインキ剥離性フィルム107とのギャップを設定しておくことができ塗布時に最適な塗工位置に保持する。ダイコーターを用いる場合、このギャップとインキ剥離性フィルム107の搬送速度や修正インクの固形分比や吐出量によって膜厚の制御を行う。   The coating head 108 can set a gap with the ink peelable film 107 in advance, and holds it at an optimal coating position during coating. In the case of using a die coater, the film thickness is controlled according to the transport speed of the gap and the ink peelable film 107, the solid content ratio of the correction ink, and the discharge amount.

版マウンター110は、版109を吸着固定するための吸着孔を持ち、減圧吸着により保持する。また、インキ剥離性フィルム107上に得られた予備乾燥インキ膜112へ押し付け、引き離しを行うための駆動やエアー圧による押し圧の調整が可能な機構を有する。   The plate mounter 110 has an adsorption hole for adsorbing and fixing the plate 109 and holds it by vacuum adsorption. In addition, it has a mechanism that can be pressed against the pre-dried ink film 112 obtained on the ink peelable film 107 and adjusted for driving and air pressure to perform separation.

XYΘステージ116は、ボールねじやリニアモーター等で駆動するものを用いることができ、金属製、石製などのものを用いることができるが、少なくとも水平を保ったまま往復運動や回転を制御できる物を用いる。また、基板115を減圧により吸着固定できるが、吸着による表面の凹凸を防ぐためにフィルムのエッジ付近のみ吸着孔を設ける方法や、多孔質性材料を用いた吸着表面を用いる方法を選択することができる。   The XYΘ stage 116 can be driven by a ball screw, a linear motor, or the like, and can be made of metal or stone, but can control reciprocating motion and rotation while maintaining at least the level. Is used. Although the substrate 115 can be adsorbed and fixed by reducing the pressure, a method of providing an adsorption hole only in the vicinity of the edge of the film or a method of using an adsorption surface using a porous material can be selected to prevent unevenness of the surface due to adsorption. .

さらに上記材料やパターン修正装置を用いて精密パターンの転写を実施するための手順について説明する。   Further, a procedure for transferring a precise pattern using the material and the pattern correction apparatus will be described.

まず、図2(a)に示すように、インキ剥離性フィルム107を巻き出し部106より巻き出し、搬送させ、コーターヘッド108でインキ剥離性フィルム107の一定部分へ修正インキを塗工し、室温で数分間放置することにより予備乾燥インキ膜112を得る。(図2(b))
次に、保護フィルムを剥いだ後、予備乾燥インキ膜112を転写ステージ111上に搬送する。(図2(c))
その後、版マウンター110に固定された版109を転写ステージ111上のインキ剥離性フィルム107へ押し付け(図2(d))、版109をインキ剥離性フィルム107から剥がすことにより、インキ剥離性フィルム107上に修正用パターン113を得る。(図2(e))
自動で、あるいは転写・観察プローブ100に設けられた光学系やCCD観察部104を用い観察しながら修正パターン113が転写ヘッド101の直下にくるように、インキ剥離性フィルム107を搬送し(図2(f))、XYΘステージ116上に吸着固定された基材115の既存パターン114と、インキ剥離性フィルム107上の修正パターン113を同時に観察しながら、XYΘステージ116の位置調整を行い、修正位置を決定する。(図2(g))
なお、修正する既存パターン114中のパターン欠陥部が異物付着による欠陥であった場合や、パターン欠陥部と修正パターン113の形状が合致しない場合は、転写ヘッド101からのレーザー照射を行い、異物の除去や欠陥部形状の規格化を行っておく必要がある。
First, as shown in FIG. 2 (a), the ink peelable film 107 is unwound from the unwinding portion 106 and conveyed, and the correction ink is applied to a certain portion of the ink peelable film 107 by the coater head 108, The pre-dried ink film 112 is obtained by allowing it to stand for several minutes. (Fig. 2 (b))
Next, after peeling off the protective film, the pre-dried ink film 112 is conveyed onto the transfer stage 111. (Fig. 2 (c))
Thereafter, the plate 109 fixed to the plate mounter 110 is pressed against the ink peelable film 107 on the transfer stage 111 (FIG. 2D), and the plate 109 is peeled off from the ink peelable film 107, whereby the ink peelable film 107 is removed. The correction pattern 113 is obtained above. (Fig. 2 (e))
The ink peelable film 107 is conveyed so that the correction pattern 113 comes directly under the transfer head 101 while observing automatically or using an optical system provided in the transfer / observation probe 100 or the CCD observation unit 104 (FIG. 2). (F)) While simultaneously observing the existing pattern 114 of the base material 115 adsorbed and fixed on the XYΘ stage 116 and the correction pattern 113 on the ink peelable film 107, the position of the XYΘ stage 116 is adjusted and the correction position is adjusted. To decide. (Fig. 2 (g))
If the pattern defect in the existing pattern 114 to be corrected is a defect due to adhesion of foreign matter, or if the pattern defect and the shape of the correction pattern 113 do not match, laser irradiation from the transfer head 101 is performed to It is necessary to standardize removal and defect shape.

転写ヘッド101に設けられた加圧版102を、ヘッド駆動部103を動作させてインキ剥離性フィルム107に押し付けた後、ヘッド駆動部を戻すことで、修正パターン113を既存パターン114中の修正箇所へ転写を行う。   The pressing plate 102 provided on the transfer head 101 is pressed against the ink peelable film 107 by operating the head driving unit 103 and then the head driving unit is returned, whereby the correction pattern 113 is corrected in the existing pattern 114. Transfer to

必要により、修正した基板115をオーブンなどの加熱手段を用いて加熱、または修正箇所のみにIRヒーターなどの局所的な加熱手段を用いて、修正パターン113の硬化を促進させパターン修正を完了する。   If necessary, the corrected substrate 115 is heated using a heating means such as an oven, or a local heating means such as an IR heater is used only at the correction portion to promote the curing of the correction pattern 113 and the pattern correction is completed.

[修正インキの調整]
メタクリル酸20部、メチルメタクリレート10部、ブチルメタクリレート55部、ヒドロキシエチルメタクリレート15部を、乳酸ブチル300部に溶解し、窒素雰囲気下でアゾビスイソブチルニトリル0.75部を加えて70℃にて5時間の反応によりアクリル共重合樹脂を得た。アクリル共重合樹脂を樹脂濃度が10%になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMAC)で希釈し、アクリル共重合樹脂液とした。このアクリル共重合樹脂液80.1gに対し、RGB用顔料を各19.0g及びカーボンブラックを35.0g、分散剤0.9gを添加し、3本ロールにて混練し、R,G、B、Bkの各着色ペーストを得た。さらにこれら着色ペーストにPGME、を加え、顔料濃度が12〜15%(RGB)、または23〜35%(BK)になるよう調整し、レベリング剤としてメガファックF−483SF(大日本インキ化学工業社製)を0.2%重量部添加し各修正インキを作製した。
[Adjustment of correction ink]
20 parts of methacrylic acid, 10 parts of methyl methacrylate, 55 parts of butyl methacrylate, and 15 parts of hydroxyethyl methacrylate are dissolved in 300 parts of butyl lactate, and 0.75 part of azobisisobutylnitrile is added under a nitrogen atmosphere, and 5 parts at 70 ° C. An acrylic copolymer resin was obtained by reaction over time. The acrylic copolymer resin was diluted with propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMAC) so as to have a resin concentration of 10% to obtain an acrylic copolymer resin liquid. To the acrylic copolymer resin liquid 80.1 g, 19.0 g of RGB pigment, 35.0 g of carbon black, and 0.9 g of a dispersant were added and kneaded with three rolls to obtain R, G, B , Bk colored pastes were obtained. Furthermore, PGME is added to these colored pastes, and the pigment concentration is adjusted to 12 to 15% (RGB) or 23 to 35% (BK), and Megafac F-483SF (Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) is used as a leveling agent. 0.2% by weight was added to prepare each correction ink.

[その他修正用部材]
インキ剥離性フィルムとして、基材厚約120μmのシリコーン系離形ポリエステルフィルム:K1504(東洋紡績社製)を300mm幅、100mのロール状で用意し、シリコーン加工面の裏面に微粘着剤加工済み保護フィルムをラミネート加工した後、段階的にスリット加工し、2mm幅20mの巻取りロールを得た。
[Other correction materials]
As an ink-removable film, a silicone-based release polyester film with a substrate thickness of about 120 μm: K1504 (manufactured by Toyobo Co., Ltd.) is prepared in a roll shape with a width of 300 mm and a thickness of 100 m. After laminating the film, it was slit-processed stepwise to obtain a winding roll having a width of 2 mm and a width of 20 m.

Bk用版として、3.0cm角の0.7mm厚透明ガラスを用い、線幅20μm、40
μm角に収まる十字マークを、RGB用版として、40μm角のパターンをそれぞれ、5μmの深さにエッチングを行いパターンを用意した。
As the Bk plate, a 3.0 cm square 0.7 mm thick transparent glass was used, and the line width was 20 μm,
A cross mark that fits in a μm square was used as an RGB plate, and a 40 μm square pattern was etched to a depth of 5 μm to prepare a pattern.

[カラーフィルターの修正]
作製した修正インキと同等の顔料を使用し、顔料分散方式で製造されたカラーフィルターを使用して修正を行った。
[Correction of color filter]
Correction was performed using a color filter manufactured by a pigment dispersion method using a pigment equivalent to the prepared correction ink.

光学検査装置で位置データーを取得した遮光層、またはR,G,Bの着色層の異物欠陥に、第3高調波YAGレーザー光(355nm、2mJ/パルス、HOYA製)を照射して、異物欠陥の除去と、40μm角のピンホールを作成した。   Irradiate foreign matter defects in the light-shielding layer or the R, G, and B colored layers that have acquired position data with an optical inspection device by irradiating the third harmonic YAG laser light (355 nm, 2 mJ / pulse, manufactured by HOYA). And a 40 μm square pinhole was created.

作成したインキをダイコーターで膜厚1.2μmになるように幅2mmのインキ剥離性フィルムへ1cm塗工し、300秒室温で放置し、予備乾燥インキ膜を得た。   The prepared ink was applied to a 2 mm wide ink peelable film with a die coater so as to have a film thickness of 1.2 μm, and allowed to stand at room temperature for 300 seconds to obtain a pre-dried ink film.

インキ剥離性フィルムの裏に設けた保護フィルムを剥がした後、予備乾燥インキ膜を転写ステージまで搬送した。   After the protective film provided on the back of the ink peelable film was peeled off, the pre-dried ink film was conveyed to the transfer stage.

マウンターに保持した版を予備乾燥インキ膜が収まるように接触させ、垂直に引き剥がし、インキ剥離性フィルム上に修正パターンを得た。   The plate held on the mounter was brought into contact with the pre-dried ink film and peeled off vertically to obtain a correction pattern on the ink peelable film.

XYΘステージ上に固定されたカラーフィルタ基板に対抗するようにインキ剥離性フィルムを搬送し、XYΘステージを動かして大まかに修正位置と、インキ剥離性フィルム上の修正パターン、転写・観察プローブをそれぞれ対向する位置に保持した。   The ink peelable film is transported to oppose the color filter substrate fixed on the XYΘ stage, and the XYΘ stage is moved to roughly face the correction position, the correction pattern on the ink peelable film, and the transfer / observation probe. Held in position.

転写・観察プローブによる観察を用いて、インキ剥離性フィルム上のパターンと基板上の40μmのピンホールを重ね、転写・観察プローブ先端の転写ヘッドを下降・上昇させ、修正パターンを基板上のピンホール位置に転写した。   Using the observation by the transfer / observation probe, the pattern on the ink peelable film and the 40 μm pinhole on the substrate are overlapped, the transfer head at the tip of the transfer / observation probe is lowered and raised, and the correction pattern is pinholed on the substrate Transcribed into position.

修正後のカラーフィルター基板を200℃20分で乾燥し、修正パターンの熱硬化を行った後、修正部と周囲との色差が5以下であり、目視では修正部を認識できないほど、周辺部とのパターンの連続性や平坦性が良好なカラーフィルターを得た。   After the color filter substrate after correction is dried at 200 ° C. for 20 minutes and the correction pattern is thermally cured, the color difference between the correction portion and the surrounding area is 5 or less, and the correction portion cannot be recognized visually. A color filter having good pattern continuity and flatness was obtained.

微小なパターンの欠陥を修正する工程に使用することができ、中でもカラーフィルターのパターン修正に用いる事ができる。カラーフィルターは、液晶用に限定するものではなく、CCD用カラーフィルターや投影装置用カラーフィルター、有機ELディスプレイ用や電子ペーパー用カラーフィルターに適用しても良い。   It can be used for a process of correcting a minute pattern defect, and in particular, can be used for correcting a color filter pattern. The color filter is not limited to the liquid crystal, but may be applied to a color filter for CCD, a color filter for projection apparatus, an organic EL display, or a color filter for electronic paper.

本発明の一実施形態であるパターン修正装置の概略図である。It is the schematic of the pattern correction apparatus which is one Embodiment of this invention. 本発明の一実施例によるパターン修正のプロセス概略の説明図である。It is explanatory drawing of the process outline of the pattern correction by one Example of this invention.

(a) … インキ剥離性フィルム巻き出し
(b) … 修正インキ塗工
(c) … 修正インキ乾燥
(d) … 版転写
(e) … 版剥離による修正パターン作成
(f) … 転写位置決め
(g) … 転写位置観察
(a)… Ink peelable film unwinding
(b)… Correction ink coating
(c)… Modified ink drying
(d)… Plate transfer
(e)… Creation of correction pattern by plate peeling
(f)… Transfer positioning
(g)… Transcription position observation

符号の説明Explanation of symbols

100 … 転写・観察プローブ
101 … 転写ヘッド
102 … 加圧板
103 … ヘッド駆動部
104 … CCD観察部
105 … 光源・レーザー光源導入部
106 … 巻き出し部
107 … インキ剥離性フィルム
108 … 塗工ヘッド
109 … 版
110 … 版マウンター
111 … 転写ステージ
112 … 予備乾燥インキ膜
113 … 修正パターン
114 … 既存パターン
115 … 基板
116 … XYΘステージ
117 … 巻き取り部
118 … 保護フィルム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 ... Transfer / observation probe 101 ... Transfer head 102 ... Pressure plate 103 ... Head drive part 104 ... CCD observation part 105 ... Light source / laser light source introduction part 106 ... Unwinding part 107 ... Ink peelable film 108 ... Coating head 109 ... Plate 110 ... Plate mounter 111 ... Transfer stage 112 ... Pre-dried ink film 113 ... Modified pattern 114 ... Existing pattern 115 ... Substrate 116 ... XYΘ stage 117 ... Winding part 118 ... Protective film

Claims (6)

すでにパターンが施された基板のパターン欠陥部にインキを転写して修正するパターン修正方法において、インキ剥離性フィルム上にパターニングした予備乾燥インキ膜を基板上パターン欠陥部に加圧転写して修正するパターン修正方法であって、
前記インキ剥離性フィルム上にパターニングした予備乾燥インキ膜を得る方法として、インキ剥離性フィルム上に修正用インキを塗布し、予備乾燥状態にしてから、必要とするパターンを凹部とする版を接触させ、余分なパターン部を版凸部へ転移させることで、インキ剥離性フィルム上にパターニングされた予備乾燥インキ膜を得ることを特徴とするパターン修正方法。
In a pattern correction method in which ink is transferred to a pattern defect portion of a substrate that has already been patterned, the pre-dried ink film patterned on the ink-peeling film is pressure transferred to the pattern defect portion on the substrate to correct it. A pattern correction method,
As a method of obtaining a pre-dried ink film patterned on the ink-releasable film, a correction ink is applied on the ink-releasable film, brought into a pre-dried state, and then contacted with a plate having a required pattern as a recess. A pattern correction method characterized by obtaining a pre-dried ink film patterned on an ink-peeling film by transferring an excess pattern part to a plate convex part.
前記インキ剥離性フィルムとして、透明フィルム基材表面に離形層を設けた離形フィルムを用いることを特徴とする請求項1記載のパターン修正方法。 Examples ink peelable film, the pattern correcting method according to claim 1, wherein the use of a release film provided with a release layer on a transparent film substrate surface. 前記パターニングが施された基板のパターン欠陥部に、予備乾燥インキ膜をパターニングしたインキ剥離性フィルムを平行に合わせ、光学手段を用いて前記インキ剥離性フィルム側から観測しながら、予備乾燥インキ膜のパターンと基板のパターン欠陥部の位置合わせを行うことを特徴とする請求項1または2に記載のパターン修正方法。 Align the ink peelable film patterned with the pre-dried ink film in parallel with the pattern defect portion of the patterned substrate, and observe from the ink peelable film side using optical means, pattern correction method according to claim 1 or 2, characterized in that for aligning the pattern defect portion of the pattern and the substrate. パターニングが施された基板のパターン欠陥部に、インキ剥離性フィルム上にパターニングしたインキ膜を転写して修正を行うパターン修正装置であって、表面の観察やレーザー照射による不要パターンの除去、または転写時の加圧等を行う転写・観察プローブ、該転写・観察プローブ下部へ前記インキ剥離性フィルムを連続的に供給するフィルム搬送系、インキ剥離性フィルムへインキを塗布する塗工ヘッド、インキ剥離性フィルム上の予備乾燥膜を版によってパターニングするパターン除去部を搭載したことを特徴とするパターン修正装置。  This is a pattern correction device that corrects the pattern by transferring the patterned ink film on the ink peelable film to the pattern defect area of the patterned substrate, and removing or transferring the unnecessary pattern by observing the surface or laser irradiation. Transfer / observation probe for applying pressure, etc., a film transport system for continuously supplying the ink peelable film to the lower part of the transfer / observation probe, a coating head for applying ink to the ink peelable film, and ink peelability A pattern correction apparatus comprising a pattern removing unit for patterning a pre-dried film on a film with a plate. 前記パターニングが施された基板はフラットパネルディスプレイ向けのカラーフィルターであることを特徴とする請求項1乃至何れかに記載のパターン修正方法。 Pattern correction method according to any claims 1 to 3, wherein the substrate on which the patterned is applied is a color filter for a flat panel display. 前記パターニングが施された基板はフラットパネルディスプレイ向けのカラーフィルターであることを特徴とする請求項記載のパターン修正装置。 The pattern correction apparatus according to claim 4, wherein the patterned substrate is a color filter for a flat panel display.
JP2007245264A 2007-09-21 2007-09-21 Pattern correction method and pattern correction apparatus Expired - Fee Related JP5407130B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007245264A JP5407130B2 (en) 2007-09-21 2007-09-21 Pattern correction method and pattern correction apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007245264A JP5407130B2 (en) 2007-09-21 2007-09-21 Pattern correction method and pattern correction apparatus

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009075416A JP2009075416A (en) 2009-04-09
JP5407130B2 true JP5407130B2 (en) 2014-02-05

Family

ID=40610421

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007245264A Expired - Fee Related JP5407130B2 (en) 2007-09-21 2007-09-21 Pattern correction method and pattern correction apparatus

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5407130B2 (en)

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05288918A (en) * 1992-04-09 1993-11-05 Toshiba Corp Color filter manufacturing method and manufacturing apparatus thereof
JPH07156526A (en) * 1993-12-07 1995-06-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd Pattern forming method and apparatus thereof
JP3576288B2 (en) * 1995-09-26 2004-10-13 京セラケミカル株式会社 Method of manufacturing color filter
JP4322972B2 (en) * 1998-02-18 2009-09-02 Ntn株式会社 Film transfer correction device
JP4826181B2 (en) * 2005-09-12 2011-11-30 凸版印刷株式会社 Pattern forming method and pattern forming apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
JP2009075416A (en) 2009-04-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5220326B2 (en) Printing method and printing apparatus
JP5018368B2 (en) Printing method
JP2013068767A (en) Pattern printing method and device
JP2009134096A (en) Pattern correction method and pattern correction apparatus
JP5407130B2 (en) Pattern correction method and pattern correction apparatus
JP2010247394A (en) Printing device
JP5671919B2 (en) Pattern printing method
JP2013067046A (en) Printing method
JP2011104856A (en) Thin film pattern forming method
JP5633283B2 (en) Printing method and printing apparatus
JP2010023393A (en) Printing method and printing apparatus
WO2008041664A1 (en) Apparatus and method for manufacturing photosensitive laminate, photosensitive transfer material, rib and method for forming the same, method for manufacturing laminate, member for display device, color filter for display device, method for manufacturing color filter, and display device
JP2009234056A (en) Printing method
JP2011235543A (en) Method of printing high definition pattern, color filter produced by the same, and printing device
JP2010094966A (en) Printing device
JP2012013978A (en) Thin film pattern printing method
JP5261976B2 (en) Spacer forming method and blanket base material used therefor
JP6303442B2 (en) Printing method and printing apparatus
JP5018075B2 (en) Printing method
JP4792942B2 (en) Printing method and printing apparatus on flexible substrate
JP5163563B2 (en) Precision pattern printing method
JP2013073212A (en) Precise pattern printing method
JP2008116880A (en) Method for forming spacer beads on color filter for liquid crystal display device and method for producing liquid crystal display element
JP5861506B2 (en) Printing method and printing apparatus
US20250069892A1 (en) Planarization method and method of manufacturing article

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100826

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110818

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20121228

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130115

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130308

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20131008

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20131021

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5407130

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees