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JP5434077B2 - Glass manufacturing method - Google Patents
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Description

本発明は、減圧脱泡する工程を具備するガラス製造方法、減圧脱泡槽内の上部空間の水蒸気濃度を調整する方法、及び減圧脱泡装置に関する。   The present invention relates to a glass manufacturing method including a step of degassing under reduced pressure, a method for adjusting a water vapor concentration in an upper space in a vacuum degassing vessel, and a vacuum degassing device.

従来より、成形されたガラス製品の品質を向上させるために、溶解炉で原料を溶解した溶融ガラスを成形装置で成形する前に、溶融ガラス内に発生した気泡を除去する清澄工程が利用されている。
この清澄工程では、減圧雰囲気内に溶融ガラスを導入し、この減圧雰囲気下、連続的に流れる溶融ガラス流内の気泡を大きく成長させて溶融ガラス内に含まれる気泡を浮上させ、破泡させて除去し、その後減圧雰囲気から排出する減圧脱泡方法が知られている。
Conventionally, in order to improve the quality of the molded glass product, a clarification process for removing bubbles generated in the molten glass is used before the molten glass in which the raw material is melted in the melting furnace is molded by the molding apparatus. Yes.
In this clarification step, molten glass is introduced into the reduced-pressure atmosphere, and bubbles in the molten glass flow that flows continuously under this reduced-pressure atmosphere are greatly grown to allow the bubbles contained in the molten glass to rise and break. A vacuum degassing method is known which removes and then discharges from a vacuum atmosphere.

そして、このような減圧脱泡方法において、好適な減圧脱泡条件を達成するために、減圧脱泡槽内の圧力や温度を規定した方法が提案されている(特許文献1、特許文献2参照)。
特開2000−302456号公報 国際公開第02/098810号パンフレット
And in such a vacuum degassing method, in order to achieve a suitable vacuum degassing condition, a method that defines the pressure and temperature in the vacuum degassing tank has been proposed (see Patent Document 1 and Patent Document 2). ).
JP 2000-302456 A International Publication No. 02/098810 Pamphlet

しかし、例えば上記のような好適な減圧脱泡条件で減圧脱泡を行っても、減圧脱泡処理中に、通常10mm以下程度で溶融ガラス表面に存在する泡層が、10mm〜数百mmへ肥大化し、いわゆる突沸が生じる場合があった。突沸とは、通常時間とともに消滅するガラス表面に達した泡が、破泡せずに層を成すことによって長時間安定的に存在し、溶融ガラス界面(溶融ガラス表面)の上昇を招く現象である。その結果、減圧脱泡後の溶融ガラスに泡が残存してしまう問題を生じる。
また、突沸は生じなくても、泡層が肥大化した結果、ガラス製品に気泡が残存して欠陥を生じさせる場合があった。
また、例えば上記のような好適な減圧脱泡条件で減圧脱泡を行っても、溶融ガラス中の特定の成分(ホウ素等)が揮散し、ガラス組成が変化してしまう結果、製造したガラス素板の平坦度が悪化する場合があった。
However, for example, even if vacuum degassing is performed under suitable vacuum degassing conditions as described above, during the vacuum degassing treatment, the foam layer present on the surface of the molten glass is usually 10 mm or less to 10 mm to several hundred mm. There was a case where so-called bumping occurred. Bumping is a phenomenon in which bubbles that reach the glass surface that normally disappear over time exist stably for a long time by forming a layer without breaking, leading to an increase in the molten glass interface (molten glass surface). . As a result, there arises a problem that bubbles remain in the molten glass after vacuum degassing.
Even if bumping does not occur, as a result of the foam layer being enlarged, bubbles may remain in the glass product and cause defects.
In addition, for example, even if vacuum degassing is performed under the preferable vacuum degassing conditions as described above, specific components (boron and the like) in the molten glass are volatilized and the glass composition is changed. In some cases, the flatness of the plate deteriorated.

本発明の目的は、突沸をほとんど生じさせないで減圧脱泡を行うガラス製造方法を提供することにある。
また、泡層の肥大化に由来するガラス製品中の気泡の残存がほとんど生じない、減圧脱泡を行うガラス製造方法を提供することにある。
また、溶融ガラス中の特定の成分(ホウ素等)の揮散を抑制して、減圧脱泡を行うガラス製造方法を提供することにある。
更に、このような減圧脱泡するために好ましく適用することができる減圧脱泡槽の雰囲気ガスの水蒸気濃度を調整する方法、及びそのような減圧脱泡をすることができる溶融ガラスの減圧脱泡装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a glass manufacturing method in which vacuum degassing is performed with little bumping.
It is another object of the present invention to provide a glass production method for performing degassing under reduced pressure, in which almost no bubbles remain in a glass product derived from the enlargement of the foam layer.
Moreover, it is providing the glass manufacturing method which suppresses volatilization of the specific components (boron etc.) in a molten glass, and performs vacuum degassing.
Furthermore, a method of adjusting the water vapor concentration of the atmospheric gas in the vacuum degassing tank that can be preferably applied for such vacuum degassing, and the vacuum degassing of the molten glass capable of such vacuum degassing To provide an apparatus.

本発明者は、減圧脱泡槽内の溶融ガラス表面の泡層が肥大化する現象、いわゆる突沸が生じたりして欠陥を生じさせる場合の減圧脱泡処理条件について詳細に検討した。そして、減圧脱泡槽内の雰囲気ガスの水蒸気濃度が特定値を超えた場合に、泡層が肥大化してガラス製品中に気泡が多く残存することを見出した。また、前記水蒸気濃度がこの特定値よりも更に高い別の特定値を超えた場合に、泡層が更に肥大化し突沸することでガラス製品中に気泡が一層多く残存することを見出した。そして、それら特定値以下の減圧脱泡条件で減圧脱泡を行うガラス製造方法、そのような条件で減圧脱泡することができる溶融ガラスの減圧脱泡装置、及びそのような装置の減圧脱泡槽内の雰囲気ガスの水蒸気濃度を調整する方法が上記の課題を解決することを見出し、本発明を完成させた。   The present inventor has studied in detail a phenomenon in which the bubble layer on the surface of the molten glass in the vacuum defoaming tank is enlarged, that is, a vacuum defoaming treatment condition when a so-called bumping occurs to cause a defect. And when the water vapor | steam density | concentration of the atmospheric gas in a vacuum degassing tank exceeded a specific value, it discovered that a foam layer enlarged and many bubbles remain | survived in glassware. Moreover, when the said water vapor | steam density | concentration exceeded another specific value still higher than this specific value, it discovered that a bubble layer further enlarged and bubbling continued and more bubbles remained in glassware. And the glass manufacturing method which carries out vacuum degassing on the decompression defoaming conditions below these specific values, the vacuum degassing apparatus of the molten glass which can carry out vacuum degassing on such conditions, and the vacuum degassing of such an apparatus It has been found that a method of adjusting the water vapor concentration of the atmospheric gas in the tank solves the above-mentioned problems, and the present invention has been completed.

本発明は次の(1)〜()を提供する。
(1)減圧脱泡槽の雰囲気ガスの水蒸気濃度を60mol%以下に調整しながら溶融ガラスを減圧脱泡する工程を具備する、ガラス製造方法。
(2)前記減圧脱泡槽の雰囲気ガスへ低水分ガスを導入することにより、前記雰囲気ガスの水蒸気濃度を60mol%以下とする、上記(1)に記載のガラス製造方法。
(3)前記雰囲気ガスの水蒸気濃度を30mol%以下に調整する、上記(1)又は(2)に記載のガラス製造方法。
(4)前記低水分ガスの酸素濃度(体積%)が空気中の酸素濃度(体積%)よりも低い、上記(2)又は(3)に記載のガラス製造方法。
(5)前記低水分ガスの酸素濃度(体積%)が15体積%以下である、上記(4)に記載のガラス製造方法。
(6)溶融ガラスを減圧脱泡するための減圧脱泡槽の雰囲気ガスの水蒸気濃度を測定し、その水蒸気濃度の測定結果に基いて、前記減圧脱泡槽の前記雰囲気ガスへ低水分ガスを導入することにより、前記減圧脱泡槽の前記雰囲気ガスの水蒸気濃度を60mol%以下に調整するガラス製造方法。
(7)減圧吸引される減圧ハウジングと、この減圧ハウジング内に設けられ、溶融ガラスの減圧脱泡を行う減圧脱泡槽と、この減圧脱泡槽に連通して設けられ、減圧脱泡前の溶融ガラスを前記減圧脱泡槽に導入する導入手段と、前記減圧脱泡槽に連通して設けられ、減圧脱泡後の溶融ガラスを前記減圧脱泡槽から導出する導出手段とを有する溶融ガラスの減圧脱泡装置であって、前記減圧脱泡槽の雰囲気ガスの水蒸気濃度を測定する水蒸気濃度測定手段と、前記減圧脱泡槽の内部の上部空間へ低水分ガスを導入する低水分ガス導入手段とを更に有する溶融ガラスの減圧脱泡装置。
(8)前記減圧脱泡装置に、前記雰囲気ガスの水蒸気濃度を所望の値となるように制御できる水蒸気濃度制御手段と、前記制御手段からの信号により低水分ガスの導入量を制御するガス量制御手段をさらに有する上記(7)に記載の減圧脱泡装置。
(9)前記低水分ガス導入手段が、減圧脱泡槽の上流側に設けられている上記(7)又は(8)に記載の溶融ガラスの減圧脱泡装置。
The present invention provides the following (1) to ( 9 ).
(1) A glass production method comprising a step of degassing molten glass while adjusting a water vapor concentration of atmospheric gas in a vacuum degassing tank to 60 mol% or less.
(2) The glass manufacturing method according to (1) above, wherein a low moisture gas is introduced into the atmospheric gas in the vacuum degassing tank so that the water vapor concentration of the atmospheric gas is 60 mol% or less.
(3) The glass production method according to (1) or (2), wherein the water vapor concentration of the atmospheric gas is adjusted to 30 mol% or less.
(4) The glass production method according to (2) or (3), wherein the oxygen concentration (volume%) of the low moisture gas is lower than the oxygen concentration (volume%) in the air.
(5) The glass production method according to (4), wherein the oxygen concentration (volume%) of the low moisture gas is 15 volume% or less.
(6) The water vapor concentration of the atmospheric gas in the vacuum degassing tank for degassing the molten glass under vacuum is measured, and based on the measurement result of the water vapor concentration, a low moisture gas is added to the atmospheric gas in the vacuum degassing tank. The glass manufacturing method which adjusts the water vapor | steam density | concentration of the said atmospheric gas of the said pressure reduction degassing tank to 60 mol% or less by introduce | transducing.
(7) A decompression housing that is sucked under reduced pressure, a decompression deaeration tank that is provided in the decompression housing and performs decompression defoaming of the molten glass, and is provided in communication with the decompression defoaming tank. Molten glass having introduction means for introducing the molten glass into the vacuum degassing tank and lead-out means provided in communication with the vacuum degassing tank and for deriving the molten glass after vacuum degassing from the vacuum degassing tank And a low moisture gas introduction device that introduces a low moisture gas into an upper space inside the vacuum degassing tank. And a vacuum degassing apparatus for molten glass.
(8) A water vapor concentration control means that can control the water vapor concentration of the atmospheric gas to a desired value in the vacuum degassing apparatus, and a gas amount that controls the amount of low moisture gas introduced by a signal from the control means The vacuum degassing apparatus according to (7), further comprising a control unit.
(9) The vacuum degassing apparatus for molten glass according to (7) or (8), wherein the low moisture gas introduction means is provided on the upstream side of the vacuum degassing tank.

本発明のガラス製造方法は、減圧脱泡槽内の雰囲気ガスの水蒸気濃度を60mol%以下として溶融ガラスを減圧脱泡する工程を具備し、これにより、突沸を生じさせないで溶融ガラスの減圧脱泡を行うことができるという効果を奏する。そして、ガラス製品に突沸に起因する気泡が残存することにより発生する欠陥を生じさせないという効果を奏する。また、このような本発明のガラス製造方法は突沸を防ぐことができるので、ガラス製造を安定して継続することができる。
この「安定製造」というのは、昼夜を問わず運転が行われるガラス製造装置にとっては、品質管理において非常に重要な要素である。一度品質が悪化すると、修理や調整のために設備を停止させる必要があるからである。また、突沸した溶融ガラスが減圧脱泡槽の壁や天井へ付着物が付着するのを抑制することができるので、その落下によるガラス製品の欠陥形成を抑制し、品質向上を図ることができる。
また、このような本発明のガラス製造方法は、特定の成分(ホウ素等)の揮散を助長する雰囲気中水分を低減させるので、溶融ガラス中の特定の成分(ホウ素等)の揮散を抑制することができるという効果を奏する。そして、ガラス素板を製造した場合に、その平坦度の悪化を抑制することができる。特に液晶用のガラスなどのディスプレィ用のガラスは、その特性の要求から組成の規格が厳格に規定されている一方、ホウ素は非常に揮散がしやすいことから、ホウ素の含有量を厳格に調整する必要がある。よって、本発明のガラス製造方法によれば、規格範囲内の組成と平坦度とを有するガラスを効率的に製造することが可能である。
The glass production method of the present invention includes a step of degassing molten glass under reduced pressure by setting the water vapor concentration of the atmospheric gas in the vacuum degassing tank to 60 mol% or less, whereby the vacuum degassing of the molten glass without causing bumping. There is an effect that can be performed. And there exists an effect that the defect which generate | occur | produces by the bubble resulting from bumping remaining in a glass product is not produced. Moreover, since the glass manufacturing method of this invention can prevent bumping, glass manufacture can be continued stably.
This “stable manufacturing” is a very important factor in quality control for glass manufacturing apparatuses that are operated day and night. This is because once the quality deteriorates, it is necessary to stop the equipment for repair or adjustment. Moreover, since it is possible to suppress deposits from adhering to the wall or ceiling of the vacuum degassing tank, bumped molten glass can be suppressed from forming defects in the glass product due to the falling, and quality can be improved.
Moreover, since the glass manufacturing method of such this invention reduces the water | moisture content in the atmosphere which promotes volatilization of a specific component (boron etc.), it suppresses volatilization of the specific component (boron etc.) in molten glass. There is an effect that can be. And when a glass base plate is manufactured, the deterioration of the flatness can be suppressed. Especially for glass for display such as glass for liquid crystal, the standard of composition is strictly defined from the requirement of the characteristics, but boron is very easy to volatilize, so the content of boron is strictly adjusted. There is a need. Therefore, according to the glass manufacturing method of this invention, it is possible to manufacture efficiently the glass which has a composition and flatness within a specification range.

また、本発明のガラス製造方法は、前記水蒸気濃度が30mol%以下であることが好ましい。これにより、上記のように突沸を生じさせないことに加えて、泡層の肥大化が抑制されて、ガラス製品に多くの欠陥を生じることを抑制する(具体的にはガラス製品の単位質量当り、0.5個/kg以下の気泡)という効果を奏する。   Moreover, it is preferable that the said water vapor concentration is 30 mol% or less in the glass manufacturing method of this invention. Thereby, in addition to not causing bumping as described above, the enlargement of the foam layer is suppressed, and the generation of many defects in the glass product is suppressed (specifically, per unit mass of the glass product, 0.5 bubbles / kg or less).

また、本発明の減圧脱泡装置は、このような本発明のガラス製造方法を行うことに好適な減圧脱泡装置を提供できる。   Moreover, the vacuum degassing apparatus of this invention can provide the vacuum degassing apparatus suitable for performing such a glass manufacturing method of this invention.

図1は、本発明の減圧脱泡装置の一構成例を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a configuration example of a vacuum degassing apparatus according to the present invention. 図2は、本発明の減圧脱泡装置等を示す図である。FIG. 2 is a view showing a vacuum degassing apparatus of the present invention. 図3は、本発明の実施例1の結果を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing the results of Example 1 of the present invention. 図4は、本発明の実施例3の結果を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing the results of Example 3 of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 減圧脱泡装置
3 雰囲気ガス
3´ 排出された雰囲気ガス
5 上部空間
6 開口
7 低水分ガス
8 開口
9 開口
10 減圧脱泡装置
11 減圧ハウジング
12 減圧脱泡槽
13 上昇管
14 下降管
15 断熱材
20 溶解槽
22 上流ピット
24 下流ピット
28 ポンプ
30 水蒸気濃度測定手段
40 低水分ガス導入手段
41 低水分ガス発生装置
42 流量制御弁
44 流量計
G 溶解ガラス
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Decompression degassing apparatus 3 Atmospheric gas 3 'Exhausted atmospheric gas 5 Upper space 6 Opening 7 Low moisture gas 8 Opening 9 Opening 10 Depressurization defoaming apparatus 11 Decompression housing 12 Depressurization defoaming tank 13 Rising pipe 14 Downcomer pipe 15 Thermal insulation DESCRIPTION OF SYMBOLS 20 Melting tank 22 Upstream pit 24 Downstream pit 28 Pump 30 Water vapor | steam density | concentration measurement means 40 Low moisture gas introduction means 41 Low moisture gas generator 42 Flow control valve 44 Flow meter G Molten glass

本発明のガラス製造方法について説明する。
本発明のガラス製造方法は、減圧脱泡槽の雰囲気ガスの水蒸気濃度を60mol%以下として溶融ガラスを減圧脱泡する工程(以下、「本発明の減圧脱泡工程」ともいう。)を具備する。そして、前工程として原料溶融工程を具備することが好ましく、後工程として成形工程を具備することが好ましい。これら原料溶融工程及び成形工程は特に限定されず、例えば従来公知の工程であってよい。これらの工程以外に他の工程を具備してもよい。
なお、本発明において「雰囲気ガス」とは、減圧脱泡槽の内部の、溶融ガラスの上部の空間(上部空間)を満たす雰囲気ガスを意味する。
The glass manufacturing method of this invention is demonstrated.
The glass production method of the present invention comprises a step of defoaming molten glass under reduced pressure with the water vapor concentration of the atmospheric gas in the reduced pressure defoaming tank being 60 mol% or less (hereinafter also referred to as “the reduced pressure defoaming step of the present invention”). . And it is preferable to comprise a raw material melting process as a pre-process, and it is preferable to comprise a shaping | molding process as a post-process. These raw material melting steps and molding steps are not particularly limited, and may be, for example, conventionally known steps. In addition to these steps, other steps may be provided.
In the present invention, “atmosphere gas” means an atmosphere gas that fills the space above the molten glass (upper space) inside the vacuum degassing vessel.

本発明のガラス製造方法において本発明の減圧脱泡工程は、内部が減圧状態にされた減圧脱泡槽内に溶融ガラスを流すことによって、この溶融ガラス中の気泡を脱泡する工程であって、前記減圧脱泡槽内の雰囲気ガスの水蒸気濃度を60mol%以下として減圧脱泡する工程であれば、特に限定されない。
例えば、減圧脱泡装置における減圧脱泡槽の雰囲気ガスの水蒸気濃度を測定し、水蒸気濃度の測定結果に基いて、前記上部空間へ後述する低水分ガスを導入することによって、この減圧脱泡装置の減圧脱泡槽の内部の前記雰囲気ガスの水蒸気濃度を調整する方法(以下、「本発明の水分調整方法」ともいう。)を適用して、その雰囲気ガスの水蒸気濃度を60mol%以下に調整して、本発明の減圧脱泡工程を行うことができる。前記低水分ガスは、連続的に導入しても間欠的に導入してもよい。
In the glass production method of the present invention, the reduced pressure defoaming step of the present invention is a step of defoaming bubbles in the molten glass by flowing the molten glass into a reduced pressure defoaming tank whose inside is in a reduced pressure state. There is no particular limitation as long as it is a step of degassing under reduced pressure by setting the water vapor concentration of the atmospheric gas in the vacuum degassing tank to 60 mol% or less.
For example, the reduced-pressure defoaming apparatus measures the water vapor concentration of the atmospheric gas in the reduced-pressure defoaming tank, and introduces a low moisture gas described later into the upper space based on the measurement result of the water vapor concentration. The method for adjusting the water vapor concentration of the atmospheric gas inside the vacuum degassing tank (hereinafter also referred to as “the water content adjusting method of the present invention”) is applied to adjust the water vapor concentration of the atmospheric gas to 60 mol% or less. Thus, the vacuum degassing step of the present invention can be performed. The low moisture gas may be introduced continuously or intermittently.

このような本発明の水分調整方法を適用した本発明の減圧脱泡工程は、例えば本発明の減圧脱泡装置を用いて行うことができる。   The reduced pressure defoaming step of the present invention to which the moisture adjusting method of the present invention is applied can be performed using, for example, the reduced pressure defoaming device of the present invention.

本発明の減圧脱泡装置について説明する。
本発明の減圧脱泡装置は、溶融ガラスを減圧脱泡する減圧脱泡装置であって、減圧状態にした内部に溶融ガラスを流して、この溶融ガラス中の気泡を脱泡する減圧脱泡槽と、前記減圧脱泡槽内の雰囲気ガスの水蒸気濃度を測定する水蒸気濃度測定手段と、前記上部空間へ低水分気体を導入する低水分ガス導入手段とを有し、前記雰囲気ガスの水蒸気濃度を低減して、前記溶融ガラスを減圧脱泡することができる減圧脱泡装置であり、例えば、図1に示す減圧脱泡装置である。
The vacuum degassing apparatus of the present invention will be described.
The vacuum degassing apparatus of the present invention is a vacuum degassing apparatus for degassing molten glass under reduced pressure, and a vacuum degassing tank for defoaming bubbles in the molten glass by flowing the molten glass inside the reduced pressure state. And a water vapor concentration measuring means for measuring the water vapor concentration of the atmospheric gas in the vacuum degassing tank, and a low moisture gas introducing means for introducing a low moisture gas into the upper space. A vacuum degassing apparatus capable of reducing and degassing the molten glass under reduced pressure, for example, the vacuum degassing apparatus shown in FIG.

図1について説明する。図1は、本発明の減圧脱泡装置の一構成例である減圧脱泡装置1を示す図であり、本発明の減圧脱泡装置が有する減圧脱泡槽12と、水蒸気濃度測定手段30と、低水分ガス導入手段40とを示している。   With reference to FIG. FIG. 1 is a view showing a vacuum degassing apparatus 1 which is an example of the configuration of the vacuum degassing apparatus of the present invention. The vacuum defoaming tank 12, the water vapor concentration measuring means 30, and the vacuum degassing apparatus of the present invention The low moisture gas introduction means 40 is shown.

初めにこの減圧脱泡槽12について、図2を用いて説明する。図2は、減圧脱泡槽12を含む本発明の減圧脱泡装置10(水蒸気濃度測定手段及び低水分ガス導入手段は記載せず)を例示する図(断面図)である。   First, the vacuum degassing tank 12 will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a diagram (cross-sectional view) illustrating a vacuum degassing apparatus 10 (a water vapor concentration measuring means and a low moisture gas introducing means are not described) including the vacuum degassing tank 12 of the present invention.

図2に示す減圧脱泡装置10において、円筒形状をした減圧脱泡槽12は、その長軸が水平方向に配向するように減圧ハウジング11内に収納配置されている。減圧脱泡槽12の一端の下面には垂直方向に配向する上昇管13が、他端の下面には下降管14が取り付けられている。上昇管13及び下降管14は、その一部が減圧ハウジング11内に位置している。   In the vacuum degassing apparatus 10 shown in FIG. 2, the cylindrical vacuum degassing tank 12 is housed and disposed in the vacuum housing 11 so that its long axis is oriented in the horizontal direction. A rising pipe 13 oriented in the vertical direction is attached to the lower surface of one end of the vacuum degassing tank 12, and a lowering pipe 14 is attached to the lower surface of the other end. A part of the ascending pipe 13 and the descending pipe 14 is located in the decompression housing 11.

そして減圧脱泡槽12の上面には複数の開口があり、少なくとも1つの開口6を通じて、減圧ハウジング11の外部から減圧脱泡槽12の内部の上部空間5へ低水分ガス7を導入することができる。また、減圧ハウジング11に形成された開口8はポンプ等の減圧手段(図2には示していない。図1にポンプ28として示す。)に繋がれており、上部空間5を満たす雰囲気ガス3を減圧ハウジング11の外へ排出し(排出されたものを雰囲気ガス3´と示す。)、減圧脱泡槽12の内部を減圧することができる。なお、開口6及び開口8の箇所は、図2で開口6及び開口8で示した箇所に限定されないが、開口6は減圧脱泡槽12の上流側、開口8はその下流側にそれぞれ設けるのが好ましい。低水分ガス導入手段の一部を構成する開口6を減圧脱泡槽12の上流側に設けることにより、開口6から減圧脱泡槽12の内部の上部空間5へ導入された低水分ガス7を、減圧脱泡槽12の上流側から開口8が設けられている下流側に向かって流動させ、減圧脱泡槽12の内部の上部空間5を均一な低水蒸気濃度の雰囲気ガスにすることができる。
また、減圧脱泡槽12の内部には、雰囲気ガス3の圧力(P)及び温度(T)が測定できる例えば公知の圧力計及び温度計が設置されている(図示せず)。
The upper surface of the vacuum degassing tank 12 has a plurality of openings, and the low moisture gas 7 can be introduced into the upper space 5 inside the vacuum degassing tank 12 from the outside of the vacuum housing 11 through at least one opening 6. it can. Further, the opening 8 formed in the decompression housing 11 is connected to decompression means such as a pump (not shown in FIG. 2, shown as a pump 28 in FIG. 1), and the atmosphere gas 3 filling the upper space 5. The inside of the decompression defoaming tank 12 can be decompressed by exhausting it out of the decompression housing 11 (the exhausted one is indicated as atmospheric gas 3 '). The locations of the opening 6 and the opening 8 are not limited to the locations indicated by the opening 6 and the opening 8 in FIG. 2, but the opening 6 is provided on the upstream side of the vacuum degassing tank 12, and the opening 8 is provided on the downstream side thereof. Is preferred. By providing the opening 6 constituting a part of the low moisture gas introducing means upstream of the vacuum degassing tank 12, the low moisture gas 7 introduced from the opening 6 into the upper space 5 inside the vacuum degassing tank 12 is supplied. , It can flow from the upstream side of the vacuum degassing tank 12 toward the downstream side where the opening 8 is provided, and the upper space 5 inside the vacuum degassing tank 12 can be made into an atmosphere gas with a uniform low water vapor concentration. .
Further, for example, a known pressure gauge and thermometer capable of measuring the pressure (P 1 ) and temperature (T 1 ) of the atmospheric gas 3 are installed in the vacuum degassing tank 12 (not shown).

また、図2に示すように、上昇管13は減圧脱泡槽12と連通しており、溶解槽20からの溶融ガラスGを減圧脱泡槽12に導入する導入手段である。このため、上昇管13の下端部は、上流ピット22の開口端に嵌入され、この上流ピット22内の溶融ガラスGに浸漬されている。
下降管14は、減圧脱泡槽12に連通しており、減圧脱泡後の溶融ガラスGを減圧脱泡槽12から下降させて後工程の処理槽(図示せず)に導出する導出手段である。このため、下降管14の下端部は、下流ピット24の開口端に嵌入され、この下流ピット24内の溶融ガラスGに浸漬されている。
減圧ハウジング11内において、減圧脱泡槽12、上昇管13及び下降管14の周囲には、これらを断熱被覆する断熱用レンガ等の断熱材15が配設されている。
As shown in FIG. 2, the ascending pipe 13 communicates with the vacuum degassing tank 12 and is an introduction means for introducing the molten glass G from the melting tank 20 into the vacuum degassing tank 12. For this reason, the lower end portion of the ascending pipe 13 is fitted into the opening end of the upstream pit 22 and is immersed in the molten glass G in the upstream pit 22.
The downcomer 14 communicates with the vacuum degassing tank 12 and is a lead-out means for lowering the molten glass G after the vacuum degassing from the vacuum degassing tank 12 and leading it to a processing tank (not shown) in a subsequent process. is there. For this reason, the lower end portion of the downcomer pipe 14 is fitted into the opening end of the downstream pit 24 and is immersed in the molten glass G in the downstream pit 24.
In the decompression housing 11, a heat insulating material 15 such as a heat insulating brick is provided around the decompression defoaming tank 12, the ascending pipe 13 and the descending pipe 14 to insulate these.

図2に示す減圧脱泡装置10において、減圧脱泡槽12、上昇管13及び下降管14は、溶融ガラスGの導管であるため、耐熱性及び溶融ガラスに対する耐食性に優れた材料を用いて作製されている。一例を挙げると、白金又は白金合金製の中空管である。白金合金の具体例としては、白金−金合金、白金−ロジウム合金が挙げられる。また、他の一例を挙げると、セラミックス系の非金属無機材料製、すなわち、緻密質耐火物製の中空管である。緻密質耐火物の具体例としては、例えば、アルミナ系電鋳耐火物、ジルコニア系電鋳耐火物、アルミナ−ジルコニア−シリカ系電鋳耐火物等の電鋳耐火物、並びに緻密質アルミナ系耐火物、緻密質ジルコニア−シリカ系耐火物及び緻密質アルミナ−ジルコニア−シリカ系耐火物等の緻密質焼成耐火物が挙げられる。   In the vacuum degassing apparatus 10 shown in FIG. 2, the vacuum degassing tank 12, the rising pipe 13, and the downfalling pipe 14 are conduits for the molten glass G, and therefore are manufactured using a material having excellent heat resistance and corrosion resistance to the molten glass. Has been. An example is a hollow tube made of platinum or a platinum alloy. Specific examples of the platinum alloy include a platinum-gold alloy and a platinum-rhodium alloy. Another example is a hollow tube made of a ceramic nonmetallic inorganic material, that is, a dense refractory. Specific examples of dense refractories include, for example, electrocast refractories such as alumina electrocast refractories, zirconia electrocast refractories, alumina-zirconia-silica electrocast refractories, and dense alumina refractories. And dense fired refractories such as dense zirconia-silica refractories and dense alumina-zirconia-silica refractories.

このような減圧脱泡装置10の各構成要素の寸法は、必要に応じて適宜選択することができる。減圧脱泡槽12の寸法は、減圧脱泡槽12が白金製若しく白金合金製、又は緻密質耐火物製であるかによらず、使用する減圧脱泡装置に応じて適宜選択することができる。図2に示す減圧脱泡槽12の場合、その寸法の具体例は以下の通りである。
水平方向における長さ:1〜20m
内径:0.2〜3m(断面円形)
減圧脱泡槽12が白金製若しくは白金合金製である場合、肉厚は4mm以下であることが好ましく、より好ましくは0.5〜1.2mmである。
The dimension of each component of such a vacuum degassing apparatus 10 can be appropriately selected as necessary. The dimensions of the vacuum degassing tank 12 can be appropriately selected according to the vacuum degassing apparatus to be used regardless of whether the vacuum degassing tank 12 is made of platinum, platinum alloy, or dense refractory. it can. In the case of the vacuum degassing tank 12 shown in FIG. 2, specific examples of the dimensions are as follows.
Horizontal length: 1-20m
Inner diameter: 0.2-3m (circular cross section)
When the vacuum degassing tank 12 is made of platinum or a platinum alloy, the wall thickness is preferably 4 mm or less, more preferably 0.5 to 1.2 mm.

減圧ハウジング11は、金属製、例えばステンレス製であり、減圧脱泡槽を収容可能な形状及び寸法を有している。
上昇管13及び下降管14は、白金製若しくは白金合金製、又は緻密質耐火物製であるかによらず、使用する減圧脱泡装置に応じて適宜選択することができる。例えば、上昇管13及び下降管14の寸法は以下のように構成することができる。
内径:0.05〜0.8m、より好ましくは0.1〜0.6m
長さ:0.2〜6m、より好ましくは0.4〜4m
上昇管13及び下降管14が白金製若しくは白金合金製である場合、肉厚は0.4〜5mmであることが好ましく、より好ましくは0.8〜4mmである。
The decompression housing 11 is made of metal, for example, stainless steel, and has a shape and dimensions that can accommodate the decompression deaeration tank.
Regardless of whether the riser pipe 13 and the downfall pipe 14 are made of platinum, a platinum alloy, or a dense refractory, they can be appropriately selected according to the vacuum degassing apparatus to be used. For example, the dimensions of the ascending pipe 13 and the descending pipe 14 can be configured as follows.
Inner diameter: 0.05 to 0.8 m, more preferably 0.1 to 0.6 m
Length: 0.2-6m, more preferably 0.4-4m
When the uprising pipe 13 and downfalling pipe 14 are made of platinum or a platinum alloy, the wall thickness is preferably 0.4 to 5 mm, more preferably 0.8 to 4 mm.

本発明の減圧脱泡装置が有する減圧脱泡槽は、例えばこのような構成を具備する減圧脱泡槽12である。   The vacuum degassing tank which the vacuum degassing apparatus of this invention has is the vacuum degassing tank 12 which comprises such a structure, for example.

次に、本発明の減圧脱泡装置が有する水蒸気濃度測定手段30について説明する。
図1において水蒸気濃度測定手段30は、減圧脱泡槽12の下流側と配管等で繋がっており、更にその下流側に減圧手段であるポンプ28が繋がれている。このポンプ28により、減圧脱泡槽12から排出された雰囲気ガス3´を水蒸気濃度測定手段30へ送ることができる。ポンプ28から排出された雰囲気ガス3´は、必要な場合は浄化処理等して大気へ放散する。
Next, the water vapor concentration measuring means 30 included in the vacuum degassing apparatus of the present invention will be described.
In FIG. 1, the water vapor concentration measuring means 30 is connected to the downstream side of the vacuum degassing tank 12 by piping or the like, and further to the downstream side, a pump 28 as pressure reducing means is connected. With this pump 28, the atmospheric gas 3 ′ discharged from the vacuum degassing tank 12 can be sent to the water vapor concentration measuring means 30. The atmospheric gas 3 ′ discharged from the pump 28 is diffused into the atmosphere after purification, if necessary.

水蒸気濃度測定手段30は、市販の露点計であってもよいし、減圧脱泡槽12から排出された雰囲気ガス3´の圧力、温度、およびガス流量などを測定する測定手段であってもよい。各々の測定手段は例えば従来公知の圧力計、温度計、およびガス流量計を用いることができる。水蒸気濃度は、雰囲気ガス全体の中に含まれる水蒸気の量を表した値である。
そして、雰囲気ガス3´の水蒸気濃度(C)[mol%]は、市販の露点計を用いて測定してもよいし、代わりに雰囲気ガス3´中に含まれる水を析出させ、その量(W)[g]を測ることで概算することもできる。例えば、減圧脱泡層12から排出された雰囲気ガス3´のガス流量をFout[m/h]、ガス流出時間をtout[h]とし、さらに水蒸気濃度測定手段30において計測する雰囲気ガス3´の圧力及び温度を、P[Pa]及びT[K]としたとき、雰囲気ガス3´中の水蒸気濃度(C)[mol%]は次の式(1)で表される。
式(1)で算出される水蒸気濃度を60mol%以下とすることで、突沸を生じさせないで溶融ガラスの減圧脱泡を行うことができ、ガラス製品に突沸に起因する気泡が残存することにより発生する欠陥を生じさせないという効果を奏する。
The water vapor concentration measuring means 30 may be a commercially available dew point meter or a measuring means for measuring the pressure, temperature, gas flow rate and the like of the atmospheric gas 3 ′ discharged from the vacuum degassing tank 12. . As each measuring means, for example, a conventionally known pressure gauge, thermometer, and gas flow meter can be used. The water vapor concentration is a value representing the amount of water vapor contained in the entire atmospheric gas.
The water vapor concentration (C) [mol%] of the atmospheric gas 3 ′ may be measured using a commercially available dew point meter, or instead, the water contained in the atmospheric gas 3 ′ is precipitated and the amount ( W) It can also be estimated by measuring [g]. For example, the gas flow rate of the atmospheric gas 3 ′ discharged from the vacuum degassing layer 12 is F out [m 3 / h], the gas outflow time is t out [h], and the atmospheric gas is measured by the water vapor concentration measuring means 30. When the pressure and temperature of 3 ′ are P 2 [Pa] and T 2 [K], the water vapor concentration (C) [mol%] in the atmospheric gas 3 ′ is expressed by the following equation (1).
By setting the water vapor concentration calculated by the formula (1) to 60 mol% or less, it is possible to perform degassing of molten glass without causing bumping, and bubbles are generated due to remaining bubbles in the glass product. This produces the effect of not causing defects to occur.

Figure 0005434077
Figure 0005434077

各々の単位は、次の通りである。
C:mol%、W:g、T:K、P:Pa、Fout:m/h、tout:h、R(気体定数):J・K/mol
Each unit is as follows.
C: mol%, W: g, T 2 : K, P 2 : Pa, F out : m 3 / h, t out : h, R (gas constant): J · K / mol

次に、本発明の減圧脱泡装置が有する低水分ガス導入手段40について説明する。
図1において低水分ガス導入手段40は、減圧脱泡槽12の上流側と配管等で繋がっている。そして、この配管等を通じ、低水分ガス導入手段40から低水分ガス7を導入することができる。
低水分ガス導入手段40は、例えば図1に示すように、低水分ガス発生装置41と減圧脱泡槽12とが配管等で繋がれており、低水分ガス発生装置41で発生させた低水分ガス7を減圧脱泡槽12の上部空間5へ導入することができる。そして、低水分ガス発生装置41から減圧脱泡槽12までの間に、流量制御弁42及び流量計44がこの順に備えられており、これらで低水分ガス7の導入量を調整することができる。
なお、流量制御弁42及び流量計44の配置は逆であってもよい。
Next, the low moisture gas introduction means 40 included in the vacuum degassing apparatus of the present invention will be described.
In FIG. 1, the low moisture gas introducing means 40 is connected to the upstream side of the vacuum degassing tank 12 by piping or the like. Then, the low moisture gas 7 can be introduced from the low moisture gas introduction means 40 through this pipe or the like.
For example, as shown in FIG. 1, the low moisture gas introduction means 40 includes a low moisture gas generator 41 and a vacuum degassing tank 12 connected by a pipe or the like, and low moisture generated by the low moisture gas generator 41. The gas 7 can be introduced into the upper space 5 of the vacuum degassing tank 12. A flow rate control valve 42 and a flow meter 44 are provided in this order between the low moisture gas generator 41 and the vacuum degassing tank 12, and the amount of introduction of the low moisture gas 7 can be adjusted with these. .
The arrangement of the flow control valve 42 and the flow meter 44 may be reversed.

ここで、低水分ガス導入手段40は、低水分ガス7を減圧脱泡槽12の上部空間5へ積極的に導入するための導入手段(例えば、高圧ファン等)を有してもよい。この場合、上部空間5へ低水分ガス7を効率よく導入することができるので好ましい。   Here, the low moisture gas introduction means 40 may have introduction means (for example, a high-pressure fan) for actively introducing the low moisture gas 7 into the upper space 5 of the vacuum degassing tank 12. This is preferable because the low moisture gas 7 can be efficiently introduced into the upper space 5.

また、低水分ガス7として大気を用いる場合であれば、上記の低水分ガス発生装置41は必要ない。例えば上部空間5へ繋がる配管等の一端が流量制御弁42の開閉により大気に開放しており、大気がこの配管を通じて減圧となっている上部空間5へ導入できればよい。
また、大気以外の例えば不活性ガス等を低水分ガス7として用いる場合は、上記の水蒸気濃度測定手段30が、上部空間5から排出される雰囲気ガス3´のガス成分を測定することができるガス成分測定計を有していることが好ましい。
Further, if the atmosphere is used as the low moisture gas 7, the low moisture gas generator 41 is not necessary. For example, one end of a pipe or the like connected to the upper space 5 is open to the atmosphere by opening and closing the flow control valve 42, and the atmosphere may be introduced into the upper space 5 where the pressure is reduced through this pipe.
Further, when using, for example, an inert gas other than the atmosphere as the low moisture gas 7, a gas that allows the water vapor concentration measuring means 30 to measure the gas component of the atmospheric gas 3 ′ discharged from the upper space 5. It is preferable to have a component meter.

なお、本発明において低水分ガスとは、上部空間5における雰囲気ガス3よりも水分(水蒸気濃度)が低い気体を意味する。低水分ガスとしては、大気、乾燥空気、NやArのような不活性ガス等が挙げられ、1種類のみならず、複数種類であってもよい。低水分ガスの水蒸気濃度は0〜20mol%であることが好ましく、0〜5mol%であることがより好ましく、0〜1mol%であることが更に好ましい。なお、低水分ガスの水蒸気濃度は、市販の露天計などを用いて測定することが可能である。In the present invention, the low moisture gas means a gas whose moisture (water vapor concentration) is lower than that of the atmospheric gas 3 in the upper space 5. Examples of the low moisture gas include air, dry air, inert gas such as N 2 and Ar, and the like, and not only one kind but also plural kinds. The water vapor concentration of the low moisture gas is preferably 0 to 20 mol%, more preferably 0 to 5 mol%, and still more preferably 0 to 1 mol%. The water vapor concentration of the low moisture gas can be measured using a commercially available outdoor meter or the like.

本発明の減圧脱泡装置は、例えばこのような減圧脱泡槽12と水蒸気濃度測定手段30と低水分ガス導入手段40とを有する減圧脱泡装置1である。
このような本発明の減圧脱泡装置において、水蒸気濃度測定手段により上部空間における雰囲気ガスの水蒸気濃度を測定し、所望の水蒸気濃度よりも高くなった場合は、低水分ガス導入手段により低水分ガスを導入するといった調整を適宜繰り返すことで、上部空間における雰囲気ガスの水蒸気濃度を所望の濃度に調整することができる。
例えば上記の式(1)で求められる水蒸気濃度(C)と、目標とする水蒸気濃度(C)とは次の式(2)の関係があるので、低水分ガスの上部空間への導入量(Fin)及び導入時間(tin)、雰囲気ガスの上部空間からの排出量(FOUT)及び排出時間(tOUT)、並びに低水分ガスの水蒸気濃度(S)[mol%]を調整することで、水蒸気濃度を目標とする値とすることができる。
The vacuum degassing apparatus of the present invention is, for example, the vacuum degassing apparatus 1 having such a vacuum degassing tank 12, a water vapor concentration measuring means 30, and a low moisture gas introducing means 40.
In such a vacuum degassing apparatus of the present invention, when the water vapor concentration of the atmospheric gas in the upper space is measured by the water vapor concentration measuring means and becomes higher than the desired water vapor concentration, the low water gas is introduced by the low water gas introducing means. By appropriately repeating the adjustment such as introducing the water vapor, the water vapor concentration of the atmospheric gas in the upper space can be adjusted to a desired concentration.
For example, since the water vapor concentration (C) obtained by the above equation (1) and the target water vapor concentration (C 1 ) have the relationship of the following equation (2), the amount of low moisture gas introduced into the upper space: (F in ) and introduction time (t in ), the discharge amount (F OUT ) and discharge time (t OUT ) of the atmospheric gas from the upper space, and the water vapor concentration (S) [mol%] of the low moisture gas are adjusted. Thus, the water vapor concentration can be set as a target value.

Figure 0005434077
Figure 0005434077

各々の記号の意味、及び単位は次の通りである。
:[mol%]、V(上部空間の容積):[m]、Vin:[m]、Vout:[m]
The meaning and unit of each symbol are as follows.
C 1 : [mol%], V (volume of the upper space): [m 3 ], V in : [m 3 ], V out : [m 3 ]

ここで、Vinは流量計44で測定される導入量(Fin[m/h])と導入時間(tin[h])とから求められる導入ガス体積(Fin×tin)[m]の上部空間の温度及び圧力での換算量である。同様に、Voutは水蒸気濃度測定手段30に含まれる流量計で測定される排出量(Fout[m/h])と排出時間(tout[h])とから求められる排出ガス体積(Fout×tout)[m]の上部空間の温度及び圧力での換算量である。
また、上部空間での圧力を一定に保つ場合は、Vin=Voutとする必要がある。
Here, V in is an introduced gas volume (F in × t in ) obtained from an introduction amount (F in [m 3 / h]) measured by the flow meter 44 and an introduction time (t in [h]). m 3 ] is a conversion amount in the temperature and pressure of the upper space. Similarly, V out is an exhaust gas volume (F out [m 3 / h]) measured by a flow meter included in the water vapor concentration measuring means 30 and an exhaust gas volume (t out [h]) obtained from the exhaust time (t out [h]). F out × t out ) [m 3 ] is a conversion amount in the temperature and pressure of the upper space.
Further, in order to keep the pressure in the upper space constant, it is necessary to set V in = V out .

例えば、体積(V)=1mの上部空間の水蒸気濃度(C)=20mol%を、目標となる水蒸気濃度(C)=10mol%に低減するためには、Vin=Voutの時、低水分ガスの導入量(Vin)=0.53mとなる。
したがって、上部空間の温度(T)=1673K、圧力(P)=25kPaのとき、流量計44の位置における導入ガスの温度(T)=298K、圧力(P)=101kPaでは、導入ガス体積(Fin×tin)は、0.023[m]となる。
実際には、溶融ガラスおよび装置構成材等からの水分の蒸発、又はリークガスによる水蒸気濃度の変化が起こるため、絶えず調整を図る必要がある。
For example, in order to reduce the water vapor concentration (C) = 20 mol% in the upper space of the volume (V) = 1 m 3 to the target water vapor concentration (C 1 ) = 10 mol%, when V in = V out , The amount of low moisture gas introduced (V in ) = 0.53 m 3 .
Therefore, when the temperature of the upper space (T 1 ) = 1673 K and the pressure (P 1 ) = 25 kPa, the introduction gas temperature (T 3 ) = 298 K and the pressure (P 3 ) = 101 kPa at the position of the flow meter 44 are introduced. gas volume (F in × t in) becomes 0.023 [m 3].
Actually, the evaporation of moisture from the molten glass and apparatus constituent materials or the change of the water vapor concentration due to the leak gas occurs, and therefore it is necessary to constantly adjust.

なお、ガラス製品の製造中は、定常的にこの水蒸気濃度を監視し、制御することが好ましい。具体的には、前記減圧脱泡装置に、前記雰囲気ガスの水蒸気濃度を所望の値となるように制御できる水蒸気濃度制御手段を有することが好ましく、前記制御手段からの信号により低水分ガスの導入量を制御するガス量制御手段をさらに有することが好ましい。
例えば、T、P、FOUT、tOUT、W、S、FIN及びtINを定常的に測定し、これらのデータをコンピュータに集め、このコンピュータによって上部空間の水蒸気濃度が所望の値となるように制御できるような水蒸気濃度制御手段を、本発明の減圧脱泡装置が有することが好ましい。また、このコンピュータによって流量制御弁42の開閉が制御できるようにし、更に流量計44のデータがこのコンピュータにフィードバックされるガス量制御手段を、本発明の減圧脱泡装置が有することが好ましい。さらに、生産性能を一定に保つために、所望の圧力に制御しながら流量を調整することが望ましい。
During the production of glass products, it is preferable to constantly monitor and control the water vapor concentration. Specifically, the vacuum degassing apparatus preferably has a water vapor concentration control means capable of controlling the water vapor concentration of the atmospheric gas to a desired value, and the introduction of the low moisture gas by the signal from the control means. It is preferable to further have a gas amount control means for controlling the amount.
For example, T 2 , P 2 , F OUT , t OUT , W 2 , S, F IN and t IN are steadily measured, and these data are collected in a computer that allows the water vapor concentration in the upper space to be determined as desired. It is preferable that the vacuum degassing apparatus of the present invention has a water vapor concentration control means that can be controlled so as to be a value. Moreover, it is preferable that the decompression defoaming device of the present invention has a gas amount control means for enabling the computer to control the opening and closing of the flow control valve 42 and feeding back the data of the flow meter 44 to the computer. Furthermore, in order to keep the production performance constant, it is desirable to adjust the flow rate while controlling to a desired pressure.

本発明のガラス製造方法は、このような本発明の減圧脱泡装置を用いて行うことが好ましいが、他の方法を適用してもよい。例えば、本発明の減圧脱泡装置のように減圧脱泡槽内の上部空間に気体を導入する必要は必ずしもなく、減圧脱泡槽内と減圧ハウジング内の雰囲気が繋がっている場合には、減圧ハウジング内の気体の水蒸気濃度を低減すればよい。   The glass production method of the present invention is preferably performed using such a vacuum degassing apparatus of the present invention, but other methods may be applied. For example, it is not always necessary to introduce gas into the upper space in the vacuum degassing tank as in the vacuum degassing apparatus of the present invention, and when the atmosphere in the vacuum degassing tank and the vacuum housing are connected, What is necessary is just to reduce the water vapor | steam density | concentration of the gas in a housing.

本発明のガラス製造方法において、減圧脱泡処理条件は通常の範囲であれば特に限定されない。通常の減圧処理条件とは、減圧脱泡槽の内部の上部空間における雰囲気ガスの圧力(P)を38〜460mmHg(51〜613hPa)とし、温度(T)を1100℃〜1500℃、特に1250℃〜1450℃として減圧脱泡処理を行う処理条件をいう。In the glass manufacturing method of the present invention, the vacuum degassing treatment conditions are not particularly limited as long as they are within a normal range. The normal pressure reduction treatment conditions are: the atmospheric gas pressure (P 1 ) in the upper space inside the vacuum degassing tank is 38 to 460 mmHg (51 to 613 hPa), and the temperature (T 1 ) is 1100 ° C. to 1500 ° C., especially The processing conditions which perform a vacuum degassing process as 1250 to 1450 degreeC are said.

本発明のガラス製造方法が具備する本発明の減圧脱泡工程では、減圧脱泡槽の内部の雰囲気ガスの水蒸気濃度を60mol%以下とする。すると、いわゆる突沸を生じさせないで溶融ガラス中の気泡の脱泡を、減圧条件下で行うことができる。
また、この水蒸気濃度が低いほど泡層が薄くなる傾向があるので、減圧脱泡槽の内部の雰囲気ガスの水蒸気濃度は50mol%以下であることが好ましく、40mol%以下であることがより好ましい。そして、水蒸気濃度が30mol%以下であると、泡層が更に薄くなる傾向があるので好ましい。また、ガラス組成によっては、1つ1つの気泡が収縮又は破泡する場合があり、これにより泡層は更に薄くなるので好ましい。更に、ガラス製品に欠陥とみなされる程度の大きさの気泡が残存し難くなるので好ましい。この水蒸気濃度が更に低ければ、ガラス製品に欠陥が生じる確率が更に低くなるので、25mol%以下であることがより好ましく、20mol%以下であることがより好ましく、15mol%以下であることがより好ましく、10mol%以下であることがより好ましく、5mol%以下であることが更に好ましい。
In the vacuum degassing step of the present invention provided in the glass manufacturing method of the present invention, the water vapor concentration of the atmospheric gas inside the vacuum degassing tank is set to 60 mol% or less. Then, bubbles in the molten glass can be degassed under reduced pressure conditions without causing so-called bumping.
Further, since the bubble layer tends to be thinner as the water vapor concentration is lower, the water vapor concentration of the atmospheric gas inside the vacuum degassing tank is preferably 50 mol% or less, and more preferably 40 mol% or less. And it is preferable for the water vapor concentration to be 30 mol% or less because the foam layer tends to be further thinned. Further, depending on the glass composition, each bubble may shrink or break, which is preferable because the bubble layer becomes thinner. Furthermore, it is preferable because bubbles having a size that is regarded as a defect in the glass product are difficult to remain. If this water vapor concentration is further lower, the probability of defects occurring in the glass product is further reduced. Therefore, it is more preferably 25 mol% or less, more preferably 20 mol% or less, and more preferably 15 mol% or less. More preferably, it is 10 mol% or less, and further preferably 5 mol% or less.

また、本発明者は、上記に加えて、このような気泡の収縮は、特定の組成の溶融ガラスについて、特に顕著に発現する現象であることを見出した。
具体的には、溶融ガラスがボロシリケートガラスの場合、水蒸気濃度が30mol%以下であると、気泡が顕著に収縮する傾向がある。したがって、本発明のガラス製造方法、本発明の減圧脱泡装置及び本発明の水分調整方法は、ボロシリケートガラスを製造する場合により好ましく用いることができる。
Further, in addition to the above, the present inventor has found that such bubble contraction is a phenomenon that is particularly prominent in molten glass having a specific composition.
Specifically, when the molten glass is borosilicate glass, when the water vapor concentration is 30 mol% or less, the bubbles tend to contract significantly. Therefore, the glass production method of the present invention, the vacuum degassing apparatus of the present invention, and the moisture adjustment method of the present invention can be preferably used in the case of producing borosilicate glass.

ここでいうボロシリケートガラスは例えば次のような組成である。
組成の範囲:SiO:55〜74、Al:10〜20、B:5〜12、Al/B:1.5〜3、MgO:0〜5、CaO:0〜5、SrO:0〜12、BaO:0〜12、SrO+BaO:6〜12(単位は質量%)。
The borosilicate glass here has the following composition, for example.
Composition ranges: SiO 2: 55~74, Al 2 O 3: 10~20, B 2 O 3: 5~12, Al 2 O 3 / B 2 O 3: 1.5~3, MgO: 0~5 , CaO: 0 to 5, SrO: 0 to 12, BaO: 0 to 12, SrO + BaO: 6 to 12 (unit: mass%).

従来においては好ましい減圧脱泡槽内の圧力、温度条件が提示されていたが、水蒸気濃度について検討した例はなかった。本発明者は、従来において提示されていた減圧脱泡条件で脱泡を行っても、突沸したり、泡層が肥大化する原因について鋭意検討し、従来において着目されていなかった水蒸気濃度に着目することで、このような問題を解決できることを見出した。   Conventionally, preferable pressure and temperature conditions in the vacuum degassing tank have been presented, but there has been no example of examining the water vapor concentration. The present inventor has eagerly investigated the cause of bumping or enlargement of the foam layer even when defoaming under the reduced pressure defoaming conditions presented in the past, and focusing on the water vapor concentration that has not been noticed in the past. By doing so, it was found that such a problem can be solved.

また、本発明者は、水蒸気濃度を60mol%以下とすることで、溶融ガラス中の特定の成分(ホウ素等)の揮散を抑制することができるという効果を奏することをも見出した。ホウ素等の成分の揮発を抑制することにより、ホウ素等の組成変動を防止できるとともに、組成変動に起因する平坦度の悪化を抑制することができる。
また、揮発のしやすい成分、例えば、Cl、F、Sなどの揮散を抑制することもできるため、これらの成分の組成変動を防止できるとともに、組成変動に起因する平坦度の悪化を抑制することができる。
これらのCl、F、Sなどの成分は、水分の揮発に大きく影響を受けていると考えられる。例えば、FはHFとして、SはHSOとして揮散すると考えられる。よって、減圧脱泡槽内の水分濃度をある一定量以下とすることで、水分の揮発に伴って揮散する上記成分の変動を抑えることができると考えられる。
また、ガラスの特性は、その用途によって非常に細かい規格が存在し、その規格に適合するように非常に詳細にわたりガラスの組成が決められている。例えば、ホウ素の含有量についても当然規格が存在するが、従来の方法では、ホウ素が揮散するためより多くのホウ素を原料として用いる必要があった。また、従来では、ホウ素の揮散する量は条件によってまちまちであり、場合によっては、ホウ素の含有量の規格を外れる可能性があった。本発明においては、このような問題点が解消されており、有用である。
この点からも、本発明のガラス製造方法、本発明の減圧脱泡装置及び本発明の水分調整方法は、通常のガラスは言うに及ばず、特にボロシリケートガラスを製造する場合に好ましく用いることができるといえる。
Moreover, this inventor also discovered that there exists an effect that volatilization of the specific components (boron etc.) in a molten glass can be suppressed by making water vapor | steam density | concentration into 60 mol% or less. By suppressing volatilization of components such as boron, it is possible to prevent variation in the composition of boron and the like, and to suppress deterioration in flatness due to composition variation.
In addition, since volatilization of easily volatile components, such as Cl, F, and S, can be suppressed, compositional variations of these components can be prevented and deterioration of flatness due to compositional variations can be suppressed. Can do.
These components such as Cl, F, and S are considered to be greatly influenced by moisture volatilization. For example, it is thought that F is volatilized as HF and S is vaporized as H 2 SO 4 . Therefore, it is thought that the fluctuation | variation of the said component volatilized with the volatilization of a water | moisture content can be suppressed by making the water | moisture-content density | concentration in a vacuum degassing tank below a certain fixed amount.
In addition, the characteristics of glass have very fine specifications depending on the application, and the composition of the glass is determined in great detail so as to meet the specifications. For example, there is naturally a standard for the content of boron, but in the conventional method, since boron is volatilized, it is necessary to use more boron as a raw material. Conventionally, the amount of volatilization of boron varies depending on the conditions, and in some cases, there is a possibility that the standard of the content of boron may be deviated. In the present invention, such a problem is solved and useful.
Also from this point, the glass production method of the present invention, the vacuum degassing apparatus of the present invention, and the moisture adjustment method of the present invention are not limited to ordinary glass, and are preferably used particularly when producing borosilicate glass. I can say that.

また、本発明において、減圧脱泡槽の内部の上部空間へ導入する低水分ガスは、酸素濃度が空気中の酸素濃度よりも低いガスであることが好ましい。この酸素濃度は、15体積%以下であることが好ましく、10体積%以下であることがより好ましく、5体積%以下であることが更に好ましい。また、前記低水分ガスは、酸素を含まない気体、例えばNガス、Arガス、CO等であることが好ましい。
前記上部空間へ導入する前記低水分ガスの酸素濃度がこのような値であると、上記のような泡層の薄層化に加え、減圧脱泡槽の材質として白金又は白金合金を用いている場合に、その白金の酸化を抑制し、減圧脱泡槽の寿命を延ばし、更に、ガラス製品において、この白金由来の欠陥の生成を抑制することができるので好ましい。
In the present invention, the low moisture gas introduced into the upper space inside the vacuum degassing tank is preferably a gas having an oxygen concentration lower than the oxygen concentration in the air. The oxygen concentration is preferably 15% by volume or less, more preferably 10% by volume or less, and still more preferably 5% by volume or less. The low moisture gas is preferably a gas not containing oxygen, such as N 2 gas, Ar gas, CO 2 or the like.
When the oxygen concentration of the low moisture gas introduced into the upper space is such a value, platinum or a platinum alloy is used as the material of the vacuum defoaming tank in addition to the thinning of the foam layer as described above. In this case, it is preferable because the oxidation of the platinum can be suppressed, the life of the vacuum degassing tank can be extended, and further, the generation of defects derived from platinum can be suppressed in the glass product.

上記のように、本発明のガラス製造方法は、本発明の減圧脱泡工程を具備し、前工程及び後工程として原料溶融工程及び成形工程を具備することが好ましい。この原料溶融工程は、例えば従来公知のものでよく、例えばガラスの種類に応じて約1400℃以上に加熱することによって原料を溶融する工程である。用いる原材料も製造するガラスに適合させる原材料であれば特に限定されず、例えば硅砂、ホウ酸、石灰石等の従来公知のものを最終ガラス製品の組成に合わせて調合した原材料を用いることができる。この原材料は、所望の清澄剤を含んでもよい。また、この成形工程は、例えば従来公知のものでよく、例えばフロート成形工程、ロールアウト成形工程、フュージョン成形工程等が挙げられる。   As mentioned above, it is preferable that the glass manufacturing method of this invention comprises the vacuum degassing process of this invention, and comprises a raw material melting process and a shaping | molding process as a pre-process and a post process. This raw material melting step may be, for example, a conventionally known one. For example, the raw material is melted by heating to about 1400 ° C. or higher according to the type of glass. The raw material to be used is not particularly limited as long as it is compatible with the glass to be produced. For example, raw materials prepared by mixing conventionally known materials such as cinnabar, boric acid, limestone, etc. according to the composition of the final glass product can be used. This raw material may contain the desired fining agent. Moreover, this shaping | molding process may be a conventionally well-known thing, for example, a float shaping | molding process, a roll-out shaping | molding process, a fusion shaping | molding process etc. are mentioned, for example.

以下、実施例に基づいて本発明を具体的に説明する。ただし、本発明はこれに限定されるものではない。
<実施例1>
減圧脱泡を実施する雰囲気を再現するために、ガラス原料が入った白金製のるつぼを真空減圧容器内に配置した。るつぼを加熱してガラスを溶融させて、溶融ガラスの温度を1420℃とした。その後、真空減圧容器内の絶対圧力を26.7kPaとした。
ここで、用いたガラス原料の組成は次の通りである。
SiO:59.4%、Al:17.6%、B:7.9%、MgO:3.2%、CaO:3.7%、SrO:7.9%、BaO:0.1%
なお、実施例1〜3は、図1における減圧脱泡槽12の代わりに、溶融ガラスが入った白金製のるつぼを用いて実験を行ったが、このるつぼの実験の結果は、図1における減圧脱泡槽12の結果と同等とみなすことが可能である。
Hereinafter, the present invention will be specifically described based on examples. However, the present invention is not limited to this.
<Example 1>
In order to reproduce the atmosphere in which vacuum degassing was performed, a platinum crucible containing glass raw material was placed in a vacuum vacuum container. The crucible was heated to melt the glass, and the temperature of the molten glass was adjusted to 1420 ° C. Thereafter, the absolute pressure in the vacuum decompression vessel was set to 26.7 kPa.
Here, the composition of the glass raw material used is as follows.
SiO 2: 59.4%, Al 2 O 3: 17.6%, B 2 O 3: 7.9%, MgO: 3.2%, CaO: 3.7%, SrO: 7.9%, BaO : 0.1%
In addition, although Examples 1-3 performed the experiment using the platinum crucible containing the molten glass instead of the vacuum degassing tank 12 in FIG. 1, the result of the experiment of this crucible is shown in FIG. It can be regarded as equivalent to the result of the vacuum degassing tank 12.

次いで、所望の水蒸気濃度に調整した大気を上記真空減圧容器内へ導入し、真空減圧容器内の雰囲気の水蒸気濃度(mol%)を様々な値に変化させ調整した。各々の水蒸気濃度の場合について、溶融ガラス中の気泡を真空減圧装置に設けた覗き窓からCCDカメラを用いて撮影した。そして、30分経過後、るつぼ内で溶融ガラスを急冷し固化させ、固化後のサンプル中に存在する気泡(直径100μm以上のものをカウント)の数を測定して気泡密度(個/kg)を求めた。ここで、溶融ガラスの質量は5.0kgであり、減圧前のガラス中の気泡の数は、各々の水蒸気濃度の場合でほぼ同じ値であった。
結果を図3に示す。
Subsequently, the atmosphere adjusted to a desired water vapor concentration was introduced into the vacuum decompression vessel, and the water vapor concentration (mol%) of the atmosphere in the vacuum decompression vessel was changed to various values for adjustment. For each water vapor concentration, the bubbles in the molten glass were photographed using a CCD camera from a viewing window provided in the vacuum decompression device. After 30 minutes, the molten glass is rapidly cooled and solidified in the crucible, and the number of bubbles (counting those having a diameter of 100 μm or more) present in the solidified sample is measured to determine the bubble density (pieces / kg). Asked. Here, the mass of the molten glass was 5.0 kg, and the number of bubbles in the glass before decompression was almost the same value in each case of the water vapor concentration.
The results are shown in FIG.

図3から、真空減圧容器内の雰囲気の水蒸気濃度が高いほど、気泡が残存することを確認できる。図3において、横軸は雰囲気の水蒸気(水分)濃度を表し、縦軸は気泡の数をLogでとった値を表している。
なお、水蒸気濃度が60mol%超の場合は、CCDカメラで観察している際に溶融ガラス界面が急激に上昇し、いわゆる突沸現象が生じた。
From FIG. 3, it can be confirmed that bubbles remain as the water vapor concentration in the atmosphere in the vacuum decompression vessel increases. In FIG. 3, the horizontal axis represents the water vapor (moisture) concentration of the atmosphere, and the vertical axis represents the value of the number of bubbles taken as Log.
When the water vapor concentration is more than 60 mol%, the interface of the molten glass suddenly increased while observing with a CCD camera, and so-called bumping phenomenon occurred.

<実施例2>
次に、上記の実施例1と同様の装置を用い、真空減圧容器内の雰囲気の水蒸気濃度を70mol%、47mol%、31mol%、3mol%として泡層の厚さを測定した。更に、実施例1では大気であった低水分ガスをN、CO、Arとして、真空減圧容器内の雰囲気の水蒸気濃度を各々1mol%未満として、同様の試験を行った。ガラス組成は実施例1と同じである。
結果を第1表に示す。
<Example 2>
Next, using the same apparatus as in Example 1, the thickness of the foam layer was measured with the water vapor concentration of the atmosphere in the vacuum decompression vessel set to 70 mol%, 47 mol%, 31 mol%, and 3 mol%. Furthermore, the same test was performed with the low moisture gas that was air in Example 1 being N 2 , CO 2 , and Ar, and the water vapor concentration of the atmosphere in the vacuum decompression vessel being less than 1 mol%. The glass composition is the same as in Example 1.
The results are shown in Table 1.

Figure 0005434077
Figure 0005434077

このように、水蒸気濃度が70mol%であると泡層の厚さは20mm以上となり、いわゆる突沸することが確認できた。また、水蒸気濃度が、3〜47mol%であると、1〜2mm程度の厚さの泡層が形成されたものの、突沸は確認されなかった。更に、雰囲気がN、CO又はAr(水蒸気濃度が1mol%未満)であると、泡層は生じなかった。上記の結果から、水蒸気濃度は60mol%以下である必要がある。また、泡層の厚さは15mm以下程度であることが好ましい。Thus, when the water vapor concentration was 70 mol%, the thickness of the foam layer was 20 mm or more, and so-called bumping was confirmed. When the water vapor concentration was 3 to 47 mol%, a foam layer having a thickness of about 1 to 2 mm was formed, but bumping was not confirmed. Furthermore, when the atmosphere was N 2 , CO 2, or Ar (the water vapor concentration was less than 1 mol%), no foam layer was generated. From the above results, the water vapor concentration needs to be 60 mol% or less. Moreover, it is preferable that the thickness of a foam layer is about 15 mm or less.

<実施例3>
実施例2と同様の試験において、各種の雰囲気ごとに泡層内における気泡の収縮速度を測定した。ここで、溶融ガラスは実施例1と同じボロシリケートガラスを用いた。
結果を図4に示す。なお、図4において泡径は規格化した値を示している。規格化とは、溶融ガラス内部の気泡が上昇し泡層へ到達した時の気泡径に対する各時間における気泡の径の比である。したがって、気泡が泡層へ到達した時が経過時間0sであり、その時の泡径が1.0である。
<Example 3>
In the test similar to Example 2, the shrinkage | contraction speed | rate of the bubble in a foam layer was measured for every various atmosphere. Here, the same borosilicate glass as in Example 1 was used as the molten glass.
The results are shown in FIG. In FIG. 4, the bubble diameter indicates a normalized value. Normalization is the ratio of the bubble diameter at each time to the bubble diameter when the bubbles inside the molten glass rise and reach the bubble layer. Therefore, the time when the bubbles reach the foam layer is the elapsed time 0 s, and the bubble diameter at that time is 1.0.

図4から、水蒸気濃度が31mol%の大気の場合に対して、水蒸気濃度が3mol%の大気、及び水蒸気濃度が1mol%以下のN、CO又はArの場合は、気泡の収縮速度が速くなった。
この結果から、雰囲気中の水蒸気濃度が低いほうが泡が収縮しやすい、つまり泡が消失しやすく好ましいことが判明した。
From FIG. 4, in the case of the atmosphere having a water vapor concentration of 31 mol%, the air bubble contraction rate is faster in the air having a water vapor concentration of 3 mol% and in the case of N 2 , CO 2 or Ar having a water vapor concentration of 1 mol% or less. became.
From this result, it was found that the lower the water vapor concentration in the atmosphere, the easier the bubbles to shrink, that is, the bubbles easily disappear.

<実施例4>
次に、減圧脱泡処理により泡が溶融ガラス表面に浮上しその後破泡・消滅する様子を、各種の雰囲気水蒸気濃度(1mol%,9mol%,13mol%,19mol%,22mol%,35mol%,70mol%)及びガラス組成(ソーダライムガラス:組成A、組成B、組成C)ごとに測定した。ここでは泡の様子の観察が可能となるように、50ccの透明石英ガラスビーカーを容器として用い、約50gのガラスを溶解したときの泡層の厚さを測定した。また溶融ガラス表面に浮上した泡の数(B個)及び溶融ガラス表面に達して破泡・消滅した泡の数(B個)をCCDカメラで観察してカウントし、破泡率の値(B/B%)を算出した。泡層の厚さ(mm)及び破泡率(%)下記表2に示す。
<Example 4>
Next, various atmospheric water vapor concentrations (1 mol%, 9 mol%, 13 mol%, 19 mol%, 22 mol%, 35 mol%, 70 mol) are shown in which the bubbles float on the surface of the molten glass by vacuum defoaming and then break and disappear. %) And glass composition (soda lime glass: composition A, composition B, composition C). Here, the thickness of the foam layer when about 50 g of glass was melted was measured using a 50 cc transparent quartz glass beaker as a container so that the state of the foam could be observed. The counted by observing the number of bubbles that rise to the molten glass surface (B S number) and the number of bubbles and foam-breaking and disappearance reached molten glass surface (B B number) by the CCD camera, the value of Yabuawaritsu (B B / B S %) was calculated. The thickness (mm) and the bubble breaking rate (%) of the foam layer are shown in Table 2 below.

なお、いずれのサンプルの場合も溶融ガラスの温度を1200℃に加熱した。容器内の絶対圧力は、組成Aの場合18.7kPa、組成Bの場合10.3kPa、組成Cの場合14.4kPaとした。また、組成A、組成B、組成Cにおける各成分の含有率は下記表3に示すとおりとした。表3における%は質量%を示す。   In all cases, the temperature of the molten glass was heated to 1200 ° C. The absolute pressure in the container was 18.7 kPa for composition A, 10.3 kPa for composition B, and 14.4 kPa for composition C. In addition, the content of each component in Composition A, Composition B, and Composition C was as shown in Table 3 below. In Table 3, “%” indicates mass%.

Figure 0005434077
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Figure 0005434077
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表2から、容器内の雰囲気の水蒸気濃度が高いほど破泡率が低く、気泡が残存することを確認できる。具体的には、雰囲気の水蒸気濃度が60mol%を超えると泡層が20mm以上の厚さとなるが、60mol%以下であると泡層が薄くなることが確認できる。なお、水蒸気濃度が60mol%超の場合は、CCDカメラで観察している際に溶融ガラス界面が急激に上昇し、いわゆる突沸現象が生じた。また、容器内の雰囲気の水蒸気濃度が15mol%未満の場合、破泡率が高くなり、好ましいことが分かった。すなわち、容器内の雰囲気の水蒸気濃度が60mol%以下であると突沸現象を防止でき泡層を薄くすることができるとともに、前記水蒸気濃度をさらに低くすると破泡率が高くなり泡が消滅することが判明した。   From Table 2, it can be confirmed that the higher the water vapor concentration of the atmosphere in the container, the lower the bubble breaking rate and the bubbles remain. Specifically, when the water vapor concentration in the atmosphere exceeds 60 mol%, the foam layer has a thickness of 20 mm or more, but when it is 60 mol% or less, it can be confirmed that the foam layer becomes thin. When the water vapor concentration is more than 60 mol%, the interface of the molten glass suddenly increased while observing with a CCD camera, and so-called bumping phenomenon occurred. Moreover, when the water vapor | steam density | concentration of the atmosphere in a container is less than 15 mol%, it turned out that a bubble breaking rate becomes high and is preferable. That is, when the water vapor concentration in the atmosphere in the container is 60 mol% or less, bumping phenomenon can be prevented and the foam layer can be made thin, and when the water vapor concentration is further lowered, the bubble breaking rate is increased and the bubbles disappear. found.

本発明は、溶融ガラスの減圧脱泡装置及び減圧脱泡工程を具備するガラス製造方法に適用でき、特に泡の少ない高品質のディスプレイ用ガラスの製造に好適である。

なお、2006年8月30日に出願された日本特許出願2006−233441号の明細書、特許請求の範囲、図面及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be applied to a glass manufacturing method including a vacuum degassing apparatus and a vacuum degassing step for molten glass, and is particularly suitable for manufacturing high-quality display glass with few bubbles.

It should be noted that the entire contents of the specification, claims, drawings and abstract of Japanese Patent Application No. 2006-233441 filed on August 30, 2006 are cited here as disclosure of the specification of the present invention. Incorporated.

Claims (9)

減圧脱泡槽の雰囲気ガスの水蒸気濃度を60mol%以下に調整しながら溶融ガラスを減圧脱泡する工程を具備する、ガラス製造方法。 A glass manufacturing method comprising a step of degassing molten glass while adjusting a water vapor concentration of atmospheric gas in a vacuum degassing tank to 60 mol% or less. 前記減圧脱泡槽の雰囲気ガスへ低水分ガスを導入することにより、前記雰囲気ガスの水蒸気濃度を60mol%以下とする、請求項1に記載のガラス製造方法。   The glass manufacturing method of Claim 1 which makes the water vapor | steam density | concentration of the said atmospheric gas 60 mol% or less by introduce | transducing low moisture gas to the atmospheric gas of the said pressure reduction degassing tank. 前記雰囲気ガスの水蒸気濃度を30mol%以下に調整する、請求項1又は2に記載のガラス製造方法。 The glass manufacturing method of Claim 1 or 2 which adjusts the water vapor | steam density | concentration of the said atmospheric gas to 30 mol% or less. 前記低水分ガスの酸素濃度(体積%)が空気中の酸素濃度(体積%)よりも低い、請求項2又は3に記載のガラス製造方法。   The glass manufacturing method of Claim 2 or 3 whose oxygen concentration (volume%) of the said low moisture gas is lower than the oxygen concentration (volume%) in air. 前記低水分ガスの酸素濃度(体積%)が15体積%以下である、請求項4に記載のガラス製造方法。   The glass manufacturing method of Claim 4 whose oxygen concentration (volume%) of the said low moisture gas is 15 volume% or less. 溶融ガラスを減圧脱泡するための減圧脱泡槽の雰囲気ガスの水蒸気濃度を測定し、その水蒸気濃度の測定結果に基いて、前記減圧脱泡槽の前記雰囲気ガスへ低水分ガスを導入することにより、前記減圧脱泡槽の前記雰囲気ガスの水蒸気濃度を60mol%以下に調整するガラス製造方法。   Measure the water vapor concentration of the atmospheric gas in the vacuum degassing tank for vacuum degassing of the molten glass, and introduce low moisture gas into the atmospheric gas in the vacuum degassing tank based on the measurement result of the water vapor concentration The glass manufacturing method which adjusts the water vapor | steam density | concentration of the said atmospheric gas of the said pressure reduction degassing tank to 60 mol% or less. 減圧吸引される減圧ハウジングと、この減圧ハウジング内に設けられ、溶融ガラスの減圧脱泡を行う減圧脱泡槽と、この減圧脱泡槽に連通して設けられ、減圧脱泡前の溶融ガラスを前記減圧脱泡槽に導入する導入手段と、前記減圧脱泡槽に連通して設けられ、減圧脱泡後の溶融ガラスを前記減圧脱泡槽から導出する導出手段とを有する溶融ガラスの減圧脱泡装置であって、
前記減圧脱泡槽の雰囲気ガスの水蒸気濃度を測定する水蒸気濃度測定手段と、
前記減圧脱泡槽の内部の上部空間へ低水分ガスを導入する低水分ガス導入手段と
を更に有する溶融ガラスの減圧脱泡装置。
A decompression housing that is sucked under reduced pressure, a decompression deaeration tank that is provided in the decompression housing and performs decompression defoaming of the molten glass, and is provided in communication with the decompression defoaming tank. Vacuum degassing of molten glass, which has introduction means for introducing into the vacuum degassing tank, and a derivation means provided in communication with the vacuum degassing tank and for deriving the molten glass after vacuum degassing from the vacuum degassing tank. A foam device,
Water vapor concentration measuring means for measuring the water vapor concentration of the atmospheric gas in the vacuum degassing tank;
A vacuum degassing apparatus for molten glass further comprising low moisture gas introduction means for introducing a low moisture gas into the upper space inside the vacuum degassing tank.
前記減圧脱泡装置に、前記雰囲気ガスの水蒸気濃度を所望の値となるように制御できる水蒸気濃度制御手段と、前記制御手段からの信号により低水分ガスの導入量を制御するガス量制御手段をさらに有する請求項7に記載の減圧脱泡装置。   The vacuum degassing apparatus includes a water vapor concentration control means capable of controlling the water vapor concentration of the atmospheric gas to a desired value, and a gas amount control means for controlling the introduction amount of the low moisture gas by a signal from the control means. Furthermore, the vacuum degassing apparatus of Claim 7 which has. 前記低水分ガス導入手段が、減圧脱泡槽の上流側に設けられている請求項7又は8に記載の溶融ガラスの減圧脱泡装置。   The vacuum degassing apparatus for molten glass according to claim 7 or 8, wherein the low moisture gas introduction means is provided upstream of the vacuum degassing tank.
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