JP5446244B2 - Electrophotographic photosensitive member using α-phenylstilbene compound, image forming apparatus using the same, and process cartridge for image forming apparatus - Google Patents
Electrophotographic photosensitive member using α-phenylstilbene compound, image forming apparatus using the same, and process cartridge for image forming apparatus Download PDFInfo
- Publication number
- JP5446244B2 JP5446244B2 JP2008325055A JP2008325055A JP5446244B2 JP 5446244 B2 JP5446244 B2 JP 5446244B2 JP 2008325055 A JP2008325055 A JP 2008325055A JP 2008325055 A JP2008325055 A JP 2008325055A JP 5446244 B2 JP5446244 B2 JP 5446244B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- layer
- photosensitive member
- electrophotographic photosensitive
- charge
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Description
本発明は、高いホール輸送性を有すると共に、電荷発生材料とのマッチング性に優れたα−フェニルスチルベン化合物を用いた電子写真感光体、並びにそれを使用した画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジに関するものである。 The present invention relates to an electrophotographic photosensitive member using an α-phenylstilbene compound having high hole transportability and excellent matching with a charge generating material, and an image forming apparatus and a process cartridge for the image forming apparatus using the same. It is about.
有機感光体(以下、電子写真感光体もしくは単に感光体とも称する。)は、可視光から赤外光までの各種露光光源に対応した材料が開発し易いこと、環境汚染の影響が少ない材料を選択できること、製造コストが安いことなどの理由により、無機感光体に対して有利な点が多い。電子写真感光体の電荷輸送剤としては、例えばオキサジアゾール化合物(例えば、特許文献1参照)、オキサゾール化合物(例えば、特許文献2参照)、ピラゾリン化合物(例えば、特許文献3参照)、ヒドラゾン化合物(例えば、特許文献4〜7参照)、ジアミン化合物(例えば、特許文献8参照)、スチルベン化合物(例えば、特許文献9〜12参照)、ブタジエン化合物(例えば、特許文献13参照)等がある。これらの電荷輸送剤は優れた特性を有し、実用化されているものがある。
しかしながら近年、画像形成装置の高速化並びに小型化が急速に進行するに伴って、電荷輸送機能の更なる向上が必要不可欠となっており、特に高いホール輸送性を有する電荷輸送剤の開発が強く求められている。
For organic photoreceptors (hereinafter also referred to as electrophotographic photoreceptors or simply photoreceptors), materials that are easy to develop for various exposure light sources from visible light to infrared light are selected, and materials that are less affected by environmental pollution are selected. There are many advantages over inorganic photoreceptors due to the fact that they can be made and the manufacturing costs are low. Examples of the charge transport agent for the electrophotographic photoreceptor include an oxadiazole compound (see, for example, Patent Document 1), an oxazole compound (see, for example, Patent Document 2), a pyrazoline compound (see, for example, Patent Document 3), and a hydrazone compound ( Examples thereof include Patent Documents 4 to 7), diamine compounds (for example, see Patent Document 8), stilbene compounds (for example, see Patent Documents 9 to 12), butadiene compounds (for example, see Patent Document 13), and the like. Some of these charge transfer agents have excellent characteristics and have been put into practical use.
However, in recent years, as the speed and miniaturization of image forming apparatuses rapidly progress, further improvement of the charge transport function has become indispensable. In particular, the development of charge transport agents having high hole transportability is strongly developed. It has been demanded.
本発明は上記従来技術の現状に鑑みてなされたものであり、高速応答性に優れ、高感度な電子写真感光体、並びにそれを使用した画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジを提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the current state of the prior art, and provides an electrophotographic photoreceptor excellent in high-speed response and high sensitivity, an image forming apparatus using the same, and a process cartridge for the image forming apparatus. With the goal.
本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、少なくとも高いホール輸送性を有すると共に電荷発生材料とのマッチング性に優れたα−フェニルスチルベンを電荷輸送剤として使用することで上記課題が解決されることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of intensive studies, the present inventors have solved the above problems by using α-phenylstilbene as a charge transport agent that has at least high hole transportability and excellent matching with a charge generation material. As a result, the present invention has been completed.
即ち、上記課題を解決するために本発明に係る電子写真感光体、並びにそれを使用した画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジは、具体的には下記(1)〜(13)に記載の技術的特徴を有する。 Specifically, in order to solve the above problems, an electrophotographic photosensitive member according to the present invention, an image forming apparatus using the same, and a process cartridge for the image forming apparatus are specifically described in the following (1) to (13) . Has technical features.
(1):導電性支持体上に感光層を有し、該感光層は下記一般式(III)で示されるα−フェニルスチルベン化合物を含有することを特徴とする電子写真感光体である。 (1) : An electrophotographic photosensitive member having a photosensitive layer on a conductive support, the photosensitive layer containing an α-phenylstilbene compound represented by the following general formula (III).
(式(III)中、R5、R8、R9、R10及びR11は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、又は置換もしくは無置換のアリール基を表し、それぞれ同一であってもよく、別異であってもよい。) (In the formula (III), R 5 , R 8 , R 9 , R 10 and R 11 represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, or a substituted or unsubstituted aryl group, and may be the same, It may be different.)
(2):前記感光層は、さらにフタロシアニン顔料及び/又はアゾ顔料を含有することを特徴とする上記(1)に記載の電子写真感光体である。 (2) The electrophotographic photosensitive member according to (1 ), wherein the photosensitive layer further contains a phthalocyanine pigment and / or an azo pigment.
(3):前記アゾ顔料は、下記一般式(IV)で示される化合物を含むことを特徴とする上記(2)に記載の電子写真感光体である。 (3) The electrophotographic photosensitive member according to (2) , wherein the azo pigment includes a compound represented by the following general formula (IV).
(式(IV)中、Cp1及びCp2は下記式(V)で示されるカプラー残基を表し、それぞれ同一であってもよく、別異であってもよい。R201及びR202は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、又はシアノ基を表し、それぞれ同一であってもよく、別異であってもよい。) (In the formula (IV), Cp 1 and Cp 2 represent coupler residues represented by the following formula (V), and may be the same or different. R 201 and R 202 are hydrogen. An atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, or a cyano group, which may be the same or different.
(式(V)中、R203は水素原子、アルキル基、又はアリール基を表し、R204、R205、R206、R207及びR208は水素原子、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、アルキル基、アルコキシ基、ジアルキルアミノ基、又は水酸基を表し、それぞれ同一であってもよく、別異であってもよい。Zは炭素環式芳香族基又は複素環式芳香族基を形成するのに必要な原子群を表し、置換基を有していてもよい。) (In the formula (V), R 203 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, and R 204 , R 205 , R 206 , R 207 and R 208 are a hydrogen atom, a nitro group, a cyano group, a halogen atom, a halogen atom. Represents an alkyl group, an alkyl group, an alkoxy group, a dialkylamino group, or a hydroxyl group, and may be the same or different, and Z is a carbocyclic aromatic group or heterocyclic aromatic group. Represents a group of atoms necessary for forming a ring, and may have a substituent.)
(4):前記アゾ顔料のCp1とCp2とが別異であることを特徴とする上記(3)に記載の電子写真感光体である。 (4) The electrophotographic photosensitive member according to (3) , wherein Cp 1 and Cp 2 of the azo pigment are different from each other.
(5):前記フタロシアニン顔料は、チタニルフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、及びクロロガリウムフタロシアニンの中から選ばれるいずれか1又は2以上を含むことを特徴とする上記(2)乃至(4)のいずれか1項に記載の電子写真感光体である。 (5) : The phthalocyanine pigment includes any one or two or more selected from titanyl phthalocyanine, hydroxygallium phthalocyanine, and chlorogallium phthalocyanine, and any one of the above (2) to (4) The electrophotographic photosensitive member described in the item.
(6):前記チタニルフタロシアニンは、CuKα特性X線(1.542Å)を用いたX線回折スペクトルにおいて、ブラック角度(2θ±0.2°)のうちの少なくとも27.2°に最大強度の回折ピークを有し、9.4°、9.6°、24.0°に主要ピークを有し、7.3°に最小角度の回折ピークを有し、前記7.3°と9.4°との間に回折ピークを有しなく、26.3°に回折ピークを有しないチタニルフタロシアニン結晶であることを特徴とする上記(5)に記載の電子写真感光体である。 (6) : The titanyl phthalocyanine has a maximum intensity diffraction at least 27.2 ° out of the black angle (2θ ± 0.2 °) in an X-ray diffraction spectrum using CuKα characteristic X-ray (1.542 °). It has a peak, 9.4 °, 9.6 °, main peak at 24.0 °, a diffraction peak with a minimum angle at 7.3 °, 7.3 ° and 9.4 ° The electrophotographic photosensitive member as described in (5) above, which is a titanyl phthalocyanine crystal having no diffraction peak between and 26.3 °.
(7):前記導電性支持体と、前記感光層との間に電荷ブロッキング層を有することを特徴とする上記(1)乃至(6)のいずれか1項に記載の電子写真感光体である。 (7) The electrophotographic photosensitive member according to any one of (1) to (6) above, wherein a charge blocking layer is provided between the conductive support and the photosensitive layer. .
(8):前記感光層上に保護層を有することを特徴とする上記(1)乃至(7)のいずれか1項に記載の電子写真感光体である。 (8) The electrophotographic photosensitive member according to any one of (1) to (7) , wherein a protective layer is provided on the photosensitive layer.
(9):前記保護層は、1010Ω・cm以上の比抵抗を有する無機顔料及び/又は金属酸化物を含有することを特徴とする上記(8)に記載の電子写真感光体である。 (9) The electrophotographic photosensitive member according to (8) , wherein the protective layer contains an inorganic pigment and / or a metal oxide having a specific resistance of 10 10 Ω · cm or more.
(10):前記保護層は、少なくとも電荷輸送性構造を有しない3官能以上のラジカル重合性モノマーと、1官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物とを硬化して形成されることを特徴とする上記(8)又は(9)に記載の電子写真感光体である。 (10) The protective layer is formed by curing at least a trifunctional or higher functional radical polymerizable monomer having no charge transport structure and a radical polymerizable compound having a monofunctional charge transport structure. The electrophotographic photosensitive member according to (8) or (9) , wherein the electrophotographic photosensitive member is characterized.
(11):少なくとも帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段、及び電子写真感光体を具備してなる画像形成装置において、該電子写真感光体は、上記(1)乃至(10)のいずれか1項に記載の電子写真感光体であることを特徴とする画像形成装置である。
(11) : In an image forming apparatus comprising at least a charging unit, an exposure unit, a developing unit, a transfer unit, and an electrophotographic photosensitive member, the electrophotographic photosensitive member is any one of the above (1) to (10) 2. An image forming apparatus comprising the electrophotographic photosensitive member according to
(12):電子写真感光体と、帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段、及びクリーニング手段から選ばれる少なくとも1つの手段と、が一体となったカートリッジを搭載し、かつ該カートリッジが画像形成装置本体に対して着脱自在であることを特徴とする上記(11)に記載の画像形成装置である。 (12) A cartridge in which an electrophotographic photosensitive member and at least one means selected from a charging means, an exposure means, a developing means, a transfer means, and a cleaning means are mounted, and the cartridge forms an image. The image forming apparatus according to (11) , wherein the image forming apparatus is detachable from the apparatus main body.
(13):電子写真感光体と、帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段、及びクリーニング手段から選ばれる少なくとも1つの手段と、が一体となった画像形成装置用カートリッジにおいて、前記電子写真感光体は、上記(1)乃至(10)のいずれか1項に記載の電子写真感光体であることを特徴とする画像形成装置用プロセスカートリッジである。 (13) In the image forming apparatus cartridge in which the electrophotographic photosensitive member and at least one unit selected from a charging unit, an exposure unit, a developing unit, a transfer unit, and a cleaning unit are integrated. The body is an electrophotographic photosensitive member according to any one of (1) to (10) , and is a process cartridge for an image forming apparatus.
本発明によれば、高速応答性に優れ、高感度な電子写真感光体、並びにそれを使用した画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジを提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide an electrophotographic photoreceptor excellent in high-speed response and high sensitivity, an image forming apparatus using the same, and a process cartridge for the image forming apparatus.
次に、図面に沿って本発明のα−フェニルスチルベン化合物を用いる電子写真感光体をより詳細に説明する。
<電子写真感光体の層構成について>
本発明における電子写真感光体の層構成は、単層であっても又は複数積層された構成であってもよく、層構成に限定されない。例えば、以下に示す層構成が挙げられる。図1は、導電性支持体上に感光層が形成された電子写真感光体である。また、図2のように感光層と導電性支持体との間に下引き層を設けても良い。図3は、導電性支持体上に電荷発生層と電荷輸送層を順次積層した電子写真感光体である。また、図4のように電荷発生層と導電性支持体との間に下引き層を設けても良い。なお、これらの層構成は代表的なものを示したものであって、本発明はこれらの層構成に限定されるものではない。
Next, the electrophotographic photoreceptor using the α-phenylstilbene compound of the present invention will be described in more detail with reference to the drawings.
<About the layer structure of the electrophotographic photoreceptor>
The layer structure of the electrophotographic photosensitive member in the present invention may be a single layer or a stacked structure, and is not limited to the layer structure. For example, the following layer structure is mentioned. FIG. 1 shows an electrophotographic photosensitive member in which a photosensitive layer is formed on a conductive support. Further, as shown in FIG. 2, an undercoat layer may be provided between the photosensitive layer and the conductive support. FIG. 3 shows an electrophotographic photosensitive member in which a charge generation layer and a charge transport layer are sequentially laminated on a conductive support. Further, an undercoat layer may be provided between the charge generation layer and the conductive support as shown in FIG. Note that these layer configurations are representative, and the present invention is not limited to these layer configurations.
<導電性支持体について>
導電性支持体としては、体積抵抗1010Ω・cm以下の導電性を示すものが挙げられ、例えば、アルミニウム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、金、銀、白金等の金属、酸化スズ、酸化インジウム等の金属酸化物を、蒸着又はスパッタリングにより、フィルム状又は円筒状のプラスチック、紙に被覆したもの;アルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレス等の板及びそれらを、押し出し、引き抜き等の工法で素管化後、切削、超仕上げ、研摩等の表面処理した管等を使用することができる。また、特開昭52−36016号公報に開示されたエンドレスニッケルベルト、エンドレスステンレスベルトも導電性支持体として用いることができる。
<About conductive support>
Examples of the conductive support include those having a volume resistance of 10 10 Ω · cm or less, such as metals such as aluminum, nickel, chromium, nichrome, copper, gold, silver, platinum, tin oxide, oxidation Metal oxide such as indium coated on film or cylindrical plastic or paper by vapor deposition or sputtering; aluminum, aluminum alloy, nickel, stainless steel plates and the like, and extruding, drawing, etc. After pipe formation, a surface-treated pipe such as cut, superfinished or polished can be used. Further, endless nickel belts and endless stainless steel belts disclosed in JP-A-52-36016 can also be used as the conductive support.
さらに、上記の導電性支持体上に導電性粉体をバインダー樹脂に分散させて導電性層を形成(塗工などを用いて形成)したものも、導電性支持体として用いることができる。このような導電性粉体としては、カーボンブラック、アセチレンブラック;アルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀等の金属粉、導電性酸化スズ、ITO等の金属酸化物粉体等が挙げられる。また、同時に用いられるバインダー樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ(N−ビニルカルバゾール)、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂が挙げられる。導電性層は、導電性粉体とバインダー樹脂を、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、メチルエチルケトン、トルエン等の溶剤に分散させて塗布することにより設けることができる。さらに、ポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、塩化ゴム、ポリテトラフルオロエチレン系フッ素樹脂等の素材に導電性粉体を含有させた熱収縮チューブを用いて、円筒基体上に導電性層を設けたものも、導電性支持体として用いることができる。 Furthermore, what formed the electroconductive layer by dispersing electroconductive powder in binder resin on said electroconductive support body (it formed using coating etc.) can also be used as an electroconductive support body. Examples of such conductive powders include carbon black, acetylene black; metal powders such as aluminum, nickel, iron, nichrome, copper, zinc, silver, and metal oxide powders such as conductive tin oxide and ITO. It is done. The binder resin used at the same time is polystyrene, styrene-acrylonitrile copolymer, styrene-butadiene copolymer, styrene-maleic anhydride copolymer, polyester, polyvinyl chloride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, Polyvinyl acetate, polyvinylidene chloride, polyarylate, phenoxy resin, polycarbonate, cellulose acetate resin, ethyl cellulose resin, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polyvinyl toluene, poly (N-vinylcarbazole), acrylic resin, silicone resin, epoxy resin, melamine Examples thereof include thermoplastic resins such as resins, urethane resins, phenol resins, and alkyd resins, thermosetting resins, and photocurable resins. The conductive layer can be provided by dispersing conductive powder and a binder resin in a solvent such as tetrahydrofuran, dichloromethane, methyl ethyl ketone, or toluene and applying the conductive powder and the binder resin. Furthermore, using a heat-shrinkable tube containing conductive powder in materials such as polyvinyl chloride, polypropylene, polyester, polystyrene, polyvinylidene chloride, polyethylene, chlorinated rubber, polytetrafluoroethylene fluororesin, etc. Those provided with a conductive layer can also be used as a conductive support.
また、これらの中でも陽極酸化皮膜処理を簡便に行うことのできるアルミニウムからなる円筒状支持体が良好に使用可能である。このアルミニウムとは、純アルミニウム系又はアルミニウム合金のいずれかをも含むものである。具体的には、JIS1000番台、3000番台、6000番台のアルミニウム又はアルミニウム合金が最も適している。陽極酸化皮膜は、各種金属、各種合金を電解質溶液中において陽極酸化処理したものであるが、中でもアルミニウムもしくはアルミニウム合金を電解質溶液中で陽極酸化処理を行ったアルマイトと呼ばれる被膜は、残留電位上昇が少なく、また反転現像を用いた際に発生する地汚れの防止効果が高く有効である。 Of these, a cylindrical support made of aluminum that can be easily subjected to the anodic oxide film treatment can be used favorably. This aluminum includes either a pure aluminum system or an aluminum alloy. Specifically, aluminum or aluminum alloy of JIS 1000s, 3000s, and 6000s is most suitable. Anodized films are anodized various metals and various alloys in an electrolyte solution. Among them, a film called anodized aluminum or aluminum alloy that has been anodized in an electrolyte solution has an increase in residual potential. It is less effective and has a high effect of preventing scumming when reversal development is used.
陽極酸化処理は、クロム酸、硫酸、蓚酸、リン酸、硼酸、スルファミン酸などの酸性浴中において行われる。このうち、硫酸浴による処理が最も適している。一例を挙げると、硫酸濃度:10〜20%、浴温:5〜25℃、電流密度:1〜4A/dm2、電解電圧:5〜30V、処理時間:5〜60分程度の範囲で処理が行われるが、これに限定するものではない。このように作製される陽極酸化皮膜は多孔質であり、また絶縁性が高いため、表面が非常に不安定な状況である。このため、作製後の経時変化が存在し、陽極酸化皮膜の物性値が変化しやすい。これを回避するため、陽極酸化皮膜を更に封孔処理することが好ましい。封孔処理には、フッ化ニッケルや酢酸ニッケルを含有する水溶液に陽極酸化皮膜を浸漬する方法、陽極酸化皮膜を沸騰水に浸漬する方法、加圧水蒸気により処理する方法などがある。このうち、酢酸ニッケルを含有する水溶液に浸漬する方法が最も好ましい。封孔処理に引き続き、陽極酸化皮膜の洗浄処理が行われる。これは、封孔処理により付着した金属塩等の過剰なものを除去することが主な目的である。これが支持体(陽極酸化皮膜)表面に過剰に残存すると、この上に形成する塗膜の品質に悪影響を与えるだけでなく、一般的に低抵抗成分が残ってしまうため、逆に地汚れの発生原因にもなってしまう。洗浄は純水1回の洗浄でも構わないが、通常は多段階の洗浄を行う。この際、最終の洗浄液が可能な限りきれいな(脱イオンされた)ものであることが好ましい。また、多段階の洗浄工程のうち1工程に接触部材による物理的なこすり洗浄を施すことが好ましい。以上のようにして形成される陽極酸化皮膜の膜厚は、5〜15μm程度が好ましい。これより薄すぎる場合には陽極酸化皮膜としてのバリア性の効果が充分でなく、これより厚すぎる場合には電極としての時定数が大きくなりすぎて、残留電位の発生や感光体のレスポンスが低下する場合がある。 The anodizing treatment is performed in an acidic bath such as chromic acid, sulfuric acid, oxalic acid, phosphoric acid, boric acid, sulfamic acid. Of these, treatment with a sulfuric acid bath is most suitable. For example, sulfuric acid concentration: 10 to 20%, bath temperature: 5 to 25 ° C., current density: 1 to 4 A / dm 2 , electrolytic voltage: 5 to 30 V, treatment time: treatment in the range of about 5 to 60 minutes However, the present invention is not limited to this. Since the anodic oxide film produced in this way is porous and has high insulation, the surface is very unstable. For this reason, there is a change with time after fabrication, and the physical property value of the anodized film is likely to change. In order to avoid this, it is preferable to further seal the anodized film. Examples of the sealing treatment include a method of immersing the anodized film in an aqueous solution containing nickel fluoride and nickel acetate, a method of immersing the anodized film in boiling water, and a method of treating with pressurized steam. Among these, the method of immersing in the aqueous solution containing nickel acetate is the most preferable. Subsequent to the sealing treatment, the anodic oxide film is washed. The main purpose of this is to remove excess metal salts and the like attached by the sealing treatment. If this remains excessively on the surface of the support (anodized film), it not only adversely affects the quality of the coating film formed on this surface, but also generally low resistance components remain, resulting in the occurrence of soiling. It can also be a cause. Cleaning may be performed with pure water only once, but usually, multistage cleaning is performed. At this time, it is preferable that the final cleaning liquid is as clean as possible (deionized). Moreover, it is preferable to perform physical rubbing cleaning with a contact member in one of the multi-stage cleaning processes. The thickness of the anodized film formed as described above is preferably about 5 to 15 μm. If it is too thin, the barrier effect as an anodic oxide film is not sufficient, and if it is too thick, the time constant as an electrode becomes too large, resulting in the generation of residual potential and the response of the photoreceptor. There is a case.
<感光層について>
次に、感光層について説明する。
感光層は、単層であっても複数の積層(積層型)であってもよい。
<About photosensitive layer>
Next, the photosensitive layer will be described.
The photosensitive layer may be a single layer or a plurality of stacked layers (stacked type).
<積層型感光層について>
先ず、積層型から説明する。積層型感光層は、少なくとも電荷発生層及び電荷輸送層が積層されることによって構成されている。
<About laminated photosensitive layer>
First, the laminated type will be described. The laminated photosensitive layer is constituted by laminating at least a charge generation layer and a charge transport layer.
<電荷発生層について>
電荷発生層は、電荷発生剤を主成分とする層である。電荷発生層には、公知の電荷発生剤を用いることが可能である。例えば、モノアゾ顔料、ジスアゾ顔料、非対称ジスアゾ顔料、トリスアゾ顔料、カルバゾール骨格を有するアゾ顔料(特開昭53−95033号公報に記載)、ジスチリルベンゼン骨格を有するアゾ顔料(特開昭53−133445号公報)、トリフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料(特開昭53−132347号公報に記載)、ジフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジベンゾチオフェン骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−21728号公報に記載)、フルオレノン骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−22834号公報に記載)、オキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−12742号公報に記載)、ビススチルベン骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−17733号公報に記載)、ジスチリルオキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−2129号公報に記載)、ジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−14967号公報に記載)等のアゾ系顔料、アズレニウム塩顔料、スクエアリック酸メチン顔料、ペリレン系顔料、アントラキノン系または多環キノン系顔料、キノンイミン系顔料、ジフェニルメタン及びトリフェニルメタン系顔料、ベンゾキノン及びナフトキノン系顔料、シアニン及びアゾメチン系顔料、インジゴイド系顔料、ビスベンズイミダゾール系顔料、また下記一般式(1)で表される金属フタロシアニン、無金属フタロシアニン等のフタロシアニン系顔料等が挙げられる。なお、これらの電荷発生剤は、単独で用いても2種以上混合して用いてもよい。
<About the charge generation layer>
The charge generation layer is a layer mainly composed of a charge generation agent. A known charge generating agent can be used for the charge generating layer. For example, monoazo pigments, disazo pigments, asymmetrical disazo pigments, trisazo pigments, azo pigments having a carbazole skeleton (described in JP-A-53-95033), azo pigments having a distyrylbenzene skeleton (JP-A-53-133445) ), An azo pigment having a triphenylamine skeleton (described in JP-A-53-132347), an azo pigment having a diphenylamine skeleton, and an azo pigment having a dibenzothiophene skeleton (described in JP-A-54-21728) An azo pigment having a fluorenone skeleton (described in JP-A No. 54-22834), an azo pigment having an oxadiazole skeleton (described in JP-A No. 54-12742), an azo pigment having a bis-stilbene skeleton (special Described in Japanese Utility Model Laid-Open No. 54-17733), distyryloxadiazole skeleton Azo pigments such as azo pigments (described in JP-A No. 54-2129), azo pigments having a distyrylcarbazole skeleton (described in JP-A No. 54-14967), azulenium salt pigments, methine squaric acid Pigments, perylene pigments, anthraquinone or polycyclic quinone pigments, quinoneimine pigments, diphenylmethane and triphenylmethane pigments, benzoquinone and naphthoquinone pigments, cyanine and azomethine pigments, indigoid pigments, bisbenzimidazole pigments, and Examples thereof include phthalocyanine pigments such as metal phthalocyanine and metal-free phthalocyanine represented by the following general formula (1). These charge generating agents may be used alone or in combination of two or more.
式(1)中、M(中心金属)は、金属及び無金属(水素)の元素を表す。ここであげられるM(中心金属)は、H、Li、Be、Na、Mg、Al、Si、K、Ca、Sc、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ga、Ge、Y、Zr、Nb、Mo、Tc、Ru、Rh、Pd、Ag、Cd、In、Sn、Sb、Ba、Hf、Ta、W、Re、Os、Ir、Pt、Au、Hg、TI、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Th、Pa、U、Np、Am等の単体、もしく酸化物、塩化物、フッ化物、水酸化物、臭化物などの2種以上の元素からなる。中心金属は、これらの元素に限定されるものではない。 In formula (1), M (central metal) represents a metal and a metal-free (hydrogen) element. M (center metal) mentioned here is H, Li, Be, Na, Mg, Al, Si, K, Ca, Sc, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Ga , Ge, Y, Zr, Nb, Mo, Tc, Ru, Rh, Pd, Ag, Cd, In, Sn, Sb, Ba, Hf, Ta, W, Re, Os, Ir, Pt, Au, Hg, TI , La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, Th, Pa, U, Np, Am, etc., or oxide, chloride It consists of two or more elements such as fluoride, fluoride, hydroxide and bromide. The central metal is not limited to these elements.
本発明においてはフタロシアニン骨格を有する電荷発生物質とは、少なくとも上記一般式(1)の基本骨格を有していればよく、2量体、3量体など多量体構造を持つもの、さらに高次の高分子構造を持つものでもかまわない。また、基本骨格に様々な置換基があるものでもかまわない。 In the present invention, the charge generation material having a phthalocyanine skeleton may have at least the basic skeleton of the above general formula (1), and those having a multimeric structure such as a dimer and a trimer, and higher order It may have a polymer structure of In addition, the basic skeleton may have various substituents.
電荷発生層に必要に応じて用いられる結着樹脂としては、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネート、シリコ−ン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリアクリルアミド、ポリビニルベンザール、ポリエステル、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリフェニレンオキシド、ポリビニルピリジン、セルロース系樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等が挙げられる。これらの結着樹脂は、単独または2種以上の混合物として用いることができる。 The binder resin used for the charge generation layer as needed includes polyamide, polyurethane, epoxy resin, polyketone, polycarbonate, silicone resin, acrylic resin, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polyvinyl ketone, polystyrene, poly-N-. Examples thereof include vinyl carbazole, polyacrylamide, polyvinyl benzal, polyester, phenoxy resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polyvinyl acetate, polyphenylene oxide, polyvinyl pyridine, cellulose resin, casein, polyvinyl alcohol, and polyvinyl pyrrolidone. These binder resins can be used alone or as a mixture of two or more.
また、用いられる溶剤としては、イソプロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチルセルソルブ、酢酸エチル、酢酸メチル、ジクロロメタン、ジクロロエタン、モノクロロベンゼン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、リグロイン等の一般に用いられる有機溶剤が挙げられるが、中でも、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、エーテル系溶媒を使用することが好ましい。これらは、単独で用いても2種以上混合して用いてもよい。 Moreover, as a solvent to be used, generally used organic materials such as isopropanol, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, tetrahydrofuran, dioxane, ethyl cellosolve, ethyl acetate, methyl acetate, dichloromethane, dichloroethane, monochlorobenzene, cyclohexane, toluene, xylene, ligroin, etc. Among them, it is preferable to use a ketone solvent, an ester solvent, or an ether solvent. These may be used alone or in combination of two or more.
電荷発生層の塗工液は、電荷発生剤を必要に応じてバインダー樹脂(結着樹脂)と共に、ボールミル、アトライター、サンドミル、超音波等の公知の分散方法を用いて溶剤中に分散して得ることができる。なお、バインダー樹脂の添加は、電荷発生剤の分散前及び分散後のどちらでも構わない。電荷発生層の塗工液は、電荷発生剤、溶媒及びバインダー樹脂を主成分とするが、その中には、増感剤、分散剤、界面活性剤、シリコーンオイル等の添加剤が含まれていてもよい。場合によっては、電荷発生層に後述の電荷輸送剤を添加することも可能である。バインダー樹脂の添加量は、電荷発生剤100重量部に対して、通常、0〜500重量部であり、10〜300重量部が好ましい。 The coating solution for the charge generation layer is obtained by dispersing the charge generation agent in a solvent using a known dispersion method such as a ball mill, an attritor, a sand mill, or an ultrasonic wave together with a binder resin (binder resin) as necessary. Can be obtained. The binder resin may be added before or after the charge generator is dispersed. The coating solution for the charge generation layer is mainly composed of a charge generation agent, a solvent and a binder resin, and it contains additives such as a sensitizer, a dispersant, a surfactant, and silicone oil. May be. In some cases, it is possible to add a charge transporting agent described later to the charge generation layer. The addition amount of the binder resin is usually 0 to 500 parts by weight, preferably 10 to 300 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the charge generator.
電荷発生層は上記塗工液を用いて導電性支持体上又は後述する下引き層等の上に塗工し、乾燥することにより形成される。塗工方法としては、浸漬塗工法、スプレーコート、ビードコート、ノズルコート、スピナーコート、リングコート等の公知の方法を用いることができる。電荷発生層の膜厚は、通常、0.01〜5μm程度であり、0.1〜2μmが好ましい。また塗工後の乾燥はオーブン等を用いて加熱乾燥される。電荷発生層の乾燥温度は、50〜160℃であることが好ましく、80〜140℃がさらに好ましい。 The charge generation layer is formed by coating on a conductive support or an undercoat layer described later using the coating solution and drying. As the coating method, known methods such as dip coating, spray coating, bead coating, nozzle coating, spinner coating, ring coating, and the like can be used. The thickness of the charge generation layer is usually about 0.01 to 5 μm, preferably 0.1 to 2 μm. Further, drying after coating is performed by heating using an oven or the like. The drying temperature of the charge generation layer is preferably 50 to 160 ° C, more preferably 80 to 140 ° C.
<電荷輸送層について>
電荷輸送層は、電荷輸送剤及びバインダー樹脂を主成分とする。電荷輸送剤には、正孔輸送物質と電子輸送物質とがあるが、本発明においては正孔輸送物質を電荷輸送剤と称する。
<About the charge transport layer>
The charge transport layer is mainly composed of a charge transport agent and a binder resin. The charge transport agent includes a hole transport material and an electron transport material. In the present invention, the hole transport material is referred to as a charge transport agent.
電荷輸送剤の中でも、本発明に係るα−フェニルスチルベン化合物は従来のα−フェニルスチルベン化合物に比べ高いホール輸送性を有するため、高感度の電子写真感光体を作製することができる。 Among charge transporting agents, the α-phenylstilbene compound according to the present invention has a higher hole transportability than conventional α-phenylstilbene compounds, and therefore, a highly sensitive electrophotographic photoreceptor can be produced.
以下に本発明に係るα−フェニルスチルベン化合物について詳細に説明する。
本発明に係るα−フェニルスチルベン化合物は下記一般式(I)で表される。
The α-phenylstilbene compound according to the present invention will be described in detail below.
The α-phenylstilbene compound according to the present invention is represented by the following general formula (I).
上記一般式(I)中、R1、R2、R3及びR4はアルキル基、又は置換もしくは無置換のアリール基を表し、それぞれ同一であってもよく、別異であってもよい。Ar1は置換もしくは無置換のアリレン基を表し、R5は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、又は置換もしくは無置換のアリール基を表す。 In the general formula (I), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each represents an alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group, and may be the same or different. Ar 1 represents a substituted or unsubstituted arylene group, and R 5 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, or a substituted or unsubstituted aryl group.
またより好ましくは、上記一般式(I)中、R1、R2、R3及びR4は置換もしくは無置換のアリール基を表し、それぞれ同一であってもよく、別異であってもよい。Ar1は置換もしくは無置換のフェニレン基、又は置換もしくは無置換のビフェニレン基を表し、R5は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、又は置換もしくは無置換のアリール基を表す。 More preferably, in the general formula (I), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each represents a substituted or unsubstituted aryl group, which may be the same or different. . Ar 1 represents a substituted or unsubstituted phenylene group or a substituted or unsubstituted biphenylene group, and R 5 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, or a substituted or unsubstituted aryl group.
さらに好ましくは下記一般式(II)または(III)で表される化合物である。 More preferred are compounds represented by the following general formula (II) or (III).
上記一般式(II)中、R5、R6、R7、R8及びR9は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、又は置換もしくは無置換のアリール基を表し、それぞれ同一であってもよく、別異であってもよい。 In the general formula (II), R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, or a substituted or unsubstituted aryl group, and may be the same. May be different.
上記一般式(III)中、R5、R8、R9、R10及びR11は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、又は置換もしくは無置換のアリール基を表し、それぞれ同一であってもよく、別異であってもよい。 In the general formula (III), R 5 , R 8 , R 9 , R 10 and R 11 represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, or a substituted or unsubstituted aryl group, and may be the same. May be different.
前記一般式(I)、一般式(II)、および一般式(III)における置換もしくは無置換アリール基としては単環基、多環基(縮合多環基、非縮合多環基)の何れでもよく、一例として以下のものを挙げることができる。例えばフェニル基、ナフチル基、ピレニル基、フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル基、ビフェニル基、ターフェニル基などが挙げられる。 The substituted or unsubstituted aryl group in the general formula (I), the general formula (II), and the general formula (III) may be any of a monocyclic group and a polycyclic group (a condensed polycyclic group or a non-condensed polycyclic group). Well, the following can be mentioned as an example. Examples thereof include a phenyl group, a naphthyl group, a pyrenyl group, a fluorenyl group, an azulenyl group, an anthryl group, a triphenylenyl group, a chrycenyl group, a biphenyl group, and a terphenyl group.
一般式(I)、一般式(II)、および一般式(III)におけるアルキル基としては、鎖状又は分岐鎖状の炭素数1〜20のアルキル基を表し、好ましくは炭素数1〜12のアルキル基である。
具体的には、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、t−ブチル基、s−ブチル基、n−ブチル基、i−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、3,7−ジメチルオクチル基、2−エチルヘキシル基等が挙げられる。
The alkyl group in general formula (I), general formula (II), and general formula (III) represents a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, preferably 1 to 12 carbon atoms. It is an alkyl group.
Specifically, methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, t-butyl group, s-butyl group, n-butyl group, i-butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, Examples include octyl group, nonyl group, decyl group, 3,7-dimethyloctyl group, 2-ethylhexyl group and the like.
アルコキシ基としては、直鎖状又は分岐鎖状の炭素数1〜20のアルコキシ基を表し、好ましくは炭素数1〜12のアルコキシ基である。具体的には上記記載のアルキル基が置換されたアルコキシ基が挙げられる。 The alkoxy group represents a linear or branched alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, and preferably an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms. Specific examples include alkoxy groups substituted with the above-described alkyl groups.
以下に一般式(I)〜(III)で示されるα−フェニルスチルベン化合物の具体例を示す。尚、本発明の電子写真感光体に用いられるα−フェニルスチルベン化合物は以下の具体例に限定されるものではない。 Specific examples of the α-phenylstilbene compounds represented by the general formulas (I) to (III) are shown below. The α-phenylstilbene compound used in the electrophotographic photoreceptor of the present invention is not limited to the following specific examples.
本発明の電子写真感光体に用いられるα−フェニルスチルベン化合物は、パラジウム触媒、第3級ホスフィン類及び塩基の存在下で、一般式(VII)で示されるジトリフラート化合物と一般式(VIII)のアミン化合物とを反応させることにより製造される。なお一般式(VII)で示されるジトリフラート化合物は新規化合物である。 The α-phenylstilbene compound used in the electrophotographic photosensitive member of the present invention comprises a ditriflate compound represented by the general formula (VII) and a general formula (VIII) in the presence of a palladium catalyst, a tertiary phosphine and a base. It is produced by reacting with an amine compound. The ditriflate compound represented by the general formula (VII) is a novel compound.
トリフラート化合物はJ.Org.Chem.Vol.41,No.26,4099,1976に一般的な合成法が記載されているが、一般式(VII)で示されるジトリフラート化合物も同様に、対応するジフェノール化合物をピリジンに溶解しこれにトリフルオロメタンスルホン酸無水物を0℃で滴下したのち室温で撹拌することにより容易に得られる。 Triflate compounds are described in J. Org. Org. Chem. Vol. 41, no. 26, 4099, 1976 describes a general synthesis method, but the ditriflate compound represented by the general formula (VII) is similarly dissolved in pyridine by dissolving the corresponding diphenol compound in pyridine. The product can be easily obtained by dropping at 0 ° C. and stirring at room temperature.
(式中R3、R4、およびR5は前述の定義と同一である。) (Wherein R 3 , R 4 , and R 5 are the same as defined above.)
(式中R1およびR2の定義は前述と同一である。) (In the formula, the definitions of R 1 and R 2 are the same as described above.)
この反応は下記反応式で示すが一般にBuchwald-Hartwig反応(MERCKINDEX13th.edition)とよばれる。 This reaction is represented by the following reaction formula, but is generally called the Buchwald-Hartwig reaction (MERCKINDEX13th.edition).
Ar−Y + H2N−R → Ar−NHR
Y=Br,I,OSO2CF3
Ar-Y + H 2 N- R → Ar-NHR
Y = Br, I, OSO 2 CF 3
パラジウム触媒としては、均一系のパラジウム触媒が好ましく、具体的には、例えばヘキサクロロパラジウム(IV)酸ナトリウム或いはその水和物、ヘキサクロロパラジウム(IV)酸カリウム等の4価のパラジウム化合物、例えば塩化パラジウム(II)、臭化パラジウム(II)、酢酸パラジウム(II)、パラジウムアセチルアセテート(II)、ジクロロビス(ベンゾニトリル)パラジウム(II)、ジクロロビス(アセトニトリル)パラジウム(II)、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)、ジクロロテトラアンミンパラジウム(II)、ジクロロ(シクロオクタ−1,5−ジエン)パラジウム(II)、パラジウムトリフルオロアセテート(II)等の2価のパラジウム化合物、例えばトリス(ジベンジリデンアセトン)二パラジウム(0)、トリス(ジベンジリデンアセトン)二パラジウムクロロホルム錯体(0)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)等の0価のパラジウム化合物等が挙げられる。 The palladium catalyst is preferably a homogeneous palladium catalyst. Specifically, for example, a tetravalent palladium compound such as sodium hexachloropalladium (IV) or a hydrate thereof, potassium hexachloropalladium (IV), such as palladium chloride. (II), palladium bromide (II), palladium acetate (II), palladium acetyl acetate (II), dichlorobis (benzonitrile) palladium (II), dichlorobis (acetonitrile) palladium (II), dichlorobis (triphenylphosphine) palladium (II), divalent palladium compounds such as dichlorotetraamminepalladium (II), dichloro (cycloocta-1,5-diene) palladium (II), palladium trifluoroacetate (II), for example, tris (dibenzylideneacetone) dipalladium 0), tris (dibenzylideneacetone) dipalladium chloroform complex (0), tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) 0-valent palladium compounds such like.
パラジウム触媒の使用量は、一般式(VII)で示されるジトリフラート化合物1モルに対しパラジウム換算で、通常0.000001〜20モル%、好ましくは0.0001〜10モル%である。 The usage-amount of a palladium catalyst is 0.000001-20 mol% normally in conversion of palladium with respect to 1 mol of ditriflate compounds shown by general formula (VII), Preferably it is 0.0001-10 mol%.
第3級ホスフィン類としては例えば、トリエチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリ−n−ブチルホスフィン、トリ−iso−ブチルホスフィン、トリ−sec−ブチルホスフィン、トリ−tert−ブチルホスフィン、N−フェニルピロール−2−イル−ジシクロペンチルホスフィン、N−フェニルピロール−2−イル−ジシクロヘキシルホスフィン、N−フェニルピロール−2−イル−ジシクロヘプチルホスフィン、N−フェニルピロール−2−イル−ジイソプロピルホスフィン、N−フェニルピロール−2−イル−ジブチルホスフィン、N−フェニルピロール−2−イル−ジイソブチルホスフィン、N−フェニルピロール−2−イル−ジ−sec−ブチルホスフィン、N−フェニルピロール−2−イル−ジ−tert−ブチルホスフィン、N−フェニルインドール−2−イル−ジシクロペンチルホスフィン、N−フェニルインドール−2−イル−ジシクロヘキシルホスフィン、N−フェニルインドール−2−イル−ジシクロヘプチルホスフィン、N−フェニルインドール−2−イル−ジイソプロピルホスフィン、N−フェニルインドール−2−イル−ジブチルホスフィン、N−フェニルインドール−2−イル−ジイソブチルホスフィン、N−フェニルインドール−2−イル−ジ−sec−ブチルホスフィン、N−フェニルインドール−2−イル−ジ−tert−ブチルホスフィン等が挙げられる。
第3級ホスフィン類の使用量は、パラジウム触媒1モルに対して、通常0.1〜10モル、好ましくは1.0〜5.0モルである。
Examples of tertiary phosphines include triethylphosphine, tricyclohexylphosphine, tri-n-butylphosphine, tri-iso-butylphosphine, tri-sec-butylphosphine, tri-tert-butylphosphine, and N-phenylpyrrole-2. -Yl-dicyclopentylphosphine, N-phenylpyrrol-2-yl-dicyclohexylphosphine, N-phenylpyrrol-2-yl-dicycloheptylphosphine, N-phenylpyrrol-2-yl-diisopropylphosphine, N-phenylpyrrole- 2-yl-dibutylphosphine, N-phenylpyrrol-2-yl-diisobutylphosphine, N-phenylpyrrol-2-yl-di-sec-butylphosphine, N-phenylpyrrol-2-yl-di-tert-butylphosphite N-phenylindol-2-yl-dicyclopentylphosphine, N-phenylindol-2-yl-dicyclohexylphosphine, N-phenylindol-2-yl-dicycloheptylphosphine, N-phenylindol-2-yl-diisopropyl Phosphine, N-phenylindol-2-yl-dibutylphosphine, N-phenylindol-2-yl-diisobutylphosphine, N-phenylindol-2-yl-di-sec-butylphosphine, N-phenylindol-2-yl -Di-tert-butylphosphine and the like.
The usage-amount of tertiary phosphine is 0.1-10 mol normally with respect to 1 mol of palladium catalysts, Preferably it is 1.0-5.0 mol.
塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、例えばリン酸ナトリウム、リン酸カリウム等のアルカリ金属リン酸塩、例えばナトリウム−tert−ブトキシド、カリウム−tert−ブトキシド等の金属アルコキシド等が挙げられる。かかる塩基の使用量は、一般式(VII)で示されるジトリフラート化合物1モルに対して、通常2〜50モル、好ましくは2〜10モルである。 Examples of the base include alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, alkali metal phosphates such as sodium phosphate and potassium phosphate, metal alkoxides such as sodium tert-butoxide, potassium tert-butoxide and the like Is mentioned. The amount of the base used is usually 2 to 50 mol, preferably 2 to 10 mol, per 1 mol of the ditriflate compound represented by the general formula (VII).
アミン化合物(VIII)の使用量は、一般式(VII)で示されるジトリフラート化合物1モルに対し通常2.0〜10モルであり、好ましくは2.0モル〜6.0モルである。
一般式(VIII)で示されるアミン化合物としては、ジフェニルアミン、4,4’−ジメチルジフェニルアミン、N−フェニル−1−ビフェニルアミン、N−フェニル−1−ナフチルアミン、N−(4−トリル)−1−ピレニルアミン、9,9−ジメチル−2−フェニルアミノフルオレン、9,9−ジメチル−2−(4−トリル)アミノフルオレン等が挙げられる。
The usage-amount of amine compound (VIII) is 2.0-10 mol normally with respect to 1 mol of ditriflate compounds shown by general formula (VII), Preferably it is 2.0 mol-6.0 mol.
Examples of the amine compound represented by the general formula (VIII) include diphenylamine, 4,4′-dimethyldiphenylamine, N-phenyl-1-biphenylamine, N-phenyl-1-naphthylamine, and N- (4-tolyl) -1- Examples include pyrenylamine, 9,9-dimethyl-2-phenylaminofluorene, 9,9-dimethyl-2- (4-tolyl) aminofluorene, and the like.
溶媒としては、反応に影響を及ぼさなければ特に限定されないが、具体的には例えばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒、例えばN,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホシキド等の非プロトン性極性溶媒ジエチルエーテル、テトラハイドロフラン等のエーテル系溶媒等が挙げられる。
反応は窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。
反応温度は、通常20〜150℃、好ましくは60〜130℃、特に好ましくは80℃〜120℃である。
The solvent is not particularly limited as long as it does not affect the reaction. Specifically, it is an aromatic hydrocarbon solvent such as toluene or xylene, for example, aprotic polarity such as N, N-dimethylformamide or dimethylsulfoxide. Examples of the solvent include ether solvents such as diethyl ether and tetrahydrofuran.
The reaction is preferably performed in an inert gas atmosphere such as nitrogen or argon.
The reaction temperature is usually 20 to 150 ° C, preferably 60 to 130 ° C, particularly preferably 80 ° C to 120 ° C.
また、前記一般式(VII)で示されるジトリフラート化合物の代わりに、下記一般式(VI)で表されるジハロゲン化合物を用いることもできる。
(式(VI)中、Xはハロゲン原子を表し、R3、R4およびR5は前述の定義と同一である。) (In the formula (VI), X represents a halogen atom, and R 3 , R 4 and R 5 are the same as defined above.)
一般式(VI)におけるハロゲン原子としては、Cl,Br,I等が挙げられる。 Examples of the halogen atom in the general formula (VI) include Cl, Br, I and the like.
一般式(I)及び(III)のα−フェニルスチルベン化合物は、パラジウム触媒、第3級ホスフィン類及び塩基の存在下で、一般式(VII)で示されるジトリフラート化合物とアリールホウ素化合物とを反応させることにより(一般にSuzuki−Miyaura反応とよばれる)製造される。 The α-phenylstilbene compounds of the general formulas (I) and (III) react with a ditriflate compound represented by the general formula (VII) and an aryl boron compound in the presence of a palladium catalyst, a tertiary phosphine and a base. (Generally called the Suzuki-Miyaura reaction).
上記したアリールホウ素化合物の代わりに、熱的に安定で空気中で容易に扱えるビス(ピナコラト)ジボロンを用いハロゲン化アリールから合成されるアリールボロン酸エステルを用いても良い。
反応は上記Buchwald-Hartwig反応で示した条件をそのまま適応できる。
Instead of the above-described aryl boron compound, an aryl boronic acid ester synthesized from an aryl halide using bis (pinacolato) diboron which is thermally stable and can be easily handled in air may be used.
For the reaction, the conditions shown in the above Buchwald-Hartwig reaction can be applied as they are.
アリールホウ素化合物の具体例としては、4−ジメチルアミノフェニルボロン酸、4−ジエチルアミノフェニルボロン酸、4−(ジフェニルアミノ)フェニルボロン酸、4−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラニル−2)アニリンから誘導される第3級アミンを有するボロン酸エステル類等が例示できる。 Specific examples of the aryl boron compound include 4-dimethylaminophenylboronic acid, 4-diethylaminophenylboronic acid, 4- (diphenylamino) phenylboronic acid, 4- (4,4,5,5-tetramethyl-1, 3,2-Dioxaborolanyl-2) boronic acid esters having a tertiary amine derived from aniline can be exemplified.
電荷輸送剤の含有量は、バインダー樹脂100重量部に対して、通常、20〜300重量部であり、40〜150重量部が好ましい。 The content of the charge transfer agent is usually 20 to 300 parts by weight and preferably 40 to 150 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the binder resin.
バインダー樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ(N−ビニルカルバゾール)、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性又は熱硬化性樹脂が挙げられる。 Examples of the binder resin include polystyrene, styrene-acrylonitrile copolymer, styrene-butadiene copolymer, styrene-maleic anhydride copolymer, polyester, polyvinyl chloride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polyvinyl acetate, poly Vinylidene chloride, polyarylate, phenoxy resin, polycarbonate, cellulose acetate resin, ethyl cellulose resin, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polyvinyl toluene, poly (N-vinylcarbazole), acrylic resin, silicone resin, epoxy resin, melamine resin, urethane resin, Examples thereof include thermoplastic or thermosetting resins such as phenol resins and alkyd resins.
また、バインダー樹脂として、電荷輸送機能を有する高分子電荷輸送剤、例えば、アリールアミン骨格やベンジジン骨格やヒドラゾン骨格やカルバゾール骨格やスチルベン骨格やピラゾリン骨格等を有するポリカーボネート、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテル、ポリシロキサン、アクリル樹脂等の高分子材料やポリシラン骨格を有する高分子材料等を用いることも可能であり、有用である。 In addition, as a binder resin, a polymer charge transporting agent having a charge transport function, for example, polycarbonate, polyester, polyurethane, polyether, and polyamine having an arylamine skeleton, a benzidine skeleton, a hydrazone skeleton, a carbazole skeleton, a stilbene skeleton, a pyrazoline skeleton, etc. Polymer materials such as siloxane and acrylic resins, polymer materials having a polysilane skeleton, and the like can be used and are useful.
電荷輸送層の塗布液として用いられる溶剤は、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソラン、トルエン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、キシレン、アセトン、ジエチルエーテル、メチルエチルケトン等が用いられる。ジクロロメタン、ジクロロエタン、モノクロロベンゼン等のハロゲン系溶剤は電子写真感光体の特性上問題はないものの、地球環境への負荷を低減させる目的で使用しないことが望ましい。これらの中でも有効に用いられる溶剤としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテルやトルエン、キシレン等の芳香族系炭化水素が好ましく用いられる。これらは、単独で使用してもよく、また2種以上混合して使用してもよい。 As the solvent used as the coating solution for the charge transport layer, tetrahydrofuran, dioxane, dioxolane, toluene, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, xylene, acetone, diethyl ether, methyl ethyl ketone and the like are used. Although halogen-based solvents such as dichloromethane, dichloroethane, and monochlorobenzene are not problematic in terms of the characteristics of the electrophotographic photosensitive member, it is desirable not to use them for the purpose of reducing the burden on the global environment. Among these, as an effective solvent, cyclic ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, and aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene are preferably used. These may be used singly or in combination of two or more.
また、電荷輸送層の塗工液には、必要に応じて、単独又は2種以上の可塑剤、レベリング剤、酸化防止剤、滑剤等の添加剤を添加してもよい。可塑剤としては、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート等の可塑剤が使用可能であり、有効である。添加量としては、バインダー樹脂に対して0〜30重量%が好ましく、1〜10重量%がより好ましい。レベリング剤としては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のシリコーンオイル類や側鎖にパーフルオロアルキル基を有するポリマー、オリゴマー等が使用され、その使用量はバインダー樹脂に対して0〜1重量%が好ましく、0.01重量%〜0.5重量%がより好ましい。また、酸化防止剤も有効に使用することができる。例えば、フェノール系化合物、パラフェニレンジアミン類、ハイドロキノン類、有機硫黄化合物類、有機燐化合物類、ヒンダードアミン類等の従来公知の材料が使用でき、繰り返し使用に対する静電特性の安定化に有効である。添加量としては、バインダー樹脂に対して0〜10重量%が好ましく、0.1〜2重量%がより好ましい。滑剤は表面の滑り性を高め、電子写真感光体表面の異物付着防止効果を得る目的で添加されることが多い。具体的には、シリコーンオイル類、シリコーン微粒子、フッ素樹脂微粒子、ワックス類等、従来公知の材料をそのまま使用することが可能である。添加量としては、バインダー樹脂に対して0〜30重量%が好ましく、1〜20重量%がより好ましい。 Moreover, you may add additives, such as a plasticizer, a leveling agent, antioxidant, a lubricant, etc. individually or in 2 types or more to the coating liquid of a charge transport layer as needed. As the plasticizer, plasticizers such as dibutyl phthalate and dioctyl phthalate can be used and are effective. As addition amount, 0-30 weight% is preferable with respect to binder resin, and 1-10 weight% is more preferable. As the leveling agent, silicone oils such as dimethyl silicone oil and methylphenyl silicone oil, polymers having a perfluoroalkyl group in the side chain, oligomers, etc. are used, and the amount used is 0 to 1% by weight based on the binder resin. Is preferable, and 0.01 wt% to 0.5 wt% is more preferable. Moreover, antioxidant can also be used effectively. For example, conventionally known materials such as phenolic compounds, paraphenylenediamines, hydroquinones, organic sulfur compounds, organic phosphorus compounds, hindered amines and the like can be used, which is effective for stabilizing electrostatic characteristics against repeated use. As addition amount, 0 to 10 weight% is preferable with respect to binder resin, and 0.1 to 2 weight% is more preferable. Lubricants are often added for the purpose of improving the slipperiness of the surface and obtaining the effect of preventing foreign matter adhesion on the surface of the electrophotographic photoreceptor. Specifically, conventionally known materials such as silicone oils, silicone fine particles, fluororesin fine particles, and waxes can be used as they are. As addition amount, 0 to 30 weight% is preferable with respect to binder resin, and 1 to 20 weight% is more preferable.
電荷輸送層の塗工方法としては、浸漬塗工法、スプレーコート、ビードコート、ノズルコート、スピナーコート、リングコート等の公知の方法を用いることができる。塗工した後は指触乾燥後、オーブン等で加熱乾燥させて製造される。電荷輸送層の乾燥温度は、電荷輸送層の塗工液に含有される溶剤の種類によって異なるが、80〜150℃であることが好ましく、100〜140℃がより好ましい。このようにして得られた電荷輸送層の膜厚は通常10〜50μmで形成される。電子写真感光体の耐久性を考慮すると膜厚は厚い方が好ましい。電荷輸送層の膜厚は解像度・応答性の点から、30μm以下とすることが好ましく、25μm以下がより好ましい。下限値に関しては、使用するシステム(特に帯電電位等)に異なるが、5μm以上が好ましい。 As a method for coating the charge transport layer, known methods such as dip coating, spray coating, bead coating, nozzle coating, spinner coating, ring coating, and the like can be used. After coating, it is manufactured by drying with the touch and then heating and drying in an oven or the like. Although the drying temperature of a charge transport layer changes with kinds of solvent contained in the coating liquid of a charge transport layer, it is preferable that it is 80-150 degreeC, and 100-140 degreeC is more preferable. The film thickness of the charge transport layer thus obtained is usually 10 to 50 μm. Considering the durability of the electrophotographic photosensitive member, it is preferable that the film thickness is thick. The thickness of the charge transport layer is preferably 30 μm or less, more preferably 25 μm or less, from the viewpoint of resolution and responsiveness. Regarding the lower limit, although it differs depending on the system to be used (particularly the charging potential), it is preferably 5 μm or more.
<単層感光層について>
本発明においては、感光層が単層構成であっても使用可能である。感光層は、前述の電荷発生剤、電荷輸送剤、バインダー樹脂等を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これを導電性支持体上又は後述する下引き層上に塗工及び乾燥することによって形成される。電荷発生剤及び電荷輸送剤(電子輸送剤及び正孔輸送剤)は、前述の電荷発生層及び電荷輸送層で挙げた材料を使用することが可能である。また、バインダー樹脂としては、前述の電荷輸送層で挙げた樹脂の他に、電荷発生層で挙げた樹脂を混合して用いてもよい。また、バインダー樹脂として前述の高分子電荷輸送剤も良好に使用できる。バインダー樹脂100重量部に対する電荷発生剤の量は5〜40重量部が好ましく、さらに好ましくは10〜30重量部であり、電荷輸送剤の量は0〜190重量部が好ましく、さらに好ましくは50〜150重量部である。感光層は、電荷発生剤、バインダー樹脂を電荷輸送剤とともにテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジクロロエタン、シクロヘキサノン、トルエン、メチルエチルケトン、アセトン等の溶剤に溶解ないし分散し、これを浸漬塗工法やスプレーコート、ビードコート、リングコートなどで塗工して形成できる。また、必要により可塑剤やレベリング剤、酸化防止剤、滑剤等の各種添加剤を添加することもできる。感光層の膜厚は5〜25μm程度が適当である。
<About single-layer photosensitive layer>
In the present invention, the photosensitive layer can be used even if it has a single layer structure. The photosensitive layer is formed by dissolving or dispersing the above-described charge generating agent, charge transporting agent, binder resin, etc. in an appropriate solvent, and coating and drying the solution on a conductive support or an undercoat layer described later. Is done. As the charge generating agent and charge transporting agent (electron transporting agent and hole transporting agent), it is possible to use the materials mentioned in the above-described charge generating layer and charge transporting layer. Further, as the binder resin, in addition to the resins mentioned in the charge transport layer, the resins mentioned in the charge generation layer may be mixed and used. Further, the above-described polymer charge transfer agent can also be used favorably as the binder resin. The amount of the charge generator relative to 100 parts by weight of the binder resin is preferably 5 to 40 parts by weight, more preferably 10 to 30 parts by weight, and the amount of the charge transport agent is preferably 0 to 190 parts by weight, more preferably 50 to 50 parts by weight. 150 parts by weight. The photosensitive layer is dissolved or dispersed in a solvent such as tetrahydrofuran, dioxane, dichloroethane, cyclohexanone, toluene, methyl ethyl ketone, and acetone together with a charge transporting agent and binder resin, and this is dip coated, spray coated, bead coated, or ring coated. It can be formed by coating with a coat. If necessary, various additives such as a plasticizer, a leveling agent, an antioxidant, and a lubricant can be added. The film thickness of the photosensitive layer is suitably about 5 to 25 μm.
<下引き層について>
本発明の電子写真感光体においては、導電性支持体と感光層との間に下引き層を設けることができる。これら下引き層は一般には樹脂を主成分とするが、これらの樹脂はその上に感光層を溶剤で塗布することを考えると、一般の有機溶剤に対して耐溶剤性の高い樹脂であるものを使用することが望ましい。このような樹脂としては、ポリビニルアルコール、カゼイン、ポリアクリル酸ナトリウム等の水溶性樹脂、共重合ポリアミド(共重合ナイロン)、メトキシメチル化ポリアミド(ナイロン)等のアルコール可溶性樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド−メラミン樹脂、イソシアネート、エポキシ樹脂等、三次元網目構造を形成する硬化型樹脂等が挙げられる。
<About the undercoat layer>
In the electrophotographic photoreceptor of the present invention, an undercoat layer can be provided between the conductive support and the photosensitive layer. These subbing layers generally contain a resin as a main component. However, considering that a photosensitive layer is applied with a solvent on these resins, these resins are highly solvent-resistant to general organic solvents. It is desirable to use Examples of such resins include water-soluble resins such as polyvinyl alcohol, casein, and sodium polyacrylate, alcohol-soluble resins such as copolymerized polyamide (copolymerized nylon) and methoxymethylated polyamide (nylon), polyurethane, melamine resin, and phenol. Examples thereof include curable resins that form a three-dimensional network structure, such as resins, alkyd-melamine resins, isocyanates, and epoxy resins.
また、下引き層にはモアレ防止、残留電位の低減等のために金属酸化物を含有させることも可能であり有効である。モアレとは、レーザー光のようなコヒーレント光による書き込みを行う際に感光層内部での光干渉によってモアレと呼ばれる干渉縞が画像に形成される画像欠陥の一種である。基本的に、入射されたレーザー光をこの下引き層によって光散乱させることによりモアレ発生を防止するため、屈折率の大きな材料を含有させる必要がある。モアレを防止する上では、バインダー樹脂に無機顔料を分散させた構成が最も有効である。使用される無機顔料としては、白色の顔料が有効に使用され、金属酸化物、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、フッ化カルシウム、酸化カルシウム、酸化珪素、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化錫、酸化ジルコニウム、酸化インジウム等挙げられる。 In addition, it is possible and effective to add a metal oxide to the undercoat layer in order to prevent moire and reduce residual potential. Moire is a type of image defect in which interference fringes called moire are formed in an image due to optical interference inside the photosensitive layer when writing with coherent light such as laser light. Basically, it is necessary to contain a material having a large refractive index in order to prevent the occurrence of moire by scattering the incident laser light by the undercoat layer. In order to prevent moiré, a configuration in which an inorganic pigment is dispersed in a binder resin is most effective. As the inorganic pigment used, white pigments are effectively used, and metal oxides such as titanium oxide, zinc oxide, calcium fluoride, calcium oxide, silicon oxide, magnesium oxide, aluminum oxide, tin oxide, and zirconium oxide are used. And indium oxide.
また、下引き層には、電子写真感光体表面に帯電される電荷と同極性の電荷を、感光層から導電性支持体側へ移動できる機能を有することが残留電位の低減上好ましく、上記無機顔料はその役割をも果たしている。例えば、負帯電型の電子写真感光体の場合、下引き層は電子伝導性を有することによって残留電位を低減できる。これらの無機顔料としては、前述の金属酸化物が有効に用いられるが、抵抗の低い無機顔料を用いたり、バインダー樹脂に対する無機顔料の添加比率を増加させたりすることによって残留電位を低減させる効果が高くなる反面、地汚れ抑制効果が低下する恐れもある。従って、感光体における下引き層の層構成や膜厚によってそれらを使い分けたり、添加量を調整したりすることによって、地汚れ抑制と残留電位低減の両立を図ることが必要である。モアレ防止、残留電位上昇及び地汚れの抑制を考慮すると、上記金属酸化物の中でもとりわけ酸化チタンが最も有効に用いられる。 The undercoat layer preferably has a function of transferring a charge having the same polarity as the charge charged on the surface of the electrophotographic photosensitive member from the photosensitive layer to the conductive support side in terms of reducing the residual potential. Also plays its role. For example, in the case of a negatively charged electrophotographic photoreceptor, the residual potential can be reduced by having the undercoat layer have electronic conductivity. As these inorganic pigments, the metal oxides described above are effectively used, but the effect of reducing the residual potential by using an inorganic pigment with low resistance or increasing the addition ratio of the inorganic pigment to the binder resin. On the other hand, the effect of suppressing soiling may be reduced. Therefore, it is necessary to achieve both suppression of background contamination and reduction of residual potential by properly using them according to the layer structure and film thickness of the undercoat layer in the photoreceptor and adjusting the addition amount. In consideration of prevention of moire, increase in residual potential, and suppression of soiling, titanium oxide is most effectively used among the above metal oxides.
これらの下引き層は、バインダー樹脂、無機顔料(金属酸化物)を主成分とし、溶剤を含めた状態で湿式分散を行って塗工分散液を得ることができる。使用される溶剤は、アセトン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、ブタノール、シクロヘキサノン、ジオキサン等、及びこれらの混合溶剤が挙げられる。無機顔料は、溶剤及びバインダー樹脂と共に従来公知の方法、例えばボールミル、サンドミル、アトライラー等により分散することにより塗工液を得ることができる。バインダー樹脂は分散前に添加しても分散後に樹脂溶液として添加しても良い。また、必要に応じて硬化(架橋)に必要な薬剤、添加剤、硬化促進剤等や無機顔料の分散性を高める目的で分散剤を加えることも可能である。これらの塗工液を用い、従来公知の方法、例えば浸漬塗工法、スプレーコート、リングコート、ビートコート、ノズルコート法などを用いて導電性基体上に形成される。塗布後は乾燥や加熱、必要に応じて光照射等の硬化処理により乾燥又は硬化させることにより作製できる。下引き層の膜厚は含有させる無機顔料の種類によって異なるが、0〜20μmが好ましく、2〜10μmがより好ましい。 These undercoat layers are mainly composed of a binder resin and an inorganic pigment (metal oxide), and can be wet-dispersed in a state including a solvent to obtain a coating dispersion. Examples of the solvent used include acetone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, butanol, cyclohexanone, dioxane, and the like, and mixed solvents thereof. A coating liquid can be obtained by dispersing the inorganic pigment together with a solvent and a binder resin by a conventionally known method such as a ball mill, a sand mill, or an attriler. The binder resin may be added before dispersion or as a resin solution after dispersion. Further, if necessary, a dispersant may be added for the purpose of enhancing the dispersibility of the chemicals, additives, curing accelerators, and inorganic pigments necessary for curing (crosslinking). Using these coating liquids, they are formed on a conductive substrate using a conventionally known method such as dip coating, spray coating, ring coating, beat coating, or nozzle coating. After the application, it can be produced by drying or heating, and if necessary, drying or curing by a curing treatment such as light irradiation. Although the film thickness of an undercoat layer changes with kinds of inorganic pigment to contain, 0-20 micrometers is preferable and 2-10 micrometers is more preferable.
<電荷ブロッキング層について>
また、導電性支持体と下引き層の間もしくは下引き層と電荷発生層との間にさらに電荷ブロッキング層を設けることも可能である。電荷ブロッキング層は、導電性支持体からのホールの注入を抑制するために加えられるもので、主目的は地汚れの抑制にある。電荷ブロッキング層には、一般にバインダー樹脂を主成分として用いる。これら樹脂としては、ポリアミド、アルコール可溶性ポリアミド(可溶性ナイロン)、水溶性ポリビニルブチラール、ポリビニルブチラール、ポリビニルアルコール等が挙げられる。電荷ブロッキング層の形成法としては、前記した方法、さらに公知の塗布法が採用される。なお、電荷ブロッキング層の厚さは、0.05〜2μmが適当である。電荷ブロッキング層と下引き層の2層構成とすることにより、地汚れ抑制効果は飛躍的に高まるが、残留電位上昇の影響が増加する傾向にある。そのため、電荷ブロッキング層及び下引き層の組成や膜厚を十分考慮して決める必要がある。
<About the charge blocking layer>
It is also possible to further provide a charge blocking layer between the conductive support and the undercoat layer or between the undercoat layer and the charge generation layer. The charge blocking layer is added to suppress the injection of holes from the conductive support, and the main purpose is to suppress the soiling. In the charge blocking layer, a binder resin is generally used as a main component. Examples of these resins include polyamide, alcohol-soluble polyamide (soluble nylon), water-soluble polyvinyl butyral, polyvinyl butyral, and polyvinyl alcohol. As a method for forming the charge blocking layer, the above-described method and a known coating method are employed. In addition, 0.05-2 micrometers is suitable for the thickness of a charge blocking layer. By adopting a two-layer structure of the charge blocking layer and the undercoat layer, the effect of suppressing scumming is drastically increased, but the influence of the increase in residual potential tends to increase. Therefore, it is necessary to determine the composition and thickness of the charge blocking layer and the undercoat layer with sufficient consideration.
<保護層について>
本発明の電子写真感光体には、感光層保護の目的で、保護層が感光層の上に設けられることが好ましい。
近年のコンピュータ使用頻度の増加に伴い、プリンタによる画像出力の機会も増加の傾向にあり、プリンタによる高速出力並びに長寿命化が望まれている。従って、保護層を感光層上に設けることで感光層の劣化を抑制し、耐久性を向上させることが望ましい。
<About protective layer>
The electrophotographic photoreceptor of the present invention is preferably provided with a protective layer on the photosensitive layer for the purpose of protecting the photosensitive layer.
As the frequency of computer use increases in recent years, there is an increasing tendency for image output by a printer, and high-speed output by a printer and longer life are desired. Therefore, it is desirable to provide a protective layer on the photosensitive layer to suppress deterioration of the photosensitive layer and improve durability.
また、保護層は感光層上に設けられることから、種々の特性に影響を与えるキャリア輸送能を考慮しなければならない。
このため、保護層においても膜厚と層構成とが重要である。膜厚に関しては、いずれの場合にも必要以上に厚膜化しないことが重要なポイントである。
Further, since the protective layer is provided on the photosensitive layer, it is necessary to consider the carrier transport ability that affects various characteristics.
For this reason, a film thickness and a layer structure are important also in a protective layer. Regarding the film thickness, in any case, it is important not to increase the film thickness more than necessary.
本発明において有効に活用できる保護層の層構成としては、大別すると、2つのタイプが挙げられる。1つは、バインダー樹脂中にフィラーが添加された構成であり、もう1つは、架橋型バインダーを用いたものである。ただし、必ずしもこの2つのタイプに限定されるものではなく、本発明の効果を損なわない範囲であれば上記2つのタイプ以外の層構成をとっても良い。 The layer structure of the protective layer that can be effectively used in the present invention can be broadly classified into two types. One is a structure in which a filler is added to a binder resin, and the other is a structure using a crosslinked binder. However, it is not necessarily limited to these two types, and layer configurations other than the above two types may be adopted as long as the effects of the present invention are not impaired.
《フィラー添加型保護層について》
先に、保護層(バインダー樹脂)中にフィラーが添加された構成について説明する。(以下、フィラー添加型保護層と呼ぶ)。
保護層に使用されるバインダー樹脂としてはABS樹脂、ACS樹脂、オレフィン−ビニルモノマー共重合体、塩素化ポリエーテル、アリル樹脂、フェノール樹脂、ポリアセタール、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリアクリレート、ポリアリルスルホン、ポリブチレン、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエーテルスルホン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、アクリル樹脂、ポリメチルベンテン、ポリプロピレン、ポリフェニレンオキシド、ポリスルホン、ポリスチレン、AS樹脂、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、エポキシ樹脂等の樹脂が挙げられる。中でも、ポリカーボネートもしくはポリアリレートが最も良好に使用できる。
<About filler-added protective layer>
First, a configuration in which a filler is added to the protective layer (binder resin) will be described. (Hereinafter referred to as a filler-added protective layer).
The binder resin used in the protective layer is ABS resin, ACS resin, olefin-vinyl monomer copolymer, chlorinated polyether, allyl resin, phenol resin, polyacetal, polyamide, polyamideimide, polyacrylate, polyallylsulfone, polybutylene. , Polybutylene terephthalate, polycarbonate, polyarylate, polyethersulfone, polyethylene, polyethylene terephthalate, polyimide, acrylic resin, polymethylbenten, polypropylene, polyphenylene oxide, polysulfone, polystyrene, AS resin, butadiene-styrene copolymer, polyurethane, poly Examples thereof include resins such as vinyl chloride, polyvinylidene chloride, and epoxy resin. Of these, polycarbonate or polyarylate can be most preferably used.
さらに、バインダー樹脂にはフィラーが添加される。フィラーとしては、有機フィラー材料および無機フィラー材料のいずれを用いても良く、これらを混合して用いても良い。
フィラーのうち有機性フィラー材料としては、ポリテトラフルオロエチレンのようなフッ素樹脂粉末、シリコーン樹脂粉末、a−カーボン粉末等が挙げられ、無機性フィラー材料としては、銅、スズ、アルミニウム、インジウムなどの金属粉末、シリカ、酸化錫、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化ビスマス、アンチモンをドープした酸化錫、錫をドープした酸化インジウム、アルミナ等の金属酸化物、チタン酸カリウムなどの無機材料が挙げられる。特に、フィラーの硬度の点からは、この中でも無機材料、無機顔料や金属酸化物が好ましく、シリカ、酸化チタン、アルミナが特に有効に使用できる。
Further, a filler is added to the binder resin. As the filler, either an organic filler material or an inorganic filler material may be used, or a mixture thereof may be used.
Among the fillers, examples of the organic filler material include fluorine resin powder such as polytetrafluoroethylene, silicone resin powder, and a-carbon powder. Examples of the inorganic filler material include copper, tin, aluminum, and indium. Metal powder, silica, tin oxide, zinc oxide, titanium oxide, indium oxide, antimony oxide, bismuth oxide, antimony-doped tin oxide, tin-doped indium oxide, metal oxides such as alumina, inorganics such as potassium titanate Materials. In particular, from the viewpoint of the hardness of the filler, among these, inorganic materials, inorganic pigments, and metal oxides are preferable, and silica, titanium oxide, and alumina can be used particularly effectively.
保護層中のフィラー濃度は、使用するフィラー種により、また感光体を使用する電子写真プロセス条件によっても異なるが、保護層の最表層側において全固形分に対するフィラーの比で5重量%以上、好ましくは10重量%以上、50重量%以下、より好ましくは30重量%以下が良好である。また、使用するフィラーの体積平均粒径は、0.1μm〜2μmの範囲が良好に使用され、好ましくは0.3μm〜1μmの範囲である。この場合、平均粒径が小さすぎると耐摩耗性が充分に発揮されず、大きすぎると塗膜の表面性が悪くなったり、塗膜そのものが形成できなかったりするからである。 The filler concentration in the protective layer varies depending on the type of filler used and the electrophotographic process conditions using the photoreceptor, but is preferably 5% by weight or more in terms of the ratio of filler to the total solid content on the outermost layer side of the protective layer. Is 10% by weight or more and 50% by weight or less, more preferably 30% by weight or less. Moreover, the volume average particle diameter of the filler to be used is preferably in the range of 0.1 μm to 2 μm, and preferably in the range of 0.3 μm to 1 μm. In this case, if the average particle size is too small, the wear resistance is not sufficiently exhibited, and if it is too large, the surface property of the coating film is deteriorated or the coating film itself cannot be formed.
尚、本発明におけるフィラーの平均粒径とは、特別な記載のない限り体積平均粒径であり、超遠心式自動粒度分布測定装置:CAPA−700(堀場製作所製)により求めたものである。この際、累積分布の50%に相当する粒子径(Median径)として算出されたものである。また、同時に測定される各々の粒子の標準偏差が1μm以下であることが重要である。これ以上の標準偏差の値である場合には、粒度分布が広すぎて、本発明の効果が得られなくなってしまう場合がある。 The average particle diameter of the filler in the present invention is a volume average particle diameter unless otherwise specified, and is determined by an ultracentrifugal automatic particle size distribution analyzer: CAPA-700 (manufactured by Horiba). At this time, the particle diameter (Median diameter) corresponding to 50% of the cumulative distribution was calculated. In addition, it is important that the standard deviation of each particle measured simultaneously is 1 μm or less. If the standard deviation is larger than this, the particle size distribution may be too wide to obtain the effects of the present invention.
また、本発明で使用するフィラーのpHも解像度やフィラーの分散性に大きく影響する。その理由の一つとしては、フィラー、特に金属酸化物は製造時に塩酸等が残存することが考えられる。その残存量が多い場合には、画像ボケの発生は避けられず、またそれは残存量によってはフィラーの分散性にも影響を及ぼす場合がある。
もう一つの理由としては、フィラー、特に金属酸化物の表面における帯電性の違いによるものである。通常、液体中に分散している粒子はプラス又はマイナスに帯電しており、それを電気的に中性に保とうとして反対の電荷を持つイオンが集まり、そこで電気二重層が形成されることによって粒子の分散状態は安定化している。粒子から遠ざかるに従いその電位(ゼータ電位)は徐々に低くなり、粒子から充分に離れて電気的に中性である領域の電位はゼロとなる。従って、ゼータ電位の絶対値の増加によって粒子の反発力が高くなることによって安定性は高くなり、ゼロに近づくに従い凝集し易く不安定になる。一方、系のpH値によってゼータ電位は大きく変動し、あるpH値において電位はゼロとなり等電点を持つことになる。従って、系の等電点からできるだけ遠ざけて、ゼータ電位の絶対値を高めることによって分散系の安定化が図られることになる。
Further, the pH of the filler used in the present invention greatly affects the resolution and the dispersibility of the filler. One possible reason is that hydrochloric acid or the like remains in the filler, particularly the metal oxide, during production. When the remaining amount is large, the occurrence of image blur is unavoidable, and depending on the remaining amount, the dispersibility of the filler may be affected.
Another reason is due to the difference in chargeability on the surface of the filler, particularly the metal oxide. Usually, particles dispersed in a liquid are charged positively or negatively, and ions having opposite charges gather to try to keep them electrically neutral, and an electric double layer is formed there. The dispersed state of the particles is stabilized. The potential (zeta potential) gradually decreases with increasing distance from the particle, and the potential in a region that is sufficiently away from the particle and electrically neutral is zero. Therefore, the stability increases as the repulsive force of the particles increases due to the increase in the absolute value of the zeta potential, and the particles tend to aggregate and become unstable as they approach zero. On the other hand, the zeta potential varies greatly depending on the pH value of the system, and at a certain pH value, the potential becomes zero and has an isoelectric point. Therefore, the dispersion system is stabilized by increasing the absolute value of the zeta potential as far as possible from the isoelectric point of the system.
本発明の構成においては、フィラーとしては前述の等電点におけるpHが、少なくとも5以上を示すものが画像ボケ抑制の点から好ましく、より塩基性を示すフィラーであるほどその効果が高くなる傾向があることが確認された。等電点におけるpHが高い塩基性を示すフィラーは、系が酸性であったほうがゼータ電位はより高くなることにより、分散性及びその安定性は向上することになる。
ここで、本発明におけるフィラーのpHは、ゼータ電位から等電点におけるpH値を記載した。この際、ゼータ電位の測定は、大塚電子(株)製レーザーゼータ電位計にて測定した。
In the configuration of the present invention, the filler having a pH at the isoelectric point of at least 5 is preferably from the viewpoint of image blur suppression, and the more basic the filler, the higher the effect. It was confirmed that there was. The filler having a high basic pH at the isoelectric point has a higher zeta potential when the system is acidic, so that dispersibility and stability thereof are improved.
Here, the pH of the filler in the present invention is the pH value at the isoelectric point from the zeta potential. At this time, the zeta potential was measured with a laser zeta potentiometer manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.
更に、画像ボケが発生し難いフィラーとしては、電気絶縁性が高いフィラー(比抵抗が1010Ω・cm以上)が好ましく、フィラーのpHが5以上を示すものやフィラーの誘電率が5以上を示すものが特に有効に使用できる。また、pHが5以上のフィラー又は誘電率が5以上のフィラーを単独で使用することはもちろん、pHが5以下のフィラーとpHが5以上のフィラーとを2種類以上を混合したり、誘電率が5以下のフィラーと誘電率が5以上のフィラーとを2種類以上混合したりして用いることも可能である。また、これらのフィラーの中でも高い絶縁性を有し、熱安定性が高い上に、耐摩耗性が高い六方細密構造であるα型アルミナは、画像ボケの抑制や耐摩耗性の向上の点から特に有用である。 Furthermore, as a filler that is less likely to cause image blurring, a filler having high electrical insulation (specific resistance is 10 10 Ω · cm or more) is preferable, and a filler having a pH of 5 or more or a filler having a dielectric constant of 5 or more. The ones shown can be used particularly effectively. In addition, a filler having a pH of 5 or more or a filler having a dielectric constant of 5 or more can be used alone, or two or more fillers having a pH of 5 or less and a filler having a pH of 5 or more can be mixed. It is also possible to use a mixture of two or more fillers having a dielectric constant of 5 or less and a filler having a dielectric constant of 5 or more. Among these fillers, α-type alumina, which has high insulation properties, high thermal stability, and high wear resistance, is a hexagonal close-packed structure, from the viewpoint of suppressing image blur and improving wear resistance. It is particularly useful.
本発明において使用するフィラーの比抵抗は以下のように定義される。フィラーのような粉体は、充填率によりその比抵抗値が異なるので、一定の条件下で測定する必要がある。本発明においては、特開平5−113688号公報(図1)に示された測定装置と同様の構成の装置を用いて、フィラーの比抵抗値を測定し、この値を用いた。測定装置において、電極面積は4.0cm2である。測定前に片側の電極に4kgの荷重を1分間かけ、電極間距離が4mmになるように試料量を調節する。測定の際は、上部電極の重量(1kg)の荷重状態で測定を行ない、印加電圧は100Vにて測定する。106Ω・cm以上の領域は、HIGH RESISTANCE METER(横河ヒューレットパッカード)、それ以下の領域についてはデジタルマルチメーター(フルーク)により測定した。これにより得られた比抵抗値を本発明でいうところの比抵抗値と定義するものである。 The specific resistance of the filler used in the present invention is defined as follows. Since the specific resistance value of a powder such as a filler varies depending on the filling rate, it is necessary to measure under certain conditions. In the present invention, the specific resistance value of the filler was measured using an apparatus having the same configuration as the measuring apparatus disclosed in JP-A-5-113688 (FIG. 1), and this value was used. In the measuring device, the electrode area is 4.0 cm 2 . Prior to the measurement, a load of 4 kg is applied to the electrode on one side for 1 minute, and the sample amount is adjusted so that the distance between the electrodes is 4 mm. At the time of measurement, the measurement is performed with the upper electrode weight (1 kg) loaded, and the applied voltage is measured at 100V. The area of 10 6 Ω · cm or higher was measured with a HIGH RESISTER METER (Yokogawa Hewlett Packard), and the area below it was measured with a digital multimeter (Fluk). The specific resistance value thus obtained is defined as the specific resistance value in the present invention.
フィラーの誘電率は以下のように測定した。上述のような比抵抗の測定と同様なセルを用い、荷重をかけた後に、静電容量を測定し、これより誘電率を求めた。静電容量の測定は、誘電体損測定器(安藤電気)を使用した。 The dielectric constant of the filler was measured as follows. Using a cell similar to the measurement of the specific resistance as described above, after applying a load, the capacitance was measured, and the dielectric constant was determined from this. For the measurement of the capacitance, a dielectric loss measuring device (Ando Electric) was used.
更に、これらのフィラーは少なくとも一種の表面処理剤で表面処理させることが可能であり、そうすることがフィラーの分散性の面から好ましい。フィラーの分散性の低下は残留電位の上昇だけでなく、塗膜の透明性の低下や塗膜欠陥の発生、さらには耐摩耗性の低下をも引き起こすため、高耐久化又は高画質化を妨げる大きな問題に発展する可能性がある。表面処理剤としては、従来用いられている表面処理剤すべてを使用することができるが、フィラーの絶縁性を維持できる表面処理剤が好ましい。例えば、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、ジルコアルミネート系カップリング剤、高級脂肪酸等、又はこれらとシランカップリング剤との混合処理や、Al2O3、TiO2、ZrO2、シリコーン、ステアリン酸アルミニウム等、又はそれらの混合処理がフィラーの分散性及び画像ボケの点からより好ましい。シランカップリング剤による処理は、画像ボケの影響が強くなるが、上記の表面処理剤とシランカップリング剤との混合処理を施すことによりその影響を抑制できる場合がある。表面処理量については、用いるフィラーの平均一次粒径によって異なるが、3〜30wt%が適しており、5〜20wt%がより好ましい。表面処理量がこれよりも少ないとフィラーの分散効果が得られず、また多すぎると残留電位の著しい上昇を引き起こす。これらフィラーは単独もしくは2種類以上混合して用いられる。フィラーの表面処理量に関しては、上述のようにフィラー量に対する使用する表面処理剤の重量比で定義される。 Further, these fillers can be surface-treated with at least one kind of surface treatment agent, and it is preferable from the viewpoint of dispersibility of the fillers. Decreasing the dispersibility of the filler not only increases the residual potential, but also decreases the transparency of the coating, causes defects in the coating, and decreases the wear resistance. It can develop into a big problem. As the surface treatment agent, all conventionally used surface treatment agents can be used, but a surface treatment agent capable of maintaining the insulating properties of the filler is preferable. For example, a titanate coupling agent, an aluminum coupling agent, a zircoaluminate coupling agent, a higher fatty acid, or a mixed treatment of these with a silane coupling agent, Al 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , Silicone, aluminum stearate, or the like, or a mixture thereof is more preferable from the viewpoint of filler dispersibility and image blur. The treatment with the silane coupling agent is strongly influenced by image blur, but the influence may be suppressed by performing a mixing treatment of the surface treatment agent and the silane coupling agent. The surface treatment amount varies depending on the average primary particle size of the filler used, but is preferably 3 to 30 wt%, more preferably 5 to 20 wt%. If the surface treatment amount is less than this, the filler dispersion effect cannot be obtained, and if it is too much, the residual potential is significantly increased. These fillers may be used alone or in combination of two or more. The surface treatment amount of the filler is defined by the weight ratio of the surface treatment agent to be used with respect to the filler amount as described above.
これらフィラー材料は、適当な分散機を用いることにより分散できる。また、保護層の透過率の点から使用するフィラーは一次粒子レベルまで分散され、凝集体が少ないほうが好ましい。 These filler materials can be dispersed by using an appropriate disperser. Further, from the viewpoint of the transmittance of the protective layer, it is preferable that the filler used is dispersed to the primary particle level and has less aggregates.
また、保護層には残留電位低減、応答性改良のため、電荷輸送物質を含有することが好ましい。電荷輸送物質は、公知の電荷輸送物質を用いることができる。電荷輸送物質として、低分子電荷輸送物質を用いる場合には、保護層中における濃度傾斜を設けても構わない。耐摩耗性向上のため、表面側を低濃度にすることは有効な手段である。ここでいう濃度とは、保護層を構成する全材料の総重量に対する低分子電荷輸送物質の重量の比を表わし、濃度傾斜とは上記重量比において表面側において濃度が低くなるような傾斜を設けることを示す。また、高分子電荷輸送物質を用いることは、感光体の耐久性を高める点で非常に有利である。 In addition, the protective layer preferably contains a charge transport material in order to reduce residual potential and improve responsiveness. A known charge transport material can be used as the charge transport material. When a low molecular charge transport material is used as the charge transport material, a concentration gradient in the protective layer may be provided. In order to improve wear resistance, it is an effective means to reduce the concentration of the surface side. The concentration here refers to the ratio of the weight of the low molecular charge transporting material to the total weight of all the materials constituting the protective layer, and the concentration gradient is a gradient that lowers the concentration on the surface side in the above weight ratio. It shows that. The use of a polymer charge transport material is very advantageous in terms of enhancing the durability of the photoreceptor.
この他、保護層のバインダー樹脂としては公知の高分子電荷輸送物質も用いることができる。これを用いた場合の効果としては、耐摩耗性の向上、高速電荷輸送の効果を得ることができる。 In addition, a known polymer charge transport material can also be used as the binder resin for the protective layer. As an effect when this is used, an improvement in wear resistance and an effect of high-speed charge transport can be obtained.
このような保護層の形成法としては通常の塗布法が採用される。尚、上述した保護層の厚さは0.1〜10μm程度が適当である。 As a method for forming such a protective layer, a normal coating method is employed. In addition, about 0.1-10 micrometers is suitable for the thickness of the protective layer mentioned above.
《架橋型保護層》
次に、保護層のバインダー構成として、架橋構造からなる保護層について説明する(以下、架橋型保護層と呼ぶ)。
架橋構造の形成に関しては、1分子内に複数個の架橋性官能基を有する反応性モノマーを使用し、光や熱エネルギーを用いて架橋反応を起こさせ、3次元の網目構造を形成するものである。この網目構造がバインダー樹脂として機能し、高い耐摩耗性を発現するものである。
<Cross-linked protective layer>
Next, a protective layer having a crosslinked structure will be described as a binder structure of the protective layer (hereinafter referred to as a crosslinked protective layer).
Regarding the formation of a cross-linked structure, a reactive monomer having a plurality of cross-linkable functional groups in one molecule is used to cause a cross-linking reaction using light or thermal energy to form a three-dimensional network structure. is there. This network structure functions as a binder resin and exhibits high wear resistance.
また、上記反応性モノマーとして、全部もしくは一部に電荷輸送能を有するモノマーを使用する。このようなモノマーを使用することにより、網目構造中に電荷輸送部位が形成され、保護層としての機能を充分に発現することが可能となる。電荷輸送能を有するモノマーとしては、トリアリールアミン構造を有する反応性モノマーが有効に使用される。このような構成にすることにより、キャリア輸送速度が充分に確保され、トランジット時間の短縮化が図れる。 Moreover, as the reactive monomer, a monomer having a charge transporting ability is used in whole or in part. By using such a monomer, a charge transporting site is formed in the network structure, and the function as a protective layer can be sufficiently exhibited. A reactive monomer having a triarylamine structure is effectively used as the monomer having charge transporting ability. By adopting such a configuration, a sufficient carrier transport speed can be secured and the transit time can be shortened.
このような網目構造を有する保護層は、耐摩耗性が高い反面、架橋反応時に体積収縮が大きく、あまり厚膜化するとクラックなどを生じる場合がある。このような場合には、保護層を積層構造として、下層(感光層側)には低分子分散ポリマーの保護層を使用し、上層(表面側)に架橋構造を有する保護層を形成しても良い。 The protective layer having such a network structure has high wear resistance, but has a large volume shrinkage during the crosslinking reaction, and if it is too thick, it may cause cracks. In such a case, the protective layer may be a laminated structure, a low molecular dispersion polymer protective layer may be used for the lower layer (photosensitive layer side), and a protective layer having a crosslinked structure may be formed on the upper layer (surface side). good.
架橋型保護層の中でも下記のような特定の構成からなる架橋型保護層は、特に有効に使用される。
特定の構成からなる架橋型保護層とは、少なくとも電荷輸送性構造を有しない3官能以上のラジカル重合性モノマーと1官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物とを硬化することにより形成される保護層であり、本発明に係る電子写真感光体は、この保護層を有することが好ましい。3官能以上のラジカル重合性モノマーを硬化した架橋構造を有するため3次元の網目構造が発達し、架橋密度が非常に高い高硬度且つ高弾性な保護層が得られ、かつ均一で平滑性も高く、高い耐摩耗性、耐傷性が達成される。このように感光体表面の架橋密度すなわち単位体積あたりの架橋結合数を増加させることが重要であるが、硬化反応において瞬時に多数の結合を形成させるため体積収縮による内部応力が発生する。この内部応力は架橋型保護層の膜厚が厚くなるほど増加するため保護層全層を硬化させると、クラックや膜剥がれが発生しやすくなる。この現象は初期的に現れなくても、電子写真プロセス上で繰り返し使用され帯電、現像、転写、クリーニングのハザード及び熱変動の影響を受けることにより、経時で発生しやすくなることもある。
Among the crosslinkable protective layers, a crosslinkable protective layer having the following specific structure is particularly effectively used.
The cross-linkable protective layer having a specific configuration is formed by curing at least a trifunctional or higher functional radical polymerizable monomer having no charge transport structure and a radical polymerizable compound having a monofunctional charge transport structure. The electrophotographic photosensitive member according to the present invention preferably has this protective layer. Since it has a cross-linked structure obtained by curing a tri- or higher-functional radically polymerizable monomer, a three-dimensional network structure is developed, and a high hardness and high elasticity protective layer with a very high crosslink density is obtained, and it is uniform and smooth. High wear resistance and scratch resistance are achieved. As described above, it is important to increase the crosslink density on the surface of the photoreceptor, that is, the number of crosslink bonds per unit volume. However, since a large number of bonds are instantaneously formed in the curing reaction, internal stress due to volume shrinkage occurs. This internal stress increases as the thickness of the crosslinkable protective layer increases. Therefore, when the entire protective layer is cured, cracks and film peeling tend to occur. Even if this phenomenon does not appear initially, it may be likely to occur over time due to repeated use in the electrophotographic process and the influence of charging, development, transfer, cleaning hazards and thermal fluctuations.
この問題を解決する方法としては、(1)架橋層及び架橋構造に高分子成分を導入する、(2)1官能及び2官能のラジカル重合性モノマーを多量に用いる、(3)柔軟性基を有する多官能モノマーを用いる、などの硬化樹脂層を柔らかくする方向性が挙げられるが、いずれも架橋層の架橋密度が希薄となり、飛躍的な耐摩耗性が達成されない。これに対し、本発明の電子写真感光体は、感光層(電荷輸送層)上に3次元の網目構造が発達した架橋密度の高い架橋型保護層を好ましくは1μm以上、10μm以下の膜厚で設けることで、上記のクラックや膜剥がれが発生せず、且つ非常に高い耐摩耗性が達成される。かかる架橋型保護層の膜厚を2μm以上、8μm以下の膜厚にすることにより、さらに上記問題に対する余裕度が向上することに加え、更なる耐摩耗性向上に繋がる高架橋密度化の材料選択が可能となる。 As a method for solving this problem, (1) a polymer component is introduced into the crosslinked layer and the crosslinked structure, (2) a large amount of monofunctional and bifunctional radically polymerizable monomers are used, and (3) a flexible group is introduced. Although the directionality which makes a cured resin layer soft, such as using the polyfunctional monomer which has, is mentioned, the crosslink density of a bridge | crosslinking layer becomes thin in any case, and remarkable wear resistance is not achieved. On the other hand, the electrophotographic photoreceptor of the present invention preferably has a crosslinkable protective layer having a high crosslink density in which a three-dimensional network structure is developed on the photosensitive layer (charge transport layer), preferably with a thickness of 1 μm or more and 10 μm or less. By providing, the above-mentioned cracks and film peeling do not occur, and very high wear resistance is achieved. By making the film thickness of the crosslinkable protective layer 2 μm or more and 8 μm or less, in addition to further improving the margin for the above problem, it is possible to select a material for increasing the crosslink density that leads to further improvement in wear resistance. It becomes possible.
本発明の電子写真感光体がクラックや膜剥がれを抑制できる理由としては、架橋型保護層を薄膜化できるため内部応力が大きくならないこと、下層に感光層もしくは電荷輸送層を有するため表面の架橋型保護層の内部応力を緩和できることなどによる。このため架橋型保護層に高分子材料を多量に含有させる必要がなく、このとき生ずる、高分子材料とラジカル重合性組成物(ラジカル重合性モノマーや電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物)の反応より生じた硬化物との不相溶が原因の傷やトナーフィルミングも起こり難い。 The reason why the electrophotographic photosensitive member of the present invention can suppress cracks and film peeling is that the cross-linkable protective layer can be thinned so that the internal stress does not increase, and the surface has a photoconductive layer or charge transport layer, so that the surface cross-linked type This is because the internal stress of the protective layer can be relaxed. For this reason, it is not necessary to contain a large amount of polymer material in the crosslinkable protective layer, and the polymer material and radical polymerizable composition (radical polymerizable monomer or radical polymerizable compound having a charge transporting structure) generated at this time are generated. Scratches and toner filming due to incompatibility with the cured product resulting from the reaction are unlikely to occur.
さらに、保護層全層にわたる厚膜を光エネルギー照射により硬化する場合、電荷輸送性構造による吸収から内部への光透過が制限され、硬化反応が充分に進行しない現象が起こることがある。そこで本発明では、架橋型保護層の膜厚を好ましくは10μm以下の薄膜とすることにより内部まで均一に硬化反応が進行し、表面と同様に内部でも高い耐摩耗性が維持される。また、上記特定の構成からなる架橋型保護層は、上記3官能性ラジカル重合性モノマーに加え、さらに1官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物を含有しており、これが上記3官能以上のラジカル重合性モノマー硬化時に架橋結合中に取り込まれる。これに対し、官能基を有しない低分子電荷輸送物質を架橋保護層中に含有させた場合、その相溶性の低さから低分子電荷輸送物質の析出や白濁現象が起こり、架橋保護層の機械的強度も低下する。一方、2官能以上の電荷輸送性化合物を主成分として用いた場合は複数の結合で架橋構造中に固定され架橋密度はより高まるが、電荷輸送性構造が非常に嵩高いため硬化樹脂構造の歪みが非常に大きくなり、架橋型保護層の内部応力が高まる原因となる。 Furthermore, when the thick film over the entire protective layer is cured by irradiation with light energy, the light transmission from the absorption by the charge transporting structure is limited, and the curing reaction may not sufficiently proceed. Therefore, in the present invention, by setting the thickness of the cross-linking protective layer to a thin film of preferably 10 μm or less, the curing reaction proceeds uniformly to the inside, and high wear resistance is maintained inside as well as the surface. In addition to the trifunctional radical polymerizable monomer, the cross-linked protective layer having the above specific structure further contains a radical polymerizable compound having a monofunctional charge transporting structure, which is the trifunctional or higher functional group. These radically polymerizable monomers are incorporated into the cross-linking during curing. On the other hand, when a low molecular charge transport material having no functional group is contained in the cross-linking protective layer, precipitation of the low molecular charge transport material and white turbidity occur due to the low compatibility, and the cross-linking protective layer machine The mechanical strength also decreases. On the other hand, when a bifunctional or higher-functional charge transporting compound is used as the main component, the crosslink structure is fixed by a plurality of bonds and the crosslink density is further increased. However, the charge transporting structure is very bulky, so that the cured resin structure is distorted. Becomes very large, which increases the internal stress of the crosslinked protective layer.
また、本発明の電子写真感光体は良好な電気的特性を有し、このため繰り返し安定性に優れており高耐久化並びに高安定化が実現される。これは架橋型保護層の構成材料として1官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物を用い、架橋結合間にペンダント状に固定化したことに起因する。上記のように官能基を有しない電荷輸送物質は析出、白濁現象が起こり、感度の低下、残留電位の上昇等繰り返し使用における電気的特性の劣化が著しい。2官能以上の電荷輸送性化合物を主成分として用いた場合は複数の結合で架橋構造中に固定されるため、電荷輸送時の中間体構造(カチオンラジカル)が安定して保てず、電荷のトラップによる感度の低下、残留電位の上昇が起こりやすい。これらの電気的特性の劣化は、画像濃度低下、文字細り等の画像として現れる。さらに、本発明の電子写真感光体においては、下層の感光層(電荷輸送層)として従来の電子写真感光体において用いられている電荷トラップの少ない高移動度な設計がそのまま適用可能で、架橋型保護層の電気的副作用を最小限に抑えることができる。 In addition, the electrophotographic photoreceptor of the present invention has good electrical characteristics, and therefore has excellent repetitive stability, realizing high durability and high stability. This is because a radical polymerizable compound having a monofunctional charge transporting structure is used as a constituent material of the crosslinkable protective layer and is immobilized in a pendant shape between the crosslinks. As described above, the charge transport material having no functional group causes precipitation and clouding phenomenon, and the electrical characteristics are remarkably deteriorated in repeated use such as reduction in sensitivity and increase in residual potential. When a bifunctional or higher-functional charge transporting compound is used as the main component, it is fixed in the crosslinked structure with a plurality of bonds, so the intermediate structure (cation radical) during charge transport cannot be kept stable, Sensitivity decreases due to traps and residual potential increases. Such deterioration of the electric characteristics appears as an image such as a decrease in image density and thinning of characters. Furthermore, in the electrophotographic photosensitive member of the present invention, a high mobility design with few charge traps used in the conventional electrophotographic photosensitive member can be applied as it is as a lower photosensitive layer (charge transport layer). The electrical side effects of the protective layer can be minimized.
次に、架橋型保護層塗布液の構成材料について説明する。
本発明に用いられる電荷輸送性構造を有しない3官能以上のラジカル重合性モノマーとは、例えばトリアリールアミン、ヒドラゾン、ピラゾリン、及びカルバゾールなどの正孔輸送性構造、並びに、例えば縮合多環キノン、ジフェノキノン、シアノ基やニトロ基を有する電子吸引性芳香族環などの電子輸送構造を有しておらず、且つラジカル重合性官能基を3個以上有するモノマーを指す。このラジカル重合性官能基とは、炭素−炭素2重結合を有し、ラジカル重合可能な基であれば何れでもよい。これらラジカル重合性官能基としては、例えば、下記に示す1−置換エチレン官能基、1,1−置換エチレン官能基等が挙げられる。
(1)1−置換エチレン官能基としては、例えば以下の一般式(10)で表される官能基が挙げられる。
Next, the constituent material of the crosslinking type protective layer coating solution will be described.
The trifunctional or higher functional radical polymerizable monomer having no charge transport structure used in the present invention includes a hole transport structure such as triarylamine, hydrazone, pyrazoline, and carbazole, and a condensed polycyclic quinone, for example. This refers to a monomer having no electron transport structure such as diphenoquinone, an electron-withdrawing aromatic ring having a cyano group or a nitro group, and having three or more radical polymerizable functional groups. The radical polymerizable functional group may be any group as long as it has a carbon-carbon double bond and is capable of radical polymerization. Examples of these radical polymerizable functional groups include 1-substituted ethylene functional groups and 1,1-substituted ethylene functional groups shown below.
(1) Examples of the 1-substituted ethylene functional group include functional groups represented by the following general formula (10).
CH2=CH−X1− ・・・一般式(10) CH 2 = CH-X 1 - ··· formula (10)
(ただし、式(10)中、X1は、置換基を有していてもよいフェニレン基、ナフチレン基等のアリーレン基、置換基を有していてもよいアルケニレン基、−CO−基、−COO−基、−CON(R10)−基(R10は、水素、メチル基、エチル基等のアルキル基、ベンジル基、ナフチルメチル基、フェネチル基等のアラルキル基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基を表す。)、又は−S−基を表す。) (In the formula (10), X 1 is an arylene group such as a phenylene group or a naphthylene group which may have a substituent, an alkenylene group which may have a substituent, a —CO— group, — COO- group, -CON (R 10) - group (R 10 is hydrogen, alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a benzyl group, naphthylmethyl group, an aralkyl group such as a phenethyl group, a phenyl group, a naphthyl group Represents an aryl group), or represents an -S- group.)
これらの官能基を具体的に例示すると、ビニル基、スチリル基、2−メチル−1,3−ブタジエニル基、ビニルカルボニル基、アクリロイルオキシ基、アクリロイルアミド基、ビニルチオエーテル基等が挙げられる。 Specific examples of these functional groups include vinyl group, styryl group, 2-methyl-1,3-butadienyl group, vinylcarbonyl group, acryloyloxy group, acryloylamide group, vinylthioether group and the like.
(2)1,1−置換エチレン官能基としては、例えば以下の一般式(11)で表される官能基が挙げられる。 (2) Examples of the 1,1-substituted ethylene functional group include functional groups represented by the following general formula (11).
CH2=CY−X2− ・・・一般式(11) CH 2 = CY-X 2 - ··· formula (11)
(ただし、式(11)中、Yは、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、ナフチル基等のアリール基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、メトキシ基もしくはエトキシ基等のアルコキシ基、−COOR11基(R11は、水素原子、置換基を有していてもよいメチル基、エチル基等のアルキル基、置換基を有していてもよいベンジル、フェネチル基等のアラルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、ナフチル基等のアリール基、又は−CONR12R13(R12及びR13は、水素原子、置換基を有していてもよいメチル基、エチル基等のアルキル基、置換基を有していてもよいベンジル基、ナフチルメチル基、フェネチル基等のアラルキル基、又は置換基を有していてもよいフェニル基、ナフチル基等のアリール基を表し、互いに同一でもよく、別異であってもよい。)を表す。)を表し、また、X2は上記一般式(10)のX1と同一の置換基、又は単結合もしくはアルキレン基を表す。ただし、Y、X2の少なくとも何れか一方がオキシカルボニル基、シアノ基、アルケニレン基、又は芳香族環である。) (In the formula (11), Y represents an alkyl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent, a phenyl group which may have a substituent, or a naphthyl group. Aryl group such as halogen atom, cyano group, nitro group, alkoxy group such as methoxy group or ethoxy group, -COOR 11 group (R 11 is hydrogen atom, methyl group optionally having substituent, ethyl group Alkyl groups such as benzyl which may have a substituent, aralkyl groups such as phenethyl group, phenyl groups which may have a substituent, aryl groups such as naphthyl group, or -CONR 12 R 13 (R 12 and R 13 are a hydrogen atom, an alkyl group such as an optionally substituted methyl group or an ethyl group, an aralkyl group such as an optionally substituted benzyl group, naphthylmethyl group or phenethyl group; Or a substituent Has optionally also a phenyl group, an aryl group such as phenyl or naphthyl, may be identical to one another, represent represent.) A which may be.) A different, and, X 2 is the general formula (10) And the same substituent as X 1 , or a single bond or an alkylene group, provided that at least one of Y and X 2 is an oxycarbonyl group, a cyano group, an alkenylene group, or an aromatic ring.
これらの官能基を具体的に例示すると、α−塩化アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、α−シアノエチレン基、α−シアノアクリロイルオキシ基、α−シアノフェニレン基、メタクリロイルアミノ基等が挙げられる。
尚、これらX1、X2、Yについての置換基にさらに置換される置換基としては、例えばハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メチル基、エチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基等が挙げられる。
Specific examples of these functional groups include an α-acryloyloxy chloride group, a methacryloyloxy group, an α-cyanoethylene group, an α-cyanoacryloyloxy group, an α-cyanophenylene group, and a methacryloylamino group.
In addition, examples of the substituent further substituted on the substituents for X 1 , X 2 , and Y include, for example, halogen groups, nitro groups, cyano groups, methyl groups, ethyl groups and other alkyl groups, methoxy groups, ethoxy groups, and the like And an aryloxy group such as a phenoxy group, an aryl group such as a phenyl group and a naphthyl group, and an aralkyl group such as a benzyl group and a phenethyl group.
これらのラジカル重合性官能基の中では、特にアクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基が有用である。3個以上のアクリロイルオキシ基を有する化合物は、例えば水酸基がその分子中に3個以上ある化合物とアクリル酸(塩)、アクリル酸ハライド、アクリル酸エステルを用い、エステル反応又はエステル交換反応させることにより得ることができる。また、3個以上のメタクリロイルオキシ基を有する化合物も同様にして得ることができる。
また、ラジカル重合性官能基を3個以上有する単量体中のラジカル重合性官能基は、同一でも異なっても良い。
Among these radical polymerizable functional groups, acryloyloxy group and methacryloyloxy group are particularly useful. A compound having 3 or more acryloyloxy groups can be prepared by, for example, using a compound having 3 or more hydroxyl groups in the molecule and acrylic acid (salt), acrylic acid halide, or acrylic ester, and performing an ester reaction or a transesterification reaction. Can be obtained. A compound having three or more methacryloyloxy groups can be obtained in the same manner.
Further, the radical polymerizable functional groups in the monomer having three or more radical polymerizable functional groups may be the same or different.
電荷輸送性構造を有しない3官能以上のラジカル重合性モノマーの具体例としては、以下のものが示されるが、本発明はこれらの化合物に限定されるものではない。 Specific examples of the trifunctional or higher functional radical polymerizable monomer having no charge transporting structure include the following, but the present invention is not limited to these compounds.
即ち、本発明において使用する上記ラジカル重合性モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA)、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパンアルキレン変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシ変性(以後EO変性)トリアクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシ変性(以後PO変性)トリアクリレート、トリメチロールプロパンカプロラクトン変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンアルキレン変性トリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(PETTA)、グリセロールトリアクリレート、グリセロールエピクロロヒドリン変性(以後ECH変性)トリアクリレート、グリセロールEO変性トリアクリレート、グリセロールPO変性トリアクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)、ジペンタエリスリトールカプロラクトン変性ヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、アルキル化ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、アルキル化ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、アルキル化ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジメチロールプロパンテトラアクリレート(DTMPTA)、ペンタエリスリトールエトキシテトラアクリレート、リン酸EO変性トリアクリレート、2,2,5,5,−テトラヒドロキシメチルシクロペンタノンテトラアクリレートなどが挙げられ、これらは単独又は2種類以上を併用しても差し支えない。 That is, examples of the radical polymerizable monomer used in the present invention include trimethylolpropane triacrylate (TMPTA), trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolpropane alkylene-modified triacrylate, trimethylolpropane ethyleneoxy-modified (hereinafter referred to as EO-modified). ) Triacrylate, trimethylolpropane propyleneoxy modified (hereinafter PO modified) triacrylate, trimethylolpropane caprolactone modified triacrylate, trimethylolpropane alkylene modified trimethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate (PETTA), glycerol triacrylate Glycerol epichlorohydrin modified (hereinafter ECH modified) tria Relate, glycerol EO-modified triacrylate, glycerol PO-modified triacrylate, tris (acryloxyethyl) isocyanurate, dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), dipentaerythritol caprolactone-modified hexaacrylate, dipentaerythritol hydroxypentaacrylate, alkylated di Pentaerythritol pentaacrylate, alkylated dipentaerythritol tetraacrylate, alkylated dipentaerythritol triacrylate, dimethylolpropane tetraacrylate (DTMPTA), pentaerythritol ethoxytetraacrylate, phosphoric acid EO-modified triacrylate, 2, 2, 5, 5 , -Tetrahydroxymethylcyclopentanone tetraacrylate And the like, which may be used in combination either alone or in combination.
また、本発明に用いられる電荷輸送性構造を有しない3官能以上のラジカル重合性モノマーとしては、架橋型保護層中に緻密な架橋結合を形成するために、該モノマー中の官能基数に対する分子量の割合(分子量/官能基数)は250以下が望ましい。また、この割合が250より大きい場合、架橋型保護層は柔らかく耐摩耗性が幾分低下する傾向が出てくるため、上記例示したモノマー等中、EO、PO、カプロラクトン等の変性基を有するモノマーにおいては、極端に長い変性基を有するものを単独で使用することは好ましくはない。また、架橋型保護層に用いられる電荷輸送性構造を有しない3官能以上のラジカル重合性モノマーの成分割合は、架橋型保護層全量に対し20〜80重量%、好ましくは30〜70重量%である。モノマー成分が20重量%未満では架橋型保護層の3次元架橋結合密度が少なく、従来の熱可塑性バインダー樹脂を用いた場合に比べ飛躍的な耐摩耗性向上が達成難くなる傾向がある。また、80重量%を超えると電荷輸送性化合物の含有量が低下し、電気的特性の劣化が生じる傾向がある。使用されるプロセスによって要求される電気特性や耐摩耗性が異なり、それに伴い電子写真感光体における架橋型保護層の膜厚も異なるため一概には言えないが、両特性のバランスを考慮すると30〜70重量%の範囲が最も好ましい。 Further, the trifunctional or higher functional radical polymerizable monomer having no charge transport structure used in the present invention has a molecular weight relative to the number of functional groups in the monomer in order to form a dense crosslink in the crosslinkable protective layer. The ratio (molecular weight / functional group number) is preferably 250 or less. On the other hand, if this ratio is larger than 250, the crosslinked protective layer tends to be soft and wear resistance tends to decrease somewhat. Therefore, among the monomers exemplified above, monomers having modifying groups such as EO, PO, caprolactone, etc. In the method, it is not preferable to use a compound having an extremely long modifying group alone. In addition, the proportion of the trifunctional or higher functional radical polymerizable monomer having no charge transporting structure used in the crosslinkable protective layer is 20 to 80% by weight, preferably 30 to 70% by weight, based on the total amount of the crosslinkable protective layer. is there. If the monomer component is less than 20% by weight, the three-dimensional crosslink density of the crosslinkable protective layer is small, and it is difficult to achieve a dramatic improvement in wear resistance as compared with the case of using a conventional thermoplastic binder resin. On the other hand, when it exceeds 80% by weight, the content of the charge transporting compound is lowered, and the electrical characteristics tend to be deteriorated. The electrical characteristics and abrasion resistance required differ depending on the process used, and the thickness of the cross-linked protective layer in the electrophotographic photosensitive member varies accordingly. A range of 70% by weight is most preferred.
架橋型保護層に用いられる1官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物とは、例えばトリアリールアミン、ヒドラゾン、ピラゾリン、もしくはカルバゾールなどの正孔輸送性構造、又は、例えば縮合多環キノン、ジフェノキノン、シアノ基もしくはニトロ基を有する電子吸引性芳香族環などの電子輸送構造を有しており、且つ1個のラジカル重合性官能基を有する化合物を指す。このラジカル重合性官能基としては、先のラジカル重合性モノマーで示したものが挙げられ、特にアクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基が有用である。また、電荷輸送性構造としてはトリアリールアミン構造が高い効果を有し、中でも下記一般式(A)又は(B)の構造で示される化合物を用いた場合、感度、残留電位等の電気的特性が良好に持続される。 The radically polymerizable compound having a monofunctional charge transporting structure used for the crosslinked protective layer is, for example, a hole transporting structure such as triarylamine, hydrazone, pyrazoline, or carbazole, or a condensed polycyclic quinone, for example. It refers to a compound having an electron transport structure such as an electron-withdrawing aromatic ring having diphenoquinone, a cyano group or a nitro group and having one radical polymerizable functional group. Examples of the radical polymerizable functional group include those shown in the above radical polymerizable monomer, and acryloyloxy group and methacryloyloxy group are particularly useful. As a charge transporting structure, a triarylamine structure has a high effect, and in particular, when a compound represented by the structure of the following general formula (A) or (B) is used, the electrical characteristics such as sensitivity and residual potential Is well maintained.
(式(A)及び(B)中、R1は水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアラルキル基、置換基を有してもよいアリール基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基、−COOR7(R7は水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアラルキル基又は置換基を有してもよいアリール基)、ハロゲン化カルボニル基若しくはCONR8R9(R8及びR9は水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアラルキル基又は置換基を有してもよいアリール基を示し、互いに同一であっても異なっていてもよい)を表わし、Ar1、Ar2は置換もしくは無置換のアリーレン基を表わし、同一であっても異なってもよい。Ar3、Ar4は置換もしくは無置換のアリール基を表わし、同一であっても異なってもよい。Xは単結合、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のシクロアルキレン基、置換もしくは無置換のアルキレンエーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基を表わす。Zは置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアルキレンエーテル2価基、アルキレンオキシカルボニル2価基を表わす。m、nは0〜3の整数を表わす。) (In Formulas (A) and (B), R 1 may have a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent, or a substituent. Aryl group, cyano group, nitro group, alkoxy group, —COOR 7 (R 7 has a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent, or a substituent. An aryl group), a carbonyl halide group or CONR 8 R 9 (R 8 and R 9 are a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent, or Represents an aryl group which may have a substituent, and may be the same or different from each other, and Ar 1 and Ar 2 represent a substituted or unsubstituted arylene group, and may be the same or different which may be .Ar 3, Ar 4 is substituted if Represents an unsubstituted aryl group, which may be the same or different, X represents a single bond, a substituted or unsubstituted alkylene group, a substituted or unsubstituted cycloalkylene group, a substituted or unsubstituted alkylene ether group, O represents an oxygen atom, a sulfur atom, or a vinylene group, Z represents a substituted or unsubstituted alkylene group, a substituted or unsubstituted alkylene ether divalent group, or an alkyleneoxycarbonyl divalent group, and m and n are integers of 0 to 3. Represents.)
以下に、一般式(A)、(B)の構造で示される化合物の具体例を示す。
前記一般式(A)、(B)において、R1の置換基中、アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等、アリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が、アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基が、アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等がそれぞれ挙げられ、これらは、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メチル基、エチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基等により置換されていても良い。
R1の置換基のうち、特に好ましいものは水素原子、メチル基である。
Specific examples of the compounds represented by the structures of the general formulas (A) and (B) are shown below.
In the general formulas (A) and (B), in the substituent of R 1 , examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group, and examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group. The aralkyl group includes a benzyl group, a phenethyl group, and a naphthylmethyl group, and the alkoxy group includes a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, and the like. These include a halogen atom, a nitro group, a cyano group, and a methyl group. Substituted with an alkyl group such as an ethyl group, an alkoxy group such as a methoxy group or an ethoxy group, an aryloxy group such as a phenoxy group, an aryl group such as a phenyl group or a naphthyl group, an aralkyl group such as a benzyl group or a phenethyl group, etc. May be.
Among the substituents for R 1 , particularly preferred are a hydrogen atom and a methyl group.
Ar3、Ar4は置換もしくは無置換のアリール基を、本発明においては該アリール基としては縮合多環式炭化水素基、非縮合環式炭化水素基及び複素環基を含むものであり、以下の基が挙げられる。 Ar 3 and Ar 4 represent a substituted or unsubstituted aryl group, and in the present invention, the aryl group includes a condensed polycyclic hydrocarbon group, a non-condensed cyclic hydrocarbon group, and a heterocyclic group, The group of is mentioned.
該縮合多環式炭化水素基としては、好ましくは環を形成する炭素数が18個以下のもの、例えば、ペンタニル基、インデニル基、ナフチル基、アズレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、as−インダセニル基、s−インダセニル基、フルオレニル基、アセナフチレニル基、プレイアデニル基、アセナフテニル基、フェナレニル基、フェナントリル基、アントリル基、フルオランテニル基、アセフェナントリレニル基、アセアントリレニル基、トリフェニレル基、ピレニル基、クリセニル基、及びナフタセニル基等が挙げられる。 The condensed polycyclic hydrocarbon group preferably has 18 or less carbon atoms forming a ring, for example, a pentanyl group, an indenyl group, a naphthyl group, an azulenyl group, a heptaenyl group, a biphenylenyl group, an as-indacenyl group. , S-indacenyl group, fluorenyl group, acenaphthylenyl group, preadenyl group, acenaphthenyl group, phenalenyl group, phenanthryl group, anthryl group, fluoranthenyl group, acephenanthrenyl group, aceanthrylenyl group, triphenylyl group, pyrenyl group , A chrycenyl group, a naphthacenyl group, and the like.
該非縮合環式炭化水素基としては、ベンゼン、ジフェニルエーテル、ポリエチレンジフェニルエーテル、ジフェニルチオエーテル及びジフェニルスルホン等の単環式炭化水素化合物の1価基、又はビフェニル、ポリフェニル、ジフェニルアルカン、ジフェニルアルケン、ジフェニルアルキン、トリフェニルメタン、ジスチリルベンゼン、1,1−ジフェニルシクロアルカン、ポリフェニルアルカン、及びポリフェニルアルケン等の非縮合多環式炭化水素化合物の1価基、又は9,9−ジフェニルフルオレン等の環集合炭化水素化合物の1価基が挙げられる。 Examples of the non-fused cyclic hydrocarbon group include monovalent groups of monocyclic hydrocarbon compounds such as benzene, diphenyl ether, polyethylene diphenyl ether, diphenyl thioether and diphenyl sulfone, or biphenyl, polyphenyl, diphenylalkane, diphenylalkene, diphenylalkyne, Monovalent groups of non-condensed polycyclic hydrocarbon compounds such as triphenylmethane, distyrylbenzene, 1,1-diphenylcycloalkane, polyphenylalkane, and polyphenylalkene, or ring assemblies such as 9,9-diphenylfluorene And monovalent groups of hydrocarbon compounds.
複素環基としては、カルバゾール、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、オキサジアゾール、及びチアジアゾール等の1価基が挙げられる。 Examples of the heterocyclic group include monovalent groups such as carbazole, dibenzofuran, dibenzothiophene, oxadiazole, and thiadiazole.
また、前記Ar3、Ar4で表わされるアリール基は例えば以下に示すような置換基を有してもよい。
(1)ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基等。
(2)アルキル基、好ましくは、C1〜C12とりわけC1〜C8、さらに好ましくはC1〜C4の直鎖または分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基にはさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、C1〜C4のアルコキシ基、フェニル基、又は、ハロゲン原子、C1〜C4のアルキル基もしくはC1〜C4のアルコキシ基で置換されたフェニル基を有していてもよい。具体的にはメチル基、エチル基、n−ブチル基、i−プロピル基、t−ブチル基、s−ブチル基、n−プロピル基、トリフルオロメチル基、2−ヒドロキエチル基、2−エトキシエチル基、2−シアノエチル基、2−メトキシエチル基、ベンジル基、4−クロロベンジル基、4−メチルベンジル基、4−フェニルベンジル基等が挙げられる。
(3)アルコキシ基(−OR2)であり、R2は(2)で定義したアルキル基を表わす。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ基、t−ブトキシ基、n−ブトキシ基、s−ブトキシ基、i−ブトキシ基、2−ヒドロキシエトキシ基、ベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
(4)アリールオキシ基であり、アリール基としてはフェニル基、ナフチル基が挙げられる。これは、C1〜C4のアルコキシ基、C1〜C4のアルキル基またはハロゲン原子を置換基として含有してもよい。具体的には、フェノキシ基、1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、4−メトキシフェノキシ基、4−メチルフェノキシ基等が挙げられる。
(5)アルキルメルカプト基またはアリールメルカプト基であり、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、p−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。
(6)下記式(C)で表される基である。
The aryl group represented by Ar 3 or Ar 4 may have a substituent as shown below, for example.
(1) Halogen atom, cyano group, nitro group and the like.
(2) Alkyl groups, preferably C1 to C12, especially C1 to C8, more preferably C1 to C4 linear or branched alkyl groups. These alkyl groups further include a fluorine atom, a hydroxyl group, a cyano group, It may have a C1-C4 alkoxy group, a phenyl group, or a phenyl group substituted with a halogen atom, a C1-C4 alkyl group or a C1-C4 alkoxy group. Specifically, methyl group, ethyl group, n-butyl group, i-propyl group, t-butyl group, s-butyl group, n-propyl group, trifluoromethyl group, 2-hydroxyethyl group, 2-ethoxyethyl Group, 2-cyanoethyl group, 2-methoxyethyl group, benzyl group, 4-chlorobenzyl group, 4-methylbenzyl group, 4-phenylbenzyl group and the like.
(3) An alkoxy group (—OR 2 ), and R 2 represents the alkyl group defined in (2). Specifically, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, i-propoxy group, t-butoxy group, n-butoxy group, s-butoxy group, i-butoxy group, 2-hydroxyethoxy group, benzyloxy group And a trifluoromethoxy group.
(4) An aryloxy group, and examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group. This may contain a C1-C4 alkoxy group, a C1-C4 alkyl group or a halogen atom as a substituent. Specific examples include a phenoxy group, a 1-naphthyloxy group, a 2-naphthyloxy group, a 4-methoxyphenoxy group, and a 4-methylphenoxy group.
(5) Alkyl mercapto group or aryl mercapto group, and specific examples include methylthio group, ethylthio group, phenylthio group, p-methylphenylthio group and the like.
(6) A group represented by the following formula (C).
(式(C)中、R3及びR4は各々独立に水素原子、前記(2)で定義したアルキル基、またはアリール基を表わす。アリール基としては、例えばフェニル基、ビフェニル基又はナフチル基が挙げられ、これらはC1〜C4のアルコキシ基、C1〜C4のアルキル基またはハロゲン原子を置換基として含有してもよい。R3及びR4は共同で環を形成してもよい。)
具体的には、アミノ基、ジエチルアミノ基、N−メチル−N−フェニルアミノ基、N,N−ジフェニルアミノ基、N,N−ジ(トリール)アミノ基、ジベンジルアミノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基、ピロリジノ基等が挙げられる。
(7)メチレンジオキシ基、又はメチレンジチオ基等のアルキレンジオキシ基又はアルキレンジチオ基等が挙げられる。
(8)置換もしくは無置換のスチリル基、置換もしくは無置換のβ−フェニルスチリル基、ジフェニルアミノフェニル基、ジトリルアミノフェニル基等。
(In the formula (C), R 3 and R 4 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group defined in the above (2), or an aryl group. Examples of the aryl group include a phenyl group, a biphenyl group, and a naphthyl group. These may contain a C1-C4 alkoxy group, a C1-C4 alkyl group or a halogen atom as a substituent, and R 3 and R 4 may form a ring together.)
Specifically, amino group, diethylamino group, N-methyl-N-phenylamino group, N, N-diphenylamino group, N, N-di (tolyl) amino group, dibenzylamino group, piperidino group, morpholino group And pyrrolidino group.
(7) An alkylenedioxy group or an alkylenedithio group such as a methylenedioxy group or a methylenedithio group.
(8) A substituted or unsubstituted styryl group, a substituted or unsubstituted β-phenylstyryl group, a diphenylaminophenyl group, a ditolylaminophenyl group, and the like.
前記Ar1、Ar2で表わされるアリーレン基としては、前記Ar3、Ar4で表されるアリール基から誘導される2価基である。 The arylene group represented by Ar 1 or Ar 2 is a divalent group derived from the aryl group represented by Ar 3 or Ar 4 .
前記Xは単結合、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のシクロアルキレン基、置換もしくは無置換のアルキレンエーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基を表わす。 X represents a single bond, a substituted or unsubstituted alkylene group, a substituted or unsubstituted cycloalkylene group, a substituted or unsubstituted alkylene ether group, an oxygen atom, a sulfur atom, or a vinylene group.
置換もしくは無置換のアルキレン基としては、C1〜C12、好ましくはC1〜C8、さらに好ましくはC1〜C4の直鎖または分岐鎖のアルキレン基であり、これらのアルキレン基にはさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、C1〜C4のアルコキシ基、フェニル基、又は、ハロゲン原子、C1〜C4のアルキル基もしくはC1〜C4のアルコキシ基で置換されたフェニル基を有していてもよい。具体的にはメチレン基、エチレン基、n−ブチレン基、i−プロピレン基、t−ブチレン基、s−ブチレン基、n−プロピレン基、トリフルオロメチレン基、2−ヒドロキエチレン基、2−エトキシエチレン基、2−シアノエチレン基、2−メトキシエチレン基、ベンジリデン基、フェニルエチレン基、4−クロロフェニルエチレン基、4−メチルフェニルエチレン基、4−ビフェニルエチレン基等が挙げられる。 The substituted or unsubstituted alkylene group is a C1 to C12, preferably C1 to C8, more preferably a C1 to C4 linear or branched alkylene group. These alkylene groups further include a fluorine atom, a hydroxyl group, It may have a cyano group, a C1-C4 alkoxy group, a phenyl group, or a phenyl group substituted with a halogen atom, a C1-C4 alkyl group or a C1-C4 alkoxy group. Specifically, methylene group, ethylene group, n-butylene group, i-propylene group, t-butylene group, s-butylene group, n-propylene group, trifluoromethylene group, 2-hydroxyethylene group, 2-ethoxyethylene Group, 2-cyanoethylene group, 2-methoxyethylene group, benzylidene group, phenylethylene group, 4-chlorophenylethylene group, 4-methylphenylethylene group, 4-biphenylethylene group and the like.
置換もしくは無置換のシクロアルキレン基としては、C5〜C7の環状アルキレン基であり、これらの環状アルキレン基にはフッ素原子、水酸基、C1〜C4のアルキル基、C1〜C4のアルコキシ基を有していても良い。具体的にはシクロヘキシリデン基、シクロへキシレン基、3,3−ジメチルシクロヘキシリデン基等が挙げられる。 The substituted or unsubstituted cycloalkylene group is a C5 to C7 cyclic alkylene group, and these cyclic alkylene groups have a fluorine atom, a hydroxyl group, a C1 to C4 alkyl group, and a C1 to C4 alkoxy group. May be. Specific examples include a cyclohexylidene group, a cyclohexylene group, and a 3,3-dimethylcyclohexylidene group.
置換もしくは無置換のアルキレンエーテル基としては、エチレンオキシ、プロピレンオキシ、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、テトラエチレングリコール、トリプロピレングリコールを表わし、アルキレンエーテル基アルキレン基はヒドロキシル基、メチル基、エチル基等の置換基を有してもよい。 The substituted or unsubstituted alkylene ether group represents ethyleneoxy, propyleneoxy, ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, tetraethylene glycol, tripropylene glycol, alkylene ether group alkylene group is hydroxyl group, methyl group, ethyl group, etc. You may have the substituent of.
ビニレン基は、下記式(D)又は(E)で表される基である。 The vinylene group is a group represented by the following formula (D) or (E).
(式(D)中、R5は水素、アルキル基(前記(2)で定義されるアルキル基と同じ)、アリール基(前記Ar3、Ar4で表わされるアリール基と同じ)、aは1または2、bは1〜3を表わす。) (In formula (D), R 5 is hydrogen, an alkyl group (the same as the alkyl group defined in (2) above), an aryl group (the same as the aryl group represented by Ar 3 or Ar 4 above), and a is 1 Or 2, b represents 1-3.
前記Zは置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアルキレンエーテル2価基、アルキレンオキシカルボニル2価基を表わす。
置換もしくは無置換のアルキレン基としては、前記Xのアルキレン基と同様なものが挙げられる。
置換もしくは無置換のアルキレンエーテル2価基としては、前記Xのアルキレンエーテル2価基が挙げられる。
アルキレンオキシカルボニル2価基としては、カプロラクトン2価変性基が挙げられる。
Z represents a substituted or unsubstituted alkylene group, a substituted or unsubstituted alkylene ether divalent group, or an alkyleneoxycarbonyl divalent group.
Examples of the substituted or unsubstituted alkylene group include the same alkylene groups as those described above for X.
Examples of the substituted or unsubstituted alkylene ether divalent group include the alkylene ether divalent group of X.
Examples of the alkyleneoxycarbonyl divalent group include a caprolactone divalent modifying group.
また、1官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物として更に好ましくは、下記一般式(F)の構造の化合物が挙げられる。 Further, the radical polymerizable compound having a monofunctional charge transporting structure is more preferably a compound having the structure of the following general formula (F).
(式(F)中、o、p、qはそれぞれ0又は1の整数、Raは水素原子、メチル基を表わし、Rb、Rcは水素原子以外の置換基で炭素数1〜6のアルキル基を表わし、複数の場合は異なっても良い。s、tは0〜3の整数を表わす。Zaは単結合、メチレン基、エチレン基、または下記式(G)で表される基である。) (In the formula (F), o, p and q are each an integer of 0 or 1, Ra represents a hydrogen atom or a methyl group, Rb and Rc represent a substituent other than a hydrogen atom and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. And s and t each represent an integer of 0 to 3. Za is a single bond, a methylene group, an ethylene group, or a group represented by the following formula (G).)
上記一般式(F)で表わされる化合物としては、Rb、Rcの置換基がメチル基、エチル基である化合物が特に好ましい。 As the compound represented by the general formula (F), a compound in which the substituents of Rb and Rc are a methyl group and an ethyl group is particularly preferable.
本発明で用いる上記一般式(A)及び(B)特に(F)の1官能性の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物は、炭素−炭素間の二重結合が両側に開放されて重合するため、末端構造とはならず、連鎖重合体中に組み込まれ、3官能以上のラジカル重合性モノマーとの重合で架橋形成された重合体中では、高分子の主鎖中に存在し、かつ主鎖−主鎖間の架橋鎖中に存在(この架橋鎖には1つの高分子と他の高分子間の分子間架橋鎖と、1つの高分子内で折り畳まれた状態の主鎖のある部位と主鎖中でこれから離れた位置に重合したモノマー由来の他の部位とが架橋される分子内架橋鎖とがある)するが、主鎖中に存
在する場合であってもまた架橋鎖中に存在する場合であっても、鎖部分から懸下するトリアリールアミン構造は、窒素原子から放射状方向に配置する少なくとも3つのアリール基を有し、バルキーであるが、鎖部分に直接結合しておらず鎖部分からカルボニル基等を介して懸下しているため立体的位置取りに融通性ある状態で固定されているので、これらトリアリールアミン構造は重合体中で相互に程よく隣接する空間配置が可能であるため、分子内の構造的歪みが少なく、また、電子写真感光体の保護層とされた場合に、電荷輸送経路の断絶を比較的免れた分子内構造を採りうるものと推測される。
The radical polymerizable compound having a monofunctional charge transporting structure represented by the above general formulas (A) and (B), particularly (F) used in the present invention is polymerized by releasing the carbon-carbon double bond on both sides. Therefore, in the polymer that does not become a terminal structure, is incorporated in the chain polymer, and is crosslinked by polymerization with a tri- or higher functional radical polymerizable monomer, it exists in the main chain of the polymer, and Present in the main chain-cross-linked chain (this cross-linked chain has an intermolecular cross-linked chain between one polymer and another polymer, and a main chain folded in one polymer. There is an intramolecular cross-linked chain that crosslinks the site and another site derived from the polymerized monomer at a position away from this in the main chain), but even if it exists in the main chain, Even if present in the triarylamine structure suspended from the chain moiety, It has at least three aryl groups arranged in the radial direction from and is bulky, but it is not directly bonded to the chain part and is suspended from the chain part via a carbonyl group etc. Since these triarylamine structures can be arranged adjacent to each other in the polymer, the structural distortion in the molecule is small, and the electrophotographic photoreceptor is protected. In the case of a layer, it is presumed that an intramolecular structure that is relatively free from interruption of the charge transport pathway can be adopted.
さらに、本発明に好適に用いられる1官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらの構造の化合物に限定されるものではない。 Specific examples of the radically polymerizable compound having a monofunctional charge transporting structure suitably used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited to compounds having these structures.
本発明において架橋型保護層は、電荷輸送性構造を有しないラジカル重合性モノマー及び電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物を同時に硬化させたものであるが、これ以外に耐摩耗性の向上を目的としてフィラー微粒子を含有させることができる。 In the present invention, the crosslinkable protective layer is obtained by simultaneously curing a radically polymerizable monomer having no charge transporting structure and a radically polymerizable compound having a charge transporting structure. For the purpose, filler fine particles can be contained.
フィラー微粒子含有架橋型保護層は、架橋密度が高く、架橋していないフィラー含有バインダー樹脂層に比べて、樹脂部の耐摩耗性が高く、不均一な摩耗が抑制される。これに加えて、樹脂中に分散されたフィラー微粒子は、硬化樹脂架橋マトリックスに捉えられ、該架橋マトリックスのフィラー保持力が大きいため、フィラーの脱落も防止される。従って、非常に耐摩耗性が高まると考えられる。 The filler fine particle-containing cross-linking protective layer has a high cross-linking density, and has higher wear resistance of the resin part than non-cross-linked filler-containing binder resin layers, thereby suppressing uneven wear. In addition to this, the filler fine particles dispersed in the resin are caught by the cured resin cross-linked matrix, and since the filler holding power of the cross-linked matrix is large, the filler is prevented from falling off. Therefore, it is considered that the wear resistance is greatly increased.
このフィラー微粒子としては、以下のようなものが使用できる。有機性フィラー材料としては、ポリテトラフルオロエチレンのようなフッ素樹脂粉末、シリコーン樹脂粉末、カーボン微粒子などが挙げられる。カーボン微粒子とは、炭素が主成分の構造を有する粒子のことであり、非晶質、ダイヤモンド、グラファイト、無定型炭素、フラーレン、ツェッペリン、カーボンナノチューブ、カーボンナノホーン等の構造を有する粒子である。これらの構造の中で水素を含有するダイヤモンド状カーボン若しくは非晶質カーボン構造を有する粒子は、機械的及び化学的耐久性が良好である。水素を含有するダイヤモンド状カーボン若しくは非晶質カーボン膜とは、SP3軌道を有するダイヤモンド構造、SP2軌道を有するグラファイト構造、非晶質カーボン構造などの類似構造が混在した粒子のことである。ダイヤモンド状カーボンもしくは非晶質カーボン微粒子は、炭素だけで構成されるのではなく、水素、酸素、窒素、フッ素、硼素、リン、塩素、臭素、沃素等の他の元素が含有されていてもかまわない。 As the filler fine particles, the following can be used. Examples of the organic filler material include fluorine resin powder such as polytetrafluoroethylene, silicone resin powder, and carbon fine particles. The carbon fine particles are particles having a structure mainly composed of carbon, and are particles having a structure such as amorphous, diamond, graphite, amorphous carbon, fullerene, zeppelin, carbon nanotube, carbon nanohorn. Among these structures, particles containing hydrogen-containing diamond-like carbon or amorphous carbon structure have good mechanical and chemical durability. The diamond-like carbon or amorphous carbon film containing hydrogen is a particle in which similar structures such as a diamond structure having an SP3 orbit, a graphite structure having an SP2 orbit, and an amorphous carbon structure are mixed. Diamond-like carbon or amorphous carbon fine particles are not limited to carbon, but may contain other elements such as hydrogen, oxygen, nitrogen, fluorine, boron, phosphorus, chlorine, bromine and iodine. Absent.
無機性フィラー材料としては、銅、スズ、アルミニウム、インジウムなどの金属粉末、酸化珪素、酸化錫、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化ビスマス等の金属酸化物、チタン酸カリウムなどの無機材料が挙げられる。特に、フィラーの硬度の点からは、この中でも無機材料を用いることが有利である。特に金属酸化物が良好であり、さらには、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化チタンが有効に使用できる。また、コロイダルシリカやコロイダルアルミナなどの微粒子も有効に使用できる。 Examples of inorganic filler materials include metal powders such as copper, tin, aluminum, and indium, metal oxides such as silicon oxide, tin oxide, zinc oxide, titanium oxide, indium oxide, antimony oxide, and bismuth oxide, and potassium titanate. An inorganic material is mentioned. In particular, it is advantageous to use an inorganic material among them from the viewpoint of the hardness of the filler. In particular, metal oxides are good, and silicon oxide, aluminum oxide, and titanium oxide can be used effectively. Also, fine particles such as colloidal silica and colloidal alumina can be used effectively.
また、フィラーの平均一次粒径は、0.01〜0.9μmであることが架橋型保護層の光透過率や耐摩耗性の点から好ましく、0.1μm〜0.5μmがより好ましい。フィラーの平均一次粒径が0.01μm以下の場合は、耐摩耗性の低下、分散性の低下等を引き起こし、0.9μm以上の場合には、分散液中においてフィラーの沈降性が促進されたり、トナーのフィルミングが発生したりする可能性がある。 The average primary particle size of the filler is preferably 0.01 to 0.9 μm from the viewpoint of light transmittance and wear resistance of the crosslinked protective layer, and more preferably 0.1 μm to 0.5 μm. When the average primary particle size of the filler is 0.01 μm or less, it causes a decrease in wear resistance, a decrease in dispersibility, etc., and when it is 0.9 μm or more, the sedimentation property of the filler is promoted in the dispersion liquid. In addition, toner filming may occur.
架橋型保護層中のフィラー材料濃度は、高いほど耐摩耗性が高いので良好であるが、高すぎる場合には残留電位の上昇、表面層の書き込み光透過率が低下し、副作用を生じる場合がある。従って、概ね全固形分に対して、50重量%以下、好ましくは30重量%以下程度である。また更に、これらのフィラーは少なくとも一種の表面処理剤で表面処理させることが可能であり、そうすることがフィラーの分散性の面から好ましい。フィラーの分散性の低下は残留電位の上昇だけでなく、塗膜の透明性の低下や塗膜欠陥の発生、さらには耐摩耗性の低下をも引き起こすため、高耐久化あるいは高画質化を妨げる大きな問題に発展する可能性がある。 The higher the filler material concentration in the crosslinkable protective layer, the better the wear resistance, but if it is too high, the residual potential increases, the writing light transmittance of the surface layer decreases, and side effects may occur. is there. Therefore, it is about 50% by weight or less, preferably about 30% by weight or less based on the total solid content. Furthermore, these fillers can be surface-treated with at least one kind of surface treatment agent, and it is preferable from the viewpoint of dispersibility of the fillers. Decreasing the dispersibility of the filler not only increases the residual potential, but also decreases the transparency of the coating, causes defects in the coating, and decreases the wear resistance. It can develop into a big problem.
表面処理剤としては、従来用いられている表面処理剤を使用することができるが、フィラーの絶縁性を維持できる表面処理剤が好ましい。例えば、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、ジルコアルミネート系カップリング剤、高級脂肪酸等、あるいはこれらとシランカップリング剤との混合処理や、Al2O3、TiO2、ZrO2、シリコーン、ステアリン酸アルミニウム等、あるいはそれらの混合処理がフィラーの分散性及び画像流れ防止の点からより好ましい。シランカップリング剤による処理は、画像流れの影響が強くなるが、上記の表面処理剤とシランカップリング剤との混合処理を施すことによりその影響を抑制できる場合がある。表面処理量については、用いるフィラーの平均一次粒径によって異なるが、3〜30重量%が適しており、5〜20重量%がより好ましい。表面処理量がこれよりも少ないとフィラーの分散効果が得られず、また多すぎると残留電位の著しい上昇を引き起こす。これらフィラー材料は単独もしくは2種類以上混合して用いられる。 As the surface treatment agent, a conventionally used surface treatment agent can be used, but a surface treatment agent capable of maintaining the insulating properties of the filler is preferable. For example, a titanate coupling agent, an aluminum coupling agent, a zircoaluminate coupling agent, a higher fatty acid, etc., or a mixing treatment of these with a silane coupling agent, Al 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , Silicone, aluminum stearate, or the like, or a mixture thereof is more preferable from the viewpoint of filler dispersibility and image drift prevention. The treatment with the silane coupling agent has a strong influence on the image flow, but the influence may be suppressed by performing a mixing treatment of the surface treatment agent and the silane coupling agent. The surface treatment amount varies depending on the average primary particle size of the filler used, but is preferably 3 to 30% by weight, and more preferably 5 to 20% by weight. If the surface treatment amount is less than this, the filler dispersion effect cannot be obtained, and if it is too much, the residual potential is significantly increased. These filler materials may be used alone or in combination of two or more.
本発明においては、耐環境性の改善のため、とりわけ、感度低下、残留電位上昇、帯電低下等を防止する目的で、電荷発生層、電荷輸送層、単層感光層、下引き層、中間層、保護層等の少なくとも1層に、酸化防止剤、可塑剤、滑剤、紫外線吸収剤及びレベリング剤を添加することが可能であり、有効である。これらの化合物の代表的な材料を以下に記す。 In the present invention, in order to improve environmental resistance, in particular, for the purpose of preventing a decrease in sensitivity, an increase in residual potential, a decrease in charge, etc., a charge generation layer, a charge transport layer, a single-layer photosensitive layer, an undercoat layer, an intermediate layer It is possible and effective to add an antioxidant, a plasticizer, a lubricant, a UV absorber and a leveling agent to at least one layer such as a protective layer. Representative materials of these compounds are described below.
各層に添加できる酸化防止剤として、例えば下記のものが挙げられるがこれらに限定されるものではない。 Examples of the antioxidant that can be added to each layer include, but are not limited to, the following.
(a)フェノール系化合物
2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、2,6−ジ−t−ブチル−4−エチルフェノール、n−オクタデシル−3−(4’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレン−ビス−(4−メチル−6−t−ブチルフェノ−ル)、2,2’−メチレン−ビス−(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−チオビス−(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス−(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、1,1,3−トリス−(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、テトラキス−[メチレン−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン、ビス[3,3’−ビス(4’−ヒドロキシ−3’−t−ブチルフェニル)ブチリックアッシド]クリコールエステル、トコフェロール類など。
(b)パラフェニレンジアミン類
N−フェニル−N’−イソプロピル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジ−sec−ブチル−p−フェニレンジアミン、N−フェニル−N−sec−ブチル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジ−イソプロピル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジメチル−N,N’−ジ−t−ブチル−p−フェニレンジアミンなど。
(c)ハイドロキノン類
2,5−ジ−t−オクチルハイドロキノン、2,6−ジドデシルハイドロキノン、2−ドデシルハイドロキノン、2−ドデシル−5−クロロハイドロキノン、2−t−オクチル−5−メチルハイドロキノン、2−(2−オクタデセニル)−5−メチルハイドロキノンなど。
(d)有機硫黄化合物類
ジラウリル−3,3’−チオジプロピオネート、ジステアリル−3,3’−チオジプロピオネート、ジテトラデシル−3,3’−チオジプロピオネートなど。
(e)有機燐化合物類
トリフェニルホスフィン、トリ(ノニルフェニル)ホスフィン、トリ(ジノニルフェニル)ホスフィン、トリクレジルホスフィン、トリ(2,4−ジブチルフェノキシ)ホスフィンなど。
(A) Phenol compound 2,6-di-t-butyl-p-cresol, butylated hydroxyanisole, 2,6-di-t-butyl-4-ethylphenol, n-octadecyl-3- (4′- Hydroxy-3 ′, 5′-di-tert-butylphenol), 2,2′-methylene-bis- (4-methyl-6-tert-butylphenol), 2,2′-methylene-bis- (4- Ethyl-6-tert-butylphenol), 4,4′-thiobis- (3-methyl-6-tert-butylphenol), 4,4′-butylidenebis- (3-methyl-6-tert-butylphenol), 1,1 , 3-Tris- (2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl) butane, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-tert-butyl-4 -Hydroxybenzyl) benzene, te Lakis- [methylene-3- (3 ′, 5′-di-t-butyl-4′-hydroxyphenyl) propionate] methane, bis [3,3′-bis (4′-hydroxy-3′-t-butyl) Phenyl) butyric acid] cricol ester, tocopherols and the like.
(B) Paraphenylenediamines N-phenyl-N′-isopropyl-p-phenylenediamine, N, N′-di-sec-butyl-p-phenylenediamine, N-phenyl-N-sec-butyl-p-phenylene Diamine, N, N′-di-isopropyl-p-phenylenediamine, N, N′-dimethyl-N, N′-di-t-butyl-p-phenylenediamine and the like.
(C) Hydroquinones 2,5-di-t-octylhydroquinone, 2,6-didodecylhydroquinone, 2-dodecylhydroquinone, 2-dodecyl-5-chlorohydroquinone, 2-t-octyl-5-methylhydroquinone, 2 -(2-octadecenyl) -5-methylhydroquinone and the like.
(D) Organic sulfur compounds Dilauryl-3,3′-thiodipropionate, distearyl-3,3′-thiodipropionate, ditetradecyl-3,3′-thiodipropionate, and the like.
(E) Organic phosphorus compounds Triphenylphosphine, tri (nonylphenyl) phosphine, tri (dinonylphenyl) phosphine, tricresylphosphine, tri (2,4-dibutylphenoxy) phosphine and the like.
各層に添加できる可塑剤として、例えば下記のものが挙げられるがこれらに限定されるものではない。 Examples of the plasticizer that can be added to each layer include, but are not limited to, the following.
(a)リン酸エステル系可塑剤
リン酸トリフェニル、リン酸トリクレジル、リン酸トリオクチル、リン酸オクチルジフェニル、リン酸トリクロルエチル、リン酸クレジルジフェニル、リン酸トリブチル、リン酸トリ−2−エチルヘキシル、リン酸トリフェニルなど。
(b)フタル酸エステル系可塑剤
フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジイソブチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘプチル、フタル酸ジ−2−エチルヘキシル、フタル酸ジイソオクチル、フタル酸ジ−n−オクチル、フタル酸ジノニル、フタル酸ジイソノニル、フタル酸ジイソデシル、フタル酸ジウンデシル、フタル酸ジトリデシル、フタル酸ジシクロヘキシル、フタル酸ブチルベンジル、フタル酸ブチルラウリル、フタル酸メチルオレイル、フタル酸オクチルデシル、フマル酸ジブチル、フマル酸ジオクチルなど。
(c)芳香族カルボン酸エステル系可塑剤
トリメリット酸トリオクチル、トリメリット酸トリ−n−オクチル、オキシ安息香酸オクチルなど。
(d)脂肪族二塩基酸エステル系可塑剤
アジピン酸ジブチル、アジピン酸ジ−n−ヘキシル、アジピン酸ジ−2−エチルヘキシル、アジピン酸ジ−n−オクチル、アジピン酸−n−オクチル−n−デシル、アジピン酸ジイソデシル、アジピン酸ジカプリル、アゼライン酸ジ−2−エチルヘキシル、セバシン酸ジメチル、セバシン酸ジエチル、セバシン酸ジブチル、セバシン酸ジ−n−オクチル、セバシン酸ジ−2−エチルヘキシル、セバシン酸ジ−2−エトキシエチル、コハク酸ジオクチル、コハク酸ジイソデシル、テトラヒドロフタル酸ジオクチル、テトラヒドロフタル酸ジ−n−オクチルなど。
(e)脂肪酸エステル誘導体
オレイン酸ブチル、グリセリンモノオレイン酸エステル、アセチルリシノール酸メチル、ペンタエリスリトールエステル、ジペンタエリスリトールヘキサエステル、トリアセチン、トリブチリンなど。
(f)オキシ酸エステル系可塑剤
アセチルリシノール酸メチル、アセチルリシノール酸ブチル、ブチルフタリルブチルグリコレート、アセチルクエン酸トリブチルなど。
(g)エポキシ可塑剤
エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油、エポキシステアリン酸ブチル、エポキシステアリン酸デシル、エポキシステアリン酸オクチル、エポキシステアリン酸ベンジル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジデシルなど。
(h)二価アルコールエステル系可塑剤
ジエチレングリコールジベンゾエート、トリエチレングリコールジ−2−エチルブチラートなど。
(i)含塩素可塑剤
塩素化パラフィン、塩素化ジフェニル、塩素化脂肪酸メチル、メトキシ塩素化脂肪酸メチルなど。
(j)ポリエステル系可塑剤
ポリプロピレンアジペート、ポリプロピレンセバケート、ポリエステル、アセチル化ポリエステルなど。
(k)スルホン酸誘導体
p−トルエンスルホンアミド、o−トルエンスルホンアミド、p−トルエンスルホンエチルアミド、o−トルエンスルホンエチルアミド、トルエンスルホン−N−エチルアミド、p−トルエンスルホン−N−シクロヘキシルアミドなど。
(l)クエン酸誘導体
クエン酸トリエチル、アセチルクエン酸トリエチル、クエン酸トリブチル、アセチルクエン酸トリブチル、アセチルクエン酸トリ−2−エチルヘキシル、アセチルクエン酸−n−オクチルデシルなど。
(m)その他
ターフェニル、部分水添ターフェニル、ショウノウ、2−ニトロジフェニル、ジノニルナフタリン、アビエチン酸メチルなど。
(A) Phosphate ester plasticizer Triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, trioctyl phosphate, octyl diphenyl phosphate, trichloroethyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, tributyl phosphate, tri-2-ethylhexyl phosphate, Triphenyl phosphate etc.
(B) Phthalate ester plasticizers Dimethyl phthalate, diethyl phthalate, diisobutyl phthalate, dibutyl phthalate, diheptyl phthalate, di-2-ethylhexyl phthalate, diisooctyl phthalate, di-n-octyl phthalate, phthalate Dinonyl acid, diisononyl phthalate, diisodecyl phthalate, diundecyl phthalate, ditridecyl phthalate, dicyclohexyl phthalate, butyl benzyl phthalate, butyl lauryl phthalate, methyl oleyl phthalate, octyl decyl phthalate, dibutyl fumarate, dioctyl fumarate Such.
(C) Aromatic carboxylic acid ester plasticizers Trioctyl trimellitic acid, tri-n-octyl trimellitic acid, octyl oxybenzoate, and the like.
(D) Aliphatic dibasic ester plasticizer dibutyl adipate, di-n-hexyl adipate, di-2-ethylhexyl adipate, di-n-octyl adipate, adipic acid n-octyl-n-decyl , Diisodecyl adipate, dicapryl adipate, di-2-ethylhexyl azelate, dimethyl sebacate, diethyl sebacate, dibutyl sebacate, di-n-octyl sebacate, di-2-ethylhexyl sebacate, di-2 sebacate -Ethoxyethyl, dioctyl succinate, diisodecyl succinate, dioctyl tetrahydrophthalate, di-n-octyl tetrahydrophthalate and the like.
(E) Fatty acid ester derivatives butyl oleate, glycerin monooleate, methyl acetylricinoleate, pentaerythritol ester, dipentaerythritol hexaester, triacetin, tributyrin and the like.
(F) Oxyacid ester plasticizers Methyl acetyl ricinoleate, butyl acetyl ricinoleate, butyl phthalyl butyl glycolate, tributyl acetyl citrate and the like.
(G) Epoxy plasticizer Epoxidized soybean oil, epoxidized linseed oil, butyl epoxy stearate, decyl epoxy stearate, octyl epoxy stearate, benzyl epoxy stearate, dioctyl epoxy hexahydrophthalate, didecyl epoxy hexahydrophthalate, etc. .
(H) Dihydric alcohol ester plasticizers such as diethylene glycol dibenzoate and triethylene glycol di-2-ethylbutyrate.
(I) Chlorinated plasticizer Chlorinated paraffin, chlorinated diphenyl, chlorinated fatty acid methyl, methoxychlorinated fatty acid methyl and the like.
(J) Polyester plasticizer Polypropylene adipate, polypropylene sebacate, polyester, acetylated polyester and the like.
(K) Sulfonic acid derivatives p-toluenesulfonamide, o-toluenesulfonamide, p-toluenesulfoneethylamide, o-toluenesulfoneethylamide, toluenesulfone-N-ethylamide, p-toluenesulfone-N-cyclohexylamide and the like.
(L) Citric acid derivatives Triethyl citrate, triethyl acetylcitrate, tributyl citrate, tributyl acetylcitrate, tri-2-ethylhexyl acetylcitrate, acetylcitrate-n-octyldecyl, and the like.
(M) Others Terphenyl, partially hydrogenated terphenyl, camphor, 2-nitrodiphenyl, dinonylnaphthalene, methyl abietate and the like.
各層に添加できる滑剤としては、例えば下記のものが挙げられるがこれらに限定されるものではない。 Examples of the lubricant that can be added to each layer include, but are not limited to, the following.
(a)炭化水素系化合物
流動パラフィン、パラフィンワックス、マイクロワックス、低重合ポリエチレンなど。
(b)脂肪酸系化合物
ラウリン酸、ミリスチン酸、パルチミン酸、ステアリン酸、アラキジン酸、ベヘン酸など。
(c)脂肪酸アミド系化合物
ステアリルアミド、パルミチルアミド、オレインアミド、メチレンビスステアロアミド、エチレンビスステアロアミドなど。
(d)エステル系化合物
脂肪酸の低級アルコールエステル、脂肪酸の多価アルコールエステル、脂肪酸ポリグリコールエステルなど。
(e)アルコール系化合物
セチルアルコール、ステアリルアルコール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリグリセロールなど。
(f)金属石けん
ステアリン酸鉛、ステアリン酸カドミウム、ステアリン酸バリウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウムなど。
(g)天然ワックス
カルナウバロウ、カンデリラロウ、蜜ロウ、鯨ロウ、イボタロウ、モンタンロウなど。
(h)その他
シリコーン化合物、フッ素化合物など。
(A) Hydrocarbon compounds Liquid paraffin, paraffin wax, microwax, low-polymerized polyethylene and the like.
(B) Fatty acid compounds Lauric acid, myristic acid, palmitic acid, stearic acid, arachidic acid, behenic acid and the like.
(C) Fatty acid amide compounds Stearylamide, palmitylamide, oleinamide, methylenebisstearamide, ethylenebisstearamide and the like.
(D) Ester compounds Lower alcohol esters of fatty acids, polyhydric alcohol esters of fatty acids, fatty acid polyglycol esters, and the like.
(E) Alcohol compounds Cetyl alcohol, stearyl alcohol, ethylene glycol, polyethylene glycol, polyglycerol and the like.
(F) Metal soap Lead stearate, cadmium stearate, barium stearate, calcium stearate, zinc stearate, magnesium stearate and the like.
(G) Natural wax Carnauba wax, candelilla wax, beeswax, whale wax, ibota wax, montan wax and the like.
(H) Others Silicone compounds, fluorine compounds, etc.
各層に添加できる紫外線吸収剤として、例えば下記のものが挙げられるがこれらに限定されるものではない。 Examples of the ultraviolet absorber that can be added to each layer include, but are not limited to, the following.
(a)ベンゾフェノン系
2−ヒドロキシベンゾフェノン、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2’,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ4−メトキシベンゾフェノンなど。
(b)サルシレート系
フェニルサルシレート、2,4ジ−t−ブチルフェニル3,5−ジ−t−ブチル4ヒドロキシベンゾエートなど。
(c)ベンゾトリアゾール系
(2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、(2’−ヒドロキシ5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、(2’−ヒドロキシ5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、(2’−ヒドロキシ3’−ターシャリブチル5’−メチルフェニル)5−クロロベンゾトリアゾールなど。
(d)シアノアクリレート系
エチル−2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリレート、メチル2−カルボメトキシ3(パラメトキシ)アクリレートなど。
(e)クエンチャー(金属錯塩系)
ニッケル(2,2’チオビス(4−t−オクチル)フェノレート)ノルマルブチルアミン、ニッケルジブチルジチオカルバメート、ニッケルジブチルジチオカルバメート、コバルトジシクロヘキシルジチオホスフェートなど。
(f)HALS(ヒンダードアミン)
ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、1−[2−〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ〕エチル]−4−〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ〕−2,2,6,6−テトラメチルピリジン、8−ベンジル−7,7,9,9−テトラメチル−3−オクチル−1,3,8−トリアザスピロ〔4,5〕ウンデカン−2,4−ジオン、4−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンなど。
(A) Benzophenone series 2-hydroxybenzophenone, 2,4-dihydroxybenzophenone, 2,2 ′, 4-trihydroxybenzophenone, 2,2 ′, 4,4′-tetrahydroxybenzophenone, 2,2′-dihydroxy-4- Such as methoxybenzophenone.
(B) Salsylates Phenyl salsylates, 2,4 di-t-butylphenyl 3,5-di-t-butyl 4-hydroxybenzoate, and the like.
(C) Benzotriazole series (2′-hydroxyphenyl) benzotriazole, (2′-hydroxy5′-methylphenyl) benzotriazole, (2′-hydroxy5′-methylphenyl) benzotriazole, (2′-hydroxy3) '-Tertiarybutyl 5'-methylphenyl) 5-chlorobenzotriazole and the like.
(D) Cyanoacrylate-based ethyl-2-cyano-3,3-diphenyl acrylate, methyl 2-carbomethoxy 3 (paramethoxy) acrylate, and the like.
(E) Quencher (metal complex)
Nickel (2,2′thiobis (4-t-octyl) phenolate) normal butylamine, nickel dibutyldithiocarbamate, nickel dibutyldithiocarbamate, cobalt dicyclohexyldithiophosphate and the like.
(F) HALS (hindered amine)
Bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, 1- [2- [3- (3 5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] ethyl] -4- [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] -2,2,6 6-tetramethylpyridine, 8-benzyl-7,7,9,9-tetramethyl-3-octyl-1,3,8-triazaspiro [4,5] undecane-2,4-dione, 4-benzoyloxy- 2,2,6,6-tetramethylpiperidine and the like.
以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。
なお、以下に挙げる実施例のうち、実施例6〜10,12,14,16,18,20,22,24及び26、即ち詳細を後述する合成例1のα−フェニルスチルベン化合物を用いたものは、本発明の範囲に属しない参考例に相当する試験例である。
製造例1(特許第3540099号公報に記載のジフェノール化合物)
4,4’−ジメチル−4”−〔2,2−ビス(4−メトキシフェニル)ビニル〕トリフェニルアミン11.0g(21.5mmol)とナトリウムチオエチラート10.0g(107mmol)を乾燥処理したDMF110mlに採り、窒素気流下で3時間加熱還流した。室温まで放冷した後、内容物を氷水にあけ、濃塩酸により中和した。これを酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗、乾燥後溶媒を留去した後、シリカゲルでカラムクロマト処理〔溶離液:トルエン/酢酸エチル(7/1vol.)〕し、黄色粉末10.87gを得た。これをシクロヘキサンとトルエンの混合溶媒から再結晶した後減圧加熱乾燥して黄色粉末状の4,4’−ジメチル−4”−〔2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ビニル〕トリフェニルアミン9.59g(収率92.3%)を得た。
The present invention will be described more specifically with reference to the following examples.
Of the following examples, Examples 6 to 10, 12, 14, 16, 18, 20, 22, 24, and 26, that is, those using the α-phenylstilbene compound of Synthesis Example 1 described in detail later. These are test examples corresponding to reference examples not belonging to the scope of the present invention.
Production Example 1 (diphenol compound described in Japanese Patent No. 354099)
4,4′-Dimethyl-4 ″-[2,2-bis (4-methoxyphenyl) vinyl] triphenylamine 11.0 g (21.5 mmol) and sodium thioethylate 10.0 g (107 mmol) were dried. It was taken up in 110 ml of DMF, heated to reflux for 3 hours under a nitrogen stream, allowed to cool to room temperature, then the contents were poured into ice water and neutralized with concentrated hydrochloric acid, extracted with ethyl acetate, the organic layer washed with water and dried. After the solvent was distilled off, column chromatography with silica gel [eluent: toluene / ethyl acetate (7/1 vol.)] Gave 10.87 g of yellow powder, which was recrystallized from a mixed solvent of cyclohexane and toluene. After drying under reduced pressure, 9.59 g of 4,4′-dimethyl-4 ″-[2,2-bis (4-hydroxyphenyl) vinyl] triphenylamine in the form of a yellow powder Was obtained yield 92.3%).
製造例2
製造例1で得られたジフェノール29.4gを脱水ピリジン180mlに溶解し、窒素気流下トリフルオロメタンスルホン酸無水物22.5mlを0〜2℃で90分を要して滴下した。滴下後同温度で30分攪拌した後、さらに室温で4時間攪拌した。反応物を水に注ぎ酢酸エチルで抽出し、希塩酸ついで水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒を減圧下留去した。これをカラムクロマト処理(シリカゲル、溶離液;トルエン/ヘキサン=1/2)し、黄色ガラス質の下記化学式(2)で表されるジトリフラート43.3gを得た。
Production Example 2
29.4 g of diphenol obtained in Production Example 1 was dissolved in 180 ml of dehydrated pyridine, and 22.5 ml of trifluoromethanesulfonic anhydride was added dropwise at 0 to 2 ° C. over 90 minutes under a nitrogen stream. After dropping, the mixture was stirred at the same temperature for 30 minutes, and further stirred at room temperature for 4 hours. The reaction product was poured into water, extracted with ethyl acetate, washed with dilute hydrochloric acid and water, dried over magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure. This was subjected to column chromatography (silica gel, eluent: toluene / hexane = 1/2) to obtain 43.3 g of ditriflate represented by the following chemical formula (2) as a yellow glassy substance.
また、製造例2で得られたジトリフラートの元素分析を行い、目的とする生成物が得られたことを確認した。元素分析値を下記表1に示す。 In addition, elemental analysis of the ditriflate obtained in Production Example 2 was performed, and it was confirmed that the target product was obtained. The elemental analysis values are shown in Table 1 below.
さらに、製造例2で得られたジトリフラートの赤外吸収スペクトル(KBr錠剤法)を図5に示す。SO2伸縮振動は1427、1141(cm-1)のスペクトルで検出され、CF伸縮振動は1212、885(cm-1)のスペクトルで検出される。図5に示されるとおり、製造例2で得られたジトリフラートからはSO2及びCFのいずれの伸縮振動も検出される。 Furthermore, the infrared absorption spectrum (KBr tablet method) of ditriflate obtained in Production Example 2 is shown in FIG. The SO 2 stretching vibration is detected in the spectrum of 1427 and 1141 (cm −1 ), and the CF stretching vibration is detected in the spectrum of 1212 and 885 (cm −1 ). As shown in FIG. 5, any stretching vibration of SO 2 and CF is detected from the ditriflate obtained in Production Example 2.
合成例1
製造例2で得られたジトリフラート3.74g、ジフェニルアミン1.86gをトルエン25mlに溶解し、これにトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム183mg、N−フェニルインドール−2−イル−ジシクロヘキシルホスフィン80mgおよびナトリウム−tert−ブトキシド1.44gを加え窒素気流下3時間還流した。放冷後不溶物をろ過、ろ液を乾固し、粗製物をカラムクロマト処理(シリカゲル、溶離液;トルエン/ヘキサン=1/2)し、黄色の下記化学式(3)で表されるα−フェニルスチルベン化合物2.0gを得た。得られたα−フェニルスチルベン化合物の融点は187.5〜188.5℃であった。
Synthesis example 1
3.74 g of ditriflate obtained in Production Example 2 and 1.86 g of diphenylamine were dissolved in 25 ml of toluene, and 183 mg of tris (dibenzylideneacetone) dipalladium, 80 mg of N-phenylindol-2-yl-dicyclohexylphosphine and sodium -Tert-butoxide 1.44g was added and it recirculate | refluxed under nitrogen stream for 3 hours. After standing to cool, the insoluble matter was filtered off, the filtrate was dried, and the crude product was subjected to column chromatography (silica gel, eluent; toluene / hexane = 1/2), and yellow α- represented by the following chemical formula (3) 2.0 g of phenylstilbene compound was obtained. The melting point of the obtained α-phenylstilbene compound was 187.5 to 188.5 ° C.
また、合成例1で得られたα−フェニルスチルベン化合物の元素分析を行い、目的とする生成物が得られたことを確認した。元素分析値を下記表2に示す。 In addition, elemental analysis of the α-phenylstilbene compound obtained in Synthesis Example 1 was performed, and it was confirmed that the desired product was obtained. The elemental analysis values are shown in Table 2 below.
さらに、合成例1で得られたα−フェニルスチルベン化合物の赤外吸収スペクトル(KBr錠剤法)を図6に示す。 Furthermore, the infrared absorption spectrum (KBr tablet method) of the α-phenylstilbene compound obtained in Synthesis Example 1 is shown in FIG.
合成例2
製造例2で得られたジトリフラート1.50g、下記化学式(4)で表される4−(ジフェニルアミノ)フェニルボロン酸1.45g(東京化成工業株式会社製)、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム72mgを脱気したトルエン40ml/エタノール10mlの混合溶媒に溶解し、これに2Mの炭酸ナトリウム水溶液4mlを加え窒素気流下21時間還流した。放冷後内容物を水に注ぎ、トルエンで抽出、トルエン層を水洗、乾燥した後カラムクロマト処理(シリカゲル、溶離液;トルエン/ヘキサン=2/3)し、黄色の下記化学式(5)で表されるα−フェニルスチルベン化合物1.2gを得た。得られたα−フェニルスチルベン化合物の融点はガラス質であり測定できなかった。
Synthesis example 2
1.50 g of ditriflate obtained in Production Example 2, 1.45 g of 4- (diphenylamino) phenylboronic acid represented by the following chemical formula (4) (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 72 mg of tetrakistriphenylphosphine palladium Dissolved in a degassed mixed solvent of 40 ml of toluene / 10 ml of ethanol, 4 ml of 2M sodium carbonate aqueous solution was added thereto, and the mixture was refluxed for 21 hours under a nitrogen stream. After cooling, the contents are poured into water, extracted with toluene, the toluene layer is washed with water and dried, and then subjected to column chromatography (silica gel, eluent: toluene / hexane = 2/3). 1.2 g of the α-phenylstilbene compound obtained was obtained. The melting point of the α-phenylstilbene compound obtained was glassy and could not be measured.
また、合成例2で得られたα−フェニルスチルベン化合物の元素分析を行い、目的とする生成物が得られたことを確認した。元素分析値を下記表3に示す。 Further, elemental analysis of the α-phenylstilbene compound obtained in Synthesis Example 2 was performed, and it was confirmed that the desired product was obtained. The elemental analysis values are shown in Table 3 below.
さらに、合成例2で得られたα−フェニルスチルベン化合物の赤外吸収スペクトル(KBr錠剤法)を図7に示す。 Furthermore, the infrared absorption spectrum (KBr tablet method) of the α-phenylstilbene compound obtained in Synthesis Example 2 is shown in FIG.
続いて、電荷発生物質(チタニルフタロシアニン結晶)の合成例について記載する。
(合成例3)
(チタニルフタロシアニン結晶の合成)
合成は、特開2004−83859号公報に準じた。即ち、1,3−ジイミノイソインドリン292gとスルホラン1800gを混合し、窒素気流下でチタニウムテトラブトキシド204gを滴下する。滴下終了後、徐々に180℃まで昇温し、反応温度を170℃〜180℃の間に保ちながら5時間撹拌して反応を行った。反応終了後、放冷した後、析出物を濾過し、クロロホルムで粉体が青色になるまで洗浄し、次にメタノールで数回洗浄し、更に80℃の熱水で数回洗浄した後乾燥し、粗チタニルフタロシアニンを得た。粗チタニルフタロシアニンを20倍量の濃硫酸に溶解し、100倍量の氷水に撹拌しながら滴下し、析出した結晶を濾過し、次いで、洗浄液が中性になるまでイオン交換水(pH:7.0、比伝導度:1.0μS/cm)により水洗いを繰り返し(洗浄後のイオン交換水のpH値は6.8、比伝導度は2.6μS/cmであった)、チタニルフタロシアニン顔料のウェットケーキ(水ペースト)を得た。
Subsequently, a synthesis example of a charge generation material (titanyl phthalocyanine crystal) will be described.
(Synthesis Example 3)
(Synthesis of titanyl phthalocyanine crystal)
The synthesis was in accordance with Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-83859. That is, 292 g of 1,3-diiminoisoindoline and 1800 g of sulfolane are mixed, and 204 g of titanium tetrabutoxide is added dropwise under a nitrogen stream. After completion of the dropwise addition, the temperature was gradually raised to 180 ° C., and the reaction was carried out by stirring for 5 hours while maintaining the reaction temperature between 170 ° C. and 180 ° C. After the reaction is complete, the mixture is allowed to cool, and then the precipitate is filtered, washed with chloroform until the powder turns blue, then washed several times with methanol, then washed several times with hot water at 80 ° C. and dried. Crude titanyl phthalocyanine was obtained. Crude titanyl phthalocyanine is dissolved in 20 times the amount of concentrated sulfuric acid, added dropwise to 100 times the amount of ice water with stirring, the precipitated crystals are filtered, and then ion-exchanged water (pH: 7.) until the washing solution becomes neutral. 0, specific conductivity: 1.0 μS / cm) Repeated washing with water (pH value of ion-exchanged water after washing was 6.8, specific conductivity was 2.6 μS / cm), wet of titanyl phthalocyanine pigment A cake (water paste) was obtained.
得られたこのウェットケーキ(水ペースト)40gをテトラヒドロフラン200gに投入し、室温下でホモミキサー(ケニス、MARKIIfモデル)により強烈に撹拌(2000rpm)し、ペーストの濃紺色の色が淡い青色に変化したら(撹拌開始後20分)、撹拌を停止し、直ちに減圧濾過を行った。濾過装置上で得られた結晶をテトラヒドロフランで洗浄し、顔料のウェットケーキを得た。これを減圧下(5mmHg)、70℃で2日間乾燥して、チタニルフタロシアニン結晶8.5gを得た。前記ウェットケーキの固形分濃度は、15質量%であった。結晶変換溶媒は、前記ウェットケーキに対する質量比で33倍の量を用いた。なお、合成例3の原材料には、ハロゲン含有化合物を使用していない。得られたチタニルフタロシアニン粉末を、下記のX線回折スペクトル測定条件によりX線回折スペクトル測定したところ、Cu−Kα線(波長1.542Å)に対するブラッグ角2θが27.2±0.2°に最大ピークと最低角7.3±0.2°にピークを有し、更に9.4±0.2°、9.6±0.2°、24.0±0.2°に主要なピークを有し、かつ7.3°のピークと9.4°のピークの間にピークを有さず、更に26.3°にピークを有さないチタニルフタロシアニン粉末を得られた。その結果を図8に示す。 When 40 g of the obtained wet cake (water paste) was added to 200 g of tetrahydrofuran and stirred vigorously (2000 rpm) with a homomixer (Kennis, MARKIIf model) at room temperature, the dark blue color of the paste changed to pale blue Stirring was stopped (20 minutes after the start of stirring), and vacuum filtration was performed immediately. The crystals obtained on the filtration device were washed with tetrahydrofuran to obtain a wet cake of pigment. This was dried under reduced pressure (5 mmHg) at 70 ° C. for 2 days to obtain 8.5 g of titanyl phthalocyanine crystals. The solid content concentration of the wet cake was 15% by mass. The crystal conversion solvent was used in a mass ratio of 33 times that of the wet cake. In addition, the halogen-containing compound is not used for the raw material of the synthesis example 3. When the obtained titanyl phthalocyanine powder was subjected to X-ray diffraction spectrum measurement under the following X-ray diffraction spectrum measurement conditions, the Bragg angle 2θ with respect to the Cu—Kα ray (wavelength 1.542Å) was 27.2 ± 0.2 ° at the maximum. It has a peak at a minimum angle of 7.3 ± 0.2 ° and a major peak at 9.4 ± 0.2 °, 9.6 ± 0.2 °, and 24.0 ± 0.2 °. A titanyl phthalocyanine powder having a peak at 7.3 ° and a peak at 9.4 ° and having no peak at 26.3 ° was obtained. The result is shown in FIG.
<X線回折スペクトル測定条件>
X線管球:Cu
電圧:50kV
電流:30mA
走査速度:2°/分
走査範囲:3°〜40°
時定数:2秒
<X-ray diffraction spectrum measurement conditions>
X-ray tube: Cu
Voltage: 50kV
Current: 30mA
Scanning speed: 2 ° / min Scanning range: 3 ° -40 °
Time constant: 2 seconds
チタニルフタロシアニン結晶を下記組成の処方にて、下記に示す分散方法にて分散を行い、電荷発生層用塗工液を作製した。この分散液を分散液1とする。
The titanyl phthalocyanine crystal was dispersed by the following dispersion method according to the following composition to prepare a charge generation layer coating solution. This dispersion is designated as
<処方>
チタニルフタロシアニン結晶 15部
ポリビニルブチラール(積水化学製:BX−1) 10部
2−ブタノン 280部
<Prescription>
<分散方法>
市販のビーズミル分散機に直径0.5mmのPSZボールを用い、ポリビニルブチラールを溶解した2−ブタノン溶液及びチタニルフタロシアニン結晶を投入し、ローター回転数1200r.p.m.にて30分間分散を行い、電荷発生層用塗工液を作製した。
<Distribution method>
Using a PSZ ball having a diameter of 0.5 mm in a commercially available bead mill disperser, a 2-butanone solution in which polyvinyl butyral was dissolved and titanyl phthalocyanine crystal were introduced, and the rotor rotation speed was 1200 r. p. m. For 30 minutes to prepare a charge generation layer coating solution.
なお、電荷発生層の膜厚は、780nmにおける電荷発生層の透過率が25%になるように調整した。電荷発生層の透過率は、上記処方の電荷発生層塗工液を、ポリエチレンテレフタレートフィルムを巻き付けたアルミシリンダーに感光体作製と同じ条件で塗工を行い、電荷発生層を塗工していないポリエチレンテレフタレートフィルムを比較対象とし、市販の分光光度計(島津:UV−3100)にて、780nmの透過率を評価した。 The film thickness of the charge generation layer was adjusted so that the transmittance of the charge generation layer at 780 nm was 25%. The transmittance of the charge generation layer is determined by applying the charge generation layer coating solution of the above formulation to an aluminum cylinder wrapped with a polyethylene terephthalate film under the same conditions as the production of the photoreceptor, and the polyethylene without the charge generation layer applied The transmittance | permeability of 780 nm was evaluated with the commercially available spectrophotometer (Shimadzu: UV-3100) for the terephthalate film as a comparison object.
(合成例4)
特許第3166293号公報、合成例及び実施例1に準じて、ヒドロキシガリウムフタロシアニンを合成した。
即ち、1,3−ジイミノイソインドリン30部および三塩化ガリウム9.1部をキノリン230部中に添加し、200℃において3時間反応させた後、生成物を濾別した。次いで、アセトン、メタノールで洗浄し、湿ケーキを乾燥してクロロガリウムフタロシアニン結晶28部を得た。
(Synthesis Example 4)
In accordance with Japanese Patent No. 3166293, Synthesis Examples and Example 1, hydroxygallium phthalocyanine was synthesized.
That is, 30 parts of 1,3-diiminoisoindoline and 9.1 parts of gallium trichloride were added to 230 parts of quinoline and reacted at 200 ° C. for 3 hours, and then the product was filtered off. Subsequently, it was washed with acetone and methanol, and the wet cake was dried to obtain 28 parts of chlorogallium phthalocyanine crystals.
次いで、上記クロロガリウムフタロシアニン結晶3部を濃硫酸60部に0℃にて溶解後、この溶液を5℃の蒸留水450部中に滴下して結晶を析出させた。蒸留水、希アンモニア水等で洗浄後、乾燥してヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶2.5部を得た。更に、上記ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶0.5部をジメチルホルムアミド15部および直径1mmのガラスビーズ30部と共に24時間ミリングした後、結晶を分離した。次いで、メタノールで洗浄後、乾燥して、目的のヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶を得た。 Subsequently, 3 parts of the chlorogallium phthalocyanine crystal was dissolved in 60 parts of concentrated sulfuric acid at 0 ° C., and then this solution was dropped into 450 parts of distilled water at 5 ° C. to precipitate a crystal. After washing with distilled water, dilute ammonia water or the like, it was dried to obtain 2.5 parts of hydroxygallium phthalocyanine crystal. Further, 0.5 parts of the hydroxygallium phthalocyanine crystal was milled for 24 hours together with 15 parts of dimethylformamide and 30 parts of glass beads having a diameter of 1 mm, and then the crystals were separated. Subsequently, it was washed with methanol and dried to obtain a target hydroxygallium phthalocyanine crystal.
得られたヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶を、合成例3と同じ条件によりX線回折スペクトル測定したところ、Cu−Kα線(波長1.542Å)に対するブラッグ角2θが7.5°、9.9°、12.5°、16.3°、18.6°、25.1°および28.3°に強い回折ピークを有していた。得られたスペクトルは、特許第3166293号公報、図8に記載のX線回折スペクトルと同様であった。 When the obtained hydroxygallium phthalocyanine crystal was subjected to X-ray diffraction spectrum measurement under the same conditions as in Synthesis Example 3, the Bragg angle 2θ with respect to the Cu—Kα ray (wavelength 1.542Å) was 7.5 °, 9.9 °, 12 It had strong diffraction peaks at .5 °, 16.3 °, 18.6 °, 25.1 ° and 28.3 °. The obtained spectrum was the same as the X-ray diffraction spectrum described in Japanese Patent No. 3166293 and FIG.
ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶を下記組成の処方にて、下記に示す分散方法にて分散を行い、電荷発生層用塗工液を作製した。この分散液を分散液2とする。 Hydroxygallium phthalocyanine crystals were dispersed according to the following composition by the following dispersion method to prepare a charge generation layer coating solution. This dispersion is designated as Dispersion 2.
<処方>
ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶 15部
ポリビニルブチラール(積水化学製:BX−1) 10部
2−ブタノン 280部
<Prescription>
<分散方法>
市販のビーズミル分散機に直径0.5mmのPSZボールを用い、ポリビニルブチラールを溶解した2−ブタノン溶液及びヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶を投入し、ローター回転数1200r.p.m.にて30分間分散を行い、電荷発生層用塗工液を作製した。
<Distribution method>
Using a PSZ ball having a diameter of 0.5 mm in a commercially available bead mill disperser, a 2-butanone solution in which polyvinyl butyral was dissolved and a hydroxygallium phthalocyanine crystal were introduced, and the rotor rotation speed was 1200 r. p. m. For 30 minutes to prepare a charge generation layer coating solution.
なお、電荷発生層の膜厚は、780nmにおける電荷発生層の透過率が25%になるように調整した。電荷発生層の透過率は、上記処方の電荷発生層塗工液を、ポリエチレンテレフタレートフィルムを巻き付けたアルミシリンダーに感光体作製と同じ条件で塗工を行い、電荷発生層を塗工していないポリエチレンテレフタレートフィルムを比較対象とし、市販の分光光度計(島津:UV−3100)にて、780nmの透過率を評価した。 The film thickness of the charge generation layer was adjusted so that the transmittance of the charge generation layer at 780 nm was 25%. The transmittance of the charge generation layer is determined by applying the charge generation layer coating solution of the above formulation to an aluminum cylinder wrapped with a polyethylene terephthalate film under the same conditions as the production of the photoreceptor, and the polyethylene without the charge generation layer applied The transmittance | permeability of 780 nm was evaluated with the commercially available spectrophotometer (Shimadzu: UV-3100) for the terephthalate film as a comparison object.
(合成例5)
特許第3123185号公報、合成例及び実施例2に準じて、クロロガリウムフタロシアニンを合成した。
即ち、1,3−ジイミノイソインドリン30部及び三塩化ガリウム9.1部をキノリン230部中に添加し、200℃において3時間反応させた後、生成物を濾過し、アセトン、メタノールで洗浄した。次いで、湿ケーキを乾燥してクロロガリウムフタロシアニン結晶を得た。このクロロガリウムフタロシアニン結晶を、自動乳鉢で3時間乾式磨砕し、更にクロロガリウムフタロシアニン0.5部を、1mmφガラスビーズ60部と共に、室温下、水/クロロベンゼン1:10の混合溶媒20部中で24時間ボールミリング処理した後、瀘別し、メタノール10部で洗浄し、乾燥してクロロガリウムフタロシアニン結晶を得た。
(Synthesis Example 5)
Chlorogallium phthalocyanine was synthesized according to Japanese Patent No. 3123185, Synthesis Example and Example 2.
That is, 30 parts of 1,3-diiminoisoindoline and 9.1 parts of gallium trichloride are added to 230 parts of quinoline and reacted at 200 ° C. for 3 hours, and then the product is filtered and washed with acetone and methanol. did. Next, the wet cake was dried to obtain chlorogallium phthalocyanine crystals. This chlorogallium phthalocyanine crystal is dry-ground for 3 hours in an automatic mortar, and further 0.5 part of chlorogallium phthalocyanine is mixed with 60 parts of 1 mmφ glass beads at room temperature in 20 parts of a mixed solvent of water / chlorobenzene 1:10. After ball milling for 24 hours, it was filtered off, washed with 10 parts of methanol, and dried to obtain chlorogallium phthalocyanine crystals.
得られたクロロガリウムフタロシアニン結晶を、合成例3と同じ条件によりX線回折スペクトル測定したところ、Cu−Kα線(波長1.542Å)に対するブラッグ角2θが7.4°、16.6°、25.5°及び28.3°に強い回折ピークを有していた。得られたスペクトルは、特許第3123185号、図4に記載のX線回折スペクトルと同様であった。 The obtained chlorogallium phthalocyanine crystal was subjected to X-ray diffraction spectrum measurement under the same conditions as in Synthesis Example 3. As a result, the Bragg angle 2θ with respect to the Cu—Kα ray (wavelength 1.542Å) was 7.4 °, 16.6 °, 25 It had strong diffraction peaks at .5 ° and 28.3 °. The obtained spectrum was the same as the X-ray diffraction spectrum described in Japanese Patent No. 3123185, FIG.
クロロガリウムフタロシアニン結晶を下記組成の処方にて、下記に示す分散方法にて分散を行い、電荷発生層用塗工液を作製した。この分散液を分散液3とする。 A chlorogallium phthalocyanine crystal was dispersed by the following dispersion method in accordance with the following composition to prepare a charge generation layer coating solution. This dispersion is designated as Dispersion 3.
<処方>
クロロガリウムフタロシアニン結晶 15部
ポリビニルブチラール(積水化学製:BX−1) 10部
2−ブタノン 280部
<Prescription>
<分散方法>
市販のビーズミル分散機に直径0.5mmのPSZボールを用い、ポリビニルブチラールを溶解した2−ブタノン溶液及びクロロガリウムフタロシアニン結晶を投入し、ローター回転数1200r.p.m.にて30分間分散を行い、電荷発生層用塗工液を作製した。
<Distribution method>
Using a PSZ ball having a diameter of 0.5 mm in a commercially available bead mill disperser, a 2-butanone solution in which polyvinyl butyral was dissolved and a chlorogallium phthalocyanine crystal were introduced, and the rotor rotation speed was 1200 r. p. m. For 30 minutes to prepare a charge generation layer coating solution.
なお、電荷発生層の膜厚は、780nmにおける電荷発生層の透過率が25%になるように調整した。電荷発生層の透過率は、上記処方の電荷発生層塗工液を、ポリエチレンテレフタレートフィルムを巻き付けたアルミシリンダーに感光体作製と同じ条件で塗工を行い、電荷発生層を塗工していないポリエチレンテレフタレートフィルムを比較対象とし、市販の分光光度計(島津:UV−3100)にて、780nmの透過率を評価した。 The film thickness of the charge generation layer was adjusted so that the transmittance of the charge generation layer at 780 nm was 25%. The transmittance of the charge generation layer is determined by applying the charge generation layer coating solution of the above formulation to an aluminum cylinder wrapped with a polyethylene terephthalate film under the same conditions as the production of the photoreceptor, and the polyethylene without the charge generation layer applied The transmittance | permeability of 780 nm was evaluated with the commercially available spectrophotometer (Shimadzu: UV-3100) for the terephthalate film as a comparison object.
(アゾ顔料分散液)
(合成例6)
特公平60−29109号公報及び特許第3026645号公報に記載の方法に準じて下記非対称アゾ顔料および対称アゾ顔料を作製し、以下に示す方法で分散を行った。
(Azo pigment dispersion)
(Synthesis Example 6)
The following asymmetric azo pigments and symmetric azo pigments were prepared according to the methods described in Japanese Patent Publication No. 60-29109 and Japanese Patent No. 3026645, and dispersed by the following method.
下記組成の処方にて、下記に示す分散方法にて分散を行い、電荷発生層用塗工液として、分散液を作製した。この分散液を分散液4とする。 Dispersion was carried out by the following dispersion method with a formulation having the following composition to prepare a dispersion as a charge generation layer coating liquid. This dispersion is referred to as dispersion 4.
<処方>
下記化学式(6)で示される非対称アゾ顔料 5部
ポリビニルブチラール(積水化学製:BX−1) 2部
シクロヘキサノン 250部
2−ブタノン 100部
<Prescription>
Asymmetric azo pigment represented by the following chemical formula (6) 5 parts Polyvinyl butyral (manufactured by Sekisui Chemical: BX-1) 2 parts Cyclohexanone 250 parts 2-
<分散方法>
ボールミル分散機に直径10mmのPSZボールを用い、ポリビニルブチラールを溶解した溶媒およびアゾ顔料を全て投入し、回転数85r.p.m.にて7日間分散を行い、分散液を作製した。
<Distribution method>
Using a PSZ ball having a diameter of 10 mm for the ball mill disperser, all of the solvent and azo pigment in which polyvinyl butyral was dissolved were charged, and the rotational speed was 85 r. p. m. Was dispersed for 7 days to prepare a dispersion.
なお、電荷発生層の膜厚は、655nmにおける電荷発生層の透過率が40%になるように調整した。電荷発生層の透過率は、上記処方の電荷発生層塗工液を、ポリエチレンテレフタレートフィルムを巻き付けたアルミシリンダーに感光体作製と同じ条件で塗工を行い、電荷発生層を塗工していないポリエチレンテレフタレートフィルムを比較対象とし、市販の分光光度計(島津:UV−3100)にて、655nmの透過率を評価した。 The film thickness of the charge generation layer was adjusted so that the transmittance of the charge generation layer at 655 nm was 40%. The transmittance of the charge generation layer is determined by applying the charge generation layer coating solution of the above formulation to an aluminum cylinder wrapped with a polyethylene terephthalate film under the same conditions as the production of the photoreceptor, and the polyethylene without the charge generation layer applied The transmittance | permeability of 655 nm was evaluated with the terephthalate film as a comparison object with the commercially available spectrophotometer (Shimadzu: UV-3100).
(アゾ顔料分散液)
(合成例7)
下記組成の処方にて、下記に示す分散方法にて分散を行い、電荷発生層用塗工液として、分散液を作製した。この分散液を分散液5とする。
(Azo pigment dispersion)
(Synthesis Example 7)
Dispersion was carried out by the following dispersion method with a formulation having the following composition to prepare a dispersion as a charge generation layer coating liquid. This dispersion is designated as Dispersion Liquid 5.
<処方>
下記化学式(7)で示される対称アゾ顔料 5部
ポリビニルブチラール(積水化学製:BX−1) 2部
シクロヘキサノン 250部
2−ブタノン 100部
<Prescription>
Symmetrical azo pigment represented by the following chemical formula (7) 5 parts Polyvinyl butyral (manufactured by Sekisui Chemical: BX-1) 2 parts Cyclohexanone 250 parts 2-
<分散方法>
ボールミル分散機に直径10mmのPSZボールを用い、ポリビニルブチラールを溶解した溶媒およびアゾ顔料を全て投入し、回転数85r.p.m.にて7日間分散を行い、分散液を作製した。
<Distribution method>
Using a PSZ ball having a diameter of 10 mm for the ball mill disperser, all of the solvent and azo pigment in which polyvinyl butyral was dissolved were charged, and the rotational speed was 85 r. p. m. Was dispersed for 7 days to prepare a dispersion.
なお、電荷発生層の膜厚は、655nmにおける電荷発生層の透過率が40%になるように調整した。電荷発生層の透過率は、上記処方の電荷発生層塗工液を、ポリエチレンテレフタレートフィルムを巻き付けたアルミシリンダーに感光体作製と同じ条件で塗工を行い、電荷発生層を塗工していないポリエチレンテレフタレートフィルムを比較対象とし、市販の分光光度計(島津:UV−3100)にて、655nmの透過率を評価した。 The film thickness of the charge generation layer was adjusted so that the transmittance of the charge generation layer at 655 nm was 40%. The transmittance of the charge generation layer is determined by applying the charge generation layer coating solution of the above formulation to an aluminum cylinder wrapped with a polyethylene terephthalate film under the same conditions as the production of the photoreceptor, and the polyethylene without the charge generation layer applied The transmittance | permeability of 655 nm was evaluated with the terephthalate film as a comparison object with the commercially available spectrophotometer (Shimadzu: UV-3100).
<実施例1>
導電性支持体としての直径30mmのアルミニウムシリンダーに、下記組成の下引き層塗工液、電荷発生層塗工液、電荷輸送層塗工液を、順次塗布・乾燥し、約3.5μmの下引き層、約0.5μmの電荷発生層、約23μmの電荷輸送層を形成し、積層感光体を作製した。なお、各層の塗工後に指触乾燥を行った後、下引き層は130℃、電荷発生層は95℃、電荷輸送層は120℃で各々20分乾燥を行うことにより、導電性支持体/下引き層/電荷発生層/電荷輸送層からなる有機感光体(電子写真感光体)を得た。
<Example 1>
Undercoat layer coating solution, charge generation layer coating solution, and charge transport layer coating solution having the following composition are applied and dried in sequence on an aluminum cylinder having a diameter of 30 mm as a conductive support, and the thickness is about 3.5 μm. A pulling layer, a charge generation layer of about 0.5 μm, and a charge transport layer of about 23 μm were formed to produce a laminated photoreceptor. After the coating of each layer, touch drying is performed, and then the undercoat layer is dried at 130 ° C., the charge generation layer is 95 ° C., and the charge transport layer is dried at 120 ° C. for 20 minutes, respectively. An organic photoreceptor (electrophotographic photoreceptor) composed of an undercoat layer / charge generation layer / charge transport layer was obtained.
(下引き層用塗工液組成)
酸化チタン
(CR−EL、平均一次粒径:約0.25μm、石原産業(株)製): 50部
アルキッド樹脂(ベッコライトM6401−50、固形分:50%、
大日本インキ化学工業(株)製): 14部
メラミン樹脂
(L−145−60、固形分:60%、大日本インキ化学工業(株)製): 8部
2−ブタノン: 70部
(Coating solution composition for undercoat layer)
Titanium oxide (CR-EL, average primary particle size: about 0.25 μm, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.): 50 parts Alkyd resin (Beckolite M6401-50, solid content: 50%,
Dainippon Ink & Chemicals, Inc.): 14 parts Melamine resin (L-145-60, solid content: 60%, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.): 8 parts 2-butanone: 70 parts
〔電荷発生層用塗工液組成〕
分散液1
[Coating liquid composition for charge generation layer]
〔電荷輸送層用塗工液組成〕
下記化学式(5)で示されるα−フェニルスチルベン化合物 7部
ビスフェノールZポリカーボネート 10部
(パンライトTS−2050、帝人化成製)
テトラヒドロフラン 68部
1%シリコーンオイル(溶媒:テトラヒドロフラン)
(KF50−1CS、信越化学工業製) 0.2部
[Coating liquid composition for charge transport layer]
Α-phenylstilbene compound represented by the following chemical formula (5) 7 parts
Tetrahydrofuran 68
(KF50-1CS, manufactured by Shin-Etsu Chemical) 0.2 parts
<実施例2>
実施例1の電荷発生層用塗工液を分散液2に変更した以外は実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。
<Example 2>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the charge generation layer coating solution in Example 1 was changed to Dispersion 2.
<実施例3>
実施例1の電荷発生層用塗工液を分散液3に変更した以外は実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。
<Example 3>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the charge generation layer coating solution in Example 1 was changed to Dispersion 3.
<実施例4>
実施例1の電荷発生層用塗工液を分散液4に変更し、電荷発生層塗工後の乾燥温度を125℃とした以外は実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。
<Example 4>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the charge generation layer coating solution in Example 1 was changed to Dispersion 4 and the drying temperature after coating the charge generation layer was 125 ° C.
<実施例5>
実施例4の電荷発生層用塗工液を分散液5に変更した以外は実施例4と同様に電子写真感光体を作製した。
<Example 5>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 4 except that the charge generation layer coating solution in Example 4 was changed to Dispersion 5.
<実施例6>
実施例1で用いた前記化学式(5)で示されるα−フェニルスチルベン化合物を、下記化学式(3)で示されるα−フェニルスチルベン化合物に変更した以外は実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。
<Example 6>
An electrophotographic photoreceptor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the α-phenylstilbene compound represented by the chemical formula (5) used in Example 1 was changed to an α-phenylstilbene compound represented by the following chemical formula (3). Produced.
<実施例7>
実施例6の電荷発生層用塗工液を分散液2に変更した以外は実施例6と同様に電子写真感光体を作製した。
<Example 7>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 6 except that the charge generation layer coating solution in Example 6 was changed to Dispersion 2.
<実施例8>
実施例6の電荷発生層用塗工液を分散液3に変更した以外は実施例6と同様に電子写真感光体を作製した
<Example 8>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 6 except that the charge generation layer coating solution in Example 6 was changed to Dispersion 3.
<実施例9>
実施例6の電荷発生層用塗工液を分散液4に変更し、電荷発生層塗工後の乾燥温度を125℃とした以外は実施例6と同様に電子写真感光体を作製した。
<Example 9>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 6 except that the charge generation layer coating solution in Example 6 was changed to Dispersion 4 and the drying temperature after coating the charge generation layer was 125 ° C.
<実施例10>
実施例9の電荷発生層用塗工液を分散液5に変更した以外は実施例9と同様に電子写真感光体を作製した。
<Example 10>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 9 except that the charge generation layer coating solution in Example 9 was changed to Dispersion 5.
<実施例11>
実施例1において、導電性支持体と下引き層との間に下記組成の電荷ブロッキング層塗工液を塗布・乾燥して電荷ブロッキング層を設けた以外は実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。尚、電荷ブロッキング層の膜厚は約0.5μmとした。電荷ブロッキング層は130℃で10分乾燥した。
<Example 11>
In Example 1, an electrophotographic photosensitive member was prepared in the same manner as in Example 1 except that a charge blocking layer coating solution having the following composition was applied and dried between the conductive support and the undercoat layer to provide a charge blocking layer. Was made. The thickness of the charge blocking layer was about 0.5 μm. The charge blocking layer was dried at 130 ° C. for 10 minutes.
〔電荷ブロッキング層塗工液組成〕
N―メトキシメチル化ナイロン(FR101:鉛市製) 5部
メタノール 70部
n−ブタノール 30部
[Charge blocking layer coating solution composition]
N-methoxymethylated nylon (FR101: manufactured by Lead City) 5
<実施例12>
実施例6において、導電性支持体と下引き層との間に下記組成の電荷ブロッキング層塗工液を塗布・乾燥して電荷ブロッキング層を設けた以外は実施例6と同様に電子写真感光体を作製した。なお、電荷ブロッキング層の膜厚は約0.5μmとした。電荷ブロッキング層は130℃で10分乾燥した。
<Example 12>
In Example 6, an electrophotographic photosensitive member was prepared in the same manner as in Example 6 except that a charge blocking layer coating solution having the following composition was applied and dried between the conductive support and the undercoat layer to provide a charge blocking layer. Was made. The thickness of the charge blocking layer was about 0.5 μm. The charge blocking layer was dried at 130 ° C. for 10 minutes.
〔電荷ブロッキング層塗工液組成〕
N―メトキシメチル化ナイロン(FR101:鉛市製) 5部
メタノール 70部
n−ブタノール 30部
[Charge blocking layer coating solution composition]
N-methoxymethylated nylon (FR101: manufactured by Lead City) 5
<実施例13>
実施例4において、導電性支持体と下引き層との間に下記組成の電荷ブロッキング層塗工液を塗布・乾燥して電荷ブロッキング層を設けた以外は実施例4と同様に電子写真感光体を作製した。なお、電荷ブロッキング層の膜厚は約0.5μmとした。電荷ブロッキング層は130℃で10分乾燥した。
<Example 13>
In Example 4, an electrophotographic photosensitive member was prepared in the same manner as in Example 4 except that a charge blocking layer coating liquid having the following composition was applied and dried between the conductive support and the undercoat layer to provide a charge blocking layer. Was made. The thickness of the charge blocking layer was about 0.5 μm. The charge blocking layer was dried at 130 ° C. for 10 minutes.
〔電荷ブロッキング層塗工液組成〕
N―メトキシメチル化ナイロン(FR101:鉛市製) 5部
メタノール 70部
n−ブタノール 30部
[Charge blocking layer coating solution composition]
N-methoxymethylated nylon (FR101: manufactured by Lead City) 5
<実施例14>
実施例9において、導電性支持体と下引き層との間に下記組成の電荷ブロッキング層塗工液を塗布・乾燥して電荷ブロッキング層を設けた以外は実施例9と同様に電子写真感光体を作製した。なお、電荷ブロッキング層の膜厚は約0.5μmとした。電荷ブロッキング層は130℃で10分乾燥した。
<Example 14>
In Example 9, an electrophotographic photosensitive member was prepared in the same manner as in Example 9 except that a charge blocking layer coating solution having the following composition was applied and dried between the conductive support and the undercoat layer to provide a charge blocking layer. Was made. The thickness of the charge blocking layer was about 0.5 μm. The charge blocking layer was dried at 130 ° C. for 10 minutes.
〔電荷ブロッキング層塗工液組成〕
N―メトキシメチル化ナイロン(FR101:鉛市製) 5部
メタノール 70部
n−ブタノール 30部
[Charge blocking layer coating solution composition]
N-methoxymethylated nylon (FR101: manufactured by Lead City) 5
<実施例15>
実施例1において、電荷輸送層上に下記組成のフィラー添加型保護層塗工液を塗布・乾燥してフィラー添加型保護層を設けた以外は実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。なお、フィラー添加型保護層の膜厚は約5μmとした。フィラー添加型保護層は150℃で20分乾燥した。
<Example 15>
In Example 1, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that a filler-added protective layer coating solution having the following composition was applied and dried on the charge transport layer to provide a filler-added protective layer. . The film thickness of the filler-added protective layer was about 5 μm. The filler-added protective layer was dried at 150 ° C. for 20 minutes.
〔フィラー添加型保護層塗工液組成〕
アルミナ(AA03 平均一次粒径:0.3μm、住友化学工業製) 3部
ポリカーボネート(パンライトTS−2050、帝人化成製) 5.5部
テトラヒドロフラン 220部
シクロヘキサノン 80部
下記化学式(8)で示される電荷輸送物質 4部
[Filler-added protective layer coating solution composition]
Alumina (AA03 average primary particle size: 0.3 μm, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 3 parts Polycarbonate (Panlite TS-2050, manufactured by Teijin Chemicals) 5.5 parts Tetrahydrofuran 220
<実施例16>
実施例6において、電荷輸送層上に下記組成のフィラー添加型保護層塗工液を塗布・乾燥してフィラー添加型保護層を設けた以外は実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。なお、フィラー添加型保護層の膜厚は約5μmとした。フィラー添加型保護層は150℃で20分乾燥した。
<Example 16>
In Example 6, an electrophotographic photoreceptor was prepared in the same manner as in Example 1 except that a filler-added protective layer coating solution having the following composition was applied and dried on the charge transport layer to provide a filler-added protective layer. . The film thickness of the filler-added protective layer was about 5 μm. The filler-added protective layer was dried at 150 ° C. for 20 minutes.
〔フィラー添加型保護層塗工液組成〕
アルミナ(AA03 平均一次粒径:0.3μm、住友化学工業製) 3部
ポリカーボネート(パンライトTS−2050、帝人化成製) 5.5部
テトラヒドロフラン 220部
シクロヘキサノン 80部
前記化学式(8)で示される電荷輸送物質 4部
[Filler-added protective layer coating solution composition]
Alumina (AA03 average primary particle size: 0.3 μm, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 3 parts Polycarbonate (Panlite TS-2050, manufactured by Teijin Chemicals) 5.5 parts Tetrahydrofuran 220
<実施例17>
実施例4において、電荷輸送層上に下記組成のフィラー添加型保護層塗工液を塗布・乾燥してフィラー添加型保護層を設けた以外は実施例4と同様に電子写真感光体を作製した。なお、フィラー添加型保護層の膜厚は約5μmとした。フィラー添加型保護層は150℃で20分乾燥した。
<Example 17>
In Example 4, an electrophotographic photoreceptor was prepared in the same manner as in Example 4 except that a filler-added protective layer coating solution having the following composition was applied on the charge transport layer and dried to provide a filler-added protective layer. . The film thickness of the filler-added protective layer was about 5 μm. The filler-added protective layer was dried at 150 ° C. for 20 minutes.
〔フィラー添加型保護層塗工液組成〕
アルミナ(AA03 平均一次粒径:0.3μm、住友化学工業製) 3部
ポリカーボネート(パンライトTS−2050、帝人化成製) 5.5部
テトラヒドロフラン 220部
シクロヘキサノン 80部
前記化学式(8)で示される電荷輸送物質 4部
[Filler-added protective layer coating solution composition]
Alumina (AA03 average primary particle size: 0.3 μm, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 3 parts Polycarbonate (Panlite TS-2050, manufactured by Teijin Chemicals) 5.5 parts Tetrahydrofuran 220
<実施例18>
実施例9において、電荷輸送層上に下記組成のフィラー添加型保護層塗工液を塗布・乾燥してフィラー添加型保護層を設けた以外は実施例9と同様に電子写真感光体を作製した。なお、フィラー添加型保護層の膜厚は約5μmとした。フィラー添加型保護層は150℃で20分乾燥した。
<Example 18>
In Example 9, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 9 except that a filler-added protective layer coating solution having the following composition was applied on the charge transport layer and dried to provide a filler-added protective layer. . The film thickness of the filler-added protective layer was about 5 μm. The filler-added protective layer was dried at 150 ° C. for 20 minutes.
〔フィラー添加型保護層塗工液組成〕
アルミナ(AA03 平均一次粒径:0.3μm、住友化学工業製) 3部
ポリカーボネート(パンライトTS−2050、帝人化成製) 5.5部
テトラヒドロフラン 220部
シクロヘキサノン 80部
前記化学式(8)で示される電荷輸送物質 4部
[Filler-added protective layer coating solution composition]
Alumina (AA03 average primary particle size: 0.3 μm, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 3 parts Polycarbonate (Panlite TS-2050, manufactured by Teijin Chemicals) 5.5 parts Tetrahydrofuran 220
<実施例19>
実施例1において、電荷輸送層上に、下記組成の架橋型保護層用塗工液を塗工し、UVランプ(バルブ種 Hバルブ)(FusionUVシステムズ社製)を用いて、ランプ出力200W/cm、照度:450mW/cm2、照射時間:30秒の条件で光照射を行なうことで架橋させた。この後、130℃20分の乾燥を行なうことにより、約5μmの架橋型保護層を形成した。架橋型保護層以外は実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。
<Example 19>
In Example 1, a coating solution for a crosslinking protective layer having the following composition was applied onto the charge transport layer, and a lamp output of 200 W / cm was used using a UV lamp (bulb type H bulb) (manufactured by FusionUV Systems). The film was crosslinked by light irradiation under the conditions of illuminance: 450 mW / cm 2 and irradiation time: 30 seconds. Thereafter, drying was performed at 130 ° C. for 20 minutes to form a crosslinked protective layer of about 5 μm. An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except for the crosslinkable protective layer.
〔架橋型保護層用塗工液〕
電荷輸送性構造を有しないラジカル重合性モノマー 10部
トリメチロールプロパントリアクリレート
(KAYARAD TMPTA、日本化薬製)
分子量:296、官能基数:3官能、分子量/官能基数=99
電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物 10部
(例示化合物No.54)
光重合開始剤 1部
(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製))
アルミナ(平均一次粒径:0.3μm、住友化学工業製) 2部
テトラヒドロフラン 100部
[Coating liquid for cross-linked protective layer]
10 parts of radically polymerizable monomer having no charge transporting structure Trimethylolpropane triacrylate (KAYARAD TMPTA, manufactured by Nippon Kayaku)
Molecular weight: 296, number of functional groups: trifunctional, molecular weight / number of functional groups = 99
10 parts of radically polymerizable compound having a charge transporting structure (Exemplary Compound No. 54)
Alumina (average primary particle size: 0.3 μm, manufactured by Sumitomo Chemical) 2
<実施例20>
実施例6において、電荷輸送層上に、下記組成の架橋型保護層用塗工液を塗工し、UVランプ(バルブ種 Hバルブ)(FusionUVシステムズ社製)を用いて、ランプ出力200W/cm、照度:450mW/cm2、照射時間:30秒の条件で光照射を行なうことで架橋させた。この後、130℃20分の乾燥を行なうことにより、約5μmの架橋型保護層を形成した。架橋型保護層以外は実施例6と同様に電子写真感光体を作製した。
<Example 20>
In Example 6, a coating solution for a crosslinking type protective layer having the following composition was applied onto the charge transport layer, and a lamp output of 200 W / cm was used using a UV lamp (bulb type H bulb) (manufactured by FusionUV Systems). The film was crosslinked by light irradiation under the conditions of illuminance: 450 mW / cm 2 and irradiation time: 30 seconds. Thereafter, drying was performed at 130 ° C. for 20 minutes to form a crosslinked protective layer of about 5 μm. An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 6 except for the crosslinkable protective layer.
〔架橋型保護層用塗工液〕
電荷輸送性構造を有しないラジカル重合性モノマー 10部
トリメチロールプロパントリアクリレート
(KAYARAD TMPTA、日本化薬製)
分子量:296、官能基数:3官能、分子量/官能基数=99
電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物 10部
(例示化合物No.54)
光重合開始剤 1部
(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製))
アルミナ(平均一次粒径:0.3μm、住友化学工業製) 2部
テトラヒドロフラン 100部
[Coating liquid for cross-linked protective layer]
Radical polymerizable monomer having no
Molecular weight: 296, number of functional groups: trifunctional, molecular weight / number of functional groups = 99
10 parts of radically polymerizable compound having a charge transporting structure (Exemplary Compound No. 54)
Alumina (average primary particle size: 0.3 μm, manufactured by Sumitomo Chemical) 2
<実施例21>
実施例4において、電荷輸送層上に、下記組成の架橋型保護層用塗工液を塗工し、UVランプ(バルブ種 Hバルブ)(FusionUVシステムズ社製)を用いて、ランプ出力200W/cm、照度:450mW/cm2、照射時間:30秒の条件で光照射を行なうことで架橋させた。この後、130℃20分の乾燥を行なうことにより、約5μmの架橋型保護層を形成した。架橋型保護層以外は実施例4と同様に電子写真感光体を作製した。
<Example 21>
In Example 4, a coating solution for a crosslinking type protective layer having the following composition was applied onto the charge transport layer, and a lamp output of 200 W / cm was used using a UV lamp (bulb type H bulb) (manufactured by FusionUV Systems). The film was crosslinked by light irradiation under the conditions of illuminance: 450 mW / cm 2 and irradiation time: 30 seconds. Thereafter, drying was performed at 130 ° C. for 20 minutes to form a crosslinked protective layer of about 5 μm. An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 4 except for the crosslinked protective layer.
〔架橋型保護層用塗工液〕
電荷輸送性構造を有しないラジカル重合性モノマー 10部
トリメチロールプロパントリアクリレート
(KAYARAD TMPTA、日本化薬製)
分子量:296、官能基数:3官能、分子量/官能基数=99
電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物 10部
(例示化合物No.54)
光重合開始剤 1部
(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製))
アルミナ(平均一次粒径:0.3μm、住友化学工業製) 2部
テトラヒドロフラン 100部
[Coating liquid for cross-linked protective layer]
10 parts of radically polymerizable monomer having no charge transporting structure Trimethylolpropane triacrylate (KAYARAD TMPTA, manufactured by Nippon Kayaku)
Molecular weight: 296, number of functional groups: trifunctional, molecular weight / number of functional groups = 99
10 parts of radically polymerizable compound having a charge transporting structure (Exemplary Compound No. 54)
Alumina (average primary particle size: 0.3 μm, manufactured by Sumitomo Chemical) 2
<実施例22>
実施例9において、電荷輸送層上に、下記組成の架橋型保護層用塗工液を塗工し、UVランプ(バルブ種 Hバルブ)(FusionUVシステムズ社製)を用いて、ランプ出力200W/cm、照度:450mW/cm2、照射時間:30秒の条件で光照射を行なうことで架橋させた。この後、130℃20分の乾燥を行なうことにより、約5μmの架橋型保護層を形成した。架橋型保護層以外は実施例9と同様に電子写真感光体を作製した。
<Example 22>
In Example 9, a coating solution for a crosslinking type protective layer having the following composition was applied on the charge transport layer, and a lamp output of 200 W / cm was used using a UV lamp (bulb type H bulb) (manufactured by FusionUV Systems). The film was crosslinked by light irradiation under the conditions of illuminance: 450 mW / cm 2 and irradiation time: 30 seconds. Thereafter, drying was performed at 130 ° C. for 20 minutes to form a crosslinked protective layer of about 5 μm. An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 9 except for the crosslinked protective layer.
〔架橋型保護層用塗工液〕
電荷輸送性構造を有しないラジカル重合性モノマー 10部
トリメチロールプロパントリアクリレート
(KAYARAD TMPTA、日本化薬製)
分子量:296、官能基数:3官能、分子量/官能基数=99
電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物 10部
(例示化合物No.54)
光重合開始剤 1部
(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製))
アルミナ(平均一次粒径:0.3μm、住友化学工業製) 2部
テトラヒドロフラン 100部
[Coating liquid for cross-linked protective layer]
10 parts of radically polymerizable monomer having no charge transporting structure Trimethylolpropane triacrylate (KAYARAD TMPTA, manufactured by Nippon Kayaku)
Molecular weight: 296, number of functional groups: trifunctional, molecular weight / number of functional groups = 99
10 parts of radically polymerizable compound having a charge transporting structure (Exemplary Compound No. 54)
Alumina (average primary particle size: 0.3 μm, manufactured by Sumitomo Chemical) 2
<実施例23>
実施例1において、導電性支持体と下引き層との間に下記組成の電荷ブロッキング層塗工液を塗布・乾燥して電荷ブロッキング層を設け、さらに、電荷輸送層上に下記組成の架橋型保護層用塗工液を塗工し、架橋型保護層を設けた以外は実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。尚、電荷ブロッキング層の膜厚は約0.5μm、架橋型電荷輸送層の膜厚は約5μmとした。電荷ブロッキング層は130℃で10分乾燥し、架橋型電荷輸送層は130℃で20分乾燥した。なお、UV照射条件は上記実施例と同様である。
<Example 23>
In Example 1, a charge blocking layer coating solution having the following composition was applied and dried between the conductive support and the undercoat layer to provide a charge blocking layer. Further, a crosslinked type having the following composition was formed on the charge transport layer. An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the protective layer coating solution was applied and a crosslinkable protective layer was provided. The thickness of the charge blocking layer was about 0.5 μm, and the thickness of the cross-linked charge transport layer was about 5 μm. The charge blocking layer was dried at 130 ° C. for 10 minutes, and the cross-linked charge transport layer was dried at 130 ° C. for 20 minutes. The UV irradiation conditions are the same as in the above example.
〔電荷ブロッキング層塗工液組成〕
N―メトキシメチル化ナイロン(FR101:鉛市製) 5部
メタノール 70部
n−ブタノール 30部
[Charge blocking layer coating solution composition]
N-methoxymethylated nylon (FR101: manufactured by Lead City) 5
〔架橋型保護層用塗工液〕
電荷輸送性構造を有しないラジカル重合性モノマー 10部
トリメチロールプロパントリアクリレート
(KAYARAD TMPTA、日本化薬製)
分子量:296、官能基数:3官能、分子量/官能基数=99
電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物 10部
(例示化合物No.54)
光重合開始剤 1部
(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製))
アルミナ(平均一次粒径:0.3μm、住友化学工業製) 2部
テトラヒドロフラン 100部
[Coating liquid for cross-linked protective layer]
10 parts of radically polymerizable monomer having no charge transporting structure Trimethylolpropane triacrylate (KAYARAD TMPTA, manufactured by Nippon Kayaku)
Molecular weight: 296, number of functional groups: trifunctional, molecular weight / number of functional groups = 99
10 parts of radically polymerizable compound having a charge transporting structure (Exemplary Compound No. 54)
Alumina (average primary particle size: 0.3 μm, manufactured by Sumitomo Chemical) 2
<実施例24>
実施例6において、導電性支持体と下引き層との間に下記組成の電荷ブロッキング層塗工液を塗布・乾燥して電荷ブロッキング層を設け、さらに、電荷輸送層上に下記組成の架橋型保護層用塗工液を塗工し、架橋型保護層を設けた以外は実施例6と同様に電子写真感光体を作製した。尚、電荷ブロッキング層の膜厚は約0.5μm、架橋型電荷輸送層の膜厚は約5μmとした。電荷ブロッキング層は130℃で10分乾燥し、架橋型電荷輸送層は130℃で20分乾燥した。なお、UV照射条件は上記実施例と同様である。
<Example 24>
In Example 6, a charge blocking layer coating solution having the following composition was applied and dried between the conductive support and the undercoat layer to provide a charge blocking layer. Further, a crosslinked type having the following composition was formed on the charge transport layer. An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 6 except that the protective layer coating solution was applied and a crosslinkable protective layer was provided. The thickness of the charge blocking layer was about 0.5 μm, and the thickness of the cross-linked charge transport layer was about 5 μm. The charge blocking layer was dried at 130 ° C. for 10 minutes, and the cross-linked charge transport layer was dried at 130 ° C. for 20 minutes. The UV irradiation conditions are the same as in the above example.
〔電荷ブロッキング層塗工液組成〕
N―メトキシメチル化ナイロン(FR101:鉛市製) 5部
メタノール 70部
n−ブタノール 30部
[Charge blocking layer coating solution composition]
N-methoxymethylated nylon (FR101: manufactured by Lead City) 5
〔架橋型保護層用塗工液〕
電荷輸送性構造を有しないラジカル重合性モノマー 10部
トリメチロールプロパントリアクリレート
(KAYARAD TMPTA、日本化薬製)
分子量:296、官能基数:3官能、分子量/官能基数=99
電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物 10部
(例示化合物No.54)
光重合開始剤 1部
(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製))
アルミナ(平均一次粒径:0.3μm、住友化学工業製) 2部
テトラヒドロフラン 100部
[Coating liquid for cross-linked protective layer]
10 parts of radically polymerizable monomer having no charge transporting structure Trimethylolpropane triacrylate (KAYARAD TMPTA, manufactured by Nippon Kayaku)
Molecular weight: 296, number of functional groups: trifunctional, molecular weight / number of functional groups = 99
10 parts of radically polymerizable compound having a charge transporting structure (Exemplary Compound No. 54)
Alumina (average primary particle size: 0.3 μm, manufactured by Sumitomo Chemical) 2
<実施例25>
実施例4において、導電性支持体と下引き層との間に下記組成の電荷ブロッキング層塗工液を塗布・乾燥して電荷ブロッキング層を設け、さらに、電荷輸送層上に下記組成の架橋型保護層用塗工液を塗工し、架橋型保護層を設けた以外は実施例4と同様に電子写真感光体を作製した。尚、電荷ブロッキング層の膜厚は約0.5μm、架橋型電荷輸送層の膜厚は約5μmとした。電荷ブロッキング層は130℃で10分乾燥し、架橋型電荷輸送層は130℃で20分乾燥した。なお、UV照射条件は上記実施例と同様である。
<Example 25>
In Example 4, a charge blocking layer coating liquid having the following composition was applied and dried between the conductive support and the undercoat layer to provide a charge blocking layer, and the crosslinked type having the following composition was further formed on the charge transport layer. An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 4 except that the protective layer coating solution was applied and a crosslinkable protective layer was provided. The thickness of the charge blocking layer was about 0.5 μm, and the thickness of the cross-linked charge transport layer was about 5 μm. The charge blocking layer was dried at 130 ° C. for 10 minutes, and the cross-linked charge transport layer was dried at 130 ° C. for 20 minutes. The UV irradiation conditions are the same as in the above example.
〔電荷ブロッキング層塗工液組成〕
N―メトキシメチル化ナイロン(FR101:鉛市製) 5部
メタノール 70部
n−ブタノール 30部
[Charge blocking layer coating solution composition]
N-methoxymethylated nylon (FR101: manufactured by Lead City) 5
〔架橋型保護層用塗工液〕
電荷輸送性構造を有しないラジカル重合性モノマー 10部
トリメチロールプロパントリアクリレート
(KAYARAD TMPTA、日本化薬製)
分子量:296、官能基数:3官能、分子量/官能基数=99
電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物 10部
(例示化合物No.54)
光重合開始剤 1部
(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製))
アルミナ(平均一次粒径:0.3μm、住友化学工業製) 2部
テトラヒドロフラン 100部
[Coating liquid for cross-linked protective layer]
10 parts of radically polymerizable monomer having no charge transporting structure Trimethylolpropane triacrylate (KAYARAD TMPTA, manufactured by Nippon Kayaku)
Molecular weight: 296, number of functional groups: trifunctional, molecular weight / number of functional groups = 99
10 parts of radically polymerizable compound having a charge transporting structure (Exemplary Compound No. 54)
Alumina (average primary particle size: 0.3 μm, manufactured by Sumitomo Chemical) 2
<実施例26>
実施例9において、導電性支持体と下引き層との間に下記組成の電荷ブロッキング層塗工液を塗布・乾燥して電荷ブロッキング層を設け、さらに、電荷輸送層上に下記組成の架橋型保護層用塗工液を塗工し、架橋型保護層を設けた以外は実施例9と同様に電子写真感光体を作製した。尚、電荷ブロッキング層の膜厚は約0.5μm、架橋型電荷輸送層の膜厚は約5μmとした。電荷ブロッキング層は130℃で10分乾燥し、架橋型電荷輸送層は130℃で20分乾燥した。なお、UV照射条件は上記実施例と同様である。
<Example 26>
In Example 9, a charge blocking layer coating solution having the following composition was applied and dried between the conductive support and the undercoat layer to provide a charge blocking layer. Further, a crosslinked type having the following composition was formed on the charge transport layer. An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 9 except that the protective layer coating solution was applied and a crosslinkable protective layer was provided. The thickness of the charge blocking layer was about 0.5 μm, and the thickness of the cross-linked charge transport layer was about 5 μm. The charge blocking layer was dried at 130 ° C. for 10 minutes, and the cross-linked charge transport layer was dried at 130 ° C. for 20 minutes. The UV irradiation conditions are the same as in the above example.
〔電荷ブロッキング層塗工液組成〕
N―メトキシメチル化ナイロン(FR101:鉛市製) 5部
メタノール 70部
n−ブタノール 30部
[Charge blocking layer coating solution composition]
N-methoxymethylated nylon (FR101: manufactured by Lead City) 5
〔架橋型保護層用塗工液〕
電荷輸送性構造を有しないラジカル重合性モノマー 10部
トリメチロールプロパントリアクリレート
(KAYARAD TMPTA、日本化薬製)
分子量:296、官能基数:3官能、分子量/官能基数=99
電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物 10部
(例示化合物No.54)
光重合開始剤 1部
(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製))
アルミナ(平均一次粒径:0.3μm、住友化学工業製) 2部
テトラヒドロフラン 100部
[Coating liquid for cross-linked protective layer]
10 parts of radically polymerizable monomer having no charge transporting structure Trimethylolpropane triacrylate (KAYARAD TMPTA, manufactured by Nippon Kayaku)
Molecular weight: 296, number of functional groups: trifunctional, molecular weight / number of functional groups = 99
10 parts of radically polymerizable compound having a charge transporting structure (Exemplary Compound No. 54)
Alumina (average primary particle size: 0.3 μm, manufactured by Sumitomo Chemical) 2
<比較例1>
実施例1のα−フェニルスチルベン化合物を特公平3−39306号公報記載の下記化学式(8)で示される化合物に変更した以外は実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。
<Comparative Example 1>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the α-phenylstilbene compound of Example 1 was changed to a compound represented by the following chemical formula (8) described in JP-B-3-39306.
<比較例2>
比較例1の電荷発生層用塗工液を分散液2に変更した以外は比較例1と同様に電子写真感光体を作製した。
<Comparative example 2>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Comparative Example 1 except that the charge generation layer coating solution in Comparative Example 1 was changed to Dispersion 2.
<比較例3>
比較例1の電荷発生層用塗工液を分散液3に変更した以外は比較例1と同様に電子写真感光体を作製した。
<Comparative Example 3>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Comparative Example 1 except that the charge generation layer coating solution in Comparative Example 1 was changed to Dispersion 3.
<比較例4>
比較例1の電荷発生層用塗工液を分散液4に変更し、電荷発生層塗工後の乾燥温度を125℃とした以外は比較例1と同様に電子写真感光体を作製した。
<Comparative Example 4>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Comparative Example 1 except that the charge generation layer coating solution in Comparative Example 1 was changed to Dispersion 4 and the drying temperature after the charge generation layer coating was 125 ° C.
<比較例5>
比較例4の電荷発生層用塗工液を分散液5に変更した以外は比較例4と同様に電子写真感光体を作製した。
<Comparative Example 5>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Comparative Example 4 except that the charge generation layer coating solution in Comparative Example 4 was changed to Dispersion 5.
<比較例6>
実施例15のα−フェニルスチルベン化合物を特公平3−39306号公報記載の前記化学式(8)で示される化合物に変更した以外は実施例15と同様に電子写真感光体を作製した。
<Comparative Example 6>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 15 except that the α-phenylstilbene compound of Example 15 was changed to the compound represented by the chemical formula (8) described in JP-B-3-39306.
<比較例7>
実施例17のα−フェニルスチルベン化合物を特公平3−39306号公報記載の前記化学式(8)で示される化合物に変更した以外は実施例17と同様に電子写真感光体を作製した。
<Comparative Example 7>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 17 except that the α-phenylstilbene compound of Example 17 was changed to the compound represented by the chemical formula (8) described in JP-B-3-39306.
<比較例8>
実施例19のα−フェニルスチルベン化合物を特公平3−39306号公報記載の前記化学式(8)で示される化合物に変更した以外は実施例19と同様に電子写真感光体を作製した。
<Comparative Example 8>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 19 except that the α-phenylstilbene compound of Example 19 was changed to the compound represented by the chemical formula (8) described in JP-B-3-39306.
<比較例9>
実施例21のα−フェニルスチルベン化合物を特公平3−39306号公報記載の前記化学式(8)で示される化合物に変更した以外は実施例21と同様に電子写真感光体を作製した。
<Comparative Example 9>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 21 except that the α-phenylstilbene compound of Example 21 was changed to the compound represented by the chemical formula (8) described in JP-B-3-39306.
<比較例10>
実施例11のα−フェニルスチルベン化合物を特公平3−39306号公報記載の前記化学式(8)で示される化合物に変更した以外は実施例11と同様に電子写真感光体を作製した。
<Comparative Example 10>
An electrophotographic photoreceptor was prepared in the same manner as in Example 11 except that the α-phenylstilbene compound of Example 11 was changed to the compound represented by the chemical formula (8) described in JP-B-3-39306.
<比較例11>
実施例13のα−フェニルスチルベン化合物を特公平3−39306号公報記載の前記化学式(8)で示される化合物に変更した以外は実施例13と同様に電子写真感光体を作製した。
<Comparative Example 11>
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 13 except that the α-phenylstilbene compound of Example 13 was changed to the compound represented by the chemical formula (8) described in JP-B-3-39306.
(明部電位測定)
実施例1〜10および比較例1〜5で作製した電子写真感光体を用いて、明部電位の測定を行った。
明部電位測定にはリコー製imagio Neo270改造機を用いた。
画像露光光源として655nmの半導体レーザーを用いたリコー製imagio Neo270の現像ユニットを分解し、表面電位計に接続された電位計プローブを現像ユニットに取り付け、それに感光体をセットして、暗部電位が−700(V)になるように印加電位を調節した後、黒ベタ画像を出力することによって、明部電位を測定した。表面電位計はTREK MODEL344を用いた。
明部電位の測定結果を下記表45に示す。
(Light area potential measurement)
Using the electrophotographic photoreceptors produced in Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 5, the bright part potential was measured.
For the bright part potential measurement, a modified Ricoh imagio Neo 270 machine was used.
Disassemble Ricoh's imgio Neo 270 development unit using a 655 nm semiconductor laser as the image exposure light source, attach an electrometer probe connected to the surface electrometer to the development unit, set the photoconductor to it, and the dark part potential is- The applied potential was adjusted to 700 (V), and then a black solid image was output to measure the bright portion potential. A TREK MODEL 344 was used as the surface electrometer.
The measurement results of the light portion potential are shown in Table 45 below.
上記表45に示す結果から、本発明に係るα−フェニルスチルベン化合物を用いた電子写真感光体、並びにそれを使用した画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジは従来のα−フェニルスチルベン化合物に比べて明部電位を低減することができる。 From the results shown in Table 45 above, the electrophotographic photosensitive member using the α-phenylstilbene compound according to the present invention, the image forming apparatus using the same, and the process cartridge for the image forming apparatus are compared with the conventional α-phenylstilbene compound. Thus, the bright part potential can be reduced.
(通紙試験)
前記リコー製imagio Neo270改造機を用いて3万枚の通紙試験を行った。通紙試験の前後で明部電位、磨耗量を測定し、さらに地汚れを評価した。
尚、地汚れ評価は通紙試験前と3万枚の通紙試験に、下記数式(A)または(B)で表される電界強度が34.8(V/μm)となるように感光体を帯電し評価を実施した。
(Paper test)
Using the Ricoh imagio Neo 270 remodeling machine, 30,000 sheets were tested. The bright part potential and the amount of wear were measured before and after the paper passing test, and the background contamination was further evaluated.
The background contamination evaluation was performed so that the electric field strength represented by the following formula (A) or (B) was 34.8 (V / μm) before the sheet passing test and 30,000 sheets passing test. Was charged and evaluated.
1)感光層が感光体の表面にある感光体の場合
電界強度(V/μm)
=現像位置における感光体未露光部表面電位の絶対値(V)/(感光層膜厚)(μm)
−数式(A)
1) Electric field strength (V / μm) when the photosensitive layer is a photosensitive member on the surface of the photosensitive member
= Absolute value of surface potential of unexposed portion of photoreceptor at development position (V) / (photosensitive layer thickness) (μm)
-Formula (A)
2)感光層の表面上に保護層が設けられた感光体の場合
電界強度(V/μm)
=現像位置における感光体未露光部表面電位の絶対値(V)/(感光層膜厚+保護層膜厚)(μm)
−数式(B)
2) In the case of a photoreceptor having a protective layer on the surface of the photosensitive layer, electric field strength (V / μm)
= Absolute value of surface potential of photosensitive member unexposed portion at developing position (V) / (photosensitive layer thickness + protective layer thickness) (μm)
-Formula (B)
地汚れの評価:
白ベタ画像を出力し、地肌部に発生する黒点の数、大きさからランク評価を実施した。ランク評価は4段階にて行い、極めて良好なものを◎、良好なものを○、やや劣るものを△、非常に悪いものを×で表わした。
Evaluation of dirt:
A white solid image was output, and rank evaluation was performed from the number and size of black spots generated on the background. The rank evaluation was performed in four stages, and very good ones were indicated by ◎, good ones by ○, slightly inferior by Δ, and very bad by x.
実施例15〜22及び比較例6〜9で作製した電子写真感光体を用いて明部電位の測定を行った結果を下記表46に示す。 Table 46 below shows the results of the measurement of the bright part potential using the electrophotographic photoreceptors prepared in Examples 15 to 22 and Comparative Examples 6 to 9.
この結果から、本発明の電子写真感光体は感光層上に保護層を設けた場合であっても通紙試験の前後で明部電位の上昇を低減することができる。さらに、通紙試験の前後での明部電位の変化が小さい。 From this result, the electrophotographic photosensitive member of the present invention can reduce the increase in bright portion potential before and after the paper passing test even when a protective layer is provided on the photosensitive layer. Furthermore, the change in the light portion potential before and after the paper passing test is small.
実施例1、4、6、9、及び11〜26並びに比較例1、4、10及び11で作製した電子写真感光体を用いて通紙試験を行った後の地汚れ評価結果、磨耗量の結果を下記表47に示す。 As a result of the evaluation of soiling and the amount of wear after conducting a paper passing test using the electrophotographic photoreceptors prepared in Examples 1, 4, 6, 9, and 11 to 26 and Comparative Examples 1, 4, 10, and 11. The results are shown in Table 47 below.
上記表47に示す結果から、本発明の電子写真感光体は地汚れの余裕度が高く、耐摩耗性も高い。
また、電荷ブロッキング層を設けることで、地汚れの余裕度が増す。さらに、保護層を設けることで耐摩耗性が向上する。またさらに両者を組み合わせることで、地汚れの余裕度向上と耐磨耗性向上が両立する。比較例のα−フェニルスチルベン化合物でも、電荷ブロッキング層、保護層を設けることで地汚れの余裕度が増し、耐摩耗性も向上するが、明部電位の上昇が大きい。
From the results shown in Table 47 above, the electrophotographic photosensitive member of the present invention has a high margin of soiling and high wear resistance.
Further, the provision of the charge blocking layer increases the margin of background contamination. Furthermore, wear resistance is improved by providing a protective layer. Furthermore, by combining the two, it is possible to improve both the margin of dirt and the wear resistance. Even in the α-phenylstilbene compound of the comparative example, the provision of the charge blocking layer and the protective layer increases the margin of scumming and improves the wear resistance, but the increase in the bright part potential is large.
本例の結果から本発明に係るα−フェニルスチルベン化合物を用いた電子写真感光体、並びにそれを使用した画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジは従来のα−フェニルスチルベン化合物に比べて明部電位を低減することができ、非常に有用であるといえる。さらに、電荷ブロッキング層や保護層を設けても明部電位の上昇が小さいため、電子写真感光体の長寿命化にも対応可能である。 From the results of this example, the electrophotographic photosensitive member using the α-phenylstilbene compound according to the present invention, the image forming apparatus using the same and the process cartridge for the image forming apparatus are brighter than the conventional α-phenylstilbene compound. The potential can be reduced, which can be said to be very useful. Further, even if a charge blocking layer or a protective layer is provided, the increase in the bright portion potential is small, so that the life of the electrophotographic photosensitive member can be extended.
Claims (13)
該感光層は下記一般式(III)で示されるα−フェニルスチルベン化合物を含有することを特徴とする電子写真感光体。
The photosensitive layer contains an α-phenylstilbene compound represented by the following general formula (III).
該電子写真感光体は、請求項1乃至10のいずれか1項に記載の電子写真感光体であることを特徴とする画像形成装置。 In an image forming apparatus comprising at least a charging unit, an exposure unit, a developing unit, a transfer unit, and an electrophotographic photosensitive member,
The image forming apparatus according to claim 1, wherein the electrophotographic photosensitive member is the electrophotographic photosensitive member according to claim 1 .
前記電子写真感光体は、請求項1乃至10のいずれか1項に記載の電子写真感光体であることを特徴とする画像形成装置用プロセスカートリッジ。 In an image forming apparatus cartridge in which an electrophotographic photosensitive member and at least one means selected from a charging means, an exposure means, a developing means, a transfer means, and a cleaning means are integrated.
The process cartridge for an image forming apparatus, wherein the electrophotographic photosensitive member is the electrophotographic photosensitive member according to any one of claims 1 to 10 .
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008325055A JP5446244B2 (en) | 2008-12-22 | 2008-12-22 | Electrophotographic photosensitive member using α-phenylstilbene compound, image forming apparatus using the same, and process cartridge for image forming apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008325055A JP5446244B2 (en) | 2008-12-22 | 2008-12-22 | Electrophotographic photosensitive member using α-phenylstilbene compound, image forming apparatus using the same, and process cartridge for image forming apparatus |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2010145891A JP2010145891A (en) | 2010-07-01 |
| JP5446244B2 true JP5446244B2 (en) | 2014-03-19 |
Family
ID=42566363
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2008325055A Expired - Fee Related JP5446244B2 (en) | 2008-12-22 | 2008-12-22 | Electrophotographic photosensitive member using α-phenylstilbene compound, image forming apparatus using the same, and process cartridge for image forming apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5446244B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106905169B (en) * | 2017-01-13 | 2019-02-22 | 中山大学 | A kind of vinyl-conjugated triarylamine charge transport material and preparation method thereof |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0396960A (en) * | 1989-09-08 | 1991-04-22 | Konica Corp | Electrophotographic sensitive body |
| JP4610006B2 (en) * | 2005-07-19 | 2011-01-12 | 株式会社リコー | Image forming apparatus and image forming method |
| JP5288100B2 (en) * | 2008-03-17 | 2013-09-11 | 株式会社リコー | α-Phenylstilbene compound and process for producing the same |
-
2008
- 2008-12-22 JP JP2008325055A patent/JP5446244B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2010145891A (en) | 2010-07-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5477683B2 (en) | Electrophotographic photosensitive member, method for producing the same, and image forming apparatus | |
| EP2397907B1 (en) | Electrophotographic photosensitive member, method of manufacturing electrophotographic photosensitive member, process cartridge, and electrophotographic apparatus | |
| JP6842992B2 (en) | Manufacturing method of electrophotographic photosensitive member, electrophotographic apparatus, process cartridge and electrophotographic photosensitive member | |
| JP5505791B2 (en) | Image forming apparatus, process cartridge, and image forming method | |
| JP5477625B2 (en) | Electrophotographic photosensitive member, image forming apparatus, and process cartridge | |
| JP2009186969A (en) | Image forming apparatus, process cartridge, and image forming method | |
| CN102163016B (en) | Electrophotographic photoconductor, image forming method, image forming apparatus, and process cartridge | |
| JP2019035901A (en) | Electrophotographic photosensitive member, and electrophotographic apparatus and process cartridge each including that electrophotographic photosensitive member | |
| CN104035291B (en) | Electrophotographic photoreceptor, process cartridge and image forming device | |
| WO2007037331A1 (en) | Electrophotographic photosensitive body, image-forming device using same and cartridge | |
| CN103329046A (en) | Electrophotographic photoconductor, image forming method, image forming apparatus, and process cartridge | |
| JP6066448B2 (en) | Method for producing electrophotographic photoreceptor and image forming method | |
| JP5585814B2 (en) | Electrophotographic photosensitive member, image forming apparatus, and process cartridge | |
| JP5458848B2 (en) | Electrophotographic photosensitive member, image forming apparatus, and process cartridge | |
| CN101414133B (en) | Electrophotographic photoreceptor containing triamine compound, image forming device having same, triamine compound, and manufacturing method thereof | |
| CN104035293B (en) | Electrophtography photosensor, handle box and imaging device | |
| JP5446244B2 (en) | Electrophotographic photosensitive member using α-phenylstilbene compound, image forming apparatus using the same, and process cartridge for image forming apparatus | |
| JP5737051B2 (en) | Electrophotographic photosensitive member and method for manufacturing the same, image forming method, image forming apparatus, and process cartridge | |
| JP5737052B2 (en) | Electrophotographic photosensitive member and method for manufacturing the same, image forming method, image forming apparatus, and process cartridge | |
| JP7336355B2 (en) | Electrophotographic photoreceptor, electrophotographic apparatus and process cartridge | |
| EP1775637B1 (en) | Phenolic hole transport polymers, imaging member and method of imaging | |
| CN101175713B (en) | Acrylic ester compound and manufacturing intermediate thereof, method for manufacturing acrylic ester compound, and latent electrostatic image bearing member, image forming method, image forming apparatus and photocopying cartridge | |
| EP0295115B1 (en) | Arylamine compounds | |
| JP7353155B2 (en) | Electrophotographic photoreceptors, process cartridges, and electrophotographic devices | |
| JP4133191B2 (en) | Electrophotographic photoreceptor and image forming apparatus using the same |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20111014 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130515 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130611 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130807 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20131203 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131216 |
|
| R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5446244 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |