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JP5468954B2 - Liquid epoxy resin composition and semiconductor device - Google Patents
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本発明は液状エポキシ樹脂組成物とその硬化物によりフリップチップ接続部が補強された半導体装置に関するものである。   The present invention relates to a liquid epoxy resin composition and a semiconductor device in which a flip chip connecting portion is reinforced by a cured product thereof.

小型携帯電子機器の普及につれてLSI装置の小型化が進んでいる。このため、CSP、BGAなどのパッケージが普及してきている。   As small portable electronic devices become widespread, LSI devices are becoming smaller. For this reason, packages such as CSP and BGA have become widespread.

また、これらのCSP、BGAなどのパッケージの実装面積を小さくするためにフリップチップ接続法が採用されている。   Further, a flip chip connection method is employed to reduce the mounting area of the packages such as CSP and BGA.

ただ、フリップチップ接続法で用いられる接続部の半田はバンプ面積が小さくなってきていることから、接続部の補強機能向上が求められている。そこで、接続部の補強機能を有するアンダーフィルとして、液状エポキシ樹脂の硬化物が用いられている(たとえば特許文献1)。
しかしながら、このようなアンダーフィルを使用したパッケージに衝撃が加わった際、樹脂クラックの発生による導通不良が発生するという問題があることから、補強機能と耐樹脂クラック性能の両立が求められている。従来では、樹脂クラックの発生を抑制するため樹脂組成物の弾性率を下げて強靱性を付与する手法が報告されているが、低弾性化により、パッケージへの補強機能が低下してしまうといった問題があった。
However, since the solder of the connecting portion used in the flip chip connecting method has a small bump area, an improvement in the reinforcing function of the connecting portion is required. Then, the hardened | cured material of a liquid epoxy resin is used as an underfill which has the reinforcement function of a connection part (for example, patent document 1).
However, when a shock is applied to a package using such an underfill, there is a problem in that a conduction failure occurs due to the occurrence of a resin crack, and thus both a reinforcing function and a resin crack resistance performance are required. Conventionally, in order to suppress the occurrence of resin cracks, a method of reducing the elastic modulus of the resin composition and imparting toughness has been reported, but the problem that the reinforcement function to the package is reduced due to low elasticity. was there.

特許第3819148号公報Japanese Patent No. 3819148

本発明は、以上のとおりの背景から、従来の問題点を解消して、パッケージへの補強機能の低下を伴わず、耐樹脂クラック性能を向上することのできる新しい液状エポキシ樹脂組成物と、これを用いた硬化物によりフリップチップ接続部を補強した半導体装置を提供することを課題としている。   In view of the background as described above, the present invention provides a new liquid epoxy resin composition capable of solving the conventional problems and improving the resin crack resistance without lowering the reinforcing function of the package, and It is an object of the present invention to provide a semiconductor device in which a flip chip connecting portion is reinforced with a cured product using the above.

本発明の液状エポキシ樹脂組成物は、前記の課題を解決するため、以下のことを特徴としている。   The liquid epoxy resin composition of the present invention is characterized by the following in order to solve the above problems.

第1:(A)常温で液状のエポキシ樹脂、(B)硬化剤、並びに(C)無機充填材を必須成分とし、(A)常温で液状のエポキシ樹脂の配合量が75〜90質量%の範囲内であり、(C)無機充填材がタルクの単体であり、そのタルクの配合量が組成物全体量に対して0.5〜10質量%の範囲内である。 First: (A) epoxy resin that is liquid at normal temperature, (B) curing agent, and (C) inorganic filler as essential components, (A) the blending amount of epoxy resin that is liquid at normal temperature is 75 to 90% by mass in the range, (C) an inorganic filler and has a single talc, the amount of the talc is in the range of 0.5 to 10 mass% relative to the total amount of the composition.

第2:前記タルクの平均粒子径は0.5〜25μmの範囲内である。   Second: The average particle diameter of the talc is in the range of 0.5 to 25 μm.

また本発明は以上の液状エポキシ樹脂組成物の硬化物によってフリップチップ接続部が補強されていることを特徴とする半導体装置を提供する。   The present invention also provides a semiconductor device characterized in that the flip chip connecting portion is reinforced by a cured product of the above liquid epoxy resin composition.

さらには、この際の硬化物の弾性率が0.1GPa以上であることを特徴とする半導体装置を提供する。   Furthermore, the semiconductor device is characterized in that the cured product has an elastic modulus of 0.1 GPa or more.

前記第1の発明の液状エポキシ樹脂によれば、これをもってフリップチップ接続部を補強した半導体装置においては、半導体PKGHに機械的な衝撃が加わった際、フリップチップ接続部分を補強する機能を有し、かつ樹脂クラックの発生を抑えることができる。   According to the liquid epoxy resin of the first invention, in the semiconductor device in which the flip chip connecting portion is reinforced with this, when the mechanical impact is applied to the semiconductor PKGH, the flip chip connecting portion has a function to be reinforced. And generation | occurrence | production of a resin crack can be suppressed.

また、第2の発明によれば、前記効果はより確実に安定して、より顕著なものとして実現される。   Further, according to the second invention, the effect is realized more reliably and more stably.

そして、第3、第4の発明として、以上の効果が体現された半導体装置が実現される。   As the third and fourth inventions, a semiconductor device in which the above effects are embodied is realized.

本発明における液状エポキシ樹脂組成物を構成する樹脂成分としての(A)常温で液状のエポキシ樹脂については、いわゆる「常温」としての、大気圧下での室温18℃前後、目安としての5℃〜28℃の温度範囲において液状の各種のエポキシ樹脂であってよい。   As for the (A) normal temperature liquid epoxy resin as the resin component constituting the liquid epoxy resin composition in the present invention, the room temperature is around 18 ° C. under atmospheric pressure as the so-called “normal temperature”, and 5 ° C. as a guideline. Various epoxy resins which are liquid in a temperature range of 28 ° C. may be used.

室温におけるエポキシ樹脂組成物が液状となれば、市販されている液体のエポキシ樹脂や固体のエポキシ樹脂を適宜併用することができる。エポキシ樹脂の具体例としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビシフェノールS型エポキシ樹脂、ビフェニル骨格を有すビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン環含有エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン骨格を有するジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、フェノーノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、ブロム含有エポキシ樹脂、脂肪族系エポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレート等を挙げることができる。   If the epoxy resin composition at room temperature becomes liquid, a commercially available liquid epoxy resin or solid epoxy resin can be used in combination as appropriate. Specific examples of the epoxy resin include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin having a biphenyl skeleton, naphthalene ring-containing epoxy resin, alicyclic epoxy resin, diester Dicyclopentadiene type epoxy resin having cyclopentadiene skeleton, pheno novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, triphenylmethane type epoxy resin, bromine-containing epoxy resin, aliphatic epoxy resin, triglycidyl isocyanurate, etc. Can do.

これらは1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用して用いてもよい。   These may be used alone or in combination of two or more.

(B)硬化剤についても同様に通常エポキシ樹脂を硬化するものであればよい。たとえば、ジアミノジフェニルメタン、メタフェニレンジアミン等のアミン系硬化剤や、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチル無水ハイミック酸、無水ナジック酸、無水トリメリット酸等の酸無水物硬化剤を挙げることができる。   Similarly, (B) a curing agent may be used as long as it normally cures an epoxy resin. For example, amine curing agents such as diaminodiphenylmethane and metaphenylenediamine, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, methyl hymic anhydride, nadic anhydride Examples thereof include acid anhydride curing agents such as acid and trimellitic anhydride.

(A)常温で液状のエポキシ樹脂と(B)硬化剤については、その配合割合は、液状エポキシ樹脂組成物の全体量に対しての割合として、通常は、
(A):50〜90質量%
(B):5〜30質量%
の範囲内とすることが好ましい。この範囲を外れる場合には、フリップチップ接続部の補強や樹脂クラック発生の抑制の効果を向上させることが難しくなりかねない。
(A) About the epoxy resin and (B) hardening | curing agent which are liquid at normal temperature, the compounding ratio is normally as a ratio with respect to the whole quantity of a liquid epoxy resin composition,
(A): 50 to 90% by mass
(B): 5 to 30% by mass
It is preferable to be within the range. If it is out of this range, it may be difficult to improve the effect of reinforcing the flip chip connecting portion and suppressing the occurrence of resin cracks.

また、本発明では(C)無機充填材を配合するが、この(C)無機充填材としては、少くともタルクを含むことを必須としている。タルクは、含水珪酸マグネシウムを主成分とする鉱石であって、その粉粒体は充填材として各種の分野で広く使用されているものである。本発明の液状エポキシ樹脂組成物においては、このタルクの配合を必須としている。   In the present invention, (C) an inorganic filler is blended, and it is essential that the (C) inorganic filler contains at least talc. Talc is an ore whose main component is hydrous magnesium silicate, and its granular material is widely used as a filler in various fields. In the liquid epoxy resin composition of the present invention, the blending of talc is essential.

本発明の液状エポキシ樹脂組成物の全体量に対してのこのタルクの配合は、0.5〜10質量%の範囲内になるものとする。より好ましくは3〜7質量%の範囲内である。0.5質量%未満の場合には、補強の機能は十分に得られない。一方、10質量%を超える場合には硬化後の樹脂がもろくなり、クラックが発生しやすくなる。   The blend of this talc with respect to the total amount of the liquid epoxy resin composition of the present invention is in the range of 0.5 to 10% by mass. More preferably, it exists in the range of 3-7 mass%. When the amount is less than 0.5% by mass, the reinforcing function cannot be sufficiently obtained. On the other hand, if it exceeds 10% by mass, the cured resin becomes brittle and cracks are likely to occur.

また、配合するタルクの平均粒子径は0.5〜25μmの範囲内であることが好ましい。より望ましくは、3〜20μmの範囲内である。前記のとおりの配合割合にもよるが、一般的に、0.5μm未満の場合には補強機能の向上を図ることが必ずしも容易でなく、25μmを超える場合には樹脂クラックの発生を抑えることが必ずしも容易ではない。   Moreover, it is preferable that the average particle diameter of the talc to mix | blend exists in the range of 0.5-25 micrometers. More desirably, it is in the range of 3 to 20 μm. Although depending on the blending ratio as described above, in general, when the thickness is less than 0.5 μm, it is not always easy to improve the reinforcing function, and when it exceeds 25 μm, the occurrence of resin cracks can be suppressed. Not always easy.

なお、(C)無機充填材成分としては、以上のとおりタルクの使用を必須としつつ、本発明の目的、効果を阻害しない限り、耐熱性などの他性能の向上を図ること等のために、他種のものを併用してもよい。この場合の無機充填材としては、特に制限なく適宜のものを用いる事ができ、その具体例としては、溶融シリカ、結晶シリカ、微粉シリカ、アルミナ、窒化珪素、マグネシアなどが挙げられる。これらは1種単独で用いてもよく、2種以上を併用して用いてもよい。これらの無機充填材の平均粒子径については、一般的に、前記のタルクの場合と同様に0.5〜25μmの範囲内にあることが考慮される。   In addition, as the inorganic filler component (C), the use of talc is essential as described above, so as to improve other performances such as heat resistance, as long as the purpose and effect of the present invention are not impaired, etc. Other types may be used in combination. As the inorganic filler in this case, an appropriate one can be used without particular limitation, and specific examples thereof include fused silica, crystalline silica, finely divided silica, alumina, silicon nitride, magnesia and the like. These may be used alone or in combination of two or more. The average particle diameter of these inorganic fillers is generally considered to be in the range of 0.5 to 25 μm as in the case of the talc.

また、本発明では、必要に応じて硬化促進剤を配合使用してもよい。   Moreover, in this invention, you may mix | blend and use a hardening accelerator as needed.

硬化促進剤としては、2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール等のイミダゾール系硬化促進剤、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリメチルホスフィン等の有機ホスフィン系硬化促進剤、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン7、トリエタノールアミン、ベンジルジメチルアミン等の3級アミン系硬化促進剤等を用いることができる。これらは1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用して用いてもよい。   Examples of the curing accelerator include imidazole curing accelerators such as 2-methylimidazole and 2-phenylimidazole, organic phosphine curing accelerators such as triphenylphosphine, tributylphosphine, and trimethylphosphine, 1,8-diazabicyclo (5,4 , 0) A tertiary amine curing accelerator such as undecene 7, triethanolamine, benzyldimethylamine and the like can be used. These may be used alone or in combination of two or more.

本発明においてはこれら硬化促進剤の配合割合については液状エポキシ樹脂全体量に対して10質量%以下とし、(B)硬化剤成分に対し、1/3〜2/3程度の割合とすることが好ましい。   In the present invention, the blending ratio of these curing accelerators is 10% by mass or less with respect to the total amount of the liquid epoxy resin, and the ratio is about 1/3 to 2/3 with respect to the (B) curing agent component. preferable.

本発明の液状エポキシ樹脂組成物については従来公知の方法をはじめとして、様々な方法、手段で調整することができる。   The liquid epoxy resin composition of the present invention can be adjusted by various methods and means including conventionally known methods.

たとえば、常温で液状のエポキシ樹脂、硬化剤、およびその他の所要の添加剤を同時または別々に配合し、必要に応じて熱処理や冷却処理を行いながら、攪拌、溶解、混合、分散を行う。ついでこの混合物に無機充填材を加え、必要に応じて加熱処理や冷却処理を行いながら、再度、攪拌、混合を行うことにより、本発明の樹脂組成物を得ることができる。   For example, an epoxy resin that is liquid at normal temperature, a curing agent, and other required additives are blended simultaneously or separately, and stirring, dissolution, mixing, and dispersion are performed while performing heat treatment and cooling treatment as necessary. Subsequently, an inorganic filler is added to this mixture, and the resin composition of the present invention can be obtained by stirring and mixing again while performing heat treatment or cooling treatment as necessary.

また、フリップチップのアンダーフィルとしての使用についてはこれまでと同様にして行うことができる。これによって本発明の半導体装置が実現されることになる。   Further, the flip chip can be used as an underfill in the same manner as before. As a result, the semiconductor device of the present invention is realized.

本発明の液状エポキシ樹脂の硬化物は、その弾性率が0.1GPa以上であることが好ましい。0.1GPa未満では補強機能が十分に得られにくいからである。   The cured product of the liquid epoxy resin of the present invention preferably has an elastic modulus of 0.1 GPa or more. This is because if it is less than 0.1 GPa, it is difficult to obtain a sufficient reinforcing function.

そこで以下に実施例を示し、さらに詳しく説明する。もちろん、以下の例によって本発明が限定されることはない。   Therefore, an example will be shown below and will be described in more detail. Of course, the present invention is not limited by the following examples.

表1には、配合成分とその配合割合(質量%)とを示した。この表1における配合成分は次のものを示している。   Table 1 shows the blending components and the blending ratio (mass%). The blending components in Table 1 are as follows.

・ビスフェノールA型エポキシ樹脂
東都化成YD8125(エポキシ当量170)
・硬化剤
味の素PN−H(エポキシアダクト・アミン系)
・無機充填材:タルク
日本タルクL−1(平均粒子径0.5μm、5μm、25μm)
<実施例1〜5>
<比較例1〜3>
表1に示した配合割合で各成分を混合、攪拌して、液状エポキシ樹脂組成物を調製した。得られた液状エポキシ樹脂組成物について、以下のとおりの試験を行った。
<落下衝撃試験>
半導体(チップ)として(チップサイズ0.75mm厚、14mm角)を用い、回路基板として、FR−4の回路基板を用いた。半導体チップを回路基板に実装した後、樹脂組成物を半導体チップと回路基板との隙間に注入充填し、120℃、1時間で硬化させることにより半導体装置を製造した。
・ Bisphenol A type epoxy resin Toto Kasei YD8125 (epoxy equivalent 170)
・ Curing agent Ajinomoto PN-H (epoxy adduct, amine)
Inorganic filler: Talc Nippon Talc L-1 (average particle size 0.5 μm, 5 μm, 25 μm)
<Examples 1-5>
<Comparative Examples 1-3>
Each component was mixed and stirred at the blending ratio shown in Table 1 to prepare a liquid epoxy resin composition. About the obtained liquid epoxy resin composition, the following tests were done.
<Drop impact test>
A semiconductor substrate (chip) (chip size 0.75 mm thickness, 14 mm square) was used, and an FR-4 circuit board was used as the circuit board. After mounting the semiconductor chip on the circuit board, the resin composition was injected and filled in the gap between the semiconductor chip and the circuit board and cured at 120 ° C. for 1 hour to manufacture a semiconductor device.

硬化後の半導体装置について落球による半導体装置の動作測定を行った。   For the cured semiconductor device, the operation of the semiconductor device was measured using a falling ball.

導通不良までのNG回数を評価した。その結果も表1に示した。NG回数が25未満の場合には半導体装置は実用性のないものと評価される。   The number of NG times until poor conduction was evaluated. The results are also shown in Table 1. When the number of NG is less than 25, the semiconductor device is evaluated as having no practicality.

また、表1には、硬化後の樹脂組成物の弾性率の測定結果も示した。   Table 1 also shows the measurement results of the elastic modulus of the cured resin composition.

Figure 0005468954
Figure 0005468954

<評価結果>
表1に示した実施例1〜5、並びに比較例1〜3の落下衝撃試験の結果より明らかなように、本発明の実施例によればNG回数はいずれも30以上であり、特に実施例2においては70にもおよび、比較例に比して半導体パッケージの補強と耐樹脂クラック性能の向上とが両立して図られることがわかる。なお、実施例の硬化物の弾性率はいずれも0.1GPa以上であった。
<Evaluation results>
As is clear from the results of the drop impact tests of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 3 shown in Table 1, according to the examples of the present invention, the number of NGs is 30 or more. In FIG. 2, it can be seen that 70 is achieved, and both the reinforcement of the semiconductor package and the improvement of the resin crack resistance performance can be achieved in comparison with the comparative example. In addition, the elasticity modulus of the hardened | cured material of an Example was all 0.1 GPa or more.

Claims (4)

(A)常温で液状のエポキシ樹脂、(B)硬化剤、並びに(C)無機充填材を必須成分とするエポキシ樹脂組成物であって、(A)常温で液状のエポキシ樹脂の配合量が75〜90質量%の範囲内であり、(C)無機充填材がタルクの単体であり、そのタルクの配合量が組成物全体量に対して0.5〜10質量%の範囲内であることを特徴とする液状エポキシ樹脂組成物。 (A) An epoxy resin composition containing, as essential components, an epoxy resin that is liquid at normal temperature, (B) a curing agent, and (C) an inorganic filler, (A) a blending amount of the epoxy resin that is liquid at normal temperature is 75 in the range of 90 mass%, the (C) inorganic filler is a single talc, the amount of the talc is in the range of 0.5 to 10 mass% relative to the total amount of the composition A liquid epoxy resin composition. タルクの平均粒子径は0.5〜25μmの範囲内であることを特徴とする請求項1に記載の液状エポキシ樹脂組成物。   The liquid epoxy resin composition according to claim 1, wherein the average particle diameter of talc is in the range of 0.5 to 25 µm. 請求項1または2に記載の液状エポキシ樹脂組成物の硬化物によってフリップチップ接続部が補強されていることを特徴とする半導体装置。   3. A semiconductor device, wherein a flip chip connecting portion is reinforced by a cured product of the liquid epoxy resin composition according to claim 1. 硬化物の弾性率が0.1GPa以上であることを特徴とする請求項3に記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 3, wherein the cured product has an elastic modulus of 0.1 GPa or more.
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