JP5485832B2 - Method for producing photocatalyst dispersion and method for producing photocatalyst - Google Patents
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Description
本発明は、光触媒分散液の製造方法及び光触媒の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a photocatalyst dispersion and a method for producing a photocatalyst.
光触媒分散液は、光が照射されることにより触媒作用を発揮する光触媒が分散媒に分散されたものであり、該光触媒分散液としては、例えば、紫外光よりエネルギーの小さい可視光の照射によっても触媒作用を発揮できる粒子状の酸化タングステンと、紫外光の照射により触媒作用を発揮する粒子状の酸化チタンと、分散媒とを含むものが知られている。 The photocatalyst dispersion liquid is a dispersion of a photocatalyst that exhibits a catalytic action when irradiated with light. The photocatalyst dispersion liquid may be, for example, irradiated with visible light having lower energy than ultraviolet light. There are known ones that include particulate tungsten oxide capable of exhibiting catalytic action, particulate titanium oxide that exhibits catalytic action when irradiated with ultraviolet light, and a dispersion medium.
従来、この種の光触媒分散液の製造方法としては、様々なものが知られており、具体的には、例えば、酸化タングステン粒子と、酸化チタン粒子と、水含有分散媒とを混合して混合液を調製し、その後、該混合液を100〜160℃で熱処理する方法が知られている(特許文献1)。 Conventionally, various methods for producing this type of photocatalyst dispersion have been known. Specifically, for example, tungsten oxide particles, titanium oxide particles, and a water-containing dispersion medium are mixed and mixed. A method of preparing a liquid and then heat-treating the mixed liquid at 100 to 160 ° C. is known (Patent Document 1).
しかしながら、斯かる光触媒分散液の製造方法においては、酸化タングステン粒子及び酸化チタン粒子と水含有分散媒とが比較的短い時間で固液分離し得ることから、得られた光触媒分散液の経時安定性が十分なものではないという問題がある。また、製造後、分散液の保管に伴い、酸化タングステン粒子及び酸化チタン粒子間の凝集などにより、光触媒の触媒性能が経時的に低下するという問題がある。 However, in such a method for producing a photocatalyst dispersion liquid, the tungsten oxide particles and the titanium oxide particles and the water-containing dispersion medium can be solid-liquid separated in a relatively short time. There is a problem that is not enough. In addition, there is a problem that the catalyst performance of the photocatalyst deteriorates with time due to aggregation between the tungsten oxide particles and the titanium oxide particles after the production and storage of the dispersion.
本発明は、上記問題点等に鑑み、経時安定性に優れ光触媒の触媒性能の経時的な低下が抑制された光触媒分散液を製造できる光触媒分散液の製造方法、及び、該光触媒分散液から光触媒を得る光触媒の製造方法を提供することを課題とする。 In view of the above-mentioned problems, the present invention provides a photocatalyst dispersion manufacturing method capable of manufacturing a photocatalyst dispersion excellent in stability over time and in which deterioration of the catalyst performance of the photocatalyst is suppressed over time, and a photocatalyst from the photocatalyst dispersion. It is an object to provide a method for producing a photocatalyst for obtaining
上記課題を解決すべく、本発明に係る光触媒分散液の製造方法は、粒子状の酸化タングステンと粒子状の酸化チタンと水含有分散媒とを混合して混合液を調製する混合工程と、前記酸化チタンの等電点より0.5低いpH境界点以上のpHに前記混合液を調整するpH調整工程と、pH調製工程を経た混合液に粉砕処理を施しつつ該混合液のpHを前記pH境界点未満に低下させる粉砕処理工程とを実施することにより、粒子状の酸化タングステンと粒子状の酸化チタンと水含有分散媒とを含む光触媒分散液を製造することを特徴とする。 In order to solve the above-mentioned problems, a method for producing a photocatalyst dispersion according to the present invention comprises mixing a particulate tungsten oxide, particulate titanium oxide, and a water-containing dispersion medium to prepare a mixed solution, A pH adjusting step for adjusting the mixed solution to a pH not lower than the pH boundary point 0.5 lower than the isoelectric point of titanium oxide, and the pH of the mixed solution is adjusted to the pH while subjecting the mixed solution subjected to the pH adjusting step to pulverization treatment. A photocatalyst dispersion liquid containing particulate tungsten oxide, particulate titanium oxide, and a water-containing dispersion medium is produced by performing a pulverization treatment step that lowers below the boundary point.
本発明に係る光触媒の製造方法は、前記光触媒分散液の製造方法により製造した光触媒分散液から水含有分散媒を除去することを特徴とする。 The method for producing a photocatalyst according to the present invention is characterized in that the water-containing dispersion medium is removed from the photocatalyst dispersion produced by the method for producing a photocatalyst dispersion.
本発明に係る光触媒分散液の製造方法は、経時安定性に優れ光触媒の触媒性能の経時的な低下が抑制された光触媒分散液を製造できるという効果を奏する。 The method for producing a photocatalyst dispersion according to the present invention produces an effect that it is possible to produce a photocatalyst dispersion excellent in temporal stability and in which a decrease in the catalyst performance of the photocatalyst over time is suppressed.
以下、本発明に係る光触媒分散液の製造方法の一実施形態について説明する。 Hereinafter, an embodiment of a method for producing a photocatalyst dispersion according to the present invention will be described.
本実施形態の光触媒分散液の製造方法は、粒子状の酸化タングステンと粒子状の酸化チタンと水含有分散媒とを混合して混合液を調製する混合工程と、前記酸化チタンの等電点より0.5低いpH境界点以上のpHに前記混合液を調整するpH調整工程と、pH調製工程を経た混合液に粉砕処理を施しつつ該混合液のpHを前記pH境界点未満に低下させる粉砕処理工程とを実施することにより、粒子状の酸化タングステンと粒子状の酸化チタンと水含有分散媒とを含む光触媒分散液を製造するものである。 The manufacturing method of the photocatalyst dispersion liquid of the present embodiment includes a mixing step of preparing a mixed liquid by mixing particulate tungsten oxide, particulate titanium oxide, and a water-containing dispersion medium, and an isoelectric point of the titanium oxide. 0.5 pH adjustment step for adjusting the mixed solution to a pH not lower than 0.5 pH boundary point, and pulverization for reducing the pH of the mixed solution to less than the pH boundary point while subjecting the mixed solution subjected to the pH adjustment step to pulverization treatment By carrying out the treatment step, a photocatalyst dispersion liquid containing particulate tungsten oxide, particulate titanium oxide and a water-containing dispersion medium is produced.
前記混合工程においては、具体的には、例えば、酸化タングステン粒子と酸化チタン粒子と水含有分散媒としての水とを撹拌しつつ常温にて混合して混合液を調製することができる。 In the mixing step, specifically, for example, a mixed liquid can be prepared by mixing tungsten oxide particles, titanium oxide particles, and water as a water-containing dispersion medium at room temperature while stirring.
前記酸化タングステンは、化学式WO3で表される結晶を含有するものである。該酸化タングステンの結晶構造としては、単斜晶系が好ましい。 The tungsten oxide contains crystals represented by the chemical formula WO 3 . The crystal structure of the tungsten oxide is preferably a monoclinic system.
前記酸化タングステンは、例えば、金属タングステンを直接酸化することにより、又は、パラタングステン酸アンモニウム(APT)等のタングステン化合物を空気中で熱分解することにより、酸化タングステン粒子の態様で得ることができる。
なお、酸化タングステン粒子としては、市販されているものを用いることができる。
The tungsten oxide can be obtained in the form of tungsten oxide particles, for example, by directly oxidizing metallic tungsten or by thermally decomposing a tungsten compound such as ammonium paratungstate (APT) in the air.
In addition, as a tungsten oxide particle, what is marketed can be used.
前記酸化タングステン粒子の平均一次粒子径は、通常、10nm〜90nmであり、光照射による光触媒の触媒作用がより高まるという点で、20nm〜60nmであることが好ましい。また、前記酸化タングステン粒子の一次粒子の形状としては、特に限定されるものではなく、具体的には例えば、球状、板状、針状などが挙げられる。 The average primary particle diameter of the tungsten oxide particles is usually 10 nm to 90 nm, and preferably 20 nm to 60 nm in that the catalytic action of the photocatalyst by light irradiation is further increased. Moreover, the shape of the primary particles of the tungsten oxide particles is not particularly limited, and specific examples include a spherical shape, a plate shape, and a needle shape.
前記酸化タングステンとしては、酸化タングステン以外に化合物が担持されていない酸化タングステン、タングステン以外の金属元素が担持されてなる金属担持酸化タングステンなどを用いることができる。
前記金属担持酸化タングステンとしては、銅が担持されてなる銅担持酸化タングステン、白金が担持されてなる白金担持酸化タングステン、金が担持されてなる金担持酸化タングステン、パラジウムが担持されてなるパラジウム担持酸化タングステンなどを用いることができる。なかでも、より光触媒が光照射による触媒作用に優れるという点で、白金担持酸化タングステンが好ましく、また、比較的安価でありながら光触媒が光照射による触媒作用に優れるという点で、銅担持酸化タングステンが好ましい。
As the tungsten oxide, tungsten oxide in which a compound is not supported other than tungsten oxide, metal-supported tungsten oxide in which a metal element other than tungsten is supported, and the like can be used.
As the metal-supported tungsten oxide, copper-supported tungsten oxide on which copper is supported, platinum-supported tungsten oxide on which platinum is supported, gold-supported tungsten oxide on which gold is supported, palladium-supported oxide on which palladium is supported Tungsten or the like can be used. Among these, platinum-supported tungsten oxide is preferable in that the photocatalyst is superior in catalytic action by light irradiation, and copper-supported tungsten oxide is preferable in that the photocatalyst is excellent in catalytic action by light irradiation while being relatively inexpensive. preferable.
前記銅担持酸化タングステンにおける銅の含有量は、特に限定されるものではないが、通常、0.0001〜3重量%である。 The copper content in the copper-supported tungsten oxide is not particularly limited, but is usually 0.0001 to 3% by weight.
前記銅担持酸化タングステンは、例えば、酸化タングステン粒子に硫酸銅や硝酸銅などの銅化合物の水溶液又はエタノール溶液を加えて混合し、水やエタノールを揮発させてから、焼成することにより、銅担持酸化タングステン粒子の態様で得ることができる。
なお、該銅担持酸化タングステン粒子などの酸化タングステン粒子としては、市販されているものを用いることができる。
The copper-supported tungsten oxide is, for example, added to a tungsten oxide particle by adding an aqueous solution or an ethanol solution of a copper compound such as copper sulfate or copper nitrate, volatilizing water or ethanol, and then firing the copper-supported oxide. It can be obtained in the form of tungsten particles.
In addition, what is marketed can be used as tungsten oxide particles, such as this copper carrying | support tungsten oxide particle.
前記酸化チタンは、化学式TiO2で表される結晶を含有するものである。
前記酸化チタンの結晶の型としては、アナターゼ型、ルチル型、ブルッカイト型が挙げられる。なかでも酸化チタンの結晶の型としては、光照射による触媒作用に優れているという点で、アナターゼ型が好ましい。
The titanium oxide contains crystals represented by the chemical formula TiO 2 .
Examples of the crystal form of the titanium oxide include an anatase type, a rutile type, and a brookite type. Among these, as the crystal type of titanium oxide, anatase type is preferable because it is excellent in catalytic action by light irradiation.
前記酸化チタンは、例えば、オキシ硫酸チタン、硫酸チタン、オキシ塩化チタン、塩化チタンなどのチタン化合物の水溶液と、アンモニアやアミンなどの塩基とを反応させて得た生成物を焼成することにより酸化チタン粒子の態様で得ることができる。
なお、酸化チタン粒子としては、市販されているものを用いることができる。
The titanium oxide is obtained by, for example, baking a product obtained by reacting an aqueous solution of a titanium compound such as titanium oxysulfate, titanium sulfate, titanium oxychloride, or titanium chloride with a base such as ammonia or amine. It can be obtained in the form of particles.
In addition, as a titanium oxide particle, what is marketed can be used.
前記酸化チタンとしては、酸素又はチタン以外の元素がドープ処理されたドープ処理酸化チタン、ドープ処理されていない非ドープ処理酸化チタン等が挙げられる。また、前記酸化チタンは、酸化チタン以外の化合物が担持されてなるものであってもよい。 Examples of the titanium oxide include doped titanium oxide doped with oxygen or an element other than titanium, undoped titanium oxide that has not been doped. The titanium oxide may be one in which a compound other than titanium oxide is supported.
酸素又はチタン以外の元素がドープされたドープ処理酸化チタンは、酸素又はチタン以外の化合物がドープされることにより波長400nm以上の可視光でも触媒作用を発揮し得るものであり、該酸化チタンとしては、例えば、窒素ドープ酸化チタン、硫黄ドープ酸化チタンなどが挙げられる。
ドープ処理されていない非ドープ処理酸化チタンは、波長400nm以上の可視光では触媒作用を発揮しないものでありながら、安価でありつつ、紫外光の照射によって有機性環境汚染物質を二酸化炭素にまで分解する性能を前記光触媒に付与し得るという点で好ましい。即ち、前記酸化チタンとしては、ドープ処理されていない非ドープ酸化チタンであっても好適に用いることができる。
Doped titanium oxide doped with an element other than oxygen or titanium can exhibit a catalytic action even when visible light having a wavelength of 400 nm or more is doped with a compound other than oxygen or titanium. Examples thereof include nitrogen-doped titanium oxide and sulfur-doped titanium oxide.
Undoped titanium dioxide that has not been doped does not exhibit a catalytic action with visible light having a wavelength of 400 nm or more, but is inexpensive and decomposes organic environmental pollutants into carbon dioxide by irradiation with ultraviolet light. It is preferable in that it can impart the performance to the photocatalyst. That is, as the titanium oxide, even undoped titanium oxide that has not been doped can be suitably used.
前記窒素ドープ酸化チタンは、例えば、窒酸化チタン、酸化チタン及び金属チタンのうち少なくとも1種をターゲット材料とし、この材料に対し窒素ガスを含む雰囲気中で蒸着又はイオンプレーティングした後、アンモニアガスを含む雰囲気中で400℃以上700℃以下の温度で熱処理すること、又は、酸化チタン又は含水酸化チタンを、アンモニアガスを含む雰囲気、窒素ガスを含む雰囲気、もしくは窒素ガス及び水素ガスの混合雰囲気中で熱処理すること等により調製することができる。 The nitrogen-doped titanium oxide is, for example, at least one of titanium nitride oxide, titanium oxide, and metal titanium as a target material. After vapor deposition or ion plating of this material in an atmosphere containing nitrogen gas, ammonia gas is used. Heat treatment at a temperature of 400 ° C. or higher and 700 ° C. or lower in an atmosphere including the atmosphere, or an atmosphere containing ammonia gas, an atmosphere containing nitrogen gas, or a mixed atmosphere of nitrogen gas and hydrogen gas containing titanium oxide or hydrous titanium oxide. It can be prepared by heat treatment or the like.
前記酸化チタン粒子の平均一次粒子径は、通常、5nm〜50nmであり、光照射による触媒作用がより高まるという点で、5nm〜40nmであることが好ましい。また、前記酸化チタン粒子の一次粒子の形状としては、特に限定されるものではなく、具体的には例えば、球状、板状、針状などが挙げられる。 The average primary particle diameter of the titanium oxide particles is usually 5 nm to 50 nm, and is preferably 5 nm to 40 nm in that the catalytic action by light irradiation is further enhanced. Moreover, the shape of the primary particles of the titanium oxide particles is not particularly limited, and specific examples include a spherical shape, a plate shape, and a needle shape.
前記酸化タングステンと前記酸化チタンとの重量比は、酸化タングステン:酸化チタン=3:7〜9:1の重量比であることが好ましく、6:4〜9:1の重量比であることがより好ましく、6:4〜8:2の重量比であることがさらに好ましい。斯かる重量比であることにより、可視光が照射される条件下であっても、有機性環境汚染物質を二酸化炭素にまで分解する光触媒の性能がより高まり、しかも光触媒分散液の経時安定性がより高まり得るという利点がある。 The weight ratio of the tungsten oxide to the titanium oxide is preferably a weight ratio of tungsten oxide: titanium oxide = 3: 7 to 9: 1, more preferably a weight ratio of 6: 4 to 9: 1. Preferably, the weight ratio is 6: 4 to 8: 2. By such a weight ratio, the performance of the photocatalyst for decomposing organic environmental pollutants to carbon dioxide is enhanced even under the condition of being irradiated with visible light, and the stability over time of the photocatalyst dispersion is improved. There is an advantage that it can be increased.
前記水含有分散媒は、水を含有する液状の分散媒である。前記水含有分散媒としては、水を含有するものであれば、特に限定されず、例えば、水と有機溶媒とを含む水溶液、又は、水等を用いることができる。有機溶媒としては、メタノール、エタノール、2−プロパノールなどのアルコール類、ジメチルケトンなどのケトン類等を用いることができる。なかでも、水含有分散媒としては、取り扱いやすいという点で水が好ましい。
なお、前記水含有分散媒には、粒子の分散安定性を高めるべく、必要に応じて適宜、適量の分散剤等を添加することができるが、光触媒の表面に残存した分散剤により光触媒の性能が低下し得るという点で、水含有分散媒に分散剤が含まれていないことが好ましい。
The water-containing dispersion medium is a liquid dispersion medium containing water. The water-containing dispersion medium is not particularly limited as long as it contains water. For example, an aqueous solution containing water and an organic solvent, water, or the like can be used. As the organic solvent, alcohols such as methanol, ethanol and 2-propanol, ketones such as dimethyl ketone, and the like can be used. Especially, as a water containing dispersion medium, water is preferable at the point that it is easy to handle.
In addition, an appropriate amount of a dispersant can be appropriately added to the water-containing dispersion medium as necessary in order to increase the dispersion stability of the particles. However, the performance of the photocatalyst is improved by the dispersant remaining on the surface of the photocatalyst. It is preferable that the water-containing dispersion medium does not contain a dispersant in that it can be reduced.
前記混合工程においては、例えば、酸化タングステン粒子と酸化チタン粒子とを水に入れて撹拌することにより混合液を調製することができる。また、例えば、酸化タングステン粒子を水に入れて撹拌したものと、酸化チタン粒子を水に入れて撹拌したものとを撹拌しつつ混合して混合液を調製することができる。また、例えば、酸化タングステン粒子又は酸化チタン粒子のいずれか一方を水に入れて撹拌したものに、他方の粒子を入れてさらに撹拌することにより混合液を調製することができる。
前記混合工程においては、具体的には、例えば、ホモジナイザーにより常温で撹拌を行うことができる。
また、前記混合工程においては、必要に応じて、混合液に含まれる各粒子の二次粒子をより小さいものにする粉砕処理(後述)を混合液に対して施すことができる。
In the mixing step, for example, a mixed liquid can be prepared by stirring tungsten oxide particles and titanium oxide particles in water. Further, for example, a mixture obtained by mixing tungsten oxide particles in water and stirring the titanium oxide particles in water and mixing can be prepared. In addition, for example, a mixed liquid can be prepared by adding one particle of tungsten oxide particles or titanium oxide particles in water and stirring the mixture, and then stirring the other particle.
In the mixing step, specifically, for example, stirring can be performed at room temperature using a homogenizer.
Moreover, in the said mixing process, the grinding | pulverization process (after-mentioned) which makes the secondary particle of each particle contained in a liquid mixture smaller can be performed with respect to a liquid mixture as needed.
次に、前記pH調整工程においては、前記酸化チタンの等電点より0.5低いpH境界点を設定して、該pH境界点以上のpHに前記混合液のpHを調整する。 Next, in the pH adjustment step, a pH boundary point lower than the isoelectric point of the titanium oxide is set, and the pH of the mixed solution is adjusted to a pH equal to or higher than the pH boundary point.
前記酸化チタンの等電点は、以下のようにして求めた値である。
即ち、酸化チタンの等電点を求めるためには、まず、粒子状の酸化チタンが10重量%となるように900gの純水(JIS K0557「用水・排水の試験に用いる水」 A2クラス)に100gの酸化チタンを加え、ホモジナイザー(回転数5000rpm)で分散させつつ、60重量%硝酸水溶液の添加によりpH2.5に調整し、酸化チタンスラリーを調製する。そして、該酸化チタンスラリーを用いて、少なくともpH6及びpH8における酸化チタンのゼータ電位を25℃において求め、該ゼータ電位を表面電位とする。
詳しくは、ゼータ電位の測定は、1重量%濃度若しくは0.1重量%濃度の塩酸水溶液、又は、1重量%濃度若しくは0.1重量%濃度の水酸化ナトリウム水溶液を必要最少量だけ上記純水に加えることによってpH6又はpH8に調整した液に、下記の電気泳動光散乱測定が可能な酸化チタン濃度になるまで上記酸化チタンスラリーを添加した希釈液を用いて行う。該希釈液に対しては、ゼータ電位測定装置(大塚電子社製 機器名「ELS6000」)を用いて電気泳動光散乱測定を行い、該電気泳動光散乱測定により求めた電気移動度より、Smoluchowskiの式を用いてゼータ電位を算出する。
電気移動度を求める際には、溶媒の屈折率として1.3328を用い、ゼータ電位を算出する際には、溶媒の粘度として0.8878(cP)を用い、溶媒の誘電率として78.3を用いる。
なお、pH6における表面電荷の測定においては、pH6±0.3の範囲の1点を選択し、pH8における表面電荷の測定においては、pH8±0.3の範囲の1点を選択し、小数点以下第2位の値まで記録する。pHの測定には、ガラス電極pH計を用いる。また、酸化チタンにおいては、通常、表面電荷がpH6において正を示し、pH8において負を示す。
次に、横軸がpH値、縦軸がゼータ電位の値であるグラフを作成し、測定した2点の値を結ぶ直線を引き、表面電荷(ゼータ電位)が0になるpHの値(小数点以下第2位まで求める)を等電点とする。なお、表面電荷がpH6及びpH8においていずれも負になる場合は、それぞれpH5及びpH7における表面電荷に置き換えて同様にして等電点を求める。
The isoelectric point of the titanium oxide is a value determined as follows.
That is, in order to obtain the isoelectric point of titanium oxide, first, 900 g of pure water (JIS K0557 “Water used for water and wastewater test” A2 class) so that the particulate titanium oxide becomes 10% by weight. While adding 100 g of titanium oxide and dispersing with a homogenizer (rotation speed: 5000 rpm), the pH is adjusted to 2.5 by adding a 60 wt% nitric acid aqueous solution to prepare a titanium oxide slurry. Then, using the titanium oxide slurry, the zeta potential of titanium oxide at
Specifically, the zeta potential is measured by using a 1% by weight or 0.1% by weight hydrochloric acid aqueous solution or a 1% by weight or 0.1% by weight sodium hydroxide aqueous solution in the above-mentioned pure water. The solution is adjusted to
When calculating the electric mobility, 1.3328 is used as the refractive index of the solvent, and when calculating the zeta potential, 0.8878 (cP) is used as the viscosity of the solvent, and 78.3 is used as the dielectric constant of the solvent. Is used.
In the measurement of the surface charge at
Next, a graph in which the horizontal axis represents the pH value and the vertical axis represents the zeta potential value is drawn, a straight line connecting the two measured values is drawn, and the pH value at which the surface charge (zeta potential) becomes zero (decimal point) The second point is obtained as the isoelectric point. If the surface charges are both negative at
前記pH境界点は、以下のようにして求めた値である。
即ち、求めた等電点の小数点以下第2位を四捨五入し、小数点以下第1位までの等電点を求め、この等電点より0.5低い値を前記pH境界点とする。
なお、2種以上の酸化チタンを用いて光触媒分散液を製造する場合、その光触媒分散液における酸化チタンの混合比と同じ混合比の混合酸化チタンにおいて、上記と同様にして等電点、及びpH境界点を求める。
The pH boundary point is a value determined as follows.
That is, the second decimal place of the obtained isoelectric point is rounded off to obtain an isoelectric point up to the first decimal place, and a value 0.5 lower than this isoelectric point is set as the pH boundary point.
In the case of producing a photocatalyst dispersion using two or more kinds of titanium oxide, the isoelectric point and pH in the same manner as above in the mixed titanium oxide having the same mixing ratio as the mixing ratio of titanium oxide in the photocatalyst dispersion. Find the boundary point.
前記pH調整工程においては、混合液のpHをアルカリ剤又は酸によって調整することができる。
前記アルカリ剤としては、具体的には、例えば、アンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を用いることができる。なかでも、製造された光触媒分散液に残存しにくいという点で、アルカリ剤としてはアンモニアが好ましい。
また、前記アルカリ剤としては、混合液のpHを高くできるアルカリ化無機粉体を用いることができる。該アルカリ化無機粉体としては、ゼオライト、アパタイト等を用いることができる。
一方、前記酸としては、塩酸、硫酸、硝酸等を用いることができる。
なお、前記pH調整工程においては、前記混合液のpHが前記pH境界点以上のpHであれば、必ずしもアルカリ剤等を用いる必要はない。
In the pH adjusting step, the pH of the mixed solution can be adjusted with an alkali agent or an acid.
Specific examples of the alkali agent include ammonia, sodium hydroxide, potassium hydroxide, and the like. Among these, ammonia is preferable as the alkali agent in that it hardly remains in the produced photocatalyst dispersion.
Moreover, as the alkali agent, alkalized inorganic powder capable of increasing the pH of the mixed solution can be used. As the alkalinized inorganic powder, zeolite, apatite or the like can be used.
On the other hand, hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid and the like can be used as the acid.
In the pH adjusting step, it is not always necessary to use an alkaline agent or the like as long as the pH of the mixed solution is a pH that is equal to or higher than the pH boundary point.
前記pH調整工程においては、混合液を撹拌しながらpHを調整することができる。また、温度は特に限定されず、具体的には、例えば、回転数1000〜10000rpmのホモジナイザーで混合液を撹拌しながら常温にてpHを調整することができる。 In the pH adjusting step, the pH can be adjusted while stirring the mixed solution. Moreover, temperature is not specifically limited, Specifically, pH can be adjusted at normal temperature, for example, stirring a liquid mixture with the homogenizer of rotation speed 1000-10000rpm.
前記pH調整工程においては、好ましくは、混合液のpHを前記pH境界点以上且つ前記等電点以下に調整する。混合液のpHを前記pH境界点以上且つ前記等電点以下に調整することにより、製造された光触媒分散液の経時安定性がより優れたものになり得るという利点がある。 In the pH adjustment step, preferably, the pH of the mixed solution is adjusted to be not less than the pH boundary point and not more than the isoelectric point. By adjusting the pH of the mixed solution to be not less than the pH boundary point and not more than the isoelectric point, there is an advantage that the manufactured photocatalyst dispersion liquid can have more excellent temporal stability.
次に、前記粉砕処理工程においては、pH調製工程を経た混合液に粉砕処理を施しつつ該混合液のpHを前記pH境界点未満に低下させる。 Next, in the pulverization step, the pH of the mixed solution is lowered below the pH boundary point while pulverizing the mixed solution that has undergone the pH adjustment step.
前記粉砕処理工程における粉砕処理は、前記酸化タングステンの粒子と酸化チタンの粒子とをより小さい粒子にするため、即ち、前記酸化タングステン及び前記酸化チタンの二次粒子をより小さい二次粒子にするために行うものである。 The pulverization process in the pulverization step is performed to make the tungsten oxide particles and titanium oxide particles smaller particles, that is, to make the tungsten oxide and titanium oxide secondary particles smaller secondary particles. To do.
前記酸化チタンの等電点は、酸化チタンの結晶型の違いなどにより様々な値になり得るが、通常、5〜7程度である。また、前記酸化タングステンの等電点は、同様に様々な値になり得るが、通常、1〜2程度である。
前記混合液のpHが酸化チタンの等電点より高いと、前記酸化タングステンの粒子及び酸化チタンの粒子の両方の表面電荷が負になり、酸化チタン及び酸化タングステンの各粒子は、互いに電気的に反発すると考えられる。
一方、前記混合液のpHが酸化チタンの等電点より低く酸化タングステンの等電点より高いと、酸化タングステンの粒子の表面電荷が負になり、酸化チタンの粒子の表面電荷が正になる。従って、酸化チタン及び酸化タングステンの各粒子は、互いに電気的に引き合い凝集するとも考えられる。
また、前記混合液のpHが酸化チタンの等電点付近であると、酸化チタンの粒子の表面電荷の絶対値が比較的小さく、酸化チタンの粒子の間にはたらく電気的反発力が比較的小さいものとなり、酸化チタンの粒子同士で凝集するとも考えられる。
The isoelectric point of the titanium oxide can take various values depending on the difference in the crystal type of the titanium oxide, but is usually about 5 to 7. Further, the isoelectric point of the tungsten oxide can take various values as well, but is usually about 1-2.
When the pH of the mixed solution is higher than the isoelectric point of titanium oxide, the surface charges of both the tungsten oxide particles and the titanium oxide particles become negative, and the titanium oxide and tungsten oxide particles are electrically connected to each other. It is thought to repel.
On the other hand, when the pH of the mixed solution is lower than the isoelectric point of titanium oxide and higher than the isoelectric point of tungsten oxide, the surface charge of the tungsten oxide particles becomes negative and the surface charge of the titanium oxide particles becomes positive. Accordingly, it is considered that the particles of titanium oxide and tungsten oxide are electrically attracted to each other and aggregate.
Further, when the pH of the mixed solution is near the isoelectric point of titanium oxide, the absolute value of the surface charge of the titanium oxide particles is relatively small, and the electric repulsive force acting between the titanium oxide particles is relatively small. It is considered that the particles of titanium oxide aggregate together.
ところが、前記粉砕処理工程においては、酸化チタンの等電点より0.5低い前記pH境界点より高いpHの混合液に対して粉砕処理を施しつつ混合液のpHを前記pH境界点未満にすることにより、粉砕処理工程を経てなる光触媒分散液が固液分離を起こしにくくなり、経時安定性が優れたものになる。
光触媒分散液の経時安定性が優れたものになる原理は、必ずしも完全に明らかになっていないものの、酸化チタンの粒子間における電気的な反発力が比較的小さいpH境界点で、酸化チタンの二次粒子及び酸化タングステンの二次粒子の両方が粉砕処理を受けることにより、酸化チタンの粒子及び酸化タングステンの粒子の両方を含む比較的安定な二次粒子がその粉砕の後に新たに形成されると考えられる。そして、pH境界点未満のpHになった光触媒分散液においては、酸化チタン粒子の表面電荷が正で酸化タングステン粒子の表面電荷が負であっても、上記の比較的安定な二次粒子が形成された分、酸化チタンの粒子と酸化タングステンの粒子との間で電気的に引き合って新たに凝集する現象が起こりにくくなっていると考えられる。
However, in the pulverization step, the pH of the mixed solution is made less than the pH boundary point while pulverizing the mixed solution having a pH higher than the pH boundary point 0.5 lower than the isoelectric point of titanium oxide. As a result, the photocatalyst dispersion liquid that has undergone the pulverization process is less likely to cause solid-liquid separation, and the stability over time is excellent.
The principle that the photocatalyst dispersion has excellent stability over time is not completely clear, but at a pH boundary point where the electrical repulsion between the titanium oxide particles is relatively small, When both the secondary particles and the secondary particles of tungsten oxide are subjected to a pulverization treatment, relatively stable secondary particles including both titanium oxide particles and tungsten oxide particles are newly formed after the pulverization. Conceivable. In the photocatalyst dispersion liquid having a pH lower than the pH boundary point, even if the surface charge of the titanium oxide particles is positive and the surface charge of the tungsten oxide particles is negative, the above relatively stable secondary particles are formed. Therefore, it is considered that the phenomenon of agglomeration due to electrical attraction between the titanium oxide particles and the tungsten oxide particles is less likely to occur.
前記粉砕処理工程においては、通常、粉砕処理に伴い混合液のpHが低下する。これは、以下の理由によるものと考えられる。
即ち、通常、金属酸化物粒子の表面は、大気中の水蒸気と反応することにより生じたOH基によって覆われている。そして、水中では、下記の反応(Mは金属元素を表す)が起こり得る。
主に低pH側: M−OH + H+ → MOH+ ・・・式(1)
主に高pH側: M−OH + OH- → MO- + H2O ・・・式(2)
ここで、酸化タングステン粒子に関しては、酸化タングステンにおけるタングステンイオンの電気陰性度が比較的大きいことから、タングステンイオンが比較的強く電子を吸引し、粒子表面におけるヒドロキシル基からH+が解離しやすい。従って、上記式(2)の反応が比較的起こりやすい。また、粉砕処理に伴って、酸化タングステン粒子の新たな表面が増えていくことで、上記式(2)の反応が次々と起こり得る。このような理由により、粉砕処理に伴い混合液のpHが低下すると考えられる。
なお、金属イオンの電気陰性度χiは、金属原子のポーリング電気陰性度χpと金属イオンの価数Zとから下記式(3)により求められる)
χi=(1+2Z)χp ・・・式(3)
In the pulverization process, the pH of the mixed solution usually decreases with the pulverization process. This is considered to be due to the following reasons.
That is, usually, the surface of the metal oxide particles is covered with OH groups generated by reacting with water vapor in the atmosphere. In water, the following reaction (M represents a metal element) can occur.
Mainly on the low pH side: M-OH + H + → MOH + ... Formula (1)
Mainly high pH side: M-OH + OH - → MO - + H 2 O ··· formula (2)
Here, regarding tungsten oxide particles, since the electronegativity of tungsten ions in tungsten oxide is relatively large, the tungsten ions relatively strongly attract electrons, and H + tends to dissociate from hydroxyl groups on the particle surface. Therefore, the reaction of the above formula (2) is relatively easy to occur. Further, as the new surface of the tungsten oxide particles increases with the pulverization treatment, the reaction of the above formula (2) can occur one after another. For these reasons, it is considered that the pH of the mixed solution is lowered with the pulverization treatment.
In addition, the electronegativity χ i of the metal ion is obtained by the following formula (3) from the Pauling electronegativity χ p of the metal atom and the valence Z of the metal ion)
χ i = (1 + 2Z) χ p Equation (3)
前記粉砕処理工程においては、pHをより速く低下させるために、pHを低下させる酸などを混合液に加えることができ、反対に、pHの低下をより遅くするために、アンモニア水などを混合液に加えることができる。 In the pulverization treatment step, an acid or the like that lowers the pH can be added to the mixed solution in order to lower the pH more rapidly, and conversely, ammonia water or the like can be added to the mixed solution to make the pH lower more slowly. Can be added to.
前記粉砕処理工程においては、前記pH境界点未満になるのであれば、pH低下の幅が特に限定されるものではないが、好ましくは、pH調整工程を経た混合液のpHを前記等電点より1.0以上小さいpHにまで低下させる。1.0以上小さいpHにまで低下させることにより、光触媒分散液の経時安定性がより優れたものになり得るという利点がある。また、前記粉砕処理工程においては、温度が限定されるものではないが、通常、常温にて前記粉砕処理を行う。 In the pulverization step, the width of the pH drop is not particularly limited as long as it is less than the pH boundary point, but preferably, the pH of the mixed solution that has undergone the pH adjustment step is less than the isoelectric point. The pH is lowered to 1.0 or more. By lowering the pH to 1.0 or less, there is an advantage that the temporal stability of the photocatalyst dispersion can be improved. In the pulverization process, the temperature is not limited, but the pulverization process is usually performed at room temperature.
前記粉砕処理としては、例えば、互いに衝突することでせん断力を生じる粉砕媒体の存在下で粉砕媒体の衝突に伴うせん断力によって粉砕を行う粉砕媒体による粉砕処理、粒子同士の衝突力によって粉砕を行う衝突力粉砕処理、超音波洗浄機などを用いて超音波を照射することによって粉砕を行う超音波粉砕処理などが採用され得る。 As the pulverization process, for example, a pulverization process using a pulverization medium that performs pulverization by the shearing force accompanying the collision of the pulverization medium in the presence of a pulverization medium that collides with each other, and pulverization is performed by the collision force between particles. An impact pulverization process, an ultrasonic pulverization process in which pulverization is performed by irradiating ultrasonic waves using an ultrasonic cleaner, or the like may be employed.
前記粉砕媒体による粉砕処理としては、ビーズミルによる粉砕、湿式ボールミルによる粉砕処理などを採用することができる。
前記粉砕媒体は、具体的には、例えば、ビーズミルによる粉砕においてはビーズが該当し、湿式ボールミルによる粉砕においてはボールが該当する。前記粉砕媒体の存在下で行う粉砕処理においては、ビーズなどの粉砕媒体同士が衝突する際に、粉砕媒体間にある二次粒子にせん断力がはたらき、二次粒子が粉砕されて、より粒子径の小さい二次粒子になり得る。
As the grinding treatment with the grinding medium, grinding with a bead mill, grinding with a wet ball mill, or the like can be employed.
Specifically, for example, the grinding medium corresponds to beads in grinding by a bead mill, and corresponds to balls in grinding by a wet ball mill. In the pulverization process performed in the presence of the pulverization medium, when the pulverization media such as beads collide with each other, a shear force acts on the secondary particles between the pulverization media, the secondary particles are pulverized, and the particle size is further increased. Secondary particles.
前記衝突力粉砕処理としては、例えば、湿式ジェットミルによる粉砕処理などを採用することができる。該衝突力粉砕処理においては、二次粒子と分散媒とを混合してなる混合液同士を衝突させることにより、二次粒子にせん断力などがはたらき、二次粒子が粉砕されて、より粒子径の小さい二次粒子になり得る。 As the collision force pulverization process, for example, a pulverization process using a wet jet mill can be employed. In the collision force pulverization treatment, by causing the mixed liquid obtained by mixing the secondary particles and the dispersion medium to collide with each other, the secondary particles are subjected to shearing force and the like, and the secondary particles are pulverized, and the particle diameter is further increased. Secondary particles.
なかでも前記粉砕処理としては、酸化タングステン粒子又は酸化チタン粒子の二次粒子径を小さくすることにより、紫外光の照射量が少ない条件下であっても有機性環境汚染物質を二酸化炭素にまで分解する光触媒の性能がより高まるという点、酸化タングステン粒子又は酸化チタン粒子の結晶構造に影響を与えにくいという点、及び光触媒分散液の経時安定性がより優れたものになり得るという点で、粉砕媒体による粉砕処理を採用することが好ましく、ビーズミルによる粉砕処理を採用することがより好ましい。
前記ビーズミルによる粉砕処理は、従来公知のビーズミル装置を用いて一般的な方法で行うことができる。具体的には、例えば、材質がセラミックス、ガラス又は金属であり、直径0.03〜3mmの球形のビーズを複数用いて、パス方式や循環方式で行うことができる。
In particular, as the pulverization treatment, by reducing the secondary particle diameter of tungsten oxide particles or titanium oxide particles, organic environmental pollutants are decomposed into carbon dioxide even under conditions where the amount of ultraviolet light irradiation is small. The performance of the photocatalyst is improved, the crystal structure of the tungsten oxide particles or the titanium oxide particles is less affected, and the stability over time of the photocatalyst dispersion can be improved. It is preferable to employ a pulverization treatment using a bead mill, and it is more preferable to employ a pulverization treatment using a bead mill.
The pulverization treatment by the bead mill can be performed by a general method using a conventionally known bead mill apparatus. Specifically, for example, the material may be ceramic, glass, or metal, and a plurality of spherical beads having a diameter of 0.03 to 3 mm may be used to perform a pass method or a circulation method.
前記光触媒分散液の製造方法においては、前記粉砕処理工程で粉砕媒体による粉砕処理を採用した場合、粉砕処理工程を経て得られた光触媒分散液と、粉砕媒体とを分離することができる。具体的には、例えば、粉砕媒体が透過できず光触媒分散液が透過できるメッシュ生地に光触媒分散液を透過させ、分散媒体がメッシュ上に留まることにより、光触媒分散液と粉砕媒体とを分離することができる。 In the method for producing the photocatalyst dispersion, when a pulverization process using a pulverization medium is employed in the pulverization process, the photocatalyst dispersion obtained through the pulverization process and the pulverization medium can be separated. Specifically, for example, the photocatalyst dispersion liquid is allowed to pass through a mesh fabric that cannot pass the pulverization medium and the photocatalyst dispersion liquid can pass through, and the dispersion medium stays on the mesh, thereby separating the photocatalyst dispersion liquid and the pulverization medium. Can do.
なお、前記光触媒分散液の製造方法で製造された光触媒分散液は、必要に応じてpHが調整され、適宜、所定のpHを示すものに調節することができる。 In addition, pH of the photocatalyst dispersion liquid produced by the method for producing the photocatalyst dispersion liquid is adjusted as necessary, and can be appropriately adjusted to a predetermined pH.
また、前記光触媒分散液の製造方法で製造された光触媒分散液は、例えば塗布対象物に塗布するためのコーティング剤としてそのまま使用することができる。 In addition, the photocatalyst dispersion liquid produced by the method for producing a photocatalyst dispersion liquid can be used as it is, for example, as a coating agent for application to a coating object.
続いて、本発明に係る光触媒の製造方法の一実施形態について説明する。
前記光触媒の製造方法は、前記光触媒分散液の製造方法により製造した光触媒分散液から水含有分散媒を除去するものである。
Then, one Embodiment of the manufacturing method of the photocatalyst based on this invention is described.
In the photocatalyst production method, the water-containing dispersion medium is removed from the photocatalyst dispersion produced by the photocatalyst dispersion production method.
前記光触媒分散液から水含有分散媒を除去する方法として、例えば、光触媒分散液を水含有分散媒が揮発する温度に置く方法などを採用することができる。具体的には、前記光触媒は、例えば、光触媒分散液を100℃以上の温度条件下に置き、水含有分散媒を蒸発させて製造することができる。 As a method for removing the water-containing dispersion medium from the photocatalyst dispersion liquid, for example, a method of placing the photocatalyst dispersion liquid at a temperature at which the water-containing dispersion medium volatilizes can be employed. Specifically, the photocatalyst can be produced, for example, by placing the photocatalyst dispersion under a temperature condition of 100 ° C. or more and evaporating the water-containing dispersion medium.
前記光触媒の製造方法により製造された光触媒は、必ずしも焼成される必要はなく、焼成されなくとも光照射によって触媒作用を発揮し得る。好ましくは、前記光触媒は、製造時のコストを抑制できるという点で、焼成されることなく製造される。なお、焼成とは、有機物が分解し得る温度にまで加熱し、被焼成物を焼結させることであり、具体的には、例えば、酸素の存在下又は酸素の非存在下で被焼成物を200℃以上に加熱することである。 The photocatalyst produced by the method for producing a photocatalyst does not necessarily have to be calcined, and can exhibit a catalytic action by light irradiation without being calcined. Preferably, the photocatalyst is produced without being fired in that the cost during production can be suppressed. Note that the firing means heating to a temperature at which the organic matter can be decomposed to sinter the subject to be fired. Specifically, for example, the subject to be fired in the presence of oxygen or in the absence of oxygen. Heating to 200 ° C. or higher.
前記光触媒は、例えば、太陽光、蛍光灯などの各種ランプからの光が照射される条件下で用いられ、光照射によって触媒作用を発揮する。より詳しくは、前記光触媒は、可視光の照射によっても有機性環境汚染物質を二酸化炭素にまで分解する性能に優れている。有機性環境汚染物質を二酸化炭素にまで分解する性能が優れたものとなる原理は、必ずしも十分に解明されているわけではないが、酸化タングステンのバンド構造と酸化チタンのバンド構造の違いにより、光照射時における電子の授受が両化合物間で効率的に行われ、酸化還元反応が促進されていることによるものと考えられる。 The photocatalyst is used, for example, under conditions where light from various lamps such as sunlight and fluorescent lamps is irradiated, and exhibits a catalytic action by light irradiation. More specifically, the photocatalyst is excellent in performance of decomposing an organic environmental pollutant to carbon dioxide even by irradiation with visible light. The principle of superior performance in decomposing organic environmental pollutants to carbon dioxide is not always fully understood, but the difference in the band structure of tungsten oxide and the band structure of titanium oxide This is considered to be due to the fact that electrons are efficiently exchanged between the two compounds during irradiation and the oxidation-reduction reaction is promoted.
なお、前記光触媒は、前記酸化タングステン及び前記酸化チタンのほかに、ケイ素、ジルコニウムなどの金属の酸化物、ゼオライト、アパタイト等を含み得る。 In addition to the tungsten oxide and the titanium oxide, the photocatalyst may include an oxide of a metal such as silicon or zirconium, zeolite, apatite, or the like.
また、前記光触媒は、具体的には例えば、液状塗料又は粉体塗料などの塗料と混合することによりコーティング剤とされて使用され得る。前記液状塗料としては、ベース樹脂が有機溶剤に溶解したもの、ベース樹脂が水に分散された水性エマルジョンなどが挙げられる。 The photocatalyst can be used as a coating agent by mixing with a paint such as a liquid paint or a powder paint. Examples of the liquid paint include those in which a base resin is dissolved in an organic solvent, and aqueous emulsions in which the base resin is dispersed in water.
前記コーティング剤は、例えば塗布対象物に塗布されることにより、前記光触媒を塗布対象物の表面付近に保持せしめることができる。該塗布対象物に前記コーティング剤が塗布されてなる光触媒部材は、可視光が照射されることによっても、空気中の有機性有害物質や有機性汚染物質等を二酸化炭素にまで分解することができる。 The said coating agent can hold | maintain the said photocatalyst in the surface vicinity of an application target object, for example by apply | coating to an application target object. The photocatalyst member formed by applying the coating agent to the application object can decompose organic harmful substances and organic pollutants in the air to carbon dioxide even when irradiated with visible light. .
本実施形態の光触媒分散液の製造方法及び光触媒の製造方法は、上記例示の通りであるが、本発明は、上記例示の光触媒分散液の製造方法及び光触媒の製造方法に限定されるものではない。
また、一般の光触媒分散液の製造方法や光触媒の製造方法において用いられる種々の態様を、本発明の効果を損ねない範囲において、採用することができる。
The method for producing a photocatalyst dispersion and the method for producing a photocatalyst according to this embodiment are as described above, but the present invention is not limited to the method for producing a photocatalyst dispersion and the method for producing a photocatalyst exemplified above. .
In addition, various modes used in a general photocatalyst dispersion manufacturing method and a photocatalyst manufacturing method can be employed as long as the effects of the present invention are not impaired.
次に実施例を挙げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 EXAMPLES Next, although an Example is given and this invention is demonstrated in more detail, this invention is not limited to these.
(酸化チタンの等電点の測定)
以下に示すようにして、酸化チタンの等電点を求めた。
・酸化チタン粒子:商品名「ST−01」(石原産業社製)
担持元素なし、ドープ処理なし アナターゼ型結晶
二次粒子径 D10=1.6μm D50=7.1μm D90=22.7μm
上記二次粒子径は光散乱法により機器名「MT3000」(日機装社製)で測定した。
固形分濃度10重量%になるように、上記の酸化チタン粒子100gを900gの純水(JIS K0557「用水・排水の試験に用いる水」 A2クラス 純水製造装置「ElixUV5」日本ミリポア社製で製造)に加え、ホモジナイザー(アズワン社製 商品名「ホモジナイザー」)を用いて回転数5000rpmで撹拌して酸化チタンスラリーを調製した。該スラリーをホモジナイザーで撹拌しつつ、60重量%の硝酸水溶液を添加し、20℃でガラス電極pH計(堀場製作所社製 商品名「pHメーターD−50」)でpHを測定し、pH2.5の酸化チタンスラリーを調製した。
一方、上記純水に0.1重量%塩酸水溶液を加え、さらに、ゼータ電位測定装置で測定可能な酸化チタン濃度になるまで上記酸化チタンスラリーの一部を加え、最終的にpHを5.92に調整した酸化チタンの希釈液を調製した。この希釈液について、ゼータ電位測定装置(大塚化学社製 商品名「ELS6000」)を用いて25℃で電気泳動光散乱測定を行い、求めた電気移動度よりSmoluchowskiの式を用いてゼータ電位を算出した。算出したゼータ電位の値を表面電荷とした。その結果、酸化チタン粒子のpH5.92における表面電荷は、+18であった。
また、0.1重量%の水酸化ナトリウム水溶液を添加することにより、希釈液のpHを8.27に調整し、同様にして酸化チタンの表面電荷を測定した。その結果、酸化チタン粒子のpH8.27における表面電荷は、−14であった。
これに対し、参考として以下の操作を行った。即ち、0.1重量%若しくは1.0重量%の塩酸水溶液、又は、0.1重量%若しくは1.0重量%の水酸化ナトリウム水溶液を添加することにより、同様にして希釈液のpHを2.08、4.08、9.95に調整したときの表面電荷を測定した。
(Measurement of isoelectric point of titanium oxide)
The isoelectric point of titanium oxide was determined as shown below.
・ Titanium oxide particles: Trade name “ST-01” (Ishihara Sangyo Co., Ltd.)
No supported element, no doping treatment Anatase type crystal Secondary particle size D10 = 1.6μm D50 = 7.1μm D90 = 22.7μm
The secondary particle diameter was measured by a light scattering method using a device name “MT3000” (manufactured by Nikkiso Co., Ltd.).
900 g of pure water (JIS K0557 “Water used for water and wastewater testing” A2 class pure water production device “ElixUV5” manufactured by Nihon Millipore, Inc., so that the solid content concentration is 10% by weight. In addition, a titanium oxide slurry was prepared by stirring at a rotational speed of 5000 rpm using a homogenizer (trade name “Homogenizer” manufactured by ASONE). While stirring the slurry with a homogenizer, a 60% by weight nitric acid aqueous solution was added, and the pH was measured at 20 ° C. with a glass electrode pH meter (trade name “pH meter D-50” manufactured by Horiba, Ltd.). A titanium oxide slurry was prepared.
On the other hand, a 0.1 wt% hydrochloric acid aqueous solution is added to the pure water, and a part of the titanium oxide slurry is further added until the titanium oxide concentration is measurable with a zeta potential measuring device, and finally the pH is 5.92. A diluted titanium oxide solution was prepared. For this diluted solution, electrophoretic light scattering measurement was performed at 25 ° C. using a zeta potential measurement device (trade name “ELS6000” manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd.), and the zeta potential was calculated from the obtained electric mobility using the Smoluchowski equation. did. The calculated zeta potential value was defined as the surface charge. As a result, the surface charge of the titanium oxide particles at pH 5.92 was +18.
Further, the pH of the diluted solution was adjusted to 8.27 by adding a 0.1 wt% aqueous sodium hydroxide solution, and the surface charge of titanium oxide was measured in the same manner. As a result, the surface charge of the titanium oxide particles at pH 8.27 was −14.
On the other hand, the following operation was performed for reference. That is, by adding 0.1% by weight or 1.0% by weight hydrochloric acid aqueous solution or 0.1% by weight or 1.0% by weight sodium hydroxide aqueous solution, the pH of the diluted solution is adjusted to 2 in the same manner. The surface charge when adjusted to 0.08, 4.08, and 9.95 was measured.
(酸化タングステンの等電点の測定)
60重量%の硝酸水溶液を添加しなかった点以外は、上記の方法と同様の方法により、10重量%の銅担持酸化タングステンを含む酸化タングステンスラリーを調製し、上記方法と同様にして、pH2.03、4.10、6.08、8.83、10.08のときの表面電荷を測定した
・銅担持酸化タングステン粒子:商品品番「HP−CW091」
(昭和タイタニウム社製)
二次粒子径 D10=0.5μm D50=5.3μm D90=22.0μm
上記二次粒子径は光散乱法により機器名「MT3000」(日機装社製)で測定した。
(Measurement of isoelectric point of tungsten oxide)
A tungsten oxide slurry containing 10% by weight of copper-supported tungsten oxide was prepared by the same method as that described above, except that 60% by weight of nitric acid aqueous solution was not added. The surface charge was measured at 03, 4.10, 6.08, 8.83, 10.08. Copper-supported tungsten oxide particles: product number “HP-CW091”
(Showa Titanium)
Secondary particle size D10 = 0.5μm D50 = 5.3μm D90 = 22.0μm
The secondary particle diameter was measured by a light scattering method using a device name “MT3000” (manufactured by Nikkiso Co., Ltd.).
各スラリーの各pHにおける表面電荷の結果を表1に示す。また、その結果をグラフ化したものを図1に示す。 Table 1 shows the results of surface charge at each pH of each slurry. A graph of the results is shown in FIG.
(pH境界点の算出)
pH5.92及びpH8.27における酸化チタンの表面電荷の結果を基にして、上述した方法により、表面電荷が0になる等電点を求めた結果、等電点が7.2となった。従って、pH境界点をこの値より0.5低い6.7とした。
(Calculation of pH boundary point)
Based on the result of the surface charge of titanium oxide at pH 5.92 and pH 8.27, the isoelectric point at which the surface charge was 0 was determined by the method described above, and the isoelectric point was 7.2. Therefore, the pH boundary point was set to 6.7, which is 0.5 lower than this value.
(実施例1)
以下に示すようにして、光触媒分散体を製造した。
即ち、上記の銅担持酸化タングステンと上記の酸化チタンとを銅担持酸化タングステン:酸化チタン=7:3の重量比で合計10重量%濃度となるように、回転数5000rpmのホモジナイザーによって純水と混合して混合液を調製し、混合工程を実施した。
混合液を回転数5000rpmのホモジナイザーにより撹拌しながら、pHが6.90になるまで混合液に25重量%濃度のアンモニア水を加え、pH調整工程を実施した。
次に、pH調整工程を経た混合液に対してビーズミル装置(寿工業社製 装置名「ウルトラアペックスミルUAM−015」)を用いてビーズミルによる粉砕処理を20分間施し、pH5.21になるまで粉砕処理工程を実施した。
そして、得られた光触媒分散液とビーズとを分離し、光触媒分散液を製造した。
Example 1
A photocatalyst dispersion was produced as shown below.
That is, the copper-supported tungsten oxide and the titanium oxide were mixed with pure water by a homogenizer at a rotational speed of 5000 rpm so that the total concentration of copper-supported tungsten oxide: titanium oxide = 7: 3 was 10% by weight. Thus, a mixed solution was prepared and a mixing step was performed.
While stirring the mixed solution with a homogenizer with a rotation speed of 5000 rpm, 25% by weight ammonia water was added to the mixed solution until the pH reached 6.90, and a pH adjustment step was performed.
Next, the mixed solution that has undergone the pH adjustment step is subjected to a grinding process with a bead mill for 20 minutes using a bead mill device (device name “Ultra Apex Mill UAM-015” manufactured by Kotobuki Kogyo Co., Ltd.), and pulverized until the pH reaches 5.21. Processing steps were performed.
And the obtained photocatalyst dispersion liquid and beads were separated to produce a photocatalyst dispersion liquid.
(実施例2)
pH調整工程を経た混合液にビーズミルによる粉砕処理を40分間行い、pH5.07になるまで粉砕処理工程を実施した点以外は、実施例1と同様にして光触媒分散液を製造した。
(Example 2)
A photocatalyst dispersion liquid was produced in the same manner as in Example 1 except that the mixed solution that had undergone the pH adjustment step was pulverized by a bead mill for 40 minutes and the pulverization step was performed until the pH reached 5.07.
(実施例3)
pH調整工程を経た混合液にビーズミルによる粉砕処理を60分間行い、pH4.84になるまで粉砕処理工程を実施した点以外は、実施例1と同様にして光触媒分散液を製造した。
(Example 3)
A photocatalyst dispersion liquid was produced in the same manner as in Example 1 except that the mixed liquid that had undergone the pH adjustment process was pulverized by a bead mill for 60 minutes and the pulverization process was performed until the pH reached 4.84.
(実施例4)
pHが8.24になるまで混合液に25重量%濃度のアンモニア水を加えpH調整工程を実施した点、pH調整工程を経た混合液にビーズミルによる粉砕処理を20分間行い、pH5.72になるまで粉砕処理工程を実施した点以外は、実施例1と同様にして光触媒分散液を製造した。
(Example 4)
The pH adjustment step was performed by adding 25% by weight ammonia water to the mixture until the pH reached 8.24. The mixture after the pH adjustment step was pulverized with a bead mill for 20 minutes to reach pH 5.72. A photocatalyst dispersion was produced in the same manner as in Example 1 except that the pulverization treatment step was performed.
(実施例5)
pHが8.24になるまで混合液に25重量%濃度のアンモニア水を加えpH調整工程を実施した点、pH調整工程を経た混合液にビーズミルによる粉砕処理を40分間行い、pH5.08になるまで粉砕処理工程を実施した点以外は、実施例1と同様にして光触媒分散液を製造した。
(Example 5)
The pH adjustment step was performed by adding 25% by weight ammonia water to the mixture until the pH reached 8.24, and the mixture after the pH adjustment step was crushed by a bead mill for 40 minutes to reach pH 5.08. A photocatalyst dispersion was produced in the same manner as in Example 1 except that the pulverization treatment step was performed.
(実施例6)
pHが8.24になるまで混合液に25重量%濃度のアンモニア水を加えpH調整工程を実施した点、pH調整工程を経た混合液にビーズミルによる粉砕処理を60分間行い、pH4.65になるまで粉砕処理工程を実施した点以外は、実施例1と同様にして光触媒分散液を製造した。
(Example 6)
The pH adjustment step was performed by adding 25% by weight ammonia water to the mixture until the pH reached 8.24. The mixture after the pH adjustment step was pulverized by a bead mill for 60 minutes to reach pH 4.65. A photocatalyst dispersion was produced in the same manner as in Example 1 except that the pulverization treatment step was performed.
(実施例7)
上記の酸化チタン粒子24gとゼオライト粒子(商品名「Hisiv―3000」昭和ユニオン社製)20gとを純水(600g)に入れ、ホモジナイザーによって撹拌し、懸濁液を得た(pH8.87)。この懸濁液と、純水300gに上記の酸化タングステン粒子56gを加えホモジナイザーによって撹拌した懸濁液(pH3.98)とを、酸化チタンと酸化タングステン粒子(3:7重量比)とゼオライト粒子との合計量が10重量%になるように混合して混合液を調製し、混合工程を実施した。
混合工程を経た混合液のpHは6.88であった。即ち、ゼオライト粒子の添加によりpH調整工程を実施した。
そして、pH調整工程を経た混合液にビーズミルによる粉砕処理を20分間行い、pH6.41になるまで粉砕処理工程を実施した点以外は、実施例1と同様にして粉砕処理工程を実施した。また、得られた光触媒分散液とビーズとを分離し、光触媒分散液を製造した。
(Example 7)
24 g of the above titanium oxide particles and 20 g of zeolite particles (trade name “Hisiv-3000” manufactured by Showa Union Co., Ltd.) were placed in pure water (600 g) and stirred with a homogenizer to obtain a suspension (pH 8.87). This suspension and a suspension (pH 3.98) obtained by adding 56 g of the above tungsten oxide particles to 300 g of pure water and stirring with a homogenizer, titanium oxide, tungsten oxide particles (3: 7 weight ratio), zeolite particles, A mixed solution was prepared by mixing so that the total amount of was 10% by weight, and the mixing step was performed.
The pH of the mixed solution after the mixing step was 6.88. That is, the pH adjustment step was performed by adding zeolite particles.
Then, the pulverization treatment step was carried out in the same manner as in Example 1 except that the pulverization treatment with a bead mill was performed for 20 minutes on the mixed solution that had undergone the pH adjustment step, and the pulverization treatment step was carried out until the pH reached 6.41. Moreover, the obtained photocatalyst dispersion liquid and beads were separated to produce a photocatalyst dispersion liquid.
(実施例8)
pH調整工程を経た混合液にビーズミルによる粉砕処理を40分間行い、pH6.17になるまで粉砕処理工程を実施した点以外は、実施例7と同様にして光触媒分散液を製造した。
(Example 8)
A photocatalyst dispersion liquid was produced in the same manner as in Example 7 except that the mixed liquid that had undergone the pH adjustment process was pulverized by a bead mill for 40 minutes, and the pulverization process was performed until the pH reached 6.17.
(実施例9)
pH調整工程を経た混合液にビーズミルによる粉砕処理を60分間行い、pH5.92になるまで粉砕処理工程を実施した点以外は、実施例7と同様にして光触媒分散液を製造した。
Example 9
A photocatalyst dispersion liquid was produced in the same manner as in Example 7 except that the mixed liquid that had undergone the pH adjustment process was pulverized by a bead mill for 60 minutes and the pulverization process was performed until the pH reached 5.92.
(比較例1)
実施例1と同様にして混合工程を経た混合液のpHは6.01であった。pH調整工程を実施せず、この混合液に対して実施例1と同様に粉砕処理を行った。
粉砕処理を行っていたところ、固液分離が生じたため、光触媒分散液を製造することができなかった。
(Comparative Example 1)
The pH of the mixed solution that passed through the mixing step in the same manner as in Example 1 was 6.01. The pH adjustment step was not performed, and the mixture was pulverized in the same manner as in Example 1.
When the pulverization was performed, solid-liquid separation occurred, and thus the photocatalyst dispersion liquid could not be produced.
(比較例2)
上記の酸化チタンのみを10重量%になるように純水と混合して酸化チタン分散液を調製した。この酸化チタン分散液のpHは6.68であった。
酸化チタン分散液に対して実施例1と同様にして25重量%濃度のアンモニア水によりpHを8.47に調整した。続いて、実施例1と同様にビーズミルによる粉砕処理を行った。
粉砕処理を行っていたところ、固液分離が生じたため、光触媒分散液を製造することができなかった。
(Comparative Example 2)
Only the above titanium oxide was mixed with pure water so as to be 10% by weight to prepare a titanium oxide dispersion. The pH of this titanium oxide dispersion was 6.68.
The pH of the titanium oxide dispersion was adjusted to 8.47 with 25% by weight ammonia water in the same manner as in Example 1. Then, the grinding | pulverization process by a bead mill was performed like Example 1. FIG.
When the pulverization was performed, solid-liquid separation occurred, and thus the photocatalyst dispersion liquid could not be produced.
(比較例3)
上記の銅担持酸化タングステンのみを10重量%になるように純水と混合して酸化チタン分散液を調製した。この銅担持酸化タングステン分散液のpHは4.08であった。
銅担持酸化タングステン分散液に対して実施例1と同様にして25重量%濃度のアンモニア水によりpHを7.98に調整した。続いて、実施例1と同様にビーズミルによる粉砕処理を行った。
粉砕処理を20分間行い、pHが3.93になったところで粉砕処理工程を終了し、光触媒分散液を製造した。
(Comparative Example 3)
Only the copper-supported tungsten oxide was mixed with pure water so as to be 10% by weight to prepare a titanium oxide dispersion. The copper-supported tungsten oxide dispersion had a pH of 4.08.
The pH of the copper-supported tungsten oxide dispersion was adjusted to 7.98 with 25 wt% ammonia water in the same manner as in Example 1. Then, the grinding | pulverization process by a bead mill was performed like Example 1. FIG.
The pulverization process was carried out for 20 minutes, and when the pH reached 3.93, the pulverization process step was terminated to produce a photocatalyst dispersion.
<光触媒分散液の経時安定性の評価>
製造した光触媒分散液を室温で静置し、所定日数静置後における光触媒分散液の粒子径を経時的に測定することにより、光触媒分散液の経時安定性を評価した。粒子径は、動的光散乱法により粒度分布測定装置(機器名「FPER−1000」 大塚電子社製)を用いて測定した。
実施例1〜3における光触媒分散液の粒子径(D10、D50、D90)について、経時的に測定した結果を図2に示す。なお、実施例1〜3においては、製造後52日後においても、固液分離は認められなかった。
<Evaluation of stability over time of photocatalyst dispersion>
The produced photocatalyst dispersion was allowed to stand at room temperature, and the particle size of the photocatalyst dispersion after standing for a predetermined number of days was measured over time to evaluate the temporal stability of the photocatalyst dispersion. The particle size was measured by a dynamic light scattering method using a particle size distribution measuring device (device name “FPER-1000” manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.).
FIG. 2 shows the results of measuring the particle diameters (D10, D50, D90) of the photocatalyst dispersion liquids in Examples 1 to 3 over time. In Examples 1 to 3, solid-liquid separation was not observed even 52 days after production.
<光照射による光触媒作用の評価>
各実施例、各比較例で製造した光触媒分散液を、製造直後、又は、52日間静置後に、100℃の条件に置き、水を揮発により除去し、光触媒を製造した。
各光触媒を乳鉢と乳棒とによって粉砕して光触媒粉末を得て、該光触媒粉末を内径φ58mmのシャーレに0.1g入れ、さらに純水を適量入れて、粉末を均一に分散させた。その後、シャーレを100℃の条件下に置き、シャーレ内に光触媒膜を作製した。
光触媒膜が作製されたシャーレを2L容量のテドラーバッグに入れ、密閉し、その中に1Lの純空気を注入した。さらに、気体のアセトアルデヒドをおよそ100ppmの濃度になるように加えた。
アセトアルデヒドが光触媒粉末の表面へ吸着して平衡状態になることを待つため、16〜18時間、テドラーバッグを暗所に放置した後、昼光色蛍光灯(パナソニック社製 「FL20SS−ENW/18X」)を用いて光照射(4000ルクス コニカミノルタ社製「T−10」JIS AA級で測定)し、アセトアルデヒド及び二酸化炭素の量をガスクロマトグラフィー(「GC−9A」 島津製作所社製)によって測定し、時間の経過に伴う測定値を得た。
なお、光照射は、「UGP20WL10」(富士フィルム社製)を用いて昼光色蛍光灯の照射光における410nmより短波長側をカットした条件において行った。
そして、アセトアルデヒドの濃度を経時的に測定し、測定結果からアセトアルデヒド低減定数を算出した。また、二酸化炭素の濃度を経時的に測定し、測定結果から二酸化炭素生成速度を求めた。アセトアルデヒド低減定数及び二酸化炭素生成速度の算出方法の詳細は、以下の通りである。
[アセトアルデヒド低減定数の算出方法]
アセトアルデヒド低減速度は初期濃度に依存することから、初期濃度をキャンセルするため、時間に対する濃度の対数をプロットし、その直線領域で近似直線を引き、近似直線の傾きをアセトアルデヒド低減定数とした。単位は時間の逆数となる。
[二酸化炭素生成速度の算出方法]
初期に発生した二酸化炭素濃度のプロットの直線領域において、原点を通る近似直線を引き、その傾きを二酸化炭素生成速度とした。
なお、アセトアルデヒドが完全に二酸化炭素にまで分解すると、理論上約200ppmの二酸化炭素濃度になる。
<Evaluation of photocatalysis by light irradiation>
The photocatalyst dispersion liquid produced in each Example and each Comparative Example was placed at 100 ° C. immediately after production or after standing for 52 days, and water was removed by volatilization to produce a photocatalyst.
Each photocatalyst was pulverized with a mortar and pestle to obtain a photocatalyst powder. 0.1 g of the photocatalyst powder was placed in a petri dish having an inner diameter of φ58 mm, and an appropriate amount of pure water was added to uniformly disperse the powder. Thereafter, the petri dish was placed under a condition of 100 ° C., and a photocatalytic film was produced in the petri dish.
The petri dish on which the photocatalyst film was produced was placed in a 2 L capacity Tedlar bag, sealed, and 1 L of pure air was injected therein. In addition, gaseous acetaldehyde was added to a concentration of approximately 100 ppm.
In order to wait for the acetaldehyde to adsorb to the surface of the photocatalyst powder and reach an equilibrium state, after leaving the Tedlar bag in the dark for 16 to 18 hours, use a daylight color fluorescent lamp ("FL20SS-ENW / 18X" manufactured by Panasonic). Light irradiation (measured with 4000 Lux Konica Minolta "T-10" JIS AA class), and the amount of acetaldehyde and carbon dioxide was measured by gas chromatography ("GC-9A" manufactured by Shimadzu Corporation). Measurements with the course were obtained.
In addition, light irradiation was performed on the conditions which cut the shorter wavelength side than 410 nm in the irradiation light of a daylight color fluorescent lamp using "UGP20WL10" (made by Fuji Film).
And the density | concentration of acetaldehyde was measured with time, and the acetaldehyde reduction constant was computed from the measurement result. Further, the concentration of carbon dioxide was measured over time, and the carbon dioxide production rate was determined from the measurement results. Details of the calculation method of the acetaldehyde reduction constant and the carbon dioxide production rate are as follows.
[Calculation method of acetaldehyde reduction constant]
Since the acetaldehyde reduction rate depends on the initial concentration, in order to cancel the initial concentration, the logarithm of the concentration with respect to time was plotted, an approximate line was drawn in the linear region, and the slope of the approximate line was defined as the acetaldehyde reduction constant. The unit is the reciprocal of time.
[Calculation method of carbon dioxide production rate]
In the linear region of the plot of the carbon dioxide concentration generated in the initial stage, an approximate straight line passing through the origin was drawn, and the slope thereof was defined as the carbon dioxide production rate.
When acetaldehyde is completely decomposed into carbon dioxide, the carbon dioxide concentration is theoretically about 200 ppm.
実施例1〜3及び比較例3について、上述の方法に従って、光照射による光触媒作用の評価を同時に行った。
アセトアルデヒド濃度及び二酸化炭素濃度の経時的な変化を表すグラフを図3に示す。詳しくは、図3(a)は、アセトアルデヒド濃度及び二酸化炭素濃度の経時的な変化を、実施例1及び比較例3について測定した結果を表すものであり、図3(b)は、同様に実施例2及び比較例3について測定した結果を表すものであり、図3(c)は、同様に実施例3及び比較例3について測定した結果を表すものである。なお、各実施例においては、光触媒分散液を製造した直後に水を除去して得られた光触媒(「製造直後」と記載)、及び、製造した光触媒分散液を52日間静置した後に得られた光触媒(「製造52日後」と記載)の各結果を示している。
About Examples 1-3 and the comparative example 3, according to the above-mentioned method, evaluation of the photocatalysis by light irradiation was performed simultaneously.
A graph showing changes with time of the acetaldehyde concentration and the carbon dioxide concentration is shown in FIG. Specifically, FIG. 3 (a) shows the results of measuring the time-dependent changes in the acetaldehyde concentration and the carbon dioxide concentration for Example 1 and Comparative Example 3, and FIG. 3 (b) is similarly carried out. The results measured for Example 2 and Comparative Example 3 are shown, and FIG. 3C shows the results measured for Example 3 and Comparative Example 3 in the same manner. In each example, the photocatalyst obtained by removing water immediately after producing the photocatalyst dispersion (described as “immediately after production”) and the photocatalyst dispersion produced were allowed to stand for 52 days. Each result of the photocatalyst (described as “52 days after production”) is shown.
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