JP5508779B2 - 剥離シート及びその製造方法 - Google Patents

Description

本発明は剥離シート及びその製造方法に関する。さらに詳しくは、本発明は電子部品の接着やラベル用途、及び半導体ウェハ加工用粘着シートなど、粘着剤面に移行したケイ素化合物が問題となる用途において、好適に用いられる剥離シート及びその製造方法に関するものである。

近年、粘着シートは、セラミックコンデンサー、ハードディスクドライブ、半導体装置等の精密電子機器の製造工程の種々の段階、形式で使用されている。このような精密電子機器の製造工程で使用される粘着シートにおいては、シリコーン系粘着剤は含有する低分子量のケイ素化合物により電子部品がトラブルを起こすおそれがあるため、一般に、非シリコーン系の粘着剤、例えばアクリル系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ウレタン系粘着剤などが用いられる。この非シリコーン系の粘着シートは、使用時まで粘着剤層を保護するためには、基材上に剥離剤層を設けてなる剥離シートが積層されている。

この剥離シートには、現在主にシリコーン系剥離剤が使用されているが、シリコーン系剥離剤に粘着シートを貼合すると粘着剤面へケイ素化合物の転移が少なからず生じるといわれており、このような粘着シートを例えばハードディスク（ＨＤＤ）用ラベルとして利用すると、粘着面に転移した微少なケイ素化合物が、上記ディスク内で不具合を起こすといった問題が生じるといわれている。このため剥離シートからのケイ素化合物の転移を減少させる検討が行われている。また、非シリコーン系剥離剤として知られているアルキド系の樹脂（例えば、特許文献１参照）、長鎖アルキル系の樹脂（例えば、特許文献２参照）及びポリオレフィン樹脂（例えば、特許文献３参照）を剥離剤層に使用することが試みられている。
しかしながら、これらの樹脂を剥離剤層に用いた場合、粘着剤層との剥離力が高くて、粘着剤層と剥離剤層とが剥離しない場合があるという問題が生じる。また、電子材料分野においては、基材との関係から剥離剤層を低温で形成することや、有機溶剤への耐性が要求されることが多い。

特開昭５７−４９６８５号公報 特開２００２−２４９７５７号公報 特開２００２−５９５１５号公報

本発明は、このような状況下で、非シリコーン系であって、粘着剤層との剥離性が良好で、かつ剥離剤層を低温で形成することができ、剥離剤層の脱落等がなく、耐溶剤性を有する剥離シートを提供することを目的とするものである。

本発明者らは、前記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、分子内に不飽和結合を誘導するモノマーを所定の割合で含むオレフィン系未架橋ゴムを、電子吸引基含有多官能モノマーの存在下で、活性エネルギー線を照射することにより、該未架橋ゴムを効率よく架橋し得ること、そして、このようにして架橋した硬化物を剥離剤層とする剥離シートは、良好な剥離力を有し、かつ該剥離剤層と基材との密着性に優れることを見出した。本発明は、かかる知見に基づいて完成したものである。
すなわち、本発明は、
（１）粘着シートの粘着層を保護するために用いられる剥離シートであって、基材シートと、剥離剤層とを有し、かつ該剥離剤層が、（Ａ）分子内に不飽和結合を誘導するモノマーを０.００５〜１.５モル％重合されてなるオレフィン系未架橋ゴム、及び（Ｂ）電子吸引基含有多官能モノマーを含む未架橋ゴム材料層に、活性エネルギー線を照射することにより形成された硬化層であることを特徴とする剥離シート、
（２）活性エネルギー線が紫外線であって、未架橋ゴム材料層が、さらに光重合開始剤を含む、上記(１)項に記載の剥離シート、
（３）未架橋ゴム材料層が、（Ａ）成分のオレフィン系未架橋ゴム１００質量部に対し、光重合開始剤を０.０１〜２０質量部の割合で含む、上記(２)項に記載の剥離シート、
（４）未架橋ゴム材料層が、（Ａ）成分１００質量部に対し、（Ｂ）成分を０.１〜３０質量部の割合で含む、上記(１)〜(３)項のいずれかに記載の剥離シート、
（５）剥離剤層の厚みが、０.０２〜５.０μｍである、上記(１)〜(４)項のいずれかに記載の剥離シート、
（６）基材シート上に、（Ａ）分子内に不飽和結合を誘導するモノマーを０.００５〜１.５モル％重合されてなるオレフィン系未架橋ゴム、及び（Ｂ）電子吸引基含有多官能モノマーを含む剥離剤層形成用塗工液を塗布、乾燥して未架橋ゴム材料層を設けたのち、活性エネルギー線を照射して硬化させることを特徴とする剥離シートの製造方法、及び
（７）活性エネルギー線が紫外線であって、剥離剤層形成用塗工液が、さらに光重合開始剤を含む、上記(６)項に記載の剥離シートの製造方法、
を提供するものである。

本発明の剥離シートは、粘着剤層面へのケイ素化合物の移行がなく、かつ優れた剥離性を有する。また本発明の剥離シートの製造方法では、低温での剥離剤層を形成することが可能であることから、耐熱性に乏しい基材上への剥離剤層の形成が可能である。さらに本発明の剥離シートは、トルエン、酢酸エチル、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）といった有機溶剤への耐性に優れるといった特性を有しており、粘着剤の転写塗工への対応も可能である。したがって本発明の剥離シートは、電子部品の接着やラベル用途、及び半導体ウェハ加工用粘着シートなど、粘着剤層面に移行したケイ素化合物が問題となる用途において好適に用いることができる。

まず、本発明の剥離シートについて説明する。
本発明の剥離シートは、基材シートと、剥離剤層とを有し、かつ該剥離剤層が、（Ａ）分子内に不飽和結合を誘導するモノマーを０.００５〜１.５モル％重合されてなるオレフィン系未架橋ゴム、及び（Ｂ）電子吸引基含有多官能モノマーを含む未架橋ゴム材料層に、活性エネルギー線を照射することにより形成された硬化層であることを特徴とする。

［基材シート］
本発明の剥離シートに用いる基材シートとしては特に制限はないが、当該剥離シートの使用目的に応じて適宜選定される。例えば上質紙、アート紙、コート紙、グラシン紙等や、これらの紙基材にポリエチレン等の熱可塑性樹脂をラミネートしたラミネート紙等の各種紙類、各種合成紙、アルミニウム箔や銅箔や鉄箔などの金属箔、不織布などの多孔質材料、及びポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂等のポリオレフィン樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂などのポリエステル樹脂、アセテート樹脂、ＡＢＳ樹脂、ポリスチレン樹脂、塩化ビニル樹脂などのプラスチックのフィルム、シート及びこれらの樹脂の混合物又は積層物からなるプラスチックフィルム、シート等が挙げられる。プラスチックフィルム・シート等の基材シートは、未延伸でもよいし、縦又は横などの一軸方向又は二軸方向に延伸されていてもよい。

当該基材シートとして、プラスチックフィルム、シートを用いる場合には、その上に設けられる剥離剤層との密着性を向上させるために、所望により酸化法や凹凸化法などの表面処理を施すことができる。上記酸化法としては、特には限定されないが、例えばコロナ放電処理法、クロム酸酸化（湿式）、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理などが挙げられ、また、凹凸化法としては、特には限定されないが、例えばサンドブラスト法、溶剤処理法等が挙げられる。これらの表面処理法は基材シートの種類に応じて適宜選定されるが、一般にはコロナ放電処理法が効果及び操作性などの面から、好ましく用いられる。また、プライマー処理を施すこともできる。

また、基材シートと剥離剤層との間に、所望により目止め層を設けてもよい。この目止め層は、剥離剤の基材シートへの浸透防止のほかに、基材シートと剥離剤層との密着性をさらに向上させる目的で、また基材シートが紙類で柔軟すぎる場合には、剛性を付与する目的で設けられる。このような目止め層としては、特には限定されないが例えば、スチレン−ブタジエン共重合体、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリスチレン系樹脂などを主成分として、必要に応じ、クレー、シリカ、炭酸カルシウム、酸化チタン、酸化亜鉛などのフィラーを添加したものなどからなる層が挙げられる。この目止め層の厚さは、特には制限されないが、通常０.００１〜５.０μｍ程度である。
基材シートの厚みは、特に制限はされないが、通常１０〜２５０μｍである。

［（Ａ）分子内に不飽和結合を有する未架橋ゴム］
本発明の剥離シートにおいて、前記基材シート上に設けられる剥離剤層の（Ａ）成分として用いる分子内に不飽和結合を誘導するモノマーを０.００５〜１.５モル％重合されてなるオレフィン系未架橋ゴムは、特に制限されず、例えば天然ゴムやエチレン−プロピレン−ジエン共重合ゴム（ＥＰＤＭゴム）、ブチルゴム、スチレン−イソプレン共重合ゴム、スチレン−ブタジエン共重合ゴム、スチレン−ブタジエン−ブチレン−スチレン共重合ゴム、スチレン−イソプレン−スチレン共重合ゴム、スチレン−ブタジエン−スチレン共重合ゴムなどが挙げられる。これらの未架橋ゴムは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
本発明においては、前記のオレフィン系未架橋ゴムは、ポリマー鎖中に不飽和結合を誘導するモノマーを０.００５〜１.５モル％重合してなるものであることを要し、０.０１〜１.３モル％重合してなるものが好ましい。
具体的には、ポリマー鎖中に不飽和結合を誘導するモノマーを０.００５〜１.５モル％重合してなるＥＰＤＭゴムやスチレン−イソプレン共重合ゴム、スチレン−ブタジエン共重合ゴムが好ましく、ＥＰＤＭゴムがより好ましい。
本発明においては、架橋速度が遅いＥＰＤＭゴムでも、効果的に架橋することができる。
不飽和結合を誘導するモノマーとしては、例えばイソプレン、１,３−ブタジエン、エチリデンノルボルネン、１,４−ヘキサジエン、ジシクロペンタジエンが挙げられる。

［（Ｂ）電子吸引基含有多官能モノマー］
多官能モノマーにおける電子吸引基としては、例えば−ＮＯ₂、−ＣＮ、−ＣＯＲ（Ｒはアルキル基を表す。以下において同じ）、−ＣＯＮＲ₂、−ＣＯＮＨＲ、−ＣＯＯＲ等の基を挙げることができる。
前記電子吸引基は、多官能モノマーにおける官能基の炭素−炭素二重結合（以下官能性二重結合という）の近傍にあることが好ましく、特に、官能性二重結合を構成する炭素原子に直接結合していることが好ましい。
本発明で用いる電子吸引基含有多官能モノマーに特に制限はないが、入手性及び反応性などの観点から、(メタ)アクリル酸系多官能性モノマーが好ましい。

(メタ)アクリル酸系多官能性モノマーとしては、例えば、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド付加ビスフェノールＡジ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡジ(メタ)アクリレート、１,１０−デカンジオールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド付加２−メチル−１,３−プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレート、プロピレンオキシド／エチレンオキシド付加ビスフェノールＡジ(メタ)アクリレート、１,６−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、１,９−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド付加イソシアヌル酸トリ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド付加トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド付加トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド付加ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド付加ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、シクロヘキサンジメタノールジ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド付加シクロヘキサンジメタノールジ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド付加グリセリントリ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。なお、(メタ)アクリレートとは、アクリレート及びメタクリレートの両方を意味する。
本発明においては、これらの(メタ)アクリル酸系多官能性モノマーは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
この（Ｂ）成分の電子吸引基含有多官能モノマーの配合量は、（Ａ）成分のオレフィン系未架橋ゴム１００質量部に対して、通常０.１〜３０質量部程度である。
０.１質量部未満では、架橋を十分に行うことができず、また３０質量部を超えると、未架橋ゴムと相溶しない成分が増加したり、未反応の多官能モノマーが増大し、移行成分が増加し粘着シート等に不具合が発生する。

［光重合開始剤］
本発明の剥離シートにおいては、未架橋ゴム材料層を、活性エネルギー線の照射により架橋させて、剥離剤層を形成させるが、前記活性エネルギー線としては、装置や生産性、経済性などの観点から、紫外線が好ましく用いられる。
活性エネルギー線として、紫外線を用いる場合には、必要に応じ、光重合開始剤を用いることができる。なお、電子線を用いる場合には、光重合開始剤を用いる必要はない。
本発明において、用いることのできる光重合開始剤としては特に制限はなく、例えば２,２−ジメトキシ−１,２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−[４−(２−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−[４−[４−(２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル]−２−メチル−プロパン−１−オン、２−メチル−１−(４−メチルチオフェニル)−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−(４−モルホリノフェニル)−ブタノン−１、２−(ジメチルアミノ)−２−[(４−メチルフェニル)メチル]−１−[４−(４−モルホリニル)フェニル]−１−ブタノン等のアルキルフェノン系光重合開始剤、２,４,６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド、ビス(２,４,６−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド系光重合開始剤、ビス(η５−２,４−シクロペンタジエン−１−イル)−ビス[２,６−ジフルオロ−３−(１Ｈ−ピロール−１−イル)−フェニル]チタニウム等のチタノセン系光重合開始剤、１,２−オクタンジオン−１−[４−(フェニルチオ)−２−(Ｏ−ベンゾイルオキシム)]、エタノン−１−[９−エチル−６−(２−メチルベンゾイル)−９Ｈ−カルバゾール−３−イル]−１−(Ｏ−アセチルオキシム)等のオキシムエステル系光重合開始剤、ベンゾフェノン、ｐ−クロロベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４−メチルベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４'−メチル−ジフェニルサルファイド、３,３'−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、２,４,６−トリメチルベンゾフェノン、４−(１３−アクリロイル−１,４,７,１０,１３−ペンタオキサトリデシル)−ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系光重合開始剤、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、３−メチルチオキサントン、２,４−ジメチルチオキサントン、２,４−ジイソプロピルチオキサントン、２,４−ジクロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン等のチオキサントン系光重合開始剤等が挙げられる。

これらの光重合開始剤は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。また、前記光重合開始剤には、例えばトリイソプロパノールアミンや、４,４'−ジエチルアミノベンゾフェノンなどの光重合開始助剤などを併用してもよい。
前記光重合開始剤の使用量は、固形分として、前述した（Ａ）成分のオレフィン系未架橋ゴム１００質量部（固形分）に対して、通常０.０１〜２０質量部、好ましくは０.５〜１０質量部の範囲で選定される。光重合開始剤の使用量が０.０１質量部未満では、十分な架橋を行うことができず、一方２０質量部を超えると、紫外線照射時に（Ａ）成分であるオレフィン系未架橋ゴムの主骨格の分解が促進されたりする。

［その他成分］
本発明の剥離シートにおいては、酸化防止剤を含有させることが好ましい。酸化防止剤としては、特に制限はなく、公知のホスファイト系酸化防止剤、有機イオウ系酸化防止剤、ヒンダードフェノール系酸化防止剤等が挙げられる。

［有機溶媒］
当該剥離剤層形成用塗工液は、有機溶媒に、前記各成分を溶解して調製することが好ましい。この際用いられる有機溶媒としては、（Ａ）成分のオレフィン系未架橋ゴムに対する溶解性が良好である公知の溶媒の中から適宜選択して用いることができる。このような有機溶媒としては、例えばトルエン、キシレン、メタノール、エタノール、イソブタノール、ｎ−ブタノール、アセトン、メチルエチルケトン、テトラヒドロフランなどが挙げられる。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
当該塗工液の固形分濃度としては、０.１〜１５質量％程度が好ましい。

次に、本発明の剥離シートの製造方法について説明する。
［剥離シートの製造方法］
本発明の剥離シートの製造方法は、基材シート上に、前記のようにして調製した、（Ａ）分子内に不飽和結合を誘導するモノマーを０.００５〜１.５モル％重合されてなるオレフィン系未架橋ゴム、及び（Ｂ）電子吸引基含有多官能モノマーを含む剥離剤層形成用塗工液を塗布、乾燥して未架橋ゴム材料層を設けたのち、活性エネルギー線を照射して硬化させることにより、剥離シートを製造する。なお、上記剥離剤層形成用塗工液には、活性エネルギー線として、紫外線を用いる場合には、前述したように、通常光重合開始剤が含まれる。

当該塗工液の基材シート上への塗工は例えばバーコート法、リバースロールコート法、ナイフコート法、ロールナイフコート法、グラビアコート法、エアドクターコート法、ドクターブレードコート法など、従来公知の塗工方法により行うことができる。
本発明において剥離剤層は、このように当該塗工液を前記基材シート上へ塗工し、乾燥後、活性エネルギー線を照射することにより形成される。用いられる活性エネルギー線としては、例えば電子線や紫外線が挙げられ、用いる光開始剤の吸収波長や、基材劣化のダメージといった点から紫外線が好適である。
紫外線照射に使用する紫外線ランプとしては、従来公知の高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ハイパワーメタルハライドランプ、無電極ランプなどが使用できるが、（Ａ）成分の未架橋ゴムの硬化性の点で無電極ランプが最も適している。
紫外線の照射量は、基材シートと剥離剤層との高密着性を得るという観点及び軽剥離を得るという観点からは、光量で１０〜３００ｍＪ／ｃｍ²の範囲が好ましい。

このようにして形成された剥離剤層の厚みは、当該塗工液を基材フィルム上へ塗工し、乾燥し硬化させた状態で、０.０２〜５.０μｍとすることが好ましく、さらに好ましくは０.０５〜１.５μｍである。０.０２μｍ以上とすることにより十分な剥離性が得られ、また、５.０μｍ以下とすることにより剥離シートの背面と剥離剤層とのブロッキング等の不具合を生じる恐れがない。
本発明の剥離シートに適用される粘着剤としては特に制限はなく、例えば、例えばアクリル系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ウレタン系粘着剤などの、従来公知の粘着剤の中から適宜選択することができる。

次に、本発明を実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定されるものではない。
＜剥離力の測定＞
剥離剤層に粘着シート［日東電工社製、「３１Ｂテープ」］を貼り合わせ、温度２３℃、相対湿度５０％の条件下で３０分間放置後の剥離力を、ＪＩＳ Ｚ ０２３７に準拠して、剥離速度０.３ｍ／分の条件で１８０°ピール試験を行い、測定した。

＜硬化性の評価＞
剥離シートの剥離剤層が設けられた面を、指で１０回擦り、曇り（スミア）があるかを目視にて確認した。また擦った部分に上記粘着テープを貼り、上記剥離力の測定により剥離力を測定し、擦る前後の剥離力の変化により、塗工膜の脱落（ラブオフ）の有無を確認し、以下の評価基準により評価した。
［スミアの評価基準］
○：スミアは全く確認されないか又は僅かに確認されても実用範囲内である。
△：スミアが若干確認される（実用上問題が生じる場合がある）。
×：スミアが顕著に確認される。
［ラブオフの評価基準］
○：ラブオフは全く確認されないか又は僅かに確認されても実用範囲内である。
△：ラブオフが若干確認される（実用上問題が生じる場合がある）。
×：ラブオフが顕著に確認される。

実施例１
（Ａ）成分のオレフィン系未架橋ゴムとしてエチレン−プロピレン−ジエン共重合体ゴム［ＪＳＲ社製、製品名「ＪＳＲ ＥＰ４３」、不飽和結合を誘導するモノマーの重合割合：０.０１モル％］１００質量部（固形分）と、光重合開始剤としてベンゾフェノン［東京化成工業社製］３質量部（固形分）と、（Ｂ）成分の電子吸引基含有多官能モノマーとして、トリメチロールプロパントリアクリレート［新中村化学工業社製、製品名「ＮＫエステル Ａ−ＴＭＰＴ」］５質量部を、固形分濃度が約０.５質量％になるようにトルエンにて希釈した。この剥離剤溶液をマイヤーバーを用い、基材シートとしてポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム［三菱化学ポリエステルフィルム社製、商品名「ＰＥＴ３８Ｔ−１００」］の片面に塗工した後、９０℃で約１分間溶剤乾燥させて未架橋ゴム材料層を設け、無電極ランプにて紫外線照射（約２００ｍＪ／ｃｍ²）を行い、硬化させて膜厚が０.１μｍの剥離剤層を有する剥離シートを得た。剥離力の測定結果及び硬化性の評価結果を第１表に示す。

実施例２〜１１ならびに比較例１〜１０
未架橋ゴム、電子吸引基含有多官能モノマー及び光重合開始剤の組成、配合を第１表に従って変更した以外は、実施例１と同様に剥離シートを作製し、剥離力の測定及び硬化性の評価を実施した。その結果を第１表に示す。

［注］
Ａ−１：エチレン−プロピレン−ジエン共重合体ゴム［ＪＳＲ社製、製品名「ＪＳＲ ＥＰ４３」、不飽和結合を誘導するモノマーの重合割合：０.０１モル％］
Ａ−２：エチレン−プロピレン−ジエン共重合体ゴム［ＪＳＲ社製、製品名「ＪＳＲ ＥＰ２１」、不飽和結合を誘導するモノマーの重合割合：０.０７モル％］
Ａ−３：エチレン−プロピレン−ジエン共重合体ゴム［ＪＳＲ社製、製品名「ＪＳＲ ＥＰ３３」、不飽和結合を誘導するモノマーの重合割合：０.０４モル％］
Ａ−４：スチレン−イソプレン共重合体［日本ゼオン社製、製品名「Ｑｕｉｎｔａｃ ３５２０」、不飽和結合を誘導するモノマーの重合割合：１.２４モル％］
Ａ−５：スチレン−ブタジエン共重合体［クレイトンポリマー社製、製品名「Ｋｒａｔｏｎ Ｄ１１０１」、不飽和結合を誘導するモノマーの重合割合：１.２８モル％］
Ａ−６：ポリイソブチレンゴム［ＢＡＳＦ社製、製品名「オパノールＢ３０」、不飽和結合を誘導するモノマーの重合割合：０％］
Ａ−７：ブチルゴム［ＪＳＲ社製、製品名「Ｂｕｔｙｌ３６５」、不飽和結合を誘導するモノマーの重合割合：２モル％］
Ｂ−１：ベンゾフェノン［東京化成工業社製］
Ｂ−２：１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、製品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４」］
Ｃ−１：トリメチロールプロパントリアクリレート［新中村化学工業社製、製品名「ＮＫエステル Ａ−ＴＭＰＴ」］
Ｃ−２：トリメチロールプロパントリメタクリレート［新中村化学工業社製、製品名「ＮＫエステル ＴＭＰＴ」］

第１表からわかるように、不飽和結合を誘導するモノマーの重合割合が０.００５〜１.５モル％重合されてなるオレフィン系ゴムに多官能モノマーを加え、紫外線を照射して架橋させてなる実施例１〜１１の剥離シートは、剥離力が１００〜７００ｍＮの範囲にあり、かつ硬化性試験は良好であった。これに対し架橋を行っていない比較例１〜８は、剥離力、硬化性いずれも悪かった。また、不飽和結合を誘導するモノマーの重合割合が０モル％、及び２.０モル％重合されてなるオレフィン系ゴムに多官能モノマーを加え、紫外線を照射して架橋させてなる比較例９、１０は、硬化性は良好だったものの、剥離力が２３００ｍＮ／２５ｍｍ以上と極めて悪いものだった。

本発明の剥離シートは、粘着剤層面へのケイ素化合物の移行がなく、かつ優れた剥離性を有し、電子部品の接着やラベル用途、及び半導体ウェハ加工用粘着シートなど、粘着剤面に移行したケイ素化合物が問題となる用途において好適に用いられる。

Claims (7)

1. 粘着シートの粘着層を保護するために用いられる剥離シートであって、基材シートと、剥離剤層とを有し、かつ該剥離剤層が、（Ａ）分子内に不飽和結合を誘導するモノマーを０.００５〜１.５モル％重合されてなるオレフィン系未架橋ゴム、及び（Ｂ）電子吸引基含有多官能モノマーを含む未架橋ゴム材料層に、活性エネルギー線を照射することにより形成された硬化層であることを特徴とする剥離シート。
2. 活性エネルギー線が紫外線であって、未架橋ゴム材料層が、さらに光重合開始剤を含む、請求項１に記載の剥離シート。
3. 未架橋ゴム材料層が、（Ａ）成分のオレフィン系未架橋ゴム１００質量部に対し、光重合開始剤を０.０１〜２０質量部の割合で含む、請求項２に記載の剥離シート。
4. 未架橋ゴム材料層が、（Ａ）成分１００質量部に対し、（Ｂ）成分を０.１〜３０質量部の割合で含む、請求項１〜３のいずれかに記載の剥離シート。
5. 剥離剤層の厚みが、０.０２〜５.０μｍである、請求項１〜４のいずれかに記載の剥離シート。
6. 基材シート上に、（Ａ）分子内に不飽和結合を誘導するモノマーを０.００５〜１.５モル％重合されてなるオレフィン系未架橋ゴム、及び（Ｂ）電子吸引基含有多官能モノマーを含む剥離剤層形成用塗工液を塗布、乾燥して未架橋ゴム材料層を設けたのち、活性エネルギー線を照射して硬化させることを特徴とする剥離シートの製造方法。
7. 活性エネルギー線が紫外線であって、剥離剤層形成用塗工液が、さらに光重合開始剤を含む、請求項６に記載の剥離シートの製造方法。