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JP5510664B2 - Electronic component and manufacturing method thereof - Google Patents
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JP5510664B2 JP2010207573A JP2010207573A JP5510664B2 JP 5510664 B2 JP5510664 B2 JP 5510664B2 JP 2010207573 A JP2010207573 A JP 2010207573A JP 2010207573 A JP2010207573 A JP 2010207573A JP 5510664 B2 JP5510664 B2 JP 5510664B2
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Description

本発明は、電子部品及びその製造方法に関する。   The present invention relates to an electronic component and a manufacturing method thereof.

従来、圧電装置や、弾性波装置など、筐体と、筐体に支持されている電子部品本体とを備える電子部品が種々知られている。例えば、下記の特許文献1には、図7に示す圧電装置100が開示されている。   2. Description of the Related Art Conventionally, various electronic components such as a piezoelectric device and an acoustic wave device that include a casing and an electronic component main body supported by the casing are known. For example, the following Patent Document 1 discloses a piezoelectric device 100 shown in FIG.

圧電装置100は、筐体110と、水晶振動子120とを備えている。筐体110は、筐体本体111と、蓋112とを有する。筐体本体111は、矩形状の底壁部111aと、底壁部111aの周囲に設けられており、底壁部111aから突出している額縁部111bとを有する。また、底壁部111aの角部の上には、支持部111cが形成されている。この支持部111cによって水晶振動子120が支持されている。   The piezoelectric device 100 includes a housing 110 and a crystal resonator 120. The housing 110 includes a housing body 111 and a lid 112. The housing body 111 includes a rectangular bottom wall portion 111a and a frame portion 111b that is provided around the bottom wall portion 111a and protrudes from the bottom wall portion 111a. A support portion 111c is formed on the corner portion of the bottom wall portion 111a. The crystal unit 120 is supported by the support portion 111c.

特開2010−57087号公報JP 2010-57087 A

筐体本体111の作製方法としては、例えば、底壁部111aの支持部111cを形成しようとする部分を除いた部分の上に、レジストを塗布し、硬化させることにより、レジストマスクを形成し、そのレジストマスクを用いて支持部111cを形成する方法が考えられる。しかしながら、この方法では、支持部111cの形成後にレジストマスクを剥離するリフトオフ工程において、レジストマスクが損傷し、レジストマスクの一部が筐体本体111側に残存してしまう恐れがあり、筐体本体111を容易に作製できないという問題がある。   As a manufacturing method of the housing body 111, for example, a resist mask is formed by applying and curing a resist on a portion excluding a portion where the support portion 111c of the bottom wall portion 111a is to be formed. A method of forming the support portion 111c using the resist mask can be considered. However, in this method, in the lift-off process of peeling the resist mask after the support portion 111c is formed, the resist mask may be damaged, and a part of the resist mask may remain on the housing body 111 side. There is a problem that 111 cannot be easily manufactured.

本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的は、製造が容易な電子部品を提供することにある。   This invention is made | formed in view of this point, The objective is to provide an electronic component with easy manufacture.

本発明に係る電子部品は、筐体と、電子部品本体とを備えている。筐体は、底壁部と、額縁部と、支持部とを有する。額縁部は、底壁部の周囲に設けられている。額縁部は、底壁部から突出している。支持部は、底壁部の上に突出して設けられている。電子部品本体は、支持部によって支持されている。底壁部は、少なくとも一つの角部を有する。支持部は、角部において、額縁部からの距離が角部の先端側に向かって単調減少するように形成されている。   The electronic component according to the present invention includes a housing and an electronic component main body. The housing includes a bottom wall portion, a frame portion, and a support portion. The frame portion is provided around the bottom wall portion. The frame part protrudes from the bottom wall part. The support portion is provided so as to protrude above the bottom wall portion. The electronic component main body is supported by the support portion. The bottom wall has at least one corner. The support portion is formed such that the distance from the frame portion monotonously decreases toward the tip end side of the corner portion at the corner portion.

本発明に係る電子部品のある特定の局面では、支持部は、底壁部の角部に向かって延び、底壁部の角部よりも角度が小さい角部を有する。   On the specific situation with the electronic component which concerns on this invention, a support part is extended toward the corner | angular part of a bottom wall part, and has a corner | angular part whose angle is smaller than the corner | angular part of a bottom wall part.

本発明に係る電子部品の製造方法は、上記本発明に係る電子部品を製造するための方法に関する。本発明に係る電子部品の製造方法は、基板の上にレジストを塗布し、硬化させることにより、基板の表面の一部分を覆うレジストマスクを形成する工程と、レジストマスクを用いて基板の上に、額縁部及び支持部を形成する形成工程と、形成工程の後に、レジストマスクを剥離する工程とを備えている。   The method for manufacturing an electronic component according to the present invention relates to a method for manufacturing the electronic component according to the present invention. The method of manufacturing an electronic component according to the present invention includes a step of forming a resist mask that covers a portion of the surface of the substrate by applying and curing a resist on the substrate, and using the resist mask on the substrate, A forming step of forming the frame portion and the support portion, and a step of peeling the resist mask after the forming step are provided.

本発明に係る電子部品において、支持部は、角部において、額縁部からの距離が角部の先端側に向かって単調減少するように形成されている。このため、本発明に係る電子部品は、レジストマスクを用いて容易に製造することができる。   In the electronic component according to the present invention, the support portion is formed so that the distance from the frame portion decreases monotonously toward the tip side of the corner portion at the corner portion. For this reason, the electronic component according to the present invention can be easily manufactured using a resist mask.

本発明を実施した一実施形態に係る電子部品の略図的平面図である。1 is a schematic plan view of an electronic component according to an embodiment of the present invention. 図1の線II−IIにおける略図的断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view taken along line II-II in FIG. 1. 図2の線III−IIIにおける略図的断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view taken along line III-III in FIG. 2. 本発明を実施した一実施形態における筐体本体の作製工程を説明するための略図的断面図である。It is a schematic sectional drawing for demonstrating the manufacturing process of the housing body in one Embodiment which implemented this invention. 本発明を実施した一実施形態における筐体本体の作製工程を説明するための略図的断面図である。It is a schematic sectional drawing for demonstrating the manufacturing process of the housing body in one Embodiment which implemented this invention. 本発明を実施した一実施形態における筐体本体の作製工程を説明するための略図的断面図である。It is a schematic sectional drawing for demonstrating the manufacturing process of the housing body in one Embodiment which implemented this invention. 特許文献1に記載の圧電装置の略図的断面図である。1 is a schematic cross-sectional view of a piezoelectric device described in Patent Document 1. FIG.

以下、本発明の好ましい実施形態について、図1に記載の電子部品1を例に挙げて説明する。但し、電子部品1及びその製造方法は単なる一例である。本発明は、以下の電子部品1及びその製造方法に何ら限定されない。   Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described by taking the electronic component 1 shown in FIG. 1 as an example. However, the electronic component 1 and the manufacturing method thereof are merely examples. The present invention is not limited to the following electronic component 1 and manufacturing method thereof.

図1は、本実施形態に係る電子部品の略図的平面図である。図2は、図1の線II−IIにおける略図的断面図である。図3は、図2の線III−IIIにおける略図的断面図である。   FIG. 1 is a schematic plan view of an electronic component according to this embodiment. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view taken along line II-II in FIG. 3 is a schematic cross-sectional view taken along line III-III in FIG.

図1〜図3に示すように、電子部品1は、電子部品本体10と、筐体20とを備えている。電子部品本体10は、筐体20の内部空間20aにおいて、筐体20に支持されている。電子部品本体10は、電子部品1の機能を発現する機能発現部を構成している。例えば、電子部品1が圧電装置である場合は、電子部品本体10は、圧電機能を具備している。この場合、例えば、電子部品本体10は、例えば、圧電体と圧電体に電圧を印加するための一対の電極とを有するものとすることができる。例えば、電子部品本体10は、互いに対向する一対の主面を有する平面視長方形状の圧電体と、その圧電体の各主面の上に形成されている駆動電極とを備える圧電振動子により構成することができる。   As shown in FIGS. 1 to 3, the electronic component 1 includes an electronic component main body 10 and a housing 20. The electronic component main body 10 is supported by the housing 20 in the internal space 20 a of the housing 20. The electronic component body 10 constitutes a function expression unit that expresses the function of the electronic component 1. For example, when the electronic component 1 is a piezoelectric device, the electronic component body 10 has a piezoelectric function. In this case, for example, the electronic component main body 10 can include, for example, a piezoelectric body and a pair of electrodes for applying a voltage to the piezoelectric body. For example, the electronic component main body 10 is configured by a piezoelectric vibrator including a piezoelectric body having a rectangular shape in plan view having a pair of main surfaces facing each other, and drive electrodes formed on the main surfaces of the piezoelectric body. can do.

筐体20は、筐体本体21と、蓋22とを有する。この蓋22により筐体本体21に形成されている凹部が密閉され、内部空間20aが区画形成されている。蓋22の材質は特に限定されない。蓋22は、例えば、金属、合金、セラミックス、樹脂などにより形成することができる。   The housing 20 includes a housing body 21 and a lid 22. The lid 22 seals the recess formed in the housing main body 21 and defines the internal space 20a. The material of the lid 22 is not particularly limited. The lid 22 can be formed of, for example, metal, alloy, ceramics, resin, or the like.

筐体本体21は、平板状の底壁部21aと、額縁部21bと、支持部21cとを有する。底壁部21aは、少なくとも一つの角部を有する。本実施形態では、底壁部21aは、図1及び図3に示すように、4つの角部21a1〜21a4を有する矩形状に形成されている。なお、4つの角部21a1〜21a4のそれぞれは、R面取り状に形成されている。   The housing body 21 includes a flat bottom wall portion 21a, a frame portion 21b, and a support portion 21c. The bottom wall portion 21a has at least one corner portion. In the present embodiment, the bottom wall portion 21a is formed in a rectangular shape having four corner portions 21a1 to 21a4 as shown in FIGS. Each of the four corners 21a1 to 21a4 is formed in an R chamfer shape.

額縁部21bは、底壁部21aの周囲に、底壁部21aを包囲するように設けられている。額縁部21bは、底壁部21aから、底壁部21aの法線方向に突出している。額縁部21bの平面視における中央部には、開口部が形成されている。その開口部は、底壁部21aの4つの角部のそれぞれに対応した角部を有する長方形状に形成されている。なお、本実施形態では、開口部の各角部は、R面取り状に形成されている。この額縁部21bの先端部に蓋22が接合されている。なお、額縁部21bと蓋22との接合は、例えば、接着剤や半田などを用いて行ってもよいし、レーザーなどによる溶接によって行ってもよい。   The frame portion 21b is provided around the bottom wall portion 21a so as to surround the bottom wall portion 21a. The frame portion 21b protrudes from the bottom wall portion 21a in the normal direction of the bottom wall portion 21a. An opening is formed at the center of the frame portion 21b in plan view. The opening is formed in a rectangular shape having corners corresponding to the four corners of the bottom wall 21a. In the present embodiment, each corner of the opening is formed in an R chamfer shape. A lid 22 is joined to the tip of the frame portion 21b. In addition, joining of the frame part 21b and the lid | cover 22 may be performed using an adhesive agent, solder, etc., for example, and may be performed by welding by a laser.

支持部21cは、底壁部21aの上に、底壁部21aから突出するように設けられている。具体的には、支持部21cとして、第1の角部21a1に設けられている第1の支持部21c1と、第2の角部21a2に設けられている第2の支持部21c2とが形成されている。第1の支持部21c1と第2の支持部21c2とは、底壁部21aの短辺の延びる方向に沿って配列されている。これら第1及び第2の支持部21c1,21c2によって電子部品本体10が支持されている。ここで、第1及び第2の支持部21c1,21c2間の距離、及び、支持部21c1,21c2と額縁部21との間の距離とは、R面取り状に形成された角部21a2,21a4がR面取りされていないとした場合の角部21a2の先端と、角部21a4の先端とを結ぶ直線に対して垂直な方向における距離である。電子部品本体10の支持態様は特に限定されない。電子部品本体10は、例えば、接着剤や半田などを用いて第1及び第2の支持部21c1,21c2に接合されることにより支持されていてもよい。   The support portion 21c is provided on the bottom wall portion 21a so as to protrude from the bottom wall portion 21a. Specifically, as the support portion 21c, a first support portion 21c1 provided at the first corner portion 21a1 and a second support portion 21c2 provided at the second corner portion 21a2 are formed. ing. The first support portion 21c1 and the second support portion 21c2 are arranged along the direction in which the short side of the bottom wall portion 21a extends. The electronic component main body 10 is supported by the first and second support portions 21c1 and 21c2. Here, the distance between the first and second support portions 21c1 and 21c2 and the distance between the support portions 21c1 and 21c2 and the frame portion 21 are the corner portions 21a2 and 21a4 formed in an R chamfer shape. This is a distance in a direction perpendicular to a straight line connecting the tip of the corner 21a2 and the tip of the corner 21a4 when the chamfer is not rounded. The support mode of the electronic component main body 10 is not particularly limited. The electronic component main body 10 may be supported by being joined to the first and second support portions 21c1 and 21c2 using, for example, an adhesive or solder.

なお、底壁部21a、額縁部21b及び支持部21cは、一体に形成されていてもよいし、別体に形成されていてもよい。本実施形態では、底壁部21a、額縁部21b及び支持部21cが別体に形成されている例について説明する。具体的には、本実施形態では、底壁部21aが金属板により構成されており、支持部21c及び額縁部21bがめっき膜により構成されている。もっとも、底壁部21a、額縁部21b及び支持部21cのそれぞれの材質は、特に限定されない。底壁部21a、額縁部21b及び支持部21cのそれぞれは、金属や合金により形成されていてもよいし、セラミックス、樹脂などにより形成されていてもよい。   In addition, the bottom wall part 21a, the frame part 21b, and the support part 21c may be formed integrally, and may be formed separately. In the present embodiment, an example in which the bottom wall portion 21a, the frame portion 21b, and the support portion 21c are formed separately will be described. Specifically, in the present embodiment, the bottom wall portion 21a is made of a metal plate, and the support portion 21c and the frame portion 21b are made of a plating film. But the material of each of the bottom wall part 21a, the frame part 21b, and the support part 21c is not specifically limited. Each of the bottom wall portion 21a, the frame portion 21b, and the support portion 21c may be formed of a metal or an alloy, or may be formed of ceramics, resin, or the like.

本実施形態において、第1及び第2の支持部21c1,21c2のそれぞれは、額縁部21bからの距離が第1または第2の角部21a1,21a2の先端側に向かって単調減少するように形成されている。具体的には、第1及び第2の支持部21c1,21c2のそれぞれは、多角形状、より詳細には、四辺形状に形成されている。そして、第1及び第2の支持部21c1,21c2の角部23a、23bは、第1または第2の角部21a1,21a2に向かって延びており、かつ、角部23a、23bの角度は、第1または第2の角部21a1,21a2の角度よりも小さい。このため、第1の支持部21c1の側壁24a1と額縁部21bの内壁21b1との距離が、第1の角部21a1の先端側に向かって狭くなっている。第1の支持部21c1の側壁24a2と額縁部21bの内壁21b2との距離が、第1の角部21a1の先端側に向かって狭くなっている。第2の支持部21c2の側壁24b1と額縁部21bの内壁21b3との距離が、第2の角部21a2の先端側に向かって狭くなっている。第2の支持部21c2の側壁24b2と額縁部21bの内壁21b2との距離が、第2の角部21a2の先端側に向かって狭くなっている。つまり、支持部の側壁と額縁部の内壁との距離が、額縁部の角部に近づくにつれて単調減少して、額縁部の角部で最小値をとっている。   In the present embodiment, each of the first and second support portions 21c1 and 21c2 is formed such that the distance from the frame portion 21b monotonously decreases toward the distal end side of the first or second corner portions 21a1 and 21a2. Has been. Specifically, each of the first and second support portions 21c1 and 21c2 is formed in a polygonal shape, more specifically, a quadrilateral shape. The corner portions 23a and 23b of the first and second support portions 21c1 and 21c2 extend toward the first or second corner portions 21a1 and 21a2, and the angles of the corner portions 23a and 23b are as follows. It is smaller than the angle of the first or second corner portion 21a1, 21a2. For this reason, the distance between the side wall 24a1 of the first support portion 21c1 and the inner wall 21b1 of the frame portion 21b is narrowed toward the distal end side of the first corner portion 21a1. The distance between the side wall 24a2 of the first support portion 21c1 and the inner wall 21b2 of the frame portion 21b is narrowed toward the distal end side of the first corner portion 21a1. The distance between the side wall 24b1 of the second support portion 21c2 and the inner wall 21b3 of the frame portion 21b is narrowed toward the distal end side of the second corner portion 21a2. The distance between the side wall 24b2 of the second support portion 21c2 and the inner wall 21b2 of the frame portion 21b is narrowed toward the distal end side of the second corner portion 21a2. That is, the distance between the side wall of the support portion and the inner wall of the frame portion monotonously decreases as it approaches the corner portion of the frame portion, and takes the minimum value at the corner portion of the frame portion.

次に、本実施形態の電子部品1の製造方法について、図4〜図6を主として参照しながら説明する。   Next, a method for manufacturing the electronic component 1 according to the present embodiment will be described with reference mainly to FIGS.

まず、基板30(図4を参照)を用意する。この基板30は、底壁部21aを構成するための基板である。次に、基板30の上に、基板30の表面の一部分を覆うレジストマスク31(図5を参照)形成する。具体的には、まず、図4に示すように、基板30の上に、レジスト32を塗布する。その後、レジスト32を露光し、現像することにより、基板30の表面の、額縁部21b及び支持部21cを形成しようとする部分を除いた部分を覆うレジストマスク31を形成する。   First, a substrate 30 (see FIG. 4) is prepared. This board | substrate 30 is a board | substrate for comprising the bottom wall part 21a. Next, a resist mask 31 (see FIG. 5) that covers a part of the surface of the substrate 30 is formed on the substrate 30. Specifically, first, as shown in FIG. 4, a resist 32 is applied on the substrate 30. Thereafter, the resist 32 is exposed and developed, thereby forming a resist mask 31 that covers a portion of the surface of the substrate 30 excluding a portion where the frame portion 21b and the support portion 21c are to be formed.

次に、図6に示すように、レジストマスク31を用いて、レジストマスク31の上から基板30の上に、額縁部21b及び支持部21cを形成するための層33を形成する。層33の形成方法は特に限定されない。本実施形態のように、額縁部21b及び支持部21cが金属製である場合は、例えば、めっきにより層33を形成することができる。   Next, as shown in FIG. 6, a layer 33 for forming the frame portion 21 b and the support portion 21 c is formed on the substrate 30 from the top of the resist mask 31 using the resist mask 31. The formation method of the layer 33 is not specifically limited. When the frame portion 21b and the support portion 21c are made of metal as in this embodiment, the layer 33 can be formed by plating, for example.

次に、レジストマスク31を剥離することにより、基板30と層33とからなる筐体本体21を作製する。その後、筐体本体21に電子部品本体10を接合する。最後に、蓋22を取り付けることにより電子部品1を完成させることができる。   Next, by peeling off the resist mask 31, the housing body 21 composed of the substrate 30 and the layer 33 is produced. Thereafter, the electronic component body 10 is joined to the housing body 21. Finally, the electronic component 1 can be completed by attaching the lid 22.

ところで、特許文献1に記載の圧電装置100のように、支持部111cと額縁部111bとの互いに対向する側壁が平行である場合は、レジストマスクを用いて支持部111cを形成した後に、レジストマスクを剥離しようとすると、額縁部111bと支持部111cとの間にレジストマスクが引っかかり、レジストマスクの残留物が筐体本体に残存してしまう不良が発生しやすい。   By the way, like the piezoelectric device 100 of patent document 1, when the mutually opposing side wall of the support part 111c and the frame part 111b is parallel, after forming the support part 111c using a resist mask, a resist mask is formed. If it is going to peel off, a resist mask will be caught between the frame part 111b and the support part 111c, and the defect that the residue of a resist mask will remain in a housing | casing main body will generate | occur | produce easily.

それに対して本実施形態では、第1及び第2の支持部21c1,21c2のそれぞれは、額縁部21bからの距離が第1または第2の角部21a1,21a2の先端側に向かって単調減少するように形成されている。このため、レジストマスク31を剥離する際に、レジストマスク31が額縁部21bと支持部21cとの間に引っかかって残留しにくい。詳細には、角部21a3,21a4の間の短辺側から、他方の短辺側へとレジストマスク31を剥離する場合、支持部21cと額縁部21bとの間の距離が単調減少するため、レジストマスク31の剥離が進むにつれて、レジストマスク31に加わる応力が徐々に小さくなる。また、レジストマスク31の幅が最も狭く、最も脆弱な部分は、剥離方向における終端部である額縁部21bの角部に位置している。このため、レジストマスク31を剥離している最中にレジストマスク31が破断し、額縁部21bや底壁部21aにレジストマスク31が残存ずることを抑制することができる。従って、レジストマスク31の残留物が生じるという不良が発生しにくく、電子部品1を容易に製造することができる。   On the other hand, in the present embodiment, each of the first and second support portions 21c1 and 21c2 monotonously decreases in distance from the frame portion 21b toward the distal end side of the first or second corner portions 21a1 and 21a2. It is formed as follows. For this reason, when the resist mask 31 is peeled off, the resist mask 31 is hardly caught and remains between the frame portion 21b and the support portion 21c. Specifically, when the resist mask 31 is peeled from the short side between the corners 21a3 and 21a4 to the other short side, the distance between the support part 21c and the frame part 21b monotonously decreases. As the resist mask 31 is peeled off, the stress applied to the resist mask 31 gradually decreases. Further, the width of the resist mask 31 is the narrowest and the most fragile portion is located at a corner of the frame portion 21b which is a terminal portion in the peeling direction. For this reason, it is possible to suppress the resist mask 31 from being broken while the resist mask 31 is being peeled off, and the resist mask 31 from remaining on the frame portion 21b and the bottom wall portion 21a. Therefore, the defect that the residue of the resist mask 31 is hardly generated and the electronic component 1 can be easily manufactured.

なお、上記実施形態では、支持部が四辺形状に形成されている例について説明した。但し、本発明は、この構成に限定されない。支持部は、例えば、平面視において、多角形状や三角形状であってもよい。支持部が角部を有する形状に形成されている場合、支持部の角部は面取り状またはR面取り状に形成されていてもよい。   In the above embodiment, an example in which the support portion is formed in a quadrilateral shape has been described. However, the present invention is not limited to this configuration. For example, the support portion may have a polygonal shape or a triangular shape in plan view. When the support portion is formed in a shape having a corner portion, the corner portion of the support portion may be formed in a chamfered shape or an R chamfered shape.

また、支持部の形成方法は、めっきに限定されず、例えば、CVD(Chemical Vapor Deposition)法やスパッタリング法などの薄膜形成法により支持部を形成してもよい。   Moreover, the formation method of a support part is not limited to plating, For example, you may form a support part by thin film formation methods, such as CVD (Chemical Vapor Deposition) method and sputtering method.

1…電子部品
10…電子部品本体
20…筐体
20a…内部空間
21…筐体本体
21a…底壁部
21a1〜21a4…角部
21b…額縁部
21b1〜21b3…内壁
21c…支持部
21c1…第1の支持部
21c2…第2の支持部
22…蓋
23a、23b…角部
24a1,24a2,24b1,24b2…側壁
30…基板
31…レジストマスク
32…レジスト
33…層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Electronic component 10 ... Electronic component main body 20 ... Housing | casing 20a ... Internal space 21 ... Housing main body 21a ... Bottom wall part 21a1-21a4 ... Corner | angular part 21b ... Frame part 21b1-21b3 ... Inner wall 21c ... Support part 21c1 ... 1st Support portion 21c2 ... second support portion 22 ... lids 23a, 23b ... corner portions 24a1, 24a2, 24b1, 24b2 ... side wall 30 ... substrate 31 ... resist mask 32 ... resist 33 ... layer

Claims (3)

底壁部と、前記底壁部の周囲に設けられており、前記底壁部から突出する額縁部と、前記底壁部の上に突出して設けられている支持部とを有する筐体と、
前記支持部によって支持されている電子部品本体と、
を備え、
前記底壁部は、少なくとも一つの角部を有し、
前記支持部は、前記角部において、前記額縁部からの距離が前記角部の先端側に向かって単調減少するように形成されている、電子部品。
A housing having a bottom wall portion, a frame portion provided around the bottom wall portion, protruding from the bottom wall portion, and a support portion provided protruding above the bottom wall portion;
An electronic component body supported by the support part;
With
The bottom wall has at least one corner;
The said support part is an electronic component formed so that the distance from the said frame part may decrease monotonously toward the front end side of the said corner | angular part in the said corner | angular part.
前記支持部は、前記底壁部の角部に向かって延び、前記底壁部の角部よりも角度が小さい角部を有する、請求項1に記載の電子部品。   The electronic component according to claim 1, wherein the support portion has a corner portion extending toward a corner portion of the bottom wall portion and having a smaller angle than the corner portion of the bottom wall portion. 請求項1または2に記載の電子部品の製造方法であって、
基板の上にレジストを塗布し、硬化させることにより、前記基板の表面の一部分を覆うレジストマスクを形成する工程と、
前記レジストマスクを用いて前記基板の上に、前記額縁部及び前記支持部を形成する形成工程と、
前記形成工程の後に、前記レジストマスクを剥離する工程と、
を備える、電子部品の製造方法。
A method of manufacturing an electronic component according to claim 1 or 2,
Forming a resist mask that covers a portion of the surface of the substrate by applying and curing a resist on the substrate; and
Forming the frame portion and the support portion on the substrate using the resist mask; and
A step of peeling off the resist mask after the forming step;
An electronic component manufacturing method comprising:
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