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JP5517907B2 - Photocatalytic device - Google Patents
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JP5517907B2 - Photocatalytic device - Google Patents

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Description

本発明は、光触媒フィルタを備えた光触媒装置に関し、さらに言えば、メンテナンス時に、光触媒フィルタをその装着箇所から取り外すことなく(換言すれば、装着したままで)洗浄して、光触媒フィルタの能力を再生させることができる光触媒装置に関する。本発明は、光触媒を用いた任意の装置、例えば、光触媒脱臭装置、光触媒殺菌(抗菌)装置、光触媒浄化装置等に適用可能である。   The present invention relates to a photocatalyst device provided with a photocatalyst filter. More specifically, the photocatalyst filter is cleaned during maintenance without removing the photocatalyst filter from its mounting location (in other words, with the photocatalyst attached) to regenerate the capability of the photocatalytic filter. It is related with the photocatalyst apparatus which can be made. The present invention can be applied to any device using a photocatalyst, such as a photocatalyst deodorization device, a photocatalyst sterilization (antibacterial) device, a photocatalyst purification device, and the like.

光触媒フィルタと、その光触媒フィルタに光を照射して活性化するための光源とを備えた光触媒脱臭装置は、以前から知られている。代表的な光触媒としては酸化チタン(TiO)がある。この種の光触媒脱臭装置では、光触媒の持つ強力な酸化作用を利用して、被処理ガス中に含まれている臭気を吸着・分解する。換言すれば、紫外線照射によって生成される光触媒の酸化作用で、被処理ガス中に含まれる有機物を水と二酸化炭素に分解し、もって当該ガス中の臭気成分を吸着・分解するのである。 BACKGROUND ART A photocatalytic deodorizing apparatus including a photocatalytic filter and a light source for activating the photocatalytic filter by irradiating light has been known. A typical photocatalyst is titanium oxide (TiO 2 ). In this type of photocatalyst deodorization apparatus, the strong oxidization action of the photocatalyst is used to adsorb and decompose the odor contained in the gas to be treated. In other words, the organic substance contained in the gas to be treated is decomposed into water and carbon dioxide by the oxidizing action of the photocatalyst generated by the ultraviolet irradiation, and the odor components in the gas are adsorbed and decomposed.

しかし、光触媒の酸化作用により、硫黄化合物(例えば硫化水素)は硫酸に、窒素化合物(例えばアンモニア)は硝酸になって、光触媒の表面に付着する。そして、これら付着物は、触媒毒となって光触媒フィルタの能力を低下させる。このため、定期的に光触媒フィルタを取り出して水で洗浄したり焼成したりして、光触媒フィルタの能力を再生させる必要がある。また、何らかの原因で使用できなくなった光触媒フィルタを新たなものに交換する必要もある。   However, due to the oxidizing action of the photocatalyst, the sulfur compound (for example, hydrogen sulfide) becomes sulfuric acid and the nitrogen compound (for example, ammonia) becomes nitric acid, and adheres to the surface of the photocatalyst. And these deposit | attachments become catalyst poison and reduce the capability of a photocatalyst filter. For this reason, it is necessary to periodically take out the photocatalytic filter, wash it with water, and fire it to regenerate the ability of the photocatalytic filter. Also, it is necessary to replace the photocatalyst filter that cannot be used for some reason with a new one.

光源(例えばブラックライト)についても同様で、これを定期的に点検し、故障した、あるいは寿命に達した光源を、定期的に新しいものに交換することが必要である。   The same applies to the light source (for example, black light), and it is necessary to periodically check the light source and periodically replace a failed light source or a light source that has reached the end of its life with a new one.

このように、光触媒脱臭装置は、内蔵する光触媒フィルタや光源の点検、洗浄、交換等のメンテナンス作業が定期的に必要とされるから、その作業が容易に行えることが望ましい。そこで、以前から、そのようなメンテナンス作業を容易化する技術が提案されてきている。   As described above, since the photocatalyst deodorization apparatus regularly requires maintenance work such as inspection, cleaning, and replacement of the built-in photocatalyst filter and light source, it is desirable that the work can be easily performed. Thus, techniques for facilitating such maintenance work have been proposed for some time.

例えば、特許文献1(特開2001−246228号公報)に開示された光触媒装置(この装置では脱臭という限定はされていない)では、少なくとも底板と左右の側板を有するベースフレームに、紫外線照射用の光源と、フィルタ取り付け用のフィルタフレームとを取り付けてあり、光触媒フィルタはそのフィルタフレームに着脱可能に取り付けてある。光触媒フィルタのメンテナンスの際には、フィルタフレームを引き上げてベースフレームから光触媒フィルタを露出させ、光触媒フィルタを固定している固定具を外せば、光触媒フィルタの点検、洗浄、交換等を行うことができる。このため、機能が低下した際に、光触媒フィルタを光触媒装置から取り外して洗浄したり新品に交換したりすることができる。よって、光触媒装置全体を半永久的に使用することができる。(請求項1、図1〜図7、段落0006〜0009、0050〜0054を参照)。   For example, in the photocatalytic device disclosed in Patent Document 1 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-246228) (in this device, deodorization is not limited), at least a base frame having a bottom plate and left and right side plates is used for ultraviolet irradiation. A light source and a filter frame for attaching a filter are attached, and the photocatalytic filter is detachably attached to the filter frame. During maintenance of the photocatalyst filter, the photocatalyst filter can be inspected, cleaned, replaced, etc. by lifting the filter frame to expose the photocatalyst filter from the base frame and removing the fixture fixing the photocatalyst filter. . For this reason, when a function falls, a photocatalyst filter can be removed from a photocatalyst apparatus, can be washed, or can be exchanged for a new article. Therefore, the whole photocatalyst device can be used semipermanently. (See claim 1, FIGS. 1-7, paragraphs 0006-0009, 0050-0054).

しかし、特許文献1に開示された光触媒装置では、紫外線照射用の光源がベースプレートに個々に取り付けられているため、光源の交換や保守に手間がかかり、また、大規模な装置には適さないという難点がある。そこで、この難点を解消した光触媒脱臭装置の一例が、特許文献2(特開2006−334195号公報)に開示されている。   However, in the photocatalyst device disclosed in Patent Document 1, since the light source for ultraviolet irradiation is individually attached to the base plate, it takes time to replace and maintain the light source, and it is not suitable for a large-scale device. There are difficulties. Therefore, an example of a photocatalyst deodorizing apparatus that solves this difficulty is disclosed in Patent Document 2 (Japanese Patent Laid-Open No. 2006-334195).

特許文献2の光触媒脱臭装置では、複数の板状の光触媒フィルタが保持体によりユニット化され、複数の光源(例えばブラックライト)が枠体によりユニット化されている。そして、ユニット化された光触媒フィルタと光源とが、複数個、ガス流れ軸線に対して直交して交互に配置されていると共に、前記ガス流れ軸線に直交する方向に独立して挿抜可能に配置されている。このため、ケーシング内部からユニット化された光触媒フィルタあるいは光源を、前記ガス流れ軸線に直交する方向に引いて外部に抜き出せば、光触媒フィルタや光源の点検・交換を容易に行うことができ、したがってメンテナンス作業が大幅に軽減される。また、光触媒脱臭装置全体を移動する必要性や当該装置の細かな分解作業も必要としない。よって、装置が大規模になっても、メンテナンス作業が容易である(請求項1、図1〜図3、段落0011〜0016、0022を参照)。   In the photocatalyst deodorization apparatus of Patent Document 2, a plurality of plate-like photocatalytic filters are unitized by a holding body, and a plurality of light sources (for example, black light) are unitized by a frame. A plurality of unitized photocatalytic filters and light sources are alternately arranged perpendicular to the gas flow axis, and can be inserted and removed independently in a direction perpendicular to the gas flow axis. ing. For this reason, if the photocatalyst filter or light source unitized from the inside of the casing is pulled out in the direction orthogonal to the gas flow axis, the photocatalyst filter and the light source can be easily inspected and replaced, and therefore maintenance is performed. Work is greatly reduced. Further, it is not necessary to move the entire photocatalyst deodorization apparatus or to perform detailed disassembly work of the apparatus. Therefore, even if the apparatus becomes large-scale, maintenance work is easy (see claim 1, FIGS. 1 to 3, paragraphs 0011 to 0016, 0022).

特開2001−246228号公報JP 2001-246228 A 特開2006−334195号公報JP 2006-334195 A

しかし、特許文献2の光触媒脱臭装置では、ケーシング内部から光触媒フィルタ・ユニットあるいは光源ユニットを同方向に引いて外部に抜き出したり、逆方向に差し入れたりすることができる構成をどのようにして実現するのかは、具体的に開示されてはいない。作業者が手作業で容易に光触媒フィルタ・ユニットあるいは光源ユニットを抜き差しできる程度に、両ユニットが軽量であれば、このような構成の実現は容易と思われるが、作業者が手作業で両ユニットを抜き差しするのが困難な程度まで両ユニットの重量が増えると、その実現は容易ではない。   However, in the photocatalyst deodorization apparatus of Patent Document 2, how to realize a configuration in which the photocatalytic filter unit or the light source unit can be pulled out from the casing in the same direction and pulled out or inserted in the reverse direction? Is not specifically disclosed. If both units are light enough to allow the operator to easily insert and remove the photocatalytic filter unit or light source unit, it would be easy to realize such a configuration. If the weight of both units increases to the extent that it is difficult to insert and remove, it is not easy to realize.

例えば、光触媒フィルタ・ユニットの大きさが縦1400mm、横900mm程度の矩形板状である場合、その重量は50kg程度の大きな重量になる。したがって、光触媒フィルタ・ユニットや光源ユニットがこの程度まで大型化すると、特許文献2の光触媒脱臭装置の各ユニットを作業者が手動で抜き差しして、光触媒フィルタや光源の点検・交換といった作業を行うことは、それらユニットの移動機構に工夫をしない限り、難しいと思われる。この点に関する対策については、特許文献2には何ら記載がない。   For example, when the size of the photocatalytic filter unit is a rectangular plate having a length of about 1400 mm and a width of about 900 mm, the weight is as large as about 50 kg. Therefore, when the photocatalyst filter unit and the light source unit are enlarged to this extent, the operator manually removes and inserts each unit of the photocatalyst deodorization device of Patent Document 2 to perform work such as inspection and replacement of the photocatalyst filter and the light source. Seems to be difficult unless the movement mechanism of those units is devised. There is no description in Patent Document 2 regarding measures relating to this point.

ところで、光触媒フィルタ・ユニットや光源ユニットが、作業者が手動で容易に動かせない程度まで大型化した場合、光触媒フィルタの点検・交換や光源の点検・交換に比べて頻度の高い光触媒フィルタの洗浄作業が、光触媒フィルタをその装着箇所から取り外すことなく(装着したままで)実行できれば、非常に好ましい。労力のかかるメンテナンス作業の頻度が減少するだけでなく、メンテナンス・コストの低減にもなり、しかも着脱時に光触媒フィルタを損傷する恐れも減少するからである。   By the way, when the photocatalyst filter unit or the light source unit is enlarged to such an extent that it cannot be easily moved manually by the operator, the photocatalyst filter cleaning work is performed more frequently than the photocatalyst filter inspection and replacement or the light source inspection and replacement. However, it is very preferable if the photocatalytic filter can be executed without removing it from its mounting location (while it is mounted). This is because not only the frequency of labor-intensive maintenance work is reduced, but also the maintenance cost is reduced, and the risk of damaging the photocatalytic filter during attachment / detachment is also reduced.

また、光触媒フィルタ・ユニットや光源ユニットが上記のように大型化していなくても、装着箇所から取り外すことなく洗浄して光触媒フィルタの能力回復を行えれば、非常に有利である。   Even if the photocatalyst filter unit and the light source unit are not enlarged as described above, it is very advantageous if the photocatalyst filter can be recovered without being removed from the mounting location to recover the photocatalyst filter performance.

上述した特許文献1及び特許文献2には、装着箇所から取り外すことなく洗浄して光触媒フィルタの能力回復を行う点については、なんら記載がないし、そのような示唆もない。   In Patent Document 1 and Patent Document 2 described above, there is no description and no suggestion of performing the performance recovery of the photocatalytic filter by washing without removing it from the mounting location.

本発明は、このような事情を考慮してなされたもので、その目的とするところは、メンテナンス時に、光触媒フィルタをその装着箇所から外すことなく(つまり装着したままで)洗浄してその能力を回復させることができると共に、簡単な構成で実現できる光触媒装置を提供することにある。   The present invention has been made in consideration of such circumstances, and the purpose of the present invention is to perform cleaning without removing the photocatalytic filter from its mounting position (that is, while it is mounted) during maintenance. An object of the present invention is to provide a photocatalytic device that can be recovered and can be realized with a simple configuration.

本発明の他の目的は、光触媒フィルタ(または光触媒フィルタ・モジュールに装着された光源)の点検・交換といった、光触媒フィルタの洗浄以外のメンテナンス作業も容易に実行することができる光触媒装置を提供することにある。   Another object of the present invention is to provide a photocatalytic device that can easily perform maintenance work other than cleaning of the photocatalytic filter, such as inspection and replacement of the photocatalytic filter (or a light source mounted on the photocatalytic filter module). It is in.

本発明のさらに他の目的は、光触媒フィルタ・モジュール(あるいは光触媒フィルタ・ユニットや光源ユニット)が、作業者が手動で容易に動かせない程度まで大型化した場合でも、光触媒フィルタまたは光源の点検・交換といった、光触媒フィルタの洗浄以外のメンテナンス作業を、作業者が一人で実行することができる光触媒装置を提供することにある。   Still another object of the present invention is to inspect and replace a photocatalytic filter or light source even when the photocatalytic filter module (or photocatalytic filter unit or light source unit) is enlarged to such an extent that it cannot be easily moved manually by an operator. An object of the present invention is to provide a photocatalyst device that allows an operator to perform maintenance work other than cleaning of the photocatalytic filter alone.

ここに明記しない本発明の他の目的は、以下の説明及び添付図面から明らかになる。   Other objects of the present invention which are not specified here will become apparent from the following description and the accompanying drawings.

(1)本発明の光触媒装置は、
略垂直方向に装着された光触媒フィルタを含む、略平板状の光触媒フィルタ・モジュールと、
前記光触媒フィルタの上方において前記光触媒フィルタ・モジュールに固定された、開口を有する洗浄液供給管と、
前記光触媒フィルタの下方において前記光触媒フィルタ・モジュールに設けられた排出口とを備え、
前記洗浄液供給管に外部から洗浄液を供給すると、その洗浄液は前記洗浄液供給管の開口から前記光触媒フィルタに向かって落下して前記光触媒フィルタに沿って流動し、
前記光触媒フィルタに沿って流動した後の前記洗浄液は、前記排出口から前記光触媒フィルタ・モジュールの外部に排出されるように構成されていることを特徴とするものである。
(1) The photocatalytic device of the present invention comprises:
A substantially flat photocatalytic filter module including a photocatalytic filter mounted in a substantially vertical direction;
A cleaning liquid supply pipe having an opening, fixed to the photocatalytic filter module above the photocatalytic filter;
A discharge port provided in the photocatalytic filter module below the photocatalytic filter,
When supplying the cleaning liquid from the outside to the cleaning liquid supply pipe, the cleaning liquid falls from the opening of the cleaning liquid supply pipe toward the photocatalytic filter and flows along the photocatalytic filter,
The cleaning liquid after flowing along the photocatalytic filter is configured to be discharged from the discharge port to the outside of the photocatalytic filter module.

本発明の光触媒装置は、上述したように、略平板状の光触媒フィルタ・モジュールが、略垂直方向に装着された光触媒フィルタと、その光触媒フィルタの上方に固定された洗浄液供給管と、その光触媒フィルタの下方に設けられた排出口とを備えている。前記洗浄液供給管に外部から洗浄液を供給すると、その洗浄液は前記開口から前記光触媒フィルタに向かって落下して前記光触媒フィルタに沿って流動し、前記光触媒フィルタに沿って流動した後の前記洗浄液は、前記排出口から外部に排出されるように構成されている。   As described above, the photocatalytic device of the present invention includes a photocatalytic filter in which a substantially flat photocatalytic filter module is mounted in a substantially vertical direction, a cleaning liquid supply pipe fixed above the photocatalytic filter, and the photocatalytic filter. And a discharge port provided below. When supplying the cleaning liquid from the outside to the cleaning liquid supply pipe, the cleaning liquid falls from the opening toward the photocatalytic filter and flows along the photocatalytic filter, and the cleaning liquid after flowing along the photocatalytic filter is: It is comprised so that it may discharge | emit outside from the said discharge port.

このため、前記洗浄液が前記光触媒フィルタに沿って流動する際に、前記光触媒フィルタの持つ超親液性に起因するセルフクリーニング機能が発揮され、さらに、前記光触媒フィルタの表面に存在する有害付着物(触媒毒)は可溶性である場合が多いため、その有害付着物のほとんどは前記洗浄液によって自動的に洗い流される。よって、メンテナンス時に、前記光触媒フィルタをその装着箇所から外すことなく(つまり装着したままで)洗浄してその能力を回復させることができる。   For this reason, when the cleaning liquid flows along the photocatalytic filter, a self-cleaning function due to the super-lyophilic property of the photocatalytic filter is exhibited, and further, harmful deposits existing on the surface of the photocatalytic filter ( Since the catalyst poison) is often soluble, most of its harmful deposits are automatically washed away by the cleaning solution. Therefore, at the time of maintenance, the photocatalytic filter can be washed to recover its ability without removing it from its mounting location (that is, with the photocatalyst filter mounted).

また、前記光触媒フィルタの洗浄に必要な構成要素は、略垂直方向に装着された光触媒フィルタを含む光触媒フィルタ・モジュールと、前記光触媒フィルタに向かって洗浄液を落下させるように構成された洗浄液供給管と、前記光触媒フィルタに沿って流動した後の前記洗浄液を外部に排出する排出口だけで足りるので、簡単な構成で実現することができる。   The components necessary for cleaning the photocatalytic filter include a photocatalytic filter module including a photocatalytic filter mounted in a substantially vertical direction, and a cleaning liquid supply pipe configured to drop the cleaning liquid toward the photocatalytic filter. Since only the discharge port for discharging the cleaning liquid after flowing along the photocatalytic filter to the outside is sufficient, it can be realized with a simple configuration.

(2) 本発明の光触媒装置の好ましい例では、前記洗浄液供給管が、前記光触媒フィルタの上方において前記光触媒フィルタ・モジュールに沿って延在する第1部分と、前記光触媒フィルタ・モジュールにほぼ直交する方向に延在する第2部分とを有しており、前記洗浄液供給管の前記開口は前記第1部分に形成され、前記第2部分は外部の連絡管または他の光触媒フィルタ・モジュールの洗浄液供給管の第2部分に接続可能とされる。   (2) In a preferred example of the photocatalyst device of the present invention, the cleaning liquid supply pipe is substantially orthogonal to the photocatalyst filter module and a first portion that extends along the photocatalyst filter module above the photocatalyst filter. A second portion extending in a direction, wherein the opening of the cleaning liquid supply tube is formed in the first portion, and the second portion is a cleaning liquid supply of an external communication tube or other photocatalytic filter module It can be connected to the second part of the tube.

この例では、前記洗浄液を前記洗浄液供給管に外部から供給しやすい、その洗浄液を前記光触媒フィルタの全体にわたって均一に流動させやすい、複数の前記光触媒フィルタ・モジュールを相互に隣接配置した場合でも洗浄水の供給が容易である、といった利点がある。   In this example, even when a plurality of the photocatalytic filter modules are arranged adjacent to each other, the cleaning liquid can be easily supplied from the outside to the cleaning liquid supply pipe, and the cleaning liquid can easily flow uniformly throughout the photocatalytic filter. There is an advantage that it is easy to supply.

(3) 本発明の光触媒装置の他の好ましい例では、前記光触媒フィルタの下方において前記光触媒フィルタ・モジュールに設けられた洗浄液貯留部と、前記排出口に装着された蓋部材とをさらに備えていて、前記蓋部材は、前記洗浄液貯留部に一時的に貯留された前記洗浄液が所定量に達すると、開放されて前記洗浄液を外部に排出するように構成される。   (3) In another preferable example of the photocatalyst device of the present invention, the photocatalyst device further includes a cleaning liquid reservoir provided in the photocatalyst filter module below the photocatalyst filter, and a lid member attached to the discharge port. The lid member is configured to be opened and discharge the cleaning liquid to the outside when the cleaning liquid temporarily stored in the cleaning liquid storage unit reaches a predetermined amount.

この例では、前記光触媒フィルタに沿って流動した後の前記洗浄液が、前記所定量に達するまでは前記洗浄液貯留部に一時的に貯留されるので、前記光触媒フィルタに沿って流動した後の前記洗浄液を所定量だけ集めてから、特定の場所(例えば洗浄液を再生する場所)に移送したり貯留したりすることが容易である、という利点がある。   In this example, the cleaning liquid after flowing along the photocatalytic filter is temporarily stored in the cleaning liquid reservoir until the predetermined amount is reached, so the cleaning liquid after flowing along the photocatalytic filter There is an advantage that it is easy to collect and store in a predetermined amount and then to transport and store it in a specific place (for example, a place where the cleaning liquid is regenerated).

(4) 本発明の光触媒装置のさらに他の好ましい例では、前記洗浄液供給管と前記光触媒フィルタとの間に、底面に開口を持つ洗浄液案内部が配置され、前記洗浄液供給管の開口から落下した洗浄液が、前記洗浄水案内部に一時的に貯留されてから、前記洗浄液案内部の開口を通って前記光触媒フィルタに向かって落下するように構成される。   (4) In still another preferred example of the photocatalyst device of the present invention, a cleaning liquid guide having an opening on the bottom surface is disposed between the cleaning liquid supply pipe and the photocatalytic filter, and the photocatalyst apparatus falls from the opening of the cleaning liquid supply pipe. The cleaning liquid is temporarily stored in the cleaning water guide part, and then drops toward the photocatalytic filter through the opening of the cleaning liquid guide part.

この例では、前記洗浄液供給管と前記光触媒フィルタとの間に前記洗浄液案内部が配置されているので、前記洗浄液供給管を配置する位置に対する制限が緩和されるという利点がある。前記洗浄液を前記洗浄液供給管の開口を通って直接、前記光触媒フィルタに向かって落下させる場合は、前記洗浄液供給管の位置を前記光触媒フィルタのほぼ真上において、前記光触媒フィルタの全長にわたって配置することが必要であるが、この例では、前記洗浄液供給管と前記光触媒フィルタとの間に前記洗浄液案内部が配置されているので、そのような必要性がないからである。前記洗浄液供給管の位置は、前記洗浄液供給管の開口から前記洗浄液案内部に前記洗浄液を供給できる任意の位置に設定することが可能であり、設計に有利である。   In this example, since the cleaning liquid guide portion is disposed between the cleaning liquid supply pipe and the photocatalytic filter, there is an advantage that the restriction on the position where the cleaning liquid supply pipe is disposed is relaxed. In the case where the cleaning liquid is dropped directly toward the photocatalytic filter through the opening of the cleaning liquid supply pipe, the position of the cleaning liquid supply pipe is arranged almost directly above the photocatalytic filter over the entire length of the photocatalytic filter. However, in this example, the cleaning liquid guide is disposed between the cleaning liquid supply pipe and the photocatalyst filter, so that there is no such need. The position of the cleaning liquid supply pipe can be set at an arbitrary position where the cleaning liquid can be supplied from the opening of the cleaning liquid supply pipe to the cleaning liquid guide portion, which is advantageous in design.

(5) 本発明の光触媒装置のさらに他の好ましい例では、前記蓋部材が、前記排出口の近傍に形成された隙間に挿入された状態で前記光触媒フィルタ・モジュールに装着されていて、前記洗浄液貯留部の内部に位置する第1部分と、前記洗浄液貯留部の外部に位置する第2部分とを有しており、前記第2部分によって前記排出口を閉鎖するように構成される。   (5) In still another preferred example of the photocatalyst device of the present invention, the lid member is attached to the photocatalyst filter module in a state of being inserted into a gap formed in the vicinity of the discharge port, and the cleaning liquid It has the 1st part located inside the storage part, and the 2nd part located outside the said washing | cleaning liquid storage part, It is comprised so that the said discharge port may be closed by the said 2nd part.

この例では、前記洗浄液貯留部の内部において貯留された前記洗浄液の自重を受ける前記第1部分と、前記洗浄液貯留部の外部において前記排出口を介して貯留された前記洗浄液の自重を受ける前記第2部分との面積比を調整するだけで、前記洗浄液貯留部に貯留される前記洗浄液の量が所定量に達すると、前記蓋部材が開いて前記洗浄が前記排出口から排出されるようにすることができる、という利点がある。   In this example, the first part that receives the weight of the cleaning liquid stored inside the cleaning liquid storage part, and the first part that receives the weight of the cleaning liquid stored via the discharge port outside the cleaning liquid storage part. When the amount of the cleaning liquid stored in the cleaning liquid reservoir reaches a predetermined amount only by adjusting the area ratio with the two parts, the lid member is opened and the cleaning is discharged from the discharge port. There is an advantage that you can.

(6) 本発明の光触媒装置のさらに他の好ましい例では、前記蓋部材が、前記第1部分と前記第2部分の境界で屈曲された剛性板から形成されていると共に、前記蓋部材の屈曲部が前記隙間に揺動可能に係合される。   (6) In still another preferred example of the photocatalyst device of the present invention, the lid member is formed of a rigid plate bent at a boundary between the first portion and the second portion, and the lid member is bent. A portion is slidably engaged with the gap.

この場合、前記蓋部材の形成が容易であると共に、前記洗浄液貯留部への前記蓋部材の装着も容易である、という利点がある。   In this case, there is an advantage that the lid member can be easily formed and the lid member can be easily attached to the cleaning liquid reservoir.

(7) 本発明の光触媒装置のさらに他の好ましい例では、前記光触媒フィルタ・モジュールが、略垂直方向に配置されていると共に、並進移動機構により略水平方向に並進移動が可能な状態で支持される。   (7) In still another preferred example of the photocatalyst device of the present invention, the photocatalyst filter module is arranged in a substantially vertical direction and is supported in a state in which it can be translated in a substantially horizontal direction by a translational movement mechanism. The

この例では、前記光触媒フィルタ・モジュールを、略垂直方向に配置された状態で略水平方向に並進移動させることが容易なので、メンテナンス時に、前記光触媒フィルタの洗浄ができることに加え、前記光触媒フィルタ(または前記光触媒フィルタ・モジュールに装着された光源)の点検・交換といった、光触媒フィルタの洗浄以外のメンテナンス作業も容易に実行することができる、という利点がある。   In this example, since the photocatalytic filter module can be easily translated in a substantially horizontal direction in a state of being arranged in a substantially vertical direction, the photocatalytic filter can be washed in addition to the photocatalytic filter (or There is an advantage that maintenance work other than cleaning of the photocatalyst filter, such as inspection and replacement of the light source mounted on the photocatalyst filter module, can be easily performed.

また、前記光触媒フィルタ・モジュール(あるいは光触媒フィルタ・ユニットや光源ユニット)が、作業者が手動で容易に動かせない程度まで大型化した場合でも、前記光触媒フィルタまたは光源の点検・交換といった、光触媒フィルタの洗浄以外のメンテナンス作業を、作業者が一人で実行することができる、という利点もある。   Even when the photocatalyst filter module (or photocatalyst filter unit or light source unit) is enlarged to such an extent that it cannot be easily moved manually by an operator, the photocatalyst filter or light source can be inspected and replaced. There is also an advantage that maintenance work other than cleaning can be performed by an operator alone.

(8) 上記(7)の例では、前記光触媒フィルタ・モジュールが複数個、ケーシング内に相互に隣接して配置されるのが好ましい。   (8) In the example of (7), it is preferable that a plurality of the photocatalytic filter modules are arranged adjacent to each other in the casing.

この場合、前記光触媒フィルタ・モジュールが複数個、前記ケーシング内に相互に隣接して配置されるので、前記光触媒フィルタによるフィルタリング効果を容易に増大させることができる、という利点がある。   In this case, since a plurality of the photocatalytic filter modules are disposed adjacent to each other in the casing, there is an advantage that the filtering effect by the photocatalytic filter can be easily increased.

(9) 上記(8)の例では、前記並進移動機構が、ガス流方向の上流側及び下流側にそれぞれ設けられた第1支持体及び第2支持体と、前記第1支持体と前記第2支持体との間に掛け渡されたスライドレールとを含み、一つまたは複数の前記光触媒フィルタ・モジュールが前記スライドレールに吊り下げられた状態で並進移動可能に支持されるのが好ましい。   (9) In the example of (8), the translational movement mechanism includes a first support body and a second support body provided on the upstream side and the downstream side in the gas flow direction, the first support body, and the first support body, respectively. It is preferable that one or a plurality of the photocatalytic filter modules are supported so as to be capable of translational movement in a state of being suspended from the slide rail.

この場合、簡単な構成で、一つまたは複数の前記光触媒フィルタ・モジュールの支持と並進移動を実現することが可能となる、という利点がある。   In this case, there is an advantage that it is possible to realize support and translation of one or a plurality of the photocatalytic filter modules with a simple configuration.

(10) 上記(9)の例では、待機用スペースとメンテナンス用スペースの双方が、前記ケーシングの内部に形成されるのが好ましい。   (10) In the example of the above (9), it is preferable that both the standby space and the maintenance space are formed inside the casing.

この場合、前記ケーシングの構成が簡単になる、という利点がある。   In this case, there is an advantage that the configuration of the casing is simplified.

(11) 上記(9)の例では、待機用スペースが、前記ケーシングの外部に形成されていると共に、前記ケーシングの所定部分が開放可能とされており、メンテナンス時には、前記所定部分が開放されて、前記光触媒フィルタ・モジュールが前記待機用スペースまで並進移動可能とされるのが好ましい。   (11) In the example of (9) above, the standby space is formed outside the casing, and a predetermined portion of the casing can be opened. During maintenance, the predetermined portion is opened. Preferably, the photocatalytic filter module can be translated into the standby space.

この場合、待機用スペースに相当する分だけ前記ケーシングのサイズを小さくできるので、省スペース化が図れる、という利点がある。   In this case, since the size of the casing can be reduced by an amount corresponding to the standby space, there is an advantage that space saving can be achieved.

本発明の光触媒装置では、(a)メンテナンス時に、光触媒フィルタをその装着箇所から外すことなく(つまり装着したままで)洗浄してその能力を回復させることができると共に、簡単な構成で実現できるという効果がある。   In the photocatalyst device of the present invention, (a) during maintenance, the photocatalyst filter can be cleaned without removing it from its mounting location (that is, with the photocatalyst mounted) to recover its capability, and can be realized with a simple configuration. effective.

また、本発明の光触媒装置において、光触媒フィルタ・モジュールが、略垂直方向に配置されていると共に、並進移動機構により略水平方向に並進移動が可能な状態で支持される場合には、効果(a)に加えて、(b)光触媒フィルタ(または光触媒フィルタ・モジュールに装着された光源)の点検・交換といった、光触媒フィルタの洗浄以外のメンテナンス作業も容易に実行することができるという効果と、(c)光触媒フィルタ・モジュール(あるいは光触媒フィルタ・ユニットや光源ユニット)が、作業者が手動で容易に動かせない程度まで大型化した場合でも、光触媒フィルタまたは光源の点検・交換といった、光触媒フィルタの洗浄以外のメンテナンス作業を、作業者が一人で実行することができるという効果が得られる。   In the photocatalyst device of the present invention, when the photocatalyst filter module is arranged in a substantially vertical direction and supported in a state in which it can be translated in a substantially horizontal direction by a translational movement mechanism, an effect (a (B) The effect that maintenance work other than cleaning of the photocatalyst filter such as inspection and replacement of the photocatalyst filter (or the light source mounted on the photocatalyst filter module) can be easily performed, and (c) ) Even if the photocatalyst filter module (or photocatalyst filter unit or light source unit) is enlarged to such an extent that it cannot be easily moved manually by an operator, other than photocatalyst filter cleaning such as inspection and replacement of the photocatalyst filter or light source There is an effect that the maintenance work can be performed by one worker alone.

本発明の第1実施形態に係る光触媒脱臭装置の構成(運転時)を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows the structure (at the time of driving | operation) of the photocatalyst deodorizing apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態に係る光触媒脱臭装置の構成(メンテナンス時)を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows the structure (at the time of a maintenance) of the photocatalyst deodorizing apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention. (a)は本発明の第1実施形態に係る光触媒脱臭装置の光触媒フィルタ・モジュールを構成するモジュール本体の正面図、(b)はその側面図、(c)はその底面図、(d)はその平面図である。(A) is the front view of the module main body which comprises the photocatalyst filter module of the photocatalyst deodorizing apparatus concerning 1st Embodiment of this invention, (b) is the side view, (c) is the bottom view, (d) is FIG. (a)は図3のモジュール本体に組み込まれている洗浄水供給管の底面図、(b)はその正面図、(c)は洗浄水の落下状況を示す正面説明図である。(A) is a bottom view of the cleaning water supply pipe incorporated in the module main body of FIG. 3, (b) is a front view thereof, and (c) is a front explanatory view showing a state of dropping of the cleaning water. (a)は図3のモジュール本体に組み込まれている洗浄水案内部の平面図、(b)は洗浄水案内部の開口から洗浄水が落下する状態を示す説明図、(c)は図3のモジュール本体に組み込まれている洗浄水案内部の他の構成例を示す平面図である。FIG. 3A is a plan view of a cleaning water guide portion incorporated in the module main body of FIG. 3, FIG. 3B is an explanatory view showing a state in which cleaning water falls from the opening of the cleaning water guide portion, and FIG. It is a top view which shows the other structural example of the washing water guide part integrated in the module main body. (a)は本発明の第1実施形態に係る光触媒脱臭装置の光触媒フィルタ・モジュールを構成するフィルタ・フレームの正面図、(b)はその側面図、(c)はその底面図である。(A) is the front view of the filter frame which comprises the photocatalyst filter module of the photocatalyst deodorizing apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention, (b) is the side view, (c) is the bottom view. (a)は図3のモジュール本体に図6のフィルタ・フレームを組み込んだ構成を示す正面図、(b)はその側面図である。(A) is a front view which shows the structure which incorporated the filter frame of FIG. 6 in the module main body of FIG. 3, (b) is the side view. (a)は図7の構成に光触媒フィルタを装着した状態を示す正面図、(b)はその側面図である。(A) is a front view which shows the state which mounted | wore the structure of FIG. 7 with the photocatalyst filter, (b) is the side view. (a)は図8の構成にブラックライトを装着した状態を示す正面図、(b)はその側面図である。(A) is a front view which shows the state which mounted | wore the black light to the structure of FIG. 8, (b) is the side view. (a)は図9の構成に、滑車を内蔵する係合部材とインバータとを装着して構成される光触媒フィルタ・モジュールを示す正面図、(b)はその平面図である。(A) is the front view which shows the photocatalyst filter module comprised by mounting | wearing the structure of FIG. 9 with the engagement member which incorporates a pulley, and an inverter, (b) is the top view. (a)は本発明の第1実施形態に係る光触媒脱臭装置に使用されている、スライドレールとその上を転動する滑車を含む並進移動機構の構成を示す部分断面図、(b)はその部分平面図である。(A) is a fragmentary sectional view which shows the structure of the translation movement mechanism used for the photocatalyst deodorizing apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention containing a slide rail and the pulley which rolls on it, (b) is the It is a partial top view. 本発明の第1実施形態に係る光触媒脱臭装置に使用されている光触媒フィルタの概略構成を示す正面図である。It is a front view which shows schematic structure of the photocatalyst filter currently used for the photocatalyst deodorizing apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention. 図12の光触媒フィルタを図6のフィルタ・フレームの光触媒フィルタ装着用窓に装着した状態を示す、図10(a)のA−A線に沿った部分断面図である。It is a fragmentary sectional view along the AA line of Fig.10 (a) which shows the state which mounted | wore the photocatalyst filter mounting window of the filter frame of FIG. 6 with the photocatalyst filter of FIG. 本発明の第1実施形態に係る光触媒脱臭装置において、洗浄水供給管から放出された洗浄水が、洗浄水案内部を経て、光触媒フィルタの各々に沿って洗浄水貯留部まで落下する状況を示す説明図である。In the photocatalyst deodorization apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention, the wash water discharged | emitted from the wash water supply pipe | tube shows the condition which falls to a wash water storage part along each of a photocatalyst filter through a wash water guide part. It is explanatory drawing. 本発明の第1実施形態に係る光触媒脱臭装置において、洗浄水貯留部の排水口に装着されている蓋部材の開閉動作を示す説明図で、(a)は洗浄水貯留前、(b)は洗浄水貯留中、(c)は洗浄水排出時の状態を示す。In photocatalyst deodorizing apparatus concerning a 1st embodiment of the present invention, it is an explanatory view showing opening and closing operation of a lid member with which a drain outlet of a washing water storage part is equipped, (a) is before washing water storage, (b) is (C) shows the state at the time of washing water discharge during washing water storage. (a)は図15に示した蓋部材の全体構造を示す平面図、(b)はその正面図である。(A) is a top view which shows the whole structure of the cover member shown in FIG. 15, (b) is the front view. 図15に示した蓋部材が、洗浄水貯留部の排水口の近傍に装着された状態を示す平面説明図である。FIG. 16 is an explanatory plan view illustrating a state in which the lid member illustrated in FIG. 15 is mounted in the vicinity of the drain port of the cleaning water storage unit. 本発明の第1実施形態に係る光触媒脱臭装置において、各光触媒フィルタ・モジュールの洗浄水供給管の第2部分同士が相互に連結され、最もモジュール支持体側にある光触媒フィルタ・モジュールの洗浄水供給管の第2部分が、モジュール支持体に設けられた連絡管に接続される状況を示す部分断面説明図である。In the photocatalyst deodorization apparatus according to the first embodiment of the present invention, the second portions of the cleaning water supply pipes of the photocatalytic filter modules are connected to each other, and the cleaning water supply pipe of the photocatalytic filter module located closest to the module support body It is a fragmentary sectional explanatory view showing the situation where the 2nd part of is connected to a connecting pipe provided in a module support. 本発明の第1実施形態に係る光触媒脱臭装置の運転時の全体構成を示す一部切欠側面図である。It is a partially cutaway side view which shows the whole structure at the time of the driving | operation of the photocatalyst deodorizing apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態に係る光触媒脱臭装置のメンテナンス時の全体構成を示す一部切欠側面図である。It is a partially notched side view which shows the whole structure at the time of the maintenance of the photocatalyst deodorizing apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態に係る光触媒脱臭装置の運転時の全体構成を示す平面図である。It is a top view which shows the whole structure at the time of the driving | operation of the photocatalyst deodorizing apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第2実施形態に係る光触媒脱臭装置の運転時の全体構成を示す一部切欠側面図である。It is a partially notched side view which shows the whole structure at the time of the driving | operation of the photocatalyst deodorizing apparatus which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2実施形態に係る光触媒脱臭装置のメンテナンス時の全体構成を示す一部切欠側面図である。It is a partially notched side view which shows the whole structure at the time of the maintenance of the photocatalyst deodorizing apparatus which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態に係る光触媒脱臭装置について実施した洗浄テストにおいて、光触媒フィルタをアンモニアにより強制的に汚染させる方法を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows the method to forcibly contaminate a photocatalyst filter with ammonia in the washing | cleaning test implemented about the photocatalyst deodorizing apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention. 図24の洗浄テストの実施方法を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows the implementation method of the washing | cleaning test of FIG. 図25に示した洗浄テストで得られた、洗浄時間とタンク内洗浄水の電気伝導率との関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the washing | cleaning time obtained by the washing | cleaning test shown in FIG. 25, and the electrical conductivity of the wash water in a tank. 図25の洗浄テストで得られた、アンモニア汚染前、アンモニア汚染後、洗浄後における除去率と濃度の変化を示す表である。It is a table | surface which shows the removal rate and density | concentration change after washing | cleaning before and after ammonia pollution obtained by the washing | cleaning test of FIG. 図25の洗浄テストで使用されたスモールスケールと実機との間の、各パラメータの関係を示す表である。It is a table | surface which shows the relationship of each parameter between the small scale used by the washing | cleaning test of FIG. 25, and an actual machine.

以下、本発明の好適な実施の形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。   DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

(第1実施形態の光触媒脱臭装置の全体構成)
本発明の第1実施形態に係る光触媒脱臭装置1の構成の概略を図1と図2に示す。本実施形態は、本発明を光触媒脱臭装置に適用した場合に相当するが、本発明はこれに限定されるものではない。光触媒フィルタを備えた光触媒装置であれば、光触媒脱臭装置以外の光触媒装置、例えば、光触媒殺菌(抗菌)装置、光触媒浄化装置等にも適用可能である。
(Whole structure of the photocatalyst deodorization apparatus of 1st Embodiment)
The outline of the structure of the photocatalyst deodorizing apparatus 1 which concerns on 1st Embodiment of this invention is shown in FIG. 1 and FIG. The present embodiment corresponds to a case where the present invention is applied to a photocatalytic deodorization apparatus, but the present invention is not limited to this. Any photocatalytic device provided with a photocatalytic filter can be applied to photocatalytic devices other than the photocatalytic deodorizing device, for example, photocatalytic sterilization (antibacterial) devices, photocatalytic purification devices, and the like.

図1と図2より明らかなように、この光触媒脱臭装置1は、所定間隔を空けて水平に設置された2本の平行なスライドレール12と、係止部材24によってスライドレール12に吊り下げた状態で支持された5個の光触媒フィルタ・モジュール20とを有している。   As is clear from FIGS. 1 and 2, the photocatalyst deodorization apparatus 1 is hung on the slide rail 12 by two parallel slide rails 12 installed horizontally at a predetermined interval and a locking member 24. And five photocatalytic filter modules 20 supported in a state.

両スライドレール12の一端はモジュール支持体11に固定され、他端はレール支持体13(図19を参照)に固定されている。こうして、両スライドレール12は、モジュール支持体11とレール支持体13の間に架け渡されていて、両支持体11及び13の間で互いに平行に且つ水平方向に延在している。   One end of each slide rail 12 is fixed to the module support 11 and the other end is fixed to a rail support 13 (see FIG. 19). Thus, both the slide rails 12 are bridged between the module support body 11 and the rail support body 13, and extend in parallel and horizontally between the support bodies 11 and 13.

光触媒フィルタ・モジュール20の各々は、矩形板状であって、手動により、モジュール支持体11とレール支持体13の間で、スライドレール12に沿って水平方向に並進移動が可能である。これら5個のモジュール20のうち、レール支持体13に最も近いモジュール20は、8枚の光触媒フィルタ30のみを含んでおり、ブラックライト27は含んでいない。レール支持体13に最も近いもの以外の4個のモジュール20は、8枚の光触媒フィルタ30と4本のブラックライト27とを含んでいる。   Each of the photocatalytic filter modules 20 has a rectangular plate shape, and can be manually translated between the module support 11 and the rail support 13 along the slide rail 12 in the horizontal direction. Of these five modules 20, the module 20 closest to the rail support 13 includes only the eight photocatalytic filters 30 and does not include the black light 27. The four modules 20 other than those closest to the rail support 13 include eight photocatalytic filters 30 and four black lights 27.

本明細書では、上述した5個のモジュール20の全体を指すとき、「光触媒フィルタ・モジュール群20B」と呼び、また、光触媒フィルタ30とブラックライト27の双方を含む4個のモジュール20のみを指すとき、「光触媒フィルタ・モジュール群20A」と呼ぶことにする。したがって、光触媒フィルタ・モジュール群20Bは、光触媒フィルタ・モジュール群20Aに対して、光触媒フィルタ30のみを含むモジュール20を追加したものに等しい。   In this specification, when referring to the whole of the five modules 20 described above, it is referred to as a “photocatalytic filter / module group 20B” and also refers to only four modules 20 including both the photocatalytic filter 30 and the black light 27. Sometimes referred to as “photocatalytic filter module group 20A”. Therefore, the photocatalyst filter / module group 20B is equivalent to the photocatalyst filter / module group 20A added with the module 20 including only the photocatalyst filter 30.

スライドレール12と光触媒フィルタ・モジュール群20Bは、後述するように、箱形のケーシング10(図19〜図21を参照)の内部に配置されている。被処理ガスは、ケーシング10内では、スライドレール12の延在方向、すなわち、図1及び図2中に矢印で示したガス流方向に沿って流動するようになっている。従って、モジュール群20Bはガス流方向に直交している。モジュール支持体11(これは第1支持体に対応する)は、モジュール群20Bの下流側に配置されている。レール支持体13(これは第2支持体に対応する)は、モジュール群20Bの上流側に配置されている。   The slide rail 12 and the photocatalytic filter / module group 20B are arranged inside a box-shaped casing 10 (see FIGS. 19 to 21), as will be described later. In the casing 10, the gas to be treated flows along the extending direction of the slide rail 12, that is, the gas flow direction indicated by the arrows in FIGS. 1 and 2. Therefore, the module group 20B is orthogonal to the gas flow direction. The module support 11 (which corresponds to the first support) is arranged on the downstream side of the module group 20B. The rail support 13 (which corresponds to the second support) is disposed on the upstream side of the module group 20B.

光触媒脱臭装置1の運転時には、図1に示すように、モジュール群20B中のすべてのモジュール20が、互いに重ねられた状態でモジュール支持体11の対向面に接触せしめられている。この状態では、モジュール支持体11の反対側(レール支持体13と同じ側)に、待機用スペースS1が形成されている。   During operation of the photocatalyst deodorization apparatus 1, as shown in FIG. 1, all the modules 20 in the module group 20B are brought into contact with the opposing surface of the module support 11 in a state where they are overlapped with each other. In this state, a standby space S1 is formed on the opposite side of the module support 11 (the same side as the rail support 13).

光触媒脱臭装置1のメンテナンス時には、図2に示すように、必要に応じて、メンテナンス対象のモジュール20より上流側にあるモジュール20をレール支持体13に向かって(つまり、上流側に向かって)並進移動させることで、メンテナンス対象のモジュール20の上流側近傍に必要なメンテナンス用スペースS2が形成される。図2では、メンテナンス対象のモジュール20が、モジュール群20Bの中で上流側から2番目に配置されているので、上流側の端(つまり最上流位置)にあるモジュール20のみをレール支持体13に向かって(上流側に向かって)並進移動させて、待機用スペースS1内に置けばよい。その結果、メンテナンス対象のモジュール20の上流側近傍(並進移動させたモジュール20の下流側近傍)に、メンテナンス用スペースS2が形成される。   At the time of maintenance of the photocatalyst deodorizing apparatus 1, as shown in FIG. 2, the module 20 located upstream from the maintenance target module 20 is translated toward the rail support 13 (that is, toward the upstream side) as necessary. By moving, the necessary maintenance space S2 is formed in the vicinity of the upstream side of the module 20 to be maintained. In FIG. 2, since the module 20 to be maintained is arranged second from the upstream side in the module group 20B, only the module 20 at the upstream end (that is, the most upstream position) is used as the rail support body 13. What is necessary is just to move in translation (toward the upstream side) and place in the waiting space S1. As a result, a maintenance space S2 is formed in the vicinity of the upstream side of the maintenance target module 20 (in the vicinity of the downstream side of the translated module 20).

図2の状態では、モジュール群20Bの最上流位置にあるモジュール20をメンテナンスすることもできる。メンテナンス用スペースS2において、そのモジュール20に対して裏側(下流側)からアクセスできるからである。   In the state of FIG. 2, the module 20 at the most upstream position of the module group 20B can be maintained. This is because the module 20 can be accessed from the back side (downstream side) in the maintenance space S2.

メンテナンス対象のモジュール20が、モジュール群20Bの最上流位置にある場合は、モジュール20の並進移動は必ずしも必要ではない。図1の状態で生じている待機用スペースS1が、そのままメンテナンス作業に利用できるからである。換言すれば、待機用スペースS1がメンテナンス用スペースS2として利用されるからである。   When the module 20 to be maintained is at the most upstream position of the module group 20B, the translational movement of the module 20 is not always necessary. This is because the standby space S1 generated in the state of FIG. 1 can be used for maintenance work as it is. In other words, the standby space S1 is used as the maintenance space S2.

(第1実施形態の光触媒フィルタ・モジュール)
次に、各光触媒フィルタ・モジュール20の構成について詳細に説明する。
(Photocatalytic filter module of the first embodiment)
Next, the configuration of each photocatalytic filter module 20 will be described in detail.

光触媒フィルタ・モジュール群20Bを構成する5個のモジュール20は、いずれも同じ構成であり、複数(ここでは8枚)の矩形板状の光触媒フィルタ30を含む光触媒フィルタ・ユニットと、光源としての複数(ここでは4本)のブラックライト27を含む光源ユニットとを結合したものに相当する。   The five modules 20 constituting the photocatalyst filter module group 20B all have the same configuration, and a plurality of (here, eight) photocatalyst filter units including a rectangular plate-like photocatalyst filter 30 and a plurality of light source light sources. This corresponds to a combination of light source units including four (here, four) black lights 27.

ブラックライト27によれば、光触媒フィルタ30に所定波長の紫外光を照射して活性化することができる。なお、必要に応じて、ブラックライト27に代えて、それ以外の任意の光源(例えば、可視光を照射するライト)も使用可能であることは言うまでもない。   According to the black light 27, the photocatalytic filter 30 can be activated by irradiating it with ultraviolet light having a predetermined wavelength. Needless to say, any other light source (for example, a light that emits visible light) can be used instead of the black light 27 as needed.

モジュール20は、図3(a)〜(d)に示した、高い剛性を持つ矩形枠状のモジュール本体21と、図6(a)〜(c)に示した、高い剛性を持つ矩形枠状のフィルタ・フレーム22とを備えている。モジュール本体21とフィルタ・フレーム22は、いずれも、その長手方向が上下方向となるように配置される。   The module 20 includes a rectangular frame-shaped module main body 21 having a high rigidity shown in FIGS. 3A to 3D and a rectangular frame shape having a high rigidity shown in FIGS. 6A to 6C. The filter frame 22 is provided. The module main body 21 and the filter frame 22 are both arranged such that the longitudinal direction thereof is the vertical direction.

モジュール本体21の上端には、図3(a)〜(d)に示すように、直方体(箱)状の洗浄水案内部33が形成されており、洗浄水案内部33の内部上方に洗浄水供給管31が固定されている。洗浄水案内部33の底面には、図5(a)に示すように、洗浄水供給管31に沿ってスリット状の開口33aが形成されており、洗浄水供給管31を経て洗浄水案内部33の内部に到達した洗浄水Wが、開口33aを通って下方に向かって自然落下するようになっている。   As shown in FIGS. 3A to 3D, a rectangular parallelepiped (box) -shaped cleaning water guide 33 is formed at the upper end of the module body 21, and the cleaning water is located above the cleaning water guide 33. A supply pipe 31 is fixed. As shown in FIG. 5A, a slit-shaped opening 33 a is formed along the cleaning water supply pipe 31 on the bottom surface of the cleaning water guide section 33, and the cleaning water guide section passes through the cleaning water supply pipe 31. The washing water W that has reached the inside of the water 33 naturally falls downward through the opening 33a.

底面に一つのスリット状開口33aを形成した洗浄水案内部33に代えて、底面に複数の小孔33a'を洗浄水供給管31に沿って所定間隔で並べて形成した洗浄水案内部33'(図5(c)を参照)を使用してもよい。   Instead of the cleaning water guide 33 having a single slit-like opening 33a formed on the bottom surface, a cleaning water guide 33 ′ (a plurality of small holes 33a ′ arranged on the bottom surface along the cleaning water supply pipe 31 at predetermined intervals is provided. You may use FIG.5 (c)).

洗浄水Wとしては、純水が好適に使用されるが、洗浄効果を高めるために、運転中に光触媒フィルタ20に付着する有害付着物の種類に応じて、適当なイオン交換樹脂を添加するのが好ましい。また、純水以外の液体(例えば、軟水)も、洗浄水Wとして使用可能である。   As the cleaning water W, pure water is preferably used. In order to enhance the cleaning effect, an appropriate ion exchange resin is added depending on the type of harmful deposits that adhere to the photocatalytic filter 20 during operation. Is preferred. Further, liquids other than pure water (for example, soft water) can also be used as the cleaning water W.

洗浄水案内部33の内部に固定された洗浄水供給管31は、図4(a)及び(b)に示すように、モジュール本体21の上端縁に沿って延在する第1部分31aと、モジュール本体21それ自体に直交する方向に延在する第2部分31bとを有している。第1部分31aと第2部分31bは、いずれも円形パイプを用いて形成されていて、互いに直交している。   As shown in FIGS. 4A and 4B, the cleaning water supply pipe 31 fixed inside the cleaning water guide 33 has a first portion 31a extending along the upper edge of the module body 21, and And a second portion 31b extending in a direction orthogonal to the module main body 21 itself. The first portion 31a and the second portion 31b are both formed using a circular pipe and are orthogonal to each other.

第1部分31aの先端は、閉鎖部31dにより閉止されている。第1部分31aの基端は、第2部分31bの中央部に溶接により接合されていて、洗浄水供給管31の全体形状は略T字状になっている。第1部分31aの下面には、スリット31cが形成されており、第1部分31aの内部に到達した洗浄水Wが、スリット31cを通って下方に落下するようになっている。スリット31cは、第1部分31aの全長より少し短い。   The tip of the first portion 31a is closed by a closing portion 31d. The base end of the first portion 31a is joined to the central portion of the second portion 31b by welding, and the entire shape of the cleaning water supply pipe 31 is substantially T-shaped. A slit 31c is formed on the lower surface of the first portion 31a, and the cleaning water W that has reached the inside of the first portion 31a falls downward through the slit 31c. The slit 31c is slightly shorter than the entire length of the first portion 31a.

一つのスリット31cに代えて、図5(c)の開口33a'と同様に、複数の小孔を第1部分31aに沿って所定間隔で並べて形成してもよい。   Instead of the single slit 31c, a plurality of small holes may be formed at predetermined intervals along the first portion 31a, like the opening 33a ′ in FIG.

洗浄水供給管31は、洗浄水案内部33の内部に設けられているので、洗浄水供給管31のスリット31cを通って落下した洗浄水W(図4(c)参照)は、まず洗浄水案内部33の内部に一時的に滞留し、次に、洗浄水案内部33の開口33aを通って(図5(b)参照)、洗浄水案内部33の下方でフィルタ・フレーム22の窓23に装着された光触媒フィルタ30の上方に到達する。その後、光触媒フィルタ30の表面に沿ってさらに落下しながら、光触媒フィルタ30を自動的に洗浄し、モジュール本体21の下端部に設けられた洗浄水貯留部32(図7〜図9を参照)に一時的に貯留される。最後に、モジュール本体21の下端部に設けられた排水口21aから、光触媒フィルタ・モジュール20の外部に排出される。   Since the cleaning water supply pipe 31 is provided inside the cleaning water guide 33, the cleaning water W (see FIG. 4C) that has dropped through the slit 31c of the cleaning water supply pipe 31 is first washed water. It temporarily stays inside the guide portion 33, and then passes through the opening 33a of the cleaning water guide portion 33 (see FIG. 5B), and below the cleaning water guide portion 33, the window 23 of the filter frame 22 It reaches the upper part of the photocatalytic filter 30 attached to the. Thereafter, the photocatalyst filter 30 is automatically washed while further falling along the surface of the photocatalyst filter 30, and the washing water storage unit 32 (see FIGS. 7 to 9) provided at the lower end of the module main body 21 is used. Stored temporarily. Finally, the water is discharged out of the photocatalytic filter module 20 from a drain outlet 21 a provided at the lower end of the module body 21.

洗浄水案内部33の給水可能範囲R2は、開口33aの長さによって決定される。また、洗浄水供給管31の給水可能範囲R1は、スリット31cの長さによって決定される。後述するように、開口33aの長さと幅は、モジュール本体21の上端縁に沿って並列配置された2枚の光触媒フィルタ30の全体に均一に洗浄水Wが自然落下して供給されるように設定されている。他方、スリット31cの長さと幅は、これら光触媒フィルタ30への洗浄水Wの連続供給が中断されない程度の量で、洗浄水Wがスリット31cを通過して洗浄水案内部33に自然落下するように設定されればよい。   The water supply possible range R2 of the cleaning water guide 33 is determined by the length of the opening 33a. Further, the water supply possible range R1 of the cleaning water supply pipe 31 is determined by the length of the slit 31c. As will be described later, the length and width of the opening 33a are set such that the cleaning water W is uniformly supplied to the whole of the two photocatalytic filters 30 arranged in parallel along the upper edge of the module body 21. Is set. On the other hand, the length and width of the slit 31c are such that the continuous supply of the cleaning water W to the photocatalytic filter 30 is not interrupted, so that the cleaning water W naturally passes through the slit 31c and falls into the cleaning water guide 33. Should be set.

図4(c)と図5(b)から分かるように、本第1実施形態では、洗浄水案内部33の給水可能範囲R2が、洗浄水供給管31の給水可能範囲R1よりも少し大きくなるように設定されている。   As can be seen from FIG. 4C and FIG. 5B, in the first embodiment, the water supply possible range R2 of the cleaning water guide 33 is slightly larger than the water supply possible range R1 of the cleaning water supply pipe 31. Is set to

モジュール本体21は、外枠部分と洗浄水案内部33と洗浄水貯留部32を除いて開口している。   The module main body 21 is open except for the outer frame portion, the cleaning water guide portion 33 and the cleaning water storage portion 32.

矩形枠状のフィルタ・フレーム22は、図6(a)〜(c)に示すように、8個の光触媒フィルタ装着用窓23が形成されている。ここでは、光触媒フィルタ30が正方形であるため、窓23も正方形とされている。窓23のレイアウトは、水平方向に2個、垂直方向に4個のマトリックス状とされている。   As shown in FIGS. 6A to 6C, the rectangular frame-shaped filter frame 22 has eight photocatalyst filter mounting windows 23 formed therein. Here, since the photocatalytic filter 30 is square, the window 23 is also square. The layout of the windows 23 is a matrix of two in the horizontal direction and four in the vertical direction.

フィルタ・フレーム22は、図7(a)及び(b)に示すような状態で、すなわち、フィルタ・フレーム22の上端をモジュール本体21の洗浄水案内部33の下端に接触させた状態で、モジュール本体21に固定されている。その結果、フィルタ・フレーム22の下端部とモジュール本体21の下端部とで挟まれた区域に、換言すれば、モジュール本体21の下端部に、箱状の洗浄水貯留部32が形成される。洗浄水貯留部32は、光触媒フィルタ30をその表面に沿って落下しながら自動的に洗浄した洗浄水Wが、一時的に貯留される領域である。モジュール本体21の下端部に形成された排水口21aは、洗浄水貯留部32の内部に位置する。   The filter frame 22 is in a state as shown in FIGS. 7A and 7B, that is, in a state where the upper end of the filter frame 22 is in contact with the lower end of the cleaning water guide portion 33 of the module body 21. It is fixed to the main body 21. As a result, a box-shaped cleaning water reservoir 32 is formed in the area sandwiched between the lower end of the filter frame 22 and the lower end of the module main body 21, in other words, at the lower end of the module main body 21. The washing water storage unit 32 is an area in which the washing water W that has been automatically washed while dropping the photocatalytic filter 30 along the surface thereof is temporarily stored. A drain outlet 21 a formed at the lower end of the module body 21 is located inside the washing water storage part 32.

フィルタ・フレーム22は、図7(b)に示すように、モジュール本体21の後方に寄せて固定される。これは、モジュール本体21の内部において、フィルタ・フレーム22の前方にブラックライト27用のスペースを形成するためである。   As shown in FIG. 7B, the filter frame 22 is fixed to the rear of the module main body 21. This is because a space for the black light 27 is formed in front of the filter frame 22 inside the module main body 21.

図7(a)及び(b)に示す構成において、8個の光触媒フィルタ装着用窓23のそれぞれに光触媒フィルタ30を装着すると、図8(a)及び(b)に示す構成となる。フィルタ・フレーム22は、モジュール本体21の後方に寄せて固定されているので、光触媒フィルタ30も、図8(b)に示すように、モジュール本体21の後方に寄せて配置される。   In the configuration shown in FIGS. 7A and 7B, when the photocatalyst filter 30 is attached to each of the eight photocatalyst filter attachment windows 23, the configuration shown in FIGS. 8A and 8B is obtained. Since the filter frame 22 is fixed toward the rear of the module main body 21, the photocatalytic filter 30 is also arranged close to the rear of the module main body 21 as shown in FIG.

図8(a)及び(b)に示す構成において、4本のブラックライト27を装着すると、図9(a)及び(b)に示す構成となる。光触媒フィルタ30は、モジュール本体21の後方に寄せて配置されているので、これらのブラックライト27は、図9(a)及び(b)に示すように、モジュール本体21の内部に光触媒フィルタ30と重なる状態で装着されることができる。モジュール本体21の内部において、光触媒フィルタ30は後方に寄せて配置され、ブラックライト27は前方に寄せて配置されているので、両者の間には隙間があり、したがって、光触媒フィルタ30とブラックライト27は相互に干渉しない。その結果、モジュール本体21から前方または後方に突出する部分はなく、モジュール本体21の前面及び後面はいずれも平坦であり、従って、図9(a)及び(b)に示す構成同士を重ね合わせて図1に示す状態にすることが可能である。   In the configuration shown in FIGS. 8A and 8B, when four black lights 27 are mounted, the configuration shown in FIGS. 9A and 9B is obtained. Since the photocatalyst filter 30 is arranged close to the rear of the module main body 21, these black lights 27 are arranged inside the module main body 21 with the photocatalytic filter 30 as shown in FIGS. 9A and 9B. It can be mounted in an overlapping state. Inside the module main body 21, the photocatalytic filter 30 is arranged close to the rear, and the black light 27 is arranged close to the front, so that there is a gap between them, so the photocatalytic filter 30 and the black light 27 are arranged. Do not interfere with each other. As a result, there is no portion protruding forward or backward from the module main body 21, and the front and rear surfaces of the module main body 21 are both flat. Therefore, the configurations shown in FIGS. 9A and 9B are overlapped. The state shown in FIG. 1 can be obtained.

ブラックライト27の装着には、2本のコネクタ保持部材28aと8個のコネクタを使用している。2本のコネクタ保持部材28aは、モジュール本体21の上端付近及び下端付近にそれぞれ固定されている。各々のコネクタ保持部材28aには、4個のコネクタ28が等間隔に固定されており、各コネクタ保持部材28a上の対応する2個のコネクタ28が、互いに対向する位置に来るように調整されている。   For mounting the black light 27, two connector holding members 28a and eight connectors are used. The two connector holding members 28a are fixed near the upper end and the lower end of the module main body 21, respectively. Four connectors 28 are fixed at equal intervals on each connector holding member 28a, and two corresponding connectors 28 on each connector holding member 28a are adjusted so as to be in positions facing each other. Yes.

各ブラックライト27は、上下に並置された4枚の光触媒フィルタ30のほぼ全体を覆うように上下方向に延在しており、水平方向にはほぼ等間隔に配置されている。これは、ブラックライト27から放射される紫外光が、窓23に装着された8枚の光触媒フィルタ30の全面に対して、できるだけ均等に照射されるようにするためである。   Each black light 27 extends in the vertical direction so as to cover substantially the entire four photocatalyst filters 30 juxtaposed in the vertical direction, and is arranged at substantially equal intervals in the horizontal direction. This is because the ultraviolet light emitted from the black light 27 is irradiated as uniformly as possible to the entire surface of the eight photocatalytic filters 30 mounted on the window 23.

ブラックライト27及びコネクタ28は、可視光ではなく紫外光を照射する点を除けば、日常生活で使用している蛍光灯及びコネクタと同様の構成である。   The black light 27 and the connector 28 have the same configuration as the fluorescent lamp and the connector used in daily life, except that the ultraviolet light is irradiated instead of the visible light.

図9(a)及び(b)に示す構成において、滑車26を内蔵した係合部材24と、インバータ29とを、モジュール本体21の上端面に固定すると、図10(a)及び(b)に示す構成を持つ光触媒フィルタ・モジュール20が得られる。滑車26は、係合部材24に内蔵された回転軸25によって回転可能に支持されていて、図11(a)及び(b)に示すように、スライドレール12上を転動可能である。滑車26は、水平方向に延在するスライドレール12の表面の凹溝12aに係合しているので、スライドレール12に沿って自動的に案内され、スライドレール12から外れることはない。   In the configuration shown in FIGS. 9A and 9B, when the engaging member 24 incorporating the pulley 26 and the inverter 29 are fixed to the upper end surface of the module main body 21, FIGS. 10A and 10B are obtained. The photocatalytic filter module 20 having the structure shown is obtained. The pulley 26 is rotatably supported by a rotating shaft 25 built in the engaging member 24, and can roll on the slide rail 12 as shown in FIGS. 11 (a) and 11 (b). Since the pulley 26 is engaged with the concave groove 12 a on the surface of the slide rail 12 extending in the horizontal direction, the pulley 26 is automatically guided along the slide rail 12 and does not come off the slide rail 12.

係合部材24は、ここでは、両端を開口した矩形パイプを所定長さに切断したような形状を持ち、その内部にモジュール本体21(モジュール20)の上端縁に沿って延在する回転軸25を備えている。   Here, the engaging member 24 has a shape obtained by cutting a rectangular pipe having both ends opened into a predetermined length, and a rotary shaft 25 extending along the upper edge of the module main body 21 (module 20). It has.

モジュール20は、吊り下げられた状態で、水平方向のスライドレール12に支持されるので、図1及び図2に示すように、自重により垂直方向に向いている。そして、その状態でスライドレール12に沿って、水平方向に並進移動が可能である。   Since the module 20 is supported by the horizontal slide rail 12 in a suspended state, the module 20 faces in the vertical direction by its own weight as shown in FIGS. In this state, translational movement in the horizontal direction is possible along the slide rail 12.

スライドレール12と、モジュール20をスライドレール12に係合させる係合部材24と、スライドレール12上を転動する滑車26と、滑車26を回転可能に支持する回転軸25(図11(a)及び(b)参照)は、スライドレール12に沿ってモジュール20を並進移動させるための「並進移動機構」を構成する。   The slide rail 12, the engaging member 24 that engages the module 20 with the slide rail 12, the pulley 26 that rolls on the slide rail 12, and the rotary shaft 25 that rotatably supports the pulley 26 (FIG. 11A). And (b) constitute a “translation mechanism” for translating the module 20 along the slide rail 12.

モジュール本体21とフィルタ・フレーム22に使用される材料としては、紫外線により劣化しないステンレス鋼などが好適に使用される。   As a material used for the module main body 21 and the filter frame 22, stainless steel which does not deteriorate by ultraviolet rays is preferably used.

本第1実施形態では、並進移動機構が、ガス流方向の上流側及び下流側にそれぞれ設けられたレール支持体13及びモジュール支持体11(第1支持体及び第2支持体に対応)と、レール支持体13とモジュール支持体11との間に掛け渡されたスライドレール12とを含み、モジュール20がスライドレール12に吊り下げられた状態で並進移動可能に支持されている。このため、簡単な構成で、一つまたは複数のモジュール20の支持と並進移動を実現することが可能である。   In the first embodiment, the translation mechanism includes a rail support 13 and a module support 11 (corresponding to the first support and the second support) provided on the upstream side and the downstream side in the gas flow direction, respectively. A slide rail 12 spanned between the rail support 13 and the module support 11 is included, and the module 20 is supported so as to be capable of translational movement while being suspended from the slide rail 12. For this reason, it is possible to realize support and translation of one or a plurality of modules 20 with a simple configuration.

(第1実施形態の光触媒フィルタ)
次に、光触媒フィルタ30の構成と、光触媒フィルタ30をモジュール本体21(つまりモジュール20)に着脱可能に装着する構成について説明する。
(Photocatalytic filter of the first embodiment)
Next, a configuration of the photocatalytic filter 30 and a configuration in which the photocatalytic filter 30 is detachably attached to the module main body 21 (that is, the module 20) will be described.

光触媒フィルタ30は、略正方形のシート状で、図12に示すように、正方形シート状のフィルタ本体30aと、フィルタ本体30aの対向位置にある二つの辺(ここでは上辺と下辺)にそれぞれ形成された帯状の係止用突起30bとを有している。フィルタ本体30aは、セラミックス等の多孔質(フォーム)基材の表面に酸化チタンをコーティングして形成されている。   As shown in FIG. 12, the photocatalyst filter 30 is formed in a square sheet-like filter body 30a and two sides (here, an upper side and a lower side) that are opposite to the filter body 30a. And a belt-like locking projection 30b. The filter body 30a is formed by coating titanium oxide on the surface of a porous (foam) base material such as ceramics.

フィルタ・フレーム22の各光触媒フィルタ装着用窓23の上下の梁部分には、図13に示すような係止孔22aが形成されている。係止孔22aは上下方向に貫通しており、洗浄水Wが係止孔22aを通って下方に向かって流動できるようになっている。   Locking holes 22a as shown in FIG. 13 are formed in the upper and lower beam portions of the photocatalyst filter mounting windows 23 of the filter frame 22. The locking hole 22a penetrates in the vertical direction, and the cleaning water W can flow downward through the locking hole 22a.

光触媒フィルタ30を窓23に装着する際には、平坦な状態にあるフィルタ本体30aにその上下から外力を加えて少し湾曲させてから、上下の係止用突起30bを対応する係止孔22aにそれぞれ挿入して係止させる。その後、外力の印加を止めてフィルタ本体30aの湾曲をなくし、元の平坦な状態に戻す。すると、上下の係止用突起30bが対応する係止孔22aにそれぞれ係止されて、図13に示すような状態になる。光触媒フィルタ30は、こうして窓23にその全面を覆うような状態で固定される。   When the photocatalytic filter 30 is attached to the window 23, the filter body 30a in a flat state is bent slightly by applying an external force from above and below, and then the upper and lower locking projections 30b are inserted into the corresponding locking holes 22a. Insert and lock each. Thereafter, the application of the external force is stopped, the curve of the filter body 30a is eliminated, and the original flat state is restored. Then, the upper and lower locking projections 30b are respectively locked in the corresponding locking holes 22a, and the state shown in FIG. 13 is obtained. The photocatalytic filter 30 is thus fixed to the window 23 so as to cover the entire surface thereof.

同様にしてすべての窓23に対して光触媒フィルタ30を装着すれば、図8に示す状態が得られる。   Similarly, when the photocatalytic filter 30 is attached to all the windows 23, the state shown in FIG. 8 is obtained.

光触媒フィルタ30の脱着は、通常、ブラックライト27をコネクタ28から取り外した状態で、フィルタ・フレーム22(つまりモジュール20)の前方または後方から行う。フィルタ・フレーム22(つまりモジュール20)の後方から行う際には、ブラックライト27を取り付けたままでもよいが、脱着時に光触媒フィルタ30がブラックライト27に接触して損傷したりすることがあるので、ブラックライト27を取り外した状態で脱着する方が好ましい。   The photocatalytic filter 30 is normally attached or detached from the front or rear of the filter frame 22 (that is, the module 20) with the black light 27 removed from the connector 28. When performing from the back of the filter frame 22 (that is, the module 20), the black light 27 may be left attached, but the photocatalytic filter 30 may come into contact with the black light 27 and be damaged at the time of desorption. It is preferable to attach and detach with the black light 27 removed.

フィルタ・フレーム22の各窓23の上下の梁状部分に、上下方向に貫通する係止孔22aが形成されているため、図14に示すように、洗浄水供給管31と洗浄水案内部33を通って送られた洗浄水Wは、洗浄水案内部33の直下にある二つの係止孔22a、すなわち最上位の梁状部分にある二つの係止孔22aの内部に流れ込み、最上位の窓23に装着されている二つの光触媒フィルタ30の表面に沿って下方に流動する。   Since the upper and lower beam-like portions of the windows 23 of the filter frame 22 are formed with locking holes 22a penetrating in the vertical direction, as shown in FIG. 14, the cleaning water supply pipe 31 and the cleaning water guide portion 33 are formed. The cleaning water W sent through the flow of water flows into the two locking holes 22a immediately below the cleaning water guiding portion 33, that is, into the two locking holes 22a in the uppermost beam-shaped portion, and the uppermost It flows downward along the surfaces of the two photocatalytic filters 30 mounted on the window 23.

また、洗浄水供給管31にスリット31cが形成され、洗浄水案内部33にスリット状の開口33aが形成されているので、洗浄水Wは、最上位の梁状部分にある二つの係止孔22aの内部全体にほぼ均一に流れ込むことができる。このため、光触媒フィルタ30の持つ超親水性により、係止孔22aの内部を通過した洗浄水Wは、最上位の窓23に装着されている二つの光触媒フィルタ30の表面に沿って、ほぼ均一に流れ落ちることができる。これは、スリット状開口33aを形成した洗浄水案内部33に代えて、複数の小孔33a'を所定間隔で並べて形成した洗浄水案内部33'(図5(c)を参照)を使用した場合も同様である。   Since the cleaning water supply pipe 31 is formed with a slit 31c and the cleaning water guide 33 is formed with a slit-shaped opening 33a, the cleaning water W has two locking holes in the uppermost beam-shaped portion. It can flow almost uniformly into the entire interior of 22a. For this reason, due to the superhydrophilicity of the photocatalytic filter 30, the cleaning water W that has passed through the inside of the locking hole 22 a is substantially uniform along the surfaces of the two photocatalytic filters 30 mounted on the uppermost window 23. Can flow down. In this case, instead of the cleaning water guide portion 33 having the slit-shaped opening 33a, a cleaning water guide portion 33 ′ (see FIG. 5C) formed by arranging a plurality of small holes 33a ′ at predetermined intervals is used. The same applies to the case.

次に、洗浄水Wは、上から二番目の梁状部分にある二つの係止孔22aの内部に流れ込み、上から二番目の窓23に装着されている二つの光触媒フィルタ30の表面に沿って下方に流動する。続いて、上から三番目の梁状部分にある二つの係止孔22aの内部に流れ込み、上から三番目の窓23に装着されている二つの光触媒フィルタ30の表面に沿って下方に流動する。さらに、上から四番目の梁状部分にある二つの係止孔22aの内部に流れ込み、上から四番目(最下位)の窓23に装着されている二つの光触媒フィルタ30の表面に沿って下方に流動する。最後に、上から五番目(つまり最下位)の梁状部分にある二つの係止孔22aを通って、その下方にある洗浄水貯留部32に入り、そこで一時的に貯留される。   Next, the cleaning water W flows into the two locking holes 22a in the second beam-shaped portion from the top, and along the surfaces of the two photocatalytic filters 30 mounted on the second window 23 from the top. Flow downward. Subsequently, it flows into the inside of the two locking holes 22a in the third beam-like portion from the top, and flows downward along the surfaces of the two photocatalytic filters 30 mounted on the third window 23 from the top. . Furthermore, it flows into the inside of the two locking holes 22a in the fourth beam-like portion from the top, and goes down along the surfaces of the two photocatalytic filters 30 mounted on the fourth (lowest) window 23 from the top. To flow. Finally, it passes through the two locking holes 22a in the fifth (that is, the lowest) beam-like portion from the top, enters the wash water storage portion 32 below, and is temporarily stored there.

光触媒フィルタ30は「超親水性」を持っているため、その表面を流動する洗浄水Wはまったく弾かれることなく馴染んでしまう。このため、光触媒フィルタ30の持つセルフクリーニング機能が発揮され、さらに、光触媒フィルタ30の表面に存在する有害付着物(触媒毒)は水溶性である場合が多いため、その有害付着物は洗浄水Wによって自動的に洗い流される。その結果、光触媒フィルタ30は、装着したままの状態で洗浄されてその能力が回復する。   Since the photocatalytic filter 30 has “superhydrophilicity”, the washing water W flowing on the surface of the photocatalyst filter 30 becomes familiar without being repelled at all. For this reason, the self-cleaning function of the photocatalyst filter 30 is exhibited, and furthermore, harmful deposits (catalyst poisons) present on the surface of the photocatalytic filter 30 are often water-soluble. Will be washed away automatically. As a result, the photocatalytic filter 30 is washed in the mounted state, and its ability is restored.

しかも、超親水性によって光触媒フィルタ30の表面を洗浄水Wが円滑に流動するので、図14のように、モジュール20内に8枚の光触媒フィルタ30が4段重ねで配置されていても、モジュール20の上端部に設けた洗浄水供給管31と洗浄水案内部33を介して洗浄水Wを供給して落下させるだけで、最上位の光触媒フィルタ30から最下位の光触媒フィルタ30まで確実に洗浄することができる。   In addition, since the cleaning water W smoothly flows on the surface of the photocatalytic filter 30 due to super hydrophilicity, even if eight photocatalytic filters 30 are arranged in four stages in the module 20 as shown in FIG. Washing water W is reliably supplied from the uppermost photocatalytic filter 30 to the lowermost photocatalytic filter 30 only by supplying and dropping the washing water W via the washing water supply pipe 31 and the washing water guiding portion 33 provided at the upper end of 20. can do.

(第1実施形態の蓋部材)
次に、洗浄水貯留部32の底部の排水口21aに設けられた蓋部材35について、図15〜図17を参照しながら説明する。
(Cover member of the first embodiment)
Next, the lid member 35 provided at the drain outlet 21a at the bottom of the washing water storage unit 32 will be described with reference to FIGS.

蓋部材35は、図16(a)及び(b)に示した構成を持つ。すなわち、蓋部材35は、直線状の屈曲部35cで屈曲せしめられた略長方形の剛性板から形成されており、屈曲部35cを境界として、一方(ここでは右側)が第1部分35a、他方(ここでは左側)が第2部分35bとなっている。蓋部材35は、屈曲部35cで2回、直角に屈曲されているので、第1部分35aと第2部分35bは、図16(b)に示すように段違いになっている。第1部分35aと第2部分35bは、ほぼ平行である。   The lid member 35 has the configuration shown in FIGS. 16 (a) and 16 (b). That is, the lid member 35 is formed of a substantially rectangular rigid plate bent by a linear bent portion 35c, and one (here, the right side) is the first portion 35a and the other (right side) with the bent portion 35c as a boundary. Here, the left side) is the second portion 35b. Since the lid member 35 is bent at a right angle twice at the bent portion 35c, the first portion 35a and the second portion 35b are stepped as shown in FIG. The first portion 35a and the second portion 35b are substantially parallel.

蓋部材35は、図17に示すように、モジュール本体21の底部に形成されたスリット21bに挿入されていて、屈曲部35cにおいてモジュール本体21の底部に揺動可能に係合されている。第1部分35aは、上側つまり洗浄水貯留部32(モジュール本体21)の内部に位置し、第2部分35bは、下側つまり洗浄水貯留部32(モジュール本体21)の外部に位置する。蓋部材35は、屈曲部35cを軸としてシーソーの原理で屈曲部35cの周りに揺動する。すなわち、屈曲部35cを軸として、第1部分35aが上方に変位すると第2部分35bが下方に変位し、第1部分35aが下方に変位すると第2部分35bが上方に変位する。   As shown in FIG. 17, the lid member 35 is inserted into a slit 21b formed at the bottom of the module main body 21, and is engaged with the bottom of the module main body 21 at a bent portion 35c so as to be swingable. The first portion 35a is located on the upper side, that is, inside the cleaning water reservoir 32 (module body 21), and the second portion 35b is located on the lower side, that is, outside the cleaning water reservoir 32 (module body 21). The lid member 35 swings around the bent portion 35c based on the seesaw principle about the bent portion 35c. That is, with the bent portion 35c as an axis, when the first portion 35a is displaced upward, the second portion 35b is displaced downward, and when the first portion 35a is displaced downward, the second portion 35b is displaced upward.

上記のような形状と構成を持つ蓋部材35の動作により、次のようにして、排水口21aは自動的に開閉される。   By the operation of the lid member 35 having the shape and configuration as described above, the drain port 21a is automatically opened and closed as follows.

すなわち、洗浄水貯留部32に洗浄水Wが貯留される前は、図15(a)に示すように、蓋部材35の第1部分35aと第2部分35bは、モジュール本体21の底部とほぼ平行な状態にあって、蓋部材35の第2部分35bが排水口21aの全体を覆うように、下方から当接せしめられている。この状態では、排水口21aは蓋部材35の第2部分35bで閉鎖されている。これは、第1部分35aよりも第2部分35bの方が重量が大きくなるように形成されているからである。   That is, before the cleaning water W is stored in the cleaning water storage section 32, the first portion 35a and the second portion 35b of the lid member 35 are substantially the same as the bottom of the module main body 21, as shown in FIG. In the parallel state, the second portion 35b of the lid member 35 is abutted from below so as to cover the entire drain outlet 21a. In this state, the drain port 21 a is closed by the second portion 35 b of the lid member 35. This is because the weight of the second portion 35b is greater than that of the first portion 35a.

図15(a)に示すように、排水口21aの周囲を囲むモジュール本体21の底壁が下方に少し湾曲されているため、排水口21aの内側に略円形の小さな窪みが形成されている。この窪みは、洗浄水溜めとして使用される。   As shown in FIG. 15A, the bottom wall of the module main body 21 surrounding the drain port 21a is slightly curved downward, so that a small substantially circular recess is formed inside the drain port 21a. This depression is used as a washing water reservoir.

洗浄水貯留部32に洗浄水Wが貯留され始めると、図15(b)に示すように、洗浄水Wは徐々に排水口21aの内側の窪みに溜まる。これは、モジュール本体21の底壁に小さな傾斜が付けられていて、洗浄水Wが排水口21aに集まるように設計されているからである。   When the cleaning water W starts to be stored in the cleaning water storage section 32, the cleaning water W gradually accumulates in a recess inside the drain port 21a as shown in FIG. 15 (b). This is because the bottom wall of the module main body 21 is provided with a small slope, and the cleaning water W is designed to collect at the drain outlet 21a.

排水口21aの内側の窪み(洗浄水溜め)の洗浄水Wの貯留量が所定量に達していない時、つまり洗浄水貯留中は、図15(a)と同じ状態に保たれる。すなわち、図15(b)に示すように、蓋部材35の第1部分35aと第2部分35bは、モジュール本体21の底部とほぼ平行な状態にあって、排水口21aは蓋部材35の第2部分35bで閉鎖されたままである。この状態では、洗浄水溜めに貯留されている洗浄水Wの重量と第2部分の重量の和が、第1部分の重量より小さいか、第1部分の重量に等しいからである。   When the storage amount of the cleaning water W in the recess (the cleaning water reservoir) inside the drain port 21a does not reach a predetermined amount, that is, during the cleaning water storage, the state is maintained as in FIG. That is, as shown in FIG. 15B, the first portion 35 a and the second portion 35 b of the lid member 35 are substantially parallel to the bottom of the module main body 21, and the drain port 21 a is the first portion of the lid member 35. The two parts 35b remain closed. This is because in this state, the sum of the weight of the cleaning water W stored in the cleaning water reservoir and the weight of the second portion is smaller than or equal to the weight of the first portion.

洗浄水貯留部32での洗浄水Wの貯留量が所定量に達すると、すなわち、洗浄水溜めに貯留されている洗浄水Wの重量と第2部分の重量の和が、第1部分の重量より大きくなると、図15(c)に示すように、第2部分35bが押し下げられるので、排水口21aが開放される。このため、洗浄水溜めに貯留されていた洗浄水Wは排水口21aを通って、光触媒フィルタ・モジュール20の外部に排出される。   When the storage amount of the cleaning water W in the cleaning water storage unit 32 reaches a predetermined amount, that is, the sum of the weight of the cleaning water W stored in the cleaning water reservoir and the weight of the second portion is the weight of the first portion. If it becomes larger, as shown in FIG. 15C, the second portion 35b is pushed down, so that the drain port 21a is opened. For this reason, the cleaning water W stored in the cleaning water reservoir is discharged to the outside of the photocatalytic filter module 20 through the drain port 21a.

洗浄水Wの排出が完了すると、第2部分の重量と第1部分の重量との差により、第2部分35bが水平状態に自動的に復帰して排水口21aが再び閉鎖され、図15(a)の状態に戻る。   When the discharge of the washing water W is completed, the second portion 35b automatically returns to the horizontal state due to the difference between the weight of the second portion and the weight of the first portion, and the drain port 21a is closed again. Return to the state of a).

図15(b)では、洗浄水Wが洗浄水溜めにのみ貯留されており、モジュール本体21の底壁上には洗浄水Wが存在しない状態が描かれているが、モジュール本体21の底壁上にも少量の洗浄水Wが存在していてもよい。その場合も同様の原理で排水口21aは開閉される。   In FIG. 15B, the cleaning water W is stored only in the cleaning water reservoir, and the state in which the cleaning water W does not exist on the bottom wall of the module main body 21 is illustrated. A small amount of washing water W may also be present on the top. In this case, the drain port 21a is opened and closed by the same principle.

蓋部材35に使用される材料としては、モジュール本体21やフィルタ・フレーム22と同様に、紫外線により劣化しないステンレス鋼などが好適に使用される。   As the material used for the lid member 35, stainless steel that is not deteriorated by ultraviolet rays is preferably used, like the module main body 21 and the filter frame 22.

洗浄水貯留部32に貯留されている洗浄水Wのごく一部は、スリット21bから外部に漏れることがあるが、それによって蓋部材35の動作に支障は生じない。   A small part of the cleaning water W stored in the cleaning water storage section 32 may leak to the outside from the slit 21b, but this does not hinder the operation of the lid member 35.

(第1実施形態の光触媒フィルタ・モジュール群)
本第1実施形態の光触媒脱臭装置では、図1及び図2に示したとおり、上述したような構成を持つ光触媒フィルタ・モジュール20が5個、すなわち光触媒フィルタ・モジュール群20Bが組み込まれている。
(Photocatalytic filter / module group of the first embodiment)
In the photocatalyst deodorization apparatus of the first embodiment, as shown in FIGS. 1 and 2, five photocatalyst filter modules 20 having the above-described configuration, that is, a photocatalyst filter module group 20B are incorporated.

モジュール群20Bの中で最上流端(図1ではもっとも手前)にあるもの以外のモジュール20、つまり光触媒フィルタ・モジュール群20Aには、それぞれ、光触媒フィルタ30とブラックライト27とが装着されている。モジュール群20B中のモジュール20は、運転時には互いに重ね合わされた状態にあるので(図1参照)、最下流端にあるモジュール20のブラックライト27は、当該モジュール20の光触媒フィルタ30と、それより一つ上流側にあるモジュール20の光触媒フィルタ30に対して、紫外光を照射する。最下流端より一つ上流側にあるモジュール20のブラックライト27は、当該モジュール20の光触媒フィルタ30と、それより一つ上流側にあるモジュール20の光触媒フィルタ30に対して、紫外光を照射する。最下流端より二つ上流側にあるモジュール20のブラックライト27は、当該モジュール20の光触媒フィルタ30と、それより一つ上流側にあるモジュール20の光触媒フィルタ30に対して、紫外光を照射する。最下流端より三つ上流側にあるモジュール20のブラックライト27は、当該モジュール20の光触媒フィルタ30と、それより一つ上流側にあるモジュール20の光触媒フィルタ30に対して、紫外光を照射する。このように、一つのモジュール20内のブラックライト27から放射された紫外光が、それらブラックライト27の両側にある光触媒フィルタ30に対して照射されるので、紫外光を有効に利用することができるという利点がある。   A photocatalyst filter 30 and a black light 27 are attached to the modules 20 other than the module group 20B at the most upstream end (frontmost in FIG. 1), that is, the photocatalyst filter module group 20A. Since the modules 20 in the module group 20B are overlapped with each other during operation (see FIG. 1), the black light 27 of the module 20 at the most downstream end is equal to the photocatalytic filter 30 of the module 20 and one more from it. The photocatalytic filter 30 of the module 20 on the upstream side is irradiated with ultraviolet light. The black light 27 of the module 20 that is one upstream from the most downstream end irradiates the photocatalytic filter 30 of the module 20 and the photocatalytic filter 30 of the module 20 that is one upstream of the module 20 with ultraviolet light. . The black light 27 of the module 20 that is two upstream from the most downstream end irradiates the photocatalytic filter 30 of the module 20 and the photocatalytic filter 30 of the module 20 that is one upstream of the module 20 with ultraviolet light. . The black light 27 of the module 20 that is three upstream from the most downstream end irradiates the photocatalytic filter 30 of the module 20 and the photocatalytic filter 30 of the module 20 that is one upstream of the module 20 with ultraviolet light. . Thus, since the ultraviolet light emitted from the black light 27 in one module 20 is irradiated to the photocatalytic filters 30 on both sides of the black light 27, the ultraviolet light can be used effectively. There is an advantage.

最上流端(図1ではもっとも手前)にあるモジュール20には、それ以外のモジュール20とは異なり、光触媒フィルタ30のみが装着され、ブラックライト27は装着されていない。これは、当該モジュール20に装着されたブラックライト27は、そのモジュール20内で光触媒フィルタ30の上流側に配置されるため、モジュール群20Bの上流側で外部に露出してしまい、それらブラックライト27から放射される紫外光がメンテナンス作業を行う作業者に好ましくない影響を与えるからである。最上流端にあるモジュール20以外のモジュール20では、このような難点がないので、紫外光の照射効率を考慮して、光触媒フィルタ30とブラックライト27の双方が装着されている。   Unlike the other modules 20, only the photocatalytic filter 30 is attached to the module 20 at the most upstream end (frontmost in FIG. 1), and the black light 27 is not attached. This is because the black light 27 attached to the module 20 is disposed upstream of the photocatalytic filter 30 in the module 20 and is therefore exposed to the outside upstream of the module group 20B. This is because the ultraviolet light emitted from the laser beam has an unfavorable influence on the worker who performs the maintenance work. Since the modules 20 other than the module 20 at the most upstream end do not have such a problem, both the photocatalytic filter 30 and the black light 27 are mounted in consideration of the irradiation efficiency of ultraviolet light.

本第1実施形態の光触媒脱臭装置1の運転時には、光触媒フィルタ・モジュール群20Bの5個の光触媒フィルタ・モジュール20は、互いに重ね合わされた状態にある。この状態では、各モジュール20の洗浄水供給管31は相互に連結される。この点につき、図18と図4を用いて説明する。   During operation of the photocatalyst deodorizing apparatus 1 of the first embodiment, the five photocatalyst filter modules 20 in the photocatalyst filter module group 20B are in a state of being overlapped with each other. In this state, the cleaning water supply pipes 31 of the modules 20 are connected to each other. This point will be described with reference to FIGS. 18 and 4. FIG.

各光触媒フィルタ・モジュール20の洗浄水供給管31は、図4(a)及び(b)に示したように、モジュール20の上端縁に沿って延在する第1部分31aと、モジュール20に直交する第2部分31bとを備えている。第2部分31bは、上流側開口31baと下流側開口31bbを有している。第2部分31bの全長は、モジュール20の厚さに一致させてあり、5個のモジュール20が重ね合わされた状態では、図18に示すように、最も上流側にあるもの以外のモジュール20の上流側開口31baは、その上流側に隣接するモジュール20の下流側開口31bbに対向して、相互に連結されている。こうして相互に連結された上流側開口31baと下流側開口31bbの連結部は、Oリング(図示せず)によって密封されるので、そこから洗浄水Wが漏れることはない。   As shown in FIGS. 4A and 4B, the washing water supply pipe 31 of each photocatalytic filter module 20 is orthogonal to the module 20 and the first portion 31 a extending along the upper edge of the module 20. And a second portion 31b. The second portion 31b has an upstream opening 31ba and a downstream opening 31bb. The total length of the second portion 31b matches the thickness of the module 20, and in the state where the five modules 20 are overlaid, as shown in FIG. The side openings 31ba are coupled to each other so as to face the downstream openings 31bb of the modules 20 adjacent to the upstream side. Since the connecting portion between the upstream opening 31ba and the downstream opening 31bb thus connected is sealed by an O-ring (not shown), the washing water W does not leak from there.

最も上流側(図18では左端)にあるモジュール20の上流側開口31baは、閉止部材31eで閉止されていて、そこから洗浄水Wが漏れないようになっている。最も下流側(図18では右端)にあるモジュール20の下流側開口31bbは、モジュール支持体11内に設けられた連絡管34の先端開口に連結されている。こうして相互に連結された下流側開口31bbと連絡管34の先端開口の連結部も、Oリング(図示せず)によって密封されるので、そこから洗浄水Wが漏れることはない。   The upstream opening 31ba of the module 20 on the most upstream side (left end in FIG. 18) is closed by a closing member 31e so that the washing water W does not leak from there. The downstream opening 31bb of the module 20 on the most downstream side (the right end in FIG. 18) is connected to the distal end opening of the connecting pipe 34 provided in the module support 11. Since the connecting portion between the downstream opening 31bb and the tip opening of the connecting pipe 34 thus connected to each other is also sealed by an O-ring (not shown), the washing water W does not leak from there.

互いに重ね合わされた5個のモジュール20の洗浄水供給管31は、このようにして相互に連結されて連絡管34に接続されるので、外部から連絡管34を介して供給された洗浄水Wは、モジュール20の各々において、洗浄水供給管31と洗浄水案内部33を経てフィルタ・フレーム22の各係止孔22aに送られる。その後、各光触媒フィルタ30の表面を順に流れ下り、洗浄水貯留部32に集められて貯留される。この点は、図14を参照しながら上述したとおりである。   Since the cleaning water supply pipes 31 of the five modules 20 stacked on each other are connected to each other in this way and connected to the connecting pipe 34, the cleaning water W supplied from the outside through the connecting pipe 34 is In each of the modules 20, the module 20 is sent to the locking holes 22 a of the filter frame 22 through the cleaning water supply pipe 31 and the cleaning water guide 33. Thereafter, it flows down the surface of each photocatalytic filter 30 in order, and is collected and stored in the washing water storage section 32. This point is as described above with reference to FIG.

本第1実施形態の光触媒脱臭装置1では、以上の構成を持つ光触媒フィルタ・モジュール群20Aは、図19〜図21に示すように、それを並進移動可能とするための並進移動機構と、並進移動機構に含まれるスライドレール12を保持・固定するためのモジュール支持体11及びレール支持体13と共に、ケーシング10の内部に設置されている。   In the photocatalyst deodorization apparatus 1 according to the first embodiment, the photocatalyst filter module group 20A having the above configuration includes a translation mechanism for translating it, as shown in FIGS. Along with the module support 11 and the rail support 13 for holding and fixing the slide rail 12 included in the moving mechanism, the slide rail 12 is installed inside the casing 10.

ケーシング10は、直方体状の箱型で、ベース14の上に固定されている。ケーシング10の上壁には、ケーシング10内に被処理ガスを導入するためのガス導入口15と、ケーシング10内から被処理ガスを排出するためのガス排出口16とが形成されている。モジュール支持体11とガス排出口16は、ダクト17によって相互に接続されている。なお、ガス導入口15とガス排出口16の位置は、ここで示したものに限定されず、必要応じて任意の位置に設定できることは言うまでもない。   The casing 10 has a rectangular parallelepiped box shape and is fixed on the base 14. Formed on the upper wall of the casing 10 are a gas inlet 15 for introducing the gas to be processed into the casing 10 and a gas outlet 16 for discharging the gas to be processed from the casing 10. The module support 11 and the gas discharge port 16 are connected to each other by a duct 17. Needless to say, the positions of the gas inlet 15 and the gas outlet 16 are not limited to those shown here, and can be set as desired.

例えば、ケーシング10の前後(レール支持体13の側とモジュール支持体11の側)にそれぞれ他の装置が配置される場合、ガス導入口15とガス排出口16をケーシング10のいずれかの側壁(図19では左側または右側の壁)に設けてもよい。   For example, when other devices are arranged on the front and rear sides of the casing 10 (on the side of the rail support 13 and the side of the module support 11), the gas inlet 15 and the gas outlet 16 are connected to any side wall of the casing 10 ( It may be provided on the left or right wall in FIG.

(第1実施形態の光触媒脱臭装置の使用状況)
次に、以上述べた構成を持つ第1実施形態の光触媒脱臭装置1の使用状況について説明する。
(Use status of the photocatalyst deodorization apparatus of the first embodiment)
Next, the use situation of the photocatalyst deodorization apparatus 1 of 1st Embodiment which has the structure described above is demonstrated.

運転時には、図19及び図21に示すように、モジュール群20Bはモジュール支持体11の側(図19では右側)に寄せられてそれに接触せしめられている。この状態では、モジュール群20Bとレール支持体13の間に待機用スペースS1が形成されている。   During operation, as shown in FIGS. 19 and 21, the module group 20 </ b> B is brought close to and brought into contact with the module support 11 (the right side in FIG. 19). In this state, a standby space S1 is formed between the module group 20B and the rail support 13.

この状態でガス導入口15からケーシング10の内部(一次側空間)に導入された被処理ガスは、レール支持体13の側(上流側)からモジュール支持体11の側(下流側)に向かって、モジュール群20Bをそれに直交する方向に通過し、モジュール支持体11の内部に入る。被処理ガスは、モジュール群20Bを通過している間に、その内部にある光触媒フィルタ30によって脱臭される。こうして脱臭された被処理ガスは、モジュール支持体11からダクト17とガス排出口16を通ってケーシング10の外部(二次側空間)に排出される。   In this state, the gas to be treated introduced into the casing 10 (primary space) from the gas inlet 15 is directed from the rail support 13 side (upstream side) toward the module support 11 side (downstream side). The module group 20B passes through the module group 20B in a direction perpendicular to the module group 20B and enters the module support 11. The gas to be treated is deodorized by the photocatalytic filter 30 inside the module group 20B while passing through the module group 20B. The treated gas deodorized in this way is discharged from the module support 11 through the duct 17 and the gas discharge port 16 to the outside (secondary space) of the casing 10.

本第1実施形態では、5個のモジュール20が、ガス導入口15とガス排出口16を有するケーシング10内に相互に隣接して配置されるので、光触媒フィルタ30によるフィルタリング効果を簡単に増大させることができるという利点がある。   In the first embodiment, since the five modules 20 are arranged adjacent to each other in the casing 10 having the gas inlet 15 and the gas outlet 16, the filtering effect by the photocatalytic filter 30 is easily increased. There is an advantage that you can.

メンテナンス時には、ケーシング10内への被処理ガスの導入は停止される。メンテナンス作業が、光触媒フィルタ30の洗浄である場合は、図14を参照して上述したようにして、洗浄水供給管31に外部から洗浄水Wを供給するだけで自動的に洗浄が行われるから、作業者はそれ以外の作業をする必要がない。   During maintenance, the introduction of the gas to be processed into the casing 10 is stopped. When the maintenance work is cleaning of the photocatalyst filter 30, as described above with reference to FIG. 14, the cleaning is automatically performed only by supplying the cleaning water W from the outside to the cleaning water supply pipe 31. The operator does not need to do any other work.

メンテナンス作業が、光触媒フィルタ30の洗浄以外である場合は、作業者は、ケーシング10の一つの側壁に設けられたドア(図示せず)からケーシング10内に入り、モジュール20のメンテナンス作業を行う。   When the maintenance work is other than the cleaning of the photocatalytic filter 30, the worker enters the casing 10 through a door (not shown) provided on one side wall of the casing 10 and performs the maintenance work of the module 20.

まず、モジュール群20Bの中の最上流側にあるモジュール20を点検する際には、モジュール群20Bの並進移動は不要である。すなわち、モジュール群20Bを運転時(図19を参照)と同じ状態に保ったままで、光触媒フィルタ30のメンテナンス作業を行うことができる。待機用スペースS1をメンテナンス用スペースS2として利用して、メンテナンス作業を行うことができるからであり、また、このモジュール20にはブラックライト27が装着されていないからである。なお、このモジュール20をその下流側から点検する際には、このモジュール20を上流側に並進移動させる必要がある。   First, when inspecting the module 20 on the most upstream side in the module group 20B, the translation of the module group 20B is not necessary. That is, the maintenance work of the photocatalyst filter 30 can be performed while keeping the module group 20B in the same state as that during operation (see FIG. 19). This is because maintenance work can be performed using the standby space S1 as the maintenance space S2, and the black light 27 is not attached to the module 20. When inspecting the module 20 from the downstream side, it is necessary to translate the module 20 to the upstream side.

最上流側にあるモジュール20以外のモジュール20を点検する際には、必要に応じて、手動で、モジュール群20Bの中の点検すべきモジュール20の上流側にある少なくとも一つのモジュール20を上流側に並進移動させる必要がある。最上流側にあるモジュール20以外のモジュール20を点検する際の作業は、いずれも同じであるから、ここでは、図20に示すように、点検すべきモジュール20が、モジュール群20Bの中の下流側から3番目のモジュール20である場合について説明する。   When inspecting a module 20 other than the module 20 on the most upstream side, if necessary, at least one module 20 on the upstream side of the module 20 to be inspected in the module group 20B is manually upstream. Must be translated to Since the operations when inspecting the modules 20 other than the module 20 on the most upstream side are the same, here, as shown in FIG. 20, the module 20 to be inspected is located downstream in the module group 20B. The case of the third module 20 from the side will be described.

作業者は、手動で、点検すべきモジュール20の上流側にある二つのモジュール20を上流側に向かって並進移動させる。すると、図20に示すように、点検すべきモジュール20の上流側近傍にメンテナンス用スペースS2が形成されるので、そのメンテナンス用スペースS2を利用してメンテナンス作業(例えば光触媒フィルタ30の点検・交換やブラックライト27の点検・交換)を行う。この状態では、点検すべきモジュール20の上流側にある隣接するモジュール20に対して、その下流側(裏側)からメンテナンス作業(例えば光触媒フィルタ30の点検)を行うことも可能である。   The operator manually translates the two modules 20 upstream of the module 20 to be inspected toward the upstream side. Then, as shown in FIG. 20, since the maintenance space S2 is formed in the vicinity of the upstream side of the module 20 to be inspected, maintenance work (for example, inspection / replacement of the photocatalytic filter 30 or the like) is performed using the maintenance space S2. Check and replace the black light 27). In this state, maintenance work (for example, inspection of the photocatalytic filter 30) can be performed from the downstream side (back side) of the adjacent module 20 on the upstream side of the module 20 to be inspected.

本第1実施形態では、並進移動機構にスライドレール12上を回転移動する滑車26が使用されているので、モジュール20の規模と重量が大きくても、作業者が一人で容易に並進移動させることができる。   In the first embodiment, since the pulley 26 that rotates on the slide rail 12 is used as the translation mechanism, even if the scale and weight of the module 20 are large, the operator can easily translate it alone. Can do.

また、モジュール20が、ケーシング10内において、スライドレール12とモジュール支持体11及びレール支持体13を含む並進移動機構によって支持されると共に、ガス流方向に沿って並進移動可能となっているので、モジュール20内にある光触媒フィルタ30やブラックライト27を点検・交換する場合には、必要に応じて、点検・交換が必要なモジュール20の上流側にある他のモジュール20を上流側に並進移動させればよい。すると、点検・交換が必要なモジュール20の上流側にメンテナンス用スペースS2が生じ、その中にある光触媒フィルタ30やブラックライト27にアクセスすることが可能となるから、それらを点検したり、交換したりすることが容易に行える。   In addition, the module 20 is supported in the casing 10 by a translation mechanism including the slide rail 12, the module support 11, and the rail support 13, and can be translated along the gas flow direction. When the photocatalytic filter 30 and the black light 27 in the module 20 are inspected and replaced, the other modules 20 on the upstream side of the module 20 that needs to be inspected and replaced are translated to the upstream side as necessary. Just do it. Then, a maintenance space S2 is created on the upstream side of the module 20 that needs to be inspected and replaced, and the photocatalytic filter 30 and the black light 27 in the space 20 can be accessed, so that they can be inspected and replaced. Can be easily performed.

点検・交換が必要なモジュール20内の光触媒フィルタ30やブラックライト27にその下流側からアクセスが必要であれば、当該モジュール20自体を上流側に並進移動させれば、その下流側にメンテナンス用スペースS2が生じるから、上流側からアクセスするのと同様にして、それらを点検したり、取り外して洗浄したり、交換したりすることが容易に行える。   If it is necessary to access the photocatalyst filter 30 or the black light 27 in the module 20 that needs to be inspected / replaced from the downstream side, the module 20 itself is translated to the upstream side, and the maintenance space is located downstream of the module 20 itself. Since S2 occurs, it can be easily inspected, removed and cleaned, and replaced in the same manner as accessing from the upstream side.

以上説明したように、本第1実施形態の光触媒脱臭装置1では、ガス導入口15からケーシング10内に導入された被処理ガスは、そのガス流方向に直交し且つ相互に隣接して配置された5個の光触媒フィルタ・モジュール20を通過し、その際に、それらモジュール20内にあって光源であるブラックライト27によって活性化された光触媒フィルタ30により脱臭される。脱臭された被処理ガスは、ケーシング10のガス排出口16よりその外部に排出される。こうして、被処理ガスの脱臭処理が行われる。   As described above, in the photocatalyst deodorizing apparatus 1 of the first embodiment, the gases to be treated introduced into the casing 10 from the gas inlet 15 are arranged perpendicular to the gas flow direction and adjacent to each other. Then, the light passes through the five photocatalyst filter modules 20 and is deodorized by the photocatalyst filter 30 in the modules 20 and activated by the black light 27 as a light source. The treated gas deodorized is discharged to the outside from the gas discharge port 16 of the casing 10. In this way, the deodorizing process of the gas to be processed is performed.

略平板状の光触媒フィルタ・モジュール20の各々は、略垂直方向に装着された8枚の光触媒フィルタ30と、それら光触媒フィルタ30の上方(すなわちモジュール20の上端部)に固定された洗浄水供給管31と、それら光触媒フィルタ30の下方(すなわちモジュール20の下端部)に設けられた洗浄水貯留部32とを備えている。洗浄水供給管31に外部から洗浄水Wを供給すると、その洗浄水Wは、洗浄水供給管31のスリット31cを通って落下して洗浄水案内部33に入り、次に、洗浄水案内部33の開口33aを通って光触媒フィルタ30に向かって自然落下してから、光触媒フィルタ30の表面に沿って流れ落ちる。光触媒フィルタ30に沿って流動した後の洗浄水Wは、洗浄水貯留部32に一時的に貯留される。そして、貯留された洗浄水Wが所定量に達すると、蓋部材35が開いて排水口21aから排出されるように構成されている。   Each of the substantially flat photocatalyst filter modules 20 includes eight photocatalyst filters 30 mounted in a substantially vertical direction, and a washing water supply pipe fixed above the photocatalyst filters 30 (that is, the upper end portion of the module 20). 31 and a washing water reservoir 32 provided below the photocatalytic filters 30 (that is, the lower end of the module 20). When the cleaning water W is supplied from the outside to the cleaning water supply pipe 31, the cleaning water W falls through the slit 31c of the cleaning water supply pipe 31 and enters the cleaning water guide 33, and then the cleaning water guide After naturally falling toward the photocatalytic filter 30 through the opening 33 a of 33, it flows down along the surface of the photocatalytic filter 30. The cleaning water W after flowing along the photocatalytic filter 30 is temporarily stored in the cleaning water storage unit 32. Then, when the stored washing water W reaches a predetermined amount, the lid member 35 is opened and discharged from the drain port 21a.

このため、洗浄水Wが光触媒フィルタ30の表面に沿って流れ落ちる際に、光触媒フィルタ30の持つ超親水性に起因するセルフクリーニング機能が発揮され、しかも、光触媒フィルタ30の表面に存在する有害付着物(触媒毒)は水溶性である場合が多いため、その有害付着物のほとんどは洗浄水Wによって自動的に洗い流される。よって、メンテナンス時には、外部から洗浄水Wを供給するだけで、光触媒フィルタ30をその装着箇所から外すことなく(つまり装着したままで)洗浄してその能力を回復させることができる。   For this reason, when the washing water W flows down along the surface of the photocatalytic filter 30, the self-cleaning function due to the superhydrophilic property of the photocatalytic filter 30 is exhibited, and harmful deposits present on the surface of the photocatalytic filter 30. Since (catalyst poison) is often water-soluble, most of the harmful deposits are automatically washed away by the washing water W. Therefore, at the time of maintenance, by simply supplying cleaning water W from the outside, the photocatalyst filter 30 can be cleaned and recovered its ability without being removed from its mounting location (that is, while being mounted).

また、光触媒フィルタ30の洗浄に必要な構成要素は、略垂直方向に装着された光触媒フィルタ30を含む光触媒フィルタ・モジュール20と、光触媒フィルタ30に向かって洗浄水Wを自然落下させるように構成された洗浄水供給管31及び洗浄水案内部33と、光触媒フィルタ30に沿って流動した後の洗浄水Wを一時的に貯留する洗浄水貯留部32と、その洗浄水貯留部32に設けられた排水口21a及び蓋部材35だけで足りるので、簡単な構成で実現することができる。   The components necessary for cleaning the photocatalyst filter 30 are configured so that the photocatalyst filter module 20 including the photocatalyst filter 30 mounted in a substantially vertical direction and the cleaning water W naturally drop toward the photocatalyst filter 30. The cleaning water supply pipe 31 and the cleaning water guide section 33, the cleaning water storage section 32 for temporarily storing the cleaning water W after flowing along the photocatalytic filter 30, and the cleaning water storage section 32 are provided. Since only the drain port 21a and the lid member 35 are sufficient, it can be realized with a simple configuration.

本第1実施形態の光触媒脱臭装置1では、さらに次のような効果が得られる。   In the photocatalyst deodorization apparatus 1 of the first embodiment, the following effects are further obtained.

第一に、洗浄水供給管31が、光触媒フィルタ30の上方においてモジュール20に沿って延在する第1部分31aと、モジュール20にほぼ直交する方向に延在する第2部分31bとを有しており、洗浄水供給管31の開口はスリット31cとして第1部分31aに形成され、第2部分31bは外部の連絡管34または他のモジュール20の洗浄水供給管31の第2部分31bに接続可能とされている。このため、洗浄水Wを洗浄水供給管31に外部から供給しやすいと共に、その洗浄水Wを光触媒フィルタ30の全体にわたって均一に流動させやすい。   First, the cleaning water supply pipe 31 has a first portion 31 a extending along the module 20 above the photocatalytic filter 30 and a second portion 31 b extending in a direction substantially orthogonal to the module 20. The opening of the cleaning water supply pipe 31 is formed in the first part 31a as a slit 31c, and the second part 31b is connected to the external connection pipe 34 or the second part 31b of the cleaning water supply pipe 31 of the other module 20 It is possible. For this reason, it is easy to supply the cleaning water W to the cleaning water supply pipe 31 from the outside, and to easily flow the cleaning water W uniformly throughout the photocatalytic filter 30.

第二に、蓋部材35は、排水口21aの近傍に形成された隙間すなわちスリット21bに挿入された状態でモジュール20の底部に装着されていて、洗浄水貯留部32の内部に位置する第1部分35aと、洗浄水貯留部32の外部に位置する第2部分35bとを有しており、第2部分35bによって排水口21aを覆うことでこの排水口21aを閉鎖するように構成されている。このため、洗浄水貯留部32の内部にある第1部分35aと、洗浄水貯留部32の外部にある第2部分35bとの面積比と、排水口21aの面積との関係を調整するだけで、排水口21aの内側の窪み(洗浄水溜め)に貯留される洗浄水Wの量が所定量に達すると、自動的に蓋部材35が開いて排水口21aから排出されるようにすることができる。   Second, the lid member 35 is attached to the bottom of the module 20 in a state of being inserted into a gap formed in the vicinity of the drain port 21a, that is, the slit 21b, and is located in the cleaning water storage unit 32. It has the part 35a and the 2nd part 35b located in the exterior of the washing water storage part 32, and it is comprised so that this drain port 21a may be closed by covering the drain port 21a with the 2nd part 35b. . For this reason, it is only necessary to adjust the relationship between the area ratio of the first portion 35a inside the cleaning water reservoir 32 and the second portion 35b outside the cleaning water reservoir 32 and the area of the drain port 21a. When the amount of the cleaning water W stored in the depression (cleaning water reservoir) inside the drain port 21a reaches a predetermined amount, the lid member 35 is automatically opened and discharged from the drain port 21a. it can.

第三に、蓋部材35は、第1部分35aと第2部分35bの境界で屈曲された剛性板から形成されていると共に、屈曲部35dがスリット21bに揺動可能に係合されているので、蓋部材35の形成が容易であると共に、洗浄水貯留部32への蓋部材35の装着も容易である。   Third, the lid member 35 is formed of a rigid plate bent at the boundary between the first portion 35a and the second portion 35b, and the bent portion 35d is slidably engaged with the slit 21b. The lid member 35 can be easily formed, and the lid member 35 can be easily attached to the cleaning water reservoir 32.

第四に、モジュール20は、略垂直方向に配置されていると共に、並進移動機構により水平方向に並進移動が可能な状態で支持されているので、モジュール20を垂直方向に配置された状態で水平方向に並進移動させることが容易である。したがって、メンテナンス時に、光触媒フィルタ30の洗浄ができることに加え、光触媒フィルタ30(またはモジュール20に装着されたブラックライト27)の点検・交換といった、光触媒フィルタ30の洗浄以外のメンテナンス作業も容易に実行することができる。   Fourthly, the module 20 is arranged in a substantially vertical direction and supported by the translation mechanism so as to be able to translate in the horizontal direction, so that the module 20 is horizontally arranged in the vertical direction. It is easy to translate in the direction. Therefore, in addition to being able to clean the photocatalytic filter 30 during maintenance, maintenance work other than cleaning of the photocatalytic filter 30 such as inspection and replacement of the photocatalytic filter 30 (or the black light 27 attached to the module 20) is easily performed. be able to.

また、モジュール20(あるいは光触媒フィルタ・ユニットや光源ユニット)が、作業者が手動で容易に動かせない程度まで大型化した場合でも、光触媒フィルタ30またはブラックライト27の点検・交換といった、光触媒フィルタ30の洗浄以外のメンテナンス作業を、作業者が一人で実行することができる。   Even when the module 20 (or the photocatalytic filter unit or the light source unit) is enlarged to such an extent that the operator cannot easily move it manually, the photocatalytic filter 30 or the black light 27 can be inspected and replaced. Maintenance work other than cleaning can be performed by an operator alone.

なお、前記光触媒フィルタ・モジュール20は、光触媒フィルタと光源を含むのが通常であるが、少なくとも一つの光触媒フィルタを含んでいれば足り、光源は含んでいなくてもよい。光源を含んでいない場合には、前記光触媒フィルタ・モジュールは、洗浄水供給管、洗浄水貯留部等を有しない点を除いて、背景技術で引用した特許文献2の光触媒フィルタ・ユニットと同等の構成になる。   The photocatalyst filter module 20 usually includes a photocatalyst filter and a light source. However, the photocatalyst filter module 20 only needs to include at least one photocatalyst filter, and may not include a light source. When a light source is not included, the photocatalyst filter module is equivalent to the photocatalyst filter unit of Patent Document 2 cited in the background art, except that it does not have a washing water supply pipe, a washing water reservoir, and the like. It becomes a composition.

ケーシング10の構造やガス導入口15とガス排出口16の位置は、ここで示したものに限定されないことは言うまでもない。例えば、ケーシング10のモジュール支持体11に対面する側壁を省略して、モジュール支持体11それ自体を前記側壁として使用してもよい。この場合、ガス排出口16をモジュール支持体11に形成することができる。   Needless to say, the structure of the casing 10 and the positions of the gas inlet 15 and the gas outlet 16 are not limited to those shown here. For example, the side wall facing the module support 11 of the casing 10 may be omitted, and the module support 11 itself may be used as the side wall. In this case, the gas discharge port 16 can be formed in the module support 11.

また、処理前ガスが供給される一次側空間と、処理後ガスが送出される二次側空間とを仕切る隔壁に、光触媒フィルタ30でフィルタリングされたガスが通過する窓(開口)を設けたものも、ケーシング10として使用可能である。この場合、前記隔壁をモジュール支持体11として使用し、前記一次側空間にガス導入口15を設け、前記隔壁の窓(開口)をガス排出口16として使用すればよい。前記二次側空間は、前記隔壁の窓(ガス排出口16)の下流側に形成される。   In addition, a partition (partition) that partitions the primary side space to which the pre-treatment gas is supplied and the secondary side space to which the post-treatment gas is sent is provided with a window (opening) through which the gas filtered by the photocatalytic filter 30 passes. Can also be used as the casing 10. In this case, the partition wall may be used as the module support 11, the gas inlet 15 may be provided in the primary space, and the partition window (opening) may be used as the gas outlet 16. The secondary side space is formed on the downstream side of the partition wall window (gas exhaust port 16).

(第2実施形態の光触媒脱臭装置)
本発明の第2実施形態に係る光触媒脱臭装置1Aの全体構成の概略を図22と図23に示す。
(Photocatalyst deodorization apparatus of 2nd Embodiment)
The outline of the whole structure of the photocatalyst deodorizing apparatus 1A according to the second embodiment of the present invention is shown in FIGS.

本第2実施形態の光触媒脱臭装置1Aの構成は、省スペース化のために、ケーシング10Aのモジュール支持体11とは反対側に取り外し可能な扉10Aaを設け、メンテナンス時にはその扉10Aaを外して、ケーシング10Aの外側にあるスペース(通路等)を利用してメンテナンス用スペースS2を生成するようになっている点を除き、上述した第1実施形態に係る光触媒脱臭装置1のそれと同じである。よって、構成が同一の部分・要素には第1実施形態に係る光触媒脱臭装置1と同じ符号を付して、その説明を省略する。   The configuration of the photocatalyst deodorizing apparatus 1A of the second embodiment is provided with a removable door 10Aa on the opposite side of the module support 11 of the casing 10A for space saving, and the door 10Aa is removed during maintenance, It is the same as that of the photocatalyst deodorizing apparatus 1 according to the first embodiment described above, except that the space for maintenance S2 is generated using a space (passage or the like) outside the casing 10A. Therefore, the same code | symbol as the photocatalyst deodorizing apparatus 1 which concerns on 1st Embodiment is attached | subjected to the part and element with the same structure, and the description is abbreviate | omitted.

本第2実施形態の光触媒脱臭装置1Aの運転時の状態は、図22に示すとおりであり、ケーシング10Aの内部に待機用スペースS1が存在しない点を除いて、第1実施形態に係る光触媒脱臭装置1のそれと同じである。すなわち、ケーシング10Aのガス流方向の長さは、モジュール支持体11と5個の光触媒フィルタ・モジュール20(光触媒フィルタ・モジュール群20B)の同方向の長さの和より少し大きいだけであり、扉10Aaは最上流位置にあるモジュール20に近接して設けられている。このため、第1実施形態の光触媒脱臭装置1に比べて、待機用スペースS1の分だけ省スペースになっている。   The state during operation of the photocatalyst deodorization apparatus 1A of the second embodiment is as shown in FIG. 22, and the photocatalyst deodorization according to the first embodiment is performed except that the standby space S1 does not exist inside the casing 10A. It is the same as that of the device 1. That is, the length in the gas flow direction of the casing 10A is only slightly larger than the sum of the lengths in the same direction of the module support 11 and the five photocatalytic filter modules 20 (photocatalytic filter module group 20B). 10Aa is provided close to the module 20 at the most upstream position. For this reason, compared with the photocatalyst deodorizing apparatus 1 of the first embodiment, the space is saved by the standby space S1.

メンテナンス時において光触媒フィルタ30の洗浄以外の作業を行う場合は、次のように作業する。   When performing work other than cleaning of the photocatalytic filter 30 during maintenance, the following work is performed.

まず、ケーシング10Aの扉10Aaを取り外す。すると、扉10Aaのあった部分が開口するので、図23に示すように、スライドレール12の上流側端部に補助スライドレール37の一端を接続し、他端を補助レール支持体36で支持する。補助レール支持体36は、扉10Aaが取り付けられていた部分の外側にあってその部分に隣接するスペース内で、適当な箇所に設置される。補助スライドレール37は、扉10Aaが取り付けられていた部分に生じた開口から水平方向に突出する。補助スライドレール37の構成は、スライドレール12の構成と同じである。   First, the door 10Aa of the casing 10A is removed. Then, since the portion where the door 10Aa was located opens, as shown in FIG. 23, one end of the auxiliary slide rail 37 is connected to the upstream end of the slide rail 12, and the other end is supported by the auxiliary rail support 36. . The auxiliary rail support 36 is installed at an appropriate location in a space adjacent to and adjacent to the portion where the door 10Aa is attached. The auxiliary slide rail 37 protrudes in the horizontal direction from the opening generated in the portion where the door 10Aa was attached. The configuration of the auxiliary slide rail 37 is the same as the configuration of the slide rail 12.

点検すべきモジュール20が、モジュール群20Bの中の下流側から3番目のモジュール20である場合、作業者は、手動で、点検すべきモジュール20の上流側にある二つのモジュール20を上流側に向かって並進移動させる。この時、それら二つのモジュール20は、図23に示すように、ケーシング10Aの外に位置する。この並進移動により、第1実施形態と同様に、点検すべきモジュール20の上流側近傍にメンテナンス用スペースS2が形成されるので、そのメンテナンス用スペースS2を利用してメンテナンス作業(例えば光触媒フィルタ30の点検・交換やブラックライト27の点検・交換)を行うことができる。この状態では、点検すべきモジュール20の上流側にある隣接するモジュール20に対して、その下流側(裏側)からメンテナンス作業(例えば光触媒フィルタ30の点検)を行うことも可能である。   When the module 20 to be inspected is the third module 20 from the downstream side in the module group 20B, the operator manually sets the two modules 20 upstream of the module 20 to be inspected to the upstream side. Translate towards. At this time, the two modules 20 are located outside the casing 10A as shown in FIG. As a result of this translational movement, a maintenance space S2 is formed in the vicinity of the upstream side of the module 20 to be inspected, as in the first embodiment. Therefore, maintenance work (for example, the photocatalytic filter 30 of the photocatalytic filter 30) is made using the maintenance space S2. Inspection / replacement and inspection / replacement of the black light 27). In this state, maintenance work (for example, inspection of the photocatalytic filter 30) can be performed from the downstream side (back side) of the adjacent module 20 on the upstream side of the module 20 to be inspected.

メンテナンス作業が終了すると、扉10Aaをケーシング10Aの該当箇所に再度取り付け、その開口を閉鎖する。その後、光触媒脱臭装置1Aの運転を開始する。   When the maintenance work is completed, the door 10Aa is reattached to the corresponding part of the casing 10A, and the opening is closed. Thereafter, the operation of the photocatalyst deodorization apparatus 1A is started.

以上説明したように、本第2実施形態の光触媒脱臭装置1Aは、ケーシング10Aのモジュール支持体11とは反対側に取り外し可能な扉10Aaを設け、メンテナンス時にはその扉10Aaを外して、ケーシング10Aの外側にあるスペース(通路等)を利用してメンテナンス用スペースS2を生成するようになっている点を除き、上述した第1実施形態に係る光触媒脱臭装置1のそれと同じであるから、第1実施形態に係る光触媒脱臭装置1と同じ効果に加えて、第1実施形態においてケーシング10の内部に存在した待機用スペースS1に相当する分だけ、省スペースが図れるという効果がある。   As described above, the photocatalyst deodorizing apparatus 1A of the second embodiment is provided with the removable door 10Aa on the opposite side of the module support 11 of the casing 10A, and the door 10Aa is removed during maintenance to remove the casing 10A. Since it is the same as that of the photocatalyst deodorizing apparatus 1 according to the first embodiment described above except that the space S2 for maintenance is generated by using the space (passage etc.) on the outside, the first implementation In addition to the same effect as the photocatalyst deodorizing apparatus 1 according to the embodiment, there is an effect that space saving can be achieved by the amount corresponding to the standby space S1 existing inside the casing 10 in the first embodiment.

(洗浄確認試験)
本発明の効果を確認するため、以下の要領で光触媒フィルタの洗浄確認試験を行った。
(Cleaning confirmation test)
In order to confirm the effect of the present invention, a cleaning confirmation test of the photocatalytic filter was performed in the following manner.

まず、300mm×300mm(面積=0.09m)の正方形の光触媒フィルタ(多孔質セラミックス基材の表面に酸化チタンをコーティングしたもの)を使用して、上述した第1実施形態の光触媒脱臭装置1と同様の構成の実機を製作した。そして、現場にてアンモニア濃度を実測したところ、0.64mg/mであった。 First, a photocatalyst deodorizing apparatus 1 according to the first embodiment described above using a 300 mm × 300 mm (area = 0.09 m 2 ) square photocatalytic filter (a surface of a porous ceramic substrate coated with titanium oxide). An actual machine with the same configuration was manufactured. And when the ammonia concentration was actually measured on site, it was 0.64 mg / m 3 .

そこで、密閉したボックス内に、図24に示すように、上記の光触媒フィルタと、ブラックライト及びファンを設置してから、当該ボックス内に1年分に相当する量のアンモニアを供給した。アンモニアを含有する空気は、風速0.92m/sで光触媒フィルタに吹き付けられるようにした。そして、ブラックライトを動作させて紫外光を光触媒フィルタに照射しながら、ファンを駆動してボックス内の空気を流動させた。ブラックライトとファンの駆動は、当該ボックス内でアンモニアが検知されなくなるまで継続した。こうして、1年分に相当する量のアンモニアで汚染された光触媒フィルタを製作し、洗浄試験用サンプルとした。   Therefore, as shown in FIG. 24, the photocatalytic filter, the black light, and the fan were installed in a sealed box, and then an amount of ammonia corresponding to one year was supplied into the box. The air containing ammonia was blown onto the photocatalytic filter at a wind speed of 0.92 m / s. Then, while operating the black light and irradiating the photocatalytic filter with ultraviolet light, the fan was driven to flow the air in the box. The driving of the black light and the fan was continued until ammonia was not detected in the box. In this way, a photocatalytic filter contaminated with an amount of ammonia corresponding to one year was manufactured and used as a cleaning test sample.

アンモニアの1年分に相当する量(=334.2g)は、次のようにして計算した。すなわち、光触媒フィルタの洗浄を1年に1回行うとすると、上述した第1実施形態の光触媒脱臭装置1の光触媒フィルタ1枚当たりの風量は、0.92m/s×0.09m×3600=298.08m/hなので、1年分のアンモニア負荷量は、298.08m/h×24×365×0.64/1000=1671g/年となる。第1実施形態の光触媒脱臭装置1では、光触媒フィルタ・モジュールが5段に重ね合わされていることを考慮すると、光触媒フィルタ1枚当たりのアンモニア負荷量は、1671÷5=334.2g/年となる。 The amount of ammonia corresponding to one year (= 334.2 g) was calculated as follows. That is, if cleaning of the photocatalyst filter is performed once a year, the air volume per photocatalyst filter of the photocatalyst deodorizing apparatus 1 of the first embodiment described above is 0.92 m / s × 0.09 m 2 × 3600 = Since 298.08 m 3 / h, the ammonia load for one year is 298.08 m 3 /h×24×365×0.64/1000=1671 g / year. In the photocatalyst deodorizing apparatus 1 of the first embodiment, considering that the photocatalyst filter modules are stacked in five stages, the ammonia load amount per photocatalyst filter is 1671 ÷ 5 = 334.2 g / year. .

洗浄確認試験は、次のようにして実施した。まず、光触媒脱臭装置1の実機のスモールスケール(1/200)を製作し、図25に示すような洗浄水供給・回収機構を製作した。   The cleaning confirmation test was performed as follows. First, an actual small scale (1/200) of the photocatalyst deodorizing apparatus 1 was manufactured, and a cleaning water supply / recovery mechanism as shown in FIG. 25 was manufactured.

実機とスモールスケールとの関係は、図28に示すとおりとした。すなわち、光触媒フィルタの1回の洗浄枚数は、実機=200枚に対し、スモールスケール=1枚、光触媒フィルタへの洗浄水供給量は、実機=9m/hに対し、スモールスケール=45L(リットル)/h、イオン交換樹脂の循環流量は、実機=4m/hに対し、スモールスケール=20L/h、洗浄水回収タンクの保有推量は、実機=4mに対し、スモールスケール=20L、洗浄に必要なイオン交換樹脂想定量は、実機=28.5Lに対し、スモールスケール=0.143Lとした。 The relationship between the actual machine and the small scale was as shown in FIG. That is, the number of cleaning of the photocatalyst filter at one time is 200 for the actual machine, the small scale is 1 sheet, and the amount of cleaning water supplied to the photocatalyst filter is 45 L (liter) for the actual machine = 9 m 3 / h. ) / H, the circulation flow rate of the ion exchange resin is small scale = 20 L / h for the actual machine = 4 m 3 / h, and the retained amount of the washing water recovery tank is small scale = 20 L for the actual machine = 4 m 3 The estimated amount of ion-exchange resin necessary for the test was set to a small scale = 0.143L against an actual machine = 28.5L.

このスモールスケールでは、図25に示すように、1枚の光触媒フィルタの上方に洗浄水供給管を配置し、そのスリットから光触媒フィルタに向かって洗浄水が落下するようにした。洗浄水供給管への洗浄水の供給は、45L/hの流量で行った。また、光触媒フィルタに向かって落下した洗浄水は、光触媒フィルタの表面に沿って流動してから、光触媒フィルタの下方に配置した洗浄水貯留部に集められ、洗浄水貯留部に設けた排水口から落下して、その下方に設置した洗浄水回収タンクに回収されるようにした。そして、こうして洗浄水回収タンクに回収された洗浄水は、再度、洗浄水供給管に供給されるようにした。   In this small scale, as shown in FIG. 25, a cleaning water supply pipe is arranged above one photocatalytic filter so that the cleaning water falls from the slit toward the photocatalytic filter. The cleaning water was supplied to the cleaning water supply pipe at a flow rate of 45 L / h. In addition, the wash water dropped toward the photocatalyst filter flows along the surface of the photocatalyst filter, and then is collected in the wash water storage portion disposed below the photocatalyst filter, and is discharged from the drain port provided in the wash water storage portion. It was dropped and collected in a washing water recovery tank installed below it. The cleaning water recovered in the cleaning water recovery tank in this way is supplied again to the cleaning water supply pipe.

イオン交換樹脂ボンベには、デュオライトMBGPというイオン交換樹脂を充填しておき、洗浄水の一部が20L/hの流量で洗浄水回収タンク→イオン交換樹脂ボンベ→洗浄水回収タンクと循環して流れるようにした。イオン交換樹脂ボンベに収容されているイオン交換樹脂の量は、0.143Lとした。   The ion exchange resin cylinder is filled with an ion exchange resin called Duolite MBGP, and a part of the washing water is circulated from the washing water recovery tank to the ion exchange resin cylinder → the washing water collection tank at a flow rate of 20 L / h. I made it flow. The amount of ion exchange resin accommodated in the ion exchange resin cylinder was 0.143L.

図25に示すような洗浄水供給・回収機構を持つスモールスケールでは、洗浄水回収タンク内の洗浄水の電気伝導率を測定したところ、図26のように変化した。そこで、洗浄水回収タンク内の洗浄水の電気伝導率が50μS/cmとなった時点で、アセトアルデヒドの除去率を測定したところ、図27に示す結果が得られた。図27の表から、洗浄の前後でアセトアルデヒドの除去率が回復していることが分かった。その結果、スモールスケールの光触媒フィルタは洗浄水で洗浄され、その表面の有害付着物が洗い流されていることが確認された。   In the small scale having the cleaning water supply / recovery mechanism as shown in FIG. 25, the electrical conductivity of the cleaning water in the cleaning water recovery tank was measured and changed as shown in FIG. Then, when the electrical conductivity of the cleaning water in the cleaning water recovery tank reached 50 μS / cm, the acetaldehyde removal rate was measured, and the result shown in FIG. 27 was obtained. From the table in FIG. 27, it was found that the removal rate of acetaldehyde was recovered before and after washing. As a result, it was confirmed that the small-scale photocatalytic filter was washed with washing water, and harmful deposits on the surface were washed away.

図26より、洗浄水の電気伝導率が50μS/cmとなるのは、洗浄時間が約5.5時間になった時点であった。このため、洗浄時間を8時間に設定すれば、スモールスケールだけでなく、実機でも、光触媒フィルタの洗浄は可能であると確認された。また、光触媒フィルタ1枚当たりに必要なイオン交換樹脂の量は、0.143Lで足りると推定された。   From FIG. 26, the electrical conductivity of the cleaning water reached 50 μS / cm when the cleaning time reached about 5.5 hours. For this reason, it was confirmed that if the cleaning time is set to 8 hours, the photocatalytic filter can be cleaned not only with the small scale but also with the actual machine. Further, it was estimated that 0.143 L was sufficient for the amount of ion-exchange resin required per photocatalyst filter.

(変形例)
上述した第1及び第2の実施形態は本発明を具体化した例を示すものである。したがって、本発明はこれら実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を外れることなく種々の変形が可能であることは言うまでもない。
(Modification)
The first and second embodiments described above show examples embodying the present invention. Accordingly, the present invention is not limited to these embodiments, and it goes without saying that various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

例えば、上述した実施形態では、光触媒フィルタ30を活性化する光源としてブラックライト27を使用しているが、ブラックライト27以外の光源を使用してもよいことは言うまでもない。また、多孔質セラミックに酸化チタン(TiSO)をコーティングしてなる光触媒フィルタ23を使用しているが、酸化チタン以外の光触媒を使用してもよいし、光触媒フィルタ23の基体を多孔質セラミック以外の材料で形成してもよいことは言うまでもない。 For example, in the above-described embodiment, the black light 27 is used as a light source for activating the photocatalytic filter 30, but it goes without saying that a light source other than the black light 27 may be used. Further, the photocatalytic filter 23 formed by coating porous ceramic with titanium oxide (TiSO 2 ) is used. However, a photocatalyst other than titanium oxide may be used, and the base of the photocatalytic filter 23 is not porous ceramic. Needless to say, it may be formed of any material.

また、本発明は、規模や重量の大きい光触媒装置に好適に適用されるが、小型の光触媒装置にも適用可能である。   Further, the present invention is preferably applied to a photocatalytic device having a large scale and weight, but can also be applied to a small-sized photocatalytic device.

さらに、上記実施形態では、本発明を光触媒脱臭装置に適用した場合を示しているが、本発明はこれに限定されない。光触媒フィルタを備えた光触媒装置であれば、光触媒脱臭装置以外の光触媒装置、例えば、光触媒殺菌(抗菌)装置、光触媒浄化装置等にも適用可能である。   Furthermore, although the said embodiment has shown the case where this invention is applied to a photocatalyst deodorizing apparatus, this invention is not limited to this. Any photocatalytic device provided with a photocatalytic filter can be applied to photocatalytic devices other than the photocatalytic deodorizing device, for example, photocatalytic sterilization (antibacterial) devices, photocatalytic purification devices, and the like.

前記洗浄液としては、純水を使用しているが、前記光触媒フィルタを洗浄してその能力を回復させることができるものであれば、純水以外の任意の液体も使用することができる。   As the cleaning liquid, pure water is used, but any liquid other than pure water can be used as long as the photocatalytic filter can be cleaned to recover its ability.

1 光触媒脱臭装置
1A 光触媒脱臭装置
10 ケーシング
10A ケーシング
10Aa 扉
11 モジュール支持体
12 スライドレール
12a スライドレールの凹溝
13 レール支持体
14 ベース
15 ガス導入口
16 ガス排出口
17 ダクト
20 光触媒フィルタ・モジュール
20A 光触媒フィルタ・モジュール群
20B 光触媒フィルタ・モジュール群
21 モジュール本体
21a 排水口
21b スリット
22 フィルタ・フレーム
22a 係止孔
23 光触媒フィルタ装着用窓
24 係合部材
25 回転軸
26 滑車
27 ブラックライト
28 コネクタ
28a コネクタ保持部材
29 インバータ
30 光触媒フィルタ
30a フィルタ本体
30b 係止用突起
31 洗浄水供給管
31a 第1部分
31b 第2部分
31ba 上流側開口
31bb 下流側開口
31c スリット
31d 閉鎖部
31e 閉止部材
32 洗浄水貯留部
33 洗浄水案内部
33a 開口
34 連絡管
35 蓋部材
35a 第1部分
35b 第2部分
35c 屈曲部
36 補助レール支持体
37 補助スライドレール
R1 31 洗浄水供給管の給水可能範囲
R2 洗浄水案内部の給水可能範囲
S1 待機用スペース
S2 メンテナンス用スペース
W 洗浄水
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Photocatalyst deodorizing apparatus 1A Photocatalyst deodorizing apparatus 10 Casing 10A Casing 10Aa Door 11 Module support body 12 Slide rail 12a Slide rail concave groove 13 Rail support body 14 Base 15 Gas introduction port 16 Gas discharge port 17 Duct 20 Photocatalytic filter module 20A Photocatalyst Filter module group 20B Photocatalyst filter module group 21 Module body 21a Drain port 21b Slit 22 Filter frame 22a Locking hole 23 Photocatalyst filter mounting window 24 Engagement member 25 Rotating shaft 26 Pulley 27 Black light 28 Connector 28a Connector holding member 29 Inverter 30 Photocatalytic filter 30a Filter body 30b Locking protrusion 31 Washing water supply pipe 31a First part 31b Second part 31ba Upstream opening 31bb Downstream opening 31c 31d Closing part 31e Closing member 32 Washing water storage part 33 Washing water guide part 33a Opening 34 Connecting pipe 35 Lid member 35a First part 35b Second part 35c Bending part 36 Auxiliary rail support 37 Auxiliary slide rail R1 31 Washing water Water supply possible range R2 of the supply pipe Water supply possible range of the washing water guide S1 Standby space S2 Maintenance space W Washing water

Claims (11)

略垂直方向に装着された光触媒フィルタを含む、略平板状の光触媒フィルタ・モジュールと、
前記光触媒フィルタの上方において前記光触媒フィルタ・モジュールに固定された、開口を有する洗浄液供給管と、
前記光触媒フィルタの下方において前記光触媒フィルタ・モジュールに設けられた排出口とを備え、
前記洗浄液供給管が、前記光触媒フィルタの上方において前記光触媒フィルタ・モジュールに沿って延在する第1部分と、前記光触媒フィルタ・モジュールにほぼ直交する方向に延在する第2部分とを有しており、
前記洗浄液供給管の前記開口は前記第1部分に形成され、前記第2部分は外部の連絡管または他の光触媒フィルタ・モジュールの洗浄液供給管の第2部分に接続可能とされており、
前記洗浄液供給管に外部から洗浄液を供給すると、その洗浄液は前記洗浄液供給管の開口から前記光触媒フィルタに向かって落下して前記光触媒フィルタに沿って流動し、
前記光触媒フィルタに沿って流動した後の前記洗浄液は、前記排出口から前記光触媒フィルタ・モジュールの外部に排出されるように構成されていることを特徴とする光触媒装置。
A substantially flat photocatalytic filter module including a photocatalytic filter mounted in a substantially vertical direction;
A cleaning liquid supply pipe having an opening, fixed to the photocatalytic filter module above the photocatalytic filter;
A discharge port provided in the photocatalytic filter module below the photocatalytic filter,
The cleaning liquid supply pipe has a first portion extending along the photocatalytic filter module above the photocatalytic filter and a second portion extending in a direction substantially perpendicular to the photocatalytic filter module. And
The opening of the cleaning liquid supply pipe is formed in the first part, and the second part can be connected to an external communication pipe or a second part of the cleaning liquid supply pipe of another photocatalytic filter module,
When supplying the cleaning liquid from the outside to the cleaning liquid supply pipe, the cleaning liquid falls from the opening of the cleaning liquid supply pipe toward the photocatalytic filter and flows along the photocatalytic filter,
The photocatalyst apparatus configured to discharge the cleaning liquid after flowing along the photocatalytic filter from the discharge port to the outside of the photocatalytic filter module.
略垂直方向に装着された光触媒フィルタを含む、略平板状の光触媒フィルタ・モジュールと、
前記光触媒フィルタの上方において前記光触媒フィルタ・モジュールに固定された、
開口を有する洗浄液供給管と、
前記光触媒フィルタの下方において前記光触媒フィルタ・モジュールに設けられた排出口と、
前記光触媒フィルタの下方において前記光触媒フィルタ・モジュールに設けられた洗浄液貯留部と、
前記排出口に装着された蓋部材とを備え、
前記蓋部材は、前記洗浄液貯留部に一時的に貯留された前記洗浄液が所定量に達すると、開放されて前記洗浄液を外部に排出するように構成されており、
前記洗浄液供給管に外部から洗浄液を供給すると、その洗浄液は前記洗浄液供給管の開口から前記光触媒フィルタに向かって落下して前記光触媒フィルタに沿って流動し、
前記光触媒フィルタに沿って流動した後の前記洗浄液は、前記排出口から前記光触媒フィルタ・モジュールの外部に排出されるように構成されていることを特徴とする光触媒装置。
A substantially flat photocatalytic filter module including a photocatalytic filter mounted in a substantially vertical direction;
Fixed to the photocatalytic filter module above the photocatalytic filter,
A cleaning liquid supply pipe having an opening;
A discharge port provided in the photocatalytic filter module below the photocatalytic filter;
A cleaning liquid reservoir provided in the photocatalytic filter module below the photocatalytic filter,
A lid member attached to the outlet,
The lid member is configured to be opened and discharge the cleaning liquid to the outside when the cleaning liquid temporarily stored in the cleaning liquid storage unit reaches a predetermined amount.
When supplying the cleaning liquid from the outside to the cleaning liquid supply pipe, the cleaning liquid falls from the opening of the cleaning liquid supply pipe toward the photocatalytic filter and flows along the photocatalytic filter,
The photocatalyst apparatus configured to discharge the cleaning liquid after flowing along the photocatalytic filter from the discharge port to the outside of the photocatalytic filter module .
前記光触媒フィルタの下方において前記光触媒フィルタ・モジュールに設けられた洗浄液貯留部と、前記排出口に装着された蓋部材とをさらに備えており、
前記蓋部材は、前記洗浄液貯留部に一時的に貯留された前記洗浄液が所定量に達すると、開放されて前記洗浄液を外部に排出するように構成されている請求項に記載の光触媒装置。
A cleaning liquid reservoir provided in the photocatalytic filter module below the photocatalytic filter, and a lid member attached to the discharge port,
2. The photocatalytic device according to claim 1 , wherein the lid member is configured to be opened and discharge the cleaning liquid to the outside when the cleaning liquid temporarily stored in the cleaning liquid storage unit reaches a predetermined amount.
前記洗浄液供給管と前記光触媒フィルタとの間に、底面に開口を持つ洗浄液案内部が配置されており、
前記洗浄液供給管の開口から落下した洗浄液が、前記洗浄案内部に一時的に貯留されてから、前記洗浄液案内部の開口を通って前記光触媒フィルタに向かって落下するように構成されている請求項1〜3のいずれか1項に記載の光触媒装置。
Between the cleaning liquid supply pipe and the photocatalytic filter, a cleaning liquid guide having an opening on the bottom surface is disposed,
Claims wherein the cleaning liquid dropped from the opening of the cleaning liquid supply tube, said after being temporarily stored in the cleaning liquid guide unit, through an opening of the cleaning liquid guide portion is configured so as to fall toward the photocatalyst filter Item 4. The photocatalytic device according to any one of Items 1 to 3.
前記蓋部材が、前記排出口の近傍に形成された隙間に挿入された状態で前記光触媒フィルタ・モジュールに装着されていて、前記洗浄液貯留部の内部に位置する第1部分と、前記洗浄液貯留部の外部に位置する第2部分とを有しており、
前記第2部分によって前記排出口を閉鎖するように構成されている請求項3または4に記載の光触媒装置。
A first portion that is attached to the photocatalytic filter module in a state where the lid member is inserted into a gap formed in the vicinity of the discharge port, and is located inside the cleaning liquid storage section; and the cleaning liquid storage section And a second part located outside the
The photocatalyst apparatus of Claim 3 or 4 comprised so that the said discharge port may be closed by the said 2nd part.
前記蓋部材が、前記第1部分と前記第2部分の境界で屈曲された剛性板から形成されていると共に、前記蓋部材の屈曲部が前記隙間に揺動可能に係合されている請求項3〜5のいずれか1項に記載の光触媒装置。   The lid member is formed of a rigid plate bent at a boundary between the first portion and the second portion, and a bent portion of the lid member is swingably engaged with the gap. The photocatalyst apparatus of any one of 3-5. 前記光触媒フィルタ・モジュールが、略垂直方向に配置されていると共に、並進移動機構により略水平方向に並進移動が可能な状態で支持されている請求項1〜6のいずれか1項に記載の光触媒装置。   The photocatalyst according to any one of claims 1 to 6, wherein the photocatalyst filter module is arranged in a substantially vertical direction and is supported in a state in which it can be translated in a substantially horizontal direction by a translational movement mechanism. apparatus. 前記光触媒フィルタ・モジュールが複数個、ケーシング内に相互に隣接して配置されている請求項7に記載の光触媒装置。   The photocatalyst apparatus according to claim 7, wherein a plurality of the photocatalytic filter modules are disposed adjacent to each other in the casing. 前記並進移動機構が、ガス流方向の上流側及び下流側にそれぞれ設けられた第1支持体及び第2支持体と、前記第1支持体と前記第2支持体との間に掛け渡されたスライドレールとを含み、
一つまたは複数の前記光触媒フィルタ・モジュールが前記スライドレールに吊り下げられた状態で並進移動可能に支持されている請求項8に記載の光触媒装置。
The translation mechanism is spanned between a first support and a second support provided on the upstream side and the downstream side in the gas flow direction, respectively, and the first support and the second support. Including slide rails,
9. The photocatalytic device according to claim 8, wherein one or a plurality of the photocatalytic filter modules are supported so as to be able to translate in a state of being suspended from the slide rail.
待機用スペースとメンテナンス用スペースの双方が、前記ケーシングの内部に形成されている請求項9に記載の光触媒装置。   The photocatalyst device according to claim 9, wherein both a standby space and a maintenance space are formed inside the casing. 待機用スペースが、前記ケーシングの外部に形成されていると共に、前記ケーシングの所定部分が開放可能とされており、メンテナンス時には、前記所定部分が開放されて、前記光触媒フィルタ・モジュールが前記待機用スペースまで並進移動可能とされる請求項9に記載の光触媒装置。   A standby space is formed outside the casing, and a predetermined portion of the casing is openable. During maintenance, the predetermined portion is opened, and the photocatalytic filter module is placed in the standby space. The photocatalytic device according to claim 9, wherein the photocatalytic device is capable of translational movement.
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