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JP5533196B2 - 座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法及びその識別プログラム - Google Patents
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座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法及びその識別プログラム Download PDF

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Description

本発明は、対になった2つの変数をもつ複数のデータからなるデータ群が座標平面上に表示されたときのデータ点分布領域が特定の判定領域に分布しているかどうかを判断するデータ点分布領域の識別方法、及び、その識別方法をコンピュータに実行させるためのプログラムに関するものである。
半導体装置(チップとも称す)は様々な工程を経て製品となる。その様々な工程で処理される際の様々な異常が歩留り低下や品質低下を招く要因となっている。そこで、所定の工程の処理後に、歩留まり向上及び安定化を目的として、パターン欠陥検査や異物検査が実施され、異常の有無を確認する処理が行なわれている。
また、各工程でのパターン形成後、ウエハ状態でチップごとに電気的特性試験(ウエハテスト)を行なって良不良の判定を行なっている。
これらの検査や試験により得られる情報の1つに、ウエハ上での欠陥又は不良チップの分布の情報がある。以下、ウエハ上での欠陥又は不良チップの分布を不良分布と称す。
不良分布は大きく分けて、ウエハ上の位置要素に対して均等に分布する場合と、ウエハ上の位置要素に依存して集中分布する場合の2種類に分けられる。ウエハ上の位置に依らず均等に分布する不良はランダム不良、ウエハ上の一部に偏って発生する不良はクラスタリング不良と呼ばれることもある。
集中して分布した不良分布(集中不良分布と称す)の発生原因は、製造工程や製造装置等に起因する場合が多いので、製造工程や製造装置等を調査することにより歩留り低下の原因を究明できることがある。
情報活用の一例として、ウエハ上での不良分布の状態を解析し、製造装置や製造工程に起因する不良原因を推定する試みがなされている(例えば特許文献1,2を参照。)。
特許文献1には、不良分布がクラスタ化している様子に従ってウエハをグループ分けし、その様子が既知の不良分布パターンと類似しているかどうかを判定することにより不良原因の特定を行なう方法が記載されている。
また、特許文献2には、欠陥の分布状態に基づいて、繰り返し欠陥、密集欠陥、線状分布欠陥、環あるいは塊状分布欠陥、ランダム欠陥などのカテゴリに欠陥を分類する方法が記載されている。
一般に、ウエハ上での各チップの位置は、X座標とY座標で表される。1枚のウエハにおける各チップ位置を示すデータ群の情報を表示する際、それらのデータは、X,Yの直交座標平面に表される。
先に述べたように、半導体装置の製造工程における集中不良分布の発生原因は、製造装置等に起因する場合があるので、集中不良分布があるときは、同様の不良分布状態のウエハを有するロットをリストアップし、製造工程での処理装置や処理日時などの履歴情報を調べることにより原因工程が推測されることがある。
不良分布が既知の不良分布パターンに適合するかどうかの判断は、ウエハ上(座標平面上)での特定の領域に不良分布があるかどうかで判断される。
特許文献1,2に開示された方法は、欠陥や不良チップの位置を示すデータを加工して不良分布の位置を特定しているが、基本的に、不良分布を示すデータ点の全部に情報をもたせている。すなわち、座標平面上でデータ点分布領域を構成するデータ点の全部が情報をもっている状態で、座標平面上に設定された特定の判定領域にデータ点分布領域が分布しているかどうかが判断される。
本発明の目的は、座標平面上で、データ点分布領域を表現するための情報量を小さくした状態で、データ点分布領域が特定の判定領域に分布しているかどうかを判断することができる、座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法及び識別プログラムを提供することである。
本発明にかかる座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法は、代表点選定第1ステップ、代表点選定第2ステップ、代表点選定第3ステップ及び判定ステップを含む。
上記代表点選定第1ステップは、対になった2つの変数をもつ複数のデータからなる被判定データ群に対して、上記被判定データ群のデータが点として表される座標平面上で、いずれか1つのデータ点をデータ点分布領域の第1代表点として選定する。
上記代表点選定第2ステップは、時計回り又は反時計回りの一方を選定用回転方向とし、上記第1代表点を最初の基準点とし、上記最初の基準点を通る任意の1方向を最初の代表点選定用方向とし、上記最初の基準点を通って各データ点へ向かう複数の最初のデータ点方向のうち、上記最初の代表点選定用方向に対して上記最初の代表点選定用方向から見て上記選定用回転方向でなす角度が最小の上記最初のデータ点方向に対応するデータ点を上記データ点分布領域の第2代表点として選定する。
上記代表点選定第3ステップは、上記第2代表点又はこのステップで選定された代表点であって直前に選定された代表点からなる直前代表点を次の基準点とし、上記直前代表点の選定で用いられた基準点を直前基準点とし、上記次の基準点を通って上記直前基準点へ向かう方向から上記選定用回転方向で180度の範囲内の任意の1方向を次の代表点選定用方向とし、上記次の基準点を通って上記直前代表点以外の各データ点へ向かう複数の次のデータ点方向のうち、上記次の代表点選定用方向に対して上記次の代表点選定用方向から見て上記選定用回転方向でなす角度が最小の上記次のデータ点方向に対応するデータ点を上記データ点分布領域の次の代表点として選定する処理を繰り返す。
上記判定ステップは、上記代表点が線で連結されて形成される分布代表点領域と、上記座標平面に設定された特定の領域である上記判定領域とが重なる重複領域の有無を判断し、上記重複領域があるときは上記被判定データ群が該当データ群であると判定する。
ここで、座標平面は、直交座標平面、斜交座標平面、極座標平面など、どのような座標平面であってもよい。
また、代表点選定第3ステップで最初に選定される代表点の直前に選定された代表点は代表点選定第2ステップで選定された第2代表点である。
本発明の識別方法において、上記被判定データ群は、半導体装置製造工程におけるパターン欠陥検査結果データ、異物検査結果データ又はウエハテスト結果データである例を挙げることができる。ただし、被判定データ群はこれらに限定されるものではない。
また、上記判定ステップの前に、上記代表点選定ステップで得られた上記代表点情報と上記被判定データ群を識別できる情報を関連付けてデータベースに登録する代表点情報登録ステップを含み、上記判定ステップは、上記データベースから上記被判定データ群識別情報に関連付けられた上記代表点情報を読み込んで上記重複領域の有無を判定する例を挙げることができる。
さらに、上記代表点情報登録ステップは、上記データ点分布領域及び上記分布代表点領域の分布範囲、ならびに、上記分布代表点領域の面積、円形比率及びデータ点分布密度のうち少なくとも1つを含む特徴情報を上記被判定データ群識別情報に関連付けて上記データベースに登録し、上記判定ステップは、上記特徴情報に基づいて判定すべき上記被判定データ群識別情報を絞り込んでから、上記重複領域の有無を判定するようにしてもよい。
ここで、データ点分布領域の分布範囲を表す情報は、データ点分布領域を構成するデータ点のXY座標のうち、X軸に対する最大値及び最小値、ならびに、Y軸に対する最大値及び最小値によって表されるもの、又は、極座標におけるデータ点分布領域の最大r値、最小r値、最大θ値、及び、最小θ値によって表されるものである。
また、分布代表点領域の分布範囲を表す情報は、分布代表点領域を構成する代表点のXY座標のうち、X軸に対する最大値及び最小値、ならびに、Y軸に対する最大値及び最小値によって表されるもの、又は、極座標における分布代表点領域の最大r値、最小r値、最大θ値、及び、最小θ値によって表されるものである。
本発明の識別方法において、上記判定ステップは、上記分布代表点領域の面積が予め設定された分布代表点領域面積しきい値以上であるかの判定を行ない、上記分布代表点領域の面積が上記分布代表点領域面積しきい値よりも小さい場合は上記被判定データ群を該当データ群ではないと判定するようにしてもよい。
この分布代表点領域面積しきい値判断処理は、重複領域の有無を判断する処理の前であってもよいし、後であってもよい。
また、上記判定ステップは、上記重複領域の面積が予め設定された重複領域面積しきい値以上であるかの判定をさらに行ない、上記重複領域の面積が上記重複領域面積しきい値以上である場合に上記被判定データ群を該当データ群であると判定するようにしてもよい。
また、上記判定ステップは、上記判定領域の面積に対する上記重複領域の面積の割合が予め設定された第1割合しきい値以上であるかの判定をさらに行ない、その割合が上記第1割合しきい値以上である場合に上記被判定データ群を該当データ群であると判定するようにしてもよい。
また、上記判定ステップは、上記分布代表点領域の面積に対する上記重複領域の面積の割合が予め設定された第2割合しきい値以上であるかの判定をさらに行ない、その割合が上記第2割合しきい値以上である場合に上記被判定データ群を該当データ群であると判定するようにしてもよい。
また、上記の分布代表点領域面積しきい値判定処理、重複領域面積しきい値判定処理、重複領域面積割合第1割合しきい値判定処理、重複領域面積割合第2割合しきい値判定処理のうち、複数又は全部を組み合わせて処理を行なってもよい。
本発明の識別方法において、代表点選定第1ステップで第1代表点を選定する方法はどのような方法であってもよい。代表点選定第1ステップは、いずれか1つのデータ点を第1代表点として直接選定するようにしてもよいし、複数のステップを経て第1代表点を選定するようにしてもよい。
代表点選定第1ステップが複数のステップを含む一例として、上記代表点選定第1ステップは、上記座標平面上の任意の1点を第1代表点選定用基準点として設定する第1代表点選定用基準点設定ステップと、時計回り又は反時計回りの一方を第1代表点選定用回転方向とし、上記第1代表点選定用基準点を通る任意の1方向を第1代表点選定用方向とし、上記第1代表点選定用基準点を通って各データ点へ向かう複数の第1代表点選定用データ点方向のうち、上記第1代表点選定用方向に対して上記第1代表点選定用方向から見て上記第1代表点選定用回転方向でなす角度が最小の上記第1代表点選定用データ点方向に対応するデータ点を上記第1代表点として選定する第1代表点選定ステップと、を含むことを挙げることができる。
この局面において、上記代表点選定第2ステップは、上記最初の基準点(第1代表点)を通って上記第1代表点選定用基準点へ向かう方向から上記第1代表点選定用回転方向で180度の範囲内の任意の1方向を上記最初の代表点選定用方向とする。
ここで、第1代表点選定ステップにおける第1代表点選定用回転方向と、代表点選定第2ステップ及び代表点選定第3ステップにおける選定用回転方向は、同じ回転方向であってもよいし、互いに反対の回転方向であってもよい。
また、上記代表点選定第1ステップが上記第1代表点選定用基準点設定ステップ及び上記第1代表点選定ステップを含む場合、上記第1代表点選定用基準点設定ステップは、各データ点についてデータ点とそのデータ点以外のすべてのデータ点が結線されてなる領域内の任意の点に上記第1代表点選定用基準点を設定するようにしてもよい。
この局面において、上記代表点選定第2ステップは、上記第1代表点選定用基準点を通って上記最初の基準点へ向かう方向を上記最初の代表点選定用方向として上記第2代表点を選定し、上記代表点選定第3ステップは、上記直前基準点を通って上記次の基準点へ向かう方向を上記次の代表点選定用方向として上記次の代表点として選定する。
ここで、代表点選定第2ステップにおける最初の代表点選定用方向、すなわち第1代表点選定用基準点を通って最初の基準点へ向かう方向は、最初の基準点を通って第1代表点選定用基準点へ向かう方向から第1代表点選定用回転方向で180度の方向である。
また、代表点選定第3ステップにおける次の代表点選定用方向、すなわち直前基準点を通って次の基準点へ向かう方向は、次の基準点を通って直前基準点へ向かう方向から選定用回転方向で180度の方向である。
本発明において、各データ点についてデータ点とそのデータ点以外のすべてのデータ点が結線されてなる領域は、データ点間の線の線上の領域も含む。なお、本発明において、必ずしも当該領域を求めなくてもよい。例えば、第1代表点選定用基準点が、いずれかのデータ点の座標や、データ点間の線の線上の座標、3つのデータ点で囲まれた領域内の座標などに配置される場合には、当該領域を求める必要はない。
また、上記代表点選定第1ステップが上記第1代表点選定用基準点設定ステップ及び上記第1代表点選定ステップを含む場合、上記第1代表点選定用基準点とは座標が互いに異なり、かつ、各データ点についてデータ点とそのデータ点以外のすべてのデータ点が結線されてなる域内の任意の点に、上記代表点選定第3ステップでの代表点の選定処理の終了時期判定に用いられる判定用中心点を設定する判定用中心点設定ステップをさらに含むようにしてもよい。
この局面において、上記第1代表点選定ステップは、上記判定用中心点を通って上記第1代表点選定用基準点へ向かう方向を上記第1代表点選定用方向として上記第1代表点として選定し、上記代表点選定第3ステップは、上記第1代表点選定用方向を最初の判定用方向と認定し、上記判定用中心点を通って上記代表点へ向かう判定用方向が上記最初の判定用方向に対して上記選定用回転方向で360度以上回転したときに上記次の代表点の選定処理を終了する。
また、上記代表点選定第1ステップが上記第1代表点選定用基準点設定ステップ及び上記第1代表点選定ステップを含み、上記被判定データ群の各データが(X,Y)の直交座標系又は斜交座標系である場合、上記代表点選定第1ステップの上記第1代表点選定用基準点設定ステップは、上記被判定データ群のデータのうちX座標値が最大のデータ及び最小のデータ、並びにY座標値が最大のデータ及び最小のデータのうち少なくともいずれかを1つを満たす1つのデータの座標を上記第1代表点選定用基準点と設定するようにしてもよい。
この局面において、上記第1代表点選定ステップは、上記第1代表点選定用方向を、(1)X座標値が最大のデータ点の座標を上記第1代表点選定用基準点とする場合は、そのデータ点の座標を始点として、そのX座標値以上のいずれかの座標へ向かう方向とし、(2)X座標値が最小のデータ点の座標を上記第1代表点選定用基準点とする場合は、そのデータ点の座標を始点として、そのX座標値以下のいずれかの座標へ向かう方向とし、(3)Y座標値が最大のデータ点の座標を上記第1代表点選定用基準点とする場合は、そのデータ点の座標を始点として、そのY座標値以上のいずれかの座標へ向かう方向とし、(4)Y座標値が最小のデータ点の座標を上記第1代表点選定用基準点とする場合は、そのデータ点の座標を始点として、そのY座標値以下のいずれかの座標へ向かう方向とする。
また、本発明の識別方法において、上記被判定データ群の各データが(X,Y)の直交座標系又は斜交座標系である場合、上記代表点選定用第1ステップは、上記被判定データ群のデータのうちX座標値が最大のデータ及び最小のデータ、並びにY座標値が最大のデータ及び最小のデータのうち少なくともいずれかを1つを満たす1つのデータの座標を上記第1代表点と設定する例を挙げることができる。
この局面において、上記代表点選定用第2ステップは、上記最初の代表点選定用方向を、(1)X座標値が最大のデータ点の座標を上記最初の基準点(第1代表点)とする場合は、そのデータ点の座標を始点として、そのX座標値以上のいずれかの座標へ向かう方向とし、(2)X座標値が最小のデータ点の座標を上記最初の基準点とする場合は、そのデータ点の座標を始点として、そのX座標値以下のいずれかの座標へ向かう方向とし、(3)Y座標値が最大のデータ点の座標を上記最初の基準点とする場合は、そのデータ点の座標を始点として、そのY座標値以上のいずれかの座標へ向かう方向とし、(4)Y座標値が最小のデータ点の座標を上記最初の基準点とする場合は、そのデータ点の座標を始点として、そのY座標値以下のいずれかの座標へ向かう方向とする。
本発明の識別方法において、代表点選定第3ステップが代表点の選定処理を終了する時期は任意である。
上記判定用中心点設定ステップを含む局面では、代表点選定第3ステップは、判定用方向が最初の判定用方向に対して選定用回転方向で360度以上回転したときに次の代表点の選定処理を終了するようにしたが、本発明において、代表点選定第3ステップが代表点の選定処理を終了する時期はこれに限定されない。
例えば、上記代表点選定第3ステップは、同一のデータ点が上記代表点として再度選定された時に上記次の代表点の選定処理を終了するようにしてもよい。
他の例として、上記代表点選定第3ステップは、少なくとも2つのデータ点が上記代表点として再度選定された時に上記次の代表点の選定処理を終了するようにしてもよい。
また、本発明の識別方法において、上記判定ステップは、選定された順番に上記代表点を結線して上記分布代表点領域を画定する例を挙げることができる。
ただし、判定ステップは、各代表点から他のすべての代表点に線を結んで分布代表点領域を画定してもよい。
また、本発明の識別方法において、上記代表点選定第2ステップ及び上記代表点選定第3ステップは、上記角度が最小の上記データ点方向に対応するデータ点に替えて、上記角度が最大の上記データ点方向に対応するデータ点を代表点として選定するようにしてもよい。
この場合、上記代表点選定第3ステップは、上記次の基準点を通って上記直前基準点へ向かう方向から上記選定用回転方向とは反対回転方向で180度の範囲内の1方向を上記次の代表点選定用方向とする。
本発明の座標平面におけるデータ点分布領域の識別プログラムは、本発明の識別方法の各ステップをコンピュータに実行させるためのプログラムである。
本発明の識別方法は、上記代表点選定第1ステップ、上記代表点選定第2ステップ及び上記代表点選定第3ステップで、対になった2つの変数をもつ複数のデータからなる被判定データ群を座標平面に表示した際にデータ点分布領域の輪郭を画定するのに必要な代表点を選定するようにした。さらに、本発明の識別方法は、判定ステップで、代表点が線で連結されて形成される分布代表点領域と、座標平面に設定された特定の領域である判定領域とが重なる重複領域の有無を判断し、重複領域があるときは、被判定データ群が該当データ群であると判定するようにした。
これにより、データ点分布領域を分布代表点領域に置き換えた状態、すなわち、データ点分布領域を表現するための情報量を小さくした状態で、被判定データ群のデータ点分布領域が特定の判定領域に分布しているかどうかを判断することができる。
本発明の識別方法において、上記被判定データ群は、半導体装置製造工程におけるパターン欠陥検査結果データ、異物検査結果データ又はウエハテスト結果データであるようにすれば、同様のパターン欠陥分布状態や異物分布状態、不良チップ分布状態をもつウエハを有するロットを抽出して、製造装置や製造工程に起因する不良原因を推定することができる。
さらに、判定ステップの前に、代表点選定ステップで得られた代表点情報と被判定データ群を識別できる情報を関連付けてデータベースに登録する代表点情報登録ステップを含み、判定ステップは、データベースから被判定データ群識別情報に関連付けられた代表点情報を読み込んで重複領域の有無を判定するようにすれば、蓄積された被判定データ群、例えばパターン欠陥検査結果データ、異物検査結果データ又はウエハテスト結果データに対して、判定ステップの処理を行なうために代表点選定ステップの処理を毎回行なう必要はなくなるので、処理時間を短縮できる。
さらに、代表点情報登録ステップは、データ点分布領域及び分布代表点領域の分布範囲、ならびに、分布代表点領域の面積、円形比率及びデータ点分布密度のうち少なくとも1つを含む特徴情報を被判定データ群識別情報に関連付けてデータベースに登録し、判定ステップは、上記特徴情報に基づいて判定すべき被判定データ群識別情報を絞り込んでから、重複領域の有無を判定するようにすれば、判定処理を行なうべき被判定データ群の数が少なくなるので、処理時間を短縮できる。
本発明の識別方法において、判定ステップは、分布代表点領域の面積が予め設定された分布代表点領域面積しきい値以上であるかの判定を行ない、分布代表点領域の面積が分布代表点領域面積しきい値よりも小さい場合は被判定データ群を該当データ群ではないと判定するようにしてもよい。これにより、分布代表点領域の面積、ひいてはデータ点分布領域の面積が小さい被判定データ群を該当データ群と判定したくない場合に、その被判定データ群を排除できる。
さらに、この分布代表点領域面積しきい値判定処理を、重複領域の有無を判断する処理の前に行なうようにすれば、分布代表点領域の面積が小さい、排除されるべき被判定データ群について重複領域の有無判断の処理を行なう必要がなくなる。
また、判定ステップは、重複領域の面積が予め設定された重複領域面積しきい値以上であるかの判定をさらに行ない、重複領域の面積が重複領域面積しきい値以上である場合に被判定データ群を該当データ群であると判定するようにしてもよい。これにより、重複領域の面積が小さい被判定データ群を該当データ群と判定したくない場合に、その被判定データ群を排除できる。
また、判定ステップは、判定領域の面積に対する重複領域の面積の割合が予め設定された第1割合しきい値以上であるかの判定をさらに行ない、その割合が第1割合しきい値以上である場合に被判定データ群を該当データ群であると判定するようにしてもよい。これにより、判定領域面積に対する重複領域面積の割合が小さい被判定データ群を該当データ群と判定したくない場合に、その被判定データ群を排除できる。
また、判定ステップは、分布代表点領域の面積に対する重複領域の面積の割合が予め設定された第2割合しきい値以上であるかの判定をさらに行ない、その割合が第2割合しきい値以上である場合に被判定データ群を該当データ群であると判定するようにしてもよい。これにより、分布代表点領域の面積に対する重複領域の面積の割合が小さい被判定データ群を該当データ群と判定したくない場合に、その被判定データ群を排除できる。
本発明の識別方法において、代表点選定用第1ステップは、第1代表点選定用基準点を設定する第1代表点選定用基準点設定ステップと、第1代表点を選定する第1代表点選定ステップとを含むようにすれば、いずれか1つのデータ点を直接選択して第1代表点を選定しなくても第1代表点を選定できる。
さらに、代表点選定第2ステップは、最初の基準点(第1代表点)を通って第1代表点選定用基準点へ向かう方向から第1代表点選定用回転方向で180度の範囲内の任意の1方向を最初の代表点選定用方向とするようにすれば、最初の代表点選定用方向の範囲を設定できる。
さらに、第1代表点選定用基準点設定ステップは、各データ点についてデータ点とそのデータ点以外のすべてのデータ点が結線されてなる領域内の任意の点に第1代表点選定用基準点を設定するようにし、代表点選定第2ステップは、第1代表点選定用基準点を通って最初の基準点へ向かう方向を最初の代表点選定用方向として第2代表点を選定し、代表点選定第3ステップは、直前基準点を通って次の基準点へ向かう方向を次の代表点選定用方向として次の代表点として選定するようにすれば、第1代表点選定ステップで第1代表点選定用方向がいかなる方向に設定されようとも、代表点選定第3ステップで同一データ点が代表点として再度選定される前に、データ点分布領域の輪郭に応じた分布代表点領域を画定するのに必要なすべての代表点を選定することができる。この局面は、代表点選定第3ステップで同一データ点が代表点として再度選定されたときに代表点の選定処理が終了される場合に特に有効である。
また、代表点選定第1ステップが第1代表点選定用基準点設定ステップ及び第1代表点選定ステップを含む場合、判定用中心点を設定する上記判定用中心点設定ステップをさらに含み、第1代表点選定ステップは、判定用中心点を通って第1代表点選定用基準点へ向かう方向を第1代表点選定用方向として第1代表点として選定し、代表点選定第3ステップは、第1代表点選定用方向を最初の判定用方向と認定し、判定用中心点を通って代表点へ向かう判定用方向が最初の判定用方向に対して選定用回転方向で360度以上回転したときに次の代表点の選定処理を終了するようにすれば、代表点選定第3ステップにおける代表点の選定処理の終了時期を決定することができる。
また、代表点選定第1ステップが第1代表点選定用基準点設定ステップ及び第1代表点選定ステップを含み、被判定データ群の各データが(X,Y)の直交座標系又は斜交座標系である場合、第1代表点選定用基準点設定ステップは、被判定データ群のデータのうちX座標値が最大のデータ及び最小のデータ、並びにY座標値が最大のデータ及び最小のデータのうち少なくともいずれかを1つを満たす1つのデータの座標を第1代表点選定用基準点と設定するようにし、第1代表点選定ステップは、第1代表点選定用方向を、(1)X座標値が最大のデータ点の座標を第1代表点選定用基準点とする場合は、そのデータ点の座標を始点として、そのX座標値以上のいずれかの座標へ向かう方向とし、(2)X座標値が最小のデータ点の座標を第1代表点選定用基準点とする場合は、そのデータ点の座標を始点として、そのX座標値以下のいずれかの座標へ向かう方向とし、(3)Y座標値が最大のデータ点の座標を第1代表点選定用基準点とする場合は、そのデータ点の座標を始点として、そのY座標値以上のいずれかの座標へ向かう方向とし、(4)Y座標値が最小のデータ点の座標を第1代表点選定用基準点とする場合は、そのデータ点の座標を始点として、そのY座標値以下のいずれかの座標へ向かう方向とすれば、データ点分布領域の輪郭に応じた分布代表点領域を画定するのに必要な代表点のみを選定できる。
また、本発明の識別方法において、被判定データ群の各データが(X,Y)の直交座標系又は斜交座標系である場合、代表点選定用第1ステップは、被判定データ群のデータのうちX座標値が最大のデータ及び最小のデータ、並びにY座標値が最大のデータ及び最小のデータのうち少なくともいずれかを1つを満たす1つのデータの座標を第1代表点と設定するようにし、代表点選定用第2ステップは、最初の代表点選定用方向を、(1)X座標値が最大のデータ点の座標を最初の基準点とする場合は、そのデータ点の座標を始点として、そのX座標値以上のいずれかの座標へ向かう方向とし、(2)X座標値が最小のデータ点の座標を最初の基準点とする場合は、そのデータ点の座標を始点として、そのX座標値以下のいずれかの座標へ向かう方向とし、(3)Y座標値が最大のデータ点の座標を最初の基準点とする場合は、そのデータ点の座標を始点として、そのY座標値以上のいずれかの座標へ向かう方向とし、(4)Y座標値が最小のデータ点の座標を最初の基準点とする場合は、そのデータ点の座標を始点として、そのY座標値以下のいずれかの座標へ向かう方向とすれば、データ点分布領域の輪郭に応じた分布代表点領域を画定するのに必要な代表点のみを選定できる。
また、本発明の識別方法において、代表点選定第3ステップは、同一のデータ点が代表点として再度選定された時に次の代表点の選定処理を終了するようにすれば、代表点選定第3ステップにおける代表点の選定処理の終了時期を決定することができる。
ところで、代表点選定第1ステップで、データ点分布領域の輪郭を表す分布代表点領域を画定するのに必要な代表点のうちの1つが第1代表点として選定され、かつ、代表点選定第2ステップで、代表点選定用方向が最初の基準点(第1代表点)から見てデータ点分布領域を横切るように設定されたときには、代表点選定第3ステップで、すべてのデータ点に応じた分布代表点領域を画定するのに必要な代表点をすべて選定する前に、第1代表点を構成するデータ点が代表点として再度選定される。この場合、代表点選定第3ステップで、同一のデータ点が代表点として再度選定された時に次の代表点の選定処理を終了するように設定されていると、被判定データ群を構成する複数のデータ点のうち一部のデータ点のみに応じた分布代表点領域が画定される。このような分布代表点領域も、データ点分布領域を表していると言えるが、分布代表点領域は、被判定データ群を構成するすべてのデータ点に応じたものであることが好ましい。
そこで、代表点選定第3ステップは、少なくとも2つのデータ点が代表点として再度選定された時に次の代表点の選定処理を終了するようにすれば、代表点選定第3ステップは、上述のような場合に代表点選定第3ステップで第1代表点を構成するデータ点が再度代表点として選定された後も次の代表点の選定処理を継続し、被判定データ群を構成するすべてのデータ点に応じた適切な分布代表点領域を画定するのに必要なすべての代表点を選定できる。
なお、代表点選定第3ステップは、2つのデータ点が代表点として再度選定された時に次の代表点の選定処理を終了すれば、適切な分布代表点領域が画定されるが、3つ以上のデータ点が代表点として再度選定された時に次の代表点の選定処理を終了するようにしても問題はない。
本発明の識別方法において、判定ステップは、選定された順番に代表点を結線して分布代表点領域を画定するようにすれば、データ点分布領域の輪郭に応じた分布代表点領域を画定できる。
ただし、各代表点から他のすべての代表点に線を結んで分布代表点領域を画定した場合であっても、データ点分布領域の輪郭に応じた分布代表点領域を画定できる。
なお、代表点選定第3ステップが、判定用方向が最初の判定用方向に対して選定用回転方向で360度以上回転したときに次の代表点の選定処理を終了する局面において、最初に選定された代表点と最後に選定された代表点が同一データ点でない場合がある。この場合、判定ステップが、選定された順番に代表点を結線して分布代表点領域を画定するときには、最初に選定された代表点と最後に選定された代表点を結線するようにすればよい。これにより、閉塞した分布代表点領域を画定することができる。
また、本発明の識別方法において、代表点選定第2ステップ及び代表点選定第3ステップは、角度が最小のデータ点方向に対応するデータ点に替えて、角度が最大のデータ点方向に対応するデータ点を代表点として選定するようにし、代表点選定第3ステップは、次の基準点を通って直前基準点へ向かう方向から選定用回転方向とは反対回転方向で180度の範囲内の1方向を次の代表点選定用方向とするようにしても、データ点分布領域の輪郭を分布代表点領域で表すことができる。
本発明の座標平面におけるデータ点分布領域の識別プログラムは、本発明の識別方法の各ステップをコンピュータに実行させるようにしたので、コンピュータを用いて本発明の識別方法を実施することができる。
一実施例を説明するためのフローチャートである。 ウエハ上に設定した判定領域を示す図である。 ウエハ上でのパターン欠陥位置を示す図である。 集中パターン欠陥分布の代表点選定ステップを説明するためのフローチャートである。 図3の集中パターン欠陥分布を拡大して示す座標平面図であって、第1代表点を求める処理の流れを説明するための図である。 同座標平面図であって、第1代表点を次の基準点として次の代表点を求める処理の流れを説明するための図である。 同座標平面図であって、最後の代表点を求めるまでに用いた第1代表点選定用基準点、データ点方向、代表点、判定用方向を示した図である。 同じ座標平面上に、判定領域と集中パターン欠陥分布代表点領域を重ね合わせて表示した図である。 他の実施例を説明するためのフローチャートである。 判定領域と集中パターン欠陥分布代表点領域の位置関係の他の例を示す図である。 判定領域と集中パターン欠陥分布代表点領域の位置関係のさらに他の例を示す図である。 判定領域と集中パターン欠陥分布の位置関係の他の例を示す図である。 集中パターン欠陥分布の分布範囲の一例を説明するための図である。 集中パターン欠陥分布の分布範囲の他の例を説明するための図である。 集中パターン欠陥分布におけるデータ点分布密度の一例を説明するための図である。 集中パターン欠陥分布におけるデータ点分布密度の他の例を説明するための図である。 図3に示したウエハ上でのパターン欠陥位置を不良チップに置き換えた図である。 集中不良分布の代表点及び代表点分布領域を示す図である。 図18の集中不良分布近傍を拡大して示す図である。 図19に対して、チップを表す位置情報を、チップ7の4隅を表す位置情報に変換したときの代表点及び集中不良分布代表点領域を表す図である。 代表点選定ステップで複数のデータ点が同時に代表点として選定される流れを説明するための図である。 判定領域の一例を示す図である。 ウエハテスト結果データを座標平面上に示した図である。 メタル1形成工程の欠陥検査結果データを座標平面上に示した図である。 メタル2形成工程の欠陥検査結果データを座標平面上に示した図である。 メタル3形成工程の欠陥検査結果データを座標平面上に示した図である。 図23、図24、図25、図26の集中パターン欠陥分布代表点領域の情報及び集中不良分布代表点領域の情報を重ね合わせて図示したものである。 複数の該当ウエハ情報の各集中パターン欠陥分布に対応する、複数の集中パターン欠陥分布代表点領域を判定領域とともに1つの座標平面に表した図である。 図3の集中パターン欠陥分布を拡大して示す座標平面図であって、代表点選定第2ステップでの代表点選定用方向の範囲を説明するための図である。 図3の集中パターン欠陥分布を拡大して示す座標平面図であって、各データ点についてデータ点とそのデータ点以外のすべてのデータ点が結線されてなる領域内に第1代表点選定用基準点が配置されたときの、第1代表点を求める処理の流れを説明するための図である。 同座標平面図に、最後の代表点を求めるまでに用いた第1代表点選定用基準点、代表点選定用方向、データ点方向、代表点を示した図である。 同座標平面図に分布代表点領域を図示した図である。 同分布代表点領域を変形させた分布代表点領域を図示した図である。 第1代表点選定用基準点の位置及びその基準点に対する任意の方向の範囲の例を説明するための図である。
パターン欠陥の結果データを例に用い本発明の一実施例を説明する。
図1は、本発明の一実施例を説明するためのフローチャートである。図2は、ウエハ上に設定した判定領域を示す図である。図3は、ウエハ上でのパターン欠陥位置を示す図である。図4は、集中パターン欠陥分布の代表点選定ステップを説明するためのフローチャートである。図5は、パターン欠陥グループを拡大して図示し、第1代表点を求める処理の流れを説明するための図である。図6は、第1代表点を次の基準点として次の代表点を求める処理の流れを説明するための図である。図7は、最後の代表点を求めるまでに用いた第1代表点選定用基準点、データ点方向、代表点、判定用方向を示した図である。図8は、同じ座標平面上に、判定領域と集中パターン欠陥分布代表点領域を重ね合わせて表示した図である。図1から図8を参照してこの実施例を説明する。
ステップS1:パターン欠陥検査結果データの座標平面上に判定領域を設定する。ここでは、図2に示すようにウエハ1のノッチ3を下にしてウエハ1の右上の一部分を判定領域5として説明を進める。なお、ノッチとはシリコンの結晶方位がわかるようにウエハ1に付けられた目印である。ウエハ1にはチップ7がマトリクス状に配列されている。
ステップS2:検査装置から、又は、パターン欠陥検査結果データが蓄積されたデータベースから、被判定ウエハ情報と関連付けられたパターン欠陥検査結果データを読み込む。パターン欠陥検査結果データは少なくとも各パターン欠陥の位置座標情報を含む。図3は、ウエハ1上でのパターン欠陥位置を示す。図3で、パターン欠陥は点で示されている。
ステップS3:パターン欠陥をグループに分別する。例えば、パターン欠陥を示すデータ点について相互間距離を求め、予め定められた距離しきい値以下の相互間距離をもつデータ点同士をグループ化する。ただし、パターン欠陥のデータ点をグループに分別する方法はどのような方法でもかまわない。
ステップS4:パターン欠陥の各グループに対して、パターン欠陥数が例えば5個以上のパターン欠陥グループを集中パターン欠陥分布と判定する。図3では、ウエハ1の右上のパターン欠陥グループが集中パターン欠陥分布9と判定される。この実施例では、集中パターン欠陥分布9を構成するデータ点が被判定データ群である。ただし、全てのパターン欠陥データを被判定データ群としてもよいし、特定の領域内に位置するパターン欠陥データを被判定データ群としてもよい。また、この実施例では、集中パターン欠陥分布9を構成するデータ点がデータ点分布領域の代表点の選定対象になる。
ステップS5:集中パターン欠陥分布9の分布領域の輪郭を代表する複数のデータ点を集中パターン欠陥分布9の代表点として選定する。図4〜図7を参照して代表点選定ステップについて説明する。
ステップS5−1:座標平面上の任意の1点を第1代表点選定用基準点Sとして設定する(第1代表点選定用基準点設定ステップ)。また、第1代表点選定用基準点Sとは座標が互いに異なる任意の点に、判定用中心点Oを設定する(判定用中心点設定ステップ)。
判定用中心点Oは、集中パターン欠陥分布9の各データ点についてデータ点とそのデータ点以外のすべてのデータ点が結線されてなる領域内に配置される。この実施例では、判定用中心点Oをデータ点の分布領域の重心に設定した。ここで、データ点の分布領域の重心とは、2つの変数が対になった複数のデータに対して変数ごとに平均値を求めた値の点を言う。
また、第1代表点選定用基準点Sの配置位置は、点S,Oの座標が互いに異なっていれば、特に決まりはない。この実施例では、図5に示す位置に第1代表点選定用基準点Sを設定した。
ステップS5−2:図5に示すように、判定用中心点Oから基準点Sへ向かう方向を最初の判定用方向Dj1として設定する。この実施例において、方向Dj1は第1代表点選定用方向でもある。時計回り又は反時計回りの一方を第1代表点選定用回転方向とする。ここでは時計回りを第1代表点選定用回転方向とした。第1代表点選定用基準点Sを通って各データ点へ向かう複数の第1代表点選定用データ点方向のうち、第1代表点選定用方向Dj1に対して第1代表点選定用方向Dj1から見て時計回りでなす角度が最小の第1代表点選定用データ点方向H1に対応するデータ点を第1代表点T1として選定する(第1代表点選定ステップ)。第1代表点選定用基準点設定ステップ及び第1代表点選定ステップは代表点選定第1ステップを構成する。
図5では、複数の第1代表点選定用データ点方向のうち、第1代表点選定用方向でもある最初の判定用方向Dj1を、第1代表点選定用基準点Sを回転中心として時計回りに回転させたときに最初の判定用方向Dj1がデータ点と最初に重なった時の第1代表点選定用データ点方向H1のみを図示している。図5では、最初の判定用方向Dj1を回転させているが、実際の処理において方向Dj1を回転させる必要はない。各第1代表点選定用データ点方向が第1代表点選定用方向Dj1に対して第1代表点選定用方向Dj1から見て時計回りでなす角度は三角関数により求めることができる。第1代表点選定用データ点方向ごとに求めた複数の上記角度のうち、最小の角度に対応するデータ点を第1代表点T1とする。
なお、この実施例を含め、以下で説明する実施例や図面において、基準点を回転中心として代表点選定用方向を回転させているが、実際の処理において代表点選定用方向を回転させる必要はない。各ステップにおいて、各代表点選定用データ点方向が代表点選定用方向に対して代表点選定用方向から見て代表点選定用回転方向でなす角度は三角関数により求めることができる。
ステップS5−3:図6に示すように、判定用中心点Oから第1代表点T1へ向かう方向を判定用方向Dj2とする。方向Dj2は最初の代表点選定用方向でもある。時計回り又は反時計回りの一方を選定用回転方向とする。この選定用回転方向は、第1代表点選定用回転方向と同じ回転方向であってもよいし、逆の回転方向であってもよい。ここでは時計回りを選定用回転方向とした。ステップS5−2で求めた第1代表点T1を最初の基準点とする。
最初の基準点T1を通って各データ点へ向かう複数のデータ点方向のうち、代表点選定用方向Dj2に対して代表点選定用方向Dj2から見て時計回りでなす角度が最小のデータ点方向H2に対応するデータ点を第2代表点T2として選定する(代表点選定第2ステップ)。
ステップS5−4:図7に示すように、判定用中心点Oから第2代表点T2へ向かう方向を判定用方向Dj3とする。方向Dj3は次の代表点選定用方向でもある。ステップS4で求めた第2代表点T2を次の基準点とする。
次の基準点T2を通って各データ点へ向かう複数のデータ点方向のうち、代表点選定用方向Dj3に対して代表点選定用方向Dj3から見て時計回りでなす角度が最小のデータ点方向H3に対応するデータ点を代表点T3として選定する。
その後、順次、判定用中心点Oから、直前に選定された代表点(直前代表点)に向かう方向を判定用方向かつ代表点選定用方向とし、直前代表点を次の基準点とし、次の基準点を通って各データ点へ向かう複数のデータ点方向のうち、代表点選定用方向に対して代表点選定用方向から見て時計回りでなす角度が最小のデータ点方向に対応するデータ点を代表点として選定する。代表点の選定処理は、順次求められる判定用方向が最初の判定用方向Dj1に対して時計回りで360度以上回転した時か、又は同一データ点が代表点として再度選定された時まで繰り返される。この実施例では、代表点T3が選定された後、判定用方向かつ代表点選定用方向Dj4〜Dj11が用いられて代表点T4〜T11が選定される。
代表点T11が選定された後、判定用中心点Oから代表点T11へ向かう方向が判定用方向Dj12として求められる。図7に示すように、判定用方向Dj12は、直前の判定用方向Dj11から見て最初の判定用方向Dj1よりも時計回り側に位置するので、判定用方向が最初の判定用方向Dj1に対して時計回りで360度以上回転したと判定され、代表点の選定処理が終了される(代表点選定第3ステップ)。
図3では集中パターン欠陥分布9は1つしかないが、ステップS4で、1つのウエハ情報のパターン欠陥検査データに対して複数の集中パターン欠陥分布があると判断された場合には、集中パターン欠陥分布ごとに代表点選定ステップS5の処理が行なわれる。
図1に戻って説明を続ける。
ステップS6:同じ座標平面上で、集中パターン欠陥分布9の代表点が線で連結されて形成される集中パターン欠陥分布代表点領域11と判定領域5とが重なる重複領域13の有無が判定される(図8参照。)。ここでは、11個の代表点T1〜T11を線が交差しない順番に結線して分布代表点領域11を画定した。例えば、選定された順番に代表点T1〜T11を結線し、かつ代表点T1,T11を結線することにより線が交差しない分布代表点領域11を画定できる。図8では、分布代表点領域11を画定する線は直線であるが、例えばVisual BasicのDrawClosedCurve関数等を用いて、代表点を通る滑らかな曲線により分布代表点領域11を画定してもよい。後述する各実施例でも同様である。
図8に示すように、判定領域5と分布代表点領域11は重複領域13を有するので、集中パターン欠陥分布9は求めるべき該当データ群であると判定され、ひいては、集中パターン欠陥分布9を含むパターン欠陥検査結果データに対応するウエハ情報は、求めるべきパターン欠陥分布を有する該当ウエハ情報であると判定される(判定ステップ)。
なお、ステップS4で、1つのウエハ情報に対して複数の集中パターン欠陥分布があると判断され、ステップS5で、集中パターン欠陥分布ごとに代表点の選定処理が行なわれた場合には、集中パターン欠陥分布ごとに分布代表点領域を画定し、分布代表点領域ごとに、判定領域に対する重複領域の有無の判定を行なう。
この実施例において、集中パターン欠陥分布代表点領域11は11個の代表点によって表現されるので、集中パターン欠陥分布代表点領域11を表現するための情報量は、集中パターン欠陥分布9を表現するための情報量に比べて小さい。すなわち、この実施例は、集中パターン欠陥分布9を集中パターン欠陥分布代表点領域11に置き換えて、集中パターン欠陥分布9を表現するための情報量を小さくした状態で、集中パターン欠陥分布9が特定の判定領域5に分布しているかどうかを判断できる。
図1のフローチャートで説明した実施例は、判定ステップS6を行なう際、毎回、パターン欠陥データ点グループに分別したり(ステップS3)、集中パターン欠陥分布判定をしたり(ステップS4)、集中パターン欠陥分布の代表点選定をしたりする(ステップS5)。
しかし、蓄積されたデータに対してこれらの処理を行なう際、毎回同じ基準で処理されるのであれば、データ収集時に集中パターン欠陥分布を構成するデータ点(被判定データ群)に対して代表点選定処理を行ない、代表点情報もウエハ情報(被判定データ群識別情報)に関連付けて蓄積されるデータとしてデータベースに登録しておくほうが合理的である。図9を参照してその実施例を説明する。
図9は、他の実施例を説明するためのフローチャートである。この実施例において、図1のフローチャートと同じ処理を行なうステップについては簡単に説明する。
ステップS11〜S14:図1のステップS2〜S5と同様にして、ウエハ情報に関連付けられたパターン欠陥検査結果データを読み込み(ステップS11)、パターン欠陥をグループに分別し(ステップS12)、パターン欠陥グループが集中パターン欠陥分布であるかどうかを判定し(ステップS13)、集中パターン欠陥分布の分布領域の輪郭を代表する集中パターン欠陥分布の代表点を選定する(ステップS14)。
ステップS15:ステップS14で得られた代表点情報をウエハ情報に関連付けてデータベースに登録する。ここで、集中パターン欠陥分布の分布範囲、ならびに、代表点を線が交差しない順番に結線して画定される分布代表点領域の面積、円形比率及び分布密度のうち少なくとも1つを含む特徴情報をさらにウエハ情報に関連付けてデータベースに登録してもよい。また、ウエハ情報には様々な情報が関連付けられる。例えば、ウエハを識別するために、ロット番号や製造方式、品種名、工程名、検査終了日時などがウエハ情報に関連付けられる。また、ウエハテストが完了している場合には、ウエハテスト結果情報として、各チップの良、不良の判定結果や、不良と判定されたテストカテゴリー等の情報も関連付けられる。
ステップS16:次のウエハ情報があるかどうかを判断する。次のウエハ情報がある場合(Yes)、ステップS11に戻って、次のウエハ情報についてステップS11〜S15の処理を行なう。次のウエハ情報がない場合(No)、ステップS17に進む。
ステップS17:座標平面上に判定領域を設定する。
ステップS18:データベースに登録されたウエハ情報のうち、該当ウエハ判定を行なうウエハ情報を被判定ウエハ情報として選定する。例えば、ステップS17で設定された判定領域内に位置する集中パターン欠陥分布の代表点をもつ被判定ウエハ情報を選定する。また、ステップS15で、ウエハ情報に関連付けて上記特徴情報を登録している場合には、その特徴情報に基づいて該当ウエハ判定を行なうべき被判定ウエハ情報を選定してもよい。また、ロット番号や品種情報、検査実施日時などの情報を用いて被判定ウエハ情報を選定してもよい。
ステップS19:ステップS18で選定された被判定ウエハ情報の代表点情報を読み込む。
ステップS20:図1のステップS6の該当ウエハ判定と同様にして、集中パターン欠陥分布代表点領域と判定領域とが重なる重複領域の有無を判定し、重複領域がある場合には、求めるべきパターン欠陥分布を有するパターン欠陥検査結果データをもつウエハ情報と判定する。
ステップS21:ステップS18で選定された被判定ウエハ情報が残っているかどうかを判断する。次の被判定ウエハ情報がある場合(Yes)、ステップS19に戻り、次の被判定ウエハ情報についてステップS19〜S20の処理を行なう。次の被判定ウエハ情報がない場合(No)、処理を終了する。
被判定ウエハ情報について、ステップS15で代表点情報を関連付けてデータベースに一度登録しておけば、該当ウエハ判定(ステップS20)を行なう際にデータベースから代表点情報を読み込むことにより、逐次ステップS11〜S14の代表点選定ステップを行なう必要がなくなり、処理時間の短縮を図ることができる。
さらに、集中パターン欠陥分布の代表点情報の情報量は、集中パターン欠陥分布を構成する全欠陥データ点の情報量に比べて小さいので、読込み時間が速くなり、処理時間の短縮を図ることができる。
上記実施例で、該当ウエハ判定ステップS6,S20は、分布代表点領域11の面積が予め設定された分布代表点領域面積しきい値以上であるかの判定も行なうようにしてもよい。そして、判定ステップS6,S20は、分布代表点領域11の面積が分布代表点領域面積しきい値よりも小さい場合は該当ウエハ情報ではないと判定する。これにより、求めるべき該当ウエハ情報の分布代表点領域の面積に比べて、面積が小さい分布代表点領域をもつウエハ情報を排除することができ、求めるべき該当ウエハ情報の判定精度を向上させることができる。
この分布代表点領域面積の判定処理は、重複領域の有無判定の前に行なってもよいし、後に行なってもよい。なお、この分布代表点領域面積の判定処理を、重複領域の有無判定の前に行なうようにすれば、分布代表点領域の面積が小さい、排除されるべきデータについて重複領域の有無判断の処理を行なう必要がなくなる。
また、該当ウエハ判定ステップS6,S20は、重複領域13の面積が予め設定された重複領域面積しきい値以上であるかの判定をさらに行なうようにしてもよい。そして、判定ステップS6,S20は、重複領域13の面積が重複領域面積しきい値以上である場合に該当ウエハ情報であると判定する。これにより、求めるべき該当ウエハ情報の判定精度を向上させることができる。
また、該当ウエハ判定ステップS6,S20は、判定領域5の面積に対する重複領域13の面積の割合が予め設定された第1割合しきい値以上であるかの判定をさらに行なうようにしてもよい。そして、判定ステップS6,S20は、その割合が上記第1割合しきい値以上である場合に該当ウエハ情報であると判定する。これにより、求めるべき該当ウエハ情報の判定精度を向上させることができる。
例えば、図10に示すように、判定領域5と分布代表点領域11は重複しているが、判定領域5の面積に対する重複領域13の面積の割合が例えば50%よりも小さい場合は、該当ウエハ情報ではないと判定することにより、求めるべき該当ウエハ情報の判定精度を向上させることができる。
また、該当ウエハ判定ステップS6,S20は、分布代表点領域11の面積に対する重複領域13の面積の割合が予め設定された第2割合しきい値以上であるかの判定をさらに行なうようにしてもよい。そして、判定ステップS6,S20は、その割合が上記第2割合しきい値以上である場合に該当ウエハ情報であると判定する。
例えば、図11に示すように、判定領域5と分布代表点領域11は重複しているが、分布代表点領域11の面積に対する重複領域13の面積の割合が例えば50%よりも小さい場合は、該当ウエハ情報ではないと判定することにより、求めるべき該当ウエハ情報の判定精度を向上させることができる。
また、図10の状態においても、分布代表点領域11の面積に対する重複領域13の面積の割合は例えば50%よりも小さいので、分布代表点領域11に対応するウエハ情報は該当ウエハ情報ではないと判定され得る。
また、図9に示したステップS18で、データベースに登録された被判定ウエハ情報のうち、該当ウエハ判定を行なうウエハ情報を選定するようにすれば、データベースに登録された全ての被判定ウエハ情報を読み込む場合に比べて、処理時間の短縮を図ることができる。ただし、本発明はこれに限定されるものではなく、データベースに登録された全ての被判定ウエハ情報を読み込むようにしてもよい。
ステップS18において、ステップS17で設定された判定領域内に位置する集中パターン欠陥分布の代表点をもつ被判定ウエハ情報を選定する場合、図8に示した判定領域5と代表点(白抜き丸印)との関係を有する被判定ウエハ情報を選定することができる。
これに対し、判定領域5の配置位置によっては、例えば図12に示すように、判定領域5内にパターン欠陥データ点(黒塗りの丸印)が位置するにもかかわらず、代表点(白抜き丸印)が判定領域5内に位置しないことがある。図12に示した判定領域5と代表点の位置関係の場合、ステップS18で、この代表点情報をもつ被判定ウエハ情報を選定することができない。
これが望ましくない場合は、ステップS15で、被判定ウエハ情報に、集中パターン欠陥分布の分布範囲、ならびに、分布代表点領域の面積、円形比率及び分布密度のうち少なくとも1つを含む特徴情報をさらにウエハ情報に関連付けてデータベースに登録し、ステップS18で、その特徴情報に基づいて該当ウエハ判定を行なうべき被判定ウエハ情報を選定してもよい。上記特徴情報の具体例について説明する。
例えば、被判定ウエハ情報と集中パターン欠陥分布の分布範囲を関連付ける。
図13は、集中パターン欠陥分布の分布範囲の一例を説明するための図である。
集中パターン欠陥分布9の分布範囲を表す情報は、集中パターン欠陥分布を構成する全てのデータ点のXY座標のうち、X軸に対する最大値Xh1及び最小値Xl1、ならびに、Y軸に対する最大値Yh1及び最小値Yl1によって表される。判定領域5の範囲は、X軸に対する最大値Xh0及び最小値Xl0、ならびに、Y軸に対する最大値Yh0及び最小値Yl0によって表される。
この場合、ステップS18で被判定ウエハ情報を絞り込む検索条件は、Xh1>Xl0、Xl1<Xh0、Yh1>Yl0、かつ、Yl1<Yh0、となる。これにより、ステップS18は、図13に示した集中パターン欠陥分布9をもつ被判定ウエハ情報を選定することができる。
ここでは、集中パターン欠陥分布を構成する全てのデータ点を用いて、X軸に対する最大値Xh1及び最小値Xl1、ならびに、Y軸に対する最大値Yh1及び最小値Yl1を求めているが、集中パターン欠陥分布の分布範囲を表す情報として代表点のみを用いてこれらの最大値及び最小値を求めてもよい。
図14は、集中パターン欠陥分布の分布範囲の他の例を説明するための図である。
図13では、XY座標を用いているが、極座標を用いて集中パターン欠陥分布9の分布範囲を表してもよい。
極座標を用いる場合、集中パターン欠陥分布9の分布範囲を表す情報は、集中パターン欠陥分布を構成する全てのデータ点のr値及びθ値のうち、最大値rh1及び最小値rl1、ならびに、最大値θh1及び最小値θl1によって表される。判定領域5の範囲は、最大値rh0及び最小値rl0、ならびに、最大値θh0及び最小値θl0によって表される。
この場合、ステップS18で被判定ウエハ情報を絞り込む検索条件は、Rh1>Rl0、Rl1<Rh0、θh1>θl0、かつ、θl1<θh0、となる。これにより、ステップS18は、図14に示した集中パターン欠陥分布9をもつ被判定ウエハ情報を選定することができる。
ここでは、集中パターン欠陥分布を構成する全てのデータ点を用いて、最大値rh1及び最小値rl1、ならびに、最大値θh1及び最小値θl1を求めているが、集中パターン欠陥分布の分布範囲を表す情報として代表点のみを用いてこれらの最大値及び最小値を求めてもよい。
また、集中パターン欠陥分布代表点領域11の面積も集中パターン欠陥分布9の特徴を表す情報の1つである。ステップS14で選定した代表点を用いて、分布代表点領域11の面積を求め、ステップS15で、その面積情報をウエハ情報に関連付けてデータベースに登録し、被判定ウエハ情報の選定ステップS18で、分布代表点領域11の面積に基づいて被判定ウエハ情報を選定すれば、該当ウエハ判定ステップS20で、分布代表点領域11の面積が分布代表点領域面積しきい値よりも小さい場合は該当ウエハ情報ではないとする判定を省略することができる。
また、集中パターン欠陥分布代表点領域11の形状に関する特徴を表す情報を求めてデータベースに登録し、判定すべき被判定ウエハ情報を選定に活用することもできる。
例えば、分布代表点領域11の形状がどれだけ円形に近いかを表す値として、分布代表点領域11の面積を、分布代表点領域11を囲む線長を円周とする円の面積で割った値(以下、円形比率と称す。)を求め、その値をウエハ情報に関連付けてデータベースに登録する。
分布代表点領域11を囲む線長をLとすると、Lを円周とする円の半径rはL/2πである。Lを円周とする円の面積は、πr2=π(L/2π)2=L2/4πである。分布代表点領域11の面積をSとすると、円形比率は、S/(L2/4π)=4πS/L2となる。
円形比率は、1に近づくほど円形になり、0に近づくほど線形になるので、必要に応じて分布識別対象ウエハ選択ステップで対象の限定に活用できる。
また、分布代表点領域11の面積に対するパターン欠陥データ点数、すなわち分布密度も集中不良分布の特徴を表す情報の1つである。
図15に示した集中パターン欠陥分布9に対する集中パターン欠陥分布代表点領域11と、図16に示した集中パターン欠陥分布9に対する集中パターン欠陥分布代表点領域11の面積は同じであるが、図15と図16とではパターン欠陥データ点数が異なっており、図15の方が図16に比べてデータ点分布が高密度になっている。分布代表点領域11のデータ点分布密度を予め求めてウエハ情報に関連付けてデータベースに登録しておけば、図16のように集中パターン欠陥分布9のデータ点分布密度が小さい集中パターン欠陥分布9を排除して、図15のように集中パターン欠陥分布9のデータ点分布密度が大きい集中パターン欠陥分布9に限定して被判定ウエハ情報の選定を行ないたいときに活用することができる。
上記実施例では、パターン欠陥位置を示すデータ点を用いているが、異物検査結果の異物位置を示すデータ点を用いても、上記実施例と同様の処理を行なうことができる。
また、パターン欠陥位置を示すデータ点や異物位置を示すデータ点の位置に対応するチップ位置を不良チップとし、不良チップ位置を示すデータを用いて上記実施例と同様の処理を行なうこともできる。ただし、鏡面ウエハ上の異物検査結果データにはチップの概念がないので、ウエハ上に仮想チップを設ける。
例えば、図3に示したウエハ上でのパターン欠陥位置を不良チップに置き換えると、図17に示すようになる。図17で不良チップは符号15で示される。
図1を参照して説明したステップS3と同様にして、不良チップ15をグループ分けする際、予め定められた距離しきい値以下の相互間距離をもつ不良チップ15同士をグループ化する。ただし、パターン欠陥のデータ点をグループに分別する方法はどのような方法でもかまわない。例えば特許文献3に開示された方法により、不良チップ15をグループ分けしてもよい。
図1を参照して説明したステップS4と同様にして、不良チップ15の各グループに対して、不良チップ数が5個以上の不良チップグループを集中不良分布と判定する。図17では、不良チップグループ17が集中不良分布と判定される。
チップ位置情報はウエハ上のチップ7の位置を表す情報なので、例えばチップ7の中心の点を表す位置情報に変換する。不良チップ15の中心の点を表す位置情報を用いて、図1を参照して説明したステップS5、及び図4を参照して説明したステップS5−1〜S5−4と同様の処理を行なう。図18に示すように、集中不良分布17の代表点(白抜き丸印)が得られる。図18で、黒塗り丸印は集中不良分布17の不良チップ15の中心の点を示す。図18には、集中不良分布17の代表点が線で連結されて形成される集中不良分布代表点領域19も図示している。
その後、図1を参照して説明したステップS6と同様にして、同じ座標平面上で、集中不良分布代表点領域19と判定領域とが重なる重複領域の有無に基づいて、求めるべき該当ウエハ情報であるかどうか判定される。
図17では、ウエハ上でのパターン欠陥位置を不良チップに置き換えているが、ウエハテスト結果データはチップ位置情報と各チップの良否判定結果をもつ。すなわち、ウエハテスト結果データについて、図17及び図18を参照して説明した処理と同様の処理を行なうことができる。
図19は、図18の集中不良分布17近傍を拡大して示す図である。
チップ7及び不良チップ15の中心の点(黒塗り丸印及び白抜き丸印)を用いて代表点(白抜き丸印)を求め、集中不良分布17に対応する集中不良分布代表点領域19を求めると、集中不良分布17を構成する不良チップ15は、集中不良分布代表点領域19に対してはみ出す部分が多くなる。
これが望ましくない場合は、ウエハテスト結果データのチップ7を表す位置情報を、チップ7の4隅を表す位置情報に変換して、集中不良分布17の代表点を求めるようにすればよい。
図20は、図19に対して、チップを表す位置情報を、チップの4隅を表す位置情報に変換したときの代表点及び集中不良分布代表点領域を表す図である。
図20に示すように、不良チップ15の4隅を表す位置情報(黒塗り丸印及び白抜き丸印)を用いて代表点(白抜き丸印)を求め、集中不良分布17に対応する集中不良分布代表点領域19を求めると、集中不良分布17を構成する不良チップ15は、集中不良分布代表点領域19に対してはみ出す部分がなくなるのがわかる。
ところで、例えば図20に示すように、代表点となりうる3つ以上のデータ点(不良チップ15の4隅を表す位置情報)が一直線上に位置していることがある。代表点選定ステップで、それらのデータ点の配列で一端に位置するデータ点が代表点として選定され、その代表点が基準点とされて次の代表点が選定されるとき、一直線上に位置している残りの2つ以上のデータ点が代表点として同時に選定されうる。
例えば、図21に示すように、図20のデータ点(不良チップ15の4隅を表す位置情報)に対して、それらのデータ点分布領域の重心に判定用中心点Oが配置され、任意の位置に第1代表点選定用基準点Sが配置されたとする。図4及び図5を参照して説明したステップS5−2と同様にして、第1代表点選定用方向Dj1に対して第1代表点選定用方向Dj1から見て時計回りでなす角度が最小の第1代表点選定用データ点方向H1に対応するデータ点が第1代表点T1として選定される(第1代表点選定ステップ)。
次に、図4及び図6を参照して説明したステップS5−3と同様にして、代表点選定用方向Dj2に対して代表点選定用方向Dj2から見て時計回りでなす角度が最小のデータ点方向H2に対応するデータ点が第2代表点T2として選定される(代表点選定第2ステップ)。
次に、図4及び図7を参照して説明したステップS5−4と同様にして、代表点選定用方向Dj3が設定され、代表点T2が基準点とされ、基準点T2を通って各データ点へ向かう複数のデータ点方向のうち、代表点選定用方向Dj3に対して代表点選定用方向Dj3から見て時計回りでなす角度が最小のデータ点方向H3に対応するデータ点が第2代表点として選定される(代表点選定第3ステップ)。ここで、代表点T2を通るデータ点方向H3には、代表点T2を含めて3つのデータ点が一直線上に位置している。したがって、代表点T2が基準点とされたとき、代表点T2を通るデータ点方向H3に位置している残りの2つのデータ点が代表点T3,T4として同時に選定される。なお、複数のデータ点が同時に代表点として選定される局面は、第1代表点選定ステップや代表点選定第2ステップでも起こりうる。
なお、ここでは、代表点となりうる3つ以上のデータ点が一直線上に位置しているとき、それらのデータ点をすべて代表点とするようにしたが、それらのデータ点のうち、それらのデータ点配列の両端に位置する2つのデータ点のみが代表点として選定されるようにしてもよい。この場合、一直線上に位置する代表点となりうる3つ以上のデータ点のすべてを代表点とする場合に比べて、代表点情報が少なくなる。
例えば、図21の場合では、代表点T2,T4に対応するデータ点が代表点として選定され、代表点T3に対応するデータ点は代表点として選定されないようにする。代表点T2が選定された後、代表点T2が基準点とされ、代表点選定用方向Dj3に対して代表点選定用方向Dj3から見て時計回りでなす角度が最小のデータ点方向H3に対応する複数のデータ点(図21の符合T3,T4に対応するデータ点)のうち、基準点T2から最も遠い位置のデータ点が第2代表点T4として選定されるようにすれば、符号T3に対応するデータ点は代表点として選定されない。
上記の実施例では、例えば図2に示すように、判定領域5はノッチ3を下にした状態で右上部分にチップ7の枠に沿って設けられているが、判定領域は、色々な位置及び範囲に設定される。
例えば、ノッチ3を下にしてウエハ1の上半分を判定領域としたり、ノッチ3を下にしてウエハ1の右半分を判定領域としたりできる。
また、判定領域は、必ずしも枠状のものでなくてもよい。例えば、X,Y座標平面でX>0,Y>0の領域や、X<2の領域など、枠状ではない領域であってもよい。
図22に、判定領域の一例を示す。
判定領域は、判定領域5aのように三角形の領域でもよいし、判定領域5bのように複数の点を滑らかな曲線で連結した領域でもよいし、判定領域5cのように楕円形の領域でもよいし、判定領域5dのようにウエハ1からはみ出した領域でもよい。
本発明の具体的な活用方法を図23〜図27を用いて説明する。
図23は、ウエハテスト結果データを座標平面上に示した図である。複数の不良チップ15で構成される集中不良分布17と、集中不良分布17に対応する集中不良分布代表点領域19が図示されている。
図24は、メタル1形成工程の欠陥検査結果データを座標平面上に示した図である。パターン欠陥位置を示すデータ点(黒塗り丸印)と、集中パターン欠陥分布9−1と、集中パターン欠陥分布9−1に対応する集中パターン欠陥分布代表点領域11−1が図示されている。
図25は、メタル2形成工程の欠陥検査結果データを座標平面上に示した図である。パターン欠陥位置を示すデータ点(黒塗り丸印)と、集中パターン欠陥分布9−2と、集中パターン欠陥分布9−2に対応する集中パターン欠陥分布代表点領域11−2が図示されている。
図26は、メタル3形成工程の欠陥検査結果データを座標平面上に示した図である。パターン欠陥位置を示すデータ点(黒塗り丸印)と、集中パターン欠陥分布9−3と、集中パターン欠陥分布9−3に対応する集中パターン欠陥分布代表点領域11−3が図示されている。
図27は、図23、図24、図25、図26の集中パターン欠陥分布代表点領域11−1,11−2,11−3の情報及び集中不良分布代表点領域19の情報を重ね合わせて図示したものである。
ウエハテスト結果にて図23に示すように集中不良分布17がある場合、集中不良分布17に対応する集中不良分布代表点領域19を判定範囲として設定して、各メタル形成工程のパターン欠陥検査結果に対して該当ウエハ判定ステップを行なえばいい。原因となる工程は、メタル2の集中不良分布代表点領域11−2のように、集中不良分布代表点領域19(判定領域)と重なるので、該当ウエハ判定ステップで、集中不良分布17の発生原因となる情報をもつ被判定ウエハ情報を判定できる。
上記で説明した実施例の各ステップは、各ステップを処理するためのプログラムを作製し、コンピュータを用いてそのプログラムを実行させることによって実現できる。
なお、プログラムの機能の1つとして、該当ウエハ情報と判定された複数のウエハ情報の集中不良分布代表点領域又は集中パターン欠陥分布代表点領域を1つの座標平面上に描画して、不要と思われる集中不良分布及び集中パターン欠陥分布を選択し、その分布を有するウエハ情報を該当ウエハ情報から除く機能を備えれば、さらに最適な該当ウエハ情報の分類が可能になる。
つまり、図28に示す集中パターン欠陥分布代表点領域21のように、判定領域5より離れた位置まで分布している集中パターン欠陥分布代表点領域に対応する集中パターン欠陥分布を有するウエハ情報を該当ウエハ情報から除きたい場合、コンピュータの画面上に、図28のような1つの座標平面上に複数のウエハ情報の集中パターン欠陥分布代表点領域を描画した図を表示し、図中の特異な集中パターン欠陥分布代表点領域をマウス操作等で選択し、選択された集中パターン欠陥分布代表点領域に対応する集中パターン欠陥分布を有するウエハ情報を該当ウエハから除くようにすればよい。なお、図10を参照して説明した第1割合しきい値や第2割合しきい値を用いれば、図28における集中パターン欠陥分布代表点領域21に対応するウエハ情報を自動で除外することも可能である。
次に、代表点選定ステップの変形例について説明する。
上記実施例は、代表点選定第3ステップS5−4で、判定用方向が最初の判定用方向Dj1に対して時計回りで360度以上回転したときに代表点の選定処理を終了しているが、同一データ点が代表点として再度選定されるまで、上記実施例では代表点T1のデータ点が代表点として再度選定されるまで、代表点の選定処理を行なってもよい。
なお、同一データ点が代表点として再度選定されたときに代表点の選定処理を終了する場合、先に選定された代表点と同一データ点と同じ座標をもつ、最後に選定された代表点は、代表点と認識されてもよいし、認識されなくてもよい。最後に選定された代表点が代表点と認識されるときは、判定ステップで、選定された順番に代表点が結線されることにより、閉塞された分布代表点領域が画定される。最後に選定された代表点が代表点として認識されないときは、判定ステップで、選定された順番に代表点が結線され、最初に選定された代表点と最後に選定された代表点が結線されることにより、閉塞された分布代表点領域が画定される。
また、上記実施例は、選定された順番に代表点を結線して分布代表点領域1を画定しているが、本発明はこれに限定されるものではなく、各代表点から他のすべての代表点に線を結んで分布代表点領域を画定してもよい。
また、上記実施例は、代表点選定第2ステップS5−3及び代表点選定第3ステップS5−4で、代表点選定用方向として判定用方向Dj2〜Dj11を用いているが、代表点選定用方向はこれに限定されない。ただし、当該代表点選定用方向を任意の方向とすると、例えば分布代表点領域を画定するための線が重なったり、閉塞しなかったり、閉塞したとしても大きくはみ出すデータ点が発生したりするなど、適切な代表点を選定できないという不具合が発生する可能性がある。
このような不具合を防止するために、代表点選定第2ステップでの代表点選定用方向は、最初の基準点T1を通って第1代表点選定用基準点Sへ向かう方向から時計回り(第1代表点選定用回転方向)で180度の範囲内で設定されればよい。また、代表点選定第3ステップでの代表点選定用方向は、次の基準点(直前代表点)を通って直前基準点(直前代表点の選定に用いられた基準点)へ向かう方向から時計回り(第1代表点選定用回転方向)で180度の範囲内で設定されればよい。なお、代表点選定第3ステップで、直前基準点は直前代表点の直前に選定された代表点でもあるので、代表点選定用方向が次の基準点を通って直前基準点へ向かう方向に設定されるときには、代表点選定第3ステップは直前基準点を構成するデータ点を代表点の選定対象から除外する。
図29は、代表点選定第2ステップS5−3での代表点選定用方向の範囲を説明するための図である。
代表点選定用方向の範囲Dr2は、最初の基準点(第1代表点)T1を始点として第1代表点選定用基準点Sへ向かう方向Dr2−1を時計回り(第1代表点選定用回転方向)で180度回転させた方向Dr2−2の範囲内であればよい。方向Dr2−2は、データ点方向H1(図5参照)と同じなので、代表点T1を通って方向Dr2−1及び方向Dr2−2へ伸びる直線に対して方向の範囲Dr2にはデータ点は存在しない。したがって、代表点選定第2ステップS5−3における代表点選定用方向は、方向の範囲Dr2の範囲内であればどの方向であってもよい。
また、上記実施例では、代表点選定第3ステップは、代表点の選定ごとに設定される判定用方向Dj2〜Dj12が最初の判定用方向Dj1に対して360度以上回転したときに代表点の選定処理を終了するようにしているが、本発明は、判定用方向を用いなくてもよい。その場合、代表点として同一データ点が再度選定された時に、又は、少なくとも2つのデータ点が代表点として再度選定された時に、代表点選定第3ステップは代表点の選定処理を終了するようにすればよい。
ただし、上記実施例では、判定用方向Dj1〜Dj11は代表点選定用方向として用いられているので、判定用方向を用いない場合には代表点選定用方向を定義付けする必要がある。第1代表点選定ステップで設定される第1代表点選定用方向は任意の方向でよい。
代表点選定第2ステップで設定される代表点選定用方向は、上述のように、最初の基準点(第1代表点)を通って第1代表点選定用基準点へ向かう方向から時計回り(第1代表点選定用回転方向)で180度の範囲内で設定されればよい。
代表点選定第3ステップでの代表点選定用方向は、上述のように、次の基準点(直前代表点)を通って直前基準点(直前代表点の選定に用いられた基準点)へ向かう方向から時計回り(第1代表点選定用回転方向)で180度の範囲内で設定されればよい。
また、上記実施例では、第1代表点選定用基準点Sは、各データ点についてデータ点とそのデータ点以外のすべてのデータ点が結線されてなる領域の外側に位置しているが、第1代表点選定用基準点Sの配置位置は任意である。例えば、第1代表点選定用基準点は、偶然に又は意図的に、各データ点についてデータ点とそのデータ点以外のすべてのデータ点が結線されてなる領域内に配置されることもある。図30〜図32を参照して、この場合の本発明の処理の流れについて説明する。
図30は、図3の集中パターン欠陥分布を拡大して示す座標平面図であって、各データ点についてデータ点とそのデータ点以外のすべてのデータ点が結線されてなる領域内に第1代表点選定用基準点が配置されたときに、第1代表点を求める処理の流れを説明するための図である。図31は、その座標平面図に、最後の代表点を求めるまでに用いた第1代表点選定用基準点、代表点選定用方向、データ点方向、代表点を示した図である。図32は、その座標平面図に分布代表点領域を図示した図である。
図30に示すように、第1代表点選定用基準点設定ステップで、第1代表点選定用基準点Sが設定される。ここでは、第1代表点選定用基準点Sの配置位置は、偶然に、集中パターン欠陥分布9の各データ点についてデータ点とそのデータ点以外のすべてのデータ点が結線されてなる領域内である。なお、第1代表点選定用基準点設定ステップで、意図的に第1代表点選定用基準点Sが例えばデータ点の分布領域の中心又は重心に配置されれば、第1代表点選定用基準点Sの配置位置は各データ点についてデータ点とそのデータ点以外のすべてのデータ点が結線されてなる領域内になる。ここで、複数のデータ点の分布領域の中心とは、2つの変数が対になった複数のデータに対して変数ごとに最大値と最小値を足して2で割って求めた値の点を言う。
第1代表点選定ステップで、第1代表点選定用基準点Sを通る任意の1方向が第1代表点選定用方向D1として設定される。第1代表点選定用方向D1は、例えばY座標軸に平行で負の方向である。第1代表点選定用基準点Sを通って各データ点へ向かう複数の第1代表点選定用データ点方向のうち、第1代表点選定用方向D1に対して第1代表点選定用方向D1から見て時計回りでなす角度が最小の第1代表点選定用データ点方向H1に対応するデータ点が第1代表点T1として選定される。
代表点選定第2ステップで第2代表点T2が選定され、代表点選定第3ステップで代表点T3〜T13が選定される(図31を参照。)。ここでは、選定用回転方向は時計回りであり、代表点選定用方向D2〜D12は、直前に選定された代表点に対応するデータ点方向H1〜H11である。代表点選定第3ステップで代表点T12が選定された後、代表点T12を次の基準点(直前代表点)とし、代表点T12に対応するデータ点方向H12を代表点選定用方向D13として代表点の選定が行なわれると、データ点方向H13に対応する代表点T13が選定される。代表点13を構成するデータ点は、既に代表点T2として選定されているので、代表点の選定処理が終了される。
判定ステップで、選定された順番に代表点T1〜T13が結線されて分布代表点領域11が画定される(図12を参照。)。ここで、代表点T2であるデータ点は代表点T13でもあるので、代表点T12と代表点T13が結線される。
このように、第1代表点選定用基準点Sが、各データ点についてデータ点とそのデータ点以外のすべてのデータ点が結線されてなる領域内に配置される場合であっても、本発明は、データ点の分布領域の輪郭を表現した分布代表点領域11を画定することができる。
図32に示した分布代表点領域11は、代表点T2〜T13を結ぶ閉塞された線のほかに、代表点T1と代表点T2を結ぶ線を有する。このような分布代表点領域11が不都合な場合は、図33に示すように、代表点T1と代表点T2を結ぶ線が画定されないようにして分布代表点領域11が画定されるようにすればよい。これにより、データ点の分布領域の輪郭のみを表現した分布代表点領域11が画定される。代表点T1と代表点T2を結ぶ線を画定しない方法としては、当該線を消去する方法や、分布代表点領域を画定する際に代表点T1を除外する方法を挙げることができる。
分布代表点領域のうち消去すべき部分に対応する代表点、又は分布代表点領域を画定する際に除外される代表点は、代表点選定第3ステップで再度選定された代表点が最初に選定されたときよりも前に選定された代表点である。図30から図32を参照して説明した上記実施例において、第1代表点T1は、代表点T13として再度選定された代表点T2よりも前に選定された代表点である。したがって、図33に示すように、第1代表点T1につながる線は、消去される、又は結線されない。
ところで、本発明において、被判定データ群を座標平面に表示したデータ点のうち、必ず代表点として選定されるデータ点がある。そのデータ点は、XY座標系では、X座標値が最大のデータ点及び最小のデータ点、並びにY座標値が最大のデータ点及び最小のデータ点である。極座標系では、その点はr値が最大のデータ点である。
また、本発明において、第1代表点選定用基準点の配置座標は任意なので、被判定データ群のうちいずれかのデータの座標を第1代表点選定用基準点としてもよい。
被判定データ群を構成する各データが(X,Y)の直交座標系又は斜交座標系である場合、本発明は、上記の必ず代表点として選定されるデータ点のうちいずれかのデータ点の座標を第1代表点選定用基準点とし、その基準点に対して所定の方向に任意の方向を設定すれば、最終的に、データ点の分布領域の輪郭のみを表現した分布代表点領域を画定できる。その所定の方向は、(1)X座標値が最大のデータの座標を第1代表点選定用基準点とする場合は、そのデータ座標を始点として、そのX座標値以上のいずれかの座標へ向かう方向であり、(2)X座標値が最小のデータの座標を第1代表点選定用基準点とする場合は、そのデータの座標を始点として、そのX座標値以下のいずれかの座標へ向かう方向であり、(3)Y座標値が最大のデータの座標を第1代表点選定用基準点とする場合は、そのデータの座標を始点として、そのY座標値以上のいずれかの座標へ向かう方向であり、(4)Y座標値が最小のデータの座標を第1代表点選定用基準点とする場合は、そのデータの座標を始点として、そのY座標値以下のいずれかの座標へ向かう方向である。
また、被判定データ群を構成する各データが(r,θ)の極座標系である場合、本発明は、被判定データ群のうち最大r値をもつデータの座標を第1代表点選定用基準点とし、その基準点に対して所定の方向に任意の方向を設定すれば、最終的に、データ点の分布領域の輪郭のみを表現した分布代表点領域を画定できる。その所定の方向は、被判定データ群のうち最大r値をもつデータのθ値の±90度の方向の範囲内の1方向である。
例えば、図34に示したXY座標平面の複数のデータ点に対して、それらのデータ点のうちX座標値が最小かつY座標値が最小のデータ点の座標に第1代表点選定用基準点Sが設定されるとする。第1代表点選定用基準点Sの座標を(Sx,Sy)とすると、X<Sxの範囲、及び、Y<Syの範囲にはデータ点が存在しない。したがって、第1代表点選定ステップで設定される任意の方向は、X座標軸と平行な方向でX座標軸の正の方向Dr1−1から、時計回りに、Y座標軸と平行な方向でY座標軸の正の方向Dr1−2の間の方向の範囲Dr1の範囲内であればよい。なお、方向の範囲Dr1には、方向Dr1−1及び方向Dr1−2を含む。
このような位置に第1代表点選定用基準点Sを配置することにより、代表点選定第1ステップにおいて、最終的に画定される分布代表点領域よりも内側に位置する代表点が選定されることはなくなり、そして代表点選定第2ステップ及び代表点選定第3ステップにおいてそのような代表点が選定されることもなくなり、データ点の分布領域の輪郭のみを表現した分布代表点領域が画定される。
また、第1代表点選定用基準点Sの座標位置のデータ点は必ず代表点として選定されるので、そのデータ点は、代表点選定第3ステップよりも前に、代表点として設定されるようにしてもよい。このようにすれば、その代表点が代表点選定第3ステップにおいて代表点として再度選定されることにより、代表点の選定処理が終了する。基準点Sの座標位置のデータ点が予め代表点として選定される時期は、その代表点が代表点選定第3ステップにおいて代表点として再度選定される時期よりも前であればいつでもよい。
なお、本発明において、第1代表点選定用基準点の配置座標は任意なので、被判定データ群のうちいずれかのデータの座標を第1代表点選定用基準点とする場合に、第1代表点選定用基準点の座標は、上記で説明した必ず代表点として選定されるデータの座標に限定されるものではない。
また、上記実施例では、第1代表点を選定するための代表点選定第1ステップは、第1代表点選定用基準点設定ステップと第1代表点選定ステップを含んでいるが、本発明の代表点選定第1ステップはこれに限定されない。
例えば、代表点選定第1ステップは、被判定データ群を構成する複数のデータ点のうちいずれか1つのデータ点を第1代表点として直接選定するようにしてもよい。この場合、代表点選定第2ステップにおける代表点選定用方向は、第1代表点(最初の基準点)を通る任意の1方向である。
さらに、代表点選定第1ステップは、被判定データ群を構成する各データが(X,Y)の直交座標系又は斜交座標系である場合、上記の必ず代表点として選定されるデータ点のうちいずれかのデータ点を第1代表点として設定し、代表点選定第2ステップは、代表点選定用方向を所定の方向に設定すれば、最終的に、データ点の分布領域の輪郭のみを表現した分布代表点領域を画定できるようになる。その所定の方向は、(1)X座標値が最大のデータの座標を第1代表点とする場合は、そのデータ座標を始点として、そのX座標値以上のいずれかの座標へ向かう方向であり、(2)X座標値が最小のデータの座標を第1代表点とする場合は、そのデータの座標を始点として、そのX座標値以下のいずれかの座標へ向かう方向であり、(3)Y座標値が最大のデータの座標を第1代表点とする場合は、そのデータの座標を始点として、そのY座標値以上のいずれかの座標へ向かう方向であり、(4)Y座標値が最小のデータの座標を第1代表点とする場合は、そのデータの座標を始点として、そのY座標値以下のいずれかの座標へ向かう方向である。ただし、第1代表点となるデータ点及び代表点選定用方向はこれらに限定されない。
例えば、図34を参照して説明すると、X座標値が最小かつY座標値が最小のデータ点(符号Sの位置のデータ点)が第1代表点として設定されるとき、代表点選定第2ステップで設定される代表点選定用方向は、X座標軸と平行な方向でX座標軸の正の方向Dr1−1から、時計回りに、Y座標軸と平行な方向でY座標軸の正の方向Dr1−2の間の方向の範囲Dr1の範囲内であればよい。ここでも、方向の範囲Dr1には、方向Dr1−1及び方向Dr1−2を含む。
また、被判定データ群を構成する各データが(r,θ)の極座標系である場合は、代表点選定第1ステップは、被判定データ群のうち最大r値をもつデータを第1代表点として設定し、代表点第2ステップは、第1代表点を構成するデータのθ値の±90度の方向の範囲内の1方向とすればよい。
上記実施例では、代表点選定第2ステップ及び代表点選定第3ステップは、選定用方向とデータ点方向がなす上記角度が最小のデータ点方向に対応するデータ点を代表点として選定しているが、当該角度が最大のデータ点方向に対応するデータ点を代表点として選定するようにしてもよい。この場合、代表点選定第3ステップは、次の基準点を通って直前基準点へ向かう方向から選定用回転方向とは反対回転方向で180度の範囲内の1方向を次の代表点選定用方向とする。この場合でも、データ点の分布領域の輪郭を分布代表点領域で表すことができる。
本発明は半導体製造工程における情報の処理以外にも活用できる。例えば、本発明は、撮像した画像データ内に特定の形状をした領域を検出するのにも有効である。
具体的な利用分野としては、2次元バーコードのアライメントマークの検出や、半導体製造工程における寸法測定などの際のアライメントマークの検出などがある。
このように本発明は半導体製造工程における情報の処理以外でも活用できる。
上記で説明した実施例の各ステップは、各ステップを処理するためのプログラムを作製し、コンピュータを用いてそのプログラムを実行させることによって実現できる。
以上、本発明の実施例を説明したが、本発明はこれらに限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の範囲内で種々の変更が可能である。
例えば、上記の実施例では、代表点選定用回転方向として時計周りを用いたが、代表点選定用回転方向は反時計周りであってもよい。
また、上記実施例の説明において図を用いたが、本発明の各ステップにおいて作図が必要なわけではない。すなわち、判定領域の情報と、対になった2つの変数をもつ複数のデータからなるデータ群の情報があれば各ステップの処理を行なえる。
また、上記実施例の説明において、座標平面に基準点や判定用中心点、判定用方向、代表点選定用方向などを図示したが、本発明の各ステップにおいて、これらの図示も必ずしも必要ではない。
また、上記実施例ではX,Yの直交座標平面を用いているが、本発明で用いる平面座標は、直交座標平面、斜交座標平面、極座標平面のいずれであってもよい。
本発明は、2つの変数が対になった複数のデータからなるデータ群が特定の領域に分布しているかを識別する際に適用できる。
D1〜D13 代表点選定用方向
Dj1 最初の判定用方向かつ第1代表点選定用方向
Dj2〜Dj12 判定用方向かつ代表点選定用方向
H1〜H13 代表点に対応したデータ点方向
O 判定用中心点
S 第1代表点選定用基準点
T1 第1代表点
T2 第2代表点
T3〜T13 代表点
5,5a〜5d 判定領域
9,9−1,9−2,9−3 集中パターン欠陥分布(データ点分布領域)
11,11−1,11−2,11−3,19,21 分布代表点領域
13 重複領域
特開平6−61314号公報 特許第4038356号公報 特開2009−10303号公報

Claims (18)

  1. 対になった2つの変数をもつ複数のデータからなる被判定データ群に対してコンピュータにより実行される方法であって
    前記被判定データ群のデータが点として表される座標平面上で、いずれか1つのデータ点をデータ点分布領域の第1代表点として選定する代表点選定第1ステップと、
    時計回り又は反時計回りの一方を選定用回転方向とし、前記第1代表点を最初の基準点とし、前記最初の基準点を通る任意の1方向を最初の代表点選定用方向とし、前記最初の基準点を通って各データ点へ向かう複数の最初のデータ点方向のうち、前記最初の代表点選定用方向に対して前記最初の代表点選定用方向から見て前記選定用回転方向でなす角度が最小の前記最初のデータ点方向に対応するデータ点を前記データ点分布領域の第2代表点として選定する代表点選定第2ステップと、
    前記第2代表点又はこのステップで選定された代表点であって直前に選定された代表点からなる直前代表点を次の基準点とし、前記直前代表点の選定で用いられた基準点を直前基準点とし、前記次の基準点を通って前記直前基準点へ向かう方向から前記選定用回転方向で180度の範囲内の任意の1方向を次の代表点選定用方向とし、前記次の基準点を通って前記直前代表点以外の各データ点へ向かう複数の次のデータ点方向のうち、前記次の代表点選定用方向に対して前記次の代表点選定用方向から見て前記選定用回転方向でなす角度が最小の前記次のデータ点方向に対応するデータ点を前記データ点分布領域の次の代表点として選定する処理を繰り返す代表点選定第3ステップと、
    前記代表点が線で連結されて形成される分布代表点領域と、前記座標平面に設定された特定の領域である判定領域とが重なる重複領域の有無を判断し、前記重複領域があるときは前記被判定データ群が該当データ群であると判定する判定ステップと、を含んだ座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法。
  2. 前記被判定データ群は、半導体装置製造工程におけるパターン欠陥検査結果データ、異物検査結果データ又はウエハテスト結果データである請求項1に記載の座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法。
  3. 前記判定ステップの前に、前記代表点選定第1ステップ、前記代表点選定第2ステップ及び前記代表点選定第3ステップで得られた前記代表点の情報である代表点情報と前記被判定データ群を識別できる情報である被判定データ群識別情報を関連付けてデータベースに登録する代表点情報登録ステップを含み、
    前記判定ステップは、前記データベースから前記被判定データ群識別情報に関連付けられた前記代表点情報を読み込んで前記重複領域の有無を判定する請求項1又は2に記載の座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法。
  4. 前記代表点情報登録ステップは、前記データ点分布領域及び前記分布代表点領域の分布範囲、ならびに、前記分布代表点領域の面積、円形比率及びデータ点分布密度のうち少なくとも1つを含む特徴情報を前記被判定データ群識別情報に関連付けて前記データベースに登録し、
    前記判定ステップは、前記特徴情報に基づいて判定すべき前記被判定データ群識別情報を絞り込んでから、前記重複領域の有無を判定する請求項3に記載の座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法。
  5. 前記判定ステップは、前記分布代表点領域の面積が予め設定された分布代表点領域面積しきい値以上であるかの判定を行ない、前記分布代表点領域の面積が前記分布代表点領域面積しきい値よりも小さい場合は前記被判定データ群を該当データ群ではないと判定する請求項1から4のいずれか一項に記載の座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法。
  6. 前記判定ステップは、前記重複領域の面積が予め設定された重複領域面積しきい値以上であるかの判定をさらに行ない、前記重複領域の面積が前記重複領域面積しきい値以上である場合に前記被判定データ群を該当データ群であると判定する請求項1から5のいずれか一項に記載の座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法。
  7. 前記判定ステップは、前記判定領域の面積に対する前記重複領域の面積の割合が予め設定された第1割合しきい値以上であるかの判定をさらに行ない、その割合が前記第1割合しきい値以上である場合に前記被判定データ群を該当データ群であると判定する請求項1から6のいずれか一項に記載の座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法。
  8. 前記判定ステップは、前記分布代表点領域の面積に対する前記重複領域の面積の割合が予め設定された第2割合しきい値以上であるかの判定をさらに行ない、その割合が前記第2割合しきい値以上である場合に前記被判定データ群を該当データ群であると判定する請求項1から7のいずれか一項に記載の座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法。
  9. 前記代表点選定第1ステップは、
    前記座標平面上の任意の1点を第1代表点選定用基準点として設定する第1代表点選定用基準点設定ステップと、
    時計回り又は反時計回りの一方を第1代表点選定用回転方向とし、前記第1代表点選定用基準点を通る任意の1方向を第1代表点選定用方向とし、前記第1代表点選定用基準点を通って各データ点へ向かう複数の第1代表点選定用データ点方向のうち、前記第1代表点選定用方向に対して前記第1代表点選定用方向から見て前記第1代表点選定用回転方向でなす角度が最小の前記第1代表点選定用データ点方向に対応するデータ点を前記第1代表点として選定する第1代表点選定ステップと、を含み、
    前記代表点選定第2ステップは、前記最初の基準点を通って前記第1代表点選定用基準点へ向かう方向から前記第1代表点選定用回転方向で180度の範囲内の任意の1方向を前記最初の代表点選定用方向とする、請求項1から8のいずれか一項に記載の座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法。
  10. 前記代表点選定第1ステップの前記第1代表点選定用基準点設定ステップは、各データ点についてデータ点とそのデータ点以外のすべてのデータ点が結線されてなる領域内の任意の点に前記第1代表点選定用基準点を設定し、
    前記代表点選定第2ステップは、前記第1代表点選定用基準点を通って前記最初の基準点へ向かう方向を前記最初の代表点選定用方向として前記第2代表点を選定し、
    前記代表点選定第3ステップは、前記直前基準点を通って前記次の基準点へ向かう方向を前記次の代表点選定用方向として前記次の代表点として選定する請求項9に記載の座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法。
  11. 前記第1代表点選定用基準点とは座標が互いに異なり、かつ、各データ点についてデータ点とそのデータ点以外のすべてのデータ点が結線されてなるデータ点分布領域内の任意の点に、前記代表点選定第3ステップでの代表点の選定処理の終了時期判定に用いられる判定用中心点を設定する判定用中心点設定ステップをさらに含み、
    前記第1代表点選定ステップは、前記判定用中心点を通って前記第1代表点選定用基準点へ向かう方向を前記第1代表点選定用方向として前記第1代表点として選定し、
    前記代表点選定第3ステップは、前記第1代表点選定用方向を最初の判定用方向と認定し、前記判定用中心点を通って前記代表点へ向かう判定用方向が前記最初の判定用方向に対して前記選定用回転方向で360度以上回転したときに前記次の代表点の選定処理を終了する請求項9又は10に記載の座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法。
  12. 前記データ群の各データは(X,Y)の直交座標系又は斜交座標系であって、
    前記代表点選定第1ステップの前記第1代表点選定用基準点設定ステップは、前記データ群のデータのうちX座標値が最大のデータ及び最小のデータ、並びにY座標値が最大のデータ及び最小のデータのうち少なくともいずれかを1つを満たす1つのデータの座標を前記第1代表点選定用基準点と設定し、
    前記代表点選定第1ステップの前記第1代表点選定ステップは、前記第1代表点選定用方向を、(1)X座標値が最大のデータ点の座標を前記第1代表点選定用基準点とする場合は、そのデータ点の座標を始点として、そのX座標値以上のいずれかの座標へ向かう方向とし、(2)X座標値が最小のデータ点の座標を前記第1代表点選定用基準点とする場合は、そのデータ点の座標を始点として、そのX座標値以下のいずれかの座標へ向かう方向とし、(3)Y座標値が最大のデータ点の座標を前記第1代表点選定用基準点とする場合は、そのデータ点の座標を始点として、そのY座標値以上のいずれかの座標へ向かう方向とし、(4)Y座標値が最小のデータ点の座標を前記第1代表点選定用基準点とする場合は、そのデータ点の座標を始点として、そのY座標値以下のいずれかの座標へ向かう方向とする、請求項9に記載の座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法。
  13. 前記データ群の各データは(X,Y)の直交座標系又は斜交座標系であって、
    前記代表点選定第1ステップは、前記データ群のデータのうちX座標値が最大のデータ及び最小のデータ、並びにY座標値が最大のデータ及び最小のデータのうち少なくともいずれかを1つを満たす1つのデータの座標を前記第1代表点と設定し、
    前記代表点選定第2ステップは、前記最初の代表点選定用方向を、(1)X座標値が最大のデータ点の座標を前記最初の基準点とする場合は、そのデータ点の座標を始点として、そのX座標値以上のいずれかの座標へ向かう方向とし、(2)X座標値が最小のデータ点の座標を前記最初の基準点とする場合は、そのデータ点の座標を始点として、そのX座標値以下のいずれかの座標へ向かう方向とし、(3)Y座標値が最大のデータ点の座標を前記最初の基準点とする場合は、そのデータ点の座標を始点として、そのY座標値以上のいずれかの座標へ向かう方向とし、(4)Y座標値が最小のデータ点の座標を前記最初の基準点とする場合は、そのデータ点の座標を始点として、そのY座標値以下のいずれかの座標へ向かう方向とする、請求項1から8のいずれか一項に記載の座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法。
  14. 前記代表点選定第3ステップは、同一のデータ点が前記代表点として再度選定された時に前記次の代表点の選定処理を終了する請求項1から10、12及び13のいずれか一項に記載の座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法。
  15. 前記代表点選定第3ステップは、少なくとも2つのデータ点が前記代表点として再度選定された時に前記次の代表点の選定処理を終了する請求項1から10、12及び13のいずれか一項に記載の座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法。
  16. 前記判定ステップは、選定された順番に前記代表点を結線して前記分布代表点領域を画定する請求項1から15のいずれか一項に記載の座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法。
  17. 前記代表点選定第2ステップ及び前記代表点選定第3ステップは、前記角度が最小の前記データ点方向に対応するデータ点に替えて、前記角度が最大の前記データ点方向に対応するデータ点を代表点として選定し、
    前記代表点選定第3ステップは、前記次の基準点を通って前記直前基準点へ向かう方向から前記選定用回転方向とは反対回転方向で180度の範囲内の1方向を前記次の代表点選定用方向とする請求項1から16のいずれか一項に記載の座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法。
  18. 請求項1から17のいずれか一項に記載の各ステップをコンピュータに実行させるための、座標平面におけるデータ点分布領域の識別プログラム。
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