JP5533196B2 - 座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法及びその識別プログラム - Google Patents
座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法及びその識別プログラム Download PDFInfo
- Publication number
- JP5533196B2 JP5533196B2 JP2010102018A JP2010102018A JP5533196B2 JP 5533196 B2 JP5533196 B2 JP 5533196B2 JP 2010102018 A JP2010102018 A JP 2010102018A JP 2010102018 A JP2010102018 A JP 2010102018A JP 5533196 B2 JP5533196 B2 JP 5533196B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- point
- data
- representative point
- representative
- selection
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70605—Workpiece metrology
- G03F7/70616—Monitoring the printed patterns
- G03F7/7065—Defects, e.g. optical inspection of patterned layer for defects
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Image Processing (AREA)
- Image Generation (AREA)
- Image Analysis (AREA)
Description
また、各工程でのパターン形成後、ウエハ状態でチップごとに電気的特性試験(ウエハテスト)を行なって良不良の判定を行なっている。
不良分布は大きく分けて、ウエハ上の位置要素に対して均等に分布する場合と、ウエハ上の位置要素に依存して集中分布する場合の2種類に分けられる。ウエハ上の位置に依らず均等に分布する不良はランダム不良、ウエハ上の一部に偏って発生する不良はクラスタリング不良と呼ばれることもある。
集中して分布した不良分布(集中不良分布と称す)の発生原因は、製造工程や製造装置等に起因する場合が多いので、製造工程や製造装置等を調査することにより歩留り低下の原因を究明できることがある。
特許文献1には、不良分布がクラスタ化している様子に従ってウエハをグループ分けし、その様子が既知の不良分布パターンと類似しているかどうかを判定することにより不良原因の特定を行なう方法が記載されている。
また、特許文献2には、欠陥の分布状態に基づいて、繰り返し欠陥、密集欠陥、線状分布欠陥、環あるいは塊状分布欠陥、ランダム欠陥などのカテゴリに欠陥を分類する方法が記載されている。
不良分布が既知の不良分布パターンに適合するかどうかの判断は、ウエハ上(座標平面上)での特定の領域に不良分布があるかどうかで判断される。
上記代表点選定第1ステップは、対になった2つの変数をもつ複数のデータからなる被判定データ群に対して、上記被判定データ群のデータが点として表される座標平面上で、いずれか1つのデータ点をデータ点分布領域の第1代表点として選定する。
上記代表点選定第2ステップは、時計回り又は反時計回りの一方を選定用回転方向とし、上記第1代表点を最初の基準点とし、上記最初の基準点を通る任意の1方向を最初の代表点選定用方向とし、上記最初の基準点を通って各データ点へ向かう複数の最初のデータ点方向のうち、上記最初の代表点選定用方向に対して上記最初の代表点選定用方向から見て上記選定用回転方向でなす角度が最小の上記最初のデータ点方向に対応するデータ点を上記データ点分布領域の第2代表点として選定する。
上記代表点選定第3ステップは、上記第2代表点又はこのステップで選定された代表点であって直前に選定された代表点からなる直前代表点を次の基準点とし、上記直前代表点の選定で用いられた基準点を直前基準点とし、上記次の基準点を通って上記直前基準点へ向かう方向から上記選定用回転方向で180度の範囲内の任意の1方向を次の代表点選定用方向とし、上記次の基準点を通って上記直前代表点以外の各データ点へ向かう複数の次のデータ点方向のうち、上記次の代表点選定用方向に対して上記次の代表点選定用方向から見て上記選定用回転方向でなす角度が最小の上記次のデータ点方向に対応するデータ点を上記データ点分布領域の次の代表点として選定する処理を繰り返す。
上記判定ステップは、上記代表点が線で連結されて形成される分布代表点領域と、上記座標平面に設定された特定の領域である上記判定領域とが重なる重複領域の有無を判断し、上記重複領域があるときは上記被判定データ群が該当データ群であると判定する。
ここで、座標平面は、直交座標平面、斜交座標平面、極座標平面など、どのような座標平面であってもよい。
また、代表点選定第3ステップで最初に選定される代表点の直前に選定された代表点は代表点選定第2ステップで選定された第2代表点である。
ここで、データ点分布領域の分布範囲を表す情報は、データ点分布領域を構成するデータ点のXY座標のうち、X軸に対する最大値及び最小値、ならびに、Y軸に対する最大値及び最小値によって表されるもの、又は、極座標におけるデータ点分布領域の最大r値、最小r値、最大θ値、及び、最小θ値によって表されるものである。
また、分布代表点領域の分布範囲を表す情報は、分布代表点領域を構成する代表点のXY座標のうち、X軸に対する最大値及び最小値、ならびに、Y軸に対する最大値及び最小値によって表されるもの、又は、極座標における分布代表点領域の最大r値、最小r値、最大θ値、及び、最小θ値によって表されるものである。
この分布代表点領域面積しきい値判断処理は、重複領域の有無を判断する処理の前であってもよいし、後であってもよい。
この局面において、上記代表点選定第2ステップは、上記最初の基準点(第1代表点)を通って上記第1代表点選定用基準点へ向かう方向から上記第1代表点選定用回転方向で180度の範囲内の任意の1方向を上記最初の代表点選定用方向とする。
ここで、第1代表点選定ステップにおける第1代表点選定用回転方向と、代表点選定第2ステップ及び代表点選定第3ステップにおける選定用回転方向は、同じ回転方向であってもよいし、互いに反対の回転方向であってもよい。
この局面において、上記代表点選定第2ステップは、上記第1代表点選定用基準点を通って上記最初の基準点へ向かう方向を上記最初の代表点選定用方向として上記第2代表点を選定し、上記代表点選定第3ステップは、上記直前基準点を通って上記次の基準点へ向かう方向を上記次の代表点選定用方向として上記次の代表点として選定する。
ここで、代表点選定第2ステップにおける最初の代表点選定用方向、すなわち第1代表点選定用基準点を通って最初の基準点へ向かう方向は、最初の基準点を通って第1代表点選定用基準点へ向かう方向から第1代表点選定用回転方向で180度の方向である。
また、代表点選定第3ステップにおける次の代表点選定用方向、すなわち直前基準点を通って次の基準点へ向かう方向は、次の基準点を通って直前基準点へ向かう方向から選定用回転方向で180度の方向である。
本発明において、各データ点についてデータ点とそのデータ点以外のすべてのデータ点が結線されてなる領域は、データ点間の線の線上の領域も含む。なお、本発明において、必ずしも当該領域を求めなくてもよい。例えば、第1代表点選定用基準点が、いずれかのデータ点の座標や、データ点間の線の線上の座標、3つのデータ点で囲まれた領域内の座標などに配置される場合には、当該領域を求める必要はない。
この局面において、上記第1代表点選定ステップは、上記判定用中心点を通って上記第1代表点選定用基準点へ向かう方向を上記第1代表点選定用方向として上記第1代表点として選定し、上記代表点選定第3ステップは、上記第1代表点選定用方向を最初の判定用方向と認定し、上記判定用中心点を通って上記代表点へ向かう判定用方向が上記最初の判定用方向に対して上記選定用回転方向で360度以上回転したときに上記次の代表点の選定処理を終了する。
この局面において、上記第1代表点選定ステップは、上記第1代表点選定用方向を、(1)X座標値が最大のデータ点の座標を上記第1代表点選定用基準点とする場合は、そのデータ点の座標を始点として、そのX座標値以上のいずれかの座標へ向かう方向とし、(2)X座標値が最小のデータ点の座標を上記第1代表点選定用基準点とする場合は、そのデータ点の座標を始点として、そのX座標値以下のいずれかの座標へ向かう方向とし、(3)Y座標値が最大のデータ点の座標を上記第1代表点選定用基準点とする場合は、そのデータ点の座標を始点として、そのY座標値以上のいずれかの座標へ向かう方向とし、(4)Y座標値が最小のデータ点の座標を上記第1代表点選定用基準点とする場合は、そのデータ点の座標を始点として、そのY座標値以下のいずれかの座標へ向かう方向とする。
この局面において、上記代表点選定用第2ステップは、上記最初の代表点選定用方向を、(1)X座標値が最大のデータ点の座標を上記最初の基準点(第1代表点)とする場合は、そのデータ点の座標を始点として、そのX座標値以上のいずれかの座標へ向かう方向とし、(2)X座標値が最小のデータ点の座標を上記最初の基準点とする場合は、そのデータ点の座標を始点として、そのX座標値以下のいずれかの座標へ向かう方向とし、(3)Y座標値が最大のデータ点の座標を上記最初の基準点とする場合は、そのデータ点の座標を始点として、そのY座標値以上のいずれかの座標へ向かう方向とし、(4)Y座標値が最小のデータ点の座標を上記最初の基準点とする場合は、そのデータ点の座標を始点として、そのY座標値以下のいずれかの座標へ向かう方向とする。
上記判定用中心点設定ステップを含む局面では、代表点選定第3ステップは、判定用方向が最初の判定用方向に対して選定用回転方向で360度以上回転したときに次の代表点の選定処理を終了するようにしたが、本発明において、代表点選定第3ステップが代表点の選定処理を終了する時期はこれに限定されない。
他の例として、上記代表点選定第3ステップは、少なくとも2つのデータ点が上記代表点として再度選定された時に上記次の代表点の選定処理を終了するようにしてもよい。
ただし、判定ステップは、各代表点から他のすべての代表点に線を結んで分布代表点領域を画定してもよい。
この場合、上記代表点選定第3ステップは、上記次の基準点を通って上記直前基準点へ向かう方向から上記選定用回転方向とは反対回転方向で180度の範囲内の1方向を上記次の代表点選定用方向とする。
これにより、データ点分布領域を分布代表点領域に置き換えた状態、すなわち、データ点分布領域を表現するための情報量を小さくした状態で、被判定データ群のデータ点分布領域が特定の判定領域に分布しているかどうかを判断することができる。
さらに、この分布代表点領域面積しきい値判定処理を、重複領域の有無を判断する処理の前に行なうようにすれば、分布代表点領域の面積が小さい、排除されるべき被判定データ群について重複領域の有無判断の処理を行なう必要がなくなる。
さらに、代表点選定第2ステップは、最初の基準点(第1代表点)を通って第1代表点選定用基準点へ向かう方向から第1代表点選定用回転方向で180度の範囲内の任意の1方向を最初の代表点選定用方向とするようにすれば、最初の代表点選定用方向の範囲を設定できる。
なお、代表点選定第3ステップは、2つのデータ点が代表点として再度選定された時に次の代表点の選定処理を終了すれば、適切な分布代表点領域が画定されるが、3つ以上のデータ点が代表点として再度選定された時に次の代表点の選定処理を終了するようにしても問題はない。
ただし、各代表点から他のすべての代表点に線を結んで分布代表点領域を画定した場合であっても、データ点分布領域の輪郭に応じた分布代表点領域を画定できる。
図1は、本発明の一実施例を説明するためのフローチャートである。図2は、ウエハ上に設定した判定領域を示す図である。図3は、ウエハ上でのパターン欠陥位置を示す図である。図4は、集中パターン欠陥分布の代表点選定ステップを説明するためのフローチャートである。図5は、パターン欠陥グループを拡大して図示し、第1代表点を求める処理の流れを説明するための図である。図6は、第1代表点を次の基準点として次の代表点を求める処理の流れを説明するための図である。図7は、最後の代表点を求めるまでに用いた第1代表点選定用基準点、データ点方向、代表点、判定用方向を示した図である。図8は、同じ座標平面上に、判定領域と集中パターン欠陥分布代表点領域を重ね合わせて表示した図である。図1から図8を参照してこの実施例を説明する。
判定用中心点Oは、集中パターン欠陥分布9の各データ点についてデータ点とそのデータ点以外のすべてのデータ点が結線されてなる領域内に配置される。この実施例では、判定用中心点Oをデータ点の分布領域の重心に設定した。ここで、データ点の分布領域の重心とは、2つの変数が対になった複数のデータに対して変数ごとに平均値を求めた値の点を言う。
また、第1代表点選定用基準点Sの配置位置は、点S,Oの座標が互いに異なっていれば、特に決まりはない。この実施例では、図5に示す位置に第1代表点選定用基準点Sを設定した。
最初の基準点T1を通って各データ点へ向かう複数のデータ点方向のうち、代表点選定用方向Dj2に対して代表点選定用方向Dj2から見て時計回りでなす角度が最小のデータ点方向H2に対応するデータ点を第2代表点T2として選定する(代表点選定第2ステップ)。
次の基準点T2を通って各データ点へ向かう複数のデータ点方向のうち、代表点選定用方向Dj3に対して代表点選定用方向Dj3から見て時計回りでなす角度が最小のデータ点方向H3に対応するデータ点を代表点T3として選定する。
その後、順次、判定用中心点Oから、直前に選定された代表点(直前代表点)に向かう方向を判定用方向かつ代表点選定用方向とし、直前代表点を次の基準点とし、次の基準点を通って各データ点へ向かう複数のデータ点方向のうち、代表点選定用方向に対して代表点選定用方向から見て時計回りでなす角度が最小のデータ点方向に対応するデータ点を代表点として選定する。代表点の選定処理は、順次求められる判定用方向が最初の判定用方向Dj1に対して時計回りで360度以上回転した時か、又は同一データ点が代表点として再度選定された時まで繰り返される。この実施例では、代表点T3が選定された後、判定用方向かつ代表点選定用方向Dj4〜Dj11が用いられて代表点T4〜T11が選定される。
ステップS6:同じ座標平面上で、集中パターン欠陥分布9の代表点が線で連結されて形成される集中パターン欠陥分布代表点領域11と判定領域5とが重なる重複領域13の有無が判定される(図8参照。)。ここでは、11個の代表点T1〜T11を線が交差しない順番に結線して分布代表点領域11を画定した。例えば、選定された順番に代表点T1〜T11を結線し、かつ代表点T1,T11を結線することにより線が交差しない分布代表点領域11を画定できる。図8では、分布代表点領域11を画定する線は直線であるが、例えばVisual BasicのDrawClosedCurve関数等を用いて、代表点を通る滑らかな曲線により分布代表点領域11を画定してもよい。後述する各実施例でも同様である。
しかし、蓄積されたデータに対してこれらの処理を行なう際、毎回同じ基準で処理されるのであれば、データ収集時に集中パターン欠陥分布を構成するデータ点(被判定データ群)に対して代表点選定処理を行ない、代表点情報もウエハ情報(被判定データ群識別情報)に関連付けて蓄積されるデータとしてデータベースに登録しておくほうが合理的である。図9を参照してその実施例を説明する。
ステップS18:データベースに登録されたウエハ情報のうち、該当ウエハ判定を行なうウエハ情報を被判定ウエハ情報として選定する。例えば、ステップS17で設定された判定領域内に位置する集中パターン欠陥分布の代表点をもつ被判定ウエハ情報を選定する。また、ステップS15で、ウエハ情報に関連付けて上記特徴情報を登録している場合には、その特徴情報に基づいて該当ウエハ判定を行なうべき被判定ウエハ情報を選定してもよい。また、ロット番号や品種情報、検査実施日時などの情報を用いて被判定ウエハ情報を選定してもよい。
ステップS20:図1のステップS6の該当ウエハ判定と同様にして、集中パターン欠陥分布代表点領域と判定領域とが重なる重複領域の有無を判定し、重複領域がある場合には、求めるべきパターン欠陥分布を有するパターン欠陥検査結果データをもつウエハ情報と判定する。
ステップS21:ステップS18で選定された被判定ウエハ情報が残っているかどうかを判断する。次の被判定ウエハ情報がある場合(Yes)、ステップS19に戻り、次の被判定ウエハ情報についてステップS19〜S20の処理を行なう。次の被判定ウエハ情報がない場合(No)、処理を終了する。
さらに、集中パターン欠陥分布の代表点情報の情報量は、集中パターン欠陥分布を構成する全欠陥データ点の情報量に比べて小さいので、読込み時間が速くなり、処理時間の短縮を図ることができる。
この分布代表点領域面積の判定処理は、重複領域の有無判定の前に行なってもよいし、後に行なってもよい。なお、この分布代表点領域面積の判定処理を、重複領域の有無判定の前に行なうようにすれば、分布代表点領域の面積が小さい、排除されるべきデータについて重複領域の有無判断の処理を行なう必要がなくなる。
例えば、図10に示すように、判定領域5と分布代表点領域11は重複しているが、判定領域5の面積に対する重複領域13の面積の割合が例えば50%よりも小さい場合は、該当ウエハ情報ではないと判定することにより、求めるべき該当ウエハ情報の判定精度を向上させることができる。
例えば、図11に示すように、判定領域5と分布代表点領域11は重複しているが、分布代表点領域11の面積に対する重複領域13の面積の割合が例えば50%よりも小さい場合は、該当ウエハ情報ではないと判定することにより、求めるべき該当ウエハ情報の判定精度を向上させることができる。
また、図10の状態においても、分布代表点領域11の面積に対する重複領域13の面積の割合は例えば50%よりも小さいので、分布代表点領域11に対応するウエハ情報は該当ウエハ情報ではないと判定され得る。
これに対し、判定領域5の配置位置によっては、例えば図12に示すように、判定領域5内にパターン欠陥データ点(黒塗りの丸印)が位置するにもかかわらず、代表点(白抜き丸印)が判定領域5内に位置しないことがある。図12に示した判定領域5と代表点の位置関係の場合、ステップS18で、この代表点情報をもつ被判定ウエハ情報を選定することができない。
図13は、集中パターン欠陥分布の分布範囲の一例を説明するための図である。
集中パターン欠陥分布9の分布範囲を表す情報は、集中パターン欠陥分布を構成する全てのデータ点のXY座標のうち、X軸に対する最大値Xh1及び最小値Xl1、ならびに、Y軸に対する最大値Yh1及び最小値Yl1によって表される。判定領域5の範囲は、X軸に対する最大値Xh0及び最小値Xl0、ならびに、Y軸に対する最大値Yh0及び最小値Yl0によって表される。
この場合、ステップS18で被判定ウエハ情報を絞り込む検索条件は、Xh1>Xl0、Xl1<Xh0、Yh1>Yl0、かつ、Yl1<Yh0、となる。これにより、ステップS18は、図13に示した集中パターン欠陥分布9をもつ被判定ウエハ情報を選定することができる。
ここでは、集中パターン欠陥分布を構成する全てのデータ点を用いて、X軸に対する最大値Xh1及び最小値Xl1、ならびに、Y軸に対する最大値Yh1及び最小値Yl1を求めているが、集中パターン欠陥分布の分布範囲を表す情報として代表点のみを用いてこれらの最大値及び最小値を求めてもよい。
図13では、XY座標を用いているが、極座標を用いて集中パターン欠陥分布9の分布範囲を表してもよい。
極座標を用いる場合、集中パターン欠陥分布9の分布範囲を表す情報は、集中パターン欠陥分布を構成する全てのデータ点のr値及びθ値のうち、最大値rh1及び最小値rl1、ならびに、最大値θh1及び最小値θl1によって表される。判定領域5の範囲は、最大値rh0及び最小値rl0、ならびに、最大値θh0及び最小値θl0によって表される。
この場合、ステップS18で被判定ウエハ情報を絞り込む検索条件は、Rh1>Rl0、Rl1<Rh0、θh1>θl0、かつ、θl1<θh0、となる。これにより、ステップS18は、図14に示した集中パターン欠陥分布9をもつ被判定ウエハ情報を選定することができる。
ここでは、集中パターン欠陥分布を構成する全てのデータ点を用いて、最大値rh1及び最小値rl1、ならびに、最大値θh1及び最小値θl1を求めているが、集中パターン欠陥分布の分布範囲を表す情報として代表点のみを用いてこれらの最大値及び最小値を求めてもよい。
例えば、分布代表点領域11の形状がどれだけ円形に近いかを表す値として、分布代表点領域11の面積を、分布代表点領域11を囲む線長を円周とする円の面積で割った値(以下、円形比率と称す。)を求め、その値をウエハ情報に関連付けてデータベースに登録する。
分布代表点領域11を囲む線長をLとすると、Lを円周とする円の半径rはL/2πである。Lを円周とする円の面積は、πr2=π(L/2π)2=L2/4πである。分布代表点領域11の面積をSとすると、円形比率は、S/(L2/4π)=4πS/L2となる。
円形比率は、1に近づくほど円形になり、0に近づくほど線形になるので、必要に応じて分布識別対象ウエハ選択ステップで対象の限定に活用できる。
図15に示した集中パターン欠陥分布9に対する集中パターン欠陥分布代表点領域11と、図16に示した集中パターン欠陥分布9に対する集中パターン欠陥分布代表点領域11の面積は同じであるが、図15と図16とではパターン欠陥データ点数が異なっており、図15の方が図16に比べてデータ点分布が高密度になっている。分布代表点領域11のデータ点分布密度を予め求めてウエハ情報に関連付けてデータベースに登録しておけば、図16のように集中パターン欠陥分布9のデータ点分布密度が小さい集中パターン欠陥分布9を排除して、図15のように集中パターン欠陥分布9のデータ点分布密度が大きい集中パターン欠陥分布9に限定して被判定ウエハ情報の選定を行ないたいときに活用することができる。
また、パターン欠陥位置を示すデータ点や異物位置を示すデータ点の位置に対応するチップ位置を不良チップとし、不良チップ位置を示すデータを用いて上記実施例と同様の処理を行なうこともできる。ただし、鏡面ウエハ上の異物検査結果データにはチップの概念がないので、ウエハ上に仮想チップを設ける。
例えば、図3に示したウエハ上でのパターン欠陥位置を不良チップに置き換えると、図17に示すようになる。図17で不良チップは符号15で示される。
チップ7及び不良チップ15の中心の点(黒塗り丸印及び白抜き丸印)を用いて代表点(白抜き丸印)を求め、集中不良分布17に対応する集中不良分布代表点領域19を求めると、集中不良分布17を構成する不良チップ15は、集中不良分布代表点領域19に対してはみ出す部分が多くなる。
これが望ましくない場合は、ウエハテスト結果データのチップ7を表す位置情報を、チップ7の4隅を表す位置情報に変換して、集中不良分布17の代表点を求めるようにすればよい。
図20に示すように、不良チップ15の4隅を表す位置情報(黒塗り丸印及び白抜き丸印)を用いて代表点(白抜き丸印)を求め、集中不良分布17に対応する集中不良分布代表点領域19を求めると、集中不良分布17を構成する不良チップ15は、集中不良分布代表点領域19に対してはみ出す部分がなくなるのがわかる。
次に、図4及び図6を参照して説明したステップS5−3と同様にして、代表点選定用方向Dj2に対して代表点選定用方向Dj2から見て時計回りでなす角度が最小のデータ点方向H2に対応するデータ点が第2代表点T2として選定される(代表点選定第2ステップ)。
例えば、ノッチ3を下にしてウエハ1の上半分を判定領域としたり、ノッチ3を下にしてウエハ1の右半分を判定領域としたりできる。
また、判定領域は、必ずしも枠状のものでなくてもよい。例えば、X,Y座標平面でX>0,Y>0の領域や、X<2の領域など、枠状ではない領域であってもよい。
判定領域は、判定領域5aのように三角形の領域でもよいし、判定領域5bのように複数の点を滑らかな曲線で連結した領域でもよいし、判定領域5cのように楕円形の領域でもよいし、判定領域5dのようにウエハ1からはみ出した領域でもよい。
図23は、ウエハテスト結果データを座標平面上に示した図である。複数の不良チップ15で構成される集中不良分布17と、集中不良分布17に対応する集中不良分布代表点領域19が図示されている。
図24は、メタル1形成工程の欠陥検査結果データを座標平面上に示した図である。パターン欠陥位置を示すデータ点(黒塗り丸印)と、集中パターン欠陥分布9−1と、集中パターン欠陥分布9−1に対応する集中パターン欠陥分布代表点領域11−1が図示されている。
図25は、メタル2形成工程の欠陥検査結果データを座標平面上に示した図である。パターン欠陥位置を示すデータ点(黒塗り丸印)と、集中パターン欠陥分布9−2と、集中パターン欠陥分布9−2に対応する集中パターン欠陥分布代表点領域11−2が図示されている。
図26は、メタル3形成工程の欠陥検査結果データを座標平面上に示した図である。パターン欠陥位置を示すデータ点(黒塗り丸印)と、集中パターン欠陥分布9−3と、集中パターン欠陥分布9−3に対応する集中パターン欠陥分布代表点領域11−3が図示されている。
ウエハテスト結果にて図23に示すように集中不良分布17がある場合、集中不良分布17に対応する集中不良分布代表点領域19を判定範囲として設定して、各メタル形成工程のパターン欠陥検査結果に対して該当ウエハ判定ステップを行なえばいい。原因となる工程は、メタル2の集中不良分布代表点領域11−2のように、集中不良分布代表点領域19(判定領域)と重なるので、該当ウエハ判定ステップで、集中不良分布17の発生原因となる情報をもつ被判定ウエハ情報を判定できる。
なお、プログラムの機能の1つとして、該当ウエハ情報と判定された複数のウエハ情報の集中不良分布代表点領域又は集中パターン欠陥分布代表点領域を1つの座標平面上に描画して、不要と思われる集中不良分布及び集中パターン欠陥分布を選択し、その分布を有するウエハ情報を該当ウエハ情報から除く機能を備えれば、さらに最適な該当ウエハ情報の分類が可能になる。
上記実施例は、代表点選定第3ステップS5−4で、判定用方向が最初の判定用方向Dj1に対して時計回りで360度以上回転したときに代表点の選定処理を終了しているが、同一データ点が代表点として再度選定されるまで、上記実施例では代表点T1のデータ点が代表点として再度選定されるまで、代表点の選定処理を行なってもよい。
なお、同一データ点が代表点として再度選定されたときに代表点の選定処理を終了する場合、先に選定された代表点と同一データ点と同じ座標をもつ、最後に選定された代表点は、代表点と認識されてもよいし、認識されなくてもよい。最後に選定された代表点が代表点と認識されるときは、判定ステップで、選定された順番に代表点が結線されることにより、閉塞された分布代表点領域が画定される。最後に選定された代表点が代表点として認識されないときは、判定ステップで、選定された順番に代表点が結線され、最初に選定された代表点と最後に選定された代表点が結線されることにより、閉塞された分布代表点領域が画定される。
代表点選定用方向の範囲Dr2は、最初の基準点(第1代表点)T1を始点として第1代表点選定用基準点Sへ向かう方向Dr2−1を時計回り(第1代表点選定用回転方向)で180度回転させた方向Dr2−2の範囲内であればよい。方向Dr2−2は、データ点方向H1(図5参照)と同じなので、代表点T1を通って方向Dr2−1及び方向Dr2−2へ伸びる直線に対して方向の範囲Dr2にはデータ点は存在しない。したがって、代表点選定第2ステップS5−3における代表点選定用方向は、方向の範囲Dr2の範囲内であればどの方向であってもよい。
代表点選定第2ステップで設定される代表点選定用方向は、上述のように、最初の基準点(第1代表点)を通って第1代表点選定用基準点へ向かう方向から時計回り(第1代表点選定用回転方向)で180度の範囲内で設定されればよい。
代表点選定第3ステップでの代表点選定用方向は、上述のように、次の基準点(直前代表点)を通って直前基準点(直前代表点の選定に用いられた基準点)へ向かう方向から時計回り(第1代表点選定用回転方向)で180度の範囲内で設定されればよい。
また、本発明において、第1代表点選定用基準点の配置座標は任意なので、被判定データ群のうちいずれかのデータの座標を第1代表点選定用基準点としてもよい。
具体的な利用分野としては、2次元バーコードのアライメントマークの検出や、半導体製造工程における寸法測定などの際のアライメントマークの検出などがある。
このように本発明は半導体製造工程における情報の処理以外でも活用できる。
例えば、上記の実施例では、代表点選定用回転方向として時計周りを用いたが、代表点選定用回転方向は反時計周りであってもよい。
また、上記実施例の説明において、座標平面に基準点や判定用中心点、判定用方向、代表点選定用方向などを図示したが、本発明の各ステップにおいて、これらの図示も必ずしも必要ではない。
また、上記実施例ではX,Yの直交座標平面を用いているが、本発明で用いる平面座標は、直交座標平面、斜交座標平面、極座標平面のいずれであってもよい。
Dj1 最初の判定用方向かつ第1代表点選定用方向
Dj2〜Dj12 判定用方向かつ代表点選定用方向
H1〜H13 代表点に対応したデータ点方向
O 判定用中心点
S 第1代表点選定用基準点
T1 第1代表点
T2 第2代表点
T3〜T13 代表点
5,5a〜5d 判定領域
9,9−1,9−2,9−3 集中パターン欠陥分布(データ点分布領域)
11,11−1,11−2,11−3,19,21 分布代表点領域
13 重複領域
Claims (18)
- 対になった2つの変数をもつ複数のデータからなる被判定データ群に対してコンピュータにより実行される方法であって、
前記被判定データ群のデータが点として表される座標平面上で、いずれか1つのデータ点をデータ点分布領域の第1代表点として選定する代表点選定第1ステップと、
時計回り又は反時計回りの一方を選定用回転方向とし、前記第1代表点を最初の基準点とし、前記最初の基準点を通る任意の1方向を最初の代表点選定用方向とし、前記最初の基準点を通って各データ点へ向かう複数の最初のデータ点方向のうち、前記最初の代表点選定用方向に対して前記最初の代表点選定用方向から見て前記選定用回転方向でなす角度が最小の前記最初のデータ点方向に対応するデータ点を前記データ点分布領域の第2代表点として選定する代表点選定第2ステップと、
前記第2代表点又はこのステップで選定された代表点であって直前に選定された代表点からなる直前代表点を次の基準点とし、前記直前代表点の選定で用いられた基準点を直前基準点とし、前記次の基準点を通って前記直前基準点へ向かう方向から前記選定用回転方向で180度の範囲内の任意の1方向を次の代表点選定用方向とし、前記次の基準点を通って前記直前代表点以外の各データ点へ向かう複数の次のデータ点方向のうち、前記次の代表点選定用方向に対して前記次の代表点選定用方向から見て前記選定用回転方向でなす角度が最小の前記次のデータ点方向に対応するデータ点を前記データ点分布領域の次の代表点として選定する処理を繰り返す代表点選定第3ステップと、
前記代表点が線で連結されて形成される分布代表点領域と、前記座標平面に設定された特定の領域である判定領域とが重なる重複領域の有無を判断し、前記重複領域があるときは前記被判定データ群が該当データ群であると判定する判定ステップと、を含んだ座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法。 - 前記被判定データ群は、半導体装置製造工程におけるパターン欠陥検査結果データ、異物検査結果データ又はウエハテスト結果データである請求項1に記載の座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法。
- 前記判定ステップの前に、前記代表点選定第1ステップ、前記代表点選定第2ステップ及び前記代表点選定第3ステップで得られた前記代表点の情報である代表点情報と前記被判定データ群を識別できる情報である被判定データ群識別情報を関連付けてデータベースに登録する代表点情報登録ステップを含み、
前記判定ステップは、前記データベースから前記被判定データ群識別情報に関連付けられた前記代表点情報を読み込んで前記重複領域の有無を判定する請求項1又は2に記載の座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法。 - 前記代表点情報登録ステップは、前記データ点分布領域及び前記分布代表点領域の分布範囲、ならびに、前記分布代表点領域の面積、円形比率及びデータ点分布密度のうち少なくとも1つを含む特徴情報を前記被判定データ群識別情報に関連付けて前記データベースに登録し、
前記判定ステップは、前記特徴情報に基づいて判定すべき前記被判定データ群識別情報を絞り込んでから、前記重複領域の有無を判定する請求項3に記載の座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法。 - 前記判定ステップは、前記分布代表点領域の面積が予め設定された分布代表点領域面積しきい値以上であるかの判定を行ない、前記分布代表点領域の面積が前記分布代表点領域面積しきい値よりも小さい場合は前記被判定データ群を該当データ群ではないと判定する請求項1から4のいずれか一項に記載の座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法。
- 前記判定ステップは、前記重複領域の面積が予め設定された重複領域面積しきい値以上であるかの判定をさらに行ない、前記重複領域の面積が前記重複領域面積しきい値以上である場合に前記被判定データ群を該当データ群であると判定する請求項1から5のいずれか一項に記載の座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法。
- 前記判定ステップは、前記判定領域の面積に対する前記重複領域の面積の割合が予め設定された第1割合しきい値以上であるかの判定をさらに行ない、その割合が前記第1割合しきい値以上である場合に前記被判定データ群を該当データ群であると判定する請求項1から6のいずれか一項に記載の座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法。
- 前記判定ステップは、前記分布代表点領域の面積に対する前記重複領域の面積の割合が予め設定された第2割合しきい値以上であるかの判定をさらに行ない、その割合が前記第2割合しきい値以上である場合に前記被判定データ群を該当データ群であると判定する請求項1から7のいずれか一項に記載の座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法。
- 前記代表点選定第1ステップは、
前記座標平面上の任意の1点を第1代表点選定用基準点として設定する第1代表点選定用基準点設定ステップと、
時計回り又は反時計回りの一方を第1代表点選定用回転方向とし、前記第1代表点選定用基準点を通る任意の1方向を第1代表点選定用方向とし、前記第1代表点選定用基準点を通って各データ点へ向かう複数の第1代表点選定用データ点方向のうち、前記第1代表点選定用方向に対して前記第1代表点選定用方向から見て前記第1代表点選定用回転方向でなす角度が最小の前記第1代表点選定用データ点方向に対応するデータ点を前記第1代表点として選定する第1代表点選定ステップと、を含み、
前記代表点選定第2ステップは、前記最初の基準点を通って前記第1代表点選定用基準点へ向かう方向から前記第1代表点選定用回転方向で180度の範囲内の任意の1方向を前記最初の代表点選定用方向とする、請求項1から8のいずれか一項に記載の座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法。 - 前記代表点選定第1ステップの前記第1代表点選定用基準点設定ステップは、各データ点についてデータ点とそのデータ点以外のすべてのデータ点が結線されてなる領域内の任意の点に前記第1代表点選定用基準点を設定し、
前記代表点選定第2ステップは、前記第1代表点選定用基準点を通って前記最初の基準点へ向かう方向を前記最初の代表点選定用方向として前記第2代表点を選定し、
前記代表点選定第3ステップは、前記直前基準点を通って前記次の基準点へ向かう方向を前記次の代表点選定用方向として前記次の代表点として選定する請求項9に記載の座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法。 - 前記第1代表点選定用基準点とは座標が互いに異なり、かつ、各データ点についてデータ点とそのデータ点以外のすべてのデータ点が結線されてなるデータ点分布領域内の任意の点に、前記代表点選定第3ステップでの代表点の選定処理の終了時期判定に用いられる判定用中心点を設定する判定用中心点設定ステップをさらに含み、
前記第1代表点選定ステップは、前記判定用中心点を通って前記第1代表点選定用基準点へ向かう方向を前記第1代表点選定用方向として前記第1代表点として選定し、
前記代表点選定第3ステップは、前記第1代表点選定用方向を最初の判定用方向と認定し、前記判定用中心点を通って前記代表点へ向かう判定用方向が前記最初の判定用方向に対して前記選定用回転方向で360度以上回転したときに前記次の代表点の選定処理を終了する請求項9又は10に記載の座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法。 - 前記データ群の各データは(X,Y)の直交座標系又は斜交座標系であって、
前記代表点選定第1ステップの前記第1代表点選定用基準点設定ステップは、前記データ群のデータのうちX座標値が最大のデータ及び最小のデータ、並びにY座標値が最大のデータ及び最小のデータのうち少なくともいずれかを1つを満たす1つのデータの座標を前記第1代表点選定用基準点と設定し、
前記代表点選定第1ステップの前記第1代表点選定ステップは、前記第1代表点選定用方向を、(1)X座標値が最大のデータ点の座標を前記第1代表点選定用基準点とする場合は、そのデータ点の座標を始点として、そのX座標値以上のいずれかの座標へ向かう方向とし、(2)X座標値が最小のデータ点の座標を前記第1代表点選定用基準点とする場合は、そのデータ点の座標を始点として、そのX座標値以下のいずれかの座標へ向かう方向とし、(3)Y座標値が最大のデータ点の座標を前記第1代表点選定用基準点とする場合は、そのデータ点の座標を始点として、そのY座標値以上のいずれかの座標へ向かう方向とし、(4)Y座標値が最小のデータ点の座標を前記第1代表点選定用基準点とする場合は、そのデータ点の座標を始点として、そのY座標値以下のいずれかの座標へ向かう方向とする、請求項9に記載の座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法。 - 前記データ群の各データは(X,Y)の直交座標系又は斜交座標系であって、
前記代表点選定第1ステップは、前記データ群のデータのうちX座標値が最大のデータ及び最小のデータ、並びにY座標値が最大のデータ及び最小のデータのうち少なくともいずれかを1つを満たす1つのデータの座標を前記第1代表点と設定し、
前記代表点選定第2ステップは、前記最初の代表点選定用方向を、(1)X座標値が最大のデータ点の座標を前記最初の基準点とする場合は、そのデータ点の座標を始点として、そのX座標値以上のいずれかの座標へ向かう方向とし、(2)X座標値が最小のデータ点の座標を前記最初の基準点とする場合は、そのデータ点の座標を始点として、そのX座標値以下のいずれかの座標へ向かう方向とし、(3)Y座標値が最大のデータ点の座標を前記最初の基準点とする場合は、そのデータ点の座標を始点として、そのY座標値以上のいずれかの座標へ向かう方向とし、(4)Y座標値が最小のデータ点の座標を前記最初の基準点とする場合は、そのデータ点の座標を始点として、そのY座標値以下のいずれかの座標へ向かう方向とする、請求項1から8のいずれか一項に記載の座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法。 - 前記代表点選定第3ステップは、同一のデータ点が前記代表点として再度選定された時に前記次の代表点の選定処理を終了する請求項1から10、12及び13のいずれか一項に記載の座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法。
- 前記代表点選定第3ステップは、少なくとも2つのデータ点が前記代表点として再度選定された時に前記次の代表点の選定処理を終了する請求項1から10、12及び13のいずれか一項に記載の座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法。
- 前記判定ステップは、選定された順番に前記代表点を結線して前記分布代表点領域を画定する請求項1から15のいずれか一項に記載の座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法。
- 前記代表点選定第2ステップ及び前記代表点選定第3ステップは、前記角度が最小の前記データ点方向に対応するデータ点に替えて、前記角度が最大の前記データ点方向に対応するデータ点を代表点として選定し、
前記代表点選定第3ステップは、前記次の基準点を通って前記直前基準点へ向かう方向から前記選定用回転方向とは反対回転方向で180度の範囲内の1方向を前記次の代表点選定用方向とする請求項1から16のいずれか一項に記載の座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法。 - 請求項1から17のいずれか一項に記載の各ステップをコンピュータに実行させるための、座標平面におけるデータ点分布領域の識別プログラム。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010102018A JP5533196B2 (ja) | 2010-04-27 | 2010-04-27 | 座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法及びその識別プログラム |
| US13/079,876 US8542229B2 (en) | 2010-04-27 | 2011-04-05 | Identification method of data point distribution area on coordinate plane and recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010102018A JP5533196B2 (ja) | 2010-04-27 | 2010-04-27 | 座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法及びその識別プログラム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2011233675A JP2011233675A (ja) | 2011-11-17 |
| JP5533196B2 true JP5533196B2 (ja) | 2014-06-25 |
Family
ID=44816527
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2010102018A Expired - Fee Related JP5533196B2 (ja) | 2010-04-27 | 2010-04-27 | 座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法及びその識別プログラム |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8542229B2 (ja) |
| JP (1) | JP5533196B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9557169B2 (en) * | 2013-03-13 | 2017-01-31 | Reticle Labs LLC | Method for tracking defects on a photomask across repeated inspections |
| TWI641934B (zh) * | 2014-08-05 | 2018-11-21 | 聯華電子股份有限公司 | 虛擬量測系統與方法 |
| JP6834602B2 (ja) * | 2017-03-03 | 2021-02-24 | 富士通株式会社 | データ生成方法、データ生成装置及びデータ生成プログラム |
| JP6844327B2 (ja) | 2017-03-03 | 2021-03-17 | 富士通株式会社 | データ生成方法、データ生成装置及びデータ生成プログラム |
| CN109084656B (zh) * | 2018-09-19 | 2020-11-24 | 浙江凯悦纺织股份有限公司 | 一种细纱机中心轴定位规综合误差校验装置 |
| CN109360165B (zh) * | 2018-09-28 | 2020-08-04 | 浙江兆晟科技股份有限公司 | 一种基于场景的盲元图像修复方法及系统 |
| TWI782589B (zh) * | 2021-06-23 | 2022-11-01 | 力晶積成電子製造股份有限公司 | 晶圓搜尋方法及裝置 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5240866A (en) | 1992-02-03 | 1993-08-31 | At&T Bell Laboratories | Method for characterizing failed circuits on semiconductor wafers |
| JPH1145919A (ja) * | 1997-07-24 | 1999-02-16 | Hitachi Ltd | 半導体基板の製造方法 |
| JP4038356B2 (ja) | 2001-04-10 | 2008-01-23 | 株式会社日立製作所 | 欠陥データ解析方法及びその装置並びにレビューシステム |
| JP3870052B2 (ja) * | 2001-09-20 | 2007-01-17 | 株式会社日立製作所 | 半導体装置の製造方法及び欠陥検査データ処理方法 |
| JP2005236094A (ja) * | 2004-02-20 | 2005-09-02 | Renesas Technology Corp | 半導体装置の製造方法、不良解析方法および不良解析システム |
| JP2005309870A (ja) * | 2004-04-22 | 2005-11-04 | Toyota Motor Corp | 画像処理装置 |
| KR20060047436A (ko) * | 2004-04-23 | 2006-05-18 | 니혼 소아 가부시키가이샤 | 2차원 및 3차원 도형의 데이터를 컴퓨터의 메모리에기록하는 데이터 구조, 프로그램 및 기록 매체 |
| JP4374303B2 (ja) * | 2004-09-29 | 2009-12-02 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 検査方法及びその装置 |
| JP4632777B2 (ja) * | 2004-12-27 | 2011-02-16 | オリンパス株式会社 | 欠陥検査装置及び欠陥検査方法 |
| JP4931710B2 (ja) | 2007-06-29 | 2012-05-16 | 株式会社リコー | ウエハにおける良品チップ分類方法、それを用いたチップ品質判定方法、ならびにチップ分類プログラム、チップ品質判定プログラム、マーキング機構及び半導体装置の製造方法 |
| JP4560117B2 (ja) * | 2008-10-30 | 2010-10-13 | 株式会社リコー | 散布図におけるデータ点の分布領域描画方法及び散布図におけるデータ点の分布領域描画プログラム |
| JP2011221862A (ja) * | 2010-04-12 | 2011-11-04 | Ricoh Co Ltd | 座標平面におけるデータ点の分布領域描画方法及び座標平面におけるデータ点の分布領域描画プログラム |
-
2010
- 2010-04-27 JP JP2010102018A patent/JP5533196B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-04-05 US US13/079,876 patent/US8542229B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20110264404A1 (en) | 2011-10-27 |
| US8542229B2 (en) | 2013-09-24 |
| JP2011233675A (ja) | 2011-11-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5533091B2 (ja) | 座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法及びその識別プログラム | |
| JP5533196B2 (ja) | 座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法及びその識別プログラム | |
| CN113454445B (zh) | 零件检查期间对于参考未对准进行补偿 | |
| TWI534646B (zh) | 智慧型弱點圖形診斷方法、系統與電腦可讀取記憶媒體 | |
| JP2011017705A (ja) | パターン検査装置、パターン検査方法および記録媒体 | |
| CN114387232B (zh) | 一种晶圆圆心定位、晶圆缺口定位及晶圆定位校准方法 | |
| JP4560117B2 (ja) | 散布図におけるデータ点の分布領域描画方法及び散布図におけるデータ点の分布領域描画プログラム | |
| CN1444035A (zh) | 检查图形的方法 | |
| TWI641961B (zh) | 設計佈局為主的快速線上缺陷診斷、分類及取樣方法及系統 | |
| CN112085708B (zh) | 产品外轮廓中的直线边缘的缺陷检测方法及设备 | |
| JP5533092B2 (ja) | 座標平面におけるデータ点分布領域の識別方法及びその識別プログラム | |
| CN119044726B (zh) | 芯片检测方法、系统、电子设备及计算机可读存储介质 | |
| CN118351097A (zh) | 一种胶路质量检测方法、装置、电子设备及存储介质 | |
| JP4778685B2 (ja) | 半導体デバイスのパターン形状評価方法及びその装置 | |
| JP6496159B2 (ja) | パターン検査装置およびパターン検査方法 | |
| JP2010129599A (ja) | パターン形状の評価方法及びこれを利用したパターン形状の評価装置 | |
| JP5323457B2 (ja) | 観察条件決定支援装置および観察条件決定支援方法 | |
| CN117455865A (zh) | 一种物料缺陷复检显示方法、装置、设备及存储介质 | |
| JP5067677B2 (ja) | 欠陥検出方法、欠陥検出装置、及びプログラム | |
| JP4597509B2 (ja) | パターン検査装置およびパターン検査方法 | |
| CN100410626C (zh) | 图案评价方法、图案对位方法及计算机可读的媒介 | |
| US8558831B2 (en) | Method and program for drawing distribution area of data points on coordinate plane | |
| TWI402707B (zh) | 沖頭零件與其在衝壓模板上對應孔的生成系統及方法 | |
| JP2004165395A (ja) | 検査データ解析プログラムと検査方法 | |
| CN118501504A (zh) | 一种半导体器件版图图形的cd-sem测量方法和设备 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130206 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140123 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140128 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140314 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140401 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140414 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |