JP5534575B2 - Assembly board - Google Patents
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Description
本発明は、集合基板に関する。 The present invention relates to a collective substrate.
集合基板は、部品を実装する回路基板が分割可能に複数連結された構成を有する。このような集合基板は、小型且つ同種の回路基板を効率的に製造するために用いられ、集合基板のままで電子部品等を組み込み、リフロー半田工程を経た後に各回路基板に切り離される。 The collective board has a configuration in which a plurality of circuit boards on which components are mounted are connected so as to be divided. Such a collective board is used to efficiently manufacture a small-sized and similar circuit board. Electronic parts and the like are incorporated as they are in the collective board, and after being subjected to a reflow soldering process, they are separated into circuit boards.
ここで、基板分割時に回路基板に作用する応力を減少させるためには、回路基板の切り離しを容易にすることが好ましい。そこで、従来では、集合基板の一方の側部からスリットを入れることで切り離しを容易にしていた。スリットは、例えば、回路基板の一方の側部を完全に分離させると共に、他方の側部の基板材を残すことで隣り合う2つの回路基板の連結を維持するように形成されており、基板材が残された部分が回路基板の連結部となる。スリットの長さは、連結部によって隣り合う2つの回路基板を連結させる力が維持できる範囲で最大限の大きさになっている。回路基板を分離させるときは、連結部のみに曲げ応力がかかるので、回路基板に作用する応力を減少できる。 Here, in order to reduce the stress acting on the circuit board when the board is divided, it is preferable that the circuit board is easily separated. Therefore, conventionally, a slit is made from one side of the collective substrate to facilitate separation. The slit is formed, for example, so as to completely separate one side of the circuit board and maintain the connection between the two adjacent circuit boards by leaving the substrate material on the other side. The portion where is left is the connection portion of the circuit board. The length of the slit is as large as possible within a range in which the force to connect two adjacent circuit boards by the connecting portion can be maintained. When the circuit boards are separated, since the bending stress is applied only to the connecting portion, the stress acting on the circuit board can be reduced.
しかしながら、従来の構成では、連結部の断面積を小さくすると基板分離時に回路基板に作用する応力を小さくできるが、集合基板全体としての強度が小さくなってしまう。このため、半田付け工程などで集合基板に熱を加えると連結部の近傍などに反りが生じ易かった。回路基板に反りが生じると、後の検査工程で検査ポイントの位置ずれが生じてしまうので、検査を効率良く実施することができなくなることがある。これに対して、回路基板の反りを抑えるためにスリットを短くすると、連結部の断面積が大きくなって基板分割時の応力が大きくなってしまう。
本発明は、このような事情を鑑みてなされたものであり、集合基板を用いて製造される回路基板を高精度に、かつ効率良く製造できるようにすることを主な目的とする。
However, in the conventional configuration, if the cross-sectional area of the connecting portion is reduced, the stress acting on the circuit board at the time of board separation can be reduced, but the strength of the collective board as a whole is reduced. For this reason, when heat is applied to the collective substrate in a soldering process or the like, warpage is likely to occur near the connecting portion. If the circuit board is warped, the inspection point may be misaligned in the subsequent inspection process, so that the inspection may not be performed efficiently. On the other hand, if the slit is shortened in order to suppress the warp of the circuit board, the cross-sectional area of the connecting portion is increased and the stress at the time of dividing the board is increased.
The present invention has been made in view of such circumstances, and a main object of the present invention is to be able to manufacture a circuit board manufactured using a collective substrate with high accuracy and efficiency.
本願の一観点によれば、電子部品を実装可能な回路基板を複数有し、前記回路基板が個々に分割可能に連結された集合基板であって、前記回路基板は前記電子部品を実装可能な領域として、第1の領域と、前記第1の領域に実装される前記電子部品より歪に対する許容量が小さい前記電子部品が実装される第2の領域とを有し、隣り合う前記回路基板の前記第1の領域間及び第2の領域間に形成された分割部は、分離溝が前記回路基板を分割す
るときの分離線に沿って設けられると共に、前記第2の領域間には、前記分割部を貫通する貫通孔を形成し、前記回路基板の反り量の許容値をγ、前記回路基板の総重量から求められる荷重をβ、前記回路基板の反り量と、その反り量を戻すのに要する応力の関係を直線近似したときの直線の傾きをδ、前記直線において反り量を0としたときに算出される応力の値をαとしたとき、前記分割部において前記貫通孔が形成されていない第1の分割部の前記分離線上の断面積と、前記貫通孔が形成された第2の分割部の前記分離線上の断面積との和である総断面積Sは、S=β/(δ×γ+α)を満たすことを特徴とする集合基板が提供される。
According to one aspect of the present application, the circuit board includes a plurality of circuit boards on which electronic components can be mounted, and the circuit boards are connected to each other so as to be capable of being divided. The circuit board can mount the electronic parts. As a region, the first region and a second region where the electronic component having a smaller allowable amount of distortion than the electronic component mounted in the first region is mounted, and the adjacent circuit board The division part formed between the first regions and between the second regions is provided along a separation line when a separation groove divides the circuit board, and between the second regions, Form a through-hole that penetrates the divided part, and the allowable value of the warpage amount of the circuit board is γ, the load obtained from the total weight of the circuit board is β, the warpage amount of the circuit board and the warpage amount are returned. The slope of the straight line when the stress relationship required for When the value of the stress calculated when the amount of warpage is 0 in the straight line is α, the sectional area on the separation line of the first divided portion where the through hole is not formed in the divided portion, and An aggregate substrate is provided in which a total cross-sectional area S, which is the sum of the cross-sectional areas on the separation line of the second divided portion in which the through holes are formed, satisfies S = β / (δ × γ + α). The
また、本発明の別の観点によれば、請求項1に記載の集合基板において、前記分離溝は表面側と裏面側のそれぞれに設けられ、前記貫通孔は等間隔に複数形成されていることを特徴とする集合基板が提供される。
According to another aspect of the present invention, in the collective substrate according to
本発明によれば、分割部の第2の領域に対応する部分に貫通孔を設けることで、回路基板同士の連結を維持しながら断面積を減少させたので、基板分割時の応力を抑えられ、歪に対して弱い部品への影響を抑えることができる。さらに、熱処理時の回路基板の反りを低減できる。 According to the present invention, since the cross-sectional area is reduced while maintaining the connection between the circuit boards by providing the through hole in the part corresponding to the second region of the divided part, the stress at the time of dividing the board can be suppressed. , It is possible to suppress the influence on parts that are vulnerable to distortion. Furthermore, the warp of the circuit board during the heat treatment can be reduced.
本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
図1に、この実施の形態における集合基板の一例の平面図を示す。
集合基板1は、複数の回路基板2が分割部3を介して個々に切り離し可能に連結され、その両端部に捨て基板4が設けられている。
Embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
FIG. 1 shows a plan view of an example of a collective substrate in this embodiment.
In the
図1の例で、回路基板2は横長の矩形になっており、横方向(第1の方向)に3つの回路基板2が2つの分割部3を介して連結され、これら連結された3つの回路基板2が横方向に直行する縦方向(第2の方向)に3列配置されており、合計で9個の回路基板2がマトリクス状に配置されている。縦方向に隣り合う回路基板2の間には、回路基板2の長辺に平行なスリット5によって分離させられており、直接には連結されていない。捨て基板4は、分割部3を介して回路基板2に連結されている。このような捨て基板4は、集合基板1のハンドリングを良好にするために設けられている。
In the example of FIG. 1, the
回路基板2は、エポキシ基板などの絶縁性を有する基板本体上に図示を省略する導電性パターンを形成すると共に、電子部品のリードなどを挿入可能な孔が少なくとも1つ形成されている。導電性パターンは、2つ以上の回路基板2が同一のパターンになるように形成されている。しかしながら、導電性パターンが異なる回路基板2を含んでも良い。
The
ここで、図1及び図2に示すように、この回路基板2は、第1の領域21と第2の領域22を含んで構成されている。
第1の領域21とは、回路基板2の歪みに対する許容値が大きい領域であり、主に回路基板2の歪みに対して強い電子部品、例えばICやトランジスタ、抵抗などが実装される。なお、歪に対して強い電子部品とは、電子部品の特性が歪に影響を受け難い部品や、回路基板2との接触面積が多いことで歪の影響を受け難くなる部品があげられる。
第2の領域22は、回路基板2の歪みに対する許容値が第1の領域21より小さい領域、言い換えれば歪みを第1の領域21より小さく抑える必要がある領域である。この第2
の領域22には、主に回路基板2の歪みの影響を受け易い電子部品、例えばセラミックコンデンサなどが実装される。なお、歪の影響を受け易い電子部品とは、電子部品の特性が歪に影響を受け易い部品や、回路基板2との接触面積が小さいことにより歪の影響を受け易くなる部品があげられる。
Here, as shown in FIGS. 1 and 2, the
The
The
In the
分割部3は、隣り合う2つの回路基板2の境界に位置し、回路基板2を切り離すときに分割の基点となる領域である。なお、分割部3は、回路基板2の分割後には各回路基板2の側部に残されるが、分割後に機械処理を行って回路基板2から取り除いても良い。
The dividing
この実施の形態で分割部3は、分割溝10が形成された第1の分割部31と、分割溝10に重なるように貫通孔11を複数設けた第2の分割部32とを有する。第1の分割部31は、回路基板2の第1の領域21に対応する位置に形成されている。具体的には、第1の領域21の長さ、この場合は第1の領域21の回路基板2の辺(図1及び図2の例では短辺)に平行な長さに、第1の分割部31の長さが略一致している。
In this embodiment, the dividing
第1の分割部31が有する分割溝10は、回路基板2の辺(図1及び図2の例では短辺)に平行に延びており、その断面が集合基板1の基板本体の板材の板厚を減少させるV字形になっている。分割溝10は、集合基板1の表面側と裏面側のそれぞれに1本ずつ形成されており、その形成位置は表面側と裏面側で略一致させてある。したがって、分割溝10の底部が最も板厚が小さい部分であり、ここが回路基板2が切り離されるライン、即ち分割ラインLdになる。なお、分割溝10の断面形状は、その断面が矩形やU字形など、外力で回路基板2を容易に切り離せる形状であれば良い。また、分割溝10は、表面又は裏面のいずれか一方のみに形成しても良い。
The dividing
図2及び図3に示すように、第1の分割部31の断面積SVは、分割線Ldを通り、回路基板2の表面に垂直な平面において、分割溝10により減少させられた基板本体の板厚tsと、第1の分割部31の長さとで定義される長方形の面積に相当する。
As shown in FIGS. 2 and 3, the cross-sectional area SV of the
一方、図2に示すように、第2の分割部32は、回路基板2の第2の領域22に対応して配置されている。具体的には、第2の領域22の分割線Ldに平行な長さに第2の分割部32の長さが略一致している。なお、第2の分割部32の長さは、第2の領域の分割線Ldに平行な長さ以上であることが好ましい。
第2の分割部32も分割溝10が表面と裏面のそれぞれに1つずつ形成されており、分割溝10の形成位置で板厚が最も薄くなっている。これら分割溝10は、第1の分割部31と第2の分割部32とに共通する溝であることが好ましい。しかしながら、第1の分割部31と第2の分割部32のそれぞれに独立した分割溝10を設けても良い。
On the other hand, as shown in FIG. 2, the second dividing
The second dividing
さらに、図2及び図4に示すように、第2の分割部32には、回路基板2の基板本体を貫通する貫通孔11が所定の間隔で複数形成されている。貫通孔11の径d11は、分割溝10の平面視のおける幅より大きくなっており、この貫通孔11によって分割線Ldを通り、回路基板2の表面に垂直な平面における第2の分割部32の断面積Smは第1の分割部31の断面積SVより少なくなっている。なお、貫通孔11の径d11は、分割溝10の幅と同じでも良いし、分割溝10の幅より狭くても良い。
Further, as shown in FIGS. 2 and 4, a plurality of through
第2の分割部32の断面積Smは、分割溝10により減少させられた基板本体の板厚tsと、第2の分割部32の長さで定義される長方形の面積に相当する断面積から、全ての貫通孔11の断面積を引いた値になる。このように、第2の分割部32は、分断面の断面積Smを第1の分割部SVより小さくすることで、回路基板2を個別に切り離すときに必要な力を減少させている。さらに、後に説明するように、集合基板1に熱を加えたときに第2の領域22の反りを低減させる効果も有する。
The cross-sectional area Sm of the second divided
ここで、断面積SVと断面積Smの和が分割部3の総断面積Sになる。この総断面積Sは、以下の式(1)に基づいて算出できる。
Here, the sum of the sectional area SV and the sectional area Sm is the total sectional area S of the dividing
S=β/(δ×γ+α) (1) S = β / (δ × γ + α) (1)
Sは回路基板2の反り量が予め定められた基準値を満足するために必要な分割部3の総断面積(mm2)である。βは、回路基板2の総重量から求められる荷重(N)である。これは、同じ材料で製造された基板であれば、熱処理時の回路基板2の反り量が回路基板2の重量によって変化するためである。γは回路基板2の反り量の許容値(mm)であり、δは回路基板2の反り量に対する断面応力変化率(N/mm3)、αは回路基板2の材料によって定まる定数である。
S is the total cross-sectional area (mm 2 ) of the
断面応力変化率δ及び定数αは、図5に示すようなグラフを作成すると得られる。図5の横軸はリフロー工程後に回路基板2の反り量を計測した結果を示す。縦軸は、分割部3の断面に発生する応力値を示す。ここで、反り量は、回路基板2の端や中央で測定した結果の最大値に相当する。また、応力値は、例えば、分割部3の単位断面積(mm2)あたりの回路基板2の基板重量を算出することで得られる。定数αは、図5に示すような反り量と応力値の関係を調べて直線近似し、回路基板2の反り量がゼロのときの応力値から求められる。断面応力変化率δは、図5の直線の傾きから求められる。
The cross-sectional stress change rate δ and the constant α can be obtained by creating a graph as shown in FIG. The horizontal axis of FIG. 5 shows the result of measuring the warpage amount of the
ここで、回路基板2の分割部3の総断面積Sの計算例を以下に示す。
分割部3の断面に発生する応力値が例えば8.65×10−3N/mm 2 のときに、リフロー工程後の基板反り量は1.49mmであった。同様に、分割部3の断面に発生する応力値が7.40×10−3N/mm 2 のときに、リフロー工程後の基板反り量は1.16mmであった。さらに、分割部の断面に発生する応力値が6.48×10−3N/mm 2 のときに、リフロー工程後の基板反り量は0.96mmであった。これらのデータに基づいて直線近似を行うと断面応力変化率δは4.1×10−3N/mm 3 となり、定数αは、2.5×10−3N/mm 2 になる。
Here, a calculation example of the total cross-sectional area S of the
When the stress value generated in the cross section of the divided
例えば、回路基板2の荷重βが1.56Nで、反り許容値γが1mmのときは、式(1)にこれらの値を代入し、前記した断面応力変化率δ及び定数αを用いて計算すると、総断面積Sは240mm2になる。すなわち、分割部3の総断面積Sを240mm2にすれば、回路基板2の反り量を1mmに抑えることができる。
なお、回路基板2の荷重βやその他条件が同じで、反り許容値γが1.2mmのときは、総断面積Sを210mm2にすれば良い。反り許容値γが1.5mmのときは、総断面積Sを180mm2にすれば良い。
For example, when the load β of the
Incidentally, the load β and other conditions of the
ここで、第2の分割部32における貫通孔11の数及び径d11の決定プロセスについて説明する。2つの分割部31,32で分割ラインLd上の板厚tsは同じであり、第1の分割部31の長さと第2の分割部32の長さの和は一定である。このため、第1の分割部31と第2の分割部32の比率から第1の分割部31の長さが決まれば、S=SV+Smから第2の分割部32の断面積Smが求められる。さらに、
(断面積Sm)=(板厚ts)×(第2の分割部32の長さ)−(貫通孔11の断面積の和)
であることから、総断面積Sから貫通孔11によって減少させるべき断面積の値を求めることができる。各貫通孔11の径d11が一定の場合、
(貫通孔11の断面積の和)=(板厚ts)×(貫通孔11の径d11)×(貫通孔1
1の数)
なので、貫通孔11の数に応じて貫通孔11の径d11が求まる。
Here, the process of determining the number of through
(Cross sectional area Sm) = (plate thickness ts) × (length of second divided portion 32) − (sum of cross sectional areas of through-holes 11)
Therefore, the value of the cross-sectional area to be reduced by the through
(Sum of cross-sectional area of through-hole 11) = (plate thickness ts) × (diameter d11 of through-hole 11) × (through-
Number of 1)
Therefore, the diameter d11 of the through
また、同じ反り許容値γでは、第2の分割部32が相対的に長い場合には総断面積Sを満たすように貫通孔11の断面積の和を増大させる。つまり、貫通孔11の数と貫通孔11の径d11の少なくとも一方を増加させる。これに対し、反り許容値γが同じで第2の分割部32が相対的に短い場合は、総断面積Sを満たすように貫通孔11の断面積の和を減少させる。つまり、貫通孔11の数と貫通孔11の径d11の少なくとも一方を少なくする。
Further, at the same warp tolerance γ, the sum of the cross-sectional areas of the through
なお、貫通孔11の数は、1つ以上であれば良い。貫通孔11の数が1つの場合は、貫通孔11の径d11が最も大きくなり、長円形になる。また、同じ断面積Smの場合は、貫通孔11の数が増えるに従って、貫通孔11の径d11が小さくなる。ここで、貫通孔11を複数有する場合、各貫通孔11の径d11は同じであることが好ましく、各貫通孔11は略等間隔に配置されることが好ましい。このようにすると、集合基板1の製造が容易であると共に、第2の領域21にかかる応力を略均一にすることができる。しかしながら、貫通孔11ごとに径d11を変えたり、貫通孔11の配置間隔を場所によって変化させたりしても良い。
The number of through
次に、集合基板1に電子部品を実装し、各回路基板2に分割するまでの工程について説明する。
まず、樹脂製の基板本体の表面の所定位置に、導体を印刷又は貼り付けすることで導電性パターンを形成する。この後、隣り合う2つの回路基板2の境界に分割溝10又はスリット5を形成する。さらに、第2の分割部32には複数の貫通孔11を分離溝10に沿って形成する。これにより、回路基板2が多数配列された集合基板1が形成される。
Next, a process until the electronic component is mounted on the
First, a conductive pattern is formed by printing or affixing a conductor on a predetermined position on the surface of a resin substrate body. Thereafter, a dividing
続いて、電子部品等を回路基板2の導電性パターンの所定位置にロボットなどを用いて供給する。このとき、例えば、セラミックコンデンサなどは、第2の領域21の所定位置に配置される。次に、電子部品等を配置した集合基板1に対してリフロー工程を実施する。集合基板1がリフロー炉に導入されることで、電子部品等が回路基板2の導電性パターンに半田付けされる。
Subsequently, an electronic component or the like is supplied to a predetermined position of the conductive pattern of the
この際、板厚tsが最も薄くなっている分割部3は、リフロー炉の熱の影響で集合基板1を変形させ易くなっている。特に、貫通孔11によって断面積を減少させられている第2の分割部32の周囲がより変形し易くなっている。しかしながら、前記したように、回路基板2の反り量が許容値γになるときの総断面積Sを満たすように、断面積SV及び断面積Smが形成されているので、リフロー工程における回路基板2の反り量がγに抑えられる。これにより、回路基板2上の電子部品、特に第2の領域22に配置された電子部品が歪の影響を受け難くなる。
At this time, the dividing
リフロー工程後は、集合基板1を分割線Ldで分割する。これにより、図6に示すように、個々の回路基板2に分割される。この回路基板2は、第1の領域21に歪の影響を受け難い電子部品41が実装され、第2の領域22に歪の影響を受けやすい電子部品42が実装された、実装基板である。基板分割に際しては、分割部3によって隣り合う回路基板
2が容易に分割される。第2の領域22の近傍では、第2の分割部32によって連結部分の断面積が第1の分割部31より小さくなっているので、分割し易い。このため、第2の領域22の歪が第1の領域21より小さくなり、電子部品や電子部品と回路基板2との接続箇所にかかる負荷が低減される。
After the reflow process, the
ここで、本実施の形態に係る集合基板1と、貫通孔11を有しない他は同じ条件で製造した比較用の基板のそれぞれについて、熱処理時の基板の反り量と、基板分割時の歪を計測してみた。その結果、集合基板1の反り量の最大値は0.84mmであり、分割後に測定した歪量は638μstであった。これに対し、比較用の基板の反り量の最大値は1.49mmであり、分割後に測定した歪量は688μstであった。この結果から、集合基板1は、貫通孔11を有しない比較用の基板と比較して、基板の反り量が大幅に改善されたことがわかる。なお、分割後に測定した歪量は、集合基板1の方が小さく抑えられている。これは、貫通孔11によって集合基板1の断面積が比較用の基板より少ないためであると考えられる。
Here, with respect to each of the
以上、説明したように、この実施の形態では、集合基板1の分割部3に第1の分割部31と第2の分割部32を設け、分割線Ld上の第2の分割部32の断面積Smを貫通孔11を複数形成することによって第1の分割部31の断面積SVより小さくしたので、回路基板2を分離するときに第2の分割部32の近傍の回路基板2の歪を低減できる。これにより、回路基板2の第2の領域22において回路基板2の歪による電子部品の接触不良等を防止できる。
さらに、回路基板2の歪を抑制できるような分割部3において、熱処理後の集合基板1の反り量が予め定めた許容値γになるように、第2の分割部32の分割線Ld上の総断面積S、つまり断面積SV及び断面積Smを決定したので、熱処理時に伴う基板変形を所望の値に制御することができる。これにより、回路基板2の第2の領域22において基板の反りによる電子部品の接触不良を防止できる。また、回路基板2の反りが所定の値に制御されることで、検査ポイントがずれることなくスムーズに検査を実施できる。
As described above, in this embodiment, the
Further, in the
なお、本発明は、実施の形態に限定されずに広く応用することが可能である。
例えば、許容値γは、1つの値として計算したが、許容値γを反り量の範囲として規定しても良い。例えば、反り量の許容値γを0.0mm〜1.0mmの範囲とした場合、γ=0.0mmのときの総断面積をS1、γ=1.0mmのときの総断面積をS2とすると、S(=SV+Sm)は、S1以上、S2以下の値を取り得る。
Note that the present invention is not limited to the embodiments and can be widely applied.
For example, the allowable value γ is calculated as one value, but the allowable value γ may be defined as the range of the warp amount. For example, when the allowable value γ of the warp amount is in the range of 0.0 mm to 1.0 mm, the total cross-sectional area when γ = 0.0 mm is S1, and the total cross-sectional area when γ = 1.0 mm is S2. Then, S (= SV + Sm) can take a value not less than S1 and not more than S2.
この場合、リフロー工程では、熱による回路基板2の反りが許容値γの範囲に収まる。反りに起因する不良を抑制できる。さらに、検査ポイントの位置ずれが予め想定された範囲内に収まるので、検査を効率良く実施できる。また、回路基板2を分離させるときは、第2の分割部32の存在によって回路基板2の第2の領域22の歪が抑えられる。
In this case, in the reflow process, the warp of the
1 集合基板
2 回路基板
3 分割部
10 分割溝
11 貫通孔
21 第1の領域
22 第2の領域
31 第1の分割部
32 第2の分割部
Lb 分割線
DESCRIPTION OF
Claims (2)
前記回路基板は前記電子部品を実装可能な領域として、第1の領域と、前記第1の領域に実装される前記電子部品より歪に対する許容量が小さい前記電子部品が実装される第2の領域とを有し、隣り合う前記回路基板の前記第1の領域間及び第2の領域間に形成された分割部は、分離溝が前記回路基板を分割するときの分離線に沿って設けられると共に、前記第2の領域間には、前記分割部を貫通する貫通孔を形成し、
前記回路基板の反り量の許容値をγ、前記回路基板の総重量から求められる荷重をβ、前記回路基板の反り量と、その反り量を戻すのに要する応力の関係を直線近似したときの直線の傾きをδ、前記直線において反り量を0としたときに算出される応力の値をαとしたとき、前記分割部において前記貫通孔が形成されていない第1の分割部の前記分離線上の断面積と、前記貫通孔が形成された第2の分割部の前記分離線上の断面積との和である総断面積Sは、
S=β/(δ×γ+α)
を満たすことを特徴とする集合基板。 A plurality of circuit boards on which electronic components can be mounted, and the circuit boards are connected to each other so that they can be divided individually.
The circuit board has a first region as a region where the electronic component can be mounted, and a second region where the electronic component having a smaller tolerance for distortion than the electronic component mounted in the first region is mounted. And divided portions formed between the first regions and between the second regions of the adjacent circuit boards are provided along separation lines when the separation grooves divide the circuit board. , Between the second regions, forming a through-hole penetrating the divided portion ,
When the allowable value of the warp amount of the circuit board is γ, the load obtained from the total weight of the circuit board is β, and the relationship between the warp amount of the circuit board and the stress required to return the warp amount is linearly approximated Assuming that the slope of the straight line is δ and the stress value calculated when the amount of warpage in the straight line is 0 is α, on the separation line of the first divided portion where the through hole is not formed in the divided portion. And the total cross-sectional area S which is the sum of the cross-sectional area on the separation line of the second divided portion in which the through hole is formed,
S = β / (δ × γ + α)
A collective board characterized by satisfying
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