JP5545928B2 - ポリオレフィン微多孔膜の製造方法 - Google Patents
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しかしながら、特許文献1、2に記載されたポリオレフィン微多孔膜はいずれも、低透気度と高耐電圧性能とを両立する観点からは、なお改良の余地を有するものであった。
本発明は、低透気度と高耐電圧性能とを両立し得るポリオレフィン微多孔膜の製造方法を提供することを課題とする。
[1]
下記(A),(B)の各工程、
(A)ポリオレフィン樹脂と、フィラーと、可塑剤とを含む原料組成物を混練してシートを形成するシート形成工程、
(B)(A)工程後、前記シートから前記可塑剤を抽出してフィラー含有微多孔シートを形成し、当該フィラー含有微多孔シートを2枚以上重ねてTDに延伸する延伸工程、
を含むポリオレフィン微多孔膜の製造方法。
[2]
前記延伸工程が、前記フィラー含有微多孔シートをMD,TDの両方向にそれぞれ1回以上延伸する工程である[1]記載の製造方法。
[3]
前記延伸工程が、MD延伸後にTD延伸を行う工程である[2]記載の製造方法。
[4]
前記延伸工程が、MD延伸倍率≧TD延伸倍率を満たす工程である[2]又は[3]記載の製造方法。
[5]
前記ポリオレフィン樹脂の粘度平均分子量が30万以上1000万以下である[1]〜[4]記載のいずれかに記載の製造方法。
[6]
前記フィラーがシリカ粉体である[1]〜[5]のいずれかに記載の製造方法。
(A)ポリオレフィン樹脂と、フィラーと、可塑剤とを含む原料組成物を混練してシートを形成するシート形成工程、
(B)(A)工程後、前記シートから前記可塑剤を抽出してフィラー含有微多孔シートを形成し、当該フィラー含有微多孔シートを2枚以上重ねてTDに延伸する延伸工程、
を含む。
その理由は詳らかではないが、フィラーとポリオレフィン樹脂との適度な相互作用(フィラー表面とポリオレフィン樹脂との親和性に基づく相互作用、又はフィラー形状に基づくポリオレフィン樹脂との相互作用)がフィラーの含まれる同一シート内だけでなく、界面を介して他のシートを形成するポリオレフィン樹脂との間でも生じることにより、樹脂の吐出方向(本明細書において、「MD」と略記することがある)に配向したポリオレフィン分子鎖が、膜幅方向(本明細書において、「TD」と略記することがある)への延伸により適度に引裂かれ、適度な気孔率、孔径分布、強度発現が実現し、その結果として低透気度と高耐電圧性能が達成されているものと考える。
また、前記ポリオレフィン樹脂としては、例えばポリエチレン(例えば、低密度ポリエチレン、線状低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、超高分子量ポリエチレン)、ポリプロピレン(例えば、アイソタクティックポリプロピレン、アタクティックポリプロピレン)、ポリブテン、エチレンプロピレンラバー等が挙げられる。
ここでいう「低密度ポリエチレン」とは、密度0.910〜0.930g/cm3のポリエチレン、「高密度ポリエチレン」とは、密度0.942g/cm3以上のポリエチレンを意味する。なお、以下、ポリエチレンを「PE」、ポリプロピレンを「PP」と略記することがある。
高密度ポリエチレンが、前記ポリオレフィン樹脂中に占める割合としては、好ましくは10質量%以上、より好ましくは30質量%以上、更に好ましくは50質量%以上であり、100質量%であってもよい。
有機微粒子としては、例えば、変性ポリスチレン微粒子、変性アクリル酸樹脂粒子などが挙げられる。
また、無機微粒子としては、例えば、アルミナ、シリカ(珪素酸化物)、チタニア、ジルコニア、マグネシア、セリア、イットリア、酸化亜鉛、酸化鉄などの酸化物系セラミックス、窒化ケイ素、窒化チタン、窒化ホウ素等の窒化物系セラミックス、シリコンカーバイド、炭酸カルシウム、硫酸アルミニウム、水酸化アルミニウム、チタン酸カリウム、タルク、カオリンクレー、カオリナイト、ハロイサイト、パイロフィライト、モンモリロナイト、セリサイト、マイカ、アメサイト、ベントナイト、アスベスト、ゼオライト、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、ケイ藻土、ケイ砂等のセラミックス、ガラス繊維などが挙げられる。
これらは1種を単独で、又は2種以上を併用することができる。中でも、電気化学的安定性の観点から、シリカ、アルミナ、チタニアがより好ましい。特にシリカが好ましい。
平均粒径を100nm以下とすることは、延伸等を施した場合でもポリオレフィン樹脂とフィラー間での剥離が生じにくい傾向となり、ボイドの発生を抑制する観点から好ましい。ここで、ポリオレフィン樹脂とフィラー間での剥離が生じにくいことは、微多孔膜を構成するフィブリル自身の高硬度化の観点から好ましく、ポリオレフィン微多孔膜の局所領域での耐圧縮性能に優れる傾向、又は耐熱性に優れる傾向が観察されるため好ましい。また、ポリオレフィン樹脂とフィラー間とが密着していることは、蓄電デバイス用セパレータの非水電解液との親和性を向上させ、出力保持性能、サイクル保持性能等に優れたセパレータを実現する観点から好ましい。
一方、平均粒径を1nm以上とすることは、フィラーの分散性を確保し、局所領域における耐圧縮性を向上させる観点から好ましい。
なお、フィラーの平均粒径は、試料を電子顕微鏡により拡大観察し、無作為に20個の粒子径を測り、その平均値とした。なお粒子径としては、観察される面積と同一の面積を有する円の径とした。
フタル酸ジエチルヘキシルやフタル酸ジブチル等のエステル類;
オレイルアルコールやステアリルアルコール等の高級アルコール類;
等が挙げられる。
特にフタル酸ジオクチルを用いることが、混練物を溶融押出しする際の負荷を上昇させ、シリカの分散性を向上させる観点から好ましい。
なお、添加剤が前記原料組成物中に占める割合としては、好ましくは5質量%以下である。
(a)ポリオレフィン樹脂とフィラーとを押出機、ニーダー等の樹脂混練装置に投入して混練し、更に加熱しながら可塑剤を導入し混練する方法。
(b)予めポリオレフィン樹脂とフィラーと可塑剤を、ヘンシェルミキサー等を用い所定の割合で事前混練する工程を経て、該混練物を押出機に投入し、加熱溶融させながら更に可塑剤を導入し混練する方法。
TDへの延伸に加えてMDへの延伸を行うこと、特に、MD延伸後にTD延伸を行うことは、得られる微多孔膜の低透気度化と高耐電圧性能をより高度な次元で両立させる観点から好ましい。
MD延伸倍率としては、好ましくは10倍以下、より好ましくは5倍以下である。また、TD延伸倍率としては、好ましくは8倍以下、より好ましくは4倍以下である。
また、MD延伸倍率とTD延伸倍率との関係としては、MD延伸倍率≧TD延伸倍率となることが好ましい。
更に、面倍率としては、好ましくは100倍以下、より好ましくは50倍以下、更に好ましくは16倍以下、特に好ましくは10倍以下である。
このような延伸を行うことは、ボイドの発生や機械強度低下を抑制する観点から好ましい。
熱処理の温度としては、ポリオレフィン樹脂の融点温度を基準として、好ましくは融点温度+40℃以下、より好ましくは融点温度+30℃以下であり、下限として好ましくは融点温度以上である。熱処理の温度を融点温度以上とすることは、膜の破れ等の発生を抑制し、また、ポリオレフィン微多孔膜の140℃条件下での熱収縮率を低減する観点から好適である。一方、融点温度+40℃以下とすることは、ポリオレフィン樹脂の収縮を抑制し、ポリオレフィン微多孔膜の熱収縮率を低減する観点から好適である。
また、上述した各種パラメータの測定値は、後述する実施例における測定法に準じて測定される。
前記蓄電デバイスは、例えば、前記微多孔膜を幅10〜500mm(好ましくは80〜500mm)、長さ200〜4000m(好ましくは1000〜4000m)の縦長形状のセパレータとして調製し、当該セパレータを、正極―セパレータ―負極―セパレータ、または負極―セパレータ―正極―セパレータの順で重ね、円または扁平な渦巻状に巻回して巻回体を得、当該巻回体を電池缶内に収納し、更に電解液を注入することにより製造することができる。
なお、前記蓄電デバイスは、正極―セパレータ―負極―セパレータ、または負極―セパレータ―正極―セパレータの順に平板状に積層し、袋状のフィルムでラミネートし、電解液を注入する工程を経て製造することもできる。
微小測厚器(東洋精機製 タイプKBM)を用いて室温23℃で測定した。
10cm×10cm角の試料を微多孔膜から切り取り、その体積(cm3)と質量(g)を求め、それらと膜密度(g/cm3)より、次式を用いて計算した。
気孔率(%)=(体積−質量/混合組成物の密度)/体積×100
なお、混合組成物の密度は、用いたポリオレフィン樹脂とフィラーの各々の密度と混合比より計算で求められる値を用いた。
JIS P−8117準拠のガーレー式透気度計(東洋精機製)にて測定した。比例計算により、80μm厚み当たりの値に換算した。
直径3cmのアルミニウム製電極で微多孔膜を挟み15gの荷重をかけ、これを菊水電子工業製の耐電圧測定機(TOS9201)に繋いで測定を実施した。測定条件は、交流電圧(60Hz)を1.0kV/secの速度でかけていき、短絡した電圧値を微多孔膜の耐電圧測定値とした。比例計算により、80μm厚み当たりの値に換算した。
なお、測定はTDに15点、かつMDに7点(合計105点)測定した値の最小値と最大値の値を用いて、「(最小値)〜(最大値)」の形で評価結果とした。
デカヒドロナフタリンへ試料の劣化防止のため2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノールを0.1w%の濃度となるように溶解させ、これ(以下DHNと略す)を試料溶媒として用いる。
試料をDHNへ0.1w%の濃度となるように150℃で溶解させ試料溶液を作成する。作成した試料溶液を10ml採取し、キャノンフェンスケ粘度計(SO100)により135℃での標線間通過秒数(t)を計測する。また、DHNを150℃に加熱した後、10ml採取し、同様の方法により粘度計の標線間を通過する秒数(tB)を計測する。得られた通過秒数t、tBを用いて次の換算式により極限粘度[η]を算出した。
[η]=((1.651t/tB−0.651)0.5−1)/0.0834
求められた[η]より、次式によりMvを算出した。
[η]=6.77×10−4Mv0.67
島津製作所社製DSC60を使用し測定した。試料3mgを直径5mmのアルミ製オープンサンプルパンに敷き詰め、クランピングカバーを乗せサンプルシーラーでアルミパン内に固定した。窒素雰囲気下、昇温速度10℃/minで30℃から200℃までを測定し、融解吸熱曲線を得た。得られた融解吸熱曲線のピークトップ温度を融点(℃)とした。
カトーテック製のハンディー圧縮試験器KES−G5(商標)を用いて、開口部の直径11.3mmの試料ホルダーで微多孔膜を固定した。次に固定された微多孔膜の中央部を、針先端の曲率半径0.5mm、突刺速度2mm/secで、25℃雰囲気下にて突刺試験を行うことにより、最大突刺荷重として突刺強度(N)を得た。
JIS K7127に準拠し、島津製作所製の引張試験機、オートグラフAG−A型(商標)を用いて、長さ方向(MD)及び幅方向(TD)のサンプル(形状;幅10mm×長さ100mm)について測定した。また、サンプルはチャック間を50mmとした。引張強度(MPa)は、破断時の強度を、試験前のサンプル断面積で除することで求めた。なお、測定は、温度23±2℃、チャック圧0.30MPa、引張速度200mm/分で行った。
ASTM F−316−86に準拠し、ハーフドライ法により算出した。
ASTM E−128−61に準拠し、エタノール中でのバブルポイント(BP)により算出した。
粘度平均分子量(Mv)25万の高密度ポリエチレン「SH800」(旭化成ケミカルズ(株)製、融点135.5℃)12.8質量部、Mv100万の超高分子量ポリエチレン「UH650」(旭化成ケミカルズ(株)製、融点136.6℃)19.2質量部、平均一次粒径が15nmであるシリカ「LP」((株)東ソー・シリカ製)20質量部、酸化防止剤0.3質量部、可塑剤としてフタル酸ジヘキシル(DOP)48質量部をヘンシェルミキサーで混合して造粒した。その後、T−ダイを装着した二軸押出機にて200℃で混練・押出し、厚さ100μmのシート状に成形した。該成形物から塩化メチレンにてDOPを抽出除去し微多孔膜とした。該微多孔膜を2枚重ねて130℃に加熱のもとMDに5倍、ロールにて延伸した後、最大温度140℃に加熱のもとTDに1.7倍、テンターにて延伸した。
得られた膜は、MDの引張強度29MPa、TDの引張強度5MPa、平均孔径0.20μm、最大孔径0.27μmであった。製膜条件およびその他の膜特性を表1に示す。
実施例1のポリオレフィンの原料組成をMv25万のSH800を21.3質量部、Mv100万のUH650を10.7質量部に変更し、表1に示す条件以外は実施例1と同様にして微多孔膜を得た。製膜条件および膜特性を表1に示す。
実施例1のポリオレフィンの原料組成をMv25万のSH800を29.9質量部、Mv100万のUH650を2.1質量部に変更し、表1に示す条件以外は実施例1と同様にして微多孔膜を得た。製膜条件および膜特性を表1に示す。
実施例1のポリオレフィンの原料組成をMv25万のSH800を32質量部に変更し、表1に示す条件以外は実施例1と同様にして微多孔膜を得た。製膜条件および膜特性を表1に示す。
Mv25万のSH800を12.8質量部、Mv100万のUH650を19.2質量部、シリカLPを20質量部、酸化防止剤0.3質量部、DOP48質量部をヘンシェルミキサーで混合して造粒した。その後、T−ダイを装着した二軸押出機にて200℃で混練・押出し、厚さ100μmのシート状に成形した。該成形物から塩化メチレンにてDOPを抽出除去し微多孔膜とした。該微多孔膜を3枚重ねて130℃に加熱のもとMDに5倍、ロールにて延伸した後、最大温度140℃に加熱のもとTDに1.7倍、テンターにて延伸した。製膜条件および膜特性を表1に示す。
Mv25万のSH800を12.8質量部、Mv100万のUH650を19.2質量部、シリカLPを20質量部、酸化防止剤0.3質量部、DOP48質量部をヘンシェルミキサーで混合して造粒した。その後、T−ダイを装着した二軸押出機にて200℃で混練・押出し、厚さ100μmのシート状に成形した。該成形物から塩化メチレンにてDOPを抽出除去し微多孔膜とした。該微多孔膜1枚を130℃に加熱のもとMDに5倍、ロールにて延伸した。製膜条件および膜特性を表1に示す。
Mv25万のSH800を12.8質量部、Mv100万のUH650を19.2質量部、シリカLPを20質量部、酸化防止剤0.3質量部、DOP48質量部をヘンシェルミキサーで混合して造粒した。その後、T−ダイを装着した二軸押出機にて200℃で混練・押出し、厚さ100μmのシート状に成形した。該成形物から塩化メチレンにてDOPを抽出除去し微多孔膜とした。該微多孔膜1枚を130℃に加熱のもとMDに5倍、ロールにて延伸した後、最大温度140℃に加熱のもとTDに1.7倍、テンターにて延伸を試みたが、途中で膜が破断したため延伸物は得られなかった。
Mv25万のSH800を12.8質量部、Mv100万のUH650を19.2質量部、シリカLPを20質量部、酸化防止剤0.3質量部、DOP48質量部をヘンシェルミキサーで混合して造粒した。その後、T−ダイを装着した二軸押出機にて200℃で混練・押出し、厚さ100μmのシート状に成形した。該成形物から塩化メチレンにてDOPを抽出除去し微多孔膜とした。該微多孔膜を2枚重ね130℃に加熱のもとMDに8.5倍ロールにて延伸した。製膜条件および膜特性を表1に示す。
Mv25万のSH800を12.8質量部、Mv100万のUH650を19.2質量部、シリカLPを20質量部、酸化防止剤0.3質量部、DOP48質量部をヘンシェルミキサーで混合して造粒した。その後、T−ダイを装着した二軸押出機にて200℃で混練・押出し、厚さ250μmのシート状に成形した。該成形物から塩化メチレンにてDOPを抽出除去し、水酸化ナトリウム水溶液でシリカを抽出除去し微多孔膜とした。該微多孔膜2枚を126℃に加熱のもとMDに6倍、ロールにて延伸した。製膜条件および、膜特性を表1に示す。
Mv25万のSH800を12.8質量部、Mv100万のUH650を19.2質量部、シリカLPを20質量部、酸化防止剤0.3質量部、DOP48質量部をヘンシェルミキサーで混合して造粒した。その後、T−ダイを装着した二軸押出機にて200℃で混練・押出し、厚さ400μmのシート状に成形した。該成形物から塩化メチレンにてDOPを抽出除去し、水酸化ナトリウム水溶液でシリカを抽出除去し微多孔膜とした。該微多孔膜2枚を126℃に加熱のもとMDに6倍、ロールにて延伸した後、最大温度138℃に加熱のもとTDに2倍、テンターにて延伸した。製膜条件および、膜特性を表1に示す。
Claims (6)
- 下記(A),(B)の各工程、
(A)ポリオレフィン樹脂と、フィラーと、可塑剤とを含む原料組成物を混練してシートを形成するシート形成工程、
(B)(A)工程後、前記シートから前記可塑剤を抽出してフィラー含有微多孔シートを形成し、当該フィラー含有微多孔シートを2枚以上重ねてTDに延伸する延伸工程、
を含むポリオレフィン微多孔膜の製造方法。 - 前記延伸工程が、前記フィラー含有微多孔シートをMD,TDの両方向にそれぞれ1回以上延伸する工程である請求項1記載の製造方法。
- 前記延伸工程が、MD延伸後にTD延伸を行う工程である請求項2記載の製造方法。
- 前記延伸工程が、MD延伸倍率≧TD延伸倍率を満たす工程である請求項2又は3記載の製造方法。
- 前記ポリオレフィン樹脂の粘度平均分子量が30万以上1000万以下である請求項1〜4のいずれか1項記載の製造方法。
- 前記フィラーがシリカ粉体である請求項1〜5のいずれか1項記載の製造方法。
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