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JP5556313B2 - Liquid crystal device and electronic device - Google Patents
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Description

本発明は、液晶装置に関するものである。   The present invention relates to a liquid crystal device.

一般に、液晶装置のシール材には、硬化反応を促進するための開始剤が含まれている。開始剤の種類としては、紫外線硬化型や熱硬化型などが知られている。近年では、タクトタイム短縮の観点から、紫外線硬化型の開始剤が普及している。紫外線硬化型の開始剤を含むシール材としては、特許文献1〜3に開示されたものが知られている。   In general, a sealing material for a liquid crystal device includes an initiator for promoting a curing reaction. As the type of initiator, an ultraviolet curable type, a thermosetting type, and the like are known. In recent years, UV curable initiators have become widespread from the viewpoint of shortening tact time. As a sealing material containing an ultraviolet curable initiator, those disclosed in Patent Documents 1 to 3 are known.

特開2006−307093号公報JP 2006-307093 A 特開2007−284472号公報JP 2007-284472 A 特開2007−119542号公報JP 2007-119542 A

シール材の硬化反応としては、ラジカル重合やカチオン重合などが知られている。しかしながら、これらの反応は、大気中若しくは液晶装置中に含まれる水分によって反応阻害を受け易い。硬化反応が阻害されると、シール材の未硬化成分が配向膜や液晶中に溶出し、表示不良を生じさせる惧れがある。   As the curing reaction of the sealing material, radical polymerization, cationic polymerization, and the like are known. However, these reactions tend to be hindered by moisture contained in the atmosphere or liquid crystal device. When the curing reaction is hindered, the uncured component of the sealing material may elute into the alignment film or the liquid crystal, causing a display failure.

本発明の目的は、シール材の硬化不良を抑制することが可能な液晶装置を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a liquid crystal device capable of suppressing poor curing of a sealing material.

本発明の液晶装置は、一対の基板と、前記一対の基板を貼り合わせるシール材と、前記一対の基板のうちの少なくとも一方の基板の他方の基板との対向面側に形成された多孔質膜とを備え、前記シール材は、エポキシ樹脂を含むと共に、湿気硬化型の開始剤と紫外線硬化型の開始剤とを含むことを特徴とする。
また、一対の基板と、前記一対の基板を貼り合わせるシール材と、前記一対の基板のうちの少なくとも一方の基板の他方の基板との対向面側に形成された多孔質膜とを備え、前記シール材は、エポキシ樹脂を含むと共に、湿気硬化型の開始剤と熱硬化型の開始剤とを含むことを特徴とする。
The liquid crystal device of the present invention includes a porous film formed on a surface facing a pair of substrates, a sealing material for bonding the pair of substrates, and the other substrate of at least one of the pair of substrates. And the sealing material contains an epoxy resin and a moisture curable initiator and an ultraviolet curable initiator .
A pair of substrates; a sealing material for bonding the pair of substrates; and a porous film formed on a surface facing the other substrate of at least one of the pair of substrates, The sealing material includes an epoxy resin and includes a moisture-curing initiator and a thermosetting initiator.

湿気硬化型の開始剤は、水分を吸収して硬化反応を促進させる開始剤である。本発明の液晶装置では、湿気硬化型の開始剤が、大気中若しくは液晶装置中に含まれる水分を利用してシール材の硬化反応を促進する。湿気硬化型の開始剤は、シール材の表面から水分を吸収するため、シール材の表面において硬化反応が促進される。そのため、液晶への不純物の溶出が問題となるシール材の表面の硬化不良が抑制され、信頼性の高い液晶装置が提供される。   The moisture-curing type initiator is an initiator that absorbs moisture and accelerates the curing reaction. In the liquid crystal device of the present invention, the moisture-curing initiator promotes the curing reaction of the sealing material by utilizing moisture contained in the atmosphere or the liquid crystal device. Since the moisture-curing type initiator absorbs moisture from the surface of the sealing material, the curing reaction is accelerated on the surface of the sealing material. Therefore, the curing failure of the surface of the sealing material in which the elution of impurities into the liquid crystal is a problem is suppressed, and a highly reliable liquid crystal device is provided.

前記シール材はエポキシ樹脂を含み、前記湿気硬化型の開始剤はケチミン化合物からなることが望ましい。   The sealing material preferably includes an epoxy resin, and the moisture-curing initiator is preferably made of a ketimine compound.

ケチミン化合物は、シール材として一般的に利用されているエポキシ樹脂の硬化反応を促進する。硬化反応は常温で進行し、加熱処理などの特別な処理を必要としない。そのため、従来のプロセスを殆ど変更することなく、確実に硬化処理を行うことができる。   The ketimine compound accelerates the curing reaction of an epoxy resin that is generally used as a sealing material. The curing reaction proceeds at room temperature and does not require special treatment such as heat treatment. Therefore, the curing process can be reliably performed with almost no change in the conventional process.

前記シール材に紫外線硬化型の開始剤が含まれていることが望ましい。   It is desirable that the sealing material contains an ultraviolet curable initiator.

湿気硬化型の開始剤によるシール材の硬化速度は、あまり速くない。そのため、湿気硬化型の開始剤を単独で用いるよりも、硬化速度の速い紫外線硬化型の開始剤と併用することが望ましい。紫外線硬化型の開始剤は、紫外線によって硬化反応を促進する開始剤である。紫外線硬化型の開始剤は、ラジカル重合やカチオン重合などを伴うが、これらの反応は水分によって反応阻害を受け易い。よって、紫外線硬化型の開始剤と湿気硬化型の開始剤とを併用することで、相互の弱点を補完し、迅速且つ確実な硬化処理を行うことができる。   The curing rate of the sealing material by the moisture curing type initiator is not so fast. Therefore, it is desirable to use in combination with an ultraviolet curable initiator having a high curing rate, rather than using a moisture curable initiator alone. The ultraviolet curable initiator is an initiator that accelerates the curing reaction by ultraviolet rays. The ultraviolet curable initiator is accompanied by radical polymerization, cationic polymerization, and the like, but these reactions are likely to be inhibited by moisture. Therefore, by using an ultraviolet curable initiator and a moisture curable initiator in combination, the mutual weaknesses can be complemented and a rapid and reliable curing process can be performed.

前記シール材に熱硬化型の開始剤が含まれていることが望ましい。   It is desirable that the sealing material contains a thermosetting initiator.

湿気硬化型の開始剤によるシール材の硬化速度は、あまり速くない。そのため、湿気硬化型の開始剤を単独で用いるよりも、硬化速度の速い熱硬化型の開始剤と併用することが望ましい。熱硬化型の開始剤は、加熱によって硬化反応を促進する開始剤である。基板を加熱すると、基板に含まれる水分が外部に放出され、その水分によって硬化反応が阻害される場合がある。よって、熱硬化型の開始剤と湿気硬化型の開始剤とを併用することで、相互の弱点を補完し、迅速且つ確実な硬化処理を行うことができる。   The curing rate of the sealing material by the moisture curing type initiator is not so fast. For this reason, it is desirable to use in combination with a thermosetting initiator having a high curing rate, rather than using a moisture curable initiator alone. A thermosetting initiator is an initiator that accelerates a curing reaction by heating. When the substrate is heated, moisture contained in the substrate is released to the outside, and the moisture may inhibit the curing reaction. Therefore, by using a thermosetting initiator and a moisture curable initiator in combination, the mutual weaknesses can be complemented and a quick and reliable curing process can be performed.

前記シール材における前記湿気硬化型の開始剤の濃度(wt%)が、前記シール材における前記紫外線硬化型の開始剤の濃度(wt%)よりも大きいことが望ましい。或いは、前記シール材における前記湿気硬化型の開始剤の濃度(wt%)が、前記シール材における前記熱硬化型の開始剤の濃度(wt%)よりも大きいことが望ましい。   The concentration (wt%) of the moisture curable initiator in the sealing material is preferably larger than the concentration (wt%) of the ultraviolet curable initiator in the sealing material. Alternatively, it is desirable that the concentration (wt%) of the moisture curable initiator in the sealing material is larger than the concentration (wt%) of the thermosetting initiator in the sealing material.

この構成によれば、水分によるシール材の硬化不良の少ない液晶装置を提供することができる。   According to this configuration, it is possible to provide a liquid crystal device in which the sealing material is not poorly cured by moisture.

前記シール材における前記湿気硬化型の開始剤の濃度が1wt%以上15wt%以下であることが望ましい。   It is desirable that the concentration of the moisture curing type initiator in the sealing material is 1 wt% or more and 15 wt% or less.

この構成によれば、水分によるシール材の硬化不良の少ない液晶装置を提供することができる。   According to this configuration, it is possible to provide a liquid crystal device in which the sealing material is not poorly cured by moisture.

前記一対の基板のうちの少なくとも一方の基板の対向面側に多孔質膜が形成されていることが望ましい。   It is desirable that a porous film is formed on the opposing surface side of at least one of the pair of substrates.

多孔質膜は、表面積が大きく、毛細管現象により容易に水分が浸入する。このような水分は、加熱処理を行っても完全に取り除くことはできない。そのため、多孔質膜とシール材との界面において硬化反応が阻害され、基板の密着性が損なわれた強度の弱いパネルになることがある。一方、本発明の液晶装置では、シール材中の湿気硬化型の開始剤が多孔質膜中の水分を吸収してシール材の硬化を促進する。そのため、シール材の硬化反応が大きく阻害されることがない。よって、湿気硬化型の開始剤が含まれない従来の液晶装置に比べて、基板の密着性の低下を抑制した液晶装置を提供することができる。   The porous membrane has a large surface area, and moisture easily enters due to capillary action. Such moisture cannot be completely removed even by heat treatment. For this reason, the curing reaction is hindered at the interface between the porous film and the sealing material, and the panel may be weak and the adhesion of the substrate is impaired. On the other hand, in the liquid crystal device of the present invention, the moisture curing type initiator in the sealing material absorbs moisture in the porous film and promotes curing of the sealing material. Therefore, the curing reaction of the sealing material is not greatly hindered. Therefore, it is possible to provide a liquid crystal device in which a decrease in the adhesion of the substrate is suppressed as compared with a conventional liquid crystal device that does not include a moisture curable initiator.

前記シール材は前記多孔質膜と接していることが望ましい。   It is desirable that the sealing material is in contact with the porous film.

多孔質膜と接する部分のシール材は、多孔質膜に含まれる水分によって硬化反応が阻害されることがある。そのため、シール材に湿気硬化型の開始剤を含まない従来の液晶装置では、シール材と接する部分の多孔質膜を除去するなど、新たなプロセスを追加する場合があった。しかし、本発明の液晶装置では、多孔質膜と接する部分のシール材の硬化反応が阻害され難いため、新たなプロセスを追加する必要がない。そのため、簡単なプロセスで確実に硬化処理を行うことができる。   A portion of the sealing material in contact with the porous film may be inhibited from curing reaction by moisture contained in the porous film. Therefore, in a conventional liquid crystal device in which the seal material does not contain a moisture-curing initiator, a new process may be added, such as removing the porous film in contact with the seal material. However, in the liquid crystal device of the present invention, the curing reaction of the sealing material in contact with the porous film is difficult to be inhibited, so that it is not necessary to add a new process. Therefore, the curing process can be reliably performed with a simple process.

本発明の電子機器は、本発明の液晶装置を備えていることを特徴とする。   An electronic apparatus according to the present invention includes the liquid crystal device according to the present invention.

この構成によれば、シール材の硬化不良が抑制された信頼性の高い電子機器を提供することができる。   According to this configuration, it is possible to provide a highly reliable electronic device in which poor curing of the sealing material is suppressed.

液晶装置を各構成要素とともに対向基板の側から見た平面図である。It is the top view which looked at the liquid crystal device from the counter substrate side with each component. 図1のH−H’線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the H-H 'line | wire of FIG. シール材が湿気硬化型の開始剤を含まない場合の硬化処理を示す図である。It is a figure which shows the hardening process in case a sealing material does not contain a moisture hardening type initiator. シール材が湿気硬化型の開始剤を含む場合の硬化処理を示す図である。It is a figure which shows the hardening process in case a sealing material contains a moisture hardening type initiator. 電子機器の一例である投射型表示装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the projection type display apparatus which is an example of an electronic device.

図1は、本発明の液晶装置の一実施形態である液晶装置100を各構成要素とともに対向基板の側から見た平面図である。図2は、図1のH−H’線に沿う断面図である。   FIG. 1 is a plan view of a liquid crystal device 100, which is an embodiment of the liquid crystal device of the present invention, as viewed from the counter substrate side together with the components. FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line H-H ′ of FIG. 1.

液晶装置100は、互いに対向して配置されたTFTアレイ基板10と対向基板20とを備えている。TFTアレイ基板10と対向基板20とは、互いに対向する対向面の周縁部に矩形枠状に設けられたシール材52により貼り合わされている。TFTアレイ基板10、対向基板20及びシール材52により囲まれた領域には液晶50が封入されている。   The liquid crystal device 100 includes a TFT array substrate 10 and a counter substrate 20 that are disposed to face each other. The TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 are bonded to each other by a sealing material 52 provided in a rectangular frame shape on the periphery of the opposing surfaces facing each other. A liquid crystal 50 is sealed in a region surrounded by the TFT array substrate 10, the counter substrate 20, and the sealing material 52.

シール材52の内側の領域には、遮光性材料からなる遮光膜53が形成されている。遮光膜53の内側の領域には画像表示領域100Aが設けられている。画像表示領域100Aには、画素電極30を含む複数の画素がマトリクス状に配列されている。対向基板20のTFTアレイ基板10と対向する対向面には共通電極21が形成されている。共通電極21は画像表示領域全面に形成されており、各画素に共通の共通電極となっている。各画素の境界部には、遮光膜23が形成されている。   A light shielding film 53 made of a light shielding material is formed in a region inside the sealing material 52. An image display area 100 </ b> A is provided in an area inside the light shielding film 53. In the image display area 100A, a plurality of pixels including the pixel electrode 30 are arranged in a matrix. A common electrode 21 is formed on the opposing surface of the opposing substrate 20 facing the TFT array substrate 10. The common electrode 21 is formed over the entire image display area, and is a common electrode common to the pixels. A light shielding film 23 is formed at the boundary between the pixels.

シール材52の外側の領域には、データ線駆動回路201および外部回路実装端子202がTFTアレイ基板10の一辺に沿って形成されており、この一辺に隣接する2辺に沿って走査線駆動回路204が形成されている。TFTアレイ基板10の残る一辺には、画像表示領域100Aの両側に設けられた走査線駆動回路204の間を接続するための複数の配線205が設けられている。対向基板20の4つの角部には、TFTアレイ基板10と対向基板20との間で電気的導通をとるための基板間導通材206が配設されている。   A data line driving circuit 201 and an external circuit mounting terminal 202 are formed along one side of the TFT array substrate 10 in a region outside the sealing material 52, and a scanning line driving circuit is formed along two sides adjacent to the one side. 204 is formed. On the remaining side of the TFT array substrate 10, a plurality of wirings 205 are provided for connecting between the scanning line driving circuits 204 provided on both sides of the image display region 100A. At the four corners of the counter substrate 20, an inter-substrate conductive material 206 for providing electrical continuity between the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 is disposed.

図3及び図4は、シール材52とTFTアレイ基板10との境界部の断面模式図である。図3は、シール材52に湿気硬化型の開始剤が含まれていない場合の図であり、図4は、シール材52に湿気硬化型の開始剤が含まれている場合の図である。   3 and 4 are schematic cross-sectional views of the boundary portion between the sealing material 52 and the TFT array substrate 10. FIG. 3 is a diagram in the case where the moisture curable initiator is not included in the sealing material 52, and FIG. 4 is a diagram in the case where the moisture curable initiator is included in the sealing material 52.

図3に示すように、TFTアレイ基板10の対向基板20と対向する対向面には配向膜15が形成されている。配向膜15は、酸化シリコン等の無機膜をTFTアレイ基板10に対して斜めに蒸着(斜方蒸着)することにより形成されている。配向膜15は、TFTアレイ基板10の法線に対して斜めに成長した複数の柱状結晶体15aによって形成されており、柱状結晶体15aの間は孔部15bとなっている。配向膜15は、複数の孔部15bを備えた多孔質膜となっている。   As shown in FIG. 3, an alignment film 15 is formed on the opposing surface of the TFT array substrate 10 that faces the opposing substrate 20. The alignment film 15 is formed by obliquely depositing an inorganic film such as silicon oxide on the TFT array substrate 10 (oblique deposition). The alignment film 15 is formed by a plurality of columnar crystals 15a grown obliquely with respect to the normal line of the TFT array substrate 10, and there are holes 15b between the columnar crystals 15a. The alignment film 15 is a porous film having a plurality of holes 15b.

配向膜15の孔部15bには、毛細管現象により容易に水分60が浸入する。このような水分60は、加熱処理を行っても完全に取り除くことはできない。シール材52は、エポキシモノマー520を重合させて硬化させるが、硬化反応を促進するために、紫外線硬化型の開始剤や熱硬化型の開始剤をシール材52に含ませる場合が多い。紫外線硬化型の開始剤は、紫外線によって硬化反応を促進する開始剤であり、熱硬化型の開始剤は、加熱によって硬化反応を促進する開始剤である。紫外線硬化型の開始剤や熱硬化型の開始剤としては公知のものを用いることができる。例えば、紫外線硬化型の開始剤としては、ジアゾニウム塩、ジアリールヨードニウム塩、トリアリルスルホニウム塩、トリアリルセレニウム塩などを用いることができ、熱硬化型の開始剤としては、ルイス酸錯体、ジシアンジアミド、イミダール化合物、有機酸ヒドラジド、ジアミンノマレオニトリル、ポリアミン塩、アミンイミド化合物などを用いることができる。   The moisture 60 easily enters the hole 15b of the alignment film 15 by capillary action. Such moisture 60 cannot be completely removed even by heat treatment. The sealing material 52 polymerizes and cures the epoxy monomer 520. In order to accelerate the curing reaction, the sealing material 52 often includes an ultraviolet curable initiator or a thermosetting initiator. The ultraviolet curable initiator is an initiator that accelerates the curing reaction by ultraviolet rays, and the thermosetting initiator is an initiator that accelerates the curing reaction by heating. As the ultraviolet curable initiator and the thermosetting initiator, known ones can be used. For example, diazonium salts, diaryliodonium salts, triallylsulfonium salts, triallyl selenium salts and the like can be used as ultraviolet curable initiators, and Lewis acid complexes, dicyandiamides, imidazoles can be used as thermosetting initiators. A compound, an organic acid hydrazide, a diamine nomaleonitrile, a polyamine salt, an amine imide compound, or the like can be used.

これらの開始剤の多くは、ラジカル重合やカチオン重合によってシール材52の硬化反応を促進するが、これらの反応は、大気中若しくは液晶装置中に含まれる水分によって反応阻害を受け易い。硬化反応が阻害されると、シール材52の未硬化成分が配向膜15や液晶中に溶出し、表示不良を生じさせる惧れがある。   Many of these initiators promote the curing reaction of the sealing material 52 by radical polymerization or cationic polymerization, but these reactions are likely to be hindered by moisture contained in the atmosphere or liquid crystal device. If the curing reaction is hindered, the uncured component of the sealing material 52 may elute into the alignment film 15 or the liquid crystal, causing a display failure.

例えば、図3では、紫外線硬化型の開始剤をシール材52の前駆体であるエポキシモノマー520に添加し、紫外線を照射してエポキシモノマー520を硬化(重合)させ、シール材52を形成している。この場合、配向膜15に含まれる水分60が、配向膜15と接する部分のシール材52の硬化反応を阻害する。また、配向膜15に含まれる水分60は、一部が蒸発してシール材52の近傍を浮遊し、シール材52の表面の硬化反応を阻害する。よって、シール材52は、配向膜15と接する部分と液晶と接する部分との双方に未硬化部分521を含むことになる。配向膜15と接する部分521から溶出した未硬化成分は、シール材52の近傍の液晶の配向を乱す原因となる。液晶と接する部分521から溶出した未硬化成分は、イオン性不純物となって表示の焼きつき等の原因となる。   For example, in FIG. 3, an ultraviolet curable initiator is added to the epoxy monomer 520 that is a precursor of the sealing material 52, and the ultraviolet light is irradiated to cure (polymerize) the epoxy monomer 520 to form the sealing material 52. Yes. In this case, the moisture 60 contained in the alignment film 15 inhibits the curing reaction of the sealing material 52 in the portion in contact with the alignment film 15. Further, the moisture 60 contained in the alignment film 15 partially evaporates and floats in the vicinity of the sealing material 52, thereby inhibiting the curing reaction on the surface of the sealing material 52. Therefore, the sealing material 52 includes the uncured portion 521 in both the portion in contact with the alignment film 15 and the portion in contact with the liquid crystal. The uncured component eluted from the portion 521 in contact with the alignment film 15 causes the liquid crystal alignment in the vicinity of the sealing material 52 to be disturbed. The uncured component eluted from the portion 521 in contact with the liquid crystal becomes an ionic impurity and causes display burn-in.

一方、図4のように、シール材52に湿気硬化型の開始剤を添加した場合を考える。湿気硬化型の開始剤は、水分を吸収して硬化反応を促進させる開始剤である。図4では、紫外線硬化型の開始剤と湿気硬化型の開始剤とをシール材52の前駆体であるエポキシモノマー525に添加し、紫外線を照射してエポキシモノマー525を硬化(重合)させ、シール材52を形成している。この場合、水分60は、紫外線硬化型の開始剤によるシール材52の硬化反応を阻害するが、湿気硬化型の開始剤によるシール材52の硬化反応は促進する。湿気硬化型の開始剤は、シール材52に含まれる紫外線硬化型の開始剤において硬化反応を十分に促進できない部分を補う。そのため、湿気硬化型の開始剤を含まない図3の構成に比べて、シール材52の硬化不良を抑制することができる。特に、湿気硬化型の開始剤は、シール材52の表面から水分を吸収するため、シール材52の表面において硬化反応が促進される。そのため、液晶への不純物の溶出が問題となるシール材52の表面の硬化不良が抑制され、信頼性の高い液晶装置が提供される。   On the other hand, as shown in FIG. The moisture-curing type initiator is an initiator that absorbs moisture and accelerates the curing reaction. In FIG. 4, an ultraviolet curable initiator and a moisture curable initiator are added to the epoxy monomer 525, which is a precursor of the sealing material 52, and the epoxy monomer 525 is cured (polymerized) by irradiating ultraviolet rays. A material 52 is formed. In this case, the moisture 60 inhibits the curing reaction of the sealing material 52 by the ultraviolet curing initiator, but accelerates the curing reaction of the sealing material 52 by the moisture curing initiator. The moisture curable initiator supplements a portion of the ultraviolet curable initiator contained in the sealing material 52 that cannot sufficiently accelerate the curing reaction. Therefore, it is possible to suppress poor curing of the sealing material 52 as compared with the configuration of FIG. 3 that does not include a moisture curable initiator. In particular, the moisture-curing initiator absorbs moisture from the surface of the sealing material 52, so that the curing reaction is promoted on the surface of the sealing material 52. For this reason, poor curing of the surface of the sealing material 52 in which elution of impurities into the liquid crystal is a problem is suppressed, and a highly reliable liquid crystal device is provided.

湿気硬化型の開始剤としては公知のものを用いることができる。例えば、エポキシ樹脂を主成分とするシール材52を用いた場合、湿気硬化型の開始剤として、ケチミン化合物やアルジミン化合物等のイミン化合物を用いることができる。イミン化合物は、エポキシ樹脂や、イソシアネート末端のウレタンプレポリマーなどの潜在性硬化剤として知られており、空気中の湿気と反応して加水分解することにより、活性水素を有するアミン化合物が生成する。そして、このアミン化合物が、エポキシ樹脂や、イソシアネート末端のウレタンプレポリマーなどと反応して硬化が生じる。   As the moisture curable initiator, known ones can be used. For example, when the sealing material 52 mainly composed of an epoxy resin is used, an imine compound such as a ketimine compound or an aldimine compound can be used as a moisture curing type initiator. The imine compound is known as a latent curing agent such as an epoxy resin or an isocyanate-terminated urethane prepolymer, and reacts with moisture in the air to hydrolyze to produce an amine compound having active hydrogen. Then, the amine compound reacts with an epoxy resin, an isocyanate-terminated urethane prepolymer, or the like to cause curing.

本実施形態の場合、湿気硬化型の開始剤として、ケチミン化合物が用いられる。ケチミン化合物は、式(1)で表される物質である。   In the case of this embodiment, a ketimine compound is used as a moisture curing type initiator. The ketimine compound is a substance represented by the formula (1).

Figure 0005556313
Figure 0005556313

ケチミン化合物は、脂肪族ポリアミン(例えば、DETA(ジエチレントリアミン),TETA(トリエチレンテトラミン)、m−XDA(キシリレンジアミン)など)とケトン(例えば、MEK(メチルエチルケトン)、MIBK(メチルイソブチルケトン)など)から合成される。ケチミン化合物を開始剤としてエポキシ樹脂に添加すると、ケチミン化合物が大気中若しくは液晶装置中の水分を吸収して、式(2)の逆反応によってポリアミンが再生する。そして、式(3)に従って常温で硬化が進行する。この場合、硬化反応に加熱処理などの特別な処理を必要としない。そのため、従来のプロセスを殆ど変更することなく、確実に硬化処理を行うことができる。   Ketimine compounds include aliphatic polyamines (eg, DETA (diethylenetriamine), TETA (triethylenetetramine), m-XDA (xylylenediamine), etc.) and ketones (eg, MEK (methyl ethyl ketone), MIBK (methyl isobutyl ketone), etc.) Is synthesized from When the ketimine compound is added to the epoxy resin as an initiator, the ketimine compound absorbs moisture in the air or in the liquid crystal device, and the polyamine is regenerated by the reverse reaction of the formula (2). And hardening advances at normal temperature according to Formula (3). In this case, special treatment such as heat treatment is not required for the curing reaction. Therefore, the curing process can be reliably performed with almost no change in the conventional process.

Figure 0005556313
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なお、図4では、シール材52(エポキシモノマー525)に紫外線硬化型の開始剤と湿気硬化型の開始剤を添加した。しかし、シール材52に添加する開始剤はこれに限定されない。例えば、紫外線硬化型の開始剤を除いて湿気硬化型の開始剤のみをシール材52に添加することもできる。しかし、湿気硬化型の開始剤によるシール材52の硬化速度は、あまり速くない。そのため、湿気硬化型の開始剤を単独で用いるよりも、硬化速度の速い紫外線硬化型の開始剤と併用することが望ましい。紫外線硬化型の開始剤は、ラジカル重合やカチオン重合などを伴うが、これらの反応は水分によって反応阻害を受け易い。よって、紫外線硬化型の開始剤と湿気硬化型の開始剤とを併用することで、相互の弱点を補完し、迅速且つ確実な硬化処理を行うことができる。   In FIG. 4, an ultraviolet curable initiator and a moisture curable initiator were added to the sealing material 52 (epoxy monomer 525). However, the initiator added to the sealing material 52 is not limited to this. For example, only the moisture curable initiator can be added to the sealing material 52 except for the ultraviolet curable initiator. However, the curing rate of the sealing material 52 by the moisture curing type initiator is not so fast. Therefore, it is desirable to use in combination with an ultraviolet curable initiator having a high curing rate, rather than using a moisture curable initiator alone. The ultraviolet curable initiator is accompanied by radical polymerization, cationic polymerization, and the like, but these reactions are likely to be inhibited by moisture. Therefore, by using an ultraviolet curable initiator and a moisture curable initiator in combination, the mutual weaknesses can be complemented and a rapid and reliable curing process can be performed.

シール材52に添加する開始剤としては、熱硬化型の開始剤を用いることもできる。すなわち、図4においては、熱硬化型の開始剤と湿気硬化型の開始剤とをシール材52(エポキシモノマー525)に添加しても良い。熱硬化型の開始剤は、加熱によって硬化反応を促進する開始剤である。TFTアレイ基板10を加熱すると、TFTアレイ基板10に含まれる水分60が外部に放出され、その水分60によって硬化反応が阻害される場合がある。よって、熱硬化型の開始剤と湿気硬化型の開始剤とを併用することで、相互の弱点を補完し、迅速且つ確実な硬化処理を行うことができる。   As the initiator added to the sealing material 52, a thermosetting initiator can also be used. That is, in FIG. 4, a thermosetting initiator and a moisture curable initiator may be added to the sealing material 52 (epoxy monomer 525). A thermosetting initiator is an initiator that accelerates a curing reaction by heating. When the TFT array substrate 10 is heated, moisture 60 contained in the TFT array substrate 10 is released to the outside, and the moisture 60 may inhibit the curing reaction. Therefore, by using a thermosetting initiator and a moisture curable initiator in combination, the mutual weaknesses can be complemented and a quick and reliable curing process can be performed.

図示は省略したが、対向基板20のTFTアレイ基板10と対向する対向面にも多孔質膜からなる無機配向膜が形成されている。対向基板20の無機配向膜に含まれる水分もシール材の硬化反応に影響を与える。   Although not shown, an inorganic alignment film made of a porous film is also formed on the opposing surface of the counter substrate 20 facing the TFT array substrate 10. Water contained in the inorganic alignment film of the counter substrate 20 also affects the curing reaction of the sealing material.

シール材52に添加する湿気硬化型の開始剤の濃度(wt%)は、TFTアレイ基板10及び対向基板20に含まれる水分の量や、シール材52に添加する他の開始剤の濃度などとの兼ね合いによって決められる。湿気硬化型の開始剤の濃度が1wt%以上15wt%以下であれば、シール材52の硬化不良を十分に抑制することができる。   The concentration (wt%) of the moisture curable initiator added to the sealing material 52 is the amount of moisture contained in the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20, the concentration of other initiators added to the sealing material 52, and the like. It is decided by the balance. If the concentration of the moisture curable initiator is 1 wt% or more and 15 wt% or less, the curing failure of the sealing material 52 can be sufficiently suppressed.

TFTアレイ基板10及び対向基板20に含まれる水分の量が多い場合には、湿気硬化型の開始剤の濃度を他の開始剤、例えば、紫外線硬化型の開始剤又は熱硬化型の開始剤の濃度よりも大きくすることが望ましい。TFTアレイ基板10及び対向基板20に含まれる水分の量が少ない場合には、湿気硬化型の開始剤の濃度を他の開始剤の濃度と同程度に設定することができる。例えば、湿気硬化型の開始剤と紫外線硬化型の開始剤と熱硬化型の開始剤とを併用した場合には、それぞれの濃度を互いに等しくすれば良い。具体的には、各開始剤の濃度を3wt%以上7wt%以下に設定すればよい。   When the amount of moisture contained in the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 is large, the concentration of the moisture curable initiator is set to other initiators, for example, an ultraviolet curable initiator or a thermosetting initiator. It is desirable to make it larger than the concentration. When the amount of moisture contained in the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 is small, the concentration of the moisture curable initiator can be set to the same level as the concentration of other initiators. For example, when a moisture curable initiator, an ultraviolet curable initiator, and a thermosetting initiator are used in combination, the respective concentrations may be equal to each other. Specifically, the concentration of each initiator may be set to 3 wt% or more and 7 wt% or less.

なお、本実施形態では、配向膜15を無機配向膜としたが、有機配向膜を用いた場合でも、シール材52に湿気硬化型の開始剤を添加することにより同様の効果が得られる。有機配向膜は無機配向膜と異なり、多孔質膜ではないため、水分60を内部に含有する惧れは少ない。しかし、液晶装置の製造プロセスでは、エッチング工程や洗浄工程などの種々の工程を必要とするため、何らかの原因でTFTアレイ基板10や対向基板20に水分が浸入することは避けられない。よって、このような水分によってシール材52の硬化反応が阻害されることは十分に考えられる。その場合、シール材52に湿気硬化型の開始剤が含まれていれば、TFTアレイ基板10等に付着した水分によってシール材52の硬化反応が阻害されることを抑制することができる。   In this embodiment, the alignment film 15 is an inorganic alignment film. However, even when an organic alignment film is used, the same effect can be obtained by adding a moisture-curing initiator to the sealing material 52. Unlike the organic alignment film, the organic alignment film is not a porous film, so there is little possibility of containing moisture 60 therein. However, since the liquid crystal device manufacturing process requires various processes such as an etching process and a cleaning process, it is inevitable that moisture enters the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 for some reason. Therefore, it is fully conceivable that the curing reaction of the sealing material 52 is inhibited by such moisture. In that case, if the moisture curable initiator is included in the sealing material 52, it is possible to suppress the curing reaction of the sealing material 52 from being inhibited by moisture adhering to the TFT array substrate 10 or the like.

図5は、本発明の電子機器の一実施形態である投射型表示装置800の概略構成図である。投射型表示装置800は、本発明の液晶装置を光変調手段として備えたものである。   FIG. 5 is a schematic configuration diagram of a projection display device 800 which is an embodiment of the electronic apparatus of the present invention. The projection display device 800 includes the liquid crystal device of the present invention as a light modulation means.

810は光源、813、814はダイクロイックミラー、815、816、817は反射ミラー、818は入射レンズ、819はリレーレンズ、820は出射レンズ、822、823、824は本発明の液晶装置からなる光変調手段、825はクロスダイクロイックプリズム、826は投射レンズである。光源810は、メタルハライド等のランプ811とランプの光を反射するリフレクタ812とからなる。   810 is a light source, 813 and 814 are dichroic mirrors, 815, 816 and 817 are reflection mirrors, 818 is an entrance lens, 819 is a relay lens, 820 is an exit lens, and 822, 823 and 824 are light modulations comprising the liquid crystal device of the present invention. Means, 825 is a cross dichroic prism, and 826 is a projection lens. The light source 810 includes a lamp 811 such as a metal halide and a reflector 812 that reflects the light of the lamp.

ダイクロイックミラー813は、光源810からの白色光に含まれる赤色光を透過させるとともに、青色光と緑色光とを反射する。透過した赤色光は反射ミラー817で反射されて、赤色光用光変調手段822に入射される。また、ダイクロイックミラー813で反射された緑色光は、ダイクロイックミラー814によって反射され、緑色光用光変調手段823に入射される。さらに、ダイクロイックミラー813で反射された青色光は、ダイクロイックミラー814を透過する。青色光に対しては、長い光路による光損失を防ぐため、入射レンズ818、リレーレンズ819および出射レンズ820を含むリレーレンズ系からなる導光手段821が設けられている。この導光手段821を介して、青色光が青色光用光変調手段824に入射される。なお、上記各光変調手段822,823,824には、上記実施形態の液晶装置が採用されている。   The dichroic mirror 813 transmits red light contained in white light from the light source 810 and reflects blue light and green light. The transmitted red light is reflected by the reflection mirror 817 and is incident on the light modulation means 822 for red light. The green light reflected by the dichroic mirror 813 is reflected by the dichroic mirror 814 and is incident on the light modulating means 823 for green light. Further, the blue light reflected by the dichroic mirror 813 passes through the dichroic mirror 814. For blue light, in order to prevent light loss due to a long optical path, a light guide means 821 comprising a relay lens system including an incident lens 818, a relay lens 819, and an exit lens 820 is provided. Blue light is incident on the light modulating means 824 for blue light through the light guiding means 821. Note that the liquid crystal device of the above embodiment is employed for each of the light modulation means 822, 823, and 824.

各光変調手段により変調された3つの色光は、クロスダイクロイックプリズム825に入射する。このクロスダイクロイックプリズム825は4つの直角プリズムを貼り合わせたものであり、その界面には赤光を反射する誘電体多層膜と青光を反射する誘電体多層膜とがX字状に形成されている。これらの誘電体多層膜により3つの色光が合成されて、カラー画像を表す光が形成される。合成された光は、投射光学系である投射レンズ826によってスクリーン827上に投影され、画像が拡大されて表示される。   The three color lights modulated by the respective light modulation means are incident on the cross dichroic prism 825. The cross dichroic prism 825 is formed by bonding four right-angle prisms. A dielectric multilayer film that reflects red light and a dielectric multilayer film that reflects blue light are formed in an X shape at the interface. Yes. These dielectric multilayer films combine the three color lights to form light representing a color image. The synthesized light is projected onto the screen 827 by the projection lens 826 which is a projection optical system, and the image is enlarged and displayed.

以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施の形態例について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。   The preferred embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, but it goes without saying that the present invention is not limited to such examples. Various shapes, combinations, and the like of the constituent members shown in the above-described examples are examples, and various modifications can be made based on design requirements and the like without departing from the gist of the present invention.

本発明の液晶装置は、投射型表示装置の光変調手段に限らず、液晶テレビ、ヘッドマウントディスプレイ、ヘッドアップディスプレイ、電子ブック、パーソナルコンピュータ、ディジタルスチルカメラ、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた機器等々の画像表示手段として好適に用いることができ、いずれにおいても信頼性が高く表示品質に優れた電子機器を提供することができる。   The liquid crystal device of the present invention is not limited to the light modulation means of the projection type display device, but is a liquid crystal television, head mounted display, head up display, electronic book, personal computer, digital still camera, viewfinder type or monitor direct view type video tape. It can be used suitably as an image display means for recorders, car navigation devices, pagers, electronic notebooks, calculators, word processors, workstations, videophones, POS terminals, devices with touch panels, etc. An electronic device with excellent quality can be provided.

10…TFTアレイ基板、15…配向膜(多孔質膜)、20…対向基板、52…シール材、100…液晶装置、800…投射型表示装置(電子機器) DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... TFT array substrate, 15 ... Alignment film (porous film), 20 ... Counter substrate, 52 ... Sealing material, 100 ... Liquid crystal device, 800 ... Projection type display device (electronic device)

Claims (8)

一対の基板と、
前記一対の基板を貼り合わせるシール材と、
前記一対の基板のうちの少なくとも一方の基板の他方の基板との対向面側に形成された多孔質膜とを備え、
前記シール材は、エポキシ樹脂を含むと共に、湿気硬化型の開始剤と紫外線硬化型の開始剤とを含むことを特徴とする液晶装置。
A pair of substrates;
A sealing material for bonding the pair of substrates;
A porous film formed on a surface facing the other substrate of at least one of the pair of substrates;
The sealing material includes an epoxy resin and a moisture curable initiator and an ultraviolet curable initiator .
一対の基板と、A pair of substrates;
前記一対の基板を貼り合わせるシール材と、A sealing material for bonding the pair of substrates;
前記一対の基板のうちの少なくとも一方の基板の他方の基板との対向面側に形成された多孔質膜とを備え、A porous film formed on a surface facing the other substrate of at least one of the pair of substrates;
前記シール材は、エポキシ樹脂を含むと共に、湿気硬化型の開始剤と熱硬化型の開始剤とを含むことを特徴とする液晶装置。The sealing material includes an epoxy resin and a moisture curable initiator and a thermosetting initiator.
前記湿気硬化型の開始剤はケチミン化合物からなることを特徴とする請求項1に記載の液晶装置。 The liquid crystal device according to claim 1, wherein the moisture curable initiator is made of a ketimine compound. 前記シール材における前記湿気硬化型の開始剤の濃度が、前記シール材における前記紫外線硬化型の開始剤の濃度よりも大きいことを特徴とする請求項に記載の液晶装置。 The liquid crystal device according to claim 1, wherein the concentration of said in the sealing material moisture-curing initiators, and greater than the concentration of the ultraviolet curable initiators in the sealing material. 前記シール材における前記湿気硬化型の開始剤の濃度が、前記シール材における前記熱硬化型の開始剤の濃度よりも大きいことを特徴とする請求項に記載の液晶装置。 3. The liquid crystal device according to claim 2 , wherein a concentration of the moisture curable initiator in the sealing material is higher than a concentration of the thermosetting initiator in the sealing material. 前記シール材における前記湿気硬化型の開始剤の濃度が1wt%以上15wt%以下であることを特徴とする請求項のいずれか1項に記載の液晶装置。 The liquid crystal device according to any one of claims 1 to 5, wherein the concentration of the moisture-curable initiators in the sealing material is less than 1 wt% or more 15 wt%. 前記シール材は前記多孔質膜と接していることを特徴とする請求項1に記載の液晶装置。   The liquid crystal device according to claim 1, wherein the sealing material is in contact with the porous film. 請求項1〜のいずれか1項に記載の液晶装置を備えていることを特徴とする電子機器。 An electronic apparatus characterized by comprising a liquid crystal device according to any one of claims 1-7.
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