JP5560779B2 - Method for manufacturing multilayer circuit board with through via filled with conductive material - Google Patents
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Description
本発明は、複数層の樹脂フィルムを重ね合わせて形成され、各層間の配線パターン同士の電気的な接続が貫通ビアに充填した導電材料によって行なわれている多層回路基板の製造方法に関するものである。 The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer circuit board in which a plurality of layers of resin films are overlaid and an electrical connection between wiring patterns between layers is performed by a conductive material filled in through vias. .
従来より、例えば、配線パターンが形成された複数層の樹脂フィルムを重ね合わせたのち、加熱・圧縮することにより多層回路基板を形成している。この多層回路基板では、各層間の配線パターン同士の電気的な接続を行うために、レーザ加工機等によって多層回路基板にビアホールを開けたのち、金属を溶剤で錬ってペースト状にした導電材料(以下、導電ペーストという)をビアホール内に充填し、導電ペースト内の金属を焼結するという手法が採られている(例えば、特許文献1、2参照)。
2. Description of the Related Art Conventionally, for example, a multilayer circuit board is formed by stacking a plurality of resin films on which wiring patterns are formed, and then heating and compressing. In this multilayer circuit board, a conductive material made by pasting a via hole in the multilayer circuit board with a laser processing machine, etc., and then kneading the metal with a solvent to make electrical connection between the wiring patterns of each layer A method of filling a via hole (hereinafter referred to as a conductive paste) into a via hole and sintering a metal in the conductive paste is employed (see, for example,
ビアホールには、多層回路基板を貫通する貫通ビアと導線回路にて構成された底面(以下、ビア底という)が存在する有底ビアがある。有底ビアでは、導電ペーストをビアホール内に充填したときに、ビア底によって導電ペーストが堰き止められるため、導電ペーストがビアホールの充填入口と反対側から抜け落ちることはない。しかしながら、貫通ビアでは、導電ペーストがビアホールの充填入口と反対側から抜け落ちてしまうことがある。 In the via hole, there is a bottomed via having a through via penetrating the multilayer circuit board and a bottom surface (hereinafter referred to as a via bottom) constituted by a conductive circuit. In the bottomed via, when the conductive paste is filled in the via hole, the conductive paste is blocked by the via bottom, so that the conductive paste does not fall off from the side opposite to the via hole filling entrance. However, in the through via, the conductive paste may fall off from the side opposite to the via hole filling entrance.
例えば、導電ペーストとしては、銀や錫の金属粉末とテレピネなどの高粘度溶剤から構成されの擬粘性流体が用いられている。また、微細な貫通ビア(開口径Φ150〜300μm、深さ100〜250μm)への導電ペーストの充填方法としては、スキージ印刷が採用されている(例えば、特許文献1参照)。具体的には、多層回路基板の被充填面の反対側の面を吸着プレート上に設置すると共に、吸着プレートによる吸気によって貫通ビア内の空気を排気し、被充填面から導電ペーストをスキージで押し込むことで、内部空気の存在による充填不良を抑制しつつ、導電ペーストの貫通ビアへの充填が行えるようにしている。
For example, as the conductive paste, a pseudo-viscous fluid composed of a silver or tin metal powder and a high viscosity solvent such as terpine is used. In addition, squeegee printing is employed as a method of filling a conductive paste into a fine through via (opening diameter Φ150 to 300 μm,
しかしながら、貫通ビアの開口径に対して多層回路基板の厚みが薄く(貫通ビアの深さが浅く)なると、スキージ印刷がマスク印刷のような状態となって、吸着プレート等に導電ペーストが付着してしまい、多層回路基板を吸着プレートから剥がすときに貫通ビアから抜けてしまうという問題がある。特に、多層回路基板の厚みdが50μm以下で、開口径がΦ150μm、つまり厚みdの1/3倍以下になると全く導電ペーストを貫通ビアに充填することができないことが確認されている。このため、多層回路基板の厚みdを開口径に合せて厚くするなどが必要となって、高集積化の阻害要因になったり、多層回路基板のコストアップを招くという問題が生じている。 However, when the thickness of the multilayer circuit board is reduced with respect to the opening diameter of the through via (the depth of the through via is shallow), the squeegee printing becomes like mask printing, and the conductive paste adheres to the suction plate or the like. Therefore, there is a problem that when the multilayer circuit board is peeled from the suction plate, the multilayer via is removed from the through via. In particular, when the thickness d of the multilayer circuit board is 50 μm or less and the opening diameter is 150 μm, that is, 1/3 times or less of the thickness d, it has been confirmed that the conductive paste cannot be filled in the through via at all. For this reason, it is necessary to increase the thickness d of the multilayer circuit board in accordance with the opening diameter, which causes a problem of inhibiting high integration and increasing the cost of the multilayer circuit board.
また、導電ペーストを貫通ビアに充填したあと、貫通ビアからはみ出した余剰部分は、スキージによって擦り取られる。この余剰の導電ペースト(以下、無効ペーストという)内にも銀や錫の金属粉末が含まれているため、その分の金属粉末が使用されることなく廃棄されることになる。このため、無効ペースト内に含まれる金属材料の量を低減できるようにすることが望まれる。 Further, after the conductive paste is filled in the through via, the surplus portion protruding from the through via is scraped off by the squeegee. Since this surplus conductive paste (hereinafter referred to as “invalid paste”) contains silver or tin metal powder, the metal powder is discarded without being used. For this reason, it is desirable to be able to reduce the amount of metal material contained in the invalid paste.
本発明は上記点に鑑みて、多層回路基板に形成された貫通ビアに対して充填される導電材料が抜け落ちることを防止できると共に、無効となる導電材料内に含まれる金属粉末を低減できる多層回路基板の製造方法を提供することを目的とする。 In view of the above, the present invention can prevent a conductive material filled in a through via formed in a multilayer circuit board from falling off and reduce a metal powder contained in an invalid conductive material. An object is to provide a method for manufacturing a substrate.
上記目的を達成するため、請求項1に記載の発明では、多層回路基板(10)を溶剤吸着シート(21b)上に設置する設置工程と、多層回路基板(10)を加熱する加熱工程と、導電材料(1)を加熱された多層回路基板(10)に接触させることで溶融させる溶融工程と、導電材料(1)が充填された充填スキージホルダ(31)と該充填スキージホルダ(31)を収容するケース(32)とを有する充填ヘッド(30)を用いて、ケース(32)内において充填スキージホルダ(31)を揺動させて溶融させられた前記導電材料(1)を刷り込む揺動攪拌動作を行うことで貫通ビア(11)内に充填しつつ、導電材料(1)に含まれる溶剤を溶剤吸着シート(21b)に吸着させる充填工程と、貫通ビア(11)への導電材料(1)の充填が完了したのち、貫通ビア(11)内に充填された導電材料(1)を固化させる固化工程と、導電材料(1)が固化してから、多層回路基板(10)から溶剤吸着シート(21b)を剥離させる剥離工程と、を含むことを特徴としている。
In order to achieve the above object, in the invention according to
このように、溶剤吸着シート(21b)上に多層回路基板(10)を設置し、貫通ビア(11)に対して導電材料(1)の充填を行えるようにしている。このため、導電材料(1)の溶剤が溶剤吸着シート(21b)内に吸着され、貫通ビア(11)内において導電材料(1)に含まれる金属粉末が濃縮されて必要量残るようにできる。これにより、溶剤の比率に対して金属粉末の比率を低減することが可能となり、無効となる導電材料(1)内に含まれる金属材料の量を低減することが可能となる。 Thus, the multilayer circuit board (10) is installed on the solvent adsorption sheet (21b) so that the conductive material (1) can be filled in the through via (11). For this reason, the solvent of the conductive material (1) is adsorbed in the solvent adsorbing sheet (21b), and the metal powder contained in the conductive material (1) is concentrated in the through via (11) so that a necessary amount remains. Thereby, it becomes possible to reduce the ratio of the metal powder to the ratio of the solvent, and it becomes possible to reduce the amount of the metal material contained in the conductive material (1) which becomes ineffective.
また、導電材料(1)を室温で固化する材料で構成しているため、貫通ビア(11)に導電材料(1)を充填したのち、多層回路基板(10)を冷却することで導電材料(1)を固化できる。したがって、導電材料(1)を固化してから多層回路基板(10)を溶剤吸着シート(21b)から剥離させることで、貫通ビア(11)から導電材料(1)が抜け落ちることを防止することができる。 Further, since the conductive material (1) is made of a material that solidifies at room temperature, the conductive material (1) is filled in the through via (11), and then the multilayer circuit board (10) is cooled to thereby remove the conductive material ( 1) can be solidified. Therefore, it is possible to prevent the conductive material (1) from falling off from the through via (11) by separating the multilayer circuit board (10) from the solvent adsorption sheet (21b) after the conductive material (1) is solidified. it can.
よって、多層回路基板(10)に形成された貫通ビア(11)に対して充填される導電材料(1)が抜け落ちることを防止できると共に、無効となる導電材料(1)内に含まれる金属粉末を低減することが可能となる。 Therefore, it is possible to prevent the conductive material (1) filled with respect to the through via (11) formed in the multilayer circuit board (10) from falling off, and the metal powder contained in the invalid conductive material (1). Can be reduced.
請求項2に記載の発明では、溶剤吸着シート(21)から剥離した多層回路基板(10)の表裏面の両面に、配線パターン形成用の金属層(12a、12b)を形成する工程と、金属層(12a、(12b)の表面に、貫通ビア(11)内に配置された導電材料(1)を覆うパターンを有するエッチングマスク(13a、13b)を形成するマスク形成工程と、マスク形成工程にて形成したエッチングマスク(13a、13b)を利用したエッチングを行い、多層回路基板(10)の表裏面の両面において金属層(12a、12b)を同時にエッチングすることで配線パターンを形成する工程と、配線パターンを形成した後、エッチングマスク(13a、13b)を除去する工程と、を含むことを特徴としている。 In the invention according to claim 2, a step of forming metal layers (12a, 12b) for forming a wiring pattern on both surfaces of the front and back surfaces of the multilayer circuit board (10) peeled from the solvent adsorption sheet (21), A mask forming step of forming an etching mask (13a, 13b) having a pattern covering the conductive material (1) disposed in the through via (11) on the surface of the layer (12a, (12b); Forming a wiring pattern by simultaneously etching the metal layers (12a, 12b) on both the front and back surfaces of the multilayer circuit board (10), using the etching mask (13a, 13b) formed And a step of removing the etching mask (13a, 13b) after forming the wiring pattern.
このように、溶剤吸着シート(21)から剥離した多層回路基板(10)の表裏面に対して配線パターンを形成することで、最終的に多層回路基板(10)を完成することができる。このとき、配線パターンを形成するためのエッチングを表裏面の両面に形成された金属層(12a、12b)に対して一度に行うようにしているため、表裏面で別々にエッチングを行う場合と比較してエッチング工程の簡略化を図ることができ、製造工程の削減を図ることが可能となる。 Thus, a multilayer circuit board (10) can be finally completed by forming a wiring pattern with respect to the front and back of the multilayer circuit board (10) peeled from the solvent adsorption sheet (21). At this time, since the etching for forming the wiring pattern is performed at once on the metal layers (12a, 12b) formed on both the front and back surfaces, the etching is separately performed on the front and back surfaces. Thus, the etching process can be simplified and the manufacturing process can be reduced.
例えば、請求項3に記載したように、設置工程では、搭載面(21a)を有する充填ベース(21)の搭載面(21a)に溶剤吸着シート(21b)を介して多層回路基板(10)を設置し、加熱工程では、充填ベース(21)を加熱することにより、多層回路基板(10)の加熱を行い、溶融工程では、充填ベース(21)の加熱によって加熱された多層回路基板(10)によって導電材料(1)を溶融させ、充填工程では、多層配線基板(10)および溶剤吸着シート(21b)を充填ベース(21)の搭載面(21a)上に載せた状態で貫通ビア(11)への導電材料(1)の充填を行うことができる。
For example, as described in
請求項4に記載の発明では、固化工程は、充填ベース(21)の搭載面(21a)に溶剤吸着シート(21b)と共に多層回路基板(10)を配置したままの状態で、貫通ビア(11)内に充填された導電材料(1)の放熱によって行うことを特徴としている。このようにすれば、充填後に導電材料(1)を容易に固化できる。 In the invention according to claim 4, the solidification step is performed with the through-via (11) in a state where the multilayer circuit board (10) is disposed on the mounting surface (21 a) of the filling base (21) together with the solvent adsorption sheet (21 b). ) Is performed by heat dissipation of the conductive material (1) filled therein. In this way, the conductive material (1) can be easily solidified after filling.
また、請求項5に記載したように、設置工程では、搭載面(21a)から該搭載面(21a)に搭載された溶剤吸着シート(21b)および多層回路基板(10)を吸着することにより、溶剤吸着シート(21b)および多層回路基板(10)を充填ベース(21)にて保持することができる。 Further, as described in claim 5, in the installation step, by adsorbing the solvent adsorption sheet (21b) and the multilayer circuit board (10) mounted on the mounting surface (21a) from the mounting surface (21a), The solvent adsorption sheet (21b) and the multilayer circuit board (10) can be held by the filling base (21).
なお、上記各手段の括弧内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示すものである。 In addition, the code | symbol in the bracket | parenthesis of each said means shows the correspondence with the specific means as described in embodiment mentioned later.
以下、本発明の実施形態について図に基づいて説明する。なお、以下の各実施形態相互において、互いに同一もしくは均等である部分には、図中、同一符号を付してある。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following embodiments, the same or equivalent parts are denoted by the same reference numerals in the drawings.
(第1実施形態)
図1は、本実施形態にかかる貫通ビアへの導電材料充填装置100の部分断面側面図である。図2は、図1中A−A線上における矢視部分断面図である。図3は、図2中B−B線上における矢視部分断面図である。
(First embodiment)
FIG. 1 is a partial cross-sectional side view of a conductive
図1に示す導電材料充填装置100は、導電材料としての導電ペースト1をワークに相当する多層回路基板10に形成された貫通ビア11内に充填する装置である。本実施形態の導電材料充填装置100は、ワーク保持機構部20と、ペースト充填ヘッド30と、充填ヘッド送り機構40およびこれらを制御する図示しないコントローラ等によって構成されている。
A conductive
導電ペースト1は、本実施形態では、スティック状(棒状)とされたスティックペーストとされており、ペースト充填ヘッド30内に内蔵されている。導電ペースト1は、室温で固体状態となり、かつ、加熱によって溶融する高融点ペーストで構成され、例えば、従来より使用されている銀や錫の粉末に融点が43℃のパラフィンを3〜10wt%(例えば8wt%)加えて練り固め、スティック状にすることにより形成される。この導電ペースト1が、後述するように、ペースト充填ヘッド30内において多層回路基板10の一面側に供給できる形態でセットされている。
In this embodiment, the
多層回路基板10は、配線パターンが形成された複数層の樹脂フィルムを重ね合わせたのち、加熱・圧縮することにより形成されている。多層回路基板10には、各層の配線パターン同士を電気的に接続するための貫通ビア11が形成されている。本実施形態にかかる導電材料充填装置100は、この貫通ビア11内に導電ペースト1の充填を行う。本実施形態では、多層回路基板10として、例えば厚みが50μm、450mm□の対象エリア内において多数個取りが可能で、その対象エリア内に開口径Φ150で深さ50μmの貫通ビアが約4万個設けられているものが用いられている。
The
ワーク保持機構部20は、導電ペースト1を貫通ビア11内に充填する際に多層回路基板10を保持するために用いられる。このワーク保持機構部20は、充填ベース21、ワーク加熱ヒータ22、ベースプレート23、ベース支柱24、ワークチャック真空ポンプ25、待機ベース26および冷却機構27を有した構成とされている。
The
充填ベース21は、多層回路基板10が設置される搭載面21aを有し、搭載面21a上に設置された多層回路基板10を後述する吸着機構を用いて吸着することによって保持する。本実施形態では、充填ベース21の搭載面21aには、多層回路基板10との間に溶剤吸着シートとして機能する吸着紙21bが配置されている。充填ベース21では、吸着紙21bを吸着しつつ、吸着紙21b中の隙間を通じて多層回路基板10も吸着することで、吸着紙21b上において多層回路基板10を保持する。吸着紙21bは、導電ペースト1に用いられている溶剤を吸収できる材質のものであれば良く、一般的な上質紙などが用いられる。なお、吸着紙21bは、充填ベース21の一部を構成するものであるが、貫通ビア11内への導電ペースト1の充填に伴って溶剤が吸着紙21b内に吸収されるため、溶剤の吸収度合いに応じて適宜新しいものと交換される。
The filling
充填ベース21の吸着機構は、以下のように構成されている。図4に、充填ベース21および待機ベース26の上面模式図を示すと共に、図5に、図4のC−C断面図、図6に、図5のD−D矢視断面図を示し、充填ベース21の吸着機構について説明する。
The adsorption mechanism of the filling
図4に示されるように、充填ベース21の搭載面21aには、吸着溝21c、21dが形成されており、この吸着溝21c、21dを通じて吸着がなされる。吸着溝21cは、搭載面21aの外縁を囲むように形成され、吸着紙21bや多層回路基板10を外縁部において吸着可能としている。吸着溝21dは、環状溝で構成され、溝幅は例えば0.3mmとされている。これら吸着溝21cおよび吸着溝21dは、図5に示されるように充填ベース21の内側の連結空間21eに接続されている。吸着溝21dは、搭載面21aに形成された複数の円形孔内に、円形孔よりも溝幅分だけ半径が小さくされた円柱状部材21fを嵌め込むことにより構成されている。また、図5および図6に示されるように、連通空間21eのうち搭載面21aの裏面に相当する面には支持棒21gがネジ21hを介して締結され、この支持棒21gに各円柱状部材21fがビス21iを介して固定されている。そして、連通空間21eがワークチャック真空ポンプ25に接続されることで、連通空間21eを通じて吸着溝21c、21dからの吸着がなされる。このような構造により、充填ベース21の吸着機構が構成されている。
As shown in FIG. 4,
ワーク加熱ヒータ22は、図示しない電力供給源からの通電等に基づいて駆動され、充填ベース21の搭載面21a上に吸着紙21bを介して設置された多層回路基板10を加熱し、貫通ビア11内への充填時に多層回路基板10に接触させられた導電ペースト1を溶融させる。そして、ワーク加熱ヒータ22によって溶融させられた導電ペースト1を貫通ビア11内に充填する。本実施形態では、ワーク加熱ヒータ22は、設置面21aのうち多層回路基板10が配置される部分と対向する部分を加熱できるように、充填ベース21の下面の広範囲にわたって加熱できる構成とされている。
The
ベースプレート23は、充填ベース21や待機ベース26を水平状態に保持したり、ペースト充填ヘッド30を後述するように充填ベース21の搭載面21aに沿って移動可能にするための支持台である。ベース支柱24は、ベースプレート23上に充填ベース21および待機ベース26を支持するものである。このベース支柱24により、充填ベース21および待機ベース26が上面を揃えてベースプレート23に対して固定されている。
The
ワークチャック真空ポンプ25は、上述したように充填ベース21に設けられた吸着機構に接続され、真空吸引することにより、吸着溝21c、21dを通じて吸引紙21bおよび多層回路基板10の吸着を行う。
The work
待機ベース26は、多層回路基板10の貫通ビア11への導電ペースト1の充填前もしくは充填後の充填待機時に、ペースト充填ヘッド30を待機させておくためのものである。冷却機構27は、待機ベース26の内部に備えられ、待機ベース26の冷却を行う。冷却機構27は、例えば冷却水が循環できる構造とされる。この冷却機構27によって待機ベース26が冷却されるため、待機時に待機ベース26上にペースト充填ヘッド30を待機させると、待機ベース26によって導電ペースト1が冷却され、溶融されていた部分を再び固化させることができる。このような構造により、ワーク保持機構部20が構成されている。
The
ペースト充填ヘッド30は、導電ペースト1の保持と、多層回路基板10の貫通ビア11内への導電ペースト1の充填を行う。このペースト充填ヘッド30は、充填スキージホルダ31、ケース32、ケースプレート33、スキージホルダ駆動機構34およびスキージ機構35を有した構成とされている。
The
充填スキージホルダ31は、図3に示すように長円筒形状で構成され、内部にスティック状とされた導電ペースト1を保持するケースとして機能すると共に、導電ペースト1を貫通ビア11内に充填するときのスキージとして機能する。図1および図2に示すように、充填スキージホルダ31内には、プッシャ31aが備えられており、プッシャ31aにより導電ペースト1を充填ベース1の搭載面21aに対する垂直方向の移動させられるように構成されている。具体的には、充填スキージホルダ31におけるプッシャ31aよりも上部は、エア供給室31bが形成されている。このエア供給室31b内のエアの供給および引き抜きが図示しないエアポンプ等によって行え、プッシャ31aを多層回路基板10側に押圧したり、逆にプッシャ31aを多層回路基板10から離れる方向に移動させられるようになっている。また、充填スキージホルダ31のうち充填ベース21側の先端部によって充填スキージ31cが構成されている。この充填スキージ31cが、充填時に多層回路基板10の表面と接することで、導電ペースト1の刷り込みおよび余剰分の擦り取りを行う。
The filling
ケース32は、充填スキージホルダ31を収容すると共に、充填スキージホルダ31が移動できる空間Rを構成する。ケース32のうち多層回路基板10側の先端にはOリング32aが備えられ、ケース32内の空間Rが密閉空間とされている。ケースプレート33は、ケース32のうち多層回路基板10と反対側の先端に接続されている。ケース32のうちケースプレート33側の先端面にもOリング32bが備えられ、ケース32内の空間の密閉状態が保持されている。
The
スキージホルダ駆動機構34は、ケースプレート32に配置されており、揺動モータ34aや回転ガイド34b等を備えている。揺動モータ34aは、図示しない電源からの電力供給に基づいて駆動され、ケースプレート32に対して支柱34cを介して固定されたモータプレート34dに保持されている。この揺動モータ34aの回転軸には図示しない継ぎ手を介して偏揺動芯シャフト34eが接続され、偏揺動芯シャフト34eの先端の偏心部が充填スキージホルダ31の上端面の一端側(図2の紙面左側)に回転自在に嵌合されている。回転ガイド34bは、支柱34fを介して固定されたモータプレート34gに保持されている。この回転ガイド34bには回転自在な偏芯シャフト34hが取り付けられ、偏芯シャフト34hの先端の偏心部が充填スキージホルダ31の上端面の他端側(図2の紙面右側)に回転自在に嵌合されている。回転ガイド34bは、揺動モータ34aの回転に伴って従動回転させられる。
The squeegee
具体的には、偏揺動芯シャフト34eのうち偏心部よりも揺動モータ34a側に揺動タイミングプーリ34iが備えられていると共に、偏芯シャフト34hのうち偏心部よりも回転ガイド34b側にタイミングプーリ34jが備えられ、これらがタイミングベルト34kを通じて連結されている。このため、揺動モータ34aが回転させられて、偏揺動芯シャフト34eが回転させられると、それに伴って揺動タイミングプーリ34iやタイミングベルト34kおよびタイミングプーリ34jを介して偏芯シャフト34hも回転させられる。これにより、偏揺動芯シャフト34eおよび偏芯シャフト34hが連動して回転させられ、これらの偏心部に固定された充填スキージホルダ31がケース32の空間R内において偏心回転、すなわち図3中の紙面上下左右に揺動させられる。
Specifically, a swing timing pulley 34i is provided closer to the swing motor 34a than the eccentric portion of the
スキージ機構35は、充填スキージホルダ31の外部に設けられ、スキージ35a、スキージホルダ35bおよびスキージ昇降シリンダ35cを備えている。このスキージ機構35は、充填スキージ31cとは別部材で構成されたスキージ35aをスキージホルダ35bによって保持し、スキージ昇降シリンダ35cによってスキージホルダ35bと共にスキージ35aを昇降させるものである。このスキージ機構35により、貫通ビア11に対して導電ペースト1を充填した後、余剰の導電ペースト1を多層回路基板10から擦り取ることが可能となっている。このような構造により、ペースト充填ヘッド30が構成されている。
The
充填ヘッド送り機構40は、ペースト保持ヘッド30を両側で支持すると共に、ペースト保持ヘッド30を上下方向に移動させたり、ペースト保持ヘッド30を充填ベース21と待機ベース26の配列方向に移動、つまり図1の左右垂直方向に移動させるものである。この充填ヘッド送り機構40は、スライドガイド41、スライドブロック42、送りねじ43、送りモータ44、ガイドシャフト45、エンドプレート46、昇降シリンダ47、昇降ブロック48および昇降プレート49を有した構成とされ、各部がペースト保持ヘッド30の両側に1つずつ対をなして備えられている。
The filling
スライドガイド41は、充填ベース21を挟んだ両側それぞれに配置され、ベースプレート23の上面において充填ベース21と待機ベース26の配列方向に沿って延設されている。スライドブロック42は、このスライドガイド41のスライド部に係合され、スライドガイド41の長手方向に沿って移動可能となっている。このスライドブロック42には、送りねじ43と螺合するねじナット42aが備えられている。
The slide guides 41 are arranged on both sides of the filling
送りねじ43および送りモータ44は、それぞれガイド43aとモータプレート44aを介してベースプレート23に保持されている。送りネジ43は、ガイド43aに対して回転可能に保持されており、図示しない継ぎ手を介して送りモータ44に固定されている。そして、図示しない電源からの電力供給に基づいて送りモータ44を駆動すると、送りねじ43を回転させることができる。送りモータ44は、例えば供給される電流の方向を変えることによって正逆回転させられ、それに伴って送りねじ43も正逆回転させられる。これにより、送りねじ43に螺合させられたねじナット42aが備えられたスライドブロック42を送りねじ43の長手方向両方向に移動させることができる。
The
ガイドシャフト45は、その下端がスライドブロック42に対して固定されていると共に、上端がエンドプレート46に固定されており、昇降ブロック47が移動する際のガイドとなる。昇降シリンダ47もスライドブロック42に固定されている。この昇降シリンダ47の軸端に対して昇降ブロック48が固定され、昇降シリンダ47の操作によって昇降ブロック48が上下方向に移動させられる。また、昇降ブロック48の上端には、昇降プレート49が固定され、この昇降プレート49に対してケースプレート33が固定されることで、ペースト充填ヘッド30が充填ヘッド送り機構40に固定されている。
The
このような構成により、送りモータ44の駆動によってスライドブロック42を送りねじ43の長手方向に移動させると、それに伴ってペースト充填ヘッド30も同方向に移動させられ、昇降シリンダ47の操作によって昇降ブロック48を上下方向に移動させると、それに伴ってペースト充填ヘッド30も同方向に移動させられるようになっている。このような構造により、充填ヘッド送り機構40が構成されている。
With this configuration, when the
以上のようにして、本実施形態にかかる導電材料充填装置100が構成されている。次に、この導電材料充填装置100を使用した貫通ビア11への導電ペースト1を充填した多層回路基板10の製造方法について説明する。図7は、充填待機時および充填時それぞれのペースト充填ヘッド30等の様子を示した断面模式図である。また、図8は、充填完了後にスキージ35aによって余剰の導電ペースト1を擦り取る時のペースト充填ヘッド30等の様子を示した断面模式図である。また、図9および図10は、貫通ビア11への導電ペースト1の充填工程を含む多層回路基板10の製造工程を示した模式的断面図である。以下、これらの図を参照して、貫通ビア11へ導電ペースト1を充填した多層回路基板10の製造方法を説明する。
As described above, the conductive
まず、前準備として、従来の製法によって多層配線基板10を製造しておき(図9(a)参照)、レーザ加工機等によって多層回路基板10にビアホール11を形成する(図9(b)参照)。また、ペースト充填ヘッド30における充填スキージホルダ31にスティック状にした導電ペースト1をセットしておく。続いて、導電ペースト1の充填対象となるワーク、つまり貫通ビア11を形成した多層回路基板10を充填ベース21の搭載面21a上に吸着紙21bを介して設置する。そして、(1)多層回路基板10の平面保持および加熱、(2)ペースト充填ヘッド30の充填開始位置への移動、(3)ペースト充填ヘッド30内の導電ペースト1の加圧および刷込み開始、(4)ペースト充填ヘッド30の充填終了位置までの移動、(5)ペースト充填ヘッド30内の導電ペースト1の加圧および刷込み停止、(6)ペースト充填ヘッド30の待機ベース26への移動および導電ペースト1の冷却、(7)多層回路基板10の取り外しの7工程を順番に行う。
First, as preparation, the
具体的には、(1)の工程では、ワーク加熱ヒータ22に対して電力供給を行うことにより、スティック状とされた導電ペースト1の融点近傍まで加熱する。例えば、導電ペースト1を銀や錫の粉末に対して融点が43℃のパラフィンを練り固めたものとした場合、多層回路基板10の表面が43℃±3℃程度に保持されるようにワーク加熱ヒータ22による加熱を行う。また、同時にワークチャック真空プンプ25による真空吸引を行い、連通空間21eを通じて吸着溝21c、21dからの吸着を行う。これにより、吸引紙21bおよび多層回路基板10が吸着される。これらによって、多層回路基板10の平面保持および加熱が行われる。
Specifically, in the step (1), by supplying power to the
次に、(2)の工程では、昇降シリンダ47の操作によって昇降ブロック48を上方に移動させることで、ペースト充填ヘッド30を上方に移動させる。続いて、送りモータ44を駆動することによって送りねじ43を回転させ、スライドブロック42を送りねじ43の長手方向に沿って図1の紙面右側に移動させることで、ペースト充填ヘッド30を充填待機位置から図1の紙面右側に移動させる。そして、ペースト充填ヘッド30が例えば多層回路基板10における図1の紙面左側の端部に達すると、昇降シリンダ47の操作によって昇降ブロック48を下方に移動させ、ペースト充填ヘッド30を多層回路基板10側に加工させる。このようにして、ペースト充填ヘッド30の充填開始位置への移動が行われる。
Next, in the step (2), the
続く、(3)の工程では、図示しないエアポンプ等によってエア供給室31b内にエアを供給し、プッシャ31aを加圧することで多層回路基板10側に導電ペースト1を押圧する。また、揺動モータ34aを駆動することにより、偏揺動芯シャフト34eを駆動すると共に、揺動タイミングプーリ34iやタイミングベルト34kおよびタイミングプーリ34jを介して偏芯シャフト34hを回転させる。そして、偏揺動芯シャフト34eおよび偏芯シャフト34hが連動して回転させられ、これらの偏心部に固定された充填スキージホルダ31がケース32の空間R内において揺動させられる。これにより、ペースト充填ヘッド30にセットされた導電ペースト1が加熱された多層回路基板10によって溶融し、充填スキージホルダ31の揺動によって溶融した導電ペースト1が貫通ビア11内に刷り込まれるという揺動攪拌動作が行われる。このようにして、ペースト充填ヘッド30内の導電ペースト1の加圧および刷込みが開始される(図9(c)参照)。
In the subsequent step (3), air is supplied into the
また、(4)の工程では、導電ペースト1の加圧および刷込みを続けながらペースト充填ヘッド30を充填終了位置まで移動させる。すなわち、送りモータ44を駆動することによって送りネジ43を回転させ、ペースト充填ヘッド30を図1の紙面右側に移動させて、多層回路基板10における右側の端部まで到達させる。このときの充填速度を20mm/secとし、充填後の見切り速度(貫通ビア11から充填スキージ31cをスライドして離す速度)を60mm/secと高速度で仕上げ、貫通ビア11内での導電ペースト1の凹みが5μm以下となるようにしている。これにより、図7(b)に示すように、その経路中に存在していたすべての貫通ビア11内に導電ペースト1が充填される。このとき、貫通ビア11内に充填された導電ペースト1のうち余剰な溶剤(例えばパラフィン)が吸着紙21bに染み込むように吸着され、導電ペースト1内の銀や錫などの金属粉末が貫通ビア11内に残るようにできる。このため、導電ペースト1の組成比、つまり銀や錫などの金属粉末と溶剤の比率に関わらず、貫通ビア11内に金属粉末が濃縮されて必要量残るようにできる。
In the step (4), the
そして、(5)の工程では、図示しないエアポンプ等によるエア供給室31b内へのエアの供給を停止し、プッシャ31aの加圧を止めるすることで多層回路基板10側への導電ペースト1の押圧を終了する。また、揺動モータ34aの駆動も停止することにより、充填スキージホルダ31の偏心回転も停止させ、導電ペースト1の貫通ビア11内への刷り込みも終了させる。このようにして、ペースト充填ヘッド30内の導電ペースト1の加圧および刷込みが停止させられる。
In the step (5), the supply of air into the
この後、(6)の工程では、昇降シリンダ47の操作によって昇降ブロック48を上方に移動させることで、ペースト充填ヘッド30を上方に移動させる。続いて、送りモータ44を(3)の工程と逆回転させて送りねじ43を逆回転させ、スライドブロック42を送りねじ43の長手方向に沿って移動させることで、ペースト充填ヘッド30を充填待機位置から図1の紙面左側に移動させる。このとき、同時に、昇降シリンダ35cを駆動してスキージホルダ35bおよびスキージ35aを下降させ、スキージ35aの先端を多層回路基板10の表面に接触させ、紙面左側への移動速度を例えば60mm/secとする。このようにすれば、ペースト充填ヘッド30を紙面左側に移動させる際に、スキージ35aによって余剰の導電ペースト1を擦り取ることも可能となる。そして、ペースト充填ヘッド30が多層回路基板10の図1の紙面左側の端部まで到達したら昇降シリンダ35cを駆動してスキージホルダ35bおよびスキージ35aを上昇させる。その後、そのままペースト充填ヘッド30を図1の紙面左側に移動させたのち、昇降シリンダ47の操作によって昇降ブロック48を下降させ、図7(b)に示すようにペースト充填ヘッド30を待機ベース26上に載せる。これにより、冷却機構27によって冷却された待機ベース26によって導電ペースト1の冷却が行われる。このようにして、ペースト充填ヘッド30の待機ベース26への移動および導電ペースト1の冷却が行われる(図9(d)参照)。
Thereafter, in the step (6), the
最後に、(7)の工程では、ワークチャック真空ポンプ25による真空吸引を停止し、多層回路基板10を冷却することで、貫通ビア11内に充填された導電ペースト1を固化する。このとき、充填ベース21と多層回路基板10との間に熱伝導率の低い吸着紙21bが配置されていることから、大気圧によって多層回路基板10が充填ベース21側に押圧されていない状態であれば、多層回路基板10を積極的に冷却させなくても、貫通ビア11内の導電ペースト1は放熱によって固化する。このような手法によって導電ペースト1の固化を行えば、ペースト充填ヘッド30を待機ベース26に待機させているときに導電ペースト1を固化でき、充填ベース21を冷却したり、多層回路基板10を別の場所で冷却するなどしなくても容易に導電ペースト1を固化することが可能となる。
Finally, in the step (7), the vacuum suction by the work
そして、導電ペースト1が固化したら、多層回路基板10を吸着紙21から剥離させる(図9(e)参照)。このときには、既に導電ペースト1が固化しているため、従来のように銀や錫の金属粉末とテレピネなどの高粘度溶剤から構成されの擬粘性流体で構成される導電ペーストを用いる場合のように、吸着紙21に導電ペースト1が付着してしまって貫通ビア11から抜けることはない。
When the
この後、吸着紙21から剥離した多層回路基板10に対して、図10に示す各工程を行うことで、多層回路基板10を完成させる。具体的には、貫通ビア11に導電ペースト1が埋め込まれた多層回路基板10の表裏面の両面に配線パターン形成用の金属層に相当する銅箔12a、12bを貼り付ける(図10(a)参照)。続いて、銅箔12a、12bの表面にフォトレジストによるエッチングマスク13a、13bを形成する(図10(b)参照)。例えば、多層回路基板10の表面側の銅箔12a上にフォトレジストを形成したのち、露光して所定パターンのエッチングマスク13aを形成し、続けて、多層回路基板10の裏面側の銅箔12b上にフォトレジストを形成したのち、露光して所定パターンのエッチングマスク13bを形成する。このとき、最終的に表裏面の配線パターンの所望位置が導電ペースト1を介して電気的に接続されることになるため、エッチングマスク13a、13bは貫通ビア11と対応する位置を覆うようなパターンとなる。そして、このエッチングマスク13a、13bを利用したエッチングを行い、銅箔12a、12bをパターニングすることで配線パターンとする(図10(c)参照)。このとき、表裏面のエッチングを一度に行えることから、表裏面で別々にエッチングを行う場合と比較してエッチング工程の簡略化を図ることができ、製造工程の削減を図ることが可能となる。その後、エッチングマスク13a、13bを除去する。このようにして、貫通ビア11内が導電ペースト1で埋め込まれた多層回路基板10を製造することができる。
Thereafter, the
(他の実施形態)
上記実施形態では、導電ペースト1の溶剤として作業の安全と設備環境の両面から高温加熱が必要でない低融点溶剤であるパラフィンを用いたが、他の溶剤であっても良い。つまり、室温で固体状態となり、かつ、加熱によって溶融する高融点ペーストであれば良く、他のパラフィン系炭化水素(エイコサン)や、テレビン油(例えばαテレピネ)、脂肪酸(例えばカプリン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノデカン酸、アラキン酸)等に対して金属粉末を錬り込んだものを導電ペースト1として用いることができる。これらの溶剤はいずれも簡単な加熱で、かつ、金属粉末の焼結温度よりも低い温度で溶融する材料である。具体的には、これらすべての溶剤の融点が100℃以下(例えばエイコサンは融点37℃)となっている。
(Other embodiments)
In the above embodiment, paraffin, which is a low-melting-point solvent that does not require high-temperature heating in terms of work safety and equipment environment, is used as the solvent for the
導電ペースト1に含まれる金属粉末の材質も、銀と錫に限るものではなく、他の金属材料が用いられていても良い。粉末形状についても球状のものや繊維状のフィラー等、どのようなものであっても良い。また、導電ペースト1をスティック状のものとしたが、粉末状や棒状の高融点ペーストであっても構わない。同様に、上記実施形態で例示した他の材料などに関しても、適宜変更可能である。例えば、配線パターン形成用の金属層として銅箔12a、12bを用いたが、他の金属層であっても構わない。
The material of the metal powder contained in the
また、上記実施形態では、図1中の紙面左右方向にペースト充填ヘッド30を一往復移動させるだけで、導電ペースト1の貫通ビア11への充填と、スキージ35aによる余剰の導電ペースト1の擦り取りを行った。しかしながら、これも単なる一例であり、図1中の紙面左右方向にペースト充填ヘッド30を複数回往復させる間に導電ペースト1の貫通ビア11への充填を行ったのち、その後、スキージ35aによる余剰の導電ペースト1の擦り取りを行うようにしても良い。
In the above embodiment, the
また、上記実施形態では、吸着溝21dを環状溝とする場合の一例として円形状の環状溝とする場合について説明したが、楕円形状等であっても構わない。
Moreover, although the case where it was set as the circular annular groove as an example in the case of making the
また、上記実施形態では、貫通ビア11への導電ペースト1の充填が完了した後、充填ベース21上において多層回路基板1の冷却を行うようにしたが、吸着紙21bごと多層回路基板10を充填ベース21から取り外し、室温もしくは冷却室内で多層回路基板10を冷却しても良い。多層回路基板10を冷却する際にワーク加熱ヒータ22への電力供給を停止して行うことも考えられるが、多層回路基板1を吸着紙21bごと充填ベース21の上から取り外すのであれば、多層回路基板10が完全に固化していなくても良い。このようにすれば、多層回路基板10を冷却する際にワーク加熱ヒータ22への電力供給を停止する必要も無くなる。
In the above embodiment, the
100 充填装置
1 導電ペースト(導電材料)
10 多層回路基板
11 貫通ビア
20 ワーク保持機構部
21 充填ベース
21a 搭載面
21b 吸着紙(溶剤吸着シート)
21d 吸着溝
22 ワーク加熱ヒータ(加熱ヒータ)
30 ペースト充填ヘッド(充填ヘッド)
31 充填スキージホルダ
31a プッシャ
31c 充填スキージ
40 充填ヘッド送り機構部
100
DESCRIPTION OF
30 Paste filling head (filling head)
31
Claims (5)
前記溶剤吸着シート(21b)上に配置した前記多層回路基板(10)を加熱する加熱工程と、
金属粉末と溶剤とを有して構成され、室温で固化すると共に加熱によって溶融する導電材料(1)を用意し、該導電材料(1)を加熱された前記多層回路基板(10)に接触させることで溶融させる溶融工程と、
前記導電材料(1)が充填された充填スキージホルダ(31)と該充填スキージホルダ(31)を収容するケース(32)とを有する充填ヘッド(30)を用いて、前記ケース(32)内において前記充填スキージホルダ(31)を揺動させて溶融させられた前記導電材料(1)を刷り込む揺動攪拌動作を行うことで前記貫通ビア(11)内に充填しつつ、前記導電材料(1)に含まれる前記溶剤を前記溶剤吸着シート(21b)に吸着させる充填工程と、
前記貫通ビア(11)への前記導電材料(1)の充填が完了したのち、前記貫通ビア(11)内に充填された前記導電材料(1)を固化させる固化工程と、
前記導電材料(1)が固化してから、前記多層回路基板(10)から前記溶剤吸着シート(21b)を剥離させる剥離工程と、を含むことを特徴とする貫通ビアへ導電材料を充填した多層回路基板の製造方法。 A multilayer circuit board (10) provided with a through via (11) which is a via hole formed by superposing resin films on which a plurality of wiring patterns are formed and penetrating the plurality of resin films is prepared. Installing the multilayer circuit board (10) on the solvent adsorption sheet (21b);
A heating step of heating the multilayer circuit board (10) disposed on the solvent adsorption sheet (21b);
A conductive material (1) comprising a metal powder and a solvent and solidifying at room temperature and melted by heating is prepared, and the conductive material (1) is brought into contact with the heated multilayer circuit board (10). Melting process to melt by,
In the case (32), a filling head (30) having a filling squeegee holder (31) filled with the conductive material (1) and a case (32) for accommodating the filling squeegee holder (31) is used. The conductive material (1) is filled while filling the through via (11) by performing a rocking stirring operation of imprinting the molten conductive material (1) by rocking the filling squeegee holder (31 ). A filling step of adsorbing the solvent contained in the solvent adsorbing sheet (21b);
A solidification step of solidifying the conductive material (1) filled in the through via (11) after the filling of the conductive material (1) into the through via (11) is completed;
And a peeling step of peeling off the solvent adsorbing sheet (21b) from the multilayer circuit board (10) after the conductive material (1) is solidified. A method of manufacturing a circuit board.
前記金属層(12a、(12b)の表面に、前記貫通ビア(11)内に配置された前記導電材料(1)を覆うパターンを有するエッチングマスク(13a、13b)を形成するマスク形成工程と、
前記マスク形成工程にて形成した前記エッチングマスク(13a、13b)を利用したエッチングを行い、前記多層回路基板(10)の表裏面の両面において前記金属層(12a、12b)を同時にエッチングすることで配線パターンを形成する工程と、
前記配線パターンを形成した後、前記エッチングマスク(13a、13b)を除去する工程と、を含むことを特徴とする請求項1に記載の貫通ビアへ導電材料を充填した多層回路基板の製造方法。 Forming metal layers (12a, 12b) for wiring pattern formation on both surfaces of the front and back surfaces of the multilayer circuit board (10) peeled from the solvent adsorption sheet (21);
A mask forming step of forming an etching mask (13a, 13b) having a pattern covering the conductive material (1) disposed in the through via (11) on the surface of the metal layer (12a, (12b);
Etching using the etching masks (13a, 13b) formed in the mask forming step and simultaneously etching the metal layers (12a, 12b) on both the front and back surfaces of the multilayer circuit board (10). Forming a wiring pattern;
The method of manufacturing a multilayer circuit board in which the through via is filled with a conductive material according to claim 1, further comprising: removing the etching mask (13 a, 13 b) after forming the wiring pattern.
前記加熱工程では、前記充填ベース(21)を加熱することにより、前記多層回路基板(10)の加熱を行い、
前記溶融工程では、前記充填ベース(21)の加熱によって加熱された前記多層回路基板(10)によって前記導電材料(1)を溶融させ、
前記充填工程では、前記多層配線基板(10)および前記溶剤吸着シート(21b)を前記充填ベース(21)の前記搭載面(21a)上に載せた状態で前記貫通ビア(11)への前記導電材料(1)の充填を行うことを特徴とする請求項1または2に記載の貫通ビアへ導電材料を充填した多層回路基板の製造方法。 In the installation step, the multilayer circuit board (10) is installed on the mounting surface (21a) of the filling base (21) having the mounting surface (21a) via the solvent adsorption sheet (21b),
In the heating step, the multilayer circuit board (10) is heated by heating the filling base (21),
In the melting step, the conductive material (1) is melted by the multilayer circuit board (10) heated by heating the filling base (21),
In the filling step, the conduction to the through via (11) in a state where the multilayer wiring board (10) and the solvent adsorption sheet (21b) are placed on the mounting surface (21a) of the filling base (21). The method of manufacturing a multilayer circuit board in which the through via is filled with a conductive material according to claim 1 or 2, wherein the material (1) is filled.
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