JP5567318B2 - 電力供給システム、基板処理装置、半導体製造装置および劣化診断方法 - Google Patents
電力供給システム、基板処理装置、半導体製造装置および劣化診断方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5567318B2 JP5567318B2 JP2009265385A JP2009265385A JP5567318B2 JP 5567318 B2 JP5567318 B2 JP 5567318B2 JP 2009265385 A JP2009265385 A JP 2009265385A JP 2009265385 A JP2009265385 A JP 2009265385A JP 5567318 B2 JP5567318 B2 JP 5567318B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- power
- temperature
- resistance
- heater
- resistance value
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Control Of Resistance Heating (AREA)
Description
れた直後には、抵抗加熱ヒータに印加される交流電圧の波形に急峻な立ち上がりが生じる。このとき、抵抗加熱ヒータに印加される交流電流は、交流電圧の急峻な立ち上がりに追随できずに交流電圧よりも緩やかに増大していく。また、このとき、抵抗加熱ヒータに印加される交流電流には、交流電圧の急峻な立ち上がりに起因する様々な周波数の高調波電流が含まれる。この高調波電流は、電流計による交流電流の測定値を撹乱するノイズである。
以下、本発明の一実施形態を図面に即して説明する。
ヒータ106に供給される。なお、電源トランス104は、抵抗加熱ヒータ106の仕様によっては使用されない場合もある。
スイッチング動作させることによって発生する電磁ノイズを抑制する。つまり、入力側フィルタ回路111は、交流電源101側につながるIGBT変換器112の入力ラインに電磁ノイズが誘導されることを抑制し、交流電源101にノイズ障害が発生することを防止できる。
に出力する。負荷変動検出手段フィードバック回路119は、出力側フィルタ回路116の出力線間電圧を測定する電圧測定ライン118と、抵抗加熱ヒータ106に印加される交流電流を測定するカレントトランス117と、に接続されている。負荷変動検出手段フィードバック回路119は、電圧測定ライン118による実測電圧値と設定電圧との差及びカレントトランス117による実測電流値と設定電流との差を求める。これらの差の積(電力)が負荷変動となる。この負荷変動が周波数変換回路115にフィードバック制御信号として入力される。
6の温度変動が補正されて抵抗加熱ヒータ106に安定した交流電圧が印加されるため、抵抗加熱ヒータ106の温度を一定に保持することができる。
IGBT2のONの期間を変えることにより、抵抗加熱ヒータ106に印加される交流電圧の波高値を制御することができる。したがって、IGBT2に入力されるPWM信号のデューティ比を調節することにより、交流電源101の周波数を変えることなく、抵抗加熱ヒータ106に印加される交流電圧の波高値のみを0〜100%の範囲で制御することができる。
導体製造装置610の各構成要素の動作は、コントローラ770により制御される。
抵抗加熱ヒータ106は、使用時間が増えるに従って、その実測抵抗値が徐々に増大していくとともに、断線の発生率も高くなっていくという特性を有している。つまり、抵抗加熱ヒータ106の実測抵抗値の変化量は、抵抗加熱ヒータ106の断線の発生率を示す良い指標となりうる。
態を一層正確に把握することができる。
ド回路114による電源変動に基づくフィードフォワード制御と、負荷変動検出手段フィードバック回路119による負荷変動に基づくフィードバック制御と、を同時に実施することにより、抵抗加熱ヒータ106が低中温の時や抵抗加熱ヒータ106への供給電力が小さい時でも、抵抗加熱ヒータ106の抵抗値を正確に測定することができる。したがって、電力供給システム100によれば、安定した電力制御が可能となるため、その使い勝手がよくなる。
本発明に係る一実施形態では、温度調整用調節計130によって検出された抵抗加熱ヒータ106の温度変動に基づくフィードバック制御信号に、電源変動検出手段フィードフォワード回路114によって検出された電源変動に基づくフィードフォワード制御信号及び負荷変動検出手段フィードバック回路119によって検出された負荷変動に基づくフィードバック制御信号が周波数変換回路115によって加算された後にIGBT変換器112に入力される場合について説明したが、本発明はこの場合に限定されるものではない。例えば、本発明に係る一実施形態を一部変形して、周波数変換回路115が、前記温度変動に基づくフィードバック制御信号に、前記電源変動に基づくフィードフォワード制御信号または前記負荷変動に基づくフィードバック制御信号のいずれかを加算してIGBT変換器112に入力するようにしてもよい。前記電源変動に基づくフィードフォワード制御信号を加算した場合は、IGBT変換器112が電源変動を打ち消すように補正した交流電圧を出力するため、抵抗加熱ヒータ106への供給電力が安定する。一方で、前記負荷変動に基づくフィードバック制御信号を加算した場合は、IGBT変換器112が負荷変動を打ち消すように補正した交流電圧を出力するため、供給電力調節器110の動作に起因する電圧の変化が抑制されて抵抗加熱ヒータ106への供給電力が安定する。
タ通信回線を介して接続されていても良い。このように、電力供給システム100内の各構成要素がデータ通信回線を介して接続される場合には、電力供給システム100の設計自由度が著しく高くなるため、電力供給システム100の適用範囲や用途を拡大することができる。
本発明の一実施形態に係る電力供給システム100を備える半導体製造装置610を用いて、基板支持具630に装填した基板754を反応管742内で熱処理した。この熱処理における具体的な加熱条件は、次のとおりである。
(2)次いで、抵抗加熱ヒータ106の設定温度を100℃〜380℃に、かつ、この温度範囲を1時間周期で往復するように設定して、供給電力調節器110から抵抗加熱ヒータ106に波高値が制御された歪みのない正弦波波形の交流電圧を印加する。
(3)次いで、供給電力調節器110から抵抗加熱ヒータ106に通電を開始してから10時間経過後に、抵抗加熱ヒータ106の設定温度を750℃に修正する。
(4)次いで、抵抗加熱ヒータ106の設定温度を750℃に修正してから1時間経過後に、抵抗加熱ヒータ106の設定温度を再度100℃〜380℃に、かつ、この温度範囲を1時間周期で往復するように設定し直す。
(5)次いで、抵抗加熱ヒータ106の設定温度を100℃〜380℃に再設定してから10時間経過後に、抵抗加熱ヒータ106の設定温度を750℃に再度修正する。
(6)次いで、抵抗加熱ヒータ106の設定温度を750℃に再修正してから1時間経過後に、抵抗加熱ヒータ106の設定温度を再度100℃〜380℃に、かつ、この温度範囲を1時間周期で往復するように設定し直す。
(7)次いで、抵抗加熱ヒータ106の設定温度を100℃〜380℃に再設定してから5時間経過後に、供給電力調節器110から抵抗加熱ヒータ106への交流電力の供給を止めて、反応管742及び基板754等を放熱させて室温に戻す。
比較例1では、実施例1で使用した反応炉640において、供給電力調節器110を従来の電力供給システム10におけるサイリスタ16に置換して、実施例1と同一の加熱条件で基板754を熱処理した。また、比較例1においても、未使用の抵抗加熱ヒータ106を使用するとともに、抵抗加熱ヒータ106の理論抵抗値を基準抵抗値として使用した。さらに、比較例1においても、演算器144が、抵抗加熱ヒータ106−H3の実測抵抗値と理論抵抗値との差を常時算出し続けた。
図8は、実施例1及び比較例1における抵抗加熱ヒータ106−H3の測定温度(上段の線分)と、その測定時の抵抗加熱ヒータ106−H3の実測抵抗値と理論抵抗値との差(下段の線分)と、を示したグラフである。図8では、左側が比較例1すなわち位相制御方式による熱処理の結果を示しており、一方で中央から右側が実施例1すなわち電圧波高値制御方式による熱処理の結果を示している。
以下に、本発明の好ましい態様について付記する。
半導体製造装置に備えられた制御対象(発熱体)の電流値を検出する電流検出手段と、
前記制御対象の電圧値を検出する電圧検出手段と、
前記電流検出手段が検出する電流値と前記電圧検出手段が検出する電圧値に基づいて前記制御対象の抵抗値を算出する抵抗値算出手段と、
前記抵抗値算出手段が算出した抵抗値を前記制御対象の劣化診断に用いる演算器と、
前記抵抗値算出手段が算出した抵抗値を、他の半導体製造装置に備えられた制御対象の劣化診断に用いる診断基準データとして、通信回線を介して送信する送信手段と、を備える抵抗検出装置と、
交流電源の交流電圧を、制御信号のデューティ比に応じた交流電圧に変換して前記制御対象に印加する電力用変換器(IGBT変換器)と、
前記電力用変換器のスイッチング動作によって生じる逆起電力を回生して前記交流電源に戻す回生用変換器(IGBT変換器)と、を備える供給電力調節器と、を具備する電力供給システムである。
前記供給電力調節器が、
前記制御対象の温度変動を検出する温度変動検出手段と、
前記交流電源から前記電力用変換器に供給される電力から前記交流電源の電源変動を検出する電源変動検出手段と、
前記電力用変換器から前記制御対象に供給される電力から負荷変動を検出する負荷変動検出手段と、
前記温度変動検出手段、前記電源変動検出手段、及び前記負荷変動検出手段による各検出結果に応じて、前記供給電力調節器に加える前記制御対象に供給すべき電力量に応じた制御信号の周波数を制御する周波数可変手段と、を備えた電力供給システムである。
制御対象の温度を測定する温度測定手段と、
前記制御対象の理論抵抗値の算出に使用されるデータを格納しているヒータ温度係数テーブルと、
前記制御対象の実測初期抵抗値を温度データと共に格納しているヒータ作成時基準テーブルと、
前記温度測定手段によって測定された前記制御対象の温度に対応する基準抵抗値を、前記ヒータ温度係数テーブルに格納されているデータから算出するか、または前記ヒータ作成時基準テーブルに格納されている実測初期抵抗値を取得するかして、さらに前記制御対象に印加されている交流電圧及び交流電流の測定値から前記制御対象の実測抵抗値を算出し、算出した前記実測抵抗値と前記基準抵抗値とを比較する演算器と、を備える抵抗検出装置である。
交流電圧に含まれる高調波ノイズを除去する入力側フィルタ回路と、
前記入力側フィルタ回路からの出力の電源変動を検出して、検出した電源変動を打ち消すフィードフォワード制御信号を出力する電源変動検出手段フィードフォワード回路と、
前記入力側フィルタ回路から出力された交流電圧の正弦波波形の波高値を制御するIGBT変換器と、
前記IGBT変換器から出力された前記交流電圧に含まれる高調波ノイズを除去する出力側フィルタ回路と、
前記出力側フィルタ回路からの出力の電源変動を検出して、検出した電源変動(負荷変動)を打ち消すフィードバック制御信号を出力する負荷変動検出手段フィードバック回路と、
前記出力側フィルタ回路から出力された前記交流電圧が印加された制御対象(発熱体)の測定温度と前記制御対象の設定温度との温度差を解消する温度調整用制御信号、前記フィードフォワード制御信号、及び前記フィードバック制御信号に応じて、前記IGBT変換器に前記交流電圧の正弦波波形の波高値を調節させる周波数変換回路と、を備える供給電力調節器である。
温度測定手段が制御対象(発熱体)の温度を測定する温度測定ステップと、
演算器が、ヒータ温度係数テーブルから前記制御対象の理論抵抗値の算出用データを取得して前記温度測定ステップでの測定温度に対応する前記理論抵抗値を算出するか、またはヒータ作成時基準テーブルから前記温度測定ステップでの測定温度に対応する前記制御対象の実測初期抵抗値を取得するか、する基準抵抗値取得ステップと、
前記演算器が、前記制御対象に印加されている交流電圧及び交流電流の測定値から前記制御対象の実測抵抗値を算出する実測抵抗値算出ステップと、
前記演算器が、前記基準抵抗値取得ステップで算出または取得した前記制御対象の基準抵抗値と、前記実測抵抗値算出ステップで算出した前記実測抵抗値と、を比較する抵抗値比較ステップと、
前記演算器が、前記抵抗値比較ステップでの比較結果が所定の閾値を超えるか判定することにより、前記制御対象の劣化診断を実施する劣化診断ステップと、を有する制御対象の劣化診断方法である。
前記抵抗値比較ステップでの比較結果が所定の閾値を超えると前記演算器が判定した場合に、前記制御対象の交換を促す警報が発信される警報発信ステップと、
前記警報が発信された場合に、前記制御対象を交換する交換ステップと、を有する半導体装置の製造方法である。
基板を熱処理する反応炉に設置された抵抗加熱ヒータを制御対象とする電力供給システムを備えた半導体製造装置であって、
前記制御対象の温度を測定する温度測定手段(熱電対)と、
前記制御対象の理論抵抗値の算出に使用されるデータを格納しているヒータ温度係数テーブルと、
前記制御対象の実測初期抵抗値を測定温度と共に格納しているヒータ作成時基準テーブルと、
前記温度測定手段による前記制御対象の測定温度に対応する基準抵抗値を、前記ヒータ温度係数テーブルに格納されているデータから算出するか、または前記ヒータ作成時基準テーブルに格納されている実測初期抵抗値を取得するかして、さらに前記制御対象に印加されている交流電圧及び交流電流の測定値から前記制御対象の実測抵抗値を算出し、算出した前記実測抵抗値と前記基準抵抗値とを比較する演算器と、を備える抵抗検出装置と、
交流電圧に含まれる高調波ノイズを除去する入力側フィルタ回路と、
前記入力側フィルタ回路からの出力の電源変動を検出して、検出した前記電源変動を打ち消すフィードフォワード制御信号を出力する電源変動検出手段フィードフォワード回路と、
前記入力側フィルタ回路から出力された交流電圧の正弦波波形の波高値を制御するIGBT変換器と、
前記IGBT変換器から出力された交流電圧に含まれる高調波ノイズを除去する出力側
フィルタ回路と、
前記出力側フィルタ回路からの出力の電源変動を検出して、検出した前記電源変動(負荷変動)を打ち消すフィードバック制御信号を出力する負荷変動検出手段フィードバック回路と、
前記出力側フィルタ回路から出力された前記交流電圧が印加された前記制御対象の測定温度と前記制御対象の設定温度との温度差を解消する温度調整用制御信号、前記フィードフォワード制御信号、及び前記フィードバック制御信号に応じて、前記IGBT変換器に前記交流電圧の正弦波波形の波高値を調節させる周波数変換回路と、を備える供給電力調節器と、
を具備する半導体製造装置である。
波高値の制御された交流電圧が供給されることによって発熱する抵抗加熱ヒータと、
前記抵抗加熱ヒータの温度変動を検出する熱電対と、
波高値が制御される前の交流電圧及び交流電流から電源変動を検出する電源変動検出手段フィードフォワード回路と、
前記抵抗加熱ヒータに印加される交流電圧及び交流電流から負荷変動を検出する負荷変動検出手段フィードバック回路と、
前記温度変動、前記電源変動、及び前記負荷変動に応じた制御信号を出力する周波数変換回路と、
前記制御信号に応じてパルス幅変調方式によって交流電圧の正弦波波形を維持したまま波高値を制御するIGBT変換器と、
前記抵抗加熱ヒータに印加されている交流電流を測定するカレントトランスと、
前記抵抗加熱ヒータに印加されている交流電圧を測定する電圧測定ラインと、
前記カレントトランスによる測定電流値及び前記電圧測定ラインによる測定電圧値から前記抵抗加熱ヒータの実測抵抗値を算出し、算出した前記実測抵抗値に基づいて前記抵抗加熱ヒータの劣化診断を実施する抵抗検出装置と、
を備える電力供給システムである。
106 抵抗加熱ヒータ
107 炉
110 供給電力調節器
112 IGBT変換器
114 電源変動検出手段フィードフォワード回路
115 周波数変換回路
119 負荷変動検出手段フィードバック回路
130 温度調整用調節計
144 演算器
145 ヒータ製作時基準テーブル
146 ヒータ温度係数テーブル
Claims (9)
- 正弦波波形を有する交流電源の交流電圧の波高値を制御する電力用IGBT変換器を少なくとも備えた供給電力調節器と、
前記供給電力調節器によって制御された交流電圧が印加されることによって発熱する抵抗加熱ヒータと、
前記抵抗加熱ヒータに印加された交流電圧及び交流電流を測定する測定器と、
前記測定器によって得られた電圧値及び電流値から前記抵抗加熱ヒータの抵抗値を算出し、算出した前記抵抗値に基づいて前記抵抗加熱ヒータの劣化診断を行う演算器と、
前記抵抗加熱ヒータの温度を測定する温度測定手段と、
前記抵抗加熱ヒータの理論抵抗値の算出に使用されるデータを格納しているヒータ温度係数テーブルと、
前記抵抗加熱ヒータの実測初期抵抗値を温度データと共に格納しているヒータ作成時基準テーブルと、を備える抵抗検出装置と、
を備え、
前記供給電力調節器は、
前記電力用IGBT変換器に入力されるゲート制御信号のデューティ比を調節することにより、前記交流電源の周波数を変えることなく、前記交流電圧の正弦波波形を維持したまま波高値を制御し、
演算器は、
前記温度測定手段によって測定された前記抵抗加熱ヒータの温度に対応する基準抵抗値を、前記ヒータ温度係数テーブルに格納されているデータから算出するか、または前記ヒータ作成時基準テーブルに格納されている実測初期抵抗値を取得するかして、さらに前記抵抗加熱ヒータに印加されている交流電圧及び交流電流の測定値から制御対象の実測抵抗値を算出し、算出した前記実測抵抗値と前記基準抵抗値との差を4Ωより小さい所定の閾値と比較し、前記閾値を超えたか判定する
ことを特徴とする電力供給システム。 - 前記供給電力調節器は、
前記電力用IGBT変換器のスイッチング動作によって生じる逆起電力を回生して前記交流電源に戻す回生用IGBT変換器と、を備える請求項1に記載の電力供給システム。 - 前記供給電力調節器が、
前記抵抗加熱ヒータの温度変動を検出する温度変動検出手段と、
前記交流電源から前記電力用IGBT変換器に供給される電力から前記交流電源の電源変動を検出する電源変動検出手段と、
前記電力用IGBT変換器から前記抵抗加熱ヒータに供給される電力から負荷変動を検出する負荷変動検出手段と、
前記温度変動検出手段、前記電源変動検出手段、及び前記負荷変動検出手段による各検出結果に応じて、前記供給電力調節器に加える前記抵抗加熱ヒータに供給すべき電力量に応じた制御信号の周波数を制御する周波数可変手段と、
を備える請求項1または2に記載の電力供給システム。 - 前記供給電力調節器は、
交流電圧に含まれる高調波ノイズを除去する入力側フィルタ回路と、
前記入力側フィルタ回路からの出力の電源変動を検出して、検出した前記電源変動を打ち消すフィードフォワード制御信号を出力する電源変動検出手段フィードフォワード回路と、
前記入力側フィルタ回路から出力された交流電圧の正弦波波形の波高値を制御する電力用IGBT変換器と、
前記電力用IGBT変換器から出力された交流電圧に含まれる高調波ノイズを除去する出力側フィルタ回路と、
前記出力側フィルタ回路からの出力の電源変動を検出して、検出した前記電源変動を打ち消すフィードバック制御信号を出力する負荷変動検出手段フィードバック回路と、
前記出力側フィルタ回路から出力された前記交流電圧が印加された前記抵抗加熱ヒータの測定温度と前記抵抗加熱ヒータの設定温度との温度差を解消する温度調整用制御信号、前記フィードフォワード制御信号、及び前記フィードバック制御信号に応じて、前記電力用IGBT変換器に前記交流電圧の正弦波波形の波高値を調節させる周波数変換回路と、
を備える請求項1または請求項2に記載の電力供給システム。 - 請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の電力供給システムを備える基板処理装置。
- 半導体基板およびガラス基板の少なくともいずれかに対し、薄膜形成処理、アニール処理、酸化処理のうちいずれかの処理を行うよう構成された請求項5に記載の基板処理装置。
- 基板を熱処理する反応炉に設置された抵抗加熱ヒータを制御対象とする供給電力調節器を備えた半導体製造装置であって、
前記制御対象の温度を測定する温度測定手段と、
前記制御対象の理論抵抗値の算出に使用されるデータを格納しているヒータ温度係数テーブルと、
前記制御対象の実測初期抵抗値を測定温度と共に格納しているヒータ作成時基準テーブルと、
前記温度測定手段による前記制御対象の測定温度に対応する基準抵抗値を、前記ヒータ温度係数テーブルに格納されているデータから算出するか、または前記ヒータ作成時基準テーブルに格納されている実測初期抵抗値を取得するかして、さらに前記制御対象に印加されている交流電圧及び交流電流の測定値から前記制御対象の実測抵抗値を算出し、算出した前記実測抵抗値と前記基準抵抗値とを比較する演算器と、を備える抵抗検出装置と、
交流電源の交流電圧に含まれる高調波ノイズを除去する入力側フィルタ回路と、
前記入力側フィルタ回路からの出力の電源変動を検出して、検出した電源変動を打ち消すフィードフォワード制御信号を出力する電源変動検出手段フィードフォワード回路と、
前記入力側フィルタ回路から出力された交流電圧の正弦波波形の波高値を制御する電力用IGBT変換器と、
前記電力用IGBT変換器から出力された前記交流電圧に含まれる高調波ノイズを除去する出力側フィルタ回路と、
前記出力側フィルタ回路からの出力の電源変動を検出して、検出した負荷変動を打ち消すフィードバック制御信号を出力する負荷変動検出手段フィードバック回路と、
前記出力側フィルタ回路から出力された前記交流電圧が印加された前記制御対象の測定温度と前記制御対象の設定温度との温度差を解消する温度調整用制御信号、前記フィードフォワード制御信号、及び前記フィードバック制御信号から算出されるゲート制御信号に応じて、前記電力用IGBT変換器に前記交流電圧の正弦波波形の波高値を調節させる周波数変換回路と、
前記電力用IGBT変換器に入力される前記ゲート制御信号のデューティ比を調節することにより、前記交流電源の周波数を変えることなく、前記交流電圧の正弦波波形を維持したまま波高値を制御する供給電力調節器と、
を具備し、
前記演算器は、前記実測抵抗値と前記基準抵抗値との差が、4Ωより小さい所定の閾値を超えたか判定する半導体製造装置。 - 請求項7に記載の半導体製造装置における劣化診断方法であって、
前記温度測定手段が、前記制御対象の温度を測定する温度測定ステップと、
演算器が、ヒータ温度係数テーブルから前記制御対象の理論抵抗値の算出用データを取得して前記温度測定ステップでの測定温度に対応する前記理論抵抗値を算出するか、またはヒータ作成時基準テーブルから前記温度測定ステップでの測定温度に対応する前記制御対象の実測初期抵抗値を取得するか、する基準抵抗値取得ステップと、
前記演算器が、前記制御対象に印加されている交流電圧及び交流電流の測定値から前記制御対象の実測抵抗値を算出する実測抵抗値算出ステップと、
前記演算器が、前記基準抵抗値取得ステップで算出または取得した前記制御対象の基準抵抗値と、前記実測抵抗値算出ステップで算出した前記実測抵抗値と、を比較する抵抗値比較ステップと、
前記演算器が、前記抵抗値比較ステップでの比較結果が、4Ωより小さい所定の閾値を超えるか判定することにより、前記制御対象の劣化診断を実施する劣化診断ステップと、
を有する劣化診断方法。 - 前記抵抗値比較ステップでの比較結果が、4Ωより小さい所定の闘値を超えると前記演算器が判定した場合に、前記制御対象の交換を促す警報が発信される警報発信ステップと、
前記警報が発信された場合に、前記制御対象を交換する交換ステップと、を有する請求項8に記載の劣化診断方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009265385A JP5567318B2 (ja) | 2009-11-20 | 2009-11-20 | 電力供給システム、基板処理装置、半導体製造装置および劣化診断方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009265385A JP5567318B2 (ja) | 2009-11-20 | 2009-11-20 | 電力供給システム、基板処理装置、半導体製造装置および劣化診断方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2011108596A JP2011108596A (ja) | 2011-06-02 |
| JP5567318B2 true JP5567318B2 (ja) | 2014-08-06 |
Family
ID=44231835
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009265385A Expired - Fee Related JP5567318B2 (ja) | 2009-11-20 | 2009-11-20 | 電力供給システム、基板処理装置、半導体製造装置および劣化診断方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5567318B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9744504B2 (en) | 2012-06-29 | 2017-08-29 | Nestec S.A. | Double-cone pumping device |
| WO2020010153A1 (en) * | 2018-07-05 | 2020-01-09 | Lam Research Corporation | Dynamic temperature control of substrate support in substrate processing system |
| CN111433547A (zh) * | 2017-09-25 | 2020-07-17 | X-Fab半导体制造有限公司 | 多区立式炉的实时监视与及早识别热区元件的失效 |
| US10872747B2 (en) | 2018-08-08 | 2020-12-22 | Lam Research Corporation | Controlling showerhead heating via resistive thermal measurements |
| US11028482B2 (en) | 2018-05-07 | 2021-06-08 | Lam Research Corporation | Use of voltage and current measurements to control dual zone ceramic pedestals |
| US11183400B2 (en) | 2018-08-08 | 2021-11-23 | Lam Research Corporation | Progressive heating of components of substrate processing systems using TCR element-based heaters |
| US11236422B2 (en) | 2017-11-17 | 2022-02-01 | Lam Research Corporation | Multi zone substrate support for ALD film property correction and tunability |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015035481A (ja) * | 2013-08-08 | 2015-02-19 | 東京エレクトロン株式会社 | ヒータ装置、基板処理装置及びメンテナンス方法 |
| US9716022B2 (en) * | 2013-12-17 | 2017-07-25 | Lam Research Corporation | Method of determining thermal stability of a substrate support assembly |
| EP3824749A1 (en) * | 2015-03-26 | 2021-05-26 | Philip Morris Products S.A. | Heater management |
| CN104822186B (zh) * | 2015-05-14 | 2016-04-06 | 重庆大学 | 重载下并联谐振感应加热电源的启动方法及其实现系统 |
| JP6971199B2 (ja) * | 2018-05-31 | 2021-11-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理方法および基板処理装置 |
| US11087962B2 (en) * | 2018-07-20 | 2021-08-10 | Lam Research Corporation | Real-time control of temperature in a plasma chamber |
| CN112086378B (zh) | 2019-06-12 | 2024-06-18 | 株式会社国际电气 | 加热部、温度控制系统、处理装置及半导体器件的制造方法 |
| CN111045321B (zh) * | 2019-06-26 | 2021-05-11 | 控软自动化技术(北京)有限公司 | 一种深度调峰下的协调控制带嵌入式内模控制器的方法 |
| KR102943540B1 (ko) * | 2021-07-09 | 2026-03-26 | 오므론 가부시키가이샤 | 이상 판정 장치, 이상 판정 방법 및 이상 판정 시스템 |
| JP7771564B2 (ja) * | 2021-07-09 | 2025-11-18 | オムロン株式会社 | 異常判定装置、異常判定方法および異常判定システム |
| TWI841942B (zh) * | 2021-07-09 | 2024-05-11 | 日商歐姆龍股份有限公司 | 異常判定裝置、異常判定方法以及異常判定系統 |
| CN114018612B (zh) * | 2021-09-28 | 2024-02-23 | 彩虹显示器件股份有限公司 | 一种基板玻璃通道辅助加热器寿命预警方法及系统 |
| JP2023135440A (ja) * | 2022-03-15 | 2023-09-28 | オムロン株式会社 | 異常判定装置、異常判定システムおよび異常判定方法 |
| CN115185317B (zh) * | 2022-09-09 | 2022-12-13 | 之江实验室 | 一种负载自适应的宽负载智能高精度温度控制装置 |
| JP7842680B2 (ja) * | 2022-12-01 | 2026-04-08 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | ヒータ寿命予測方法、加熱処理装置およびヒータ寿命予測プログラム |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006085907A (ja) * | 2004-09-14 | 2006-03-30 | Kokusai Electric Semiconductor Service Inc | 電源装置及び半導体製造装置 |
| CN102122892B (zh) * | 2005-04-04 | 2014-02-12 | 株式会社国际电气半导体技术服务 | 供给功率调节器和半导体制造装置 |
| JP2007244007A (ja) * | 2006-03-06 | 2007-09-20 | Fujitsu Ten Ltd | 車両用バッテリの充電制御装置及びその方法 |
-
2009
- 2009-11-20 JP JP2009265385A patent/JP5567318B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9744504B2 (en) | 2012-06-29 | 2017-08-29 | Nestec S.A. | Double-cone pumping device |
| CN111433547A (zh) * | 2017-09-25 | 2020-07-17 | X-Fab半导体制造有限公司 | 多区立式炉的实时监视与及早识别热区元件的失效 |
| US11236422B2 (en) | 2017-11-17 | 2022-02-01 | Lam Research Corporation | Multi zone substrate support for ALD film property correction and tunability |
| US11028482B2 (en) | 2018-05-07 | 2021-06-08 | Lam Research Corporation | Use of voltage and current measurements to control dual zone ceramic pedestals |
| WO2020010153A1 (en) * | 2018-07-05 | 2020-01-09 | Lam Research Corporation | Dynamic temperature control of substrate support in substrate processing system |
| US11908715B2 (en) | 2018-07-05 | 2024-02-20 | Lam Research Corporation | Dynamic temperature control of substrate support in substrate processing system |
| US12322617B2 (en) | 2018-07-05 | 2025-06-03 | Lam Research Corporation | Dual zone heaters for metallic pedestals |
| US10872747B2 (en) | 2018-08-08 | 2020-12-22 | Lam Research Corporation | Controlling showerhead heating via resistive thermal measurements |
| US11183400B2 (en) | 2018-08-08 | 2021-11-23 | Lam Research Corporation | Progressive heating of components of substrate processing systems using TCR element-based heaters |
| US12062554B2 (en) | 2018-08-08 | 2024-08-13 | Lam Research Corporation | Progressive heating of components of substrate processing systems using TCR element-based heaters |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2011108596A (ja) | 2011-06-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5567318B2 (ja) | 電力供給システム、基板処理装置、半導体製造装置および劣化診断方法 | |
| JP5727450B2 (ja) | 供給電力調整器および半導体製造装置 | |
| US12402211B2 (en) | Isolated power converter for a thermal system | |
| US10355509B2 (en) | Management apparatus, charge and discharge control apparatus, power storage system, and charge and discharge control method | |
| KR101140232B1 (ko) | 공급전력 조절장치, 반도체제조장치, 히터에 대한전력제어방법 및 반도체장치의 제조방법 | |
| US8456220B2 (en) | Managing a temperature of a semiconductor switching element | |
| US9615440B2 (en) | Power supply apparatus outputting alternating-current voltage to plasma generator | |
| JP2012253222A (ja) | 抵抗加熱式ヒータの寿命予測方法及び熱処理装置 | |
| JP7752133B2 (ja) | 熱システムのための絶縁電力変換器 | |
| JP5098806B2 (ja) | 電力使用系の断線予測装置及び熱処理装置 | |
| US20220041443A1 (en) | Ozone Cell Power Supply Apparatus and Method | |
| US11953265B2 (en) | Method for operating an electric arc furnace | |
| CN116066393B (zh) | 一种变流器及其风机控制方法 | |
| JP5858794B2 (ja) | 誘導加熱調理器 | |
| US20200067402A1 (en) | Method for actuating a converter, control apparatus for a converter, and converter | |
| KR20130010645A (ko) | 납땜 인두 조절기 및 그의 제어방법 | |
| CN121140450B (zh) | 高效电炉电力控制装置及其控制方法 | |
| KR102957260B1 (ko) | 열 시스템용 격리형 전력 변환기 | |
| CN120799996A (zh) | 一种熔铅炉体控制电路系统及控制方法 | |
| CN119222749A (zh) | Pfc电路及其控制方法、存储介质、电器设备及空调器 | |
| HK1112536B (en) | Supply power adjusting apparatus, semiconductor manufacturing apparatus and manufacturing method thereof | |
| HK1157078B (en) | Supply power adjusting apparatus and semiconductor manufacturing apparatus |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120705 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130807 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131002 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140121 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140319 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140603 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140619 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5567318 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |