JP5585508B2 - 環状オレフィン付加重合体及びその製造方法 - Google Patents
環状オレフィン付加重合体及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5585508B2 JP5585508B2 JP2011067614A JP2011067614A JP5585508B2 JP 5585508 B2 JP5585508 B2 JP 5585508B2 JP 2011067614 A JP2011067614 A JP 2011067614A JP 2011067614 A JP2011067614 A JP 2011067614A JP 5585508 B2 JP5585508 B2 JP 5585508B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- cyclic olefin
- formula
- addition polymer
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 0 [Sn+]*C(C1)C2C=CC1C2 Chemical compound [Sn+]*C(C1)C2C=CC1C2 0.000 description 7
- PCBPVYHMZBWMAZ-UHFFFAOYSA-N CC(C1)C2C=CC1C2 Chemical compound CC(C1)C2C=CC1C2 PCBPVYHMZBWMAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
Description
なお、本発明に関連する先行技術文献としては、上記特許文献1〜9に加えて下記文献が挙げられる。
〔請求項1〕
下記式(1)で表される環状オレフィン官能性シロキサン、又はこの式(1)の環状オレフィン官能性シロキサンと、下記式(2)で表される環状オレフィン化合物とを付加重合することにより得られ、下記式(1)で表される環状オレフィン官能性シロキサンに由来する構造単位の割合が、付加重合体中5〜100モル%であり、THFを溶媒とするGPCで測定されるポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)が10,000〜2,000,000であることを特徴とする高気体透過性環状オレフィン付加重合体。
(式(1)中のR1は互いに同一又は異種の脂肪族不飽和結合を有さない炭素数1〜10の非置換又はハロゲン原子置換の一価のアルキル基であり、sは0〜2の整数であり、iは0又は1であり、jは1〜4の整数を示す。)
(式(2)中のA1〜A4は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜10のアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基及びハロゲン化炭化水素基から選ばれる置換基、又はオキセタニル基及びアルコキシカルボニル基から選ばれる極性を有する置換基である。また、A1とA2又はA1とA3とが、それぞれが結合する炭素原子と共に脂環構造、芳香環構造、カルボンイミド基又は酸無水物基を形成してもよい。kは0又は1を示す。)
〔請求項2〕
式(1)中のR1がメチル基であり、sが0であり、jが2である請求項1記載の高気体透過性環状オレフィン付加重合体。
〔請求項3〕
式(1)中のR1がメチル基であり、sが1であり、jが2である請求項1記載の高気体透過性環状オレフィン付加重合体。
〔請求項4〕
式(1)中のR1がメチル基であり、sが2であり、jが2である請求項1記載の高気体透過性環状オレフィン付加重合体。
〔請求項5〕
式(2)中のA1〜A4がいずれも水素原子であり、kが0である請求項1〜4のいずれか1項記載の高気体透過性環状オレフィン付加重合体。
〔請求項6〕
下記化合物(A)、(B)及び(C)を含む多成分系触媒の存在下、下記式(1)で表される環状オレフィン官能性シロキサン、又はこの式(1)の環状オレフィン官能性シロキサンと下記式(2)で表される環状オレフィン化合物とを付加重合することを特徴とする請求項1記載の高気体透過性環状オレフィン付加重合体の製造方法。
〔化合物(A)〕
ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム、(エテン)ビス(トリシクロヘキシルホスフィン)パラジウム、カルボニルトリス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ビス(t−ブチルイソシアニド)パラジウムから選ばれる0価のパラジウム化合物。
〔化合物(B)〕
トリフェニルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリフェニルカルベニウムテトラキス[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル]ボレート、N,N−ジメチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、リチウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート−エチルエーテルコンプレックスから選ばれるイオン性ホウ素化合物。
〔化合物(C)〕
トリイソプロピルホスフィン、トリt−ブチルホスフィン、トリシクロペンチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリフェニルホスフィン、ジt−ブチルフェニルホスフィンから選ばれるホスフィン化合物。
〔請求項7〕
化合物(A)が0価のパラジウム1個にジベンジリデンアセトン2個が配位した錯体であるビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム、化合物(B)がトリフェニルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、化合物(C)がトリシクロヘキシルホスフィンである請求項6記載の高気体透過性環状オレフィン付加重合体の製造方法。
〔請求項8〕
式(1)中のR1がメチル基であり、sが0であり、jが2である請求項6又は7記載の高気体透過性環状オレフィン付加重合体の製造方法。
〔請求項9〕
式(1)中のR1がメチル基であり、sが1であり、jが2である請求項6又は7記載の高気体透過性環状オレフィン付加重合体の製造方法。
〔請求項10〕
式(1)中のR1がメチル基であり、sが2であり、jが2である請求項6又は7記載の高気体透過性環状オレフィン付加重合体の製造方法。
〔請求項11〕
式(2)中のA1〜A4がいずれも水素原子であり、kが0である請求項6〜10のいずれか1項記載の高気体透過性環状オレフィン付加重合体の製造方法。
〔請求項12〕
不活性ガス雰囲気下、0〜150℃で1〜72時間付加重合する請求項6〜11のいずれか1項記載の高気体透過性環状オレフィン付加重合体の製造方法。
下記反応式に示す通り、5−ビニル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エンと相当するSiH基含有官能性シロキサンを白金触媒存在下で付加反応させて合成することができる。
一般に、環状オレフィンの付加重合反応は、置換基の影響を強く受ける。非特許文献1(Journal of Polymer Science:Part A:Polymer Chemistry,Vol.47,3982−3989(2009))には、極性置換基の影響が、非特許文献2(Polymer Journal,Vol.41,643−649(2009))には、嵩高い置換基の影響がそれぞれ示されている。シリル基のように嵩高い置換基が環状オレフィンに隣接する場合、活性中心である金属の周囲を占有し、他の単量体が中心金属に接近するのを妨げるため、重合活性が低下することが知られている。そこで、置換基の嵩高い構造部分の位置を環状オレフィンから遠ざけることができれば、活性の低下を防ぐことが可能となる。遠ざける方法の一つとしては、構造異性体であるエキソ体の選択的な合成が挙げられるが、この方法は、必ずしも万能ではない。そこで本発明では、嵩高い構造部分と環状オレフィンを遠ざけるスペーサーとしてアルキル鎖を導入した。後述するが、このアルキル鎖の影響により、生産性の問題を解決するに至った。更に、アルキル鎖の影響により本発明の高気体透過性環状オレフィン付加重合体の機械的強度、特に柔軟性が著しく高まることを見出している。
ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−メチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−エチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−プロピル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−ブチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−ペンチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−ヘキシル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−オクチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−デシル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−フェニル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−ビニル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−アリル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−イソプロピリデン−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−シクロヘキシル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−フロロ−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−クロロ−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−カルボン酸メチル、ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−カルボン酸エチル、ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−カルボン酸ブチル、2−メチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−カルボン酸メチル、2−メチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−カルボン酸エチル、2−メチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−カルボン酸プロピル、2−メチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−カルボン酸トリフロロエチル、2−メチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エニル酢酸エチル、アクリル酸2−メチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エニル、メタクリル酸2−メチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エニル、ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボン酸ジメチル、トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン、テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エンなどを例示することができる。これらは、一種単独で用いても二種以上を組み合わせて用いてもよい。
〔化合物(A)〕
0価のパラジウム化合物。
〔化合物(B)〕
イオン性ホウ素化合物。
〔化合物(C)〕
炭素数3〜6のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基から選ばれる置換基を有するホスフィン化合物。
更に、パラジウムを中心金属とする化合物(A)は、重合活性、分子量調節能、取扱い性の点から、0価のパラジウム錯体がよい。
化合物(A)は、周期律表第10族元素であるパラジウムを中心金属とした化合物であり、特に0価のパラジウム化合物である。この具体例としては、0価のパラジウム1個にジベンジリデンアセトン2個が配位した錯体であるビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム、0価のパラジウム2個にジベンジリデンアセトン3個が配位した錯体であるトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム、0価のパラジウム1個にエチレンが1個、トリシクロヘキシルホスフィンが2個配位した錯体である(エテン)ビス(トリシクロヘキシルホスフィン)パラジウム、0価のパラジウム1個に一酸化炭素が1個、トリフェニルホスフィンが3個配位した錯体であるカルボニルトリス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、0価のパラジウム1個に、t−ブチルイソシアニドが2個配位した錯体であるビス(t−ブチルイソシアニド)パラジウムなどが挙げられる。これらのなかで、取り扱い性の面や、入手しやすい点及び錯体の安定性を考慮すると、ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウムが好ましい。
化合物(B)は、イオン性ホウ素化合物である。この具体例としては、トリフェニルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリフェニルカルベニウムテトラキス[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル]ボレート、N,N−ジメチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、あるいはリチウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート−エチルエーテルコンプレックスなどが挙げられる。これらのなかで、有機溶媒への溶解性、入手しやすい点を考慮するとトリフェニルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートが好ましい。
化合物(C)は、炭素数3〜6のアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基から選ばれる置換基を有するホスフィン化合物である。この具体例としては、トリイソプロピルホスフィン、トリt−ブチルホスフィン、トリシクロペンチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリフェニルホスフィン、ジt−ブチルフェニルホスフィンなどが挙げられる。これらのなかで、触媒の活性と安定性の両立の面から、トリシクロヘキシルホスフィンが好ましい。
化合物(A)は、式(1)及び(2)で示される単量体の合計1モルに対して100万分の1〜100分の1モル原子が好ましく、より好ましくは10万分の1〜1000分の1モル原子である。化合物(A)の使用量が多すぎると目的とする分子量の重合体が得られない場合があり、少なすぎると重合活性が低下する場合がある。
また、化合物(B)は、化合物(A)1モルに対して1.0〜2.0モルが好ましく、より好ましくは1.0〜1.5モルである。化合物(B)の使用量が多すぎると重合体中に残存し、着色する場合があり、少なすぎると重合活性が低下する場合がある。
化合物(C)は、化合物(A)1モルに対して、0.25〜2.0モルが好ましく、より好ましくは0.5〜1.5モルである。化合物(C)の使用量が多すぎると重合活性が低下する場合があり、少なすぎると触媒の安定性が低下する場合がある。
2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、
4,4’−チオビス−(6−t−ブチル−3−メチルフェノール)、
1,1’−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、
2,5−ジ−t−ブチルヒドロキノン、
ペンタエリスリチル−テトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)]プロピオネートなどのフェノール系あるいはヒドロキノン系、
トリス(4−メトキシ−3,5−ジフェニル)ホスファイト、
トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、
トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、
ビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイトなどのリン系、更にはチオエーテル系、ラクトン系化合物などが挙げられる。これらの化合物の中でも、その分解温度(5%の質量減少温度)が250℃以上のものが好ましい。また、これら酸化防止剤の配合量は、本発明の環状オレフィン付加重合体100質量部に対し、0.05〜5.0質量部の範囲である。
1)実施例中で得られたポリマーの重量平均分子量(Mw)、数平均分子量(Mn)、分子量分布(Mw/Mn)は、THFを溶媒とするGPCによりポリスチレンを標準物質として用いて求めた。
2)共重合体中のノルボルネン誘導体/ノルボルネンの組成比は、1H−NMRにより得られたピークの積分比から求めた。
3)有機溶媒への溶解性は、溶媒として、イソドデカン、メチルトリス(トリメチルシロキシ)シラン(以下、M3T)、デカメチルシクロペンタシロキサン(以下、D5)を用い、10質量%溶液になるように調製して評価した。
4)ガラス転移温度は、TMA装置を用い、膜厚100μm、幅3mm、長さ20mmの試料をプローブに固定し、室温から10℃/minで昇温して測定した。
5)破壊強度及び破壊伸びは、膜厚100μmのフィルムを2号ダンベル形状に打ち抜き、それを試験機のプローブに固定して、50mm/minの速度で引っ張り測定した。
6)酸素透過係数は、膜厚100μm、直径3cmの円形状試料を用い、差圧法にて測定した。
ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム[Pd(C17H14O)2]0.0057g(1.0×10-5mol)、トリフェニルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート{[Ph3C][B(C6F5)4]}0.0092g(1.0×10-5mol)、トリシクロヘキシルホスフィン(PCy3)0.0028g(1.0×10-5mol)をそれぞれトルエン10mlに溶解させ、触媒溶液を調製した。次に、窒素置換したガラス製容器中で、下記式(6)で表される単量体A214.8g(0.8mol)をトルエン600mlに溶解した。そこへ調製した触媒溶液を添加し、70℃で2.5時間重合反応を行った。
反応終了後、多量のメタノール中に注いでポリマーを析出させ、濾別洗浄後、120℃で12時間減圧乾燥し、206g(収率96%)のポリマーP(1)が得られた。
得られたポリマーP(1)のGPC測定による分子量はMn=558,000、分子量分布Mw/Mn=3.22であった。図1にポリマーP(1)の1H−NMRスペクトル
を示す。
ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム[Pd(C17H14O)2]0.0057g(1.0×10-5mol)、トリフェニルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート{[Ph3C][B(C6F5)4]}0.0092g(1.0×10-5mol)、トリシクロヘキシルホスフィン(PCy3)0.0028g(1.0×10-5mol)をそれぞれトルエン10mlに溶解させ、触媒溶液を調製した。次に、窒素置換したガラス製容器中で、式(6)で表される単量体A150.4g(0.56mol)と、下記式(7)で表される単量体B22.5g(0.24mol)をトルエン600mlに溶解した。そこへ調製した触媒溶液を添加し、70℃で2.5時間重合反応を行った。
反応終了後、多量のメタノール中に注いでポリマーを析出させ、濾別洗浄後、120℃で12時間減圧乾燥し、158g(収率91%)のポリマーP(2)が得られた。
得られたポリマーP(2)のGPC測定による分子量はMn=599,000、分子量分布Mw/Mn=3.24であった。1H−NMRスペクトルにより、重合体中の単量体A由来の構造体及び単量体B由来の構造体の組成比はA/B=70/30(mol/mol)であることを確認した。
ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム[Pd(C17H14O)2]0.0057g(1.0×10-5mol)、トリフェニルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート{[Ph3C][B(C6F5)4]}0.0092g(1.0×10-5mol)、トリシクロヘキシルホスフィン(PCy3)0.0028g(1.0×10-5mol)をそれぞれトルエン10mlに溶解させ、触媒溶液を調製した。次に、窒素置換したガラス製容器中で、式(8)で表される単量体C191.9g(0.56mol)と、式(7)で表される単量体B22.5g(0.24mol)をトルエン600mlに溶解した。そこへ調製した触媒溶液を添加し、60℃で1.5時間重合反応を行った。
反応終了後、多量のメタノール中に注いでポリマーを析出させ、濾別洗浄後、120℃で12時間減圧乾燥し、189g(収率85%)のポリマーP(3)が得られた。
得られたポリマーP(3)のGPC測定による分子量はMn=867,000、分子量分布Mw/Mn=3.24であった。1H−NMRスペクトルにより、重合体中の単量体C由来の構造体及び単量体B由来の構造体の組成比はC/B=70/30(mol/mol)であることを確認した。
ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム[Pd(C17H14O)2]0.0057g(1.0×10-5mol)、トリフェニルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート{[Ph3C][B(C6F5)4]}0.0092g(1.0×10-5mol)、トリシクロヘキシルホスフィン(PCy3)0.0028g(1.0×10-5mol)をそれぞれトルエン10mlに溶解させ、触媒溶液を調製した。次に、窒素置換したガラス製容器中で、式(9)で表される単量体D233.5g(0.56mol)と、式(7)で表される単量体B22.5g(0.24mol)をトルエン600mlに溶解した。そこへ調製した触媒溶液を添加し、55℃で2.0時間重合反応を行った。
反応終了後、多量のメタノール中に注いでポリマーを析出させ、濾別洗浄後、120℃で12時間減圧乾燥し、192g(収率75%)のポリマーP(4)が得られた。
得られたポリマーP(4)のGPC測定による分子量はMn=1,330,000、分子量分布Mw/Mn=3.04であった。1H−NMRスペクトルにより、重合体中の単量体D由来の構造体及び単量体B由来の構造体の組成比はD/B=67/33(mol/mol)であることを確認した。図2にポリマーP(4)の1H−NMRスペクトルを示す。
ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム[Pd(C17H14O)2]0.0057g(1.0×10-5mol)、トリフェニルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート{[Ph3C][B(C6F5)4]}0.0092g(1.0×10-5mol)、トリシクロヘキシルホスフィン(PCy3)0.0028g(1.0×10-5mol)をそれぞれトルエン10mlに溶解させ、触媒溶液を調製した。次に、窒素置換したガラス製容器中で、下記式(10)で表される単量体E192.4g(0.8mol)をトルエン600mlに溶解した。そこへ調製した触媒溶液を添加し、70℃で16時間重合反応を行った。
反応終了後、多量のメタノール中に注いでポリマーを析出させ、濾別洗浄後、120℃で12時間減圧乾燥し、102g(収率53%)のポリマーP(5)が得られた。
得られたポリマーP(5)のGPC測定による分子量はMn=620,000、分子量分布Mw/Mn=2.60であった。
ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム[Pd(C17H14O)2]0.0057g(1.0×10-5mol)、トリフェニルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート{[Ph3C][B(C6F5)4]}0.0092g(1.0×10-5mol)、トリシクロヘキシルホスフィン(PCy3)0.0028g(1.0×10-5mol)をそれぞれトルエン10mlに溶解させ、触媒溶液を調製した。次に、窒素置換したガラス製容器中で、式(10)で表される単量体E134.7g(0.56mol)と、式(7)で表される単量体B22.5g(0.24mol)をトルエン600mlに溶解した。そこへ調製した触媒溶液を添加し、70℃で12時間重合反応を行った。
反応終了後、多量のメタノール中に注いでポリマーを析出させ、濾別洗浄後、120℃で12時間減圧乾燥し、99g(収率63%)のポリマーP(6)が得られた。
得られたポリマーP(6)のGPC測定による分子量はMn=421,000、分子量分布Mw/Mn=2.00であった。1H−NMRスペクトルにより、重合体中の単量体E由来の構造体及び単量体B由来の構造体の組成比はE/B=66/34(mol/mol)であることを確認した。
ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム[Pd(C17H14O)2]0.0057g(1.0×10-5mol)、トリフェニルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート{[Ph3C][B(C6F5)4]}0.0092g(1.0×10-5mol)、トリシクロヘキシルホスフィン(PCy3)0.0028g(1.0×10-5mol)をそれぞれトルエン10mlに溶解させ、触媒溶液を調製した。次に、窒素置換したガラス製容器中で、式(11)で表される単量体F176.2g(0.56mol)と、式(7)で表される単量体B22.5g(0.24mol)をトルエン600mlに溶解した。そこへ調製した触媒溶液を添加し、60℃で6時間重合反応を行った。
反応終了後、多量のメタノール中に注いでポリマーを析出させ、濾別洗浄後、120℃で12時間減圧乾燥し、127g(収率64%)のポリマーP(7)が得られた。
得られたポリマーP(7)のGPC測定による分子量はMn=666,000、分子量分布Mw/Mn=2.88であった。1H−NMRスペクトルにより、重合体中の単量体F由来の構造体及び単量体B由来の構造体の組成比はF/B=67/33(mol/mol)であることを確認した。
ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム[Pd(C17H14O)2]0.0057g(1.0×10-5mol)、トリフェニルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート{[Ph3C][B(C6F5)4]}0.0092g(1.0×10-5mol)、トリシクロヘキシルホスフィン(PCy3)0.0028g(1.0×10-5mol)をそれぞれトルエン10mlに溶解させ、触媒溶液を調製した。次に、窒素置換したガラス製容器中で、式(12)で表される単量体G217.7g(0.56mol)と、式(7)で表される単量体B22.5g(0.24mol)をトルエン600mlに溶解した。そこへ調製した触媒溶液を添加し、55℃で16時間重合反応を行った。
反応終了後、多量のメタノール中に注いでポリマーを析出させ、濾別洗浄後、120℃で12時間減圧乾燥し、149g(収率62%)のポリマーP(8)が得られた。
得られたポリマーP(8)のGPC測定による分子量はMn=554,000、分子量分布Mw/Mn=3.24であった。1H−NMRスペクトルにより、重合体中の単量体G由来の構造体及び単量体B由来の構造体の組成比はG/B=67/33(mol/mol)であることを確認した。
本発明の高気体透過性環状オレフィン付加重合体は、特定構造の多成分系触媒を用いて、容易に、且つ、高効率で製造することができる。
Claims (12)
- 下記式(1)で表される環状オレフィン官能性シロキサン、又はこの式(1)の環状オレフィン官能性シロキサンと、下記式(2)で表される環状オレフィン化合物とを付加重合することにより得られ、下記式(1)で表される環状オレフィン官能性シロキサンに由来する構造単位の割合が、付加重合体中5〜100モル%であり、THFを溶媒とするGPCで測定されるポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)が10,000〜2,000,000であることを特徴とする高気体透過性環状オレフィン付加重合体。
(式(1)中のR1は互いに同一又は異種の脂肪族不飽和結合を有さない炭素数1〜10の非置換又はハロゲン原子置換の一価のアルキル基であり、sは0〜2の整数であり、iは0又は1であり、jは1〜4の整数を示す。)
(式(2)中のA1〜A4は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜10のアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基及びハロゲン化炭化水素基から選ばれる置換基、又はオキセタニル基及びアルコキシカルボニル基から選ばれる極性を有する置換基である。また、A1とA2又はA1とA3とが、それぞれが結合する炭素原子と共に脂環構造、芳香環構造、カルボンイミド基又は酸無水物基を形成してもよい。kは0又は1を示す。) - 式(1)中のR1がメチル基であり、sが0であり、jが2である請求項1記載の高気体透過性環状オレフィン付加重合体。
- 式(1)中のR1がメチル基であり、sが1であり、jが2である請求項1記載の高気体透過性環状オレフィン付加重合体。
- 式(1)中のR1がメチル基であり、sが2であり、jが2である請求項1記載の高気体透過性環状オレフィン付加重合体。
- 式(2)中のA1〜A4がいずれも水素原子であり、kが0である請求項1〜4のいずれか1項記載の高気体透過性環状オレフィン付加重合体。
- 下記化合物(A)、(B)及び(C)を含む多成分系触媒の存在下、下記式(1)で表される環状オレフィン官能性シロキサン、又はこの式(1)の環状オレフィン官能性シロキサンと下記式(2)で表される環状オレフィン化合物とを付加重合することを特徴とする請求項1記載の高気体透過性環状オレフィン付加重合体の製造方法。
〔化合物(A)〕
ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム、(エテン)ビス(トリシクロヘキシルホスフィン)パラジウム、カルボニルトリス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ビス(t−ブチルイソシアニド)パラジウムから選ばれる0価のパラジウム化合物。
〔化合物(B)〕
トリフェニルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリフェニルカルベニウムテトラキス[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル]ボレート、N,N−ジメチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、リチウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート−エチルエーテルコンプレックスから選ばれるイオン性ホウ素化合物。
〔化合物(C)〕
トリイソプロピルホスフィン、トリt−ブチルホスフィン、トリシクロペンチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリフェニルホスフィン、ジt−ブチルフェニルホスフィンから選ばれるホスフィン化合物。
(式(1)中のR1は互いに同一又は異種の脂肪族不飽和結合を有さない炭素数1〜10の非置換又はハロゲン置換の一価のアルキル基であり、sは0〜2の整数であり、iは0又は1であり、jは1〜4の整数を示す。)
(式(2)中のA1〜A4は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜10のアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基及びハロゲン化炭化水素基から選ばれる置換基、又はオキセタニル基及びアルコキシカルボニル基から選ばれる極性を有する置換基である。また、A1とA2又はA1とA3とが、それぞれが結合する炭素原子と共に脂環構造、芳香環構造、カルボンイミド基又は酸無水物基を形成してもよい。kは0又は1を示す。) - 化合物(A)が0価のパラジウム1個にジベンジリデンアセトン2個が配位した錯体であるビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム、化合物(B)がトリフェニルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、化合物(C)がトリシクロヘキシルホスフィンである請求項6記載の高気体透過性環状オレフィン付加重合体の製造方法。
- 式(1)中のR1がメチル基であり、sが0であり、jが2である請求項6又は7記載の高気体透過性環状オレフィン付加重合体の製造方法。
- 式(1)中のR1がメチル基であり、sが1であり、jが2である請求項6又は7記載の高気体透過性環状オレフィン付加重合体の製造方法。
- 式(1)中のR1がメチル基であり、sが2であり、jが2である請求項6又は7記載の高気体透過性環状オレフィン付加重合体の製造方法。
- 式(2)中のA1〜A4がいずれも水素原子であり、kが0である請求項6〜10のいずれか1項記載の高気体透過性環状オレフィン付加重合体の製造方法。
- 不活性ガス雰囲気下、0〜150℃で1〜72時間付加重合する請求項6〜11のいずれか1項記載の高気体透過性環状オレフィン付加重合体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011067614A JP5585508B2 (ja) | 2011-03-25 | 2011-03-25 | 環状オレフィン付加重合体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011067614A JP5585508B2 (ja) | 2011-03-25 | 2011-03-25 | 環状オレフィン付加重合体及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2012201794A JP2012201794A (ja) | 2012-10-22 |
| JP5585508B2 true JP5585508B2 (ja) | 2014-09-10 |
Family
ID=47183130
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011067614A Active JP5585508B2 (ja) | 2011-03-25 | 2011-03-25 | 環状オレフィン付加重合体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5585508B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5849889B2 (ja) * | 2011-08-02 | 2016-02-03 | 株式会社デンソー | 空調システム |
| JP7703506B2 (ja) * | 2022-11-10 | 2025-07-07 | 信越化学工業株式会社 | ミラブル型シリコーンゴム組成物及びシリコーンゴム硬化物 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH066609B2 (ja) * | 1987-05-08 | 1994-01-26 | 株式会社メニコン | コンタクトレンズ材料 |
| JP2800051B2 (ja) * | 1989-12-25 | 1998-09-21 | 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 | オルガノポリシロキサンおよびその製造方法 |
| US5853642A (en) * | 1994-07-29 | 1998-12-29 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Process for the in-line polymerization of olefinic monomers |
| DE19934407A1 (de) * | 1999-07-22 | 2001-01-25 | Espe Dental Ag | Hydrolysierbare und polymerisierbare Silane mit geringer Viskosität und deren Verwendung |
| JP4737451B2 (ja) * | 2000-12-22 | 2011-08-03 | Jsr株式会社 | 架橋樹脂フィルム、およびその用途 |
| JP5167581B2 (ja) * | 2005-08-30 | 2013-03-21 | Jsr株式会社 | 光学基板およびその製造方法 |
| JP5353043B2 (ja) * | 2008-04-11 | 2013-11-27 | 信越化学工業株式会社 | 環状オレフィン付加重合体及びその製造方法 |
| JP2010174099A (ja) * | 2009-01-28 | 2010-08-12 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 環状オレフィン付加重合体及びその製造方法 |
-
2011
- 2011-03-25 JP JP2011067614A patent/JP5585508B2/ja active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2012201794A (ja) | 2012-10-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2010174099A (ja) | 環状オレフィン付加重合体及びその製造方法 | |
| JP5212659B2 (ja) | 高気体透過性環状オレフィン付加重合体の製造方法 | |
| TW200925175A (en) | Directly photodefinable polymer compositions and methods thereof | |
| TW200535149A (en) | Process for producing cycloolefin addition polymer | |
| JP2014524487A (ja) | 環状オレフィン系高分子化合物およびその製造方法 | |
| JP5353043B2 (ja) | 環状オレフィン付加重合体及びその製造方法 | |
| JP5738097B2 (ja) | ノルボルネン系重合体の製造方法 | |
| WO2005019277A1 (ja) | 環状オレフィン系付加重合体の製造方法 | |
| JP5585508B2 (ja) | 環状オレフィン付加重合体及びその製造方法 | |
| JP2011084681A (ja) | 高気体透過性環状オレフィン付加重合体及びその製造方法 | |
| JP4242403B2 (ja) | 酸素富化膜及び該膜形成用組成物 | |
| JP4645858B2 (ja) | 環状オレフィン付加共重合体及びその製造方法、架橋用組成物、架橋体及びその製造方法 | |
| JP2011012113A (ja) | シロキサン官能性環状オレフィン(共)重合体の非対称膜及びその製造方法 | |
| WO2001030887A1 (fr) | Procede de polymerisation de silalkylenesiloxanes | |
| JP2007291150A (ja) | 高酸素透過性重合体 | |
| JP5834017B2 (ja) | ノルボルネン系モノマー重合用触媒及びノルボルネン系重合体の製造方法 | |
| JP2014040532A (ja) | 環状オレフィン付加重合体及びその製造方法 | |
| JPS6284126A (ja) | ポリ二置換アセチレン/ポリオルガノシロキサングラフト共重合体 | |
| JP2009275130A (ja) | ケイ素含有基を有する脂環式重合体及びその製造方法 | |
| JP5017793B2 (ja) | 環状オレフィン系付加重合体の製造方法 | |
| JP2011225632A (ja) | ノルボルネン系共重合体の製造方法 | |
| JP2013091759A (ja) | 樹脂微粒子 | |
| KR20090108551A (ko) | 환상 올레핀 부가 중합체 및 그의 제조 방법 | |
| JPS6168106A (ja) | 超薄膜の製造方法 | |
| JPS60225606A (ja) | 選択性気体透過膜 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130226 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130716 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130827 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131011 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140624 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140707 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5585508 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |