JP5587895B2 - 三価クロムめっき浴からのクロムめっき方法 - Google Patents
三価クロムめっき浴からのクロムめっき方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5587895B2 JP5587895B2 JP2011534570A JP2011534570A JP5587895B2 JP 5587895 B2 JP5587895 B2 JP 5587895B2 JP 2011534570 A JP2011534570 A JP 2011534570A JP 2011534570 A JP2011534570 A JP 2011534570A JP 5587895 B2 JP5587895 B2 JP 5587895B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- anode
- chromium
- manganese
- plating bath
- oxide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/04—Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium
- C25D3/06—Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium from solutions of trivalent chromium
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
(a)三価クロムイオン;
(b)硫酸イオン及び/又はスルホン酸イオン;並びに
(c)マンガンイオン;
前記基板が陰極となり、並びに酸化イリジウム、酸化ルテニウム及び/又はプラチナを含む表面被覆を含む不溶性陽極が使用される。
前記めっき浴が(a)〜(c)を含み、
(a)三価クロムイオン;
(b)硫酸イオン及び/又はスルホン酸イオン;並びに
(c)マンガンイオン;
前記基板が陰極となり、及び不溶性陽極が使用される。
本発明の効果をテストするために、有効期間の最後まで使用され、且つかなりの量の六価クロムを生成した酸化イリジウム被覆タンタル陽極を使用した。これは、陽イオン交換膜を備えるセルに導入された。セルの両側を三価クロムめっき電解質で満たした。セルの目的は、陽極及び陰極反応を分離して、陽極で生成された六価クロムが陰極で減らないようにした。よって、これは「最悪の事態」シナリオを表すと考えた。
図1は、以下の物質を含む三価クロム電解質を使用して得た結果を示す。
7g/L 塩基性硫酸クロムとして添加された金属クロム
160g/L 硫酸ナトリウム
75g/L ホウ酸
10g/L リンゴ酸
セルは、陽極電流密度5amps/dm2、pH3.4を用いて60℃で操作された。陽極液の体積は、350mLであった。
Claims (6)
- 基板に金属クロムをめっきする方法であって、
前記方法は、前記基板をめっき溶液に接触させる工程を含み、
前記めっき溶液が(a)〜(c)を含み、
(a)三価クロムイオン;
(b)硫酸イオン又はスルホン酸イオン;並びに
(c)マンガンイオン;
前記基板が陰極となり、及び不溶性陽極が使用され、
前記不溶性陽極が、酸化イリジウム、酸化タンタル又は酸化ルテニウムを含む表面被覆で被覆された金属陽極、及び、酸化イリジウム被覆タンタル陽極のいずれかから選択されることを特徴とする方法。 - めっき溶液が、更に、リンゴ酸及びホウ酸を含む請求項1に記載の方法。
- 不溶性陽極が、酸化イリジウムと酸化タンタルとの混合物を含む表面被覆で被覆された金属陽極である請求項1に記載の方法。
- 不溶性陽極が、酸化イリジウム又は酸化ルテニウムを含む表面被覆で被覆された金属陽極である請求項1に記載の方法。
- マンガンイオンの濃度が0.05g/L〜0.7g/Lである請求項1から4のいずれかに記載の方法。
- マンガンイオンの濃度が0.05g/L〜0.5g/Lである請求項5に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US12/261,352 | 2008-10-30 | ||
| US12/261,352 US7780840B2 (en) | 2008-10-30 | 2008-10-30 | Process for plating chromium from a trivalent chromium plating bath |
| PCT/US2009/058143 WO2010051118A1 (en) | 2008-10-30 | 2009-09-24 | Process for plating chromium from a trivalent chromium plating bath |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2012511099A JP2012511099A (ja) | 2012-05-17 |
| JP5587895B2 true JP5587895B2 (ja) | 2014-09-10 |
Family
ID=42129191
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011534570A Active JP5587895B2 (ja) | 2008-10-30 | 2009-09-24 | 三価クロムめっき浴からのクロムめっき方法 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7780840B2 (ja) |
| EP (1) | EP2350354B1 (ja) |
| JP (1) | JP5587895B2 (ja) |
| CN (1) | CN102177281B (ja) |
| ES (1) | ES2712725T3 (ja) |
| PL (1) | PL2350354T3 (ja) |
| TR (1) | TR201902607T4 (ja) |
| TW (1) | TWI425121B (ja) |
| WO (1) | WO2010051118A1 (ja) |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8512541B2 (en) | 2010-11-16 | 2013-08-20 | Trevor Pearson | Electrolytic dissolution of chromium from chromium electrodes |
| CA2869032C (en) | 2012-03-30 | 2016-07-05 | Tata Steel Ijmuiden B.V. | Coated substrate for packaging applications and a method for producing said coated substrate |
| CA2892114C (en) | 2012-11-21 | 2017-02-28 | Tata Steel Ijmuiden B.V. | Chromium-chromium oxide coatings applied to steel substrates for packaging applications and a method for producing said coatings |
| JP6142198B2 (ja) * | 2013-05-31 | 2017-06-07 | 奥野製薬工業株式会社 | 3価クロムめっき用アノードの再生処理方法 |
| JP6142199B2 (ja) * | 2013-06-11 | 2017-06-07 | 奥野製薬工業株式会社 | 3価クロムめっき用アノードの再生処理方法 |
| RU2692538C2 (ru) * | 2013-06-20 | 2019-06-25 | Тата Стил Эймейден Б.В. | Способ изготовления подложек с покрытием на основе хрома - оксида хрома |
| CO7190036A1 (es) * | 2014-02-11 | 2015-02-19 | Garcia Carlos Enrique Muñoz | Proceso de cromado trivalente continuo |
| US10415148B2 (en) * | 2014-03-07 | 2019-09-17 | Macdermid Acumen, Inc. | Passivation of micro-discontinuous chromium deposited from a trivalent electrolyte |
| JP6332677B2 (ja) * | 2014-05-01 | 2018-05-30 | 奥野製薬工業株式会社 | 3価クロムめっき方法 |
| CN106319577A (zh) * | 2015-07-02 | 2017-01-11 | 阿克陶科邦锰业制造有限公司 | 节能环保阳极板 |
| CN105063676A (zh) * | 2015-08-17 | 2015-11-18 | 内蒙古第一机械集团有限公司 | 一种三价铬电镀硬铬的方法 |
| DE102018133532A1 (de) * | 2018-12-21 | 2020-06-25 | Maschinenfabrik Kaspar Walter Gmbh & Co Kg | Elektrolyt und Verfahren zur Herstellung von Chromschichten |
| EP4151779A1 (de) | 2021-09-15 | 2023-03-22 | Trivalent Oberflächentechnik GmbH | Chrom-indium-, chrom-bismut- und chrom-antimon-beschichtung, verfahren zur herstellung und verwendung |
| CN118786251A (zh) * | 2022-04-21 | 2024-10-15 | 马赫内托特殊阳极有限公司 | 用于电沉积的具有金属中间层的阳极 |
| DE102024105074A1 (de) | 2024-02-22 | 2025-08-28 | Trivalent Oberflächentechnik Gmbh | Verfahren zur wenigstens teilweisen Beschichtung eines Substrats mit einer dreiwertigen Chromschicht |
Family Cites Families (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1455580A (en) * | 1973-12-13 | 1976-11-17 | Albright & Wilson | Electrodeposition of chromium |
| US3932198A (en) | 1974-05-24 | 1976-01-13 | Amchem Products, Inc. | Coating solution having trivalent chromium and manganese for coating metal surfaces |
| IT1025405B (it) | 1974-10-31 | 1978-08-10 | Oronzio De Nora Impianti | Procedimento per la produzione elettrolitica dei metalli |
| US4141803A (en) * | 1975-12-03 | 1979-02-27 | International Business Machines Corporation | Method and composition for electroplating chromium and its alloys and the method of manufacture of the composition |
| AU510617B2 (en) | 1975-12-18 | 1980-07-03 | Albright & Wilson (Australia) Limited | Trivalent chromium electroplating baths |
| GB1591051A (en) * | 1977-01-26 | 1981-06-10 | Ibm | Electroplating chromium and its alloys |
| GB1602404A (en) | 1978-04-06 | 1981-11-11 | Ibm | Electroplating of chromium |
| JPS5531122A (en) * | 1978-08-25 | 1980-03-05 | Toyo Soda Mfg Co Ltd | Chrome plating bath |
| GB2071151B (en) * | 1980-03-10 | 1983-04-07 | Ibm | Trivalent chromium electroplating |
| US4439285A (en) * | 1980-11-10 | 1984-03-27 | Omi International Corporation | Trivalent chromium electrolyte and process employing neodymium reducing agent |
| GB2093861B (en) * | 1981-02-09 | 1984-08-22 | Canning Materials W Ltd | Bath for electrodeposition of chromium |
| DE3268722D1 (en) * | 1981-03-09 | 1986-03-13 | Battelle Development Corp | High-rate chromium alloy plating |
| US4359345A (en) * | 1981-04-16 | 1982-11-16 | Occidental Chemical Corporation | Trivalent chromium passivate solution and process |
| GB2109816B (en) * | 1981-11-18 | 1985-01-23 | Ibm | Electrodeposition of chromium |
| GB2109817B (en) * | 1981-11-18 | 1985-07-03 | Ibm | Electrodeposition of chromium |
| GB2109815B (en) * | 1981-11-18 | 1985-09-04 | Ibm | Electrodepositing chromium |
| FR2525911A1 (fr) * | 1982-04-30 | 1983-11-04 | Centre Nat Rech Scient | Nouveau procede de distillation fractionnee et applications a la production d'energie thermique ou mecanique a partir de deux sources de chaleur a bas niveau |
| IT1206164B (it) * | 1983-05-12 | 1989-04-14 | Omi Int Corp | Elettrolita di cromo trivalente eprocedimento per la sua applicazione e rigenerazione |
| CN1010789B (zh) * | 1989-07-23 | 1990-12-12 | 厦门大学 | 彩色镀铬 |
| JP3188361B2 (ja) * | 1994-06-27 | 2001-07-16 | ペルメレック電極株式会社 | クロムめっき方法 |
| JP3724096B2 (ja) * | 1997-02-17 | 2005-12-07 | 功二 橋本 | 酸素発生用電極とその製造方法 |
| CN101092721B (zh) * | 2006-06-19 | 2010-11-03 | 比亚迪股份有限公司 | 一种用于三价铬电镀的镀液和使用该镀液的电镀方法 |
-
2008
- 2008-10-30 US US12/261,352 patent/US7780840B2/en active Active
-
2009
- 2009-09-24 TR TR2019/02607T patent/TR201902607T4/tr unknown
- 2009-09-24 ES ES09823983T patent/ES2712725T3/es active Active
- 2009-09-24 PL PL09823983T patent/PL2350354T3/pl unknown
- 2009-09-24 CN CN2009801398795A patent/CN102177281B/zh active Active
- 2009-09-24 JP JP2011534570A patent/JP5587895B2/ja active Active
- 2009-09-24 EP EP09823983.3A patent/EP2350354B1/en active Active
- 2009-09-24 WO PCT/US2009/058143 patent/WO2010051118A1/en not_active Ceased
- 2009-10-28 TW TW098136448A patent/TWI425121B/zh active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20100108532A1 (en) | 2010-05-06 |
| TR201902607T4 (tr) | 2019-03-21 |
| CN102177281A (zh) | 2011-09-07 |
| EP2350354A1 (en) | 2011-08-03 |
| TW201026906A (en) | 2010-07-16 |
| ES2712725T3 (es) | 2019-05-14 |
| WO2010051118A1 (en) | 2010-05-06 |
| EP2350354A4 (en) | 2015-03-11 |
| PL2350354T3 (pl) | 2019-07-31 |
| TWI425121B (zh) | 2014-02-01 |
| CN102177281B (zh) | 2013-09-04 |
| JP2012511099A (ja) | 2012-05-17 |
| EP2350354B1 (en) | 2019-01-23 |
| US7780840B2 (en) | 2010-08-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5587895B2 (ja) | 三価クロムめっき浴からのクロムめっき方法 | |
| EP2963156B1 (en) | Method for manufacturing reduced glutathione | |
| WO2014079911A2 (en) | Method for electrodeposition of chromium containing coatings from trivalent chromium based electrolytes | |
| JP2000355774A (ja) | めっき方法とそれに用いるめっき液前駆体 | |
| US20120279869A1 (en) | Chromium plating method | |
| US4377450A (en) | Palladium electroplating procedure | |
| KR101364650B1 (ko) | 전기분해를 이용한 니켈의 회수방법 | |
| JPH08100282A (ja) | 次亜燐酸ニッケルの製造方法 | |
| TWI702313B (zh) | 鍍鉻液、電鍍方法及鍍鉻液之製造方法 | |
| IL234528A (en) | Stabilization of aqueous solution of organic iron salt | |
| JPS6353267B2 (ja) | ||
| JP2982658B2 (ja) | 電気めっき液中の金属濃度の低下方法 | |
| JP4517177B2 (ja) | 無電解ニッケルめっき液の処理方法 | |
| JP2022083947A (ja) | アルミニウムまたはアルミニウム合金の陽極酸化処理法及び陽極酸化皮膜の封孔処理法 | |
| JP2007302925A (ja) | 酸素発生用電極 | |
| JP6687637B2 (ja) | 三塩化チタン溶液の製造方法及び三塩化チタン溶液の製造装置 | |
| ES2992438T3 (es) | Dispositivo de tratamiento electrolítico para preparar partes de plástico a metalizar y un método para atacarquímicamente partes de plástico | |
| Curry | Electrolytic precipitation of bronzes | |
| JP3304221B2 (ja) | 塩化アルカリ水溶液中の塩素酸塩の除去方法 | |
| JPH09111492A (ja) | 金属板の連続電気メッキ法 | |
| JPS5893886A (ja) | 電気メツキ方法 | |
| Concheso Álvarez et al. | An iron electrolyte, its process of obtainment and iron redox flow battery comprising said electrolyte | |
| JP2014234521A (ja) | 三塩化チタン溶液の製造方法及び三塩化チタン溶液 | |
| JP2010150606A (ja) | 電解再生式の無電解スズメッキ方法 | |
| JP2008088520A (ja) | めっき方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130726 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131001 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131206 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140715 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140724 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5587895 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |