JP5589648B2 - ハードコート付きλ／４板、その製造方法、偏光板、液晶表示装置、及びタッチパネル部材 - Google Patents

Description

本発明は、ハードコート付きλ／４板、その製造方法、該ハードコート付きλ／４板を用いた偏光板、液晶表示装置、及びタッチパネル部材に関する。

特定の波長の直線偏光を円偏光に変換する機能を持つλ／４板にハードコート層を積層させたハードコート付きλ／４板は、近年、立体（３Ｄ）画像表示装置やタッチパネルなどの分野で需要が出てきている。

最初に立体画像表示装置について記載する。立体画像表示装置にはいくつかの方式が知られているが、その一つに液晶シャッター機能の付いた専用の立体画像視認用眼鏡を観測者が着用することで、２次元画像を立体画像として観測者に認識させる方式がある。この方式で現在有力視されているのが、画像を表示するディスプレイに視差画像である右眼用画像と左眼用画像とを時系列で交互に切り替えて映し出し、観測者は図１に示すような立体画像視認用眼鏡Ｇを着用して、液晶ディスプレイの画像を見るという方式である（例えば、特許文献１参照）。

このような液晶ディスプレイと立体画像視認用眼鏡からなる立体画像表示装置では、首を傾けた際に、輝度低下や色味の変化という問題がある。首を傾けた際の輝度低下の抑制及び色味変化の抑制ためには、液晶ディスプレイの視認側及び立体画像視認用眼鏡の目から遠い側の表面にそれぞれλ／４板を用いることが有効である。この場合、λ／４板がディスプレイや立体画像視認用眼鏡の最表面に配置されるため、耐傷性や防汚性、防眩性、反射防止などの性能を付与するために、ハードコート付きλ／４板の使用が好ましい。

次にタッチパネルについて記載する。液晶表示装置やＣＲＴ、ＥＬ、ＰＤＰなどの表示媒体の上にタッチパネル部を重ねたアウタータイプの抵抗膜式タッチパネルの場合には、外光下での視認性を良くするために上部基板の上に円偏光板（λ／４板と直線偏光板を積層した偏光板）を設けて外光反射を防止していたが、さらに薄型化が求められているため、λ／４板が電極基板も兼ねた型の部材が求められている。また、装置自体の薄型化のために、近年求められている液晶表示装置の偏光板と液晶セルの間に抵抗膜式タッチパネルの機能を挿入したインナー型タッチパネルの場合にも、λ／４板が上部電極を兼ねた型の円偏光板（λ／４板と直線偏光板を積層した偏光板）が求められている。

λ／４板上に透明電極を設ける際、λ／４板に傷がついて欠陥とならないよう、予めハードコート加工を施しておくことが一般的である。すなわち、λ／４板が電極を兼ねた部材作成の際にも、ハードコート付きλ／４板が用いられている。

さらに、λ／４板が偏光板保護フィルムとしての機能をも兼ねることができれば、従来の、ＴＡＣ（セルローストリアセテート）／ＰＶＡ偏光子／ＴＡＣ／ＰＳＡ（のり）／λ／４板の円偏光板から、ＴＡＣ／ＰＶＡ偏光子／λ／４板という更に薄型化された円偏光板を提供できる。このような観点からは鹸化処理によってＰＶＡ偏光子と直接貼合できるセルロースアシレートからなるλ／４板は圧倒的に有利である。

特許文献２には、ＴＡＣに液晶を塗布して作成したλ／４板を、粘着剤を介して液晶表示装置の視認側偏光板の前面に設け、さらにその上に接着剤を介してハードコートフィルムを積層した構成が開示されているが、この構成は結果的に視認側偏光板の前面に多層のフィルムが貼合される形となり、近年の表示装置薄型化の要望にそぐわないだけでなく、生産工程も煩雑で、さらに多層にすることで透過率が落ちやすいため、正面コントラストなどの視認性も優れない。

特許文献３には、液晶表示装置の視認側偏光板におけるＰＶＡ偏光子よりも視認側に、セルロースプロピオネートからなるλ／４板を、保護フィルム機能を備える形でＰＶＡ偏光子と隣接させて配置し、その表面にハードコート加工を施した位相差フィルムが開示されている。この構成は前記のように多層フィルムの貼合によるものではないため、生産工程が煩雑でなく薄型にもでき、コントラストの低下も起こりにくい構成だが、λ／４板にハードコート加工をする際、ハードコート用樹脂の硬化収縮によってλ／４板とハードコート層との界面に歪みエネルギーが発生し、セルロースプロピオネートからなるλ／４板の面内配向角や位相差が不本意に変動してしまう問題があった。λ／４板をアクティブシャッター方式の立体（３Ｄ）画像表示装置に用いる場合、λ／４板の位相差や面内配向角は正確にコントロールされていることが望ましく、このようにハードコート加工時に位相差や面内配向角が変動してしまうことは実用的とは言えない。特に立体画像表示装置の場合には、面内配向角の変動は立体画像に大きく影響し、３Ｄ画像のコントラスト低下など重大な課題の要因となる。

一方、特許文献４には、添加剤を多く加えたセルローストリアセテート層と、微粒子を加えたセルローストリアセテート層を共流延により積層させたλ／４ポリマーフィルムにグロー放電を施した後、ハードコート層を設けたフィルムが開示されている。この構成では、セルローストリアセテートの位相差発現性が低いため、ハードコート加工時に硬化収縮が起こってもその歪みエネルギーによる位相差や面内配向角の変動は小さいことが予想されるが、位相差発現性の低いセルローストリアセテートを使ってλ／４の位相差を達成するために、位相差を上昇させたり、物性を調整するための添加剤を大量に加えており、ハードコート加工時に塗布液による添加剤のブリードアウトが起こり、白化や密着性の悪化などの問題が発生していた。

タッチパネルの分野でも、λ／４板にハードコート加工時に白化や密着性の劣化が生じるとコントラストが落ち、外光反射防止性能が劣化するので好ましくなく、過酷な使用条件下でも白化等の故障が起きず、視認性の優れたハードコート付きλ／４板が望まれていた。

特開平８−２０１９４２号公報 特開２００９−１０３９００号公報 特開２００８−８３３０７号公報 特開２００２−１３１５４２号公報

本発明の目的は、ハードコート加工時おける面内配向角や位相差の変動、密着性の劣化等の故障のないハードコート付きλ／４板の提供とその製造方法の提供、さらには首を傾けた際の輝度低下を低減でき、コントラストの高い立体（３Ｄ）画像表示装置の提供、コントラストに優れ、外光反射防止機能を併せ持つタッチパネル部材の提供にある。

本発明の上記課題は以下の構成により達成される。

１．波長５９０ｎｍにおける面内位相差Ｒｏ（５９０）が１１０〜１７０ｎｍであるλ／４板が、下記式（１）を満たすセルロースアシレートを含む層Ａと下記式（２）を満たすセルロースアセテートを含む層Ｂとが積層された樹脂フィルムであり、前記層Ａは、レターデーション発現剤を含有し、前記層Ｂは、レターデーション低減剤を含有し、かつ該層Ｂ上にハードコート層が塗設されていることを特徴とするハードコート付きλ／４板。

式（１） ２．０＜Ｚ１＜２．７
（式中、Ｚ１は層Ａのセルロースアシレートの総アシル置換度を表す。）
式（２） ２．７≦Ｚ２
（式中、Ｚ２は層Ｂのセルロースアセテートの総アセチル置換度を表す。）
２．前記層Ａに紫外線吸収剤を１〜５質量％含み、前記層Ｂには紫外線吸収剤を含まないことを特徴とする前記１に記載のハードコート付きλ／４板。

３．前記層Ａが含有するレターデーション発現剤は円盤状構造を有する化合物を含み、前記層Ｂが含有するレターデーション低減剤はポリエステル系ポリマーを含むことを特徴とする前記１または２に記載のハードコート付きλ／４板。

４．前記層Ｂの膜厚が、前記層Ａの膜厚の２５〜５０％の範囲であることを特徴とす
る前記１〜３のいずれか１項に記載のハードコート付きλ／４板。

５．前記層Ａの前記層Ｂとは異なる面に下記式（３）を満たすセルロースアシレートを
含む層Ｃを隣接し、該層Ｃの膜厚が該層Ａの膜厚の０．２〜２５％以内であることを特徴
とする前記１〜４のいずれか１項に記載のハードコート付きλ／４板。

式（３） ２．７≦Ｚ３
（式中、Ｚ３は層Ｃのセルロースアシレートの総アシル置換度を表す。）
６．前記１〜５のいずれか１項に記載のハードコート付きλ／４板の製造方法であって、下記式（１）を満たすセルロースアシレートを含む層Ａ用ドープと下記式（２）を満たすセルロースアセテートを含む層Ｂ用ドープを共流延法により支持体上に流延し剥離したウェブを、少なくとも一方向に１．３倍以上乾燥しながら延伸して製造したλ／４板の層Ｂの表面上にハードコート層を塗設することを特徴とするハードコート付きλ／４板の製造方法。

式（１） ２．０＜Ｚ１＜２．７
（式中、Ｚ１は層Ａのセルロースアシレートの総アシル置換度を表す。）
式（２） ２．７≦Ｚ２
（式中、Ｚ２は層Ｂのセルロースアセテートの総アセチル置換度を表す。）
７．前記１〜５のいずれか１項に記載のハードコート付きλ／４板のλ／４板側と偏光子が隣接して配置され、偏光子の吸収軸と該λ／４板の遅相軸が実質的に４５°の向きとなるように配置されていることを特徴とする偏光板。

８．前記７に記載の偏光板が液晶セルよりも視認側に配置され、液晶セル、偏光子、λ／４板、ハードコート層がこの順になるように設けられていることを特徴とする液晶表示装置。

９．前記１〜５のいずれか１項に記載のハードコート付きλ／４板を含むことを特徴とするタッチパネル部材。

本発明によれば、ハードコート加工時おける面内配向角や位相差の変動、密着性の劣化等の故障のないハードコート付きλ／４板の提供とその製造方法の提供をすることができる。さらには首を傾けた際の輝度低下を低減でき、コントラストの高い立体（３Ｄ）画像表示装置の提供、コントラストに優れ、外光反射防止機能を併せ持つタッチパネル部材を提供することができる。

従来の立体画像視認用眼鏡Ｇの模式図 テンターによる斜め延伸を示す模式図である。 立体画像表示装置（メガネの偏光板が一枚の方式）の模式図 立体画像表示装置（メガネの偏光板が二枚の方式）の模式図 共流延ダイ及び流延して多層構造ウェブを形成したところを表した図である。

以下本発明を実施するための形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

本発明のハードコート付きλ／４板（以下、簡単にλ／４板という場合がある。）は、波長５９０ｎｍにおける面内位相差Ｒｏ（５９０）が１１０〜１７０ｎｍであるλ／４板であって、前記式（１）を満たすセルロースアシレートを含む層Ａと、前記式（２）を満たすセルロースアセテートを含む層Ｂが積層された樹脂フィルムであり、かつ該層Ｂ上にハードコート層が塗設されていることを特徴とする。

本明細書中において、「層Ａ」とは最も膜厚が厚い層のことをいい、「層Ｂ」とは、「層Ａ」よりも膜厚が薄く、「層Ａ」とハードコート層の間に配置されている層のことをいう。また、本発明において、「層Ａ」の「層Ｂ」と接していない面に、「層Ｃ」を設けてもよく、「層Ｃ」は、「層Ａ」よりも膜厚が薄く、本発明のハードコート付きλ／４板において、ハードコート層と一番離れた層となる。

かかる構成により、ハードコート加工時における位相差や面内配向角の変動や、密着性の劣化等の故障のないハードコート付きλ／４板を提供することができる。本発明者は、従来の低アセチル置換のセルロースアセテートやセルロースプロピーネート、または添加剤を多量に用いたセルローストリアセテートの各々単体からなるλ／４板では、上記位相差や面内配向角の変動や、ハードコート層／基材間の密着性の劣化や、画像のコントラスト低下の問題が発生するところ、式（１）で表されるセルロースアシレートを含む層Ａと式（２）で表されるセルロースアセテートを含む層Ｂを積層した樹脂フィルムをλ／４板に加工することにより、位相差や面内配向角の変動や、ハードコート層／基材間の密着性の劣化や、画像のコントラスト低下の問題を解決できることを見出し本発明を成すに至った次第である。

本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、前記層Ａに紫外線吸収剤を１〜５質量％含み、前記層Ｂには紫外線吸収剤を含まないことが好ましい。層Ｂに紫外線吸収剤を含有させると、ハードコート塗工時における位相差や面内配向角の変動や、ハードコート層／基材間の密着性の劣化が発生し易い。

前記層Ａは円盤状構造を有するレターデーション調整剤を含み、前記層Ｂはポリエステル系ポリマーを含むことが位相差を調整する上で好ましい。

また、前記層Ｂの膜厚が前記層Ａの膜厚の２５％〜５０％の範囲であることが、ハードコート層／基材間の密着性の劣化や、画像のコントラスト低下を防止するうえで好ましく、更に前記層Ａの前記層Ｂとは異なる面に前記式（３）を満たすセルロースアシレートを含む層Ｃを隣接し、該層Ｃの膜厚が該層Ａの膜厚の０．２〜２５％以内であることが、ハードコート付きλ／４板のカールを抑制する上で好ましい。

本発明のハードコート付きλ／４板の製造方法は、前記式（１）を満たすセルロースアシレートを含む層Ａ用ドープと、前記式（２）を満たすセルロースアセテートを含む層Ｂ用ドープを共流延法により支持体上に流延し剥離したウェブを乾燥しながら少なくとも一方向に１．３倍以上延伸することによって製造したλ／４板の、該層Ｂの表面上にハードコート層を塗設して製造することが好ましい実施態様である。

また、本発明のハードコート付きλ／４板は、偏光子の吸収軸と該λ／４板の遅相軸が実質的に４５°の傾きをもって貼合された円偏光板を形成し、円偏光板として液晶表示装置、特に首を傾けた際の輝度低下を低減できる立体画像表示装置に使用されることが好ましい。

更に、本発明のハードコート付きλ／４板は、薄型化に対応でき外光反射防止機能及びコントラストに優れたタッチパネル部材として好適である。

以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。

（λ／４板）
本発明に係るλ／４板とは、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または、円偏光を直線偏光に）変換する機能を有するものをいう。λ／４板は、所定の光の波長（通常、可視光領域）に対して、層の面内の位相差値Ｒｏが約１／４となるように設計されている。

本発明に係るλ／４板は、波長５９０ｎｍで測定したＲｏ（５９０）が１１０〜１７０ｎｍの範囲である。

本発明に係るλ／４板は、可視光の波長の範囲においてほぼ完全な円偏光を得るため、可視光の波長の範囲において概ね波長の１／４のレターデーションを有する位相差板（樹脂フィルム）であることが好ましい。

「可視光の波長の範囲において概ね１／４のレターデーション」とは、波長４００から７００ｎｍにおいて長波長ほどレターデーションが大きく、波長４５０ｎｍで測定した下記式（ｉ）で表されるレターデーション値であるＲｏ（４５０）と波長５９０ｎｍで測定したリターデーション値であるＲｏ（５９０）が、１＜Ｒｏ（５９０）／Ｒｏ（４５０）≦１．６ を満たすことが好ましい。さらにλ／４板として有効に機能するためには、Ｒｏ（４５０）が１００〜１２５ｎｍの範囲内であり、波長５５０ｎｍで測定したリターデーション値であるＲｏ（５５０）が１２５〜１４２ｎｍの範囲内であり、Ｒｏ（５９０）が１３０〜１５２ｎｍの範囲内の位相差フィルムであることがより好ましい。

式（ｉ）：Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（ii）：Ｒｔ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
式中、ｎｘ、ｎｙは、２３℃・５５％ＲＨ、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、５９０ｎｍの各々における屈折率ｎｘ（フィルムの面内の最大の屈折率、遅相軸方向の屈折率ともいう。）、ｎｙ（フィルム面内で遅相軸に直交する方向の屈折率）であり、ｄはフィルムの厚さ（ｎｍ）である。

Ｒｏ、Ｒｔは自動複屈折率計を用いて測定することができる。自動複屈折率計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）を用いて、２３℃、５５％ＲＨの環境下で、各波長での複屈折率測定によりＲｏを算出する。

λ／４板の遅相軸と後述する偏光子の透過軸との角度が実質的に４５°になるように積層すると円偏光板が得られる。「実質的に４５°」とは、４０〜５０°であることを意味する。λ／４板の面内の遅相軸と偏光子の透過軸との角度は、４１〜４９°であることが好ましく、４２〜４８°であることがより好ましく、４３〜４７°であることが更に好ましく、４４〜４６°であることが最も好ましい。

（セルロースアシレート、セルロースアセテート）
本発明に係るλ／４板は、下記式（１）を満たすセルロースアシレートを含む層Ａと下記式（２）を満たすセルロースアセテートを含む層Ｂとが積層された樹脂フィルムであることを特徴とする。

式（１） ２．０＜Ｚ１＜２．７
（式中、Ｚ１は層Ａのセルロースアシレートの総アシル置換度を表す。）
式（２） ２．７≦Ｚ２
（式中、Ｚ２は層Ｂのセルロースアセテートの総アセチル置換度を表す。）
まず、層Ａ用いられるセルロースアシレートについて詳細に記載する。

セルロースを構成するβ−１，４結合しているグルコース単位は、２位、３位および６位に遊離の水酸基を有している。セルロースアシレートは、これらの水酸基の一部または全部をアシル基によりアシル化した重合体（ポリマー）である。アシル置換度は、２位、３位および６位に位置するセルロースの水酸基がアシル化している割合（１００％のアシル化は置換度１）を意味する。なお、アシル基の置換度は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に規定の方法により求めたものである。

前記Ｚ１は、２．１＜Ｚ１＜２．６を満たすことがより好ましく、２．１≦Ｚ１≦２．５を満たすことがより好ましい。

セルロースアシレートの総アシル基置換度が２．０を下回る場合には、ドープ粘度の上昇によるフィルム面品質の劣化、延伸張力の上昇によるヘイズアップなどが発生することがある。また、総アシル置換度が２．７より大きい場合は、必要な位相差が得られ難い。

本発明に係る層Ａは、上記式（１）を満たすセルロースアセテートであることがより好ましく、ジアセチルセルロースであることが特に好ましい。

本発明におけるセルロースアシレートの炭素数２以上のアシル基としては、脂肪族基でもアリル基でもよく特に限定されない。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。これらの好ましい例としては、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ヘプタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、イソブタノイル基、ｔｅｒｔ−ブタノイル基、シクロヘキサンカルボニル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などを挙げることができる。これらの中でも、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基、ｔｅｒｔ−ブタノイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などがより好ましく、特に好ましくはアセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基（アシル基が炭素原子数２〜４である場合）であり、より特に好ましくはアセチル基（セルロースアシレートが、セルロースアセテートである場合）である。

一方、本発明に係る層Ｂに用いられるセルロースアセテートは、総アセチル置換度Ｚ２が、２．７以上であるセルローストリアセテートであることが、光学発現性の改善に加え、支持体からの剥離性の改善、ハードコート層との密着性改善の観点から、前記式（２）を満たすことが好ましい。より好ましくは２．８≦Ｚ２＜３．０である。

ここでいうアセチル置換度は、セルロースを構成する各無水グルコースの有する３個のヒドロキシル基（水酸基）のうち、エステル化（アセチル化）されているヒドロキシル基（水酸基）の数の平均値をいい、０〜３の範囲内の値を示す。

本発明において、アセチル基で置換されていない部分は通常ヒドロキシル基（水酸基）として存在しているものである。これらは公知の方法で合成することができる。

本発明に係るセルロースアシレート、セルロースアセテートの数平均分子量（Ｍｎ）は、３００００〜３０００００の範囲が得られるフィルムの機械的強度が強く好ましい。更に５００００〜２０００００のものが好ましく用いられる。

セルロースアシレート、セルロースアセテートの重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）の比Ｍｗ／Ｍｎの値は、１．４〜３．０であることが好ましい。

セルロースアシレート、セルロースアセテートの重量平均分子量Ｍｗ、数平均分子量Ｍｎは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて測定した。

測定条件は以下の通りである。

溶媒： メチレンクロライド
カラム： Ｓｈｏｄｅｘ Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度： ０．１質量％
検出器： ＲＩ Ｍｏｄｅｌ ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ： Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量： １．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線： 標準ポリスチレンＳＴＫ ｓｔａｎｄａｒｄ ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝１００００００〜５００の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いる。

更に本発明に係るλ／４板は、前記層Ａの前記層Ｂとは異なる面にセルロースアシレートを含む層Ｃを隣接することが好ましく、前記層Ｃに用いるセルロースアシレートは、光学発現性の改善に加え、支持体からの剥離性の改善、フィルム平面性、偏光板加工時けん化適性の観点から下記式（３）を満たすことが好ましい。

式（３） ２．７≦Ｚ３
（式中、Ｚ３は層Ｃのセルロースアシレートの総アシル置換度を表す）
該Ｚ３は、２．７≦Ｚ３＜３．０のセルローストリアセテートであることが好ましい。

該層Ｃの膜厚が該層Ａの膜厚の０．２〜２５％以内であるとフィルムの物理的性質（カール）を好適に制御できる観点から好ましい。

また、本発明に係るλ／４板が層Ｃ／層Ａ／層Ｂの積層樹脂フィルムであることが、カールを防止する観点でより好ましい。

本発明に係るセルロースアシレート、セルロースアセテートの原料のセルロースとしては、特に限定はないが、綿花リンター、木材パルプ、ケナフなどを挙げることができる。またそれらから得られたセルロースアシレート、セルロースアセテートはそれぞれ任意の割合で混合使用することができる。

セルロースのアシル化において、アシル化剤としては、酸無水物や酸クロライドを用いた場合、反応溶媒である有機溶媒としては、有機酸、例えば、酢酸、メチレンクロライド等が使用される。

触媒としては、アシル化剤が酸無水物である場合には、硫酸のようなプロトン性触媒が好ましく用いられ、アシル化剤が酸クロライド（例えば、ＣＨ_３ＣＨ_２ＣＯＣｌ）である場合には、塩基性化合物が用いられる。

また一般的なセルロースの混合脂肪酸エステルの工業的合成方法は、セルロースをアセチル基および他のアシル基に対応する脂肪酸（酢酸、プロピオン酸、吉草酸等）またはそれらの酸無水物を含む混合有機酸成分でアシル化する方法である。

具体的には特開平１０−４５８０４号公報に記載の方法を参考にして合成することができる。

以下に添加剤を説明する。

セルロースアシレート、セルロースアセテート以外の添加剤としては、可塑剤、紫外線吸収剤、レターデーション調整剤、酸化防止剤、劣化防止剤、剥離助剤、界面活性剤、染料、微粒子等がある。本発明において、微粒子以外の添加剤についてはセルロースアシレート、セルロースアセテート溶液の調製の際に添加してもよいし、微粒子分散液の調製の際に添加してもよい。液晶画像表示装置に使用する偏光板には耐熱耐湿性を付与する可塑剤、酸化防止剤や紫外線吸収剤等を添加することが好ましい。

（紫外線吸収剤）
本発明に係るλ／４板は、前記層Ａに紫外線吸収剤を１〜５質量％含み、より好ましくは１〜３質量％含み、前記層Ｂには紫外線吸収剤を含まないことが好ましい。紫外線吸収剤はセルロースアシレートと相溶性の高い化合物を用いることは当然だが、十分な紫外線吸収能を有する程度にハードコート層を塗設する側の層Ｂに含有させることは、ブリードアウトによる密着性不良の原因となりやすい。従って、紫外線吸収剤は層Ａに含有させ、層Ｂには含有させないことが好ましいが、層Ａから層Ｂへの紫外線吸収剤の拡散移動による含有はこの限りではない。

使用し得る紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物、トリアジン系化合物等を挙げることができるが、着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。また、特開平１０−１８２６２１号、同８−３３７５７４号、特開２００１−７２７８２号記載の紫外線吸収剤、特開平６−１４８４３０号、特開２００２−３１７１５号、同２００２−１６９０２０号、同２００２−４７３５７号、同２００２−３６３４２０号、同２００３−１１３３１７号記載の高分子紫外線吸収剤も好ましく用いられる。紫外線吸収剤としては、偏光子や液晶の劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れており、かつ、液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。

本発明に有用な紫外線吸収剤の具体例として、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されない。また、市販品として、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１０９、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３２６、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）９２８（何れもＢＡＳＦジャパン社製）を好ましく使用できる。高分子紫外線吸収剤としては、大塚化学社製の反応型紫外線吸収剤ＲＵＶＡ−９３を例として挙げることができる。

ベンゾフェノン系化合物の具体例として、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）等を挙げることができるが、これらに限定されない。

本発明で好ましく用いられる上記記載の紫外線吸収剤は、透明性が高く、偏光板や液晶素子の劣化を防ぐ効果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ましく用いられる。

紫外線吸収剤のドープへの添加方法は、ドープ中で紫外線吸収剤を溶解するようなものであれば制限なく使用できるが、本発明においては紫外線吸収剤をメチレンクロライド、酢酸メチル、ジオキソラン等のセルロースエステルに対する良溶媒、又は良溶媒と低級脂肪族アルコール（メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等）のような貧溶媒との混合有機溶媒に溶解し紫外線吸収剤溶液としてセルロースエステル溶液に添加してドープとする方法が好ましい。この場合できるだけドープ溶媒組成と紫外線吸収剤溶液の溶媒組成とを同じとするか近づけることが好ましい。

（レターデーション調整剤）
本発明に係るレターデーション調整剤とは、レターデーション低減剤、レターデーション発現剤の両者をいう。

本発明に係るλ／４板は少なくとも層Ａ、層Ｂの積層された構成になっており、層Ｂに直接ハードコート加工されることを特徴とする。したがって、ハードコート塗工時にλ／４板からレターデーション調整剤がブリードアウトし、白化や密着性の悪化などの故障を引き起こさないようにするため、層Ｂに含ませるレターデーション調整剤は、ポリエステル系ポリマーのような、ブリードアウトしにくいものを用いることが好ましい。

また、本発明に係るλ／４板の位相差を出すためには、層Ａにレターデーション発現剤、および低減剤を添加することが好ましく、層Ａにも光学値調整および物性調整の点から、５〜１０質量％のポリエステル系ポリマーを加えることが好ましい。

本発明に係るλ／４板の層Ｂ上にハードコート加工すると、白化や密着性の悪化などの故障のないハードコート付きλ／４板が提供できる。

（レターデーション低減剤）
本発明に係るλ／４板にレターデーション低減剤として用いられる高分子量添加剤は、その化合物中に繰り返し単位を有するものであり、数平均分子量が７００〜１００００のものが好ましい。高分子量添加剤は、溶液流延法において、溶媒の揮発速度を速めたり、残留溶媒量を低減する機能も有する。さらに、機械的性質向上、柔軟性付与、耐吸水性付与、水分透過率低減等のフィルム改質の観点で、有用な効果を示す。

ここで、本発明における高分子量添加剤の数平均分子量は、より好ましくは数平均分子量７００〜８０００であり、さらに好ましくは数平均分子量７００〜５０００であり、特に好ましくは数平均分子量１０００〜５０００である。

以下、本発明に用いられる高分子量添加剤について、その具体例を挙げながら詳細に説明するが、本発明で用いられる高分子量添加剤がこれらのものに限定されるわけでないことは言うまでもない。

高分子系添加剤としては、ポリエステル系ポリマー、スチレン系ポリマーおよびアクリル系ポリマーおよびこれら等の共重合体から選択され、脂肪族ポリエステル、アクリル系ポリマーおよびスチレン系ポリマーが好ましい。また、スチレン系ポリマー、アクリル系ポリマーといった、負の固有複屈折を有するポリマーを少なくとも一種含まれることが好ましい。

前記ポリエステル系ポリマーとしては、炭素数２〜２０の脂肪族ジカルボン酸と、炭素数２〜１２の脂肪族ジオール、炭素数４〜２０のアルキルエーテルジオールから選ばれる少なくとも１種類以上のジオールとの反応によって得られるものであり、かつ反応物の両末端は反応物のままでもよいが、さらにモノカルボン酸類やモノアルコール類またはフェノール類を反応させて、所謂末端の封止を実施してもよい。この末端封止は、特にフリーなカルボン酸類を含有させないために実施されることが、保存性などの点で有効である。本発明に係るポリエステル系ポリマーに使用されるジカルボン酸は、炭素数４〜２０の脂肪族ジカルボン酸残基または炭素数８〜２０の芳香族ジカルボン酸残基であることが好ましい。

本発明で好ましく用いられる炭素数２〜２０の脂肪族ジカルボン酸としては、例えば、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、マレイン酸、フマル酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸および１，４−シクロヘキサンジカルボン酸が挙げられる。

これらの中でも好ましい脂肪族ジカルボン酸としては、マロン酸、コハク酸、マレイン酸、フマル酸、グルタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸である。特に好ましくは、脂肪族ジカルボン酸成分としてはコハク酸、グルタル酸、アジピン酸である。

高分子量添加剤に利用されるジオールは、例えば、炭素数２〜２０の脂肪族ジオール、炭素数４〜２０のアルキルエーテルジオールから選ばれるものである。

炭素原子２〜２０の脂肪族ジオールとしては、アルキルジオールおよび脂環式ジオール類を挙げることができ、例えば、エタンジオール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロ−ルペンタン）、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２−メチル−１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−オクタデカンジオール等があり、これらのグリコールは、１種または２種以上の混合物として使用される。

好ましい脂肪族ジオールとしては、エタンジオール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノールであり、特に好ましくはエタンジオール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノールである。

炭素数４〜２０のアルキルエーテルジオールとしては、好ましくは、ポリテトラメチレンエーテルグリコール、ポリエチレンエーテルグリコールおよびポリプロピレンエーテルグリコールならびにこれらの組み合わせが挙げられる。その平均重合度は、特に限定されないが好ましくは２〜２０であり、より好ましくは２〜１０であり、さらには２〜５であり、特に好ましくは２〜４である。これらの例としては、典型的に有用な市販のポリエーテルグリコール類としては、カーボワックス（Ｃａｒｂｏｗａｘ）レジン、プルロニックス（Ｐｌｕｒｏｎｉｃｓ）レジンおよびニアックス（Ｎｉａｘ）レジンが挙げられる。

本発明においては、特に末端がアルキル基あるいは芳香族基で封止された高分子量添加剤であることが好ましい。これは、末端を疎水性官能基で保護することにより、高温高湿での経時劣化に対して有効であり、エステル基の加水分解を遅延させる役割を示すことが要因となっている。

本発明に用いられるポリエステル添加剤の両末端がカルボン酸やＯＨ基とならないように、モノアルコール残基やモノカルボン酸残基で保護することが好ましい。

この場合、モノアルコールとしては炭素数１〜３０の置換、無置換のモノアルコールが好ましく、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、ペンタノール、イソペンタノール、ヘキサノール、イソヘキサノール、シクロヘキシルアルコール、オクタノール、イソオクタノール、２−エチルヘキシルアルコール、ノニルアルコール、イソノニルアルコール、ｔｅｒｔ−ノニルアルコール、デカノール、ドデカノール、ドデカヘキサノール、ドデカオクタノール、アリルアルコール、オレイルアルコールなどの脂肪族アルコール、ベンジルアルコール、３−フェニルプロパノールなどの置換アルコールなどが挙げられる。

好ましく使用され得る末端封止用アルコールは、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、イソペンタノール、ヘキサノール、イソヘキサノール、シクロヘキシルアルコール、イソオクタノール、２−エチルヘキシルアルコール、イソノニルアルコール、オレイルアルコール、ベンジルアルコールであり、特にはメタノール、エタノール、プロパノール、イソブタノール、シクロヘキシルアルコール、２−エチルヘキシルアルコール、イソノニルアルコール、ベンジルアルコールである。

また、モノカルボン酸残基で封止する場合は、モノカルボン酸残基として使用されるモノカルボン酸は、炭素数１〜３０の置換、無置換のモノカルボン酸が好ましい。これらは、脂肪族モノカルボン酸でも芳香族環含有カルボン酸でもよい。好ましい脂肪族モノカルボン酸について記述すると、酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、カプリル酸、カプロン酸、デカン酸、ドデカン酸、ステアリン酸、オレイン酸が挙げられ、芳香族環含有モノカルボン酸としては、例えば安息香酸、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチル安息香酸、ｐ−ｔｅｒｔ−アミル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸等があり、これらはそれぞれ１種または２種以上を使用することができる。

かかる本発明に用いられる高分子量添加剤の合成は、常法により上記ジカルボン酸とジオールおよび／または末端封止用のモノカルボン酸またはモノアルコール、とのポリエステル化反応またはエステル交換反応による熱溶融縮合法か、あるいはこれら酸の酸クロライドとグリコール類との界面縮合法のいずれかの方法によっても容易に合成し得るものである。これらのポリエステル系添加剤については、村井孝一編者「添加剤 その理論と応用」（株式会社幸書房、昭和４８年３月１日初版第１版発行）に詳細な記載がある。また、特開平０５−１５５８０９号、特開平０５−１５５８１０号、特開平５−１９７０７３号、特開２００６−２５９４９４号、特開平０７−３３０６７０号、特開２００６−３４２２２７号、特開２００７−００３６７９号各公報などに記載されている素材を利用することもできる。

前記スチレン系ポリマーは、好ましくは、一般式（１）で表される、芳香族ビニル系単量体から得られる構造単位である。

式中、Ｒ^１０１〜Ｒ^１０４は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、酸素原子、硫黄原子、窒素原子またはケイ素原子を含む連結基を有していてもよい、置換もしくは非置換の炭素原子数１〜３０の炭化水素基、または極性基を表し、Ｒ^１０４は全て同一の原子または基であっても、個々異なる原子または基であっても、互いに結合して、炭素環または複素環（これらの炭素環、複素環は単環構造でもよいし、他の環が縮合して多環構造を形成してもよい）を形成してもよい。

芳香族ビニル系単量体の具体例としては、スチレン；α−メチルスチレン、β−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレンなどのアルキル置換スチレン類；４−クロロスチレン、４−ブロモスチレンなどのハロゲン置換スチレン類；ｐ−ヒドロキシスチレン、α−メチル−ｐ−ヒドロキシスチレン、２−メチル−４−ヒドロキシスチレン、３，４−ジヒドロキシスチレンなどのヒドロキシスチレン類；ビニルベンジルアルコール類；ｐ−メトキシスチレン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシスチレン、ｍ−ｔｅｒｔ−ブトキシスチレンなどのアルコキシ置換スチレン類；３−ビニル安息香酸、４−ビニル安息香酸などのビニル安息香酸類；メチル−４−ビニルベンゾエート、エチル−４−ビニルベンゾエートなどのビニル安息香酸エステル類；４−ビニルベンジルアセテート；４−アセトキシスチレン；２−ブチルアミドスチレン、４−メチルアミドスチレン、ｐ−スルホンアミドスチレンなどのアミドスチレン類；３−アミノスチレン、４−アミノスチレン、２−イソプロペニルアニリン、ビニルベンジルジメチルアミンなどのアミノスチレン類；３−ニトロスチレン、４−ニトロスチレンなどのニトロスチレン類；３−シアノスチレン、４−シアノスチレンなどのシアノスチレン類；ビニルフェニルアセトニトリル；フェニルスチレンなどのアリールスチレン類、インデン類などが挙げられるが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。これらの単量体は、二種以上を共重合成分として用いてもよい。これらのうち、工業的に入手が容易で、かつ安価な点で、スチレン、α−メチルスチレンが好ましい。

前記アクリル系ポリマーは、好ましくは、一般式（２）で表される、アクリル酸エステル系単量体から得られる構造単位である。

式中、Ｒ^１０５〜Ｒ^１０８は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、酸素原子、硫黄原子、窒素原子もしくはケイ素原子を含む連結基を有していてもよい、置換もしくは非置換の炭素原子数１〜３０の炭化水素基、または極性基を表す。

当該アクリル酸エステル系単量体の例としては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル（ｉ−、ｎ−）、アクリル酸ブチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−、ｔｅｒｔ−）、アクリル酸ペンチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−）、アクリル酸ヘキシル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ヘプチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸オクチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ノニル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ミリスチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸（２−エチルヘキシル）、アクリル酸（ε−カプロラクトン）、アクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（３−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（４−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−メトキシエチル）、アクリル酸（２−エトキシエチル）アクリル酸フェニル、メタクリル酸フェニル、アクリル酸（２または４−クロロフェニル）、メタクリル酸（２または４−クロロフェニル）、アクリル酸（２または３または４−エトキシカルボニルフェニル）、メタクリル酸（２または３または４−エトキシカルボニルフェニル）、アクリル酸（ｏまたはｍまたはｐ−トリル）、メタクリル酸（ｏまたはｍまたはｐ−トリル）、アクリル酸ベンジル、メタクリル酸ベンジル、アクリル酸フェネチル、メタクリル酸フェネチル、アクリル酸（２−ナフチル）、アクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸（４−メチルシクロヘキシル）、メタクリル酸（４−メチルシクロヘキシル）、アクリル酸（４−エチルシクロヘキシル）、メタクリル酸（４−エチルシクロヘキシル）等、または上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたものを挙げることができるが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。これらの単量体は、２種以上を共重合成分として用いてもよい。これらのうち、工業的に入手が容易で、かつ安価な点で、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル（ｉ−、ｎ−）、アクリル酸ブチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−、ｔｅｒｔ−）、アクリル酸ペンチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−）、アクリル酸ヘキシル（ｎ−、ｉ−）、または上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたものが好ましい。

前記共重合体は、一般式（１）で表される芳香族ビニル系単量体および一般式（２）で表されるアクリル酸エステル系単量体から得られる構造単位を少なくとも１種含むものが好ましい。

式中、Ｒ^１０１〜Ｒ^１０４は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、酸素原子、硫黄原子、窒素原子またはケイ素原子を含む連結基を有していてもよい、置換もしくは非置換の炭素原子数１〜３０の炭化水素基、または極性基を表し、Ｒ^１０４は全て同一の原子または基であっても、個々異なる原子または基であっても、互いに結合して、炭素環または複素環（これらの炭素環、複素環は単環構造でもよいし、他の環が縮合して多環構造を形成してもよい）を形成してもよい。

式中Ｒ^１０５〜Ｒ^１０８は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、酸素原子、硫黄原子、窒素原子もしくはケイ素原子を含む連結基を有していてもよい、置換もしくは非置換の炭素原子数１〜３０の炭化水素基、または極性基を表す。また、共重合組成を構成する上記以外の構造として、前記単量体と共重合性に優れたものであることが好ましく、例として、無水マレイン酸、無水シトラコン酸、シス−１−シクロヘキセン−１，２−無水ジカルボン酸、３−メチル−シス−１−シクロヘキセン−１，２−無水ジカルボン酸、４−メチル−シス−１−シクロヘキセン−１，２−無水ジカルボン酸等の酸無水物、アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどのニトリル基含有ラジカル重合性単量体；アクリルアミド、メタクリルアミド、トリフルオロメタンスルホニルアミノエチル（メタ）アクリレートなどのアミド結合含有ラジカル重合性単量体；酢酸ビニルなどの脂肪酸ビニル類；塩化ビニル、塩化ビニリデンなどの塩素含有ラジカル重合性単量体；１，３−ブタジエン、イソプレン、１，４−ジメチルブタジエン等の共役ジオレフィン類をあげることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。この中で特に、スチレン−アクリル酸共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体が特に好ましい。

（低分子量添加剤）
低分子量添加剤としては、以下を挙げることができる。これらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。例えば２０℃以下と２０℃以上の紫外線吸収材料の混合や、同様に劣化防止剤の混合などである。さらにまた、赤外吸収染料としては例えば特開２００１−１９４５２２号公報に記載されている。またその添加する時期はセルロースアシレート溶液（ドープ）作製工程において何れで添加しても良いが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。さらにまた、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。

低分子量添加剤としては、特に限定されないが、以下に述べる一般式（３）〜（７）で表される化合物が挙げられる。

（式中、Ｒ^１はアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ^２およびＲ^３は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３の炭素原子数の総和は１０以上である。）

（式中、Ｒ^４およびＲ^５は、それぞれ独立に、アルキル基またはアリール基を表す。Ｒ^４およびＲ^５の炭素原子数の総和は１０以上である。）
一般式（３）において、Ｒ^１はアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ^２およびＲ^３は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。また、Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３の炭素数の総和が１０以上であることが特に好ましい。また、一般式（４）中、Ｒ^４およびＲ^５は、それぞれ独立に、アルキル基またはアリール基を表す。また、Ｒ^４およびＲ^５の炭素数の総和は１０以上であり、各々、アルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい。置換基としてはフッ素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基およびスルホンアミド基が好ましく、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基およびスルホンアミド基が特に好ましい。また、アルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素数１〜２５のものが好ましく、６〜２５のものがより好ましく、６〜２０のもの（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、アミル基、イソアミル基、ｔｅｒｔ−アミル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ビシクロオクチル基、ノニル基、アダマンチル基、デシル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、ジデシル基）が特に好ましい。アリール基としては炭素数が６〜３０のものが好ましく、６〜２４のもの（例えば、フェニル基、ビフェニル基、テルフェニル基、ナフチル基、ビナフチル基、トリフェニルフェニル基）が特に好ましい。一般式（３）または一般式（４）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。

一般式（３）または一般式（４）で表される化合物は、以下の方法にて作成することができる。

一般式（３）の化合物は、スルホニルクロリド誘導体とアミン誘導体との縮合反応により得ることができる。また、一般式（４）の化合物は、スルフィドの酸化反応もしくは芳香族化合物とスルホン酸クロリドのＦｒｉｅｄｅｌ−Ｃｒａｆｔｓ反応により得ることができる。

次に、一般式（５）で表される化合物に関して詳細に説明する。

上記一般式（５）において、Ｒ^１１はアリール基を表す。Ｒ^１２およびＲ^１３は、それぞれ独立に、アルキル基またはアリール基を表し、少なくとも一方はアリール基である。Ｒ^１２がアリール基であるとき、Ｒ^１３はアルキル基でもアリール基でもよいが、アルキル基であることがより好ましい。ここで、アルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素数が１〜２０のものが好ましく、１〜１５のものがさらに好ましく、１〜１２のものが最も好ましい。アリール基は炭素数が６〜３６のものが好ましく、６〜２４のものがより好ましい。

次に、一般式（６）で表される化合物に関して詳細に説明する。

上記一般式（６）において、Ｒ^２１、Ｒ^２２およびＲ^２３は、それぞれ独立にアルキル基を表す。ここで、アルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよい。Ｒ^２１は環状のアルキル基であることが好ましく、Ｒ^２２およびＲ^２３の少なくとも一方が環状のアルキル基であることがより好ましい。アルキル基は炭素数が１〜２０のものが好ましく、１〜１５のものがさらに好ましく、１〜１２のものが最も好ましい。環状のアルキル基としては、シクロヘキシル基が特に好ましい。

上記一般式（５）および（６）におけるアルキル基およびアリール基は、それぞれ置換基を有していてもよい。置換基としてはハロゲン原子（例えば、塩素、臭素、フッ素およびヨウ素）、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、スルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、シアノ基、アミノ基およびアシルアミノ基が好ましく、より好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、スルホニルアミノ基およびアシルアミノ基であり、特に好ましくはアルキル基、アリール基、スルホニルアミノ基およびアシルアミノ基である。

次に、一般式（５）および（６）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。

次に、前記一般式（７）で表される化合物について説明する。

上記一般式（７）において、Ｒ^３１、Ｒ^３２、Ｒ^３３およびＲ^３４は、それぞれ、水素原子、置換もしくは無置換の脂肪族基、または置換もしくは無置換の芳香族基を表し、脂肪族基が好ましい。脂肪族基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよく、環状であることがより好ましい。脂肪族基および芳香族基が有していてもよい置換基としては後述の置換基Ｔが挙げられるが、無置換のものが好ましい。

Ｘ^３１、Ｘ^３２、Ｘ^３３およびＸ^３４は、それぞれ、単結合、−ＣＯ−およびＮＲ^３５−（Ｒ^３５は置換もしくは無置換の脂肪族基、または置換もしくは無置換の芳香族基を表し、無置換のものおよび／または脂肪族基がより好ましい）からなる群から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基を表す。Ｘ^３１、Ｘ^３２、Ｘ^３３およびＸ^３４の組み合わせは、特に限定されないが、−ＣＯ−、−ＮＲ^３５−から選ばれるのがより好ましい。ａ、ｂ、ｃおよびｄは０以上の整数であり、０または１であることが好ましく、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄは２以上であり、２〜８であることが好ましく、より好ましくは２〜６、さらに好ましくは２〜４である。Ｚ^３１は（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ）価の有機基（環状のものを除く）を表す。Ｚ^３１の価数は２〜８が好ましく、２〜６がより好ましく、２〜４がさらに好ましく、２または３が最も好ましい。有機基とは、有機化合物からなる基をいう。

また、上記一般式（７）としては、好ましくは下記一般式（７−１）で表される化合物である。

一般式（７−１）
Ｒ^３１１−Ｘ^３１１−Ｚ^３１１−Ｘ^３１２−Ｒ^３１２
上記一般式（７−１）において、Ｒ^３１１およびＲ^３１２は、それぞれ、置換もしくは無置換の脂肪族基、または置換もしくは無置換の芳香族基を表し、脂肪族基が好ましい。脂肪族基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよく、環状であることがより好ましい。脂肪族基および芳香族基が有していてもよい置換基としては後述の置換基Ｔが挙げられるが、無置換のものが好ましい。Ｘ^３１１およびＸ^３１２は、それぞれ独立に、−ＣＯＮＲ^３１３−またはＮＲ^３１４ＣＯ−を表し、Ｒ^３１３およびＲ^３１４は、置換もしくは無置換の脂肪族基、または置換もしくは無置換の芳香族基を表し、無置換のものおよび／または脂肪族基がより好ましい。Ｚ^３１１は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ_２−、−ＣＯ−、−ＮＲ^３１５−（Ｒ^３１５は置換もしくは無置換の脂肪族基、または置換もしくは無置換の芳香族基を表し、無置換のものおよび／または脂肪族基がより好ましい）、アルキレン基およびアリーレン基から選ばれる、１種以上の基から形成される２価の有機基（環状のものを除く）を表す。Ｚ^３１１の組み合わせは特に限定されないが、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ^３１５−、およびアルキレン基から選ばれるのが好ましく、−Ｏ−、−Ｓ−およびアルキレン基から選ばれるのがさらに好ましく、−Ｏ−、−Ｓ−およびアルキレン基から選ばれるのが最も好ましい。

上記一般式（７−１）としては、好ましくは下記一般式（７−２）〜（７−４）で表される化合物である。

上記一般式（７−２）〜（７−４）において、Ｒ^３２１、Ｒ^３２２、Ｒ^３２３およびＲ^３２４は、それぞれ置換もしくは無置換の脂肪族基、または置換もしくは無置換の芳香族基を表し、脂肪族基が好ましい。脂肪族基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよく、環状であることがより好ましい。脂肪族基および芳香族基が有していてもよい置換基としては後述の置換基Ｔが挙げられるが、無置換のものが好ましい。Ｚ^３２１は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ_２−、−ＣＯ−、−ＮＲ^３２５−（Ｒ^３２５は置換もしくは無置換の脂肪族基、または置換もしくは無置換の芳香族基を表し、無置換のものおよび／または脂肪族基がより好ましい）、アルキレン基、アリーレン基から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基を表す。Ｚ^３２１の組み合わせは特に限定されないが、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ^３２５−、およびアルキレン基から選ばれるのが好ましく、−Ｏ−、−Ｓ−およびアルキレン基から選ばれるのがさらに好ましく、−Ｏ−、−Ｓ−およびアルキレン基から選ばれるのが最も好ましい。

以下に、上記の置換もしくは無置換の脂肪族基について説明する。脂肪族基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素数１〜２５のものが好ましく、６〜２５のものがより好ましく、６〜２０のものが特に好ましい。脂肪族基の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、アミル基、イソアミル基、ｔｅｒｔ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ビシクロオクチル基、アダマンチル基、ｎ−デシル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、ジデシル基などが挙げられる。

以下に、上記の芳香族基について説明する。

芳香族基は芳香族炭化水素基でも芳香族ヘテロ環基でもよく、より好ましくは芳香族炭化水素基である。芳香族炭化水素基としては、炭素数が６〜２４のものが好ましく、６〜１２のものがさらに好ましい。芳香族炭化水素基の具体例な環としては、例えば、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、ビフェニル、ターフェニルなどが挙げられる。芳香族炭化水素基としては、ベンゼン、ナフタレン、ビフェニルが特に好ましい。芳香族ヘテロ環基としては、酸素原子、窒素原子あるいは硫黄原子のうち少なくとも１つを含むものが好ましい。ヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環基としては、ピリジン、トリアジン、キノリンが特に好ましい。

また、以下に前記の置換基Ｔに関して詳細に説明する。

置換基Ｔとしては、例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１２、特に好ましくは１〜８のものであり、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基など）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１２、特に好ましくは２〜８であり、例えば、ビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基など）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１２、特に好ましくは２〜８であり、例えばプロパルギル基、３−ペンチニル基など）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは６〜２０、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニル基、ビフェニル基、ナフチル基など）、アミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは０〜１０、特に好ましくは０〜６であり、例えばアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基など）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１２、特に好ましくは１〜８であり、例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基など）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは６〜１６、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基など）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばアセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基など）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは７〜１６、特に好ましくは７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニル基など）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基など）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基など）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノ基など）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは７〜１６、特に好ましくは７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノ基など）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基など）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは０〜１６、特に好ましくは０〜１２であり、例えばスルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基など）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基など）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメチルチオ基、エチルチオ基など）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは６〜１６、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニルチオ基など）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメシル基、トシル基などが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基など）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基など）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなど）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子など）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には、例えばイミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基など）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは３〜３０、特に好ましくは３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基など）などが挙げられる。これらの置換基はさらに置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。

一般式（７）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。

一般式（５）および一般式（６）、一般式（７）の化合物は、縮合剤（例えばジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）など）を用いた、カルボン酸類とアミン類との脱水縮合反応、またはカルボン酸クロリド誘導体とアミン誘導体との置換反応などにより得ることができる。

本発明に用いられるレターデーション低減剤としては、セルロースアシレートの可塑剤として知られるおおくの化合物も有用に使用することができる。可塑剤としては、リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられる。リン酸エステルの例には、トリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）およびトリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）およびジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステルの例には、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）およびＯ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。フタル酸エステル系可塑剤（ＤＭＰ、ＤＥＰ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＰＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく用いられる。ＤＥＰおよびＤＰＰが特に好ましい。

本発明に用いられるレターデーション低減剤は、Ｒｔ低減剤であることが好適なＮｚファクターを実現する観点からより好ましい。前記レターデーション低減剤のうち、Ｒｔ低減剤としては、例えば、脂肪族ポリエステル、アクリル系ポリマーおよびスチレン系ポリマー、一般式（３）〜（７）の低分子化合物などを挙げることができ、その中でも脂肪族ポリエステル、アクリル系ポリマーおよびスチレン系ポリマーが好ましく、脂肪族ポリエステル、アクリル系ポリマーがより好ましい。

レターデーション低減剤は、セルロース系樹脂に対し、０．０１〜３０質量％の割合で添加することが好ましく、０．１〜２０質量％の割合で添加することがより好ましく、０．１〜１０質量％の割合で添加することが特に好ましい。

上記添加量を３０質量％以下とすることにより、セルロース系樹脂との相溶性を向上させることができ、白化を抑制させることができる。２種類以上のレターデーション低減剤を用いる場合、その合計量が、上記範囲内であることが好ましい。

（レターデーション発現剤）
本発明ではレターデーションを発現するために、棒状または円盤状化合物からなるものを挙げることができる。上記棒状または円盤状化合物としては、少なくとも二つの芳香族環を有する化合物をレターデーション発現剤として好ましく用いることができる。

棒状化合物からなるレターデーション発現剤の添加量は、セルロースアシレートを含むポリマー成分１００質量部に対して０．１〜３０質量部であることが好ましく、０．５〜２０質量部であることがさらに好ましい。円盤状のレターデーション発現剤は、前記セルロースアシレートを含むポリマー成分１００質量部に対して、０．０５〜２０質量部の範囲で使用することが好ましく、１．０〜１５質量部の範囲で使用することがより好ましく、３．０〜１０質量部の範囲で使用することがさらに好ましい。

円盤状化合物はＲｔレターデーション発現性において棒状化合物よりも優れているため、特に大きなＲｔレターデーションを必要とする場合には好ましく使用される。２種類以上のレターデーション発現剤を併用してもよい。

レターデーション発現剤は、２５０〜４００ｎｍの波長領域に最大吸収を有することが好ましく、可視領域に実質的に吸収を有していないことが好ましい。

円盤状化合物について説明する。円盤状化合物としては少なくとも二つの芳香族環を有する化合物を用いることができる。

本明細書において、「芳香族環」は、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。

芳香族炭化水素環は、６員環（すなわち、ベンゼン環）であることが特に好ましい。

芳香族性ヘテロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ環は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。芳香族性ヘテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，３，５−トリアジン環が含まれる。

芳香族環としては、ベンゼン環、縮合ベンゼン環、ビフェニル類が好ましい。特に１，３，５−トリアジン環が好ましく用いられる。具体的には例えば特開２００１−１６６１４４号公報に開示の化合物が好ましく用いられる。

レターデーション発現剤が有する芳香族環の炭素数は、２〜２０であることが好ましく、２〜１２であることがより好ましく、２〜８であることがさらに好ましく、２〜６であることが最も好ましい。

二つの芳香族環の結合関係は、（ａ）縮合環を形成する場合、（ｂ）単結合で直結する場合および（ｃ）連結基を介して結合する場合に分類できる（芳香族環のため、スピロ結合は形成できない）。結合関係は、（ａ）〜（ｃ）のいずれでもよい。

（ａ）の縮合環（二つ以上の芳香族環の縮合環）の例には、インデン環、ナフタレン環、アズレン環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン環、アセナフチレン環、ビフェニレン環、ナフタセン環、ピレン環、インドール環、イソインドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、インドリジン環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、プリン環、インダゾール環、クロメン環、キノリン環、イソキノリン環、キノリジン環、キナゾリン環、シンノリン環、キノキサリン環、フタラジン環、プテリジン環、カルバゾール環、アクリジン環、フェナントリジン環、キサンテン環、フェナジン環、フェノチアジン環、フェノキサチイン環、フェノキサジン環およびチアントレン環が含まれる。ナフタレン環、アズレン環、インドール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環およびキノリン環が好ましい。

（ｂ）の単結合は、二つの芳香族環の炭素原子間の結合であることが好ましい。二以上の単結合で二つの芳香族環を結合して、二つの芳香族環の間に脂肪族環または非芳香族性複素環を形成してもよい。

（ｃ）の連結基も、二つの芳香族環の炭素原子と結合することが好ましい。連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｓ−またはそれらの組み合わせであることが好ましい。組み合わせからなる連結基の例を以下に示す。なお、以下の連結基の例の左右の関係は、逆になってもよい。
ｃ１：−ＣＯ−Ｏ−
ｃ２：−ＣＯ−ＮＨ−
ｃ３：−アルキレン−Ｏ−
ｃ４：−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−
ｃ５：−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−
ｃ６：−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
ｃ７：−Ｏ−アルキレン−Ｏ−
ｃ８：−ＣＯ−アルケニレン−
ｃ９：−ＣＯ−アルケニレン−ＮＨ−
ｃ１０：−ＣＯ−アルケニレン−Ｏ−
ｃ１１：−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−アルキレン−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−
ｃ１２：−Ｏ−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−アルキレン−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−Ｏ−
ｃ１３：−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−
ｃ１４：−ＮＨ−ＣＯ−アルケニレン−
ｃ１５：−Ｏ−ＣＯ−アルケニレン−
芳香族環および連結基は、置換基を有していてもよい。

置換基の例には、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、スルホ基、カルバモイル基、スルファモイル基、ウレイド基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、脂肪族アシル基、脂肪族アシルオキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、脂肪族アミド基、脂肪族スルホンアミド基、脂肪族置換アミノ基、脂肪族置換カルバモイル基、脂肪族置換スルファモイル基、脂肪族置換ウレイド基および非芳香族性複素環基が含まれる。

アルキル基の炭素原子数は、１〜８であることが好ましい。環状アルキル基よりも鎖状アルキル基の方が好ましく、直鎖状アルキル基が特に好ましい。アルキル基は、さらに置換基（例えば、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルコキシ基、アルキル置換アミノ基）を有していてもよい。アルキル基の（置換アルキル基を含む）例には、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、２−ヒドロキシエチル基、４−カルボキシブチル基、２−メトキシエチル基および２−ジエチルアミノエチル基の各基が含まれる。

アルケニル基の炭素原子数は、２〜８であることが好ましい。環状アルケニル基よりも鎖状アルケニル基の方が好ましく、直鎖状アルケニル基が特に好ましい。アルケニル基は、さらに置換基を有していてもよい。アルケニル基の例には、ビニル基、アリル基および１−ヘキセニル基が含まれる。

アルキニル基の炭素原子数は、２〜８であることが好ましい。環状アルキニル基よりも鎖状アルキニル基の方が好ましく、直鎖状アルキニル基が特に好ましい。アルキニル基は、さらに置換基を有していてもよい。アルキニル基の例には、エチニル基、１−ブチニル基および１−ヘキシニル基が含まれる。

脂肪族アシル基の炭素原子数は、１〜１０であることが好ましい。脂肪族アシル基の例には、アセチル基、プロパノイル基およびブタノイル基が含まれる。

脂肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、１〜１０であることが好ましい。脂肪族アシルオキシ基の例には、アセトキシ基が含まれる。

アルコキシ基の炭素原子数は、１〜８であることが好ましい。アルコキシ基は、さらに置換基（例えば、アルコキシ基）を有していてもよい。アルコキシ基の（置換アルコキシ基を含む）例には、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基およびメトキシエトキシ基が含まれる。

アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、２〜１０であることが好ましい。アルコキシカルボニル基の例には、メトキシカルボニル基およびエトキシカルボニル基が含まれる。

アルコキシカルボニルアミノ基の炭素原子数は、２〜１０であることが好ましい。アルコキシカルボニルアミノ基の例には、メトキシカルボニルアミノ基およびエトキシカルボニルアミノ基が含まれる。

アルキルチオ基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。アルキルチオ基の例には、メチルチオ基、エチルチオ基およびオクチルチオ基が含まれる。

アルキルスルホニル基の炭素原子数は、１〜８であることが好ましい。アルキルスルホニル基の例には、メタンスルホニル基およびエタンスルホニル基が含まれる。

脂肪族アミド基の炭素原子数は、１〜１０であることが好ましい。脂肪族アミド基の例には、アセトアミドが含まれる。

脂肪族スルホンアミド基の炭素原子数は、１〜８であることが好ましい。脂肪族スルホンアミド基の例には、メタンスルホンアミド基、ブタンスルホンアミド基およびｎ−オクタンスルホンアミド基が含まれる。

脂肪族置換アミノ基の炭素原子数は、１〜１０であることが好ましい。脂肪族置換アミノ基の例には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基および２−カルボキシエチルアミノ基が含まれる。

脂肪族置換カルバモイル基の炭素原子数は、２〜１０であることが好ましい。脂肪族置換カルバモイル基の例には、メチルカルバモイル基およびジエチルカルバモイル基が含まれる。

脂肪族置換スルファモイル基の炭素原子数は、１〜８であることが好ましい。脂肪族置換スルファモイル基の例には、メチルスルファモイル基およびジエチルスルファモイル基が含まれる。

脂肪族置換ウレイド基の炭素原子数は、２〜１０であることが好ましい。脂肪族置換ウレイド基の例には、メチルウレイド基が含まれる。

非芳香族性複素環基の例には、ピペリジノ基およびモルホリノ基が含まれる。

レターデーション発現剤の分子量は、３００〜８００であることが好ましい。

円盤状化合物として下記一般式（Ｉ）で表されるトリアジン化合物を用いることが好ましい。

上記一般式（Ｉ）中：
Ｒ^２０１は、各々独立に、オルト位、メタ位およびパラ位の少なくともいずれかに置換基を有する芳香族環または複素環を表す。

Ｘ^２０１は、各々独立に、単結合または−ＮＲ^２０２−を表す。ここで、Ｒ^２０２は、各々独立に、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表す。

Ｒ^２０１が表す芳香族環は、フェニルまたはナフチルであることが好ましく、フェニルであることが特に好ましい。Ｒ^２０１が表す芳香族環はいずれかの置換位置に少なくとも一つの置換基を有してもよい。前記置換基の例には、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルファモイル基、アルキル置換スルファモイル基、アルケニル置換スルファモイル基、アリール置換スルファモイル基、スルオンアミド基、カルバモイル、アルキル置換カルバモイル基、アルケニル置換カルバモイル基、アリール置換カルバモイル基、アミド基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アリールチオ基およびアシル基が含まれる。

Ｒ^２０１が表す複素環基は、芳香族性を有することが好ましい。芳香族性を有する複素環は、一般に不飽和複素環であり、好ましくは最多の二重結合を有する複素環である。複素環は５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましく、６員環であることが最も好ましい。複素環のヘテロ原子は、窒素原子、硫黄原子または酸素原子であることが好ましく、窒素原子であることが特に好ましい。芳香族性を有する複素環としては、ピリジン環（複素環基としては、２−ピリジルまたは４−ピリジル）が特に好ましい。複素環基は、置換基を有していてもよい。複素環基の置換基の例は、上記アリール部分の置換基の例と同様である。

Ｘ^２０１が単結合である場合の複素環基は、窒素原子に遊離原子価をもつ複素環基であることが好ましい。窒素原子に遊離原子価をもつ複素環基は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましく、５員環であることが最も好ましい。複素環基は、複数の窒素原子を有していてもよい。また、複素環基は、窒素原子以外のヘテロ原子（例えば、Ｏ、Ｓ）を有していてもよい。以下に、窒素原子に遊離原子価をもつ複素環基の例を示す。ここで、−Ｃ_４Ｈ_９ｎは、ｎ−Ｃ_４Ｈ_９を示す。

Ｒ^２０２が表すアルキル基は、環状アルキル基であっても鎖状アルキル基であってもよいが、鎖状アルキル基が好ましく、分岐を有する鎖状アルキル基よりも、直鎖状アルキル基がより好ましい。アルキル基の炭素原子数は、１〜３０であることが好ましく、１〜２０であることがより好ましく、１〜１０であることがさらに好ましく、１〜８がさらにまた好ましく、１〜６であることが最も好ましい。アルキル基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基）およびアシルオキシ基（例えば、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基）が含まれる。

Ｒ^２０２が表すアルケニル基は、環状アルケニル基であっても鎖状アルケニル基であってもよいが、鎖状アルケニル基を表すのが好ましく、分岐を有する鎖状アルケニル基よりも、直鎖状アルケニル基を表すのがより好ましい。アルケニル基の炭素原子数は、２〜３０であることが好ましく、２〜２０であることがより好ましく、２〜１０であることがさらに好ましく、２〜８であることがさらにまた好ましく、２〜６であることが最も好ましい。アルケニル基は置換基を有していてもよい。置換基の例には、前述のアルキル基の置換基と同様である。

Ｒ^２０２が表す芳香族環基および複素環基は、Ｒ^２０１が表す芳香族環および複素環と同様であり、好ましい範囲も同様である。芳香族環基および複素環基はさらに置換基を有していてもよく、置換基の例にはＲ^２０１の芳香族環および複素環の置換基と同様である。

円盤状化合物としては下記一般式（II）で表されるトリフェニレン化合物を好ましく用いることもできる。

上記一般式（II）中、Ｒ^２０３〜Ｒ^２０８は各々独立して、水素原子または置換基を表す。

Ｒ^２０３〜Ｒ^２０８が各々表す置換基としては、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは、炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜４０、より好ましくは炭素数０〜３０、特に好ましくは炭素数０〜２０のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）、
アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜４０、より好ましくは炭素数６〜３０、特に好ましくは炭素数６〜２０のアリールオキシ基であり、例えば、フェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる）、アシル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のアシル基であり、例えば、アセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜４０、より好ましくは炭素数７〜３０、特に好ましくは炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基であり、例えば、フェニルオキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアシルオキシ基であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜４０、より好ましくは炭素数７〜３０、特に好ましくは炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のスルホニルアミノ基であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜４０、より好ましくは炭素数０〜３０、特に好ましくは炭素数０〜２０のスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のカルバモイル基であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、
アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは、炭素数６〜４０、より好ましくは炭素数６〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のスルホニル基であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のウレイド基であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のリン酸アミド基であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、１，３，５−トリアジル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基を二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。

Ｒ^２０３〜Ｒ^２０８が各々表す置換基としては、好ましくはアルキル基、アリール基、置換もしくは無置換のアミノ基、アルコキシ基、アルキルチオ基またはハロゲン原子である。

以下に一般式（II）で表される化合物の具体例を挙げるが、こられに限定されない。

一般式（Ｉ）で表される化合物は、例えば特開２００３−３４４６５５号公報に記載の方法、一般式（II）で表される化合物は、例えば特開２００５−１３４８８４号公報に記載の方法等、公知の方法により合成することができる。

本発明では前述の円盤状化合物の他に直線的な分子構造を有する棒状化合物も好ましく用いることができる。直線的な分子構造とは、熱力学的に最も安定な構造において棒状化合物の分子構造が直線的であることを意味する。熱力学的に最も安定な構造は、結晶構造解析または分子軌道計算によって求めることができる。例えば、分子軌道計算ソフト（例えば、ＷｉｎＭＯＰＡＣ２０００、富士通（株）製）を用いて分子軌道計算を行い、化合物の生成熱が最も小さくなるような分子の構造を求めることができる。分子構造が直線的であるとは、上記のように計算して求められる熱力学的に最も安定な構造において、分子構造で主鎖の構成する角度が１４０度以上であることを意味する。

少なくとも二つの芳香族環を有する棒状化合物としては、下記一般式（１１）で表される化合物が好ましい。

一般式（１１）：Ａｒ^１−Ｌ^１−Ａｒ^２
上記一般式（１１）において、Ａｒ^１およびＡｒ^２は、それぞれ独立に、芳香族基である。

本明細書において、芳香族基は、アリール基（芳香族性炭化水素基）、置換アリール基、芳香族性ヘテロ環基および置換芳香族性ヘテロ環基を含む。

アリール基および置換アリール基の方が、芳香族性ヘテロ環基および置換芳香族性ヘテロ環基よりも好ましい。芳香族性ヘテロ環基のヘテロ環は、一般には不飽和である。芳香族性ヘテロ環は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましく、窒素原子または硫黄原子がさらに好ましい。芳香族基の芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環およびピラジン環が好ましく、ベンゼン環が特に好ましい。

置換アリール基および置換芳香族性ヘテロ環基の置換基の例には、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、アミノ基、アルキルアミノ基（例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ブチルアミノ基、ジメチルアミノ基の各基）、ニトロ基、スルホ基、カルバモイル基、アルキルカルバモイル基（例えば、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ−エチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基の各基）、スルファモイル基、アルキルスルファモイル基（例えば、Ｎ−メチルスルファモイル基、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基の各基）、ウレイド基、アルキルウレイド基（例えば、Ｎ−メチルウレイド基、Ｎ，Ｎ−ジメチルウレイド基、Ｎ，Ｎ，Ｎ′−トリメチルウレイド基の各基）、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘプチル基、オクチル基、イソプロピル基、ｓ−ブチル基、ｔｅｒｔ−アミル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基の各基）、アルケニル基（例えば、ビニル基、アリル基、ヘキセニル基の各基）、アルキニル基（例えば、エチニル基、ブチニル基）、アシル基（例えば、ホルミル基、アセチル基、ブチリル基、ヘキサノイル基、ラウリル基の各基）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、ブチリルオキシ基、ヘキサノイルオキシ基、ラウリルオキシ基の各基）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基の各基）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘプチルオキシカルボニル基の各基）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基）、アルコキシカルボニルアミノ基（例えば、ブトキシカルボニルアミノ基、ヘキシルオキシカルボニルアミノ基）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基の各基）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基）、アルキルスルホニル基（例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ペンチルスルホニル基、ヘプチルスルホニル基、オクチルスルホニル基の各基）、アミド基（例えば、アセトアミド基、ブチルアミド基、ヘキシルアミド基、ラウリルアミド基の各基）および非芳香族性複素環基（例えば、モルホリル基、ピラジニル基）が含まれる。

なかでも、好ましい置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基およびアルキル基が挙げられる。

アルキルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基およびアルキルチオ基のアルキル部分とアルキル基とは、さらに置換基を有していてもよい。アルキル部分およびアルキル基の置換基の例には、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、アミノ基、アルキルアミノ基、ニトロ基、スルホ基、カルバモイル基、アルキルカルバモイル基、スルファモイル基、アルキルスルファモイル基、ウレイド基、アルキルウレイド基、アルケニル基、アルキニル基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アミド基および非芳香族性複素環基が含まれる。アルキル部分およびアルキル基の置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニル基およびアルコキシ基が好ましい。

一般式（１１）において、Ｌ^１は、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、−Ｏ−、−ＣＯ−およびそれらの組み合わせからなる基から選ばれる二価の連結基である。

アルキレン基は、環状構造を有していてもよい。環状アルキレン基としては、シクロヘキシレンが好ましく、１，４−シクロヘキシレンが特に好ましい。鎖状アルキレン基としては、直鎖状アルキレン基の方が分岐を有するアルキレン基よりも好ましい。

アルキレン基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、より好ましくは１〜１５であり、さらに好ましくは１〜１０であり、さらに好ましくは１〜８であり、最も好ましくは１〜６である。

アルケニレン基およびアルキニレン基は、環状構造よりも鎖状構造を有することが好ましく、分岐を有する鎖状構造よりも直鎖状構造を有することがさらに好ましい。

アルケニレン基およびアルキニレン基の炭素原子数は、好ましくは２〜１０であり、より好ましくは２〜８であり、さらに好ましくは２〜６であり、さらに好ましくは２〜４であり、最も好ましくは２（ビニレン基またはエチニレン基）である。

アリーレン基は、炭素原子数は６〜２０であることが好ましく、より好ましくは６〜１６であり、さらに好ましくは６〜１２である。

一般式（１１）の分子構造において、Ｌ^１を挟んで、Ａｒ^１とＡｒ^２とが形成する角度は、１４０度以上であることが好ましい。

棒状化合物としては、下記式一般式（１２）で表される化合物がさらに好ましい。

一般式（１２）：Ａｒ^１−Ｌ^２−Ｘ−Ｌ^３−Ａｒ^２
上記一般式（１２）において、Ａｒ^１およびＡｒ^２は、それぞれ独立に、芳香族基である。芳香族基の定義および例は、一般式（１２）のＡｒ^１およびＡｒ^２と同様である。

一般式（１２）において、Ｌ^２およびＬ^３は、それぞれ独立に、アルキレン基、−Ｏ−、−ＣＯ−およびそれらの組み合わせからなる基より選ばれる二価の連結基である。

アルキレン基は、環状構造よりも鎖状構造を有することが好ましく、分岐を有する鎖状構造よりも直鎖状構造を有することがさらに好ましい。

アルキレン基の炭素原子数は、１〜１０であることが好ましく、より好ましくは１〜８であり、さらに好ましくは１〜６であり、さらに好ましくは１〜４であり、１または２（メチレン基またはエチレン基）であることが最も好ましい。

Ｌ^２およびＬ^３は、−Ｏ−ＣＯ−または−ＣＯ−Ｏ−であることが特に好ましい。

一般式（１２）において、Ｘは、１，４−シクロヘキシレン基、ビニレン基またはエチニレン基である。

一般式（１１）または（１２）で表される化合物の具体例としては、特開２００４−１０９６５７号公報の〔化１〕〜〔化１１〕に記載の化合物が挙げられる。

溶液の紫外線吸収スペクトルにおいて最大吸収波長（λｍａｘ）が２５０ｎｍより長波長である棒状化合物を、二種類以上併用してもよい。

棒状化合物は、文献記載の方法を参照して合成できる。文献としては、Ｍｏｌ． Ｃｒｙｓｔ． Ｌｉｑ． Ｃｒｙｓｔ．， ５３巻、２２９ページ（１９７９年）、同８９巻、９３ページ（１９８２年）、同１４５巻、１１１ページ（１９８７年）、同１７０巻、４３ページ（１９８９年）、Ｊ． Ａｍ． Ｃｈｅｍ． Ｓｏｃ．，１１３巻、１３４９ページ（１９９１年）、同１１８巻、５３４６ページ（１９９６年）、同９２巻、１５８２ページ（１９７０年）、Ｊ． Ｏｒｇ． Ｃｈｅｍ．， ４０巻、４２０ページ（１９７５年）、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ、４８巻１６号、３４３７ページ（１９９２年）を挙げることができる。

また、特開２００４−５０５１６号公報の１１〜１４頁に記載の棒状芳香族化合物を、前記Ｒｅ発現剤として用いてもよい。

また、レターデーション発現剤として、一種の化合物を単独で、又は二種類以上の化合物を混合して用いることができる。レターデーション発現剤として互いに異なる二種類以上の化合物を用いると、レターデーションの調整範囲が広がり、容易に所望の範囲に調整できるので好ましい。

前記セルロースアシレートフィルムをソルベントキャスト法で作製する場合は、前記レターデーション発現剤を、ドープ中に添加してもよい。添加はいずれのタイミングで行ってもよく、例えば、アルコール、メチレンクロライド、ジオキソラン等の有機溶媒にレターデーション発現剤を溶解してから、セルロースアシレート溶液（ドープ）に添加してもよいし、又は直接ドープ組成中に添加してもよい。

その他、前記各公報に記載されている以外の棒状化合物の好ましい化合物の具体例を以下に示す。

前記具体例（１）〜（３４）、（４１）、（４２）は、シクロヘキサン環の１位と４位とに二つの不斉炭素原子を有する。ただし、具体例（１）、（４）〜（３４）、（４１）、（４２）は、対称なメソ型の分子構造を有するため光学異性体（光学活性）はなく、幾何異性体（トランス型とシス型）のみ存在する。具体例（１）のトランス型（１−ｔｒａｎｓ）とシス型（１−ｃｉｓ）とを、以下に示す。

前述したように、棒状化合物は直線的な分子構造を有することが好ましい。そのため、トランス型の方がシス型よりも好ましい。

具体例（２）および（３）は、幾何異性体に加えて光学異性体（合計４種の異性体）を有する。幾何異性体については、同様にトランス型の方がシス型よりも好ましい。光学異性体については、特に優劣はなく、Ｄ、Ｌあるいはラセミ体のいずれでもよい。

具体例（４３）〜（４５）では、中心のビニレン結合にトランス型とシス型とがある。上記と同様の理由で、トランス型の方がシス型よりも好ましい。

本発明では、必要に応じ、劣化防止剤、剥離促進剤、マット剤、滑剤、前述の可塑剤等を適宜用いることができる。

（劣化防止剤）
本発明においてはセルロースアシレート溶液に公知の劣化（酸化）防止剤、例えば、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、４、４′−チオビス−（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、１、１′−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２、２′−メチレンビス（４−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、ペンタエリスリチル−テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］などのフェノール系あるいはヒドロキノン系酸化防止剤を添加することができる。さらに、トリス（４−メトキシ−３，５−ジフェニル）ホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイトなどのリン系酸化防止剤をすることが好ましい。劣化防止剤の添加量は、セルロース系樹脂１００質量部に対して、０．０５〜５．０質量部を添加する。

（剥離促進剤）
本発明に係るλ／４板には、剥離促進剤を含むことが、より剥離性と高める観点から好ましい。剥離促進剤は、例えば、０．００１〜１質量％の割合で含めることができ、０．５質量％以下の添加であれば剥離剤のフィルムからの分離等が発生し難いため好ましく、０．００５質量％以上であれば所望の剥離低減効果を得ることができるため好ましいため、０．００５〜０．５質量％の割合で含めることが好ましく、０．０１〜０．３質量％の割合で含めることがより好ましい。剥離促進剤としては、公知のものが採用でき、有機、無機の酸性化合物、界面活性剤、キレート剤等を使用することができる。中でも、多価カルボン酸およびそのエステルが効果的であり、特に、クエン酸のエチルエステル類が効果的に使用することができる。

本発明に係るλ／４板には、前記層Ａまたは層Ｃに剥離促進剤を含むことが好ましい。

（マット剤）
特に本発明に係るλ／４板には、ハンドリングされる際に、傷が付いたり搬送性が悪化することを防止するために、微粒子を添加することが一般に行われる。それらは、マット剤、ブロッキング防止剤あるいはキシミ防止剤と称されて、従来から利用されている。それらは、前述の機能を呈する素材であれば特に限定されず、無機化合物のマット剤であっても、有機化合物のマット剤であってもよい。

前記無機化合物のマット剤の好ましい具体例としては、ケイ素を含む無機化合物（例えば、二酸化ケイ素、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウムなど）、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化バリウム、酸化ジルコニウム、酸化ストロングチウム、酸化アンチモン、酸化スズ、酸化スズ・アンチモン、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン及びリン酸カルシウム等が好ましく、更に好ましくはケイ素を含む無機化合物や酸化ジルコニウムであるが、セルロースアシレートフィルムの濁度を低減できるので、二酸化ケイ素が特に好ましく用いられる。前記二酸化ケイ素の微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）等の商品名を有する市販品が使用できる。前記酸化ジルコニウムの微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）等の商品名で市販されているものが使用できる。

前記有機化合物のマット剤の好ましい具体例としては、例えば、シリコーン樹脂、弗素樹脂及びアクリル樹脂等のポリマーが好ましく、中でも、シリコーン樹脂が好ましく用いられる。シリコーン樹脂の中でも、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール１０３、トスパール１０５、トスパール１０８、トスパール１２０、トスパール１４５、トスパール３１２０及びトスパール２４０（以上東芝シリコーン（株）製）等の商品名を有する市販品が使用できる。

これらのマット剤をセルロースアシレート溶液へ添加する場合は、特にその方法に限定されずいずれの方法でも所望のセルロースアシレート溶液を得ることができれば問題ない。例えば、セルロースアシレートと溶媒を混合する段階で添加物を含有させてもよいし、セルロースアシレートと溶媒で混合溶液を作製した後に、添加物を添加してもよい。更にはドープを流延する直前に添加混合してもよく、所謂直前添加方法でありその混合はスクリュー式混練をオンラインで設置して用いられる。具体的には、インラインミキサーのような静的混合機が好ましく、また、インラインミキサーとしては、例えば、スタチックミキサーＳＷＪ（東レ静止型管内混合器Ｈｉ−Ｍｉｘｅｒ）（東レエンジニアリング製）のようなものが好ましい。なお、インライン添加に関しては、濃度ムラ、粒子の凝集等をなくすために、特開２００３−０５３７５２号公報は、セルロースアシレートフィルムの製造方法において、主原料ドープに異なる組成の添加液を混合する添加ノズル先端とインラインミキサーの始端部の距離Ｌが、主原料配管内径ｄの５倍以下とする事で、濃度ムラ、マット粒子等の凝集をなくす発明が記載されている。さらに好ましい態様として、主原料ドープと異なる組成の添加液供給ノズルの先端開口部とインラインミキサーの始端部との間の距離（Ｌ）が、供給ノズル先端開口部の内径（ｄ）の１０倍以下とし、インラインミキサーが、静的無攪拌型管内混合器または動的攪拌型管内混合器であることが記載されている。さらに具体的には、セルロースアシレートフィルム主原料ドープ／インライン添加液の流量比は、１０／１〜５００／１、好ましくは５０／１〜２００／１であることが開示されている。さらに、添加剤のブリードアウトが少なく、かつ層間の剥離現象もなく、しかも滑り性が良好で透明性に優れた位相差フィルムを目的とした発明の特開２００３−０１４９３３号にも、添加剤を添加する方法として、溶解釜中に添加してもよいし、溶解釜〜共流延ダイまでの間で添加剤や添加剤を溶解または分散した溶液を、送液中のドープに添加してもよいが、後者の場合は混合性を高めるため、スタチックミキサー等の混合手段を設けることが好ましいことが記載されている。

本発明に係るλ／４板は、層Ｂおよび層Ｃの少なくとも一方にマット剤を含有することが、フィルム面の摩擦係数低減による耐擦傷性、幅広幅フィルムを長尺で巻いたときに発生するキシミの防止、フィルム折れの防止の観点から好ましく、前記層Ｂおよび前記層Ｃの両方にマット剤を含有することが耐擦傷性、キシミを効果的に低減する観点から特に好ましい。

本発明に係るλ／４板において、前記マット剤は、多量に添加しなければフィルムのヘイズが大きくならず、実際にＬＣＤに使用した場合、コントラストの低下、輝点の発生等の不都合が生じにくい。また、少なすぎなければ上記のキシミ、耐擦傷性を実現することができる。これらの観点から０．０１〜５．０質量％の割合で含めることが好ましく、０．０３〜３．０質量％の割合で含めることがより好ましく、０．０５〜１．０質量％の割合で含めることが特に好ましい。

（λ／４板の製造）
本発明に係るλ／４板は、溶液流延法、溶融流延法のいずれの方法で製造されてもよいが、溶液流延法により製造することが好ましい。

本発明に係るλ／４板の製造は、セルロースアシレート、またはセルロースアセテート（以下、両者をまとめてセルロースアシレートと呼称する。）及び前記ポリエステル化合物、レターデーション調整剤、可塑剤などの添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープをベルト状若しくはドラム状の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、延伸する工程、更に乾燥する工程、必要であれば得られたフィルムを更に熱処理する工程、冷却後巻き取る工程により行われる。本発明に係るλ／４板は固形分中に好ましくはセルロースアシレートを６０〜９５質量％含有するものである。

（ドープ調製）
ドープを調製する工程について述べる。ドープ中のセルロースアシレートの濃度は、濃度が高い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が低減出来て好ましいが、セルロースアシレートの濃度が高過ぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、１０〜３５質量％が好ましく、更に好ましくは、１５〜２５質量％である。

本発明に係るドープで用いられる溶剤は、単独で用いても二種以上を併用してもよいが、セルロースアシレートの良溶剤と貧溶剤を混合して使用することが生産効率の点で好ましく、良溶剤が多い方がセルロースアシレートの溶解性の点で好ましい。良溶剤と貧溶剤の混合比率の好ましい範囲は、良溶剤が７０〜９８質量％であり、貧溶剤が２〜３０質量％である。良溶剤、貧溶剤とは、使用するセルロースアシレートを単独で溶解するものを良溶剤、単独で膨潤するか又は溶解しないものを貧溶剤と定義している。そのため、セルロースアシレートのアセチル基置換度によっては、良溶剤、貧溶剤が変わり、例えばアセトンを溶剤として用いる時には、セルロースの酢酸エステル（アセチル置換度２．４）では良溶剤になり、セルロースの酢酸エステル（アセチル基置換度２．８）では貧溶剤となる。

本発明に用いられる良溶剤は特に限定されないが、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物やジオキソラン類、アセトン、酢酸メチル、アセト酢酸メチル等が挙げられる。特に好ましくはメチレンクロライド又は酢酸メチルが挙げられる。

また、本発明に用いられる貧溶剤は特に限定されないが、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン等が好ましく用いられる。また、ドープ中には水が０．０１〜２質量％含有していることが好ましい。

上記記載のドープを調製する時の、セルロースアシレートの溶解方法としては、一般的な方法を用いることができる。加熱と加圧を組み合わせると常圧における沸点以上に加熱できる。溶剤の常圧での沸点以上でかつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら攪拌溶解すると、ゲルやママコと呼ばれる塊状未溶解物の発生を防止するため好ましい。また、セルロースアシレートを貧溶剤と混合して湿潤或いは膨潤させた後、更に良溶剤を添加して溶解する方法も好ましく用いられる。

加圧は窒素ガス等の不活性気体を圧入する方法や、加熱によって溶剤の蒸気圧を上昇させる方法によって行ってもよい。加熱は外部から行うことが好ましく、例えばジャケットタイプのものは温度コントロールが容易で好ましい。

溶剤を添加しての加熱温度は、高い方がセルロースアシレートの溶解性の観点から好ましいが、加熱温度が高過ぎると必要とされる圧力が大きくなり生産性が悪くなる。好ましい加熱温度は４５〜１２０℃であり、６０〜１１０℃がより好ましく、７０℃〜１０５℃が更に好ましい。また、圧力は設定温度で溶剤が沸騰しないように調整される。

若しくは冷却溶解法も好ましく用いられ、これによって酢酸メチルなどの溶媒にセルロースアシレートを溶解させることができる。

次に、このセルロースアシレート溶液を濾紙等の適当な濾過材を用いて濾過する。濾過材としては、不溶物等を除去するために絶対濾過精度が小さい方が好ましいが、絶対濾過精度が小さ過ぎると濾過材の目詰まりが発生しやすいという問題がある。このため絶対濾過精度０．００８ｍｍ以下の濾材が好ましく、０．００１〜０．００８ｍｍの濾材がより好ましく、０．００３〜０．００６ｍｍの濾材が更に好ましい。

濾材の材質は特に制限はなく、通常の濾材を使用することができるが、ポリプロピレン、テフロン（登録商標）等のプラスチック製の濾材や、ステンレススティール等の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。濾過により、原料のセルロースアシレートに含まれていた不純物、特に輝点異物を除去、低減することが好ましい。

輝点異物とは、二枚の偏光板をクロスニコル状態にして配置し、その間にセルロースアシレートフィルムを置き、一方の偏光板の側から光を当てて、他方の偏光板の側から観察した時に反対側からの光が漏れて見える点（異物）のことであり、径が０．０１ｍｍ以上である輝点数が２００個／ｃｍ^２以下であることが好ましい。より好ましくは１００個／ｃｍ^２以下であり、更に好ましくは５０個／ｍ^２以下であり、更に好ましくは０〜１０個／ｃｍ^２以下である。また、０．０１ｍｍ以下の輝点も少ない方が好ましい。

ドープの濾過は通常の方法で行うことができるが、溶剤の常圧での沸点以上で、かつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら濾過する方法が、濾過前後の濾圧の差（差圧という）の上昇が小さく、好ましい。好ましい温度は４５〜１２０℃であり、４５〜７０℃がより好ましく、４５〜５５℃であることが更に好ましい。

濾圧は小さい方が好ましい。濾圧は１．６ＭＰａ以下であることが好ましく、１．２ＭＰａ以下であることがより好ましく、１．０ＭＰａ以下であることが更に好ましい。

ここで、ドープの流延について説明する。

本発明にかかる層Ａ及び層Ｂ、必要であれば層Ｃ用に調製したセルロースアシレート溶液（ドープ）から、ソルベントキャスト法により多層構造を有するセルロースアシレートフィルムを製造することができる。

（共流延）
本発明では得られたセルロースアシレート溶液（ドープ）は、支持体としての平滑なバンド上或いはドラム上に前記２種以上の複数のセルロースアシレート液を流延して製膜することが好ましい。

本発明に係る２種以上のドープを同時に支持体上に流延してもよいし、別々に支持体上に流延してもよい。別々に流延する逐次流延法の場合は、支持体側のドープを先に流延して支持体上である程度乾燥させた後に、その上に重ねて流延することが出来る。また、３種以上のドープを使用する場合、同時流延（共流延ともいう）と逐次流延を適宜組み合せて流延し、積層構造のフィルムを作製することも出来る。共流延若しくは逐次流延によって製膜されるこれらの方法は、乾燥されたフィルム上に塗布する方法とは異なり、積層構造の各層の境界が不明確になり、断面の観察で積層構造が明確には分かれないことがあるという特徴があり、各層間の密着性を向上させる効果がある。

本発明に係るλ／４板の製造方法は、生産性の観点からは共流延で行うことが好ましく、公知の共流延方法を用いることができる。例えば、金属支持体の進行方向に間隔を置いて設けた複数の流延口からセルロースアシレートを含む溶液をそれぞれ流延させて積層させながらフィルムを作製してもよく、例えば特開昭６１−１５８４１４号、特開平１−１２２４１９号、特開平１１−１９８２８５号の各公報などに記載の方法が適応できる。また、２つの流延口からセルロースアシレート溶液を流延することによってもフィルム化することでもよく、例えば特公昭６０−２７５６２号、特開昭６１−９４７２４号、特開昭６１−９４７２４５号、特開昭６１−１０４８１３号、特開昭６１−１５８４１３号、特開平６−１３４９３３号の各公報に記載の方法で実施できる。また、特開昭５６−１６２６１７号公報に記載の高粘度セルロースアシレート溶液の流れを低粘度のセルロースアシレート溶液で包み込み、その高，低粘度のセルロースアシレート溶液を同時に押出すセルロースアシレートフィルム流延方法でもよい。更に又、特開昭６１−９４７２４号、特開昭６１−９４７２５号の各公報に記載の外側の溶液が内側の溶液よりも貧溶媒であるアルコール成分を多く含有させることも好ましい態様である。

あるいは、また、２個の流延口を用いて、第一の流延口により金属支持体に成型したフィルムを剥離し、金属支持体面に接していた側に第二の流延を行うことでより、フィルムを作製することでもよく、例えば特公昭４４−２０２３５号公報に記載されている方法である。流延するセルロースアシレート溶液は同一の溶液でもよいし、異なるセルロースアシレート溶液でもよく特に限定されない。複数のセルロースアシレート層に機能を持たせるために、その機能に応じたセルロースアシレート溶液を、それぞれの流延口から押出せばよい。さらに本発明に係るセルロースアシレート溶液は、他の機能層（例えば、接着層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、ＵＶ吸収層、偏光層など）を同時に流延することも実施しうる。本発明のフィルムを製造する方法としては、製膜が同時または逐次での多層流延製膜であることが好ましい。

共流延の場合、内側と外側の厚さは特に限定されないが、好ましくは層Ｂが層Ａの２５〜５０％であることが好ましく、より好ましくは２５〜３５％の厚さであることが好ましい。

共流延の場合、前述の紫外線吸収剤、レターデーション調整剤、可塑剤、マット剤等の添加物濃度、添加物種類が異なるセルロースアシレート溶液を共流延して、所望の積層構造のセルロースアシレートフィルムを作製することもできる。

また、剥離剤を金属支持体側の層のみ含有させることも好ましい態様である。また、冷却ドラム法で金属支持体を冷却して溶液をゲル化させるために、支持体に接する側の層に貧溶媒であるアルコールを他方の層より多く添加することも好ましい。流延時のセルロースアシレートを含む溶液の粘度も層Ａと層Ｂで異なっていても良く、層Ｂの粘度が層Ａの粘度よりも小さいことが好ましいが、層Ａの粘度が層Ｂの粘度より小さくてもよい。

本発明のフィルムの製造方法では、上述のとおり層Ａ用ドープにレターデーション調整剤を添加することで、レターデーションの発現性を高めたセルロースアシレートの多層構造を有するフィルムを得ることができる。

本発明では、多層流延したドープを乾燥させて支持体から剥離する。

ドープは、ドラムまたは金属支持体上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１８〜３５質量％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたは金属支持体の表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ソルベントキャスト法における流延および乾燥方法については、米国特許２３３６３１０号、同２３６７６０３号、同２４９２０７８号、同２４９２９７７号、同２４９２９７８号、同２６０７７０４号、同２７３９０６９号、同２７３９０７０号、英国特許６４０７３１号、同７３６８９２号の各明細書、特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０−２０３４３０号、同６２−１１５０３５号の各公報に記載がある。

ドープは、表面温度が１０℃以下のドラムまたは金属支持体上に流延することが好ましい。流延してから２秒以上風に当てて乾燥することが好ましい。得られたフィルムをドラムまたは金属支持体から剥ぎ取り、さらに１００℃から１６０℃まで逐次温度を変えた高温風で乾燥して残留溶媒を蒸発させることもできる。以上の方法は、特公平５−１７８４４号公報に記載がある。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。この方法を実施するためには、流延時のドラムまたは金属支持体の表面温度においてドープがゲル化することが必要である。

流延（キャスト）工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルト若しくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。キャストの幅は１〜４ｍとすることができる。流延工程の金属支持体の表面温度は−５０℃〜溶剤が沸騰して発泡しない温度以下に設定される。温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、余り高過ぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。好ましい支持体温度としては０〜１００℃で適宜決定され、５〜３０℃が更に好ましい。或いは、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風又は冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。特に、流延から剥離するまでの間で支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。

本発明に係るλ／４板が良好な平面性を示すためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量は１０〜１５０質量％が好ましく、更に好ましくは２０〜４０質量％又は６０〜１３０質量％であり、特に好ましくは、２０〜３０質量％又は７０〜１２０質量％である。また、該金属支持体上の剥離位置における温度を−５０〜４０℃とするのが好ましく、１０〜４０℃がより好ましく、１５〜３０℃とするのが最も好ましい。

本発明においては、残留溶媒量は下記式で定義される。

残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
なお、Ｍはウェブ又はフィルムを製造中又は製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、ＮはＭを１１５℃で１時間の加熱後の質量である。

また、セルロースアシレートフィルムの乾燥工程においては、ウェブを金属支持体より剥離し、更に乾燥し、残留溶媒量が０．５質量％以下となるまで乾燥される。

フィルム乾燥工程では一般にロール乾燥方式（上下に配置した多数のロールをウェブを交互に通し乾燥させる方式）やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。

前記金属支持体から剥離する際に、剥離張力及びその後の搬送張力によってウェブは縦方向に延伸する為、本発明においては流延支持体からウェブを剥離する際は剥離及び搬送張力をできるだけ下げた状態で行うことが好ましい。具体的には、例えば５０〜１７０Ｎ／ｍ以下にすることが効果的である。その際、２０℃以下の冷風を当て、ウェブを急速に固定化することが好ましい。

セルロースアシレートフィルムは、更に延伸処理により屈折率（面内の遅相軸方向の屈折率ｎｘ、面内の遅相軸に垂直な方向の屈折率ｎｙ及び厚さ方向の屈折率ｎｚ）を調整することができる。本発明に係るλ／４板は、波長５９０ｎｍで測定したＲｏ（５９０）が１１０〜１７０ｎｍの範囲内である。

本発明に係るλ／４板は、上記Ｒｏ（５９０）を達成するため、一軸延伸の延伸倍率を制御するか、或いはアンバランスな二軸延伸を実施して屈折率を調整すればよい。具体的には、最大の延伸倍率ＳＡと、その延伸方向に垂直な方向の延伸倍率ＳＢとが、１＜ＳＡ／ＳＢ≦３の関係を満足するように、一軸延伸又はアンバランス二軸延伸を実施すればよい。延伸倍率は、延伸する前の長さを１とする場合の相対的な値である。ＳＢは、１未満の値となる（言い換えると収縮する）場合もある。上記式の関係を満足すれば、ＳＢは１未満の値であってもよい。更に、延伸倍率は、上記レターデーション値がλ／４となるように調整する。二軸延伸処理は、二方向に同時に延伸しても、逐次で延伸してもよい。

因みに、本発明に係るλ／４板の、前述の式（ii）で表されるフィルム厚さ方向のレターデーション値Ｒｔについては延伸倍率によって影響されるが、０〜４００ｎｍの範囲にあることが好ましい。

（延伸工程）
延伸する方法には特に限定はない。例えば、複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用して縦方向に延伸する方法、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げて縦方向に延伸する方法、同様に横方向に広げて横方向に延伸する方法、あるいは縦横同時に広げて縦横両方向に延伸する方法などが挙げられる。もちろんこれ等の方法は、組み合わせて用いてもよい。すなわち、製膜方向に対して横方向に延伸しても、縦方向に延伸しても、両方向に延伸してもよく、さらに両方向に延伸する場合は同時延伸であっても、逐次延伸であってもよい。なお、いわゆるテンター法の場合、リニアドライブ方式でクリップ部分を駆動すると滑らかな延伸が行うことができ、破断等の危険性が減少できるので好ましい。

本発明においては特に、延伸はフィルム搬送ロールの周速差を利用して搬送方向に行うか、若しくは搬送方向と直交方向（幅手方向又はＴＤ方向ともいう）にウェブの両端をクリップ等で把持するテンター方式で行うことが好ましく、更に左右把持手段によってウェブの把持長（把持開始から把持終了までの距離）を左右で独立に制御できるテンターを用いることも好ましい。

また、本発明では本発明に係るλ／４板又は偏光子のいずれかを、延伸工程でフィルム搬送方向に対して４５°方向に延伸することも好ましい。

これは、ロール状のポリマーフィルムからなるλ／４板の長手方向と面内の遅相軸との角度が実質的に４５゜であると、長手方向と透過軸とが実質的に平行であるロール状の偏光子とλ／４板とをロールｔｏロールで積層するだけで、ロール状の円偏光板を製造することができる。同様に、ロール状のポリマーフィルムからなる偏光子の長手方向と吸収軸との角度が実質的に４５゜であると、長手方向と透過軸とが実質的に平行であるロール状のλ／４板とをロールｔｏロールで積層するだけで、ロール状の円偏光板を製造することができる。

例えば、長手方向と面内の遅相軸との角度が実質的に４５゜であるλ／４板は、ロール状のセルロースアシレートフィルムを、長手方向に対して実質的に４５゜の方向に延伸処理することにより製造することができる。

以下、４５°の方向に延伸する方法を説明する。

セルロースアシレートフィルムを長手方向に対して実質的に４５゜の方向に斜め延伸するためには、図２で示されるテンターを用いることが好ましい。図２は、テンターによる斜め延伸を示す模式図である。

本発明に係る延伸フィルムの製造は、テンターを用いて行う。このテンターは、フィルムロール（繰出しロール）から繰り出されるフィルムを、オーブンによる加熱環境下で、その進行方向（フィルム幅方向の中点の移動方向）に対して斜め方向に拡幅する装置である。このテンターは、オーブンと、フィルムを搬送するための把持具が走行する左右で一対のレールと、該レール上を走行する多数の把持具とを備えている。フィルムロールから繰り出され、テンターの入口部に順次供給されるフィルムの両端を、把持具で把持し、オーブン内にフィルムを導き、テンターの出口部で把持具からフィルムを開放する。把持具から開放されたフィルムは巻芯に巻き取られる。一対のレールは、それぞれ無端状の連続軌道を有し、テンターの出口部でフィルムの把持を開放した把持具は、外側を走行して順次入口部に戻されるようになっている。

なお、テンターのレール形状は、製造すべき延伸フィルムに与える配向角、延伸倍率等に応じて、左右で非対称な形状となっており、手動で又は自動で微調整できるようになっている。本発明においては、長尺の熱可塑性樹脂フィルムを延伸し、配向角θが延伸後の巻取り方向に対して、４０°〜８０°の範囲内で、任意の角度に設定できるようになっている。本発明において、テンターの把持具は、前後の把持具と一定間隔を保って、一定速度で走行するようになっている。

図２は、斜め延伸するために用いるテンターのレールの軌道（レールパターン）を示している。セルロースアシレートフィルムの繰出し方向Ｄ１は、延伸後のフィルムの巻取り方向（ＭＤ方向）Ｄ２と異なっており、これにより、比較的大きな配向角をもつ延伸フィルムにおいても広幅で均一な光学特性を得ることが可能となっている。繰出し角度θｉは、延伸前のフィルムの繰出し方向Ｄ１と延伸後のフィルムの巻取り方向Ｄ２とのなす角度である。本発明においては、上述のように４０°〜８０°の配向角を持つフィルムを製造するため、繰出し角度θｉは、１０°＜θｉ＜６０°、好ましくは１５°＜θｉ＜５０°で設定される。繰出し角度θｉを前記範囲とすることにより、得られるフィルムの幅方向の光学特性のバラツキが良好となる（小さくなる。）。

フィルムロール（繰出しロール）から繰出されたセルロースアシレートフィルムは、テンター入口（符号ａの位置）において、その両端（両側）を左右の把持具によって順次把持されて、把持具の走行に伴い走行される。テンター入口（符号ａの位置）で、フィルム進行方向（繰り出し方向Ｄ１）に対して略垂直な方向に相対している左右の把持具ＣＬ，ＣＲは、左右非対称なレール上を走行し、予熱ゾーン、延伸ゾーン、熱固定ゾーンを有するオーブンを通過する。ここで、略垂直とは、前述の向かい合う把持具ＣＬ，ＣＲ同士を結んだ直線とフィルム繰出し方向Ｄ１とがなす角度が、９０±１°以内にあることを示す。

予熱ゾーンとは、オーブン入口部において、両端を把持した把持具の間隔が一定の間隔を保ったまま走行する区間をさす。延伸ゾーンとは、両端を把持した把持具の間隔が開きだし、再び一定となるまでの区間をさす。また、冷却ゾーンとは、延伸ゾーンより後の把持具の間隔が再び一定となる期間において、ゾーン内の温度がフィルムを構成する熱可塑性樹脂のガラス転移温度Ｔｇ℃以下に設定される区間をさす。

各ゾーンの温度は、熱可塑性樹脂のガラス転移温度Ｔｇに対し、予熱ゾーンの温度はＴｇ＋５〜Ｔｇ＋２０℃、延伸ゾーンの温度はＴｇ〜Ｔｇ＋２０℃、冷却ゾーンの温度はＴｇ−３０〜Ｔｇ℃に設定することが好ましい。

本発明に係る延伸工程における延伸倍率Ｒ（Ｗ／Ｗｏ）は、好ましくは１．３〜３．０倍、より好ましくは１．５〜２．８倍である。延伸倍率がこの範囲にあると幅方向厚さムラが小さくなるので好ましい。テンター延伸機の延伸ゾーンにおいて、幅方向で延伸温度に差を付けると幅方向厚さムラをさらに良好なレベルにすることが可能になる。なお、Ｗｏは延伸前のフィルムの幅、Ｗは延伸後のフィルムの幅を表す。

ウェブを乾燥させる手段は特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行うことができるが、簡便さの点で、熱風で行うことが好ましい。

ウェブの乾燥工程における乾燥温度は好ましくはフィルムのガラス転移点−５℃以下、１００℃以上で１０分以上６０分以下の熱処理を行うことが効果的である。乾燥温度は１００〜２００℃、更に好ましくは１１０〜１６０℃で乾燥が行われる。

所定の熱処理の後、巻き取り前にスリッターを設けて端部を切り落とすことが良好な巻姿を得るため好ましい。更に、幅手両端部にはナーリング加工をすることが好ましい。

ナーリング加工は、加熱されたエンボスロールを押し当てることにより形成することができる。エンボスロールには細かな凹凸が形成されており、これを押し当てることでフィルムに凹凸を形成し、端部を嵩高くすることができる。

本発明に係るλ／４板位の幅手両端部のナーリングの高さは４〜２０μｍ、幅５〜２０ｍｍが好ましい。

また、本発明においては、上記のナーリング加工は、フィルムの製膜工程において乾燥終了後、巻き取りの前に設けることが好ましい。

ここまで共流延によってセルロースアシレートフィルムを積層してλ／４板を作製する方法について述べたが、本発明に係るλ／４板は、予め製膜された、式（１）を満たすセルロースアシレートからなるフィルムと式（２）を満たすセルロースアセテートからなるフィルムを粘着剤で貼合したフィルムを、前記の方法で延伸して作製しても良いし、それらのフィルムを各々既知の方法でけん化した後、ポリビニルアルコール等の水溶性ポリマー接着剤で貼合した積層フィルムを延伸して作製しても良い。

（ヘイズ）
本発明に係るλ／４板は、ヘイズが１％未満であることが好ましく、０．５％未満であることがより好ましい。ヘイズを１％未満とすることにより、フィルムの透明性がより高くなり、光学フィルムとしてより用いやすくなるという利点がある。

（平均含水率）
本発明に係るλ／４板は、２５℃、相対湿度６０％における平衡含水率が４％以下であることが好ましく、３％以下であることがより好ましい。平均含水率を４％以下とすることにより、湿度変化に対応しやすく、光学特性や寸法がより変化しにくく好ましい。

（膜厚）
本発明に係るλ／４板は、前記層Ａの平均膜厚が３０〜１２０μｍであることが好ましく、３０〜１００μｍであることがより好ましい。３０μｍ以上とすることにより、ウェブ状のフィルムを作成する際のハンドリング性が向上し、好ましい。

また、前記層Ｂの膜厚は、前記層Ａの膜厚の２５％より大きく５０％以内であることが好ましい。層Ｂの膜厚が、層Ａの膜厚の２５％より大きいと、層Ａに含まれる添加剤のブリードアウトを層Ｂで十分に防ぐことができ、層Ｂとハードコート層との密着性が向上する。層Ａの膜厚が層Ｂの５０％より大きくなってしまうと、λ／４の位相差を出すことが困難になるため好ましくない。

さらに、本発明に係るλ／４板において、層Ａの、層Ｂとは反対側の面に層Ｃを有する場合には、層Ｃの膜厚は層Ａの膜厚の０．２〜２５％以内であることが好ましい。層Ｃの膜厚が層Ａの膜厚の０．２％以上であることは、フィルムの平面性や、偏光板加工時のけん化適性の観点で好ましい。層Ｃの膜厚が層Ａの膜厚の２５％以上になると、λ／４の位相差を出すことが困難になるため好ましくない。

（フィルム長、幅）
本発明に係るλ／４板は、長尺であることが好ましく、具体的には、１００〜１００００ｍ程度の長さであることが好ましく、ロール状に巻き取られる。また、本発明に係るλ／４板の幅は１ｍ以上であることが好ましく、更に好ましくは１．４ｍ以上であり、特に１．４〜４ｍであることが好ましい。

（ハードコート層）
本発明に係るλ／４板上には、ハードコート層が設けられており、当該ハードコート層はクリアハードコート層又は防眩性ハードコート層のいずれかであることが好ましい。

本発明に係るハードコート層は、λ／４板の層Ｂ上に設けられる。本発明においては、前記ハードコート層上に、少なくとも低屈折率層を含む反射防止層が設けられることがより好ましい。特に、車載カーナビゲーション用の場合では、より視認性を向上させる為に、防眩性ハードコート層の上に反射防止層が設けられることが好ましい。

本発明に係るハードコート層が防眩性である場合は、表面に微細な凹凸形状を有するが、該微細凹凸形状は、ハードコート層に微粒子を含有させることで形成し、下記のような平均粒径０．０１μｍ〜４μｍの微粒子をハードコート層中に含有させることで形成できる。また、後述するように、該防眩性ハードコート層上に設けられた反射防止層の最表面の表面粗さとして、ＪＩＳ Ｂ ０６０１で規定される中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．０８μｍ〜０．５μｍの範囲に調整されることが好ましい。

クリアハードコート層の場合は、ＪＩＳ Ｂ ０６０１で規定される中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．００１〜０．１μｍのクリアハードコート層であり、Ｒａが０．００２〜０．０５μｍであることが好ましい。中心線平均粗さ（Ｒａ）は光干渉式の表面粗さ測定器で測定することが好ましく、例えばＷＹＫＯ社製非接触表面微細形状計測装置ＷＹＫＯ ＮＴ−２０００を用いて測定することができる。

本発明に係るハードコート層中に含有される粒子としては、例えば、無機又は有機の微粒子が用いられる。

無機微粒子としては酸化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化錫、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、カオリン、硫酸カルシウム等を挙げることができる。

また、有機微粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂微粒子、アクリルスチレン系樹脂微粒子、ポリメチルメタクリレート樹脂微粒子、シリコーン系樹脂微粒子、ポリスチレン系樹脂微粒子、ポリカーボネート樹脂微粒子、ベンゾグアナミン系樹脂微粒子、メラミン系樹脂微粒子、ポリオレフィン系樹脂微粒子、ポリエステル系樹脂微粒子、ポリアミド系樹脂微粒子、ポリイミド系樹脂微粒子、又はポリ弗化エチレン系樹脂微粒子等を挙げることができる。

本発明では特に、酸化ケイ素微粒子又はポリスチレン系樹脂微粒子であることが好ましい。

上記記載の無機又は有機の微粒子は、防眩性ハードコート層の作製に用いられる樹脂等を含む塗布組成物に加えて用いることが好ましい。

本発明に係るハードコート層に防眩性を付与するためには、無機又は有機微粒子の含有量は、防眩性ハードコート層作製用の樹脂１００質量部に対して、０．１質量部〜３０質量部が好ましく、更に好ましくは、０．１質量部〜２０質量部となるように配合することである。より好ましい防眩効果を付与するには、平均粒径０．１μｍ〜１μｍの微粒子を防眩性ハードコート層作製用の樹脂１００質量部に対して１質量部〜１５質量部を用いるのが好ましい。又、異なる平均粒径の微粒子を二種以上用いることも好ましい。

また、本発明に係るハードコート層には帯電防止剤を含有させることも好ましく、帯電防止剤としては、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｉｎ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｓｉ、Ｍｇ、Ｂａ、Ｍｏ、Ｗ及びＶからなる群から選択される少なくとも一つの元素を主成分として含有し、かつ、体積抵抗率が１０^７Ω・ｃｍ以下であるような導電性材料が好ましい。

前記帯電防止剤としては、上記の元素を有する金属酸化物、複合酸化物等が挙げられる。

金属酸化物の例としては、ＺｎＯ、ＴｉＯ_２、ＳｎＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＭｏＯ_２、Ｖ_２Ｏ_５等、或いはこれらの複合酸化物が好ましく、特にＺｎＯ、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２及びＳｎＯ_２が好ましい。異種原子を含む例としては、例えばＺｎＯに対してはＡｌ、Ｉｎ等の添加、ＴｉＯ_２に対してはＮｂ、Ｔａ等の添加、またＳｎＯ_２に対しては、Ｓｂ、Ｎｂ、ハロゲン元素等の添加が効果的である。これら異種原子の添加量は０．０１〜２５ｍｏｌ％の範囲が好ましいが、０．１〜１５ｍｏｌ％の範囲が特に好ましい。

また、これらの導電性を有するこれら金属酸化物粉体の体積抵抗率は１０^７Ω・ｃｍ以下、特に１０^５Ω・ｃｍ以下である。

十分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、クリアハードコート層又は防眩性ハードコート層の膜厚は０．５μｍ〜１５μｍの範囲が好ましく、更に好ましくは、１．０μｍ〜７μｍである。

（活性エネルギー線硬化樹脂）
本発明に係るハードコート層は、紫外線等活性エネルギー線照射により硬化する活性エネルギー線硬化樹脂を含有することが好ましい。

活性エネルギー線硬化樹脂とは紫外線や電子線のような活性エネルギー線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂である。活性エネルギー線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線や電子線以外の活性エネルギー線照射によって硬化する樹脂でもよい。

紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、又は紫外線硬化型エポキシ樹脂等を挙げることができる。

紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、又はプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等のヒドロキシル基（水酸基）を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる。例えば、特開昭５９−１５１１１０号に記載の、ユニディック１７−８０６（ＤＩＣ（株）製）１００部とコロネートＬ（日本ポリウレタン（株）製）１部との混合物等が好ましく用いられる。

紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂は、一般にポリエステル末端のヒドロキシル基（水酸基）やカルボキシル基に２−ヒドロキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、アクリル酸のようなモノマーを反応させることによって容易に得ることができる（例えば、特開昭５９−１５１１１２号）。

紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂は、エポキシ樹脂の末端のヒドロキシル基（水酸基）にアクリル酸、アクリル酸クロライド、グリシジルアクリレートのようなモノマーを反応させて得られる。

紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂としては、エチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることができる。

紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシ樹脂の例として、有用に用いられるエポキシ系活性エネルギー線反応性化合物を示す。

（ａ）ビスフェノールＡのグリシジルエーテル（この化合物はエピクロルヒドリンとビスフェノールＡとの反応により、重合度の異なる混合物として得られる）
（ｂ）ビスフェノールＡ等のフェノール性ＯＨを２個有する化合物に、エピクロルヒドリン、エチレンオキサイド及び／又はプロピレンオキサイドを反応させ末端にグリシジルエーテル基を有する化合物
（ｃ）４，４′−メチレンビスフェノールのグリシジルエーテル
（ｄ）ノボラック樹脂又はレゾール樹脂のフェノールフォルムアルデヒド樹脂のエポキシ化合物
（ｅ）脂環式エポキシドを有する化合物、例えば、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）オキザレート、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシ−６−シクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチルピメレート）、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−１−メチルシクロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−１−メチル−シクロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシ−１′−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−６−メチル−シクロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシ−６′−メチル−１′−シクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５′，５′−スピロ−３″，４″−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン
（ｆ）２塩基酸のジグリシジルエーテル、例えば、ジグリシジルオキザレート、ジグリシジルアジペート、ジグリシジルテトラヒドロフタレート、ジグリシジルヘキサヒドロフタレート、ジグリシジルフタレート
（ｇ）グリコールのジグリシジルエーテル、例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、コポリ（エチレングリコール−プロピレングリコール）ジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル
（ｈ）ポリマー酸のグリシジルエステル、例えば、ポリアクリル酸ポリグリシジルエステル、ポリエステルジグリシジルエステル
（ｉ）多価アルコールのグリシジルエーテル、例えば、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、グルコーストリグリシジルエーテル
（ｊ）２−フルオロアルキル−１，２−ジオールのジグリシジルエーテルとしては、前記低屈折率物質のフッ素含有樹脂のフッ素含有エポキシ化合物に挙げた化合物例と同様のもの
（ｋ）含フッ素アルカン末端ジオールグリシジルエーテルとしては、上記低屈折率物質のフッ素含有樹脂のフッ素含有エポキシ化合物等を挙げることができる。

上記エポキシ化合物の分子量は、平均分子量として２０００以下で、好ましくは１０００以下である。

上記のエポキシ化合物を活性エネルギー線により硬化する場合、より硬度を上げるためには、（ｈ）又は（ｉ）の多官能のエポキシ基を有する化合物を混合して用いると効果的である。

エポキシ系活性エネルギー線反応性化合物をカチオン重合させる光重合開始剤又は光増感剤は、活性エネルギー線照射によりカチオン重合開始物質を放出することが可能な化合物であり、特に好ましくは、照射によりカチオン重合開始能のあるルイス酸を放出するオニウム塩の一群の複塩である。

活性エネルギー線反応性化合物エポキシ樹脂は、ラジカル重合によるのではなく、カチオン重合により重合、架橋構造又は網目構造を形成する。ラジカル重合と異なり反応系中の酸素に影響を受けないため好ましい活性エネルギー線反応性樹脂である。

本発明に有用な活性エネルギー線反応性エポキシ樹脂は、活性エネルギー線照射によりカチオン重合を開始させる物質を放出する光重合開始剤又は光増感剤により重合する。光重合開始剤としては、光照射によりカチオン重合を開始させるルイス酸を放出するオニウム塩の複塩の一群が特に好ましい。

かかる代表的なものは下記一般式（ａ）で表される化合物である。

一般式（ａ）：〔（Ｒ^１）_ａ（Ｒ^２）_ｂ（Ｒ^３）_ｃ（Ｒ^４）_ｄＺ〕^ｗ＋〔ＭｅＸ_ｖ〕^ｗ−
式中、カチオンはオニウムであり、ＺはＳ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｏ、ハロゲン（例えばＩ、Ｂｒ、Ｃｌ）、又はＮ＝Ｎ（ジアゾ）であり、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４は同一であっても異なっていてもよい有機の基である。ａ、ｂ、ｃ、ｄはそれぞれ０〜３の整数であって、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄはＺの価数に等しい。Ｍｅはハロゲン化物錯体の中心原子である金属又は半金属（ｍｅｔａｌｌｏｉｄ）であり、Ｂ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｆｅ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ａｌ、Ｃａ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏ等である。Ｘはハロゲンであり、ｗはハロゲン化錯体イオンの正味の電荷であり、ｖはハロゲン化錯体イオン中のハロゲン原子の数である。

上記一般式（ａ）の陰イオン〔ＭｅＸ_ｖ〕^ｗ−の具体例としては、テトラフルオロボレート（ＢＦ_４ ⁻）、テトラフルオロホスフェート（ＰＦ_４ ⁻）、テトラフルオロアンチモネート（ＳｂＦ_４ ⁻）、テトラフルオロアルセネート（ＡｓＦ_４ ⁻）、テトラクロロアンチモネート（ＳｂＣｌ_４ ⁻）等を挙げることができる。

また、その他の陰イオンとしては過塩素酸イオン（ＣｌＯ_４ ⁻）、トリフルオロメチル亜硫酸イオン（ＣＦ_３ＳＯ_３ ⁻）、フルオロスルホン酸イオン（ＦＳＯ_３ ⁻）、トルエンスルホン酸イオン、トリニトロベンゼン酸陰イオン等を挙げることができる。

このようなオニウム塩の中でも特に芳香族オニウム塩をカチオン重合開始剤として使用するのが有効であり、中でも特開昭５０−１５１９９６号、同５０−１５８６８０号等に記載の芳香族ハロニウム塩、特開昭５０−１５１９９７号、同５２−３０８９９号、同５９−５５４２０号、同５５−１２５１０５号等に記載のVIＡ族芳香族オニウム塩、特開昭５６−８４２８号、同５６−１４９４０２号、同５７−１９２４２９号等に記載のオキソスルホキソニウム塩、特公昭４９−１７０４０号等に記載の芳香族ジアゾニウム塩、米国特許第４，１３９，６５５号等に記載のチオピリリューム塩等が好ましい。また、アルミニウム錯体や光分解性けい素化合物系重合開始剤等を挙げることができる。上記カチオン重合開始剤と、ベンゾフェノン、ベンゾインイソプロピルエーテル、チオキサントン等の光増感剤を併用することができる。

また、エポキシアクリレート基を有する活性エネルギー線反応性化合物の場合は、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の光増感剤を用いることができる。この活性エネルギー線反応性化合物に用いられる光増感剤や光開始剤は、紫外線反応性化合物１００質量部に対して０．１質量部〜１５質量部で光反応を開始するには十分であり、好ましくは１質量部〜１０質量部である。この増感剤は近紫外線領域から可視光線領域に吸収極大のあるものが好ましい。

本発明に有用な活性エネルギー線硬化樹脂組成物において、重合開始剤は、一般的には、活性エネルギー線硬化性エポキシ樹脂（プレポリマー）１００質量部に対して０．１質量部〜１５質量部の使用が好ましく、更に好ましくは、１質量部〜１０質量部の範囲の添加が好ましい。

また、エポキシ樹脂を上記ウレタンアクリレート型樹脂、ポリエーテルアクリレート型樹脂等と併用することもでき、この場合、活性エネルギー線ラジカル重合開始剤と活性エネルギー線カチオン重合開始剤を併用することが好ましい。

また、本発明に係るハードコート層には、オキセタン化合物を用いることもできる。用いられるオキセタン化合物は、酸素又は硫黄を含む３員環のオキセタン環を有する化合物である。中でも酸素を含むオキセタン環を有する化合物が好ましい。オキセタン環は、ハロゲン原子、ハロアルキル基、アリールアルキル基、アルコキシル基、アリルオキシ基、アセトキシ基で置換されていてもよい。具体的には、３，３−ビス（クロルメチル）オキセタン、３，３−ビス（ヨードメチル）オキセタン、３，３−ビス（メトキシメチル）オキセタン、３，３−ビス（フェノキシメチル）オキセタン、３−メチル−３クロルメチルオキセタン、３，３−ビス（アセトキシメチル）オキセタン、３，３−ビス（フルオロメチル）オキセタン、３，３−ビス（ブロモメチル）オキセタン、３，３−ジメチルオキセタン等が挙げられる。なお、本発明ではモノマー、オリゴマー、ポリマーのいずれであってもよい。

本発明に係るハードコート層には、公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂又はゼラチン等の親水性樹脂等のバインダーを上記記載の活性エネルギー線硬化樹脂に混合して使用することができる。これらの樹脂は、その分子中に極性基を持っていることが好ましい。極性基としては、−ＣＯＯＭ、−ＯＨ、−ＮＲ_２、−ＮＲ_３Ｘ、−ＳＯ_３Ｍ、−ＯＳＯ_３Ｍ、−ＰＯ_３Ｍ_２、−ＯＰＯ_３Ｍ（ここで、Ｍは水素原子、アルカリ金属又はアンモニウム基を、Ｘはアミン塩を形成する酸を、Ｒは水素原子、アルキル基を表す）等を挙げることができる。

本発明に係るハードコート層が活性エネルギー線硬化型樹脂を含む場合、活性エネルギー線の照射方法としては、支持体上に、防眩性ハードコート層、反射防止層（中〜高屈折率層及び低屈折率層）等の塗設後に活性エネルギー線を照射してもよいが、ハードコート層塗設時に活性エネルギー線を照射することが好ましい。

本発明に使用する活性エネルギー線は、紫外線、電子線、γ線等で、化合物を活性化させるエネルギー源であれば制限なく使用できるが、紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易に得られるという点で紫外線が好ましい。紫外線反応性化合物を光重合させる紫外線の光源としては、紫外線を発生する光源であれば何れも使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレーザ、エキシマランプ又はシンクロトロン放射光等も用いることができる。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は２０ｍＪ／ｃｍ^２以上が好ましく、更に好ましくは、５０ｍＪ／ｃｍ^２〜１００００ｍＪ／ｃｍ^２であり、特に好ましくは、５０ｍＪ／ｃｍ^２〜２０００ｍＪ／ｃｍ^２である。

紫外線照射は、ハードコート層と後述する反射防止層を構成する複数の層（中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層）それぞれに対して１層設ける毎に照射してもよいし、積層後照射してもよい。或いはこれらを組み合わせて照射してもよい。生産性の点から、多層を積層後、紫外線を照射することが好ましい。

また、電子線も同様に使用できる。電子線としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ｋｅＶ、好ましくは１００〜３００ｋｅＶのエネルギーを有する電子線を挙げることができる。

本発明に使用する上記活性エネルギー線反応性化合物を光重合又は光架橋反応を開始させるには、上記活性エネルギー線反応性化合物のみでも開始するが、重合の誘導期が長かったり、重合開始が遅かったりするため、光増感剤や光開始剤を用いることが好ましく、それにより重合を早めることができる。

本発明に係るハードコート層が活性エネルギー線硬化樹脂を含有する場合、活性エネルギー線の照射時においては、光反応開始剤、光増感剤を用いることができる。

具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができる。また、エポキシアクリレート系樹脂の合成に光反応剤を使用する際に、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることができる。塗布乾燥後に揮発する溶媒成分を除いた紫外線硬化性樹脂組成物に含まれる光反応開始剤及び／又は光増感剤の使用量は、組成物の１質量％〜１０質量％が好ましく、特に好ましくは２．５質量％〜６質量％である。

また、活性エネルギー線硬化樹脂として、紫外線硬化性樹脂を用いる場合、前記紫外線硬化性樹脂の光硬化を妨げない程度に、後述する紫外線吸収剤を紫外線硬化性樹脂組成物に含ませてもよい。

ハードコート層の耐熱性を高めるために、光硬化反応を抑制しないような酸化防止剤を選んで用いることができる。例えば、ヒンダードフェノール誘導体、チオプロピオン酸誘導体、ホスファイト誘導体等を挙げることができる。具体的には、例えば、４，４′−チオビス（６−ｔｅｒｔ−３−メチルフェノール）、４，４′−ブチリデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）メシチレン、ジ−オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジルホスフェート等を挙げることができる。

紫外線硬化性樹脂としては、例えば、アデカオプトマーＫＲ、ＢＹシリーズのＫＲ−４００、ＫＲ−４１０、ＫＲ−５５０、ＫＲ−５６６、ＫＲ−５６７、ＢＹ−３２０Ｂ（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、コーエイハードのＡ−１０１−ＫＫ、Ａ−１０１−ＷＳ、Ｃ−３０２、Ｃ−４０１−Ｎ、Ｃ−５０１、Ｍ−１０１、Ｍ−１０２、Ｔ−１０２、Ｄ−１０２、ＮＳ−１０１、ＦＴ−１０２Ｑ８、ＭＡＧ−１−Ｐ２０、ＡＧ−１０６、Ｍ−１０１−Ｃ（以上、広栄化学工業（株）製）、セイカビームのＰＨＣ２２１０（Ｓ）、ＰＨＣＸ−９（Ｋ−３）、ＰＨＣ２２１３、ＤＰ−１０、ＤＰ−２０、ＤＰ−３０、Ｐ１０００、Ｐ１１００、Ｐ１２００、Ｐ１３００、Ｐ１４００、Ｐ１５００、Ｐ１６００、ＳＣＲ９００（以上、大日精化工業（株）製）、ＫＲＭ７０３３、ＫＲＭ７０３９、ＫＲＭ７１３０、ＫＲＭ７１３１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０２（以上、ダイセル・ユーシービー（株））、ＲＣ−５０１５、ＲＣ−５０１６、ＲＣ−５０２０、ＲＣ−５０３１、ＲＣ−５１００、ＲＣ−５１０２、ＲＣ−５１２０、ＲＣ−５１２２、ＲＣ−５１５２、ＲＣ−５１７１、ＲＣ−５１８０、ＲＣ−５１８１（以上、ＤＩＣ（株）製）、オーレックスＮｏ．３４０クリヤ（中国塗料（株）製）、サンラッド Ｈ−６０１（三洋化成工業（株）製）、ＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５０７（以上、昭和高分子（株）製）、ＲＣＣ−１５Ｃ（グレース・ジャパン（株）製）、アロニックスＭ−６１００、Ｍ−８０３０、Ｍ−８０６０（以上、東亞合成（株）製）、又はその他の市販のものから適宜選択して利用することができる。

活性エネルギー線硬化樹脂を含む塗布組成物は、固形分濃度は１０質量％〜９５質量％であることが好ましく、塗布方法により適当な濃度が選ばれる。

本発明に係るハードコート層は界面活性剤を含有することも好ましく、界面活性剤としては、シリコーン系又はフッ素系界面活性剤が好ましい。

シリコーン系界面活性剤としては、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤が好ましい。

非イオン面活性剤は、水溶液中でイオンに解離する基を有しない系面活性剤を総称していうが、疎水基のほか親水性基として多価アルコール類のヒドロキシル基（水酸基）、また、ポリオキシアルキレン鎖（ポリオキシエチレン）等を親水基として有するものである。親水性はアルコール性ヒドロキシル基（水酸基）の数が多くなるに従って、またポリオキシアルキレン鎖（ポリオキシエチレン鎖）が長くなるに従って強くなる。本発明に係わる非イオン界面活性剤は疎水基としてジメチルポリシロキサンを有することに特徴がある。

疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤を用いると、防眩性ハードコート層や低屈折率層のムラや膜表面の防汚性が向上する。ポリメチルシロキサンからなる疎水基が表面に配向し汚れにくい膜表面を形成するものと考えられる。他の界面活性剤を用いることでは得られない効果である。

これらの非イオン活性剤の具体例としては、例えば、日本ユニカー（株）製、シリコーン界面活性剤 ＳＩＬＷＥＴ Ｌ−７７、Ｌ−７２０、Ｌ−７００１、Ｌ−７００２、Ｌ−７６０４、Ｙ−７００６、ＦＺ−２１０１、ＦＺ−２１０４、ＦＺ−２１０５、ＦＺ−２１１０、ＦＺ−２１１８、ＦＺ−２１２０、ＦＺ−２１２２、ＦＺ−２１２３、ＦＺ−２１３０、ＦＺ−２１５４、ＦＺ−２１６１、ＦＺ−２１６２、ＦＺ−２１６３、ＦＺ−２１６４、ＦＺ−２１６６、ＦＺ−２１９１等が挙げられる。

また、ＳＵＰＥＲＳＩＬＷＥＴ ＳＳ−２８０１、ＳＳ−２８０２、ＳＳ−２８０３、ＳＳ−２８０４、ＳＳ−２８０５等が挙げられる。

また、これら、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン系の界面活性剤の好ましい構造としては、ジメチルポリシロキサン構造部分とポリオキシアルキレン鎖が交互に繰り返し結合した直鎖状のブロックコポリマーであることが好ましい。主鎖骨格の鎖長が長く、直鎖状の構造であることから、優れている。親水基と疎水基が交互に繰り返したブロックコポリマーであることにより、シリカ微粒子の表面を１つの活性剤分子が、複数の箇所で、これを覆うように吸着することができるためと考えられる。

これらの具体例としては、例えば、日本ユニカー（株）製、シリコーン界面活性剤 ＡＢＮ ＳＩＬＷＥＴ ＦＺ−２２０３、ＦＺ−２２０７、ＦＺ−２２０８等が挙げられる。

フッ素系界面活性剤としては、疎水基がパーフルオロカーボンチェインをもつ界面活性剤を用いることができる。種類としては、フルオロアルキルカルボン酸、Ｎ−パーフルオロオクタンスルホニルグルタミン酸ジナトリウム、３−（フルオロアルキルオキシ）−１−アルキルスルホン酸ナトリウム、３−（ω−フルオロアルカノイル−Ｎ−エチルアミノ）−１−プロパンスルホン酸ナトリウム、Ｎ−（３−パーフルオロオクタンスルホンアミド）プロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−カルボキシメチレンアンモニウムベタイン、パーフルオロアルキルカルボン酸、パーフルオロオクタンスルホン酸ジエタノールアミド、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、Ｎ−プロピル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）パーフルオロオクタンスルホンアミド、パーフルオロアルキルスルホンアミドプロピルトリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキル−Ｎ−エチルスルホニルグリシン塩、リン酸ビス（Ｎ−パーフルオロオクチルスルホニル−Ｎ−エチルアミノエチル）等が挙げられる。本発明では非イオン界面活性剤が好ましい。

これらのフッ素系界面活性剤はメガファック、エフトップ、サーフロン、フタージェント、ユニダイン、フローラード、ゾニール等の商品名で市販されている。

好ましい添加量はハードコート層の塗布液に含まれる固形分当たり０．０１〜３．０％であり、より好ましくは０．０２〜１．０％である。

他の界面活性剤を併用して用いることもでき、適宜、例えばスルホン酸塩系、硫酸エステル塩系、リン酸エステル塩系等のアニオン界面活性剤、また、ポリオキシエチレン鎖親水基として有するエーテル型、エーテルエステル型等の非イオン界面活性剤等を併用してもよい。

本発明にハードコート層を塗設する際の溶媒は、例えば、炭化水素類、アルコール類、ケトン類、エステル類、グリコールエーテル類、その他の溶媒の中から適宜選択し、又は混合して使用できる。好ましくは、プロピレングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテル又はプロピレングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテルエステルを５質量％以上、更に好ましくは５質量％〜８０質量％以上含有する溶媒が用いられる。

ハードコート層組成物塗布液の塗布方法としては、グラビアコーター、スピナーコーター、ワイヤーバーコーター、ロールコーター、リバースコーター、押出コーター、エアードクターコーター、スプレーコート、インクジェット法等公知の方法を用いることができる。塗布量はウエット膜厚で５μｍ〜３０μｍが適当で、好ましくは１０μｍ〜２０μｍである。塗布速度は１０ｍ／分〜２００ｍ／分が好ましい。

ハードコート層組成物は塗布乾燥された後、紫外線や電子線等の活性エネルギー線を照射され硬化処理されることが好ましいが、前記活性エネルギー線の照射時間は０．５秒〜５分が好ましく、紫外線硬化性樹脂の硬化効率、作業効率等から更に好ましくは、３秒〜２分である。

（反射防止層）
本発明のハードコート付きλ／４板のハードコート層上には反射防止層を設けることも好ましい。

用いられる反射防止層は低屈折率層のみの単層構成でもよいが、多層の屈折率層を設けることも好ましい。λ／４板上に、ハードコート層を有し、その表面上に光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して積層できる。反射防止層は、支持体よりも屈折率の高い高屈折率層と、支持体よりも屈折率の低い低屈折率層を組み合わせて構成したり、特に好ましくは、３層以上の屈折率層から構成される反射防止層であり、支持体側から屈折率の異なる３層を、中屈折率層（支持体又は防眩性ハードコート層よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているものが好ましい。

又は、２層以上の高屈折率層と２層以上の低屈折率層とを交互に積層した４層以上の層構成の反射防止層も好ましく用いられる。

本発明に係る反射防止層の好ましい層構成の例を下記に示す。ここで／は積層配置されていることを示している。

（λ／４板）／クリアハードコート層／低屈折率層
（λ／４板）／クリアハードコート層／高屈折率層／低屈折率層
（λ／４板）／クリアハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
（λ／４板）／防眩性ハードコート層／低屈折率層
（λ／４板）／防眩性ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層
（λ／４板）／防眩性ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
汚れや指紋のふき取りが容易となるように、最表面の低屈折率層の上に、更に防汚層を設けることもできる。防汚層としては、含フッ素有機化合物が好ましく用いられる。

光学干渉により反射率を低減できるものであれば、特にこれらの層構成のみに限定されるものではない。また、上記層構成では、適宜中間層を設けてもよく、例えば導電性ポリマー微粒子（例えば架橋カチオン微粒子）又は金属酸化物微粒子（例えば、ＳｎＯ_２、ＩＴＯ等）を含む帯電防止層等は好ましい。

低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層は公知の構成で形成することができるが、特に低屈折率層は中空球状シリカ系微粒子が好適に用いられることが好ましく、（Ｉ）多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層とからなる複合粒子、又は（II）内部に空洞を有し、かつ内容物が溶媒、気体又は多孔質物質で充填された空洞粒子が用いられる。

上記、低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層に関しては、特開２００５−２６６０５１号公報に詳述されている。

反射防止層を構成する各屈折率層の膜厚としては、各々１ｎｍ〜２００ｎｍの範囲が好ましく、更に好ましくは、５ｎｍ〜１５０ｎｍであるが、各層の屈折率に応じて、各々適切な膜厚を選択することが好ましい。

本発明に用いられる反射防止層は、４５０ｎｍ〜６５０ｎｍにおける平均反射率が１％以下であることが好ましく、特に好ましくは０．５％以下である。また、この範囲における最低反射率は０．００〜０．３％にあることが特に好ましい。

反射防止層の屈折率と膜厚は、分光反射率の測定より計算して算出することができる。また、作製した低反射フィルムの反射光学特性は、分光光度計を用い、５度正反射の条件にて反射率を測定することができる。

（偏光板）
本発明のハードコート付きλ／４板を利用した偏光板は、ハードコート付きλ／４板のλ／４板側が偏光子に貼合されており、かつ偏光子の吸収軸と該ハードコート付きλ／４板の遅相軸が実質的に４５°の傾きをもって貼合されて円偏光板とすることが好ましい。

本発明に係る偏光板は、偏光子としてヨウ素、又は二色性染料をドープしたポリビニルアルコールを延伸したものを使用し、ハードコート層／（λ／４板）／偏光子、またはハードコート層／（λ／４板）／偏光子／光学フィルムの構成で貼合して製造することができる。

上記光学フィルムは、特に限定されるものではないが、ポリマーフィルムであることが好ましく、製造が容易であること、光学的に均一性であること、光学的に透明性であることが好ましい。これらの性質を有していれば何れでもよく、例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム，ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン樹脂系フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリビニルアセタール系樹脂フィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム又はアクリルフィルム等を挙げることができるが、これらに限定されるわけではない。これらのフィルムは溶液流延法或いは溶融法で製膜されたフィルムが好ましく用いられる。これらのうちセルロースエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンを含む）、シクロオレフィンポリマーフィルムが好ましく、本発明においては、特にセルロースエステルフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルムが、製造上、コスト面、透明性、均一性、接着性等の面から好ましい。例えば、市販のセルロースエステルフィルムとしては、コニカミノルタタック ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ８ＵＣＲ４、ＫＣ８ＵＣＲ５、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ１６ＵＲ、ＫＣ４ＵＥ、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ４ＦＲ−１、ＫＣ４ＦＲ−２（以上コニカミノルタオプト（株）製）などが好ましく用いられる。

本発明に係る偏光板に好ましく用いられる偏光子としては、ポリビニルアルコール系偏光フィルムが挙げられ、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。ポリビニルアルコール系フィルムとしては、エチレンで変性された変性ポリビニルアルコール系フィルムが好ましく用いられる。偏光子は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。延伸は、フィルム製膜方向に一軸延伸を行うか、またはフィルム製膜方向に対して前述の斜め延伸装置を用いて斜め４５°方向に延伸することが好ましい。

偏光子の膜厚は５〜４０μｍ、好ましくは５〜３０μｍであり、特に好ましくは５〜２０μｍである。

偏光板は一般的な方法で作製することができる。アルカリ鹸化処理した本発明のハードコート付きλ／４板は、ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。もう一方の面には、前記光学フィルムを同様に鹸化処理して貼合することが好ましい。

本発明のハードコート付きλ／４板の作製において、長手方向から４５°の方向に延伸して作製されたハードコート付きλ／４フィルムの場合には、偏光膜の吸収軸が長手方向に位置している偏光子と、偏光子の長手方向とλ／４板の遅相軸が１０°以上９０°未満、より好ましくは２０°以上７０°未満、更に好ましくは４０°以上５０°未満、特に好ましくは４４°以上４６°未満になるように、ロール・ツー・ロールで連続的に貼り合わせることができる。

また、本発明のハードコート付きλ／４板の作製において、長手方向に延伸して作製されたハードコート付きλ／４板と、長手方向に吸収軸を有する偏光子とを貼合する場合には、貼合する前に本発明のハードコート付きλ／４板と偏光子を各々打ち抜き、偏光膜の吸収軸とλ／４板の遅相軸が１０°以上９０°未満、より好ましくは２０°以上７０°未満、更に好ましくは４０°以上５０°未満、特に好ましくは４４°以上４６°未満になるように、枚葉で貼り合わせる。

偏光板は、更に該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成することができる。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。

（液晶表示装置）
本発明に係る液晶表示装置は、偏光板が液晶セルよりも視認側に配置され、液晶セル、偏光子、λ／４板、ハードコート層がこの順になるように設けられていることが好ましい。

本発明に係る偏光板を液晶セルの視認側の面に貼合した液晶表示装置とすることによって、偏光サングラス等偏光作用のある光学部材を通して観察した場合でも表示画像が偏光軸の方向によって見え難くなるのを低減でき、使用環境に対してより耐久性が高い本発明に係る液晶表示装置を作製することができる。本発明に係る偏光板は反射型、透過型、半透過型ＬＣＤ或いはＴＮ型、ＳＴＮ型、ＯＣＢ型、ＨＡＮ型、ＶＡ型（ＰＶＡ型、ＭＶＡ型）、ＩＰＳ型等の各種駆動方式のＬＣＤで好ましく用いられる。

液晶表示装置における本発明に係る偏光板の位置は、液晶セルに対して視認側へ配置が必要であり、本発明のハードコート付きλ／４板が更に視認側に配置されることで直線偏光を円偏光に変換し、偏光サングラス等偏光作用のある光学部材を通して観察した場合の視認性を大幅に改善できるものである。

（立体画像表示装置）
本発明のハードコート付きλ／４板は、立体画像表示装置において、種々の態様において用いることができる。例えば、液晶表示装置と液晶シャッタメガネとからなる立体画像表示装置であって、当該液晶シャッタメガネが、（１）ハードコート付きλ／４板、液晶セル、及び偏光子がこの順に設けられている、又は（２）ハードコート付きλ／４板、偏光子、液晶セル、及び偏光子がこの順に設けられている液晶シャッタメガネであることを特徴とする態様の立体画像表示装置において用いることができる。

上記（１）の態様（メガネの偏光板が一枚の方式）の立体画像表示装置の模式図を図３に示す。また、上記（２）の態様（メガネの偏光板が二枚の方式）の模式図を図４に示す。

なお、いずれの態様の場合も、液晶表示装置の前側偏光板は、λ／４板、偏光子、及び光学フィルムセル、及び偏光子がこの順に設けられている構成になっている。

本発明においては、上記の態様・構成により、立体（３Ｄ）画像観賞時に首を傾けた際のクロストーク若しくは輝度低下及び色味変化を低減でき、使用環境に対して優れた視認性を保つことが可能で、使用環境に対してより耐久性が高い立体画像表示装置とすることができる。

（透明導電性フィルム）
本発明のハードコート付きλ／４板は、タッチパネル用上部電極、あるいは下部電極として用いる場合には、ハードコート層付きλ／４板のハードコート層上に透明導電膜層が設けられる。その際、透明導電膜層とハードコート層の間に、反射防止層が設けられる構成も好ましい。

透明導電膜は、導電性微粒子分散物、金属アルコキシドなどを塗布によって設けても構わないし、スパッタリング、真空蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法などの真空成膜法、あるいは大気圧での気相成長法によって透明導電膜を形成しても構わない。好ましい形成法はスパッタリング、真空蒸着、イオンプレーティングであり、特に好ましくはスパッタリング法である。

真空成膜法としては「透明導電膜の新展開」シーエムシー、澤田豊監修「月刊ディスプレイ」１９９９年９月号に記載の方法を用いることができる。成膜する透明導電性金属酸化物としてはＩｎ_２Ｏ_３系（Ｓｎなどのドープ品、ＩＴＯを含む）、ＳｎＯ_２系（Ｆ、Ｓｂなどのドープ品を含む）、ＺｎＯ系（Ａｌ、Ｇａなどのドープ品を含む）およびこれらの複合酸化物、例えばＩｎ_２Ｏ_３−ＺｎＯ系、などが挙げられる。金属窒化物としてはＴｉＮなどが挙げられる。また、銀などと共に成膜してもよい。

スパッタ法により酸化インジウムを主成分とする膜を成膜する方法としては、インジウムを主成分とする金属ターゲット、または酸化インジウムを主成分とする焼結体ターゲットを用いた反応性スパッタリングが適する。反応を制御する上では、後者が好ましい。特に好ましくは酸化スズを含有する酸化インジウムターゲットを用いた反応性スパッタリングであり、酸化スズを１質量％から２０質量％含むのが望ましく、３質量％から１２質量％含むのが特に望ましい。反応性スパッタリング法においてはスパッタリングガスに、アルゴンなどの不活性ガスを用い、反応性ガスとしては酸素を用いる。また、酸素流量の制御はプラズマエミッションモニター法で行うことが好ましい。放電形式は特に規定しないが、ＤＣマグネトロンスパッタ、ＲＦマグネトロンスパッタ、１対のターゲット間にＡＣ電圧を印加する方法、１対のターゲット間にパルスＤＣ電圧を印加する方法などが好ましい。成膜時の基板の温度は特に規定はないが、基板のガラス転移点以下で可能な範囲で加熱した方が膜強度が向上する傾向がある。

透明導電膜が形成された状態で、波長５９０ｎｍにおける光の透過率は９０％以上であることが好ましく、９２％以上であることがより好ましく、９３％以上であることがさらに好ましく、９４％以上であることが特に好ましい。さらに、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、５９０ｎｍの全ての波長で、透過率が９０％以上、更に好ましくは９２％以上であるとディスプレイに搭載した際に、透過光の色変化が少なく、特に好ましい。

（タッチパネル）
本発明のタッチパネルは、例えば、表示装置が液晶表示装置の場合には液晶セルに近い側の下部基板と、対向する上部基板とからなる。下部基板と上部基板の対向面には、それぞれ透明導電膜が備えられている。

基板が円偏光機能を備えないタッチパネルの場合、下部基板及び上部基板は、表示品質を高めるため、透明な光学材料で形成されていることが好ましい。本発明のハードコート付きλ／４板からなる透明導電性フィルムを用いない場合は、フィルム、プラスチック、ガラスのどれでもよいが、入力感の観点から、上部基板側は可撓性を有する透明フィルムが特に望ましい。透明フィルムの例としては非晶性フィルム、ポリエーテルサルフォン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、セルロースエステル、環状ポリオレフィンなどのポリマーフィルムが挙げられるが、これに限るものではない。また、インナータイプタッチパネルの場合は、上部基板としては、円偏光板を用いてもよいし、または上記で挙げた透明フィルム上に円偏光板を貼り合わせたものを用いてもよい。また、上部基板表面に反射防止膜やハードコート層を設けた透明フィルムを貼り付けてもよいし、反射防止膜やハードコート層を設けた透明フィルムをλ／４板とは逆側に位置する保護膜として直接偏光膜に貼り付けて、円偏光板として一体化してもよい。

下部基板としては、例えば、ガラスおよび非晶性フィルム、ポリエーテルサルフォン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、セルロースエステル、環状ポリオレフィンなどのポリマーフィルムなどを用いる。また、一般の透過型液晶装置のように、液晶セルの両側に直接偏光板が配置されている表示機器に、本発明のタッチパネルを搭載する場合は、タッチパネルの固定基板としてλ／４機能を有するフィルムを用いる、または、λ／４機能を有するフィルムを透明基板に貼り付けて使うことも可能である。

上部基板および下部基板の表面には透明導電膜が形成されるが、本発明のハードコート付きλ／４板からなる導電性フィルムを用いない場合でも、透明導電膜の形成方法は前記の（透明導電性フィルム）の箇所に記載した内容と同様である。

２つの透明導電膜間には、ギャップが形成される。ギャップ間には通常空気層が存在するが、オプティカル・マッチングを取るために透明導電膜と屈折率の近い液体を充填させることもできる。また、透明導電膜の基板側にアンダーコート層、または、基板と反対側にオーバーコート層を付与し、光反射を低減させることもできる。スティッキング性をなくし、耐久性を改善するために、透明導電膜表面は粗面化されていてもよい。ギャップ間にはスペーサを設けることができる。スペーサとしては、ドット状スペーサを下部基板または上部基板のどちらかに設ける。ドットスペーサーのサイズは径２０〜１５０μｍ、高さ５〜２０μｍが望ましく、ピッチ１〜８ｍｍで基板全面に作製されていることが望ましいが、作製密度は基板内で均一でない場合もある。

タッチパネルによるデータ入力位置検出の方式は、デジタル式（マトリクス式）、アナログ式のどちらでも用いることができる。デジタル式（マトリクス式）では、固定基板の透明導電膜（例えばＸ列）と可動基板の透明導電膜（例えばＹ列）とによりマトリクスを形成し、押圧による透明導電膜同士の接触位置に対応して、データ位置を検出することができる。アナログ式では、例えば、固定基板のＸ軸方向の両端部、および、可動基板のＹ軸方向の両端部に電極を形成し、押圧により透明電極同士が接触し、接触位置により生じるＸ方向、Ｙ方向の抵抗値を検出することによって、データ入力位置を検出することができる。

本発明においては、タッチパネルは画像表示装置に組み込んで用いることが好ましいが、タッチパネルが表示部とは別々になっていても構わないし、両者が一体となっていても構わない。

本発明のタッチパネルは、様々な表示装置と組み合わせて用いることができる。例えば、カソードレイチューブ（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、フィールド・エミッション・ディスプレイ（ＦＥＤ）、無機ＥＬディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、液晶表示装置などである。本発明のタッチパネルを用いることで、これらタッチパネル付き表示装置の外光の反射を低減することができる。これらの表示装置の中では、液晶表示装置または有機ＥＬディスプレイ、無機ＥＬディスプレイと組み合わせて用いるのが好ましい。

液晶表示装置と組み合わせて用いる場合は、用いられる液晶モードは特に限定されないが、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）型、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）型、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）型または、ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ Ｈｏｓｔ）型であることが好ましい。また、反射型、半透過型、透過型いずれに対しても用いることができる。

以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

（セルロースアシレートの合成）
特開平１０−４５８０４号公報、同０８−２３１７６１号公報に記載の方法で、表１記載のセルロースアシレートを合成し、その置換度を測定した。具体的には、触媒として硫酸（セルロース１００質量部に対し７．８質量部）を添加し、アシル置換基の原料となるカルボンを添加し４０℃でアシル化反応を行った。この時、カルボン酸の種類、量を調整することでアシル基の種類、置換度を調整した。またアシル化後に４０℃で熟成を行った。さらにこのセルロースアシレートの低分子量成分をアセトンで洗浄し除去した。

置換度を測定は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に規定の方法により求めた。

＜セルロースアシレートフィルム１〜２６の作製＞
以下に示すセルロースアシレートドープを調製した。

（層Ａ用セルロースアシレートドープの調製）
セルロースアシレート樹脂：表１に記載のもの １００質量部
レターデーション調整剤：表２〜表３に記載のもの 表２〜表３に記載の質量部
紫外線吸収剤：表２〜表３に記載のもの 表２〜表３に記載の質量部
可塑剤：表２〜表３に記載のもの 表２〜表３に記載の質量部
ジクロロメタン ４０６質量部
メタノール ６１質量部
（層Ｂ用セルロースアセテートドープの調製）
セルロースアセテート樹脂：表１に記載のもの １００質量部
レターデーション調整剤：表２〜表３に記載のもの 表２〜表３に記載の質量部
紫外線吸収剤：表２〜表３に記載のもの 表２〜表３に記載の質量部
可塑剤：表２〜表３に記載のもの 表２〜表３に記載の質量部
マット剤：下記化合物Ｄ 表２〜表３に記載の質量部
ジクロロメタン ４０６質量部
メタノール ６１質量部
（層Ｃ用セルロースアセテートドープの調製）
セルロースアセテート樹脂：表１に記載のもの １００質量部
レターデーション調整剤：表２〜表３に記載のもの 表２〜表３に記載の質量部
可塑剤：表２〜表３に記載のもの 表２〜表３に記載の質量部
剥離促進剤：表２〜表３に記載のもの 表２〜表３に記載の質量部
マット剤：下記化合物Ｄ 表２〜表３に記載の質量部
ジクロロメタン ４０６質量部
メタノール ６１質量部

化合物Ａ：下記円盤状化合物

化合物Ｂ：ポリエステル系化合物：コハク酸／アジピン酸／エチレングリコール共重合体（重合比３：２：５）
化合物Ｃ：剥離促進剤（クエン酸の部分エチルエステル化合物）
化合物Ｄ：マット剤（日本エアロジル株式会社製、アエロジルＲ９７２（商品名、二酸化ケイ素微粒子（平均粒径１５ｎｍ、モース硬度約７）
化合物Ｅ：紫外線吸収剤２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
化合物Ｆ：下記化合物

化合物Ｇ：トリフェニレンホスフェート
化合物Ｈ：ビフェニルジフェニルホスフェート
化合物Ｉ：トリベンジルアミン
上記の各セルロースアシレートドープを各々ミキシングタンクに投入し、撹拌して各成分を溶解した後、平均孔径３４μｍの濾紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターで濾過し、セルロースアシレートドープを調製した。

次に、上記調製した層Ａ用、層Ｂ用、層Ｃ用ドープを用いて表２〜表３の構成で層Ａ／層Ｂまたは、層Ｃ／層Ａ／層Ｂの多層構造で製膜した。

ドープを流延する際には、図５に示すように、走行する流延支持体の上に共流延ダイから上記２種あるいは３種類のドープを共流延した。

図５は、共流延ダイ及び流延して多層構造ウェブを形成したところを表した図である。

図中、共流延ダイ１０、口金部分１１、層Ｂ、層Ｃ用スリット１３、１５、層Ａ用スリット１４、金属支持体１６、層Ｂ、層Ｃ用ドープ１７、１９、層Ａ用ドープ１８、多層構造ウェブ２０、層Ｃ２１、層Ａ２２、層Ｂ２３を各々表す。

ここで、各ドープの流延量を調整することにより、層Ａの厚みが最も厚くなるように調整し、結果的に延伸後のフィルム膜厚が表２〜表３の値になるように、同時多層流延により多層構造ウェブ２０を形成させた。

多層構造ウェブ２０を流延支持体１６から剥ぎ取った後、剥離部分の張力をカットする部分（ロール）とその次の搬送張力をかける部分（ロール）との速度差をつけた状態で、流延方向と平行な方向に延伸しながら搬送を行った。延伸倍率や延伸温度は、表２〜表３に記載の面内位相差Ｒｏになるように、適宜調整して延伸を行った。さらにフィルムを乾燥室に送り、多数のローラに巻きかけながら搬送する間に、乾燥を十分に促進させて、幅１５００ｍｍのセルロースアシレートフィルム１〜１６、１８〜２６を作製した。

同様に、多層構造ウェブ２０を流延支持体１６からはぎ取った後、図２の装置を用い、倍率１．５倍で遅相軸がフィルム幅方向と４５°をなす様に斜め方向に延伸を行い、十分に乾燥して、セルロースアシレートフィルム１７を作製した。

作製したセルロースアシレートフィルムのレターデーション値Ｒｏを下記方法により測定した。

（レターデーション値Ｒｏの測定）
アッベ屈折率計と分光光源を用いてフィルム試料の平均屈折率を測定した。また市販のマイクロメーターを用いてフィルムの厚さを測定した。

自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）を用いて、２３℃５５％ＲＨの環境下２４時間放置したフィルムにおいて、同環境下、波長５９０ｎｍにおいてフィルムのレターデーション測定を行った。上述の平均屈折率と膜厚を下記式に入力し、面内位相差Ｒｏを求めた。

Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
（式中、ｎｘ、ｎｙは２３℃ＲＨ、各波長における屈折率ｎｘ（フィルムの面内の最大屈折率、遅相軸方向の屈折率ともいう）、ｎｙ（フィルム面内で遅相軸に直交する方向の屈折率）であり、ｄはフィルムの厚み（ｎｍ）である。）
次いで、作製したセルロースアシレートフィルムの面内配向角θのばらつきは以下のように評価した。

（面内配向角θのばらつき測定）
面内配向角θは、自動複屈折率計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）を用いて波長５９０ｎｍにて測定し、搬送方向をθ＝０°とし、そこからずれた角度を−１８０°〜１８０°で定義した。

作成したセルロースアシレートフィルムの、幅手方向に５０ｍｍごと２５点と、長尺方向に５０ｍｍごと２５点における面内配向角θを上記の通りに測定した。その後、幅手方向５０点のうちのθの最大値と最小値の差Δθ（ＴＤ）と、長尺方向５０点でのθの最大値と最小値の差Δθ（ＭＤ）を求めた。

作製したセルロースアシレートフィルム１〜２６の面内位相差Ｒｏおよび面内配向角θのばらつきを表２〜表３に示す。

面内位相差Ｒｏの測定結果より、セルロースアシレートフィルム１〜１４、１６〜２５はλ／４板としての位相差を有することが分かった。

＜実施例１＞
上記のように作製したセルロースアシレートフィルム１〜１２の層Ｂ上に、下記の要領でハードコート層を設け、本発明のハードコート付きλ／４板１０１〜１１２を作製した。

＜比較例１０１、１０２、１０３＞
上記のように作製したセルロースアシレートフィルム１３、１４、１５の層Ｂ上に、実施例１と同様にハードコート層を設け、比較のハードコート付きセルロースアシレートフィルム１０１、１０２、１０３を作製した。

（ハードコート層の塗設）
作製したセルロースアシレートフィルム上に、下記ハードコート層塗布液１を塗布幅１．４ｍでダイコートし、８０℃で乾燥した後、１２０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を高圧水銀灯で照射して硬化後の膜厚が６μｍになるようにクリアハードコート層を設けた。

（ハードコート層用塗布液１）
アセトン ４５質量部
酢酸エチル ４５質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル １０質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート ３０質量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート ４５質量部
ウレタンアクリレート（商品名Ｕ−４ＨＡ 新中村化学工業社製） ２５質量部
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
（イルガキュア１８４、ＢＡＳＦジャパン社製） ５質量部
２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モノフォリノ−１−オン
（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦジャパン社製） ３質量部
ＢＹＫ−３３１（シリコーン界面活性剤、ビックケミー・ジャパン（株）製）
０．５質量部
作製した本発明のハードコート付きλ／４板１０１〜１１２、比較例１０１、１０２、１０３のハードコート付きセルロースアシレートフィルムを下記のように評価した。

（面内配向角θ′のばらつき評価）
面内配向角θ′も、自動複屈折率計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨを用いて波長５９０ｎｍにて測定し、搬送方向をθ′＝０°とし、そこからずれた角度を−１８０°〜１８０°で定義した。

作製したハードコート付きλ／４板、ハードコート付きセルロースアシレートフィルムの、幅手方向に５０ｍｍごと２５点と、長尺方向に５０ｍｍごと２５点における面内配向角θ′を上記の通りに測定した。その後、幅手方向５０点のうちのθ′の最大値と最小値の差Δθ′（ＴＤ）と、長尺方向５０点でのθの最大値と最小値の差Δθ′（ＭＤ）を求めた。

（ハードコート塗設前後の面内配向角θ変動の評価）
Δθ（ＴＤ）、Δθ′（ＴＤ）、Δθ（ＭＤ）、Δθ′（ＭＤ）の値から、ハードコート塗設前後のθばらつきを以下のように評価した。

◎： ０≦｜Δθ′（ＴＤ）−Δθ（ＴＤ）｜＜０．５ かつ
０≦｜Δθ′（ＭＤ）−Δθ（ＭＤ）｜＜０．５
○： （１） ０．５≦｜Δθ′（ＴＤ）−Δθ（ＴＤ）｜＜１．０ または
（２） ０．５≦｜Δθ′（ＭＤ）−Δθ（ＭＤ）｜＜１．０ もしくは、
（１）かつ（２）
×： １．０≦｜Δθ′（ＴＤ）−Δθ（ＴＤ）｜ かつ
１．０≦｜Δθ′（ＭＤ）−Δθ（ＭＤ）｜
上記評価で×のレベルは、立体画像表示装置にしたときの首傾け時のクロストークが大きくなってしまうため、実用性が低いレベルである。

（密着性の評価）
ハードコート層を表面にして、耐光性試験機（アイ スーパーＵＶ テスター、岩崎電気株式会社製）により１５０時間光照射した。耐光処理したハードコートフィルムを、温度２３℃、相対湿度５５％の条件で２４時間調湿後、碁盤目試験により密着性を評価した。具体的には、評価面積は１ｃｍ四方で、深さは透明なプラスチックフィルムの表面に僅か達する程度に、硬化皮膜層の表面に１ｍｍ角の碁盤目を片刃のカミソリの刃を用いて切り込みを入れ、市販の２５ｍｍ幅のセロファンテープを切れ込み部分をまたいでテープの一端を残して貼り、曲面の有るプラスチックあるいは金属でその上を擦ってよく接着させ、貼られてないテープのその一端を手で持ってなるべく垂直に力強く引張って剥がし、切り込み線からの貼られたテープ面積に対する硬化皮膜層が剥がされた面積の割合を下記の如く評価した。剥がれの面積が、評価面積に対して１５％以上あると、実用性の低いレベルである。

◎：全く剥離しなかった
○：剥がれの面積が、評価面積に対して１５％未満であった
×：剥がれの面積が、評価面積に対して１５％以上であった
以上のように評価した結果を表４に示す。本発明のハードコート付きλ／４板はハードコート塗設後も面内配向角θの変動が極めて小さく、ハードコート層とλ／４板との密着性が優れていた。

＜実施例２＞
作製したセルロースアシレートフィルム１６〜２５の層Ｂ上に、上記のハードコート層１を塗設し、本発明のハードコート付きλ／４板２０１〜２１０を作製した。

＜比較例２０１、２０２＞
作製したセルロースアシレートフィルム２６、１４の層Ｂ上に、上記のハードコート層１を塗設し、比較のハードコート付きセルロースアシレートフィルム２０１、２０２を作製した。

作製した本発明のハードコート付きλ／４板２０１〜２１０、比較のハードコート付きセルロースアシレートフィルム２０１、２０２を以下のように評価した。

（ハードコート塗設前後の面内配向角θ変動の評価）
実施例１と同様の方法で評価を行った。

（密着性の評価）
実施例１と同様の方法で評価を行った。

（カール評価）
作製したハードコート付きλ／４板２０１〜２１０および比較のハードコート付きセルロースアシレートフィルム２０１、２０２を、３５ｍｍ×１２５ｍｍに切断し、温度２５℃湿度６０％ＲＨで平板上２時間静置後、４隅の浮いた高さを測定し、平均値を基に以下の３段階評価を行った。平均が１５ｍｍ以上では実用性が低いレベルである。

◎：５ｍｍ未満
○：５ｍｍ以上１５ｍｍ未満
×：１５ｍｍ以上
以上のように評価した結果を表５に示す。本発明によれば、θ変動が小さく、密着性も良好で、平面性にも優れたハードコート付きλ／４板を提供できる。

＜実施例３＞
（本発明の液晶表示装置３０１〜３１０の作製）
実施例２で作製した、本発明のハードコート付きλ／４板２０１〜２１０のハードコート面上に、以下の通りに反射防止層を設けた。

（比較の液晶表示装置３０１の作製）
比較例２０２で作製したハードコート付きλ／４板のハードコート面上に、以下の通りに反射防止層を設けた。

〈反射防止層の塗布〉
（中屈折率層の塗布）
ハードコート層表面上に、下記中屈折率層塗布液をダイコートし、８０℃で乾燥した後、１２０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を高圧水銀灯で照射して、硬化後の膜厚が１１０ｎｍとなるように中屈折率層を設けた。屈折率は１．６０であった。

（中屈折率層塗布液）
〈微粒子分散液２の作製〉
メタノール分散アンチモン複酸化物コロイド（固形分６０％、日産化学工業（株）製アンチモン酸亜鉛ゾル、商品名：セルナックスＣＸ−Ｚ６１０Ｍ−Ｆ２）６．０ｋｇにイソプロピルアルコール１２．０ｋｇを攪拌しながら徐々に添加し、微粒子分散液２を調製した。

ＰＧＭＥ（プロピレングリコールモノメチルエーテル） ４０質量部
イソプロピルアルコール ２５質量部
メチルエチルケトン ２５質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート ０．９質量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート １．０質量部
ウレタンアクリレート（商品名：Ｕ−４ＨＡ 新中村化学工業社製） ０．６質量部
微粒子分散液２ ２０質量部
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
（イルガキュア１８４、ＢＡＳＦジャパン社製） ０．４質量部
２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モノフォリノプロパン
−１−オン（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦジャパン社製） ０．２質量部
１０％ＦＺ−２２０７、プロピレングリコールモノメチルエーテル溶液
（日本ユニカー社製） ０．４質量部
（低屈折率層の塗布）
上記中屈折率層上に、下記の低屈折率層塗布液をダイコートし、８０℃で乾燥した後、１２０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を高圧水銀灯で照射して膜厚が９２ｎｍになるように低屈折率層を設け、反射防止層を作製した。屈折率は１．３８であった。

（低屈折率層塗布液）
＜テトラエトキシシラン加水分解物３の調製＞
テトラエトキシシラン２３０ｇ（商品名：ＫＢＥ０４、信越化学工業社製）とエタノール４４０ｇを混合し、これに２％酢酸水溶液１２０ｇを添加した後に、室温（２５℃）にて２６時間攪拌することでテトラエトキシシラン加水分解物３を調製した。

プロピレングリコールモノメチルエーテル ４３０質量部
イソプロピルアルコール ４３０質量部
テトラエトキシシラン加水分解物３ １２０質量部
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
（商品名：ＫＢＭ５０３、信越化学工業社製） ３．０質量部
イソプロピルアルコール分散中空シリカゾル（固形分２０％、
触媒化成工業社製シリカゾル、商品名：ＥＬＣＯＭ Ｖ−８２０９） ４０質量部
アルミニウムエチルアセトアセテート・ジイソプロピレート
（川研ファインケミカル社製） ３．０質量部
１０％ＦＺ−２２０７、プロピレングリコールモノメチルエーテル溶液
（日本ユニカー社製） ３．０質量部
＜光学フィルム３０の作製＞
（微粒子分散液１）
微粒子（アエロジル Ｒ９７２Ｖ 日本アエロジル（株）製） １１質量部
エタノール ８９質量部
以上をディゾルバーで５０分間攪拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。

（微粒子添加液１）
メチレンクロライドを入れた溶解タンクに十分攪拌しながら、微粒子分散液１をゆっくりと添加した。更に、二次粒子の粒径が所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線（株）製のファインメットＮＦで濾過し、微粒子添加液１を調製した。

メチレンクロライド ９９質量部
微粒子分散液１ ５質量部
下記組成の主ドープ液を調製した。まず加圧溶解タンクにメチレンクロライドとエタノールを添加した。溶剤の入った加圧溶解タンクにセルロースアセテートを攪拌しながら投入した。これを加熱し、攪拌しながら、完全に溶解し。これを安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過し、主ドープ液を調製した。

（主ドープ液の組成）
メチレンクロライド ３４０質量部
エタノール ６４質量部
アセチル基置換度が２．４のセルロースアセテート １００質量部
一般紙（Ｔ）で表される化合物 １−２３ １０．０質量部
ポリエステル（Ｐ） ２．５質量部
紫外線吸収剤（チヌビン９２８（ＢＡＳＦジャパン（株）製）） ２．３質量部
微粒子添加液１ １質量部
上記組成物を密閉容器に投入し、攪拌しながら溶解してドープ液を調製した。次いで、無端ベルト流延装置を用い、ドープ液を温度３３℃、２０００ｍｍ幅でステンレスベルト支持体上に均一に流延した。ステンレスベルトの温度は３０℃に制御した。

ステンレスベルト支持体上で、流延（キャスト）したフィルム中の残留溶媒量が７５％になるまで溶媒を蒸発させ、次いで剥離張力１３０Ｎ／ｍで、ステンレスベルト支持体上から剥離した。

その後１７０℃に設定されたテンターにより幅手方向に１．４倍の延伸を行い、次いで１３０℃に設定された乾燥ゾーンで３０分間搬送させて乾燥を行い、幅２ｍ、かつ端部に幅１ｃｍ、高さ８μｍのナーリングを有する膜厚４０μｍの光学フィルム３０を作製し、５０００ｍで巻き取った。

光学フィルム３０のリターデーション値Ｒｏ（５９０）、Ｒｔ（５９０）は、各々５０ｎｍ、１３０ｎｍであった。

（ポリエステル（Ｐ）の合成）
窒素雰囲気下、テレフタル酸ジメチル４．８５ｇ、１，２−プロピレングリコール４．４ｇ、ｐ−トルイル酸６．８ｇ、テトライソプロピルチタネート１０ｍｇを混合し、１４０℃で２時間攪拌を行った後、更に２１０℃で１６時間攪拌を行った。次に、１７０℃まで降温し、未反応物の１，２−プロピレングリコールを減圧留去することにより、ポリエステル（Ｐ）を得た。

酸価 ：０．１
数平均分子量：４９０
分散度 ：１．４
分子量３００〜１８００の成分含有率：９０％
ヒドロキシル（水酸基）価：０．１
水酸基含有量：０．０４％
＜偏光板３０２の作製＞
厚さ１２０μｍのポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸（温度１１０℃、延伸倍率５倍）し、長尺ロール状のフィルムを得た。

これをヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム５ｇ、水１００ｇからなる水溶液に６０秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム６ｇ、ホウ酸７．５ｇ、水１００ｇからなる６８℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥し長尺ロール状の偏光子を得た。

次いで、下記工程１〜５に従って、長尺ロール状の偏光子と、反射防止層を塗設した本発明のハードコート付きλ／４板２０２と、裏面側には光学フィルム３０をロールｔｏロールで貼り合わせて偏光板３０２を作製した。

工程１：６０℃の２モル／Ｌの水酸化ナトリウム溶液に９０秒間浸漬し、次いで水洗し乾燥して、偏光子と貼合する側を鹸化したλ／４板２０２′を得た。

工程２：前記偏光子を固形分２質量％のポリビニルアルコール接着剤槽中に１〜２秒浸漬した。

工程３：工程２で偏光子に付着した過剰の接着剤を軽く拭き除き、これを工程１で処理したλ／４板２０２′の上にのせて配置した。

工程４：工程３で積層したλ／４板２０２′と偏光子と光学フィルム３０を圧力２０〜３０Ｎ／ｃｍ^２、搬送スピードは約２ｍ／分で貼合した。

工程５：８０℃の乾燥機中に工程４で作製した偏光子とλ／４板２０２′と光学フィルム３０とをロールｔｏロールで貼り合わせた試料を２分間乾燥し、偏光板３０２を作製した。

上記偏光板は、λ／４板の遅相軸と偏光子の吸収軸が４５°の傾きで貼合されていた。

＜偏光板３０１、３０３〜３１０、及び比較偏光板３０１の作製＞
上記、λ／４板２０２の代わりにコニカミノルタ社製４ＵＹを用いた以外は同様に偏光板を作製した。

得られた偏光板の４ＵＹ側に、反射防止層を塗設した本発明のハードコート付きλ／４板２０１、２０３〜２１０、及び比較例２０２のハードコート付きλ／４板を、λ／４板の遅相軸と偏光子の吸収軸が４５°になるように枚葉に貼合して、ハードコート付きλ／４板２０１、２０３〜２１０にそれぞれ対応する偏光板３０１、３０３〜３１０、及び比較例２０２に対応する比較例偏光板３０１を得た。

＜液晶表示装置３０１〜３１０の作製＞
視野角測定を行う液晶パネルを以下のようにして作製し、液晶表示装置としての特性を評価した。

ＳＯＮＹ製６０型ディスプレイＢＲＡＶＩＡ ＬＸ９００の予め貼合されていた前面板を剥がして、パネル前面の偏光板と前面板の間にあった充填剤を除去し、予め貼合されていたパネル前側の偏光板を剥がして、上記作製した偏光板３０１〜３１０をそれぞれ液晶セルのガラス面の前面に貼合した。

その際、その偏光板の貼合の向きは、本発明のハードコート付きλ／４板の反射防止層が塗設された面が、視認側となるように、かつ、予め貼合されていた偏光板と同一の方向に吸収軸が向くように行い、それぞれ、偏光板３０１〜３１０に対応する液晶表示装置３０１〜３１０を各々作製した。

＜比較の液晶表示装置３０１の作製＞
上記の液晶表示装置３０１〜３１０と同様に、比較偏光板３０１を用いて比較の液晶表示装置３０１を作製した。

（３Ｄメガネ）
ＳＯＮＹ製３ＤメガネＴＤＧ−ＢＲ１００のパネル側に実施例２で作製したハードコート付きλ／４板２０１を貼合した。

作製した液晶表示装置について３Ｄ映像視聴時の首を傾けた際のクロストーク、及び連続点灯後の液晶表示装置の正面コントラスト にについて評価した。

（３Ｄ映像視聴時の首を傾けた際のクロストークの評価）
２３℃・５５％ＲＨの環境で、各々の液晶表示装置のバックライトを点灯させた直後、３Ｄメガネをかけて、メガネが２５°傾いた状態になるよう首を傾けた状態で３Ｄ映像を視聴し、クロストークを下記基準で評価した。

◎：クロストークがまったくない
○：非常に弱いクロストークが見える
△：弱いクロストークが見える
×：クロストークがはっきり見える
（液晶表示装置の正面コントラスト評価）
２３℃５５％ＲＨの環境で、本発明の液晶表示装置３０１〜３１０と比較例の液晶表示装置３０１のバックライトを１時間連続点灯した後、２Ｄ表示にしてパネルの正面コントラスト測定を行った。測定にはコニカミノルタセンシング（株）分光輝度色度計ＣＳ−２０００を用いて、液晶表示装置で白表示と黒表示の表示画面の法線方向からの輝度を測定し、その比を正面コントラストとした。

正面コントラスト＝（表示装置の法線方向から測定した白表示の輝度）／（表示装置の法線方向から測定した黒表示の輝度）
液晶表示装置の任意の５点の正面コントラストを測定して平均をとり、以下の基準にて評価した。

◎：１１００以上
○：９００以上１１００未満
×：９００未満
以上のように評価した結果を表６に示す。

本発明のハードコート付きλ／４板を装着した液晶表示装置３０１〜３１０は３Ｄ映像視聴時の首を傾けた際のクロストークに優れていることが明かである。

＜実施例４＞
（高屈折率層、中間層の作製）
実施例２で作製した本発明のハードコート付きλ／４板２０１の、ハードコート層上に下記塗布液４を、グラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で乾燥した後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、高屈折率層（屈折率：１．９０、膜厚：４０ｎｍ）を設けた。高屈折率層の上に、下記の塗布液５を、グラビアコーターを用いて塗布し、１００℃で乾燥した後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、中間層（屈折率：１．５２５、膜厚：８０ｎｍ）を設けた。このようにしてハードコート付きλ／４板上に高屈折率層、中間層を作製した。

（高屈折率層用塗布液４の調製）
シクロヘキサノン５４質量部およびメチルエチルケトン１８質量部に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦジャパン社製）０．１３質量部および光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．０４質量部を溶解した。さらに、下記二酸化チタン分散物２６．４質量部およびジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１．６質量部を加え、室温で３０分間撹拌した後、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ．Ｏ３）で濾過して、塗布液４を調製した。

〈二酸化チタン分散物の調製〉
二酸化チタン超微粒子（ＴＴＯ．Ｔ５Ｂ、石原テクノ（株）製）３０質量部、ジメチルアミノエチルアクリレート（ＤＭＡＥＡ、興人（株）製）１質量部、リン酸基含有アニオン性分散剤（ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＭ．Ｑ１、日本薬（株）製）６質量部およびシクロヘキサノン６３質量部を、サンドグラインダーによって、コールター法で測定した平均粒径が４２ｎｍになるまで分散し、二酸化チタン分散物を調製した。

（中間層用塗布液５の調製）
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）３０６質量部を、１６質量部のメチルエチルケトンと２２０質量部のシクロヘキサノンの混合溶媒に溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦジャパン社製）７．５質量部を加え、溶解するまで攪拌した後、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ．Ｏ３）で濾過して塗布液５を調製した。

（易接着処理および透明導電膜の作製）
高屈折率層および中間層を形成した上記λ／４板をロール式連続スパッタリング装置にセットして、易接着処理および透明導電性膜形成を連続で行った。

スパッタ装置は上記２処理を連続で行えるように、異なる真空度に制御可能な２チャンバーを有しているものを用いた。易接着処理は真空槽を１．２ＭＰａの圧力まで排気した後、Ａｒガスを導入して、ガス圧を２．０Ｐａに調整した後、プラズマ処理用のマグネトロン電極にＤＣ電圧を３．８８ｋＷ／ｍ^２印加し、その電極の前をフィルムを通過させた。処理時間は３分間とった。その後、スパッタチャンバーに搬送し、スパッタ処理を行った。スパッタチャンバーはＡｒ＋Ｏ_２混合ガス（Ｏ_２＝１．０％）を導入し、圧力を０．３Ｐａに調整した。基板温度を５０℃、投入電力密度１Ｗ／ｃｍ^２で、ＤＣスパッタリングを行い、厚み１５ｎｍの酸化スズを約１０質量％含有する酸化インジウム・酸化スズ膜（ＩＴＯ）を中間層上に形成した。

このようにして得られた導電膜付きλ／４板４０１Ｄの透明導電膜側の表面抵抗率を、４端子法にて測定した結果、４８５Ω／□であった。

（上部基板の作製）
片面にハードコート層と反射防止膜を設けたトリアセチルセルロースフィルムを作製し、その裏面（ハードコート層および反射防止膜を設けなかった面）と上記透明導電膜付λ／４板の透明導電膜を設けた面の反対側の面がそれぞれ偏光子と接するように、透明導電膜付きλ／４板と反射防止層付きハードコートフィルムを同時に偏光子に貼り付けた。貼り付ける方向は、偏光子の透過軸と、λ／４板の遅相軸とが、４５°となるようにした。このようにして、タッチパネル上部基板を作製した。

（下部基板の作製）
８０μｍの厚みのトリアセチルセルロースフィルム（ＫＣ８ＵＹ、コニカミノルタオプト（株）製）の上に、ハードコート層を形成し、上記、透明導電膜付きλ／４板を作製したのと同様に、ハードコート上に透明導電膜（ＩＴＯ）を形成した。このフィルムのＩＴＯ状に、表面に２ｍｍピッチのドットスペーサーと両端部に銀電極を印刷し、下部基板を作製した。

（タッチパネルの作製）
上記タッチパネル上部基板のＩＴＯ上に両端に銀電極を印刷した。それぞれの基板には銀電極印刷前に、透明導電膜と銀電極が接触してはいけないところに絶縁コート膜を印刷した。銀電極および絶縁コートはスクリーン印刷機にて印刷し、硬化を行った。上記下部基板と上部基板を透明導電膜同士が対向するように接着し、その後、フレキシブル電極を取り付け、熱圧着にて固定した。この際、両基板の周囲に１００μｍ厚の絶縁性貼り合せ剤を挟んだ。このようにしてタッチパネル４０１Ｔを作製した。

（インナータイプタッチパネル付き反射型液晶表示装置の作製）
ＴＮ型液晶セルを使用した、タッチパネル付き反射型液晶表示装置（パワーザウルスＭ１−Ｃ１、シャープ（株）製）に設けられているタッチパネル部を取り外し、偏光板と位相差板を剥がし、上記の通りに作成したタッチパネル４０１Ｔを取り付け、タッチパネル付き反射型液晶表示装置４０１を作製した。

＜比較例４０１、４０２＞
実施例１で作製した比較例１０１、１０２のハードコート付きλ／４板を、本発明のハードコート付きλ／４板２０１の代わりに用いた以外は、実施例４と同様の方法で、比較のタッチパネル付き反射型液晶表示装置４０１、４０２を作製した。

（タッチパネル付き反射型液晶表示装置の正面コントラスト評価）
２３℃５５％ＲＨの環境で、実施例のタッチパネル付き反射型液晶表示装置４０１と比較例のタッチパネル付き反射型液晶表示装置４０１、４０２の液晶表示装置のバックライトを１時間連続点灯した後、正面コントラスト測定を行った。測定にはコニカミノルタセンシング（株）分光輝度色度計ＣＳ−２０００を用いて、液晶表示装置で白表示と黒表示の表示画面の法線方向からの輝度を測定し、その比を正面コントラストとした。

正面コントラスト＝（表示装置の法線方向から測定した白表示の輝度）／（表示装置の法線方向から測定した黒表示の輝度）
液晶表示装置の任意の５点の正面コントラストを測定して平均をとり、以下の基準にて評価した。

◎：８００以上
○：６５０以上８００未満
×：６５０未満
評価した結果を表７に示す。本発明のハードコート付きλ／４板を用いれば、正面コントラストの高いタッチパネル付き液晶表示装置を提供できる。また、本発明のタッチパネル付き液晶表示装置は、タッチパネルの上部電極がλ／４板を兼ねているため、外光下での視認性も優れていた。

ＣＣ 制御回路
Ｇ 立体画像視認用眼鏡（メガネ）
Ｓ１ 右眼用液晶シャッタ
Ｓ２ 左眼用液晶シャッタ
ＤＲ１ 繰出し方向
ＤＲ２ 巻取り方向
θｉ 繰出し角度（繰出し方向と巻取り方向のなす角度）
ＣＲ，ＣＬ 把持具
Ｗｏ 延伸前のフィルムの幅
Ｗ 延伸後のフィルムの幅
Ａ 液晶シャッタメガネ
Ａ１、Ａ４ 偏光子
Ａ２ 液晶セル
Ａ３ λ／４板
Ｂ 液晶表示装置（例えばテレビジョン（ＴＶ））
Ｃ 偏光板
Ｃ１ λ／４板
Ｃ２ 偏光子
Ｃ３ 光学フィルム
Ｃ４ 偏光子保護フィルム
Ｄ 液晶セル
Ｅ 偏光板
Ｆ バックライト
ａ 吸収軸
ｂ 遅相軸
１０ 共流延ダイ
１１ 口金部分
１３、１５ 層Ｂ、層Ｃ用スリット
１４ 層Ａ用スリット
１６ 金属支持体
１７、１９ 層Ｂ、層Ｃ用ドープ
１８ 層Ａ用ドープ
２０ 多層構造ウェブ
２１ 層Ｃ
２２ 層Ａ
２３ 層Ｂ

Claims (9)

1. 波長５９０ｎｍにおける面内位相差Ｒｏ（５９０）が１１０〜１７０ｎｍであるλ／４板が、下記式（１）を満たすセルロースアシレートを含む層Ａと下記式（２）を満たすセルロースアセテートを含む層Ｂとが積層された樹脂フィルムであり、前記層Ａは、レターデーション発現剤を含有し、前記層Ｂは、レターデーション低減剤を含有し、かつ該層Ｂ上にハードコート層が塗設されていることを特徴とするハードコート付きλ／４板。
   式（１） ２．０＜Ｚ１＜２．７
   （式中、Ｚ１は層Ａのセルロースアシレートの総アシル置換度を表す。）
   式（２） ２．７≦Ｚ２
   （式中、Ｚ２は層Ｂのセルロースアセテートの総アセチル置換度を表す。）
2. 前記層Ａに紫外線吸収剤を１〜５質量％含み、前記層Ｂには紫外線吸収剤を含まないことを特徴とする請求項１に記載のハードコート付きλ／４板。
3. 前記層Ａが含有するレターデーション発現剤は円盤状構造を有する化合物を含み、前記層Ｂが含有するレターデーション低減剤はポリエステル系ポリマーを含むことを特徴とする請求項１または２に記載のハードコート付きλ／４板。
4. 前記層Ｂの膜厚が、前記層Ａの膜厚の２５〜５０％の範囲であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のハードコート付きλ／４板。
5. 前記層Ａの前記層Ｂとは異なる面に下記式（３）を満たすセルロースアシレートを含む層Ｃを隣接し、該層Ｃの膜厚が該層Ａの膜厚の０．２〜２５％以内であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のハードコート付きλ／４板。
   式（３） ２．７≦Ｚ３
   （式中、Ｚ３は層Ｃのセルロースアシレートの総アシル置換度を表す。）
6. 請求項１〜５のいずれか１項に記載のハードコート付きλ／４板の製造方法であって、下記式（１）を満たすセルロースアシレートを含む層Ａ用ドープと下記式（２）を満たすセルロースアセテートを含む層Ｂ用ドープを共流延法により支持体上に流延し剥離したウェブを、少なくとも一方向に１．３倍以上乾燥しながら延伸して製造したλ／４板の層Ｂの表面上にハードコート層を塗設することを特徴とするハードコート付きλ／４板の製造方法。
   式（１） ２．０＜Ｚ１＜２．７
   （式中、Ｚ１は層Ａのセルロースアシレートの総アシル置換度を表す。）
   式（２） ２．７≦Ｚ２
   （式中、Ｚ２は層Ｂのセルロースアセテートの総アセチル置換度を表す。）
7. 請求項１〜５のいずれか１項に記載のハードコート付きλ／４板のλ／４板側と偏光子が隣接して配置され、偏光子の吸収軸と該λ／４板の遅相軸が実質的に４５°の向きとなるように配置されていることを特徴とする偏光板。
8. 請求項７に記載の偏光板が液晶セルよりも視認側に配置され、液晶セル、偏光子、λ／４板、ハードコート層がこの順になるように設けられていることを特徴とする液晶表示装置。
9. 請求項１〜５のいずれか１項に記載のハードコート付きλ／４板を含むことを特徴とするタッチパネル部材。

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