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JP5589742B2 - Polyamic acid varnish, polyimide varnish, production method thereof, and connection structure - Google Patents
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JP5589742B2 - Polyamic acid varnish, polyimide varnish, production method thereof, and connection structure - Google Patents

Polyamic acid varnish, polyimide varnish, production method thereof, and connection structure Download PDF

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Description

本発明は、フッ素系樹脂を含有するポリアミック酸ワニスもしくはポリイミドワニス、又はそれらの製造方法に関する。   The present invention relates to a polyamic acid varnish or a polyimide varnish containing a fluororesin, or a production method thereof.

フッ素系樹脂フィルムは、耐熱性、耐薬品性などの特性に優れているため、例えば、ポリイミドフレキシブル基板のカバーフィルムとして使用することが試みられている。しかし、フッ素系樹脂フィルム表面の接着性が非常に低いため、フッ素系樹脂フィルムにポリオレフィンフィルムやポリイミドフィルム等を接着剤で積層することが非常に困難であった。そこで、フッ素系樹脂フィルムに芳香族ポリエステルや芳香族ポリアミド等の光吸収剤を含有させ、その表面に対しエキシマレーザー光を照射して表面改質することが提案されている(特許文献1)。   Since the fluororesin film is excellent in characteristics such as heat resistance and chemical resistance, it has been attempted to use it as a cover film for a polyimide flexible substrate, for example. However, since the adhesiveness on the surface of the fluororesin film is very low, it has been very difficult to laminate a polyolefin film, a polyimide film, or the like on the fluororesin film with an adhesive. Therefore, it has been proposed to modify the surface of the fluororesin film by containing a light absorber such as aromatic polyester or aromatic polyamide and irradiating the surface with excimer laser light (Patent Document 1).

特開平5−125208号公報Japanese Patent Laid-Open No. 5-125208

しかしながら、フッ素系樹脂に光吸収剤を均一に分散混合し成形する操作は、フッ素系樹脂と光吸収剤として使用されている高分子とが相溶し難いため容易とは言えず、しかもエキシマレーザー光照射装置は非常に高価であるため、そのような光吸収剤の混合処理やエキシマレーザー照射による改質処理を含めたフッ素系樹脂フィルムの製造コストが非常に高価になってしまうという問題があった。このため、このような改質処理を施していないフッ素系樹脂表面のみならずポリオレフィンやポリイミド表面に対しても良好な接着性を示す接着剤として機能し、かつ優れた保存安定性を示すワニスが求められている。   However, the operation of uniformly dispersing and mixing a light absorber in a fluororesin is not easy because the fluororesin and the polymer used as the light absorber are difficult to be compatible. Since the light irradiation apparatus is very expensive, there is a problem that the production cost of the fluororesin film including the mixing process of the light absorber and the modification process by the excimer laser irradiation becomes very expensive. It was. For this reason, a varnish that functions as an adhesive that exhibits good adhesion not only to the surface of a fluororesin that has not been subjected to such a modification treatment but also to a polyolefin or polyimide surface, and that exhibits excellent storage stability. It has been demanded.

本発明の目的は、上述した従来の問題を解決しようとするものであり、エキシマレーザー光照射のような改質処理を施していないフッ素系樹脂表面のみならずポリオレフィンやポリイミド表面に対しても良好な接着性を示し、優れた保存安定性を示すワニスを提供することである。   The object of the present invention is to solve the above-mentioned conventional problems, and is good not only for fluororesin surfaces not subjected to modification treatment such as excimer laser light irradiation but also for polyolefin and polyimide surfaces. It is to provide a varnish that exhibits excellent adhesiveness and excellent storage stability.

本発明者らは、接着剤として使用するワニスを構成する成分として、被着体と同種の材料を使用すれば接着性が向上するという技術常識の下、被着体としてフッ素系樹脂とポリイミドとを想定した場合に、フッ素系樹脂とポリアミック酸もしくはポリイミドとを、N−メチル−2−ピロリドン(以下、NMP)等の有機溶媒に溶解させてワニスを構成した。ところが、そのようなワニスのフッ素系樹脂に対する接着性は十分とはいえず、更に、室温保存下でワニスに相分離が生ずるという問題があった。そこで、本発明者らは、単にフッ素系樹脂とポリアミック酸もしくはポリイミドとを有機溶媒に溶解させるのではなく、フッ素系樹脂溶液中で酸二無水物とジアミンとを重縮合または重縮合環化することによりポリアミック酸またはポリイミドを生成させて得たワニスが、改質処理を施していないフッ素系樹脂表面のみならずポリオレフィンやポリイミド表面に対しても良好な接着性を示し、しかも優れた保存安定性を示すことを見出し、本発明を完成させるに至った。   The present inventors, as a component constituting a varnish used as an adhesive, under the technical common knowledge that if the same kind of material as that of the adherend is used, the adhesiveness is improved. In this case, the varnish was constituted by dissolving a fluorine-based resin and polyamic acid or polyimide in an organic solvent such as N-methyl-2-pyrrolidone (hereinafter, NMP). However, the adhesiveness of such a varnish to a fluorine-based resin is not sufficient, and there is a problem that phase separation occurs in the varnish under storage at room temperature. Therefore, the present inventors do not simply dissolve the fluororesin and polyamic acid or polyimide in an organic solvent, but polycondensate or polycondensate cyclize the acid dianhydride and diamine in the fluororesin solution. The varnish obtained by producing polyamic acid or polyimide by this method shows good adhesion not only to the surface of the fluororesin that has not been modified, but also to the surface of polyolefin and polyimide, and has excellent storage stability As a result, the present invention has been completed.

即ち、本発明は、酸二無水物とジアミンとを重縮合してなるポリアミック酸と、フッ素系樹脂と、それらを溶解することができる有機溶媒とを含有するポリアミック酸ワニスであって、該ポリアミック酸が、該フッ素系樹脂を有機溶媒に溶解したフッ素系樹脂溶液中で、酸二無水物とジアミンとを重縮合して生成したものであることを特徴とするポリアミック酸ワニスを提供する。また、本発明は、このポリアミック酸ワニスの製造方法として、フッ素系樹脂を有機溶媒に溶解したフッ素系樹脂溶液中で、酸二無水物とジアミンとを重縮合してポリアミック酸を生成させることを特徴とするポリアミック酸ワニスの製造方法を提供する。   That is, the present invention is a polyamic acid varnish containing a polyamic acid obtained by polycondensation of an acid dianhydride and a diamine, a fluororesin, and an organic solvent capable of dissolving them, the polyamic acid varnish. There is provided a polyamic acid varnish characterized in that an acid is produced by polycondensation of an acid dianhydride and a diamine in a fluorine resin solution obtained by dissolving the fluorine resin in an organic solvent. In addition, the present invention provides a method for producing this polyamic acid varnish by producing a polyamic acid by polycondensation of acid dianhydride and diamine in a fluorine resin solution obtained by dissolving a fluorine resin in an organic solvent. A method for producing a polyamic acid varnish is provided.

更に、本発明は、酸二無水物とジアミンとを重縮合環化してなるポリイミドと、フッ素系樹脂と、それらを溶解することができる有機溶媒とを含有するポリイミドワニスであって、該ポリイミドが、該フッ素系樹脂を有機溶媒に溶解したフッ素系樹脂溶液中で、酸二無水物とジアミンとを重縮合環化して生成したものであることを特徴とするポリイミドワニスを提供する。また、本発明は、このポリイミドとして、フッ素系樹脂をポリアミック酸有機溶媒に溶解したフッ素系樹脂溶液中で、酸二無水物とジアミンとを重縮合環化してポリイミドを生成させることを特徴とするポリイミドワニスの製造方法を提供する。   Furthermore, the present invention is a polyimide varnish containing a polyimide formed by polycondensation cyclization of an acid dianhydride and a diamine, a fluororesin, and an organic solvent capable of dissolving them. The present invention provides a polyimide varnish characterized by being produced by polycondensation cyclization of acid dianhydride and diamine in a fluorine resin solution obtained by dissolving the fluorine resin in an organic solvent. Further, the present invention is characterized in that, as the polyimide, a polyimide is produced by polycondensation of acid dianhydride and diamine in a fluorine resin solution obtained by dissolving a fluorine resin in a polyamic acid organic solvent. A method for producing a polyimide varnish is provided.

加えて、本発明は、ポリイミド被着体又はポリオレフィン被着体とフッ素系被着体とが接着層を介して接着されている接合構造体において、接着層が、上述の本発明のポリアミック酸ワニスを成膜しイミド化したものであるか、又は上述の本発明のポリイミドワニスを成膜したものである接続構造体を提供する。   In addition, the present invention provides a bonded structure in which a polyimide adherend or polyolefin adherend and a fluorine-based adherend are bonded via an adhesive layer, wherein the adhesive layer is the polyamic acid varnish of the present invention described above. A connection structure is provided which is formed by imidizing or forming the above-described polyimide varnish of the present invention.

本発明のポリアミック酸ワニスまたはポリイミドワニスは、フッ素系樹脂溶液中で酸二無水物とジアミンとを重縮合または重縮合環化させてポリアミック酸またはポリイミドを生成させることにより調製される。このため、本発明のポリアミック酸ワニスまたはポリイミドワニスは、フッ素系樹脂のみならずポリイミドやポリオレフィンに対して良好な接着性を示し、良好な保存安定性をも示すことができる。   The polyamic acid varnish or polyimide varnish of the present invention is prepared by polycondensation or polycondensation cyclization of acid dianhydride and diamine in a fluorine-based resin solution to produce polyamic acid or polyimide. For this reason, the polyamic acid varnish or the polyimide varnish of the present invention exhibits good adhesion to not only fluorine-based resins but also polyimide and polyolefin, and can also exhibit good storage stability.

<ポリアミック酸ワニス>
本発明のポリアミック酸ワニスは、酸二無水物とジアミンとを重縮合してなるポリアミック酸と、フッ素系樹脂と、それらを溶解することができる有機溶媒とを含有するものである。ここで、このポリアミック酸は、フッ素系樹脂をポリアミック酸有機溶媒に溶解したフッ素系樹脂溶液中で、酸二無水物とジアミンとを重縮合して生成したものである。
<Polyamic acid varnish>
The polyamic acid varnish of the present invention contains a polyamic acid obtained by polycondensation of an acid dianhydride and a diamine, a fluorine resin, and an organic solvent capable of dissolving them. Here, this polyamic acid is produced by polycondensation of acid dianhydride and diamine in a fluororesin solution obtained by dissolving a fluororesin in a polyamic acid organic solvent.

このように、フッ素系樹脂を有機溶媒に溶解したフッ素系樹脂溶液中で、酸二無水物とジアミンとを重縮合させてポリアミック酸を生成させて構成したポリアミック酸ワニスが、被着体であるフッ素系樹脂やポリオレフィンもしくはポリイミドに良好な接着性を示し、且つ良好な保存安定性を示す理由は、明確ではないが、混合・分散状態が良好であるためと推測される。   Thus, the polyamic acid varnish formed by polycondensation of acid dianhydride and diamine to produce a polyamic acid in a fluororesin solution in which a fluororesin is dissolved in an organic solvent is an adherend. The reason why the fluororesin, polyolefin or polyimide exhibits good adhesiveness and good storage stability is not clear, but is presumed to be due to good mixing and dispersion.

本発明のポリアミック酸ワニスを構成するポリアミック酸の数平均分子量は、小さすぎると膜が脆くなる傾向があり、大きすぎるとフッ素系樹脂に対する相溶性が低下する傾向があるので、好ましくは1000〜100000、より好ましくは3000〜70000である。分子量の調整は、酸二無水物及びジアミンとの合計(ポリアミック酸)とフッ素系樹脂との配合割合を調整することにより行うことができる。フッ素系樹脂の配合割合を減少させるにつれ、ポリアミック酸の数平均分子量を増大させることができる。また、酸二無水物とジアミンのモル比の制御によっても、分子量調整は可能である。   If the number average molecular weight of the polyamic acid constituting the polyamic acid varnish of the present invention is too small, the film tends to be brittle, and if it is too large, the compatibility with the fluororesin tends to decrease. More preferably, it is 3000-70000. The molecular weight can be adjusted by adjusting the blending ratio of the total of the acid dianhydride and diamine (polyamic acid) and the fluororesin. As the blending ratio of the fluororesin is decreased, the number average molecular weight of the polyamic acid can be increased. The molecular weight can also be adjusted by controlling the molar ratio of acid dianhydride and diamine.

本発明のポリアミック酸ワニスにおける、ポリアミック酸の配合割合は、少なすぎるとワニスの粘度が過度に低くなる傾向があり、多すぎるとワニスがゲル化する傾向があるので、好ましくは3〜40質量%、より好ましくは5〜30質量%である。   In the polyamic acid varnish of the present invention, if the blending ratio of the polyamic acid is too small, the viscosity of the varnish tends to be excessively low, and if it is too large, the varnish tends to gel, preferably 3 to 40% by mass. More preferably, it is 5-30 mass%.

本発明のポリアミック酸ワニスにおける、フッ素系樹脂の配合割合は、少なすぎるとワニスの粘度が過度に低くなる傾向があり、多すぎるとワニスがゲル化する傾向があるので、好ましくは3〜40質量%、より好ましくは5〜30質量%である。   In the polyamic acid varnish of the present invention, if the blending ratio of the fluororesin is too small, the viscosity of the varnish tends to be excessively low, and if it is too large, the varnish tends to gel, preferably 3 to 40 mass. %, More preferably 5 to 30% by mass.

また、ポリアミック酸ワニスにおけるポリアミック酸(PA)に対するフッ素系樹脂(PF)の配合割合(質量基準)は、フッ素系樹脂がポリアミック酸に対し少なすぎると十分な接着性が得られない傾向があり、多すぎると十分な耐熱性が得られない傾向があるので、好ましくはPA:PF=1:6〜6:1である。   Further, the blending ratio (mass basis) of the fluorine-based resin (PF) with respect to the polyamic acid (PA) in the polyamic acid varnish tends to fail to obtain sufficient adhesion when the fluorine-based resin is too small relative to the polyamic acid. If the amount is too large, sufficient heat resistance tends not to be obtained, so PA: PF = 1: 6 to 6: 1 is preferable.

本発明のポリアミック酸ワニスにおける、フッ素系樹脂およびポリアミック酸を溶解することのできる有機溶媒の配合割合は、少なすぎるとゲル化する傾向があり、多すぎるとワニスの粘度が過度に低くなる傾向があるので、好ましくは60〜94質量%、より好ましくは70〜90質量%である。   In the polyamic acid varnish of the present invention, the blending ratio of the organic solvent capable of dissolving the fluororesin and the polyamic acid tends to gel if it is too small, and the viscosity of the varnish tends to be excessively low if it is too large. Since it exists, Preferably it is 60-94 mass%, More preferably, it is 70-90 mass%.

フッ素系樹脂の具体例として以下の化合物を挙げることができる。これらは2種以上を併用することができる。   Specific examples of the fluorine-based resin include the following compounds. Two or more of these can be used in combination.

ポリテトラフルオロエチレン(PTFE);
テトラフルオロエチレン−パ−フルオロアルキルビニルエーテル(PFA);
テトラフルオロエチレン・ヘキサフルオロプロピレン共重合体(FEP);
ポリクロロトリフルオロエチレン(PCTFE);
テトラフルオロエチレン・エチレン共重合体(ETFE);
クロロトリフルオロエチレン・エチレン共重合体(ECTFE);
ポリビニリデンフルオライド(PVdF);
ビニリデンフルオライド・ヘキサフルオロプロピレン共重合体(PVdF−HFP);及び
ポリビニルフルオライド(PVF)。
Polytetrafluoroethylene (PTFE);
Tetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether (PFA);
Tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer (FEP);
Polychlorotrifluoroethylene (PCTFE);
Tetrafluoroethylene / ethylene copolymer (ETFE);
Chlorotrifluoroethylene-ethylene copolymer (ECTFE);
Polyvinylidene fluoride (PVdF);
Vinylidene fluoride-hexafluoropropylene copolymer (PVdF-HFP); and polyvinyl fluoride (PVF).

以上のフッ素系樹脂の具体例の中でも、汎用性の点からPVdF及びPVdF−HFPを好ましく使用することができ、PVdFを特に好ましく使用することができる。   Among the above specific examples of the fluororesin, PVdF and PVdF-HFP can be preferably used from the viewpoint of versatility, and PvdF can be particularly preferably used.

ポリアミック酸を構成するジアミン及び酸二無水物は、入手の容易さの点から芳香族ジアミン及び芳香族酸二無水物を好ましく使用することができる。   As the diamine and acid dianhydride constituting the polyamic acid, aromatic diamines and aromatic acid dianhydrides can be preferably used from the viewpoint of easy availability.

芳香族ジアミンの具体例としては、以下の化合物を挙げることができる。これらは、2種以上を併用することができる。   Specific examples of the aromatic diamine include the following compounds. Two or more of these can be used in combination.

4,4′−ジアミノジフェニルメタン;
3,4′−ジアミノジフェニルメタン;
3,3′−ジアミノジフェニルメタン;
1,2−ビス〔4−アミノフェノキシ〕エタン;
1,3−ビス〔4−アミノフェノキシ〕プロパン;
1,4−ビス〔4−アミノフェノキシ〕ブタン;
1,5−ビス〔4−アミノフェノキシ〕ペンタン;
ジ〔2−(4−アミノフェノキシ)エチル〕エーテル;
1,2−ビス〔2−(4−アミノフェノキシ)エトキシ〕エタン;
ジ(2−(2−〔4−アミノフェノキシ〕エトキシ)エチル)エーテル;
1,2−ビス〔4−アミノフェニル〕エタン;
ジ(4−ジアミノ−3メチルフェニル)メタン;
ジ(4−ジアミノ−3,5−ジメチルフェニル)メタン(MED);
ジ(4−ジアミノ−3−エチル−5−メチルフェニル)メタン;
ジ(4−ジアミノ−3,5−ジエチルフェニル)メタン;
4,4′−ジアミノジフェニルエーテル;
1,4−ジアミノベンゼン;
1,4−ジアミノ−2,3,5,6−テトラメチルベンゼン;
2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン(BAPP);
2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン(HFBAPP);及び
1,8−ジアミノオクタン。
4,4'-diaminodiphenylmethane;
3,4'-diaminodiphenylmethane;
3,3'-diaminodiphenylmethane;
1,2-bis [4-aminophenoxy] ethane;
1,3-bis [4-aminophenoxy] propane;
1,4-bis [4-aminophenoxy] butane;
1,5-bis [4-aminophenoxy] pentane;
Di [2- (4-aminophenoxy) ethyl] ether;
1,2-bis [2- (4-aminophenoxy) ethoxy] ethane;
Di (2- (2- [4-aminophenoxy] ethoxy) ethyl) ether;
1,2-bis [4-aminophenyl] ethane;
Di (4-diamino-3methylphenyl) methane;
Di (4-diamino-3,5-dimethylphenyl) methane (MED);
Di (4-diamino-3-ethyl-5-methylphenyl) methane;
Di (4-diamino-3,5-diethylphenyl) methane;
4,4'-diaminodiphenyl ether;
1,4-diaminobenzene;
1,4-diamino-2,3,5,6-tetramethylbenzene;
2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane (BAPP);
2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane (HFBAPP); and 1,8-diaminooctane.

以上の芳香族ジアミンの具体例の中でも、溶剤可溶性を高める点からフッ素を含有するHFBAPPや非対称構造を有するMEDを好ましく使用することができ、MEDを特に好ましく使用することができる。   Among the specific examples of the aromatic diamines described above, HFBAPP containing fluorine and MED having an asymmetric structure can be preferably used from the viewpoint of improving solvent solubility, and MED can be particularly preferably used.

酸二無水物の具体例としては、以下の化合物を挙げることができる。これらは、2種以上を併用することができる。   Specific examples of the acid dianhydride include the following compounds. Two or more of these can be used in combination.

ピロメリット酸二無水物(PMDA);
メチルピロメリット酸二無水物;
ジメチルピロメリット酸二無水物;
ジ(トリフルオロメチル)ピロメリット酸二無水物;
4,4′−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物;
3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(s−BPDA);
5,5′−ジメチル−3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物;
p−(3,4−ジカルボキシフェニル)ベンゼン二無水物;
3,3′,4,4′−テトラカルボキシジフェニルエーテル二無水物(s−ODPA);
2,3,3′,4′−テトラカルボキシジフェニルエーテル二無水物;
3,3′,4,4′−テトラカルボキシベンゾフェノン二無水物;
1,4,5,8−テトラカルボキシナフタレン二無水物;
1,2,5,6−テトラカルボキシナフタレン二無水物;
3,3′,4,4′−テトラカルボキシジフェニルメタン二無水物;
2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物;
2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン二無水物;
3,3′,4,4′−テトラカルボキシジフェニルスルホン二無水物;
3,4,9,10−テトラカルボキシペリレン二無水物;
3,3′,4,4′−エチレングリコールビス(フェニル)テトラカルボン酸二無水物;
1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物;
1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物;
1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物;
9,9−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)フルオレン酸二無水物(BPAF);
9,9−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]フルオレン酸二無水物。
Pyromellitic dianhydride (PMDA);
Methyl pyromellitic dianhydride;
Dimethyl pyromellitic dianhydride;
Di (trifluoromethyl) pyromellitic dianhydride;
4,4 '-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride;
3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (s-BPDA);
5,5'-dimethyl-3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride;
p- (3,4-dicarboxyphenyl) benzene dianhydride;
3,3 ', 4,4'-tetracarboxydiphenyl ether dianhydride (s-ODPA);
2,3,3 ', 4'-tetracarboxydiphenyl ether dianhydride;
3,3 ', 4,4'-tetracarboxybenzophenone dianhydride;
1,4,5,8-tetracarboxynaphthalene dianhydride;
1,2,5,6-tetracarboxynaphthalene dianhydride;
3,3 ', 4,4'-tetracarboxydiphenylmethane dianhydride;
2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride;
2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride;
3,3 ', 4,4'-tetracarboxydiphenylsulfone dianhydride;
3,4,9,10-tetracarboxyperylene dianhydride;
3,3 ′, 4,4′-ethylene glycol bis (phenyl) tetracarboxylic dianhydride;
1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride;
1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride;
1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride;
9,9-bis (3,4-dicarboxyphenyl) fluorenic dianhydride (BPAF);
9,9-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] fluorenic dianhydride.

以上の酸二無水物の具体例の中でも、入手の容易さの点からPMDAを好ましく使用することができる。   Among the specific examples of the above acid dianhydrides, PMDA can be preferably used from the viewpoint of availability.

上述したフッ素系樹脂及びポリアミック酸を溶解する有機溶媒としては、ポリアミック酸の原料である酸二無水物及びジアミンも溶解するものである必要がある。このような有機溶媒としては、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、テトラメチルスルホン、1,4−ジオキサン等が挙げられる。これらは、2種以上を併用することができる。中でも、樹脂に対する溶解能力の点からNMPを好ましく使用することができる。必要に応じて、重縮合により生成した水を共沸除去するためのトルエン等の溶媒を発明の効果を損なわない範囲で使用することができる。   As an organic solvent which melt | dissolves the fluorine-type resin and polyamic acid mentioned above, it is necessary to melt | dissolve the acid dianhydride and diamine which are the raw materials of polyamic acid. Examples of such an organic solvent include N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, tetramethyl sulfone, 1,4-dioxane and the like. Two or more of these can be used in combination. Especially, NMP can be preferably used from the point of the melt | dissolution ability with respect to resin. If necessary, a solvent such as toluene for azeotropic removal of water produced by polycondensation can be used within a range not impairing the effects of the invention.

本発明のポリアミック酸ワニスは次のように使用することができる。たとえば、ポリアミック酸ワニスを、ポリオレフィンフィルムもしくはポリイミドフィルムに常法により塗布し、その上にフッ素系樹脂フィルムを積層し、全体を3〜50MPaに加圧しながら、80〜220℃に加熱しイミド化(環化)することにより、ポリオレフィンフィルムもしくはポリイミドフィルムとフッ素系樹脂フィルムとを密着させながら、ポリイミド層に転換させることができる。   The polyamic acid varnish of the present invention can be used as follows. For example, a polyamic acid varnish is applied to a polyolefin film or a polyimide film by a conventional method, a fluororesin film is laminated thereon, and the whole is pressurized to 3 to 50 MPa and heated to 80 to 220 ° C. to imidize ( By cyclization, the film can be converted into a polyimide layer while the polyolefin film or polyimide film and the fluororesin film are brought into close contact with each other.

<ポリアミック酸ワニスの調製方法>
本発明のポリアミック酸ワニスは、フッ素系樹脂を有機溶媒に溶解したフッ素系樹脂溶液中で、酸二無水物とジアミンとを重縮合してポリアミック酸を生成させることにより調製することができる。
<Method for preparing polyamic acid varnish>
The polyamic acid varnish of the present invention can be prepared by polycondensation of an acid dianhydride and a diamine to produce a polyamic acid in a fluorine resin solution obtained by dissolving a fluorine resin in an organic solvent.

具体的には、以下のような手順で調製する。
1)フッ素系樹脂1質量部を、好ましくはNMP等の有機溶媒5〜20質量部に必要に応じて加熱しながら溶解させ、フッ素系樹脂溶液を調製する。
2)フッ素系樹脂溶液に、フッ素系樹脂1質量部に対しポリアミック酸が好ましくは0.6〜6質量部となる量の酸二無水物とジアミンとを、それぞれ好ましくは5〜20質量部倍のNMP等の有機溶媒に溶解した溶液を混合する。
3)混合物が均一な溶液となったことを確認した後、好ましくは20〜120℃に0.5〜10時間加熱することにより、重縮合を進行させ、ポリアミック酸を生成させる。これにより、フッ素系樹脂とポリアミック酸とを溶解したポリアミック酸ワニスが得られる。
Specifically, it is prepared by the following procedure.
1) 1 part by mass of a fluororesin is preferably dissolved in 5 to 20 parts by mass of an organic solvent such as NMP while heating as necessary to prepare a fluororesin solution.
2) The amount of acid dianhydride and diamine in which the polyamic acid is preferably 0.6 to 6 parts by mass with respect to 1 part by mass of the fluorine-based resin is added to the fluorine-based resin solution, preferably 5 to 20 parts by mass, respectively. A solution dissolved in an organic solvent such as NMP is mixed.
3) After confirming that the mixture has become a homogeneous solution, preferably polycondensation is advanced by heating to 20 to 120 ° C. for 0.5 to 10 hours to produce a polyamic acid. Thereby, the polyamic acid varnish which melt | dissolved fluororesin and polyamic acid is obtained.

<ポリイミドワニス>
本発明のポリイミドワニスは、酸二無水物とジアミンとを重縮合環化してなるポリイミドと、フッ素系樹脂と、それらを溶解することができる有機溶媒とを含有するものである。ここで、このポリイミドは、フッ素系樹脂をポリアミック酸有機溶媒に溶解したフッ素系樹脂溶液中で、酸二無水物とジアミンとを重縮合環化して生成したものである。換言すれば、本発明のポリアミック酸ワニスを構成するポリアミック酸をイミド化(環化)したものに相当する。
<Polyimide varnish>
The polyimide varnish of the present invention contains a polyimide formed by polycondensation cyclization of acid dianhydride and diamine, a fluororesin, and an organic solvent capable of dissolving them. Here, this polyimide is produced by polycondensation cyclization of acid dianhydride and diamine in a fluorine resin solution obtained by dissolving a fluorine resin in a polyamic acid organic solvent. In other words, it corresponds to an imidized (cyclized) polyamic acid constituting the polyamic acid varnish of the present invention.

このように、フッ素系樹脂を有機溶媒に溶解したフッ素系樹脂溶液中で、酸二無水物とジアミンとを重縮合環化させてポリイミドを生成させて構成したポリイミドワニスが、被着体であるフッ素系樹脂やポリオレフィンもしくはポリイミドに良好な接着性を示し、且つ良好な保存安定性を示す理由は、ポリアミック酸ワニスの場合と同様に、明確ではないが、混合・分散状態が良好であるためと推測される。   Thus, a polyimide varnish formed by polycondensation cyclization of acid dianhydride and diamine to produce polyimide in a fluorine resin solution obtained by dissolving a fluorine resin in an organic solvent is an adherend. The reason for showing good adhesion to fluororesins, polyolefins or polyimides, and good storage stability is not clear, as in the case of polyamic acid varnish, but because the mixed and dispersed state is good. Guessed.

本発明のポリイミドワニスを構成するポリイミドの数平均分子量は、小さすぎると形成した膜が脆くなる傾向があり、大きすぎるとフッ素系樹脂に対する相溶性が低下する傾向があるので、好ましくは1000〜100000、より好ましくは3000〜70000である。分子量の調整は、酸二無水物及びジアミンとの合計(ポリイミド)とフッ素系樹脂との配合割合を調整することにより行うことができる。フッ素系樹脂の配合割合を減少させるにつれ、ポリアミック酸の数平均分子量を増大させることができる。   If the number average molecular weight of the polyimide constituting the polyimide varnish of the present invention is too small, the formed film tends to be brittle, and if it is too large, the compatibility with the fluororesin tends to decrease. More preferably, it is 3000-70000. The molecular weight can be adjusted by adjusting the blending ratio of the total of the acid dianhydride and diamine (polyimide) and the fluororesin. As the blending ratio of the fluororesin is decreased, the number average molecular weight of the polyamic acid can be increased.

本発明のポリイミドワニスにおける、ポリイミドの配合割合は、少なすぎるとワニスの粘度が過度に低くなる傾向があり、多すぎるとゲル化する傾向があるので、好ましくは3〜40質量%、より好ましくは5〜30質量%である。   In the polyimide varnish of the present invention, if the blending ratio of the polyimide is too small, the viscosity of the varnish tends to be excessively low, and if it is too large, it tends to gel, so preferably 3 to 40% by mass, more preferably It is 5-30 mass%.

本発明のポリイミドワニスにおける、フッ素系樹脂の配合割合は、少なすぎるとワニスの粘度が過度に低くなる傾向があり、多すぎるとゲル化する傾向があるので、好ましくは3〜40質量%、より好ましくは5〜30質量%である。   In the polyimide varnish of the present invention, if the blending ratio of the fluororesin is too small, the viscosity of the varnish tends to be excessively low, and if it is too large, it tends to gel, so preferably 3 to 40% by mass. Preferably it is 5-30 mass%.

また、ポリイミドワニスにおけるポリイミド(PI)に対するフッ素系樹脂(PF)の配合割合(質量基準)は、フッ素系樹脂がポリイミドに対し少なすぎると十分な接着性が得られない傾向があり、多すぎると十分な耐熱性が得られない傾向があるので、好ましくはPI:PF=1:6〜6:1である。   Further, the blending ratio (mass basis) of the fluororesin (PF) with respect to the polyimide (PI) in the polyimide varnish tends to fail to obtain sufficient adhesiveness when the fluororesin is too small relative to the polyimide, and too much. Since sufficient heat resistance tends not to be obtained, PI: PF = 1: 6 to 6: 1 is preferable.

本発明のポリイミドワニスにおける、フッ素系樹脂およびポリイミドを溶解することのできる有機溶媒の配合割合は、少なすぎるとゲル化する傾向があり、多すぎるとワニスの粘度が過度に低くなる傾向があるので、好ましくは60〜94質量%、より好ましくは70〜90質量%である。   In the polyimide varnish of the present invention, the blending ratio of the organic solvent capable of dissolving the fluororesin and the polyimide tends to gel if it is too small, and if it is too large, the viscosity of the varnish tends to be excessively low. , Preferably it is 60-94 mass%, More preferably, it is 70-90 mass%.

本発明のポリイミドワニスを構成するフッ素系樹脂、また、ポリイミドを構成する酸二無水物並びにジアミン、有機溶媒は、本発明のポリアミック酸ワニスで説明したフッ素系樹脂、酸二無水物並びにジアミン、有機溶媒と同様の構成を取ることができる。   The fluorine-based resin constituting the polyimide varnish of the present invention, the acid dianhydride and diamine constituting the polyimide, and the organic solvent are the fluorine-based resin, acid dianhydride and diamine, organic, described in the polyamic acid varnish of the present invention. The structure similar to a solvent can be taken.

本発明のポリイミドワニスは次のように使用することができる。たとえば、ポリイミドワニスを、ポリオレフィンフィルムもしくはポリイミドフィルムに常法により塗布し、その上にフッ素系樹脂フィルムを積層し、全体を3〜50MPaに加圧しながら、80〜120℃に加熱することにより、ポリオレフィンフィルムもしくはポリイミドフィルムとフッ素系樹脂フィルムとを密着させることができる。   The polyimide varnish of the present invention can be used as follows. For example, a polyimide varnish is applied to a polyolefin film or a polyimide film by a conventional method, a fluororesin film is laminated thereon, and the whole is pressurized to 3 to 50 MPa and heated to 80 to 120 ° C. A film or a polyimide film and a fluororesin film can be adhered.

<ポリイミドワニスの調製方法>
本発明のポリイミドワニスは、フッ素系樹脂をNMP等の有機溶媒に溶解したフッ素系樹脂溶液中で、酸二無水物とジアミンとを重縮合環化してポリイミドを生成させることにより調製することができる。
<Method for preparing polyimide varnish>
The polyimide varnish of the present invention can be prepared by forming a polyimide by polycondensation cyclization of acid dianhydride and diamine in a fluorine resin solution obtained by dissolving a fluorine resin in an organic solvent such as NMP. .

具体的には、以下のような手順で調製する。
1)フッ素系樹脂1質量部を、好ましくはNMP等の有機溶媒5〜20質量部に必要に応じて加熱しながら溶解させ、フッ素系樹脂溶液を調製する。
2)フッ素系樹脂溶液に、フッ素系樹脂1質量部に対しポリイミドが好ましくは0.6〜6質量部となる量の酸二無水物とジアミンとを、それぞれ好ましくは5〜20質量部倍の有機溶媒に溶解した溶液を混合する。
3)混合物が均一な溶液となったことを確認した後、好ましくは80〜220℃に0.5〜10時間加熱することにより、重縮合を進行させ、ポリアミック酸を生成させる。
4)ポリアミック酸を含有する混合物に、水を共沸して除去するためのトルエンなどの水共沸除去溶媒を適宜添加し、好ましくは100〜220℃に加熱しながら、水を共沸除去する。これにより、フッ素系樹脂とポリイミドとを溶解したポリイミドワニスが得られる。
Specifically, it is prepared by the following procedure.
1) 1 part by mass of a fluororesin is preferably dissolved in 5 to 20 parts by mass of an organic solvent such as NMP while heating as necessary to prepare a fluororesin solution.
2) The amount of acid dianhydride and diamine in which the polyimide is preferably 0.6 to 6 parts by mass with respect to 1 part by mass of the fluororesin in the fluororesin solution, preferably 5 to 20 parts by mass, respectively. A solution dissolved in an organic solvent is mixed.
3) After confirming that the mixture has become a uniform solution, preferably polycondensation is advanced by heating to 80 to 220 ° C. for 0.5 to 10 hours to produce a polyamic acid.
4) To the mixture containing polyamic acid, a water azeotropic removal solvent such as toluene for azeotropic removal of water is added as appropriate, and water is removed azeotropically, preferably while heating at 100 to 220 ° C. . Thereby, the polyimide varnish which melt | dissolved fluorine resin and a polyimide is obtained.

<ポリアミック酸ワニス、ポリイミドワニスの用途>
以上説明した本発明のポリアミック酸ワニスとポリイミドワニスは、ポリイミドフレキシブル基板、ガラスエポキシ基板、フッ素樹脂基板などの各種基板のカバーコート材として、あるいはポリオレフィンフィルムやポリイミドフィルムなどのポリオレフィン又はポリイミド被着体と、フッ素系樹脂フィルムなどのフッ素樹脂被着体とを接着する接着剤として有用である。あるいは、他の接着剤を使用するためのアンカーコート材としても有用である。特に、接着剤として使用する場合、ポリイミド被着体又はポリオレフィン被着体とフッ素系樹脂被着体とが、本発明のポリアミック酸ワニスを成膜しイミド化したポリイミド層、又は本発明のポリイミドワニスを成膜したポリイミド層で、良好に接着された接続構造体が提供される。この接続構造体も本発明の一部である。
<Uses of polyamic acid varnish and polyimide varnish>
The polyamic acid varnish and polyimide varnish of the present invention described above are used as cover coating materials for various substrates such as polyimide flexible substrates, glass epoxy substrates, fluororesin substrates, and polyolefin or polyimide adherends such as polyolefin films and polyimide films. It is useful as an adhesive for bonding a fluororesin adherend such as a fluororesin film. Alternatively, it is also useful as an anchor coat material for using other adhesives. In particular, when used as an adhesive, a polyimide adherend or a polyolefin adherend and a fluororesin adherend are formed into a polyimide layer formed by imidizing the polyamic acid varnish of the present invention, or the polyimide varnish of the present invention. A connection structure that is well bonded with the polyimide layer on which is formed is provided. This connection structure is also part of the present invention.

実施例1(ポリアミック酸ワニスの調製、PA:PVdF=1:1)
窒素雰囲気下、機械的撹拌装置、滴下ロート及び温度計を備えた1000mlセパラブル型4つ口フラスコに、8wt%のポリフッ化ビニリデン(PVdF)のN−メチル−2−ピロリドン(NMP)溶液を450g投入した。そこへジ(4−ジアミノ−3,5−ジメチルフェニル)メタン(MED)20.2g(71.6mmol)とNMP200gとを投入し撹拌してMEDを溶解させた。続いて、ピロメリット酸二無水物(PMDA)15.8g(72.4mmol)とNMP428gとを投入し撹拌してPMDAを溶解させた。
Example 1 (Preparation of polyamic acid varnish, PA: PVdF = 1: 1)
In a nitrogen atmosphere, 450 g of an N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) solution of 8 wt% polyvinylidene fluoride (PVdF) is charged into a 1000 ml separable four-necked flask equipped with a mechanical stirrer, a dropping funnel and a thermometer. did. Thereto, 20.2 g (71.6 mmol) of di (4-diamino-3,5-dimethylphenyl) methane (MED) and 200 g of NMP were added and stirred to dissolve MED. Subsequently, 15.8 g (72.4 mmol) of pyromellitic dianhydride (PMDA) and 428 g of NMP were added and stirred to dissolve PMDA.

得られた溶液を80℃で2時間加熱撹拌してMEDとPMDAとを重縮合させることによりポリアミック酸ワニスを得た。   The resulting solution was heated and stirred at 80 ° C. for 2 hours to polycondense MED and PMDA to obtain a polyamic acid varnish.

実施例2(ポリイミドワニスの調製、PI:PVdF=1:1)
実施例1の操作を繰り返すことによりポリアミック酸ワニスを得、更に、トルエン50gを添加し、195℃で3時間加熱撹拌することにより、ポリアミック酸をイミド化(環化)した。その際、生成する水をトルエンと共に共沸除去しながら除去した。加熱終了後、減圧下で、トルエンと残存する水とを留去することにより、ポリイミドワニスを得た。このポリイミドワニスに含有されているポリイミドの数平均分子量は23800であった。
Example 2 (Preparation of polyimide varnish, PI: PVdF = 1: 1)
By repeating the operation of Example 1, a polyamic acid varnish was obtained. Further, 50 g of toluene was added, and the polyamic acid was imidized (cyclized) by heating and stirring at 195 ° C. for 3 hours. At that time, the produced water was removed while azeotropically removing with toluene. After completion of the heating, toluene and remaining water were distilled off under reduced pressure to obtain a polyimide varnish. The number average molecular weight of the polyimide contained in this polyimide varnish was 23800.

実施例3(ポリイミドワニスの調製、PI:PVdF=1:2)
窒素雰囲気下、機械的撹拌装置、滴下ロート及び温度計を備えた500mlセパラブル型4つ口フラスコに、8wt%のPVdFのNMP溶液を267g投入した。そこへMED5.97g(21.1mmol)とNMP100gとを投入し撹拌してMEDを溶解させた。続いて、PMDA4.67g(21.4mmol)とNMP122gとを投入し撹拌してPMDAを溶解させた。
Example 3 (Preparation of polyimide varnish, PI: PVdF = 1: 2)
In a nitrogen atmosphere, 267 g of an 8 wt% PVdF NMP solution was charged into a 500 ml separable four-necked flask equipped with a mechanical stirrer, a dropping funnel and a thermometer. Then, 5.97 g (21.1 mmol) of MED and 100 g of NMP were added and stirred to dissolve MED. Subsequently, 4.67 g (21.4 mmol) of PMDA and 122 g of NMP were added and stirred to dissolve PMDA.

得られた溶液を80℃で2時間加熱撹拌してMEDとPMDAとを重縮合させることによりポリアミック酸ワニスを得、更に、トルエン30gを添加し、195℃で3時間加熱撹拌することにより、ポリアミック酸をイミド化(環化)した。その際、生成する水をトルエンと共に共沸除去しながら除去した。加熱終了後、減圧下で、トルエンと残存する水とを留去することにより、ポリイミドワニスを得た。   The resulting solution was heated and stirred at 80 ° C. for 2 hours to polycondense MED and PMDA to obtain a polyamic acid varnish. Further, 30 g of toluene was added, and the mixture was heated and stirred at 195 ° C. for 3 hours to obtain a polyamic acid varnish. The acid was imidized (cyclized). At that time, the produced water was removed while azeotropically removing with toluene. After completion of the heating, toluene and remaining water were distilled off under reduced pressure to obtain a polyimide varnish.

実施例4(ポリイミドワニスの調製、PI:PVdF=1:5)
窒素雰囲気下、機械的撹拌装置、滴下ロート及び温度計を備えた500mlセパラブル型4つ口フラスコに、8wt%のPVdFのNMP溶液を334g投入した。そこへMED2.96g(10.48mmol)とNMP20gとを投入し撹拌してMEDを溶解させた。続いて、PMDA2.32g(10.6mmol)とNMP41gとを投入し撹拌してPMDAを溶解させた。
Example 4 (Preparation of polyimide varnish, PI: PVdF = 1: 5)
In a nitrogen atmosphere, 334 g of an 8 wt% PVdF NMP solution was charged into a 500 ml separable four-necked flask equipped with a mechanical stirrer, a dropping funnel and a thermometer. Thereto, 2.96 g (10.48 mmol) of MED and 20 g of NMP were added and stirred to dissolve the MED. Subsequently, 2.32 g (10.6 mmol) of PMDA and 41 g of NMP were added and stirred to dissolve the PMDA.

得られた溶液を80℃で2時間加熱撹拌してMEDとPMDAとを重縮合させることによりポリアミック酸ワニスを得、更に、トルエン30gを添加し、195℃で3時間加熱撹拌することにより、ポリアミック酸をイミド化(環化)した。その際、生成する水をトルエンと共に共沸除去しながら除去した。加熱終了後、減圧下で、トルエンと残存する水とを留去することにより、ポリイミドワニスを得た。   The resulting solution was heated and stirred at 80 ° C. for 2 hours to polycondense MED and PMDA to obtain a polyamic acid varnish. Further, 30 g of toluene was added, and the mixture was heated and stirred at 195 ° C. for 3 hours to obtain a polyamic acid varnish. The acid was imidized (cyclized). At that time, the produced water was removed while azeotropically removing with toluene. After completion of the heating, toluene and remaining water were distilled off under reduced pressure to obtain a polyimide varnish.

実施例5(ポリイミドワニスの調製、PI:PVdF=2:1)
窒素雰囲気下、機械的撹拌装置、滴下ロート及び温度計を備えた500mlセパラブル型4つ口フラスコに、8wt%のPVdFのNMP溶液を133g投入した。そこへMED12.0g(42.45mmol)とNMP100gとを投入し撹拌してMEDを溶解させた。続いて、PMDA9.37g(42.3mmol)とNMP145gとを投入し撹拌してPMDAを溶解させた。
Example 5 (Preparation of polyimide varnish, PI: PVdF = 2: 1)
In a nitrogen atmosphere, 133 g of 8 wt% PVdF NMP solution was charged into a 500 ml separable four-necked flask equipped with a mechanical stirrer, a dropping funnel and a thermometer. MED12.0g (42.45mmol) and NMP100g were thrown in there, and it stirred and dissolved MED. Subsequently, 9.37 g (42.3 mmol) of PMDA and 145 g of NMP were added and stirred to dissolve PMDA.

得られた溶液を80℃で2時間加熱撹拌してMEDとPMDAとを重縮合させることによりポリアミック酸ワニスを得、更に、トルエン50gを添加し、195℃で3時間加熱撹拌することにより、ポリアミック酸をイミド化(環化)した。その際、生成する水をトルエンと共に共沸除去しながら除去した。加熱終了後、減圧下で、トルエンと残存する水とを留去することにより、ポリイミドワニスを得た。このポリイミドワニスに含有されているポリイミドの数平均分子量は39300であった。   The resulting solution was heated and stirred at 80 ° C. for 2 hours to polycondense MED and PMDA to obtain a polyamic acid varnish. Further, 50 g of toluene was added, and the mixture was heated and stirred at 195 ° C. for 3 hours to obtain a polyamic acid varnish. The acid was imidized (cyclized). At that time, the produced water was removed while azeotropically removing with toluene. After completion of the heating, toluene and remaining water were distilled off under reduced pressure to obtain a polyimide varnish. The number average molecular weight of the polyimide contained in this polyimide varnish was 39300.

実施例6(ポリイミドワニスの調製、PI:PVdF=5:1)
窒素雰囲気下、機械的撹拌装置、滴下ロート及び温度計を備えた500mlセパラブル型4つ口フラスコに、8wt%のPVdFのNMP溶液を67g投入した。そこへMED15.0g(53.0mmol)とNMP150gとを投入し撹拌してMEDを溶解させた。続いて、PMDA11.48g(52.6mmol)とNMP156gとを投入し撹拌してPMDAを溶解させた。
Example 6 (Preparation of polyimide varnish, PI: PVdF = 5: 1)
Under a nitrogen atmosphere, 67 g of an 8 wt% PVdF NMP solution was charged into a 500 ml separable four-necked flask equipped with a mechanical stirrer, a dropping funnel and a thermometer. MED15.0g (53.0mmol) and NMP150g were thrown in there, and it stirred and dissolved MED. Subsequently, 11.48 g (52.6 mmol) of PMDA and 156 g of NMP were added and stirred to dissolve PMDA.

得られた溶液を80℃で2時間加熱撹拌してMEDとPMDAとを重縮合させることによりポリアミック酸ワニスを得、更に、トルエン50gを添加し、195℃で3時間加熱撹拌することにより、ポリアミック酸をイミド化(環化)した。その際、生成する水をトルエンと共に共沸除去しながら除去した。加熱終了後、減圧下で、トルエンと残存する水とを留去することにより、ポリイミドワニスを得た。このポリイミドワニスに含有されているポリイミドの数平均分子量は47267であった。   The resulting solution was heated and stirred at 80 ° C. for 2 hours to polycondense MED and PMDA to obtain a polyamic acid varnish. Further, 50 g of toluene was added, and the mixture was heated and stirred at 195 ° C. for 3 hours to obtain a polyamic acid varnish. The acid was imidized (cyclized). At that time, the produced water was removed while azeotropically removing with toluene. After completion of the heating, toluene and remaining water were distilled off under reduced pressure to obtain a polyimide varnish. The number average molecular weight of the polyimide contained in this polyimide varnish was 47267.

比較例1(ポリイミドワニスの調製、PA:PVdF=1:0)
窒素雰囲気下、機械的撹拌装置、滴下ロート及び温度計を備えた1000mlセパラブル型4つ口フラスコに、ジ(4−ジアミノ−3,5−ジメチルフェニル)メタン(MED)40.4g(143.2mmol)とNMP400gとを投入し撹拌してMEDを溶解させた。続いて、ピロメリット酸二無水物(PMDA)31.6g(144.7mmol)とNMP428gとを投入し撹拌してPMDAを溶解させた。
Comparative Example 1 (Preparation of polyimide varnish, PA: PVdF = 1: 0)
Under a nitrogen atmosphere, in a 1000 ml separable four-necked flask equipped with a mechanical stirrer, a dropping funnel and a thermometer, 40.4 g (143.2 mmol) of di (4-diamino-3,5-dimethylphenyl) methane (MED) was added. ) And 400 g of NMP were added and stirred to dissolve MED. Subsequently, 31.6 g (144.7 mmol) of pyromellitic dianhydride (PMDA) and 428 g of NMP were added and stirred to dissolve PMDA.

得られた溶液を80℃で2時間加熱撹拌してMEDとPMDAとを重縮合させることによりポリアミック酸ワニスを得、更に、トルエン50gを添加し、195℃で3時間加熱撹拌することにより、ポリアミック酸をイミド化(環化)した。その際、生成する水をトルエンと共に共沸除去しながら除去した。加熱終了後、減圧下で、トルエンと残存する水とを留去することにより、フッ素系樹脂を含有しないポリイミドワニスを得た。   The resulting solution was heated and stirred at 80 ° C. for 2 hours to polycondense MED and PMDA to obtain a polyamic acid varnish. Further, 50 g of toluene was added, and the mixture was heated and stirred at 195 ° C. for 3 hours to obtain a polyamic acid varnish. The acid was imidized (cyclized). At that time, the produced water was removed while azeotropically removing with toluene. After completion of the heating, toluene and remaining water were distilled off under reduced pressure to obtain a polyimide varnish containing no fluororesin.

比較例2(ポリイミドワニスの調製、混練りタイプ)
比較例1で得たポリイミドワニス10gと、8wt%PVdFのNMP溶液10gとをサンプル瓶に入れ、6gのガラスビーズを投入し、自転・公転ミキサー(泡取り錬太郎AR−250、株式会社シンキー)にて6分間の混合を行うことにより、ポリイミドワニスを得た。
Comparative Example 2 (Preparation of polyimide varnish, kneading type)
10 g of the polyimide varnish obtained in Comparative Example 1 and 10 g of NMP solution of 8 wt% PVdF were put into a sample bottle, 6 g of glass beads were added, and a rotating / revolving mixer (Awatake Rentaro AR-250, Shinky Co., Ltd.) The polyimide varnish was obtained by mixing for 6 minutes.

比較例3(ポリイミドワニスの調製、混練りタイプ)
比較例1で得たポリイミドワニス10gと、8wt%PVdFのNMP溶液10gとをサンプル瓶に入れ、室温でジャーミルを用いて混合することにより、ポリイミドワニスを得た。
Comparative Example 3 (Preparation of polyimide varnish, kneading type)
A polyimide varnish was obtained by putting 10 g of the polyimide varnish obtained in Comparative Example 1 and 10 g of an NMP solution of 8 wt% PVdF into a sample bottle and mixing them at room temperature using a jar mill.

<評価>
(保存安定性評価)
各実施例及び各比較例のワニスを室温にて放置し、放置後1日、10日、25日、28日の時点で、相分離したポリイミド相もしくはPVdf相の有無を目視観察した。相分離が観察された場合を「NG(不良)」、観察されなかった場合を「G(良好)」と評価した。得られた結果を表1に示す。
<Evaluation>
(Storage stability evaluation)
The varnishes of the examples and comparative examples were allowed to stand at room temperature, and the presence or absence of a phase-separated polyimide phase or PVdf phase was visually observed at 1, 10, 25, and 28 days after leaving. The case where phase separation was observed was evaluated as “NG (poor)”, and the case where phase separation was not observed was evaluated as “G (good)”. The obtained results are shown in Table 1.

(接着性評価)
各実施例及び各比較例のワニスを、乾燥後のPVdF含有ポリイミド膜(PI膜)の膜厚が10μmとなるように、平坦なガラス板(長さ200mm、幅200mm、厚5mm)の片面に流延し、100℃で10分間乾燥した。なお、実施例1の場合はPVdF含有ポリアミック酸膜であり、比較例1の場合はPVdF非含有ポリイミド膜である。
(Adhesion evaluation)
The varnish of each example and each comparative example was placed on one side of a flat glass plate (length 200 mm, width 200 mm, thickness 5 mm) so that the PVdF-containing polyimide film (PI film) after drying had a thickness of 10 μm. Cast and dried at 100 ° C. for 10 minutes. In addition, in the case of Example 1, it is a PVdF containing polyamic acid film | membrane, and in the case of the comparative example 1, it is a PVdF non-containing polyimide film | membrane.

同様に、8wt%PVdFのNMP溶液を、乾燥後のPVdF膜の膜厚が10μmとなるように、平坦なガラス板(長さ200mm、幅200mm、厚5mm)の片面に流延し、100℃で10分間乾燥した。   Similarly, an NMP solution of 8 wt% PVdF was cast on one side of a flat glass plate (length 200 mm, width 200 mm, thickness 5 mm) so that the film thickness of the PVdF film after drying was 10 μm, and 100 ° C. For 10 minutes.

PI膜(PA膜)とPVdF膜とが対向するようにガラス板を重ね合わせ、熱プレス装置を用い、加熱温度100℃、加熱圧着時間60秒、圧力0.89kgf/cmの条件で接着した。なお、実施例1の場合には、イミド化を伴うため、加熱温度200℃、加熱圧着時間30分、圧力2MPaの条件で接着した。室温まで放冷後、2枚のガラス板を指で引きはがした場合に、PI膜(PA膜)とPVdF膜との間で抵抗なく引きはがすことができた場合を「NG(不良)」、抵抗が感じられた場合を「G(良好)」と評価した。得られた結果を表1に示す。 The glass plates were overlapped so that the PI film (PA film) and the PVdF film faced each other, and were bonded using a hot press apparatus under the conditions of a heating temperature of 100 ° C., a heating and pressing time of 60 seconds, and a pressure of 0.89 kgf / cm 2 . . In addition, in the case of Example 1, since imidation was accompanied, it bonded on the conditions of the heating temperature of 200 degreeC, the thermocompression bonding time for 30 minutes, and the pressure of 2 MPa. After leaving to cool to room temperature, when two glass plates are peeled off with fingers, the case where the film can be peeled without resistance between the PI film (PA film) and the PVdF film is “NG (defect)” The case where resistance was felt was evaluated as “G (good)”. The obtained results are shown in Table 1.

Figure 0005589742
Figure 0005589742

表1からわかるように、比較例1は、PVdFを含有していないポリイミドワニスを使用した場合であり、保存安定性には問題ないが、そもそも接着性がNGという結果であった。比較例2及び3は、PVdF溶液中でポリイミドを生成したのではなく、PVdFとPIとを通常の混合装置を用いて混合した例であるが、接着性評価がNGであり、混合後1日時点での保存安定性もNGであった。   As can be seen from Table 1, Comparative Example 1 is a case where a polyimide varnish not containing PVdF was used, and there was no problem in storage stability, but the adhesiveness was NG in the first place. Comparative Examples 2 and 3 are examples in which polyimide was not produced in a PVdF solution, but PVdF and PI were mixed using a normal mixing apparatus, but the adhesion evaluation was NG, and one day after mixing. The storage stability at the time was also NG.

それに対し、実施例1〜6のワニスを使用した場合、保存安定性も接着性もG評価であり、好ましい結果であった。なお、DVdF中での重縮合環化により生成させたポリイミドの分子量が大きくなると(実施例2,5,6参照)、長期保存安定性が低下する傾向があることがわかる。また、PVdFに対するPIの割合を低下させると、生成させるPIの分子量を小さくできることがわかる。   On the other hand, when the varnishes of Examples 1 to 6 were used, both storage stability and adhesiveness were G evaluations, which was a preferable result. In addition, when the molecular weight of the polyimide produced | generated by the polycondensation cyclization in DVdF becomes large (refer Example 2, 5, 6), it turns out that long-term storage stability tends to fall. It can also be seen that the molecular weight of the PI to be generated can be reduced by reducing the ratio of PI to PVdF.

本発明のポリアミック酸ワニスまたはポリイミドワニスは、フッ素系樹脂のみならずポリイミドやポリオレフィンに対して良好な接着性を示し、良好な保存安定性をも示すことができる。このため、本発明のポリアミック酸ワニスまたはポリイミドワニスは、ポリイミドフレキシブル基板、ガラスエポキシ基板、フッ素樹脂基板などの各種基板のカバーコート材として、あるいはポリオレフィンフィルムやポリイミドフィルムなどのポリオレフィン又はポリイミド被着体と、フッ素系樹脂フィルムなどのフッ素樹脂被着体とを接着する接着剤として有用である。   The polyamic acid varnish or polyimide varnish of the present invention exhibits good adhesion to not only fluorine-based resins but also polyimide and polyolefin, and can also exhibit good storage stability. For this reason, the polyamic acid varnish or the polyimide varnish of the present invention is used as a cover coat material for various substrates such as a polyimide flexible substrate, a glass epoxy substrate, a fluororesin substrate, or a polyolefin or polyimide adherend such as a polyolefin film or a polyimide film. It is useful as an adhesive for bonding a fluororesin adherend such as a fluororesin film.

Claims (17)

酸二無水物とジアミンとを重縮合してなるポリアミック酸と、フッ素系樹脂と、それらを溶解することができる有機溶媒とを含有するポリアミック酸ワニスであって、該ポリアミック酸が、該フッ素系樹脂を有機溶媒に溶解したフッ素系樹脂溶液中で、酸二無水物とジアミンとを重縮合して生成したものであることを特徴とするポリアミック酸ワニス。   A polyamic acid varnish containing a polyamic acid obtained by polycondensation of an acid dianhydride and a diamine, a fluororesin, and an organic solvent capable of dissolving them, wherein the polyamic acid is the fluorochemical A polyamic acid varnish produced by polycondensation of an acid dianhydride and a diamine in a fluororesin solution obtained by dissolving a resin in an organic solvent. ポリアミック酸ワニス中のポリアミック酸の含有量が3〜40質量%であり、フッ素系樹脂の含有量が3〜40質量%であり、ポリアミック酸とフッ素系樹脂との含有割合(質量基準)が、1:6〜6:1である請求項1記載のポリアミック酸ワニス。   The content of the polyamic acid in the polyamic acid varnish is 3 to 40% by mass, the content of the fluororesin is 3 to 40% by mass, and the content ratio (mass basis) of the polyamic acid and the fluororesin is The polyamic acid varnish according to claim 1, which is 1: 6 to 6: 1. ポリアミック酸の数平均分子量が、1000〜100000である請求項1または2記載のポリアミック酸ワニス。   The polyamic acid varnish according to claim 1 or 2, wherein the polyamic acid has a number average molecular weight of 1,000 to 100,000. ポリアミック酸を構成するジアミンが:
4,4’−ジアミノジフェニルメタン;
3,4’−ジアミノジフェニルメタン;
3,3’−ジアミノジフェニルメタン;
1,2−ビス〔4−アミノフェノキシ〕エタン;
1,3−ビス〔4−アミノフェノキシ〕プロパン;
1,4−ビス〔4−アミノフェノキシ〕ブタン;
1,5−ビス〔4−アミノフェノキシ〕ペンタン;
ジ〔2−(4−アミノフェノキシ)エチル〕エーテル;
1,2−ビス〔2−(4−アミノフェノキシ)エトキシ〕エタン;
ジ(2−(2−〔4−アミノフェノキシ〕エトキシ)エチル)エーテル;
1,2−ビス〔4−アミノフェニル〕エタン;
ジ(4−ジアミノ−3メチルフェニル)メタン;
ジ(4−ジアミノ−3,5−ジメチルフェニル)メタン(MED);
ジ(4−ジアミノ−3−エチル−5−メチルフェニル)メタン;
ジ(4−ジアミノ−3,5−ジエチルフェニル)メタン;
4,4’−ジアミノジフェニルエーテル;
1,4−ジアミノベンゼン;
1,4−ジアミノ−2,3,5,6−テトラメチルベンゼン;
2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン(BAPP);
2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン(HFBAPP);及び
1,8−ジアミノオクタン
から選択される少なくとも一種であり、酸二無水物が:
ピロメリット酸二無水物(PMDA);
メチルピロメリット酸二無水物;
ジメチルピロメリット酸二無水物;
ジ(トリフルオロメチル)ピロメリット酸二無水物;
4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物;
3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(s−BPDA);
5,5’−ジメチル−3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物;
p−(3,4−ジカルボキシフェニル)ベンゼン二無水物;
3,3’,4,4’−テトラカルボキシジフェニルエーテル二無水物(s−ODPA);
2,3,3’,4’−テトラカルボキシジフェニルエーテル二無水物;
3,3’,4,4’−テトラカルボキシベンゾフェノン二無水物;
1,4,5,8−テトラカルボキシナフタレン二無水物;
1,2,5,6−テトラカルボキシナフタレン二無水物;
3,3’,4,4’−テトラカルボキシジフェニルメタン二無水物;
2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物;
2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン二無水物;
3,3’,4,4’−テトラカルボキシジフェニルスルホン二無水物;
3,4,9,10−テトラカルボキシペリレン二無水物;
3,3’,4,4’−エチレングリコールビス(フェニル)テトラカルボン酸二無水物;
1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物;
1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物;
1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物;
9,9−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)フルオレン酸二無水物(BPAF);及び
9,9−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]フルオレン酸二無水物
から選択される少なくとも一種である請求項1〜3のいずれかに記載のポリアミック酸ワニス。
The diamine constituting the polyamic acid is:
4,4'-diaminodiphenylmethane;
3,4'-diaminodiphenylmethane;
3,3′-diaminodiphenylmethane;
1,2-bis [4-aminophenoxy] ethane;
1,3-bis [4-aminophenoxy] propane;
1,4-bis [4-aminophenoxy] butane;
1,5-bis [4-aminophenoxy] pentane;
Di [2- (4-aminophenoxy) ethyl] ether;
1,2-bis [2- (4-aminophenoxy) ethoxy] ethane;
Di (2- (2- [4-aminophenoxy] ethoxy) ethyl) ether;
1,2-bis [4-aminophenyl] ethane;
Di (4-diamino-3methylphenyl) methane;
Di (4-diamino-3,5-dimethylphenyl) methane (MED);
Di (4-diamino-3-ethyl-5-methylphenyl) methane;
Di (4-diamino-3,5-diethylphenyl) methane;
4,4′-diaminodiphenyl ether;
1,4-diaminobenzene;
1,4-diamino-2,3,5,6-tetramethylbenzene;
2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane (BAPP);
At least one selected from 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane (HFBAPP); and 1,8-diaminooctane There are acid dianhydrides:
Pyromellitic dianhydride (PMDA);
Methyl pyromellitic dianhydride;
Dimethyl pyromellitic dianhydride;
Di (trifluoromethyl) pyromellitic dianhydride;
4,4 ′-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride;
3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride (s-BPDA);
5,5′-dimethyl-3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride;
p- (3,4-dicarboxyphenyl) benzene dianhydride;
3,3 ′, 4,4′-tetracarboxydiphenyl ether dianhydride (s-ODPA);
2,3,3 ′, 4′-tetracarboxydiphenyl ether dianhydride;
3,3 ′, 4,4′-tetracarboxybenzophenone dianhydride;
1,4,5,8-tetracarboxynaphthalene dianhydride;
1,2,5,6-tetracarboxynaphthalene dianhydride;
3,3 ′, 4,4′-tetracarboxydiphenylmethane dianhydride;
2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride;
2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride;
3,3 ′, 4,4′-tetracarboxydiphenylsulfone dianhydride;
3,4,9,10-tetracarboxyperylene dianhydride;
3,3 ′, 4,4′-ethylene glycol bis (phenyl) tetracarboxylic dianhydride;
1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride;
1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride;
1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride;
Selected from 9,9-bis (3,4-dicarboxyphenyl) fluorenic dianhydride (BPAF); and 9,9-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] fluorenic dianhydride The polyamic acid varnish according to any one of claims 1 to 3, which is at least one kind.
ポリアミック酸を構成するジアミンが、ジ(4−ジアミノ−3,5−ジメチルフェニル)メタンであり、酸無水物がピロメリット酸二無水物である請求項1〜3のいずれかに記載のポリアミック酸ワニス。   The polyamic acid according to any one of claims 1 to 3, wherein the diamine constituting the polyamic acid is di (4-diamino-3,5-dimethylphenyl) methane, and the acid anhydride is pyromellitic dianhydride. varnish. フッ素系樹脂が:
ポリテトラフルオロエチレン(PTFE);
テトラフルオロエチレン−パ−フルオロアルキルビニルエーテル(PFA);
テトラフルオロエチレン・ヘキサフルオロプロピレン共重合体(FEP);
ポリクロロトリフルオロエチレン(PCTFE);
テトラフルオロエチレン・エチレン共重合体(ETFE);
クロロトリフルオロエチレン・エチレン共重合体(ECTFE);
ポリビニリデンフルオライド(PVdF);
ビニリデンフルオライド・ヘキサフルオロプロピレン共重合体(PVdF−HFP);及び
ポリビニルフルオライド(PVF)
から選択される少なくとも一種である請求項1〜5のいずれかに記載のポリアミック酸ワニス。
Fluorine resin:
Polytetrafluoroethylene (PTFE);
Tetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether (PFA);
Tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer (FEP);
Polychlorotrifluoroethylene (PCTFE);
Tetrafluoroethylene / ethylene copolymer (ETFE);
Chlorotrifluoroethylene-ethylene copolymer (ECTFE);
Polyvinylidene fluoride (PVdF);
Vinylidene fluoride-hexafluoropropylene copolymer (PVdF-HFP); and polyvinyl fluoride (PVF)
The polyamic acid varnish according to claim 1, which is at least one selected from the group consisting of:
フッ素系樹脂が、ポリビニリデンフルオライド(PVdF)である請求項1〜5のいずれかに記載のポリアミック酸ワニス。   The polyamic acid varnish according to claim 1, wherein the fluororesin is polyvinylidene fluoride (PVdF). 請求項1〜7のいずれかに記載のポリアミック酸ワニスの製造方法であって、フッ素系樹脂を有機溶媒に溶解したフッ素系樹脂溶液中で、酸二無水物とジアミンとを重縮合してポリアミック酸を生成させることを特徴とするポリアミック酸ワニスの製造方法。   A method for producing a polyamic acid varnish according to any one of claims 1 to 7, wherein an acid dianhydride and a diamine are polycondensed in a fluororesin solution obtained by dissolving a fluororesin in an organic solvent. The manufacturing method of the polyamic acid varnish characterized by producing | generating an acid. 酸二無水物とジアミンとを重縮合環化してなるポリイミドと、フッ素系樹脂と、それらを溶解することができる有機溶媒とを含有するポリイミドワニスであって、該ポリイミドが、該フッ素系樹脂を有機溶媒に溶解したフッ素系樹脂溶液中で、酸二無水物とジアミンとを重縮合環化して生成したものであることを特徴とするポリイミドワニス。   A polyimide varnish containing a polyimide formed by polycondensation cyclization of an acid dianhydride and a diamine, a fluorine resin, and an organic solvent capable of dissolving them, the polyimide comprising the fluorine resin A polyimide varnish produced by polycondensation cyclization of acid dianhydride and diamine in a fluororesin solution dissolved in an organic solvent. ポリイミドワニス中のポリイミドの含有量が3〜40質量%であり、フッ素系樹脂の含有量が3〜40質量%であり、ポリイミドとフッ素系樹脂との含有割合(質量基準)が、1:6〜6:1である請求項9記載のポリイミドワニス。   The content of the polyimide in the polyimide varnish is 3 to 40% by mass, the content of the fluororesin is 3 to 40% by mass, and the content ratio (mass basis) of the polyimide and the fluororesin is 1: 6. The polyimide varnish according to claim 9, which is ˜6: 1. ポリイミドの数平均分子量が、1000〜100000である請求項9または10記載のポリイミドワニス。   The polyimide varnish according to claim 9 or 10, wherein the number average molecular weight of the polyimide is 1000 to 100,000. ポリイミドを構成するジアミンが:
4,4’−ジアミノジフェニルメタン;
3,4’−ジアミノジフェニルメタン;
3,3’−ジアミノジフェニルメタン;
1,2−ビス〔4−アミノフェノキシ〕エタン;
1,3−ビス〔4−アミノフェノキシ〕プロパン;
1,4−ビス〔4−アミノフェノキシ〕ブタン;
1,5−ビス〔4−アミノフェノキシ〕ペンタン;
ジ〔2−(4−アミノフェノキシ)エチル〕エーテル;
1,2−ビス〔2−(4−アミノフェノキシ)エトキシ〕エタン;
ジ(2−(2−〔4−アミノフェノキシ〕エトキシ)エチル)エーテル;
1,2−ビス〔4−アミノフェニル〕エタン;
ジ(4−ジアミノ−3メチルフェニル)メタン;
ジ(4−ジアミノ−3,5−ジメチルフェニル)メタン(MED);
ジ(4−ジアミノ−3−エチル−5−メチルフェニル)メタン;
ジ(4−ジアミノ−3,5−ジエチルフェニル)メタン;
4,4’−ジアミノジフェニルエーテル;
1,4−ジアミノベンゼン;
1,4−ジアミノ−2,3,5,6−テトラメチルベンゼン;
2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン(BAPP);
2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン(HFBAPP);及び
1,8−ジアミノオクタン
から選択される少なくとも一種であり、酸二無水物が:
ピロメリット酸二無水物(PMDA);
メチルピロメリット酸二無水物;
ジメチルピロメリット酸二無水物;
ジ(トリフルオロメチル)ピロメリット酸二無水物;
4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物;
3,3’,4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(s−BPDA);
5,5’−ジメチル−3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物;
p−(3,4−ジカルボキシフェニル)ベンゼン二無水物;
3,3’,4,4’−テトラカルボキシジフェニルエーテル二無水物(s−ODPA);
2,3,3’,4’−テトラカルボキシジフェニルエーテル二無水物;
3,3’,4,4’−テトラカルボキシベンゾフェノン二無水物;
1,4,5,8−テトラカルボキシナフタレン二無水物;
1,2,5,6−テトラカルボキシナフタレン二無水物;
3,3’,4,4’−テトラカルボキシジフェニルメタン二無水物;
2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物;
2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン二無水物;
3,3’,4,4’−テトラカルボキシジフェニルスルホン二無水物;
3,4,9,10−テトラカルボキシペリレン二無水物;
3,3’,4,4’−エチレングリコールビス(フェニル)テトラカルボン酸二無水物;
1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物;
1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物;
1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物;
9,9−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)フルオレン酸二無水物(BPAF);及び
9,9−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]フルオレン酸二無水物から選択される少なくとも一種である請求項9〜11のいずれかに記載のポリイミドワニス。
The diamine that composes the polyimide is:
4,4'-diaminodiphenylmethane;
3,4'-diaminodiphenylmethane;
3,3′-diaminodiphenylmethane;
1,2-bis [4-aminophenoxy] ethane;
1,3-bis [4-aminophenoxy] propane;
1,4-bis [4-aminophenoxy] butane;
1,5-bis [4-aminophenoxy] pentane;
Di [2- (4-aminophenoxy) ethyl] ether;
1,2-bis [2- (4-aminophenoxy) ethoxy] ethane;
Di (2- (2- [4-aminophenoxy] ethoxy) ethyl) ether;
1,2-bis [4-aminophenyl] ethane;
Di (4-diamino-3methylphenyl) methane;
Di (4-diamino-3,5-dimethylphenyl) methane (MED);
Di (4-diamino-3-ethyl-5-methylphenyl) methane;
Di (4-diamino-3,5-diethylphenyl) methane;
4,4′-diaminodiphenyl ether;
1,4-diaminobenzene;
1,4-diamino-2,3,5,6-tetramethylbenzene;
2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane (BAPP);
At least one selected from 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane (HFBAPP); and 1,8-diaminooctane There are acid dianhydrides:
Pyromellitic dianhydride (PMDA);
Methyl pyromellitic dianhydride;
Dimethyl pyromellitic dianhydride;
Di (trifluoromethyl) pyromellitic dianhydride;
4,4 ′-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride;
3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride (s-BPDA);
5,5′-dimethyl-3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride;
p- (3,4-dicarboxyphenyl) benzene dianhydride;
3,3 ′, 4,4′-tetracarboxydiphenyl ether dianhydride (s-ODPA);
2,3,3 ′, 4′-tetracarboxydiphenyl ether dianhydride;
3,3 ′, 4,4′-tetracarboxybenzophenone dianhydride;
1,4,5,8-tetracarboxynaphthalene dianhydride;
1,2,5,6-tetracarboxynaphthalene dianhydride;
3,3 ′, 4,4′-tetracarboxydiphenylmethane dianhydride;
2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride;
2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride;
3,3 ′, 4,4′-tetracarboxydiphenylsulfone dianhydride;
3,4,9,10-tetracarboxyperylene dianhydride;
3,3 ′, 4,4′-ethylene glycol bis (phenyl) tetracarboxylic dianhydride;
1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride;
1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride;
1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride;
Selected from 9,9-bis (3,4-dicarboxyphenyl) fluorenic dianhydride (BPAF); and 9,9-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] fluorenic dianhydride polyimide varnish according to any one of claims 9 to 11 is at least one.
ポリイミドを構成するジアミンが、ジ(4−ジアミノ−3,5−ジメチルフェニル)メタンであり、酸無水物がピロメリット酸二無水物である請求項9〜12のいずれかに記載のポリイミドワニス。   The polyimide varnish according to any one of claims 9 to 12, wherein the diamine constituting the polyimide is di (4-diamino-3,5-dimethylphenyl) methane, and the acid anhydride is pyromellitic dianhydride. フッ素系樹脂が:
ポリテトラフルオロエチレン(PTFE);
テトラフルオロエチレン−パ−フルオロアルキルビニルエーテル(PFA);
テトラフルオロエチレン・ヘキサフルオロプロピレン共重合体(FEP);
ポリクロロトリフルオロエチレン(PCTFE);
テトラフルオロエチレン・エチレン共重合体(ETFE);
クロロトリフルオロエチレン・エチレン共重合体(ECTFE);
ポリビニリデンフルオライド(PVdF);
ビニリデンフルオライド・ヘキサフルオロプロピレン共重合体(PVdF−HFP);及び
ポリビニルフルオライド(PVF)
から選択される少なくとも一種である請求項9〜13のいずれかに記載のポリイミドワニス。
Fluorine resin:
Polytetrafluoroethylene (PTFE);
Tetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether (PFA);
Tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer (FEP);
Polychlorotrifluoroethylene (PCTFE);
Tetrafluoroethylene / ethylene copolymer (ETFE);
Chlorotrifluoroethylene-ethylene copolymer (ECTFE);
Polyvinylidene fluoride (PVdF);
Vinylidene fluoride-hexafluoropropylene copolymer (PVdF-HFP); and polyvinyl fluoride (PVF)
The polyimide varnish according to claim 9, which is at least one selected from the group consisting of:
フッ素系樹脂が、ポリビニリデンフルオライド(PVdF)である請求項9〜13のいずれかに記載のポリイミドワニス。   The polyimide varnish according to any one of claims 9 to 13, wherein the fluororesin is polyvinylidene fluoride (PVdF). 請求項9〜15のいずれかに記載のポリイミドワニスの製造方法であって、フッ素系樹脂を有機溶媒に溶解したフッ素系樹脂溶液中で、酸二無水物とジアミンとを重縮合環化してポリイミドを生成させることを特徴とするポリイミドワニスの製造方法。   The method for producing a polyimide varnish according to any one of claims 9 to 15, wherein an acid dianhydride and a diamine are polycondensed and cyclized in a fluorine resin solution obtained by dissolving a fluorine resin in an organic solvent. A method for producing a polyimide varnish, wherein ポリイミド被着体又はポリオレフィン被着体とフッ素系樹脂被着体とが接着層を介して接着されている接合構造体において、接着層が、請求項1〜8のいずれかに記載のポリアミック酸ワニスを成膜しイミド化したものであるか、又は請求項9〜15のいずれかに記載のポリイミドワニスを成膜したものである接続構造体。   The bonded structure in which the polyimide adherend or polyolefin adherend and the fluororesin adherend are bonded via an adhesive layer, the adhesive layer is the polyamic acid varnish according to any one of claims 1 to 8. A connection structure formed by forming a polyimide varnish according to any one of claims 9 to 15 into a film.
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